KR100438943B1 - Polymerization film deposition apparatus - Google Patents
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Abstract
본 발명 플라즈마를 이용한 고분자 중합막 형성장치는 공정 챔버(101)의 내부에 설치되는 상,하부 방전전극(107)(108)의 외측에 상,하부 대전전극(109)(110)을 설치하고, 소재(104)와 상,하부 대전전극(109)(110)을 직류전원공급기(114)의 +에 연결하여 양극이 되도록 함과 아울러 상,하부 방전전극(107)(108)을 -에 연결하여 음극이 되도록 한다. 그와 같은 상태에서 공정 챔버(101)의 내부에 소재(104)를 공급함과 아울러 탄화수소계가스를 주입하며 펌핑을 하여 내부를 진공상태로 만든 상태에서 소재(104)와 상,하부 대전전극(109)(110) 및 상,하부 방전전극(107)(108)에 0.5~2A의 DC파워를 인가하면 소재(104)와 상,하부 방전전극 (102)(103)사이에서 플라즈마 방전이 발생됨과 아울러 상,하부 방전전극(107)(108)과 상,하부 대전전극(109)(110) 사이에서도 플라즈마 방전이 발생되어 소재(104)의 표면에 친수성을 가지는 고분자 중합막이 형성되는데, 이때 상,하부 방전전극(107)(108)과 상,하부 대전전극(109)(110) 사이에 발생되는 플라즈마 방전에서 상대적으로 양이온이 많이 부착되는 상,하부 방전전극(107)(108)에 의하여 소재(104)의 표면에 더 많은 증착이 이루어지게 된다.In the polymer polymerization film forming apparatus using the plasma of the present invention, the upper and lower charging electrodes 109 and 110 are provided outside the upper and lower discharge electrodes 107 and 108 installed inside the process chamber 101, The material 104 and the upper and lower charging electrodes 109 and 110 are connected to the + of the DC power supply 114 to be a positive electrode, and the upper and lower discharge electrodes 107 and 108 are connected to the-. Make it the cathode. In such a state, the material 104 is supplied to the inside of the process chamber 101, the hydrocarbon gas is injected, and the pump is pumped to make the interior into a vacuum state. When the DC power of 0.5 to 2 A is applied to the 110 and the upper and lower discharge electrodes 107 and 108, plasma discharge is generated between the material 104 and the upper and lower discharge electrodes 102 and 103. Plasma discharge is also generated between the upper and lower discharge electrodes 107 and 108 and the upper and lower charging electrodes 109 and 110 to form a polymer polymer film having hydrophilicity on the surface of the material 104. The material 104 is formed by the upper and lower discharge electrodes 107 and 108 to which a large amount of cations are attached in the plasma discharge generated between the discharge electrodes 107 and 108 and the upper and lower charging electrodes 109 and 110. More deposition takes place on the surface of the).
Description
본 발명은 플라즈마를 이용한 고분자 중합막 형성장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 소재의 상,하부에 방전 전극을 설치하고 그 방전전극의 외측에 대전 전극을 배치하며, 그 방전 전극이 음극이 되도록 함과 아울러 외측의 대전 전극과 소재가 양극이 되도록 전원연결을 하여 소재 자체의 증착이 이루어짐과 동시에 방전 전극으로 이동하는 양이온에 의하여 간접적으로 이루어지도록 한 플라즈마를 이용한 고분자 중합막 형성장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for forming a polymer polymer film using plasma, and more particularly, a discharge electrode is disposed on upper and lower portions of a material, a charging electrode is disposed outside the discharge electrode, and the discharge electrode is a cathode. In addition, the present invention relates to a polymer-polymerized film forming apparatus using plasma, which is connected to a power source so that the external charging electrode and the material become the anode, and is indirectly formed by the cation moving to the discharge electrode at the same time as the deposition of the material itself.
공조기의 열교환기 부품인 방열기는 열방출 및 내식성이 좋은 알루미늄 소재를 이용하여 제조되어 진다.The radiator, which is a heat exchanger part of the air conditioner, is manufactured using aluminum material having good heat dissipation and corrosion resistance.
그리고, 열교환기의 열교환 능력을 향상시키거나 내식성을 향상시키기 위하여 방열핀의 알루미늄 소재 표면에 고분자 중합막을 증착하는 표면처리에 관련된 연구가 다각도로 진행되고 있다.In order to improve the heat exchange capacity of the heat exchanger or to improve the corrosion resistance, researches related to the surface treatment of depositing a polymer film on the surface of the aluminum material of the heat dissipation fin have been conducted at various angles.
