KR100438420B1

KR100438420B1 - 탄성표면파 필터의 마스크 레이아웃을 설계하기 위한 방법 및 장치

Info

Publication number: KR100438420B1
Application number: KR10-2000-0061060A
Authority: KR
Inventors: 권희두; 류재구
Original assignee: 주식회사 아이.티.에프
Priority date: 2000-10-17
Filing date: 2000-10-17
Publication date: 2004-07-02
Also published as: KR20020030436A

Abstract

본 발명은 SAW(Surface Acoustic Wave: 탄성 표면파)필터를 설계하기 위한 CAD(Computer-Aided Design)도구에 관한 것으로서, 특히 사용자가 입력한 여러가지 디자인 파라미터를 받아들여 설계하고자 하는 SAW 필터의 주파수응답이나 임펄스응답을 시뮬레이션하고, 이 시뮬레이션 결과에 근거하여 마스크 레이아웃을 설계하는 방법에 관한 것이다.

본 발명의 설계방법은 소망하는 SAW필터의 타입을 선택하는 단계와; 상기에서 선택된 SAW필터 타입에 대응하는 시뮬레이션 스펙값(spec value)을 설정하는 단계와; 상기 시뮬레이션 스펙값에 근거하여 주파수응답 특성과 임펄스 응답특성을 시뮬레이션하는 단계와; 상기 시뮬레이션 플롯(plot)에 근거하여 마스크 레이아웃 스펙값(mask lay-out spec value)을 설정하는 단계와; 상기 마스크 레이아웃 스펙값에 근거하여 마스크 레이아웃을 설계하고, 출력하는 단계로 이루어진다.

Description

탄성표면파 필터의 마스크 레이아웃을 설계하기 위한 방법 및 장치{A DESIGN-AIDED APPARATUS AND METHOD FOR DESIGNING A MASK LAY-OUT OF SAW FILTER}

본 발명은 SAW(Surface Acoustic Wave: 탄성 표면파)필터를 설계하기 위한 CAD(Computer-Aided Design)도구에 관한 것으로서, 특히 사용자가 입력한 여러가지 디자인 파라미터를 받아들여 설계하고자 하는 SAW 필터의 주파수응답이나 임펄스응답을 시뮬레이션하고, 이 시뮬레이션 결과에 근거하여 마스크 레이아웃을 자동으로 설계하는 장치 및 방법에 관한 것이다.

SAW디바이스는 음속으로 이동하는 음파를 이용한다.

SAW디바이스는 광범위하게 사용되는 각종 지연선(Delay Line) 및 필터의 구현에 적합한데, 이는 음파가 광속으로 이동하는 전자기파 보다 동작 주파수에 있어서 더 짧은 파장을 갖기 때문이다. 따라서, 주어진 동작 주파수에 대하여, SAW필터는 전송 라인 구조 보다 작은구조를 제공하며, 그에 따라 이들을 소형화된 무선 주파수 응용에 적합하게 한다. 또한, SAW구조는 증폭기 및 혼합기 등과 같은 다른 능동 회로와 쉽게 집적가능하며, 이러한 것은 종래 집적회로 기술을 사용하여 생산될 수 있다. 상기의 이유로, 무선 주파수 응용 특히, 필터 응용에서 SAW구조의 인기는 꾸준히 증가하고 있다.

특히, SAW 필터는 이동통신 단말기나 중개기와 같은 통신 장치에 사용되어 수신기의 프론트-앤드 스테이지(front-end stage) 또는 IF 스테이지와 같은 수신기의 다양한 스테이지 선택을 제공한다.

이러한 SAW 필터는 표면파 기판위에 여러가지 크기의 전극이 특정한 간격을 두고 배열되어 있는 구조를 하고 있는데, 이들 각각의 전극 구조 자체는 그렇게 복잡하지 않지만, 이들 각 전극의 길이와 간격을 아주 정확하게 그려야 할 뿐만 아니라 그 개수가 엄청나게 많은 것이 보통이기 때문에 기존의 기계나 건축 분야에서 자주 사용되는 CAD(Computer-Aided Design)프로그램으로 이러한 구조를 표현하는데는 많은 시간과 노력이 소요된다.

