KR100439276B1 - 급속열처리 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (14)
- 일측벽에는 공정가스 분사구가 있고 상기 일측벽의 반대편 측벽에는 공정가스 배기구가 있는 챔버, 상기 챔버 내부에 설치되어 웨이퍼를 가열하는 열원장치, 상기 열원장치 하측에 위치되도록 상기 챔버에 설치되는 석영창, 상기 석영창의 하측에 위치되도록 상기 챔버에 설치되는 에지링 지지대, 상기 에지링 지지대의 상부에 설치되며 상면에 웨이퍼가 안착되는 에지링을 포함하여 이루어지되;상기 챔버 내면의 횡단면은, 서로 이격되어 있으며 동일한 반지름과 중심을 가지는 복수 개의 호와, 상기 호와 호를 연결하는 직선들로 이루어지는 다중선 형태인 것을 특징으로 하는 급속열처리 장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 호의 중심각은 15∼50도인 것을 특징으로 하는 급속열처리 장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 석영창의 파단면과 상기 챔버의 접촉부위에는 오링이 삽입되는 것을 특징으로 하는 급속열처리 장치.
- 제 3항에 있어서, 상기 석영창의 파단면은 경사면과 수직면과 곡면의 조합으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 급속열처리 장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 석영창은, 크기는 상기 챔버의 내면보다 크고, 형상은 모서리 부분이 상기 챔버의 내면의 직선부분과 대향하되 상기 직선부분 외측으로 돌출되는 사각 형태이며;상기 석영창의 모서리와 상기 챔버의 내면의 직선부분이 형성하는 내측 영역의 하측에 위치되도록 냉각수 쟈켓이 상기 챔버에 더 설치되는 것을 특징으로 하는 급속열처리 장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 챔버의 일측벽에는 공정가스 분사노즐과 연결되며 일렬로 분사구들이 형성된 분사관이 설치되고,상기 공정가스 배기구에는 상기 분사구보다 큰 직경을 가지는 적어도 두 개의 배기구가 일렬로 배열되는 것을 특징으로 하는 급속열처리 장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 공정가스 배기구에는 산소농도 측정기가 설치되는 것을 특징으로 하는 급속열처리 장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 챔버의 상기 일측벽에는 웨이퍼 반송구가 형성되고;상기 분사구에 연결되는 공정가스 분사노즐이 상기 웨이퍼 반송구의 측벽에 설치되는 것을 특징으로 하는 급속열처리 장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 에지링 지지대는, 상면에 홈이 형성된 회전 날개가 있으며 상기 챔버에 설치되는 회전 기구부와, 자신의 상부에 상기 에지링이 설치되며 자신은 상기 회전 날개에 연결되는 실린더와, 상기 실린더와 맞물리는 실린더 가이드와, 상기 실린더 가이드를 상기 회전 날개에 고정시켜 주는 가이드 고정핀을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 급속열처리 장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 에지링의 외측면과 에지링 지지대의 소정영역을 둘러싸는 냉온수 순환 통로가 상기 챔버의 내측벽에 더 설치되는 것을 특징으로 하는 급속열처리 장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 챔버 내부로 냉각가스를 분사하는 제1 냉각가스 분사부와, 상기 제1 냉각가스 분사부로부터 분사된 냉각가스를 외부로 배기시키는 제1 냉각가스 배기부가 상기 챔버의 바닥면에 각각 설치되는 것을 특징으로 하는 급속열처리 장치.
- 제 11항에 있어서, 상기 제1 냉각가스 분사부의 분사단은, 방사형으로 배열되는 복수 개의 분사홀과, 상기 분사홀과 자신의 하면 사이에 개방된 소정 공간이 형성되도록 상기 분사홀 상측에 설치되는 갓을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 급속열처리 장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 에지링에 안착된 상기 웨이퍼의 상측으로 냉각가스를 분사하는 제2 냉각가스 분사부들이 상기 공정가스 분사구로부터 이격되어 각각 챔버 측벽에 형성되되, 상기 제2 냉각가스 분사부의 분사단에 있어서 소정영역은 분사되는 냉각가스의 일부가 챔버 벽면을 타고 흐르도록 소정영역은 완만한 경사를 이루고 나머지는 영역은 상기 소정영역보다 급경사를 이루도록 형성되는 것을 특징으로 하는 급속열처리 장치.
- 제 10항에 있어서, 상기 챔버의 내측벽과 대면하는 상기 냉온수 순환 통로의 외면에는 상기 냉온수 순환 통로의 외면을 일주하는 홈이 형성되고, 상기 홈과 연결되는 제3 냉각가스 분사부 및 제3 냉각가스 배기부가 상기 챔버에 더 설치되는 것을 특징으로 하는 급속열처리 장치.
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