디시 전원(DC POWER)에 의하여 발생되는 플라즈마를 이용하여 챔버내에서 연속적으로 이동하는 알루미늄 소재의 표면에 고분자 중합막을 증착하는 종래의 고분자 중합막 형성장치가 도 1에 도시되어 있는 바, 이를 간단히 설명하면 다음과 같다.A conventional polymer polymer film forming apparatus for depositing a polymer polymer film on a surface of an aluminum material continuously moving in a chamber by using a plasma generated by a DC power is illustrated in FIG. 1. Is as follows.
도시된 바와 같이, 종래의 플라즈마를 이용한 고분자 중합막 형성장치는 공정 챔버(1)의 내측에 일정 간격을 유지하고 상,하부 방전 전극(2)(3)이 고정되어있다.As shown in the drawing, in the conventional polymer polymerization film forming apparatus using plasma, the upper and lower discharge electrodes 2 and 3 are fixed at regular intervals inside the process chamber 1.
그리고, 상기 공정 챔버(1)의 일측에는 공조기용 열교환기의 방열핀 소재로 이용되며 시트 상태의 알루미늄 소재(4)가 롤형태로 감겨있는 언 와인더(5)가 언 와인더 챔버(6)의 내부에 배치되어 있고, 타측에는 공정 챔버(1)의 상부 방전전극(2)과 하부 방전전극(3) 사이를 지나면 플라즈마 증착이 이루어진 소재(4)를 감기 위한 와인더(7)가 와인더 챔버(8)의 내부에 배치되어 있으며, 상기 언 와인더 챔버(5)의 출구부와 와인더 챔버(8)의 입구부에는 소재(4)의 이동을 안내하는 한쌍의 가이드 롤러(9)가 설치되어 있다.In addition, one side of the process chamber (1) is used as a heat radiation fin material of the heat exchanger for the air conditioner, and the unwinder (5) in which the sheet-shaped aluminum material (4) is wound in a roll form of the unwinder chamber (6). On the other side, the winder chamber 7 is wound around the upper discharge electrode 2 and the lower discharge electrode 3 of the process chamber 1 to wind the material 4 on which the plasma is deposited. A pair of guide rollers (9) are disposed inside the (8), and guides the movement of the material (4) at the outlet of the unwinder chamber (5) and the inlet of the winder chamber (8). It is.
또한, 상기 공정 챔버(1)의 하부 일측에는 공정가스를 주입하기 위한 가스주입라인(11)이 설치되어 있고, 타측에는 반응하고난 후의 배기가스를 배출하기 위한 배기라인(12)이 설치되어 있으며, 그 배기라인(12) 상에는 공정 챔버(1)의 내부가 진공상태로 유지되도록 펌핑하기 위한 펌프(13)가 설치되어 있다.In addition, a gas injection line 11 for injecting process gas is installed at one lower side of the process chamber 1, and an exhaust line 12 for discharging the exhaust gas after reacting is installed at the other side. On the exhaust line 12, a pump 13 for pumping the inside of the process chamber 1 is maintained in a vacuum state.
그리고, 상기 상, 하부 방전전극(2)(3) 및 소재(4)에 직류전원을 공급할 수 있도록 직류전원공급기(14)에 설치되어 있어서, 상,하부 방전전극(2)(3)은 직류전원공급기(14)의 -에 전기적으로 연결되어 음극(CATHODE)이 되고, 가이드 롤러(9)에는 +에 연결되어 그 가이드 롤러(9)에 접촉되는 소재(4)는 양극(ANODE)이 되도록 전기적인 연결이 이루어져 있다.In addition, the upper and lower discharge electrodes 2 and 3 are installed in the DC power supply 14 so as to supply DC power to the material 4, and the upper and lower discharge electrodes 2 and 3 are connected to the direct current. Electrically connected to-of the power supply 14 to the cathode (CATHODE), the guide roller (9) is connected to + and the material (4) contacting the guide roller (9) is the anode (ANODE) Connection is made.
한편, 도면에는 도시되지 않았지만 언 와인더(5)와 와인더(7)를 회전시키기 위한 모터(미도시)가 구비되어 있다.On the other hand, although not shown in the drawings, a motor (not shown) for rotating the unwinder 5 and the winder 7 is provided.