종래의 CAD프로그램은 특정 패턴을 자동으로 반복해서 그릴 수 있는 기능이 없기 때문에 SAW 필터의 구조를 그리고자 할 경우 수십에서 수백개에 이르는 전극 하나하나를 일일이 그려주어야 하는 단점을 갖는다.

그리고, SAW 필터의 경우에는 전극의 길이와, 폭, 간격 등을 아주 정확하게지정해주어야 하는데 이들은 일반적인 CAD프로그램에서와 같이 마우스만으로 그 구조를 정확하게 그리는 것이 용이하지 않다.

따라서, 여러가지 타입의 SAW필터를 간단한 파라미터의 입력만으로 설계할 수 있는 전용의 디자인 도구가 요청된다.

본 발명의 제 1 목적은 사용자가 지정한 파라미터에 따라서 자동으로 해당 필터에 대한 주파수 응답과 임펄스 응답을 시뮬레이션 할 수 있는 SAW 필터 설계장치 및 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 제 2 목적은 시행착오법에 의한 설계과정을 거치지 않고, 시뮬레이션을 통해서 지정한 요구사항을 만족하는 필터의 종류와 전극의 개수 및 가중치 값 등을 미리 계산하고, 그 결과를 토대로 마스크 레이아웃을 디자인할 수 있는 SAW 필터 설계장치 및 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적 및 장점들은 하기에 설명될 것이며, 본 발명의 실시에 의해 알게 될 것이다. 또한, 본 발명의 목적 및 장점들은 첨부된 특허청구범위에 나타낸 수단 및 조합에 의해 실현될 수 있다.

본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 후술하는 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 안된다.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 설계장치의 하드웨어 구성도.

도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 설계장치의 기능 블록도.

도 3은 SAW(Surface Acoustic Wave: 탄성 표면파) 필터의 타입을 선택하기 위한 사용자 인터페이스 구성도.

도 4는 MSC(Multistrip Coupler)타입의 SAW 필터에 대한 시뮬레이션 요구사항을 입력하기 위한 사용자 인터페이스 구성도.

도 5는 상기 도 4에 의해 설정된 MSC타입의 SAW 필터에 대한 주파수 응답을 나타낸 시뮬레이션도.

도 6은 상기 도 4에 의해 설정된 MSC타입의 SAW 필터에 대한 임펄스 응답을 나타낸 시뮬레이션도.

도 7은 MSC타입의 SAW 필터에 대한 마스크 레이아웃을 설계하기 위한 요구사항을 입력하는 사용자 인터페이스 구성도.

도 8은 사용자가 입력한 레이아웃 스펙(Specification)에 따라 설계된 MSC타입의 SAW필터에 대한 마스크 레이아웃도.

도 9는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 SAW필터 마스크 레이아웃의 디자인 과정을 나타내는 플로우챠트.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

101 : 입력접수부 102 : 필터스펙 설정부

103 : 스펙값 연산부 104 : 시뮬레이션부

105 : 레이아웃부

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 탄성표면파 필터의 마스크 레이아웃을 설계하기 위한 방법은 소망하는 SAW필터의 타입을 선택하는 단계와; 상기에서 선택된 SAW필터 타입에 대응하는 시뮬레이션 스펙값(spec value)을 설정하는 단계와; 상기 시뮬레이션 스펙값에 근거하여 주파수응답 특성과임펄스 응답특성을 시뮬레이션하는 단계와; 상기 시뮬레이션 플롯(plot)에 근거하여 마스크 레이아웃 스펙값(mask lay-out spec value)을 설정하는 단계와; 상기 마스크 레이아웃 스펙값에 근거하여 마스크 레이아웃을 설계하고, 출력하는 단계로 이루어진다.