상기와 같이 구성되어 있는 고분자 중합막 증착장치는 전원이 인가되어모터(미도시)의 구동에 의하여 언 와인더(5)가 시계반대방향으로 회전을 하고, 와인더(7)가 시계방향으로 회전을 하면 언 와인더(5)에 감겨있던 시트 상태의 알루미늄 소재(4)가 공정 챔버(1)의 내부에 설치된 상부 방전전극(2)과 하부 방전전극(3)의 사이를 통과하여 와인더(7)에 연속적으로 감기게 된다.In the polymer polymerization film deposition apparatus configured as described above, the power is applied, the unwinder 5 rotates counterclockwise by the driving of a motor (not shown), and the winder 7 rotates clockwise. When the aluminum material 4 of the sheet state wound on the unwinder 5 passes between the upper discharge electrode 2 and the lower discharge electrode 3 installed in the process chamber 1, the winder ( It is wound continuously in 7).
그와 같은 상태에서 가스주입라인(11)을 통하여 공정 가스를 챔버(1)의 내부로 주입함과 아울러 상,하부 방전전극(2)(3)과 소재(4)에 전원을 인가하면 상,하부 방전전극(2)(3)과 소재(4)의 사이에서 플라즈마 방전이 형성되며 공정가스가 여기되어 연속적으로 이동하는 소재(4)의 표면에 고분자 중합막이 연속적으로 형성되어 진다.In such a state, when the process gas is injected into the chamber 1 through the gas injection line 11 and power is applied to the upper and lower discharge electrodes 2, 3 and the material 4, Plasma discharge is formed between the lower discharge electrodes 2, 3 and the material 4, and a polymer polymerization film is continuously formed on the surface of the material 4 which is continuously moved by exciting the process gas.
그러나, 상기와 같은 종래의 디시 플라즈마 중합장비에서는 플라즈마 방전에 의하여 공정가스가 여기되며 발생된 이온중 양이온이 음이온에 비하여 증착에 더 큰 영향을 미치는데, 이와 같은 양이온이 소재 보다는 음극인 상,하부 방전전극에 많이 부착되어 증착효율을 증대시키는데 한계가 있는 문제점이 있었다.However, in the conventional dish plasma polymerization equipment as described above, the process gas is excited by the plasma discharge, and cations in the generated ions have a greater effect on the deposition than the anions. There is a problem that there is a limit to increase the deposition efficiency is attached to a lot of discharge electrodes.
상기와 같은 문제점을 감안하여 안출한 본 발명의 목적은 상,하부 방전전극의 외측에 양극이 되는 대전전극을 구비하고, 소재 자체의 증착과 함께 상,하부 방전전극으로 이동하는 양이온의 일부가 소재에 증착되도록 함으로써 증착효율을 증대시키도록 하는데 적합한 플라즈마를 이용한 고분자 중합막 형성장치 및 그 방법을 제공함에 있다.The object of the present invention devised in view of the above problems is to provide a charging electrode which becomes an anode on the outer side of the upper and lower discharge electrodes, and a part of the cations that move to the upper and lower discharge electrodes together with the deposition of the material itself. The present invention provides a polymer polymer film forming apparatus and method using plasma suitable for increasing the deposition efficiency by being deposited on the.
도 1은 종래 플라즈마를 이용한 고분자 중합막 형성장치의 구성을 개략적으로 보인 종단면도.1 is a longitudinal sectional view schematically showing a configuration of a polymer polymerization film forming apparatus using a conventional plasma.
도 2는 본 발명에 따른 플라즈마를 이용한 고분자 중합막 형성장치의 종단면도.Figure 2 is a longitudinal sectional view of the polymer polymerization film forming apparatus using a plasma according to the present invention.
도 3은 본 발명에서의 전원인가방법을 설명하기 위한 사시도.Figure 3 is a perspective view for explaining a power application method in the present invention.
** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 **** Description of symbols for the main parts of the drawing **
101 : 챔버 104 : 소재101: chamber 104: material
107 : 상부 방전전극 108 : 하부 방전전극107: upper discharge electrode 108: lower discharge electrode
109 : 상부 대전전극 110 : 하부 대전전극109: upper charging electrode 110: lower charging electrode
상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 공정 챔버의 내부를 수평방향으로 이동하는 냉동 공조용 금속 소재의 표면에 플라즈마를 이용하여 고분자 중합막을 증착시키는 고분자 중합막 형성장치에 있어서,상기 금속 소재의 상측에는 상부 방전전극을 설치하고 하측에는 하부 방전전극을 설치하며,상기 상부 방전전극과 하부 방전전극의 외측에는 상부 대전전극과 하부 대전전극을 설치하고,그 상,하부 대전전극과 소재는 직류전원공급기의 +에 연결하여 양극이 되도록 하고 상,하부 방전전극은 직류전원공급기의 -에 연결하여 음극이 되도록 하여 소재자체의 증착이 이루어짐과 아울러 방전전극으로 이동하는 양이온에 의한 증착이 이루어지도록 한 한 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 고분자 중합막 형성장치가 제공된다.In order to achieve the object of the present invention as described above, in the polymer polymerization film forming apparatus for depositing a polymer polymerization film using a plasma on the surface of the metal material for refrigeration air-conditioning to move the interior of the process chamber in a horizontal direction, The upper discharge electrode is installed on the upper side and the lower discharge electrode is installed on the lower side, and the upper and lower charging electrodes are installed on the outer side of the upper discharge electrode and the lower discharge electrode, and the upper and lower charged electrodes and the material are DC power. The positive and negative electrodes are connected to the + of the feeder and the upper and lower discharge electrodes are connected to the negative pole of the DC power supply to be the negative electrode. A polymer polymerization film forming apparatus using plasma is provided.
이하, 상기와 같이 구성되어 있는 본 발명 플라즈마를 이용한 고분자 중합막 형성장치를 첨부된 도면의 실시예를 참고하여 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, with reference to the embodiment of the accompanying drawings, the polymer polymerization film forming apparatus using the present invention plasma is configured as described above in more detail as follows.
도 2는 본 발명의 플라즈마를 이용한 고분자 중합막 형성장치의 종단면도로서, 도시된 바와 같이, 공정 챔버(101)의 일측에 연통되도록 언 와인더 챔버(102)가 결합되어 있고, 타측에도 연통되도록 와인더 챔버(103)가 결합되어 있다.Figure 2 is a longitudinal cross-sectional view of the polymer polymerization film forming apparatus using the plasma of the present invention, as shown, the unwinder chamber 102 is coupled to communicate with one side of the process chamber 101, so as to communicate with the other side Winder chamber 103 is coupled.
그리고, 상기 언 와인더 챔버(102)의 내부에는 공조기용 열교환기의 방열핀 소재인 시트상태의 알루미늄 소재(104)가 챔버(101)의 내부로 공급될 수 있도록 롤상태로 감겨져 있는 언 와인더(105)가 회전가능하게 배치되어 있고, 와인더 챔버(103)의 내부에는 공정 챔버(101)를 지나 이동되는 소재(104)를 감기위한 와인더(106)가 회전가능하게 배치되어 있다.In addition, the inside of the unwinder chamber 102 is an unwinder in which a sheet-shaped aluminum material 104, which is a heat radiating fin material of an air conditioner, is wound in a roll state to be supplied into the chamber 101. 105 is rotatably disposed, and a winder 106 is rotatably disposed in the winder chamber 103 to wind the material 104 moved past the process chamber 101.
또한, 상기 공정 챔버(101)의 내부에는 챔버(101)의 내부를 지나는 소재(104)의 상,하측에 40mm이하의 간격이 유지되도록 상,하부 방전전극(107)(108)이 설치되어 있고, 그 상,하부 방전전극(107)(108)의 외측에는 일정간격을 두고 상,하부 대전전극(109)(110)이 설치되어 있다.In addition, upper and lower discharge electrodes 107 and 108 are installed in the process chamber 101 to maintain an interval of 40 mm or less on the upper and lower sides of the material 104 passing through the chamber 101. The upper and lower charging electrodes 109 and 110 are provided on the outer side of the upper and lower discharge electrodes 107 and 108 at a predetermined interval.
그리고, 상기 공정 챔버(101)의 하부 일측에는 공정가스를 주입하기 위한 가스주입라인(111)이 설치되어 있고, 타측에는 챔버(101)의 내부에서 발생되는 배기가스를 배출하기 위한 배기라인(112)이 설치되어 있으며, 그 배기라인(112) 상에는 챔버(101)의 내부를 진공으로 유지함과 아울러 배기가스를 펌핑하기 위한 펌프(113)가 설치되어 있다.In addition, a gas injection line 111 for injecting a process gas is installed at one lower side of the process chamber 101, and an exhaust line 112 for discharging exhaust gas generated inside the chamber 101 is provided at the other side. ) Is provided, and a pump 113 for pumping exhaust gas while maintaining the interior of the chamber 101 in a vacuum on the exhaust line 112 is provided.
한편, 상기 챔버(101)의 외부에는 DC파워를 공급할 수 있도록 직류전원공급기(114)가 설치되어 있는데, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 소재(104)와 상,하부 대전전극(109)(110)은 양극(ANODE)이 되도록 직류전원공급기(114)의 +에 전기적으로 연결되어 있고, 상,하부 방전전극(107)(108)은 음극(CATHODE)이 되도록 -에 전기적으로 연결되어 있다.Meanwhile, a DC power supply 114 is installed outside the chamber 101 to supply DC power. As shown in FIG. 3, the material 104 and the upper and lower charging electrodes 109 ( 110 is electrically connected to the + of the DC power supply 114 to be the anode (ANODE), and the upper, lower discharge electrodes 107, 108 are electrically connected to-to be the cathode (CATHODE).
상기와 같이 구성되어 있는 본 발명의 플라즈마를 이용한 고분자 중합막 형성장치를 이용하여 고분자 중합막을 형성하는 방법을 설명하면 다음과 같다.Referring to the method of forming the polymer polymerization film using the polymer polymerization film forming apparatus using the plasma of the present invention configured as described above are as follows.
먼저, 전원이 인가되어 모터(미도시)의 구동에 의하여 언 와인더(105)가 시계반대방향으로 회전을 하고, 와인더(107)가 시계방향으로 회전을 하면 언 와인더(105)에 감겨있던 시트 상태의 알루미늄 소재(104)가 공정 챔버(101)의 내부에 설치된 상부 방전전극(102)과 하부 방전전극(103)의 사이를 통과하여 와인더(107)에 연속적으로 감기게 되는데, 이때 상기 소재(104)와 상,하부 방전전극(107)(108)과의 간격은 40mm 이하가 되도록 하고, 상,하부 방전전극(107)(108)과 상,하부 대전전극(109)(110)과의 간격은 70~130mm 사이가 되도록 한다.First, when the power is applied, the unwinder 105 rotates counterclockwise by driving a motor (not shown), and when the winder 107 rotates clockwise, it is wound on the unwinder 105. The aluminum material 104 in the sheet state is passed between the upper discharge electrode 102 and the lower discharge electrode 103 installed in the process chamber 101 to be wound on the winder 107 continuously. The distance between the material 104 and the upper and lower discharge electrodes 107 and 108 is 40 mm or less, and the upper and lower discharge electrodes 107 and 108 and the upper and lower charging electrodes 109 and 110 are respectively. The spacing should be between 70 and 130mm.
그와 같은 상태에서 펌프(113)를 이용하여 챔버(101)의 내부가 진공상태로 되도록 하고, 가스주입라인(111)을 통하여 챔버(101)의 내부로 탄화수소계가스를 주입함과 아울러 상,하부 대전전극(109)(110)과 소재(104) 및 상,하부 방전전극(107)(108)에 전류가 0.5~2A 사이가 되도록 DC 파워를 인가하면 상,하부 방전전극(107)(108)과 소재(104)의 사이에서 플라즈마 방전이 형성됨과 아울러 상,하부 방전전극(107)(108)과 상,하부 대전전극(109)(110) 사이에서도 플라즈마 방전이 되면서 주입된 탄화수소계 가스가 여기되어 연속적으로 이동하는 소재(104)의 표면에 고분자 중합막이 형성되어 진다.In such a state, the interior of the chamber 101 is vacuumed using the pump 113, and the hydrocarbon-based gas is injected into the chamber 101 through the gas injection line 111. When DC power is applied to the lower charging electrodes 109 and 110, the material 104, and the upper and lower discharge electrodes 107 and 108 so that a current is between 0.5 and 2 A, the upper and lower discharge electrodes 107 and 108 are ) And the hydrocarbon gas injected as the plasma discharge is formed between the upper and lower discharge electrodes 107 and 108 and the upper and lower charging electrodes 109 and 110. A polymer polymerization film is formed on the surface of the material 104 that is excited and continuously moves.
즉, 상기와 같은 고분자 중합막의 증착은 소재(104)와 상,하부 방전전극(107)(108) 사이에서 플라즈마 방전에 의해서도 형성되지만, 상,하부 방전전극(107)(108)과 상,하부 대전전극(109)(110) 사이에서 플라즈마 방전이 발생시 음극인 상,하부 방전전극(107)(108)으로 많이 이동하는 양이온이 소재(104)의 증착에도 영향을 미치게 되어 증착효율이 획기적으로 향상되어 진다.That is, the deposition of the polymerized polymer film as described above is also formed by plasma discharge between the material 104 and the upper and lower discharge electrodes 107 and 108, but the upper and lower discharge electrodes 107 and 108 and the upper and lower parts. When plasma discharge occurs between the charging electrodes 109 and 110, positive ions moving to the upper and lower discharge electrodes 107 and 108, which are cathodes, also affect the deposition of the material 104, thereby greatly improving the deposition efficiency. It is done.
이상의 실시예에서는 탄화수소계 가스를 이용하여 공조기의 열교환기 방열핀 소재인 알류미늄 소재에 친수성을 가지는 고분자 박막을 증착하는 것을 예로들어 설명하였으나, 꼭 그에 한정하는 것은 아니고, 알루미늄 소재의 표면에 HMDSO를 이용하여 내식성 박막을 증착하는 경우에도 마찬가지의 원리로 증착효율이 증대될 수 있는 등 여러가지 고분자 박막의 증착에 본 발명의 사상과 범주를 벗어나지 않는 범위내에서 응용이 가능함을 밝혀둔다.In the above embodiment, a hydrophilic polymer thin film is deposited on an aluminum material, which is a heat-sink radiator fin of an air conditioner, using a hydrocarbon-based gas, but is not limited thereto. In the case of depositing a corrosion-resistant thin film, it is found that the same application principle can be applied to the deposition of various polymer thin films without departing from the spirit and scope of the present invention.
또한, 본 발명의 실시예에서는 소재를 챔버의 내부에 연속적으로 공급하는 상태로 고분자 박막을 증착하는 것을 예로 들어 설명하였으나, 소재를 이동시키지 않고 고정한 상태에서도 본 발명의 실시예에서와 동일한 전극 배치 및 전원공급이 이루어진 다면, 동일한 효과가 발생됨은 당연하다.In addition, in the embodiment of the present invention has been described as an example of depositing a polymer thin film in a state of continuously supplying the material into the chamber, the same electrode arrangement and the same as in the embodiment of the present invention in the fixed state without moving the material and If the power supply is made, the same effect is natural.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명 플라즈마를 이용한 고분자 중합막 형성장치는 공정 챔버의 내부에 설치되는 상,하부 방전전극의 외측에 상,하부 대전전극을 설치하고, 소재와 상,하부 대전전극이 양극이 되도록 전기적인 연결을 함과 아울러 상,하부 방전전극이 음극이 되도록 전기적인 연결을 하여, 소재와 상,하부 방전전극 사이에서 발생되는 플라즈마 방전에 의하여 소재의 표면에 고분자 중합막이 형성됨과 동시에 상,하부 방전전극과 상,하부 대전전극 사이에 발생되는 플라즈마 방전에서 상대적으로 양이온이 많이 부착되는 상,하부 방전전극에 의하여 소재의 표면에 더 많은 증착이 이루어지게 된다.As described in detail above, in the polymer polymerization film forming apparatus using the plasma of the present invention, upper and lower charging electrodes are disposed outside the upper and lower discharge electrodes installed inside the process chamber, and the material and the upper and lower charging electrodes are disposed. In addition to the electrical connection to the anode and to the electrical connection so that the upper and lower discharge electrodes become the cathode, the polymer polymerization film is formed on the surface of the material by the plasma discharge generated between the material and the upper and lower discharge electrodes In the plasma discharge generated between the upper and lower discharge electrodes and the upper and lower charged electrodes, more deposition is performed on the surface of the material by the upper and lower discharge electrodes to which a large amount of cations are attached.
Claims (5)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2001-0063123A KR100438943B1 (en) | 2001-10-12 | 2001-10-12 | Polymerization film deposition apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2001-0063123A KR100438943B1 (en) | 2001-10-12 | 2001-10-12 | Polymerization film deposition apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20030030761A KR20030030761A (en) | 2003-04-18 |
| KR100438943B1 true KR100438943B1 (en) | 2004-07-03 |
Family
ID=29564479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR10-2001-0063123A KR100438943B1 (en) | 2001-10-12 | 2001-10-12 | Polymerization film deposition apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100438943B1 (en) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH08158038A (en) * | 1994-11-29 | 1996-06-18 | Kawasaki Steel Corp | Continuous plasma treating device of metallic strip |
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| KR20020086139A (en) * | 2001-05-11 | 2002-11-18 | 주식회사 엘지이아이 | Surface modifying method by plasma polymerization |
-
2001
- 2001-10-12 KR KR10-2001-0063123A patent/KR100438943B1/en not_active IP Right Cessation
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|---|---|
| KR20030030761A (en) | 2003-04-18 |
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