또한, 본 발명의 설계방법은 상기 시뮬레이션 스펙값에 근거하여 필터의 디자인 팩터(design factor)를 연산하는 단계를 부가적으로 포함할 수 있다.

이때, 상기 시뮬레이션 스펙은 중심주파수(center frequency), 전극의 갯수(number of electrode), 제로크로스 값(number of zero cross) 및 카이저창 함수의 베타값(beta)을 포함한다.

또한, 상기 마스크 레이아웃 스펙은 필터의 타입에 상관없이 공통적으로 표면파의 속도(velocity), 주파수(frequency), 파장(lamda), 메탈의 폭(metal), 메탈사이의 간격(space), 메탈의 겹침길이(beam aperture)와 같은 파라미터를 포함한다.

또한, 본 발명의 SAW필터 설계장치는 사용자로부터 필터의 타입, 시뮬레이션 파라미터값, 레이아웃 파라미터값을 입력받기 위한 사용자 인터페이스; 상기 사용자 인터페이스를 통해 입력된 필터타입 및 시뮬레이션 파라미터값에 근거하여 설계하고자 하는 필터의 주파수응답 특성과 임펄스 응답특성을 생성하기 위한 시뮬레이션 수단; 상기 시뮬레이션 수단에 의해 생성된 주파수 응답곡선과 임펄스 응답곡선을 디스플레이하기 위한 그래픽 표시장치; 상기 사용자 인터페이스를 통해 입력되는 레이아웃 파라미터값에 근거하여 마스크 레이아웃을 생성하는 장치; 상기 생성장치에 의해 생성된 마스크 레이아웃을 디스플레이하기 위한 레이아웃 표시장치를 포함한다.

이때, 상기 시뮬레이션 파라미터는 중심주파수(center frequency), 전극의 갯수(number of electrode), 제로크로스 값(number of zero cross) 및 카이저창 함수의 베타값(beta)을 포함하고, 상기 마스크 레이아웃 파라미터는 필터의 타입과 상관없이 공통적으로 표면파 속도(velocity), 주파수(frequency), 파장(lamda), 메탈의 폭(metal), 메탈사이의 간격(space), 메탈의 겹침길이(beam aperture)를 포함한다.

또한, 본 발명은 컴퓨터를 통해 실행가능한 프로그램을 기록한 기록매체로서 구현가능한바, 이 기록매체에 내장되는 프로그램은 소망하는 SAW필터의 타입을 선택하는 절차와; 상기에서 선택된 SAW필터 타입에 대응하는 시뮬레이션 스펙값(spec value)을 설정하는 절차와; 상기 시뮬레이션 스펙값에 근거하여 주파수응답 특성과 임펄스 응답특성을 시뮬레이션하는 절차와; 상기 시뮬레이션 플롯(plot)에 근거하여 마스크 레이아웃 스펙값(mask lay-out spec value)을 설정하는 절차와; 상기 마스크 레이아웃 스펙값에 근거하여 마스크 레이아웃을 설계하고, 출력하는 절차를 컴퓨터에 실행한다.

이하 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.

이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.

따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 SAW필터 설계장치의 하드웨어 구성을 도시한 도면이다. 도 1에 도시된 바와같이, 본 설계장치는 연산처리를 하는 CPU(1), 프로그램 등을 기록한 ROM(2), CPU의 작업영역이 되는 RAM(3), 각종 설계 데이터 등을 기록한 하드디스크 등의 외부기억장치(4), 조작자의 입력을 접수하는 키보드, 마우스 등의 입력장치(5), 프린터 등의 인쇄장치(6), CRT 등의 표시장치(7)로 구성된다. 본 장치는 ROM(2)에 저장되는 프로그램에 의해 이하에 나타내는 구체적 기능을 달성한다.

또, 본 설계장치는 일반적인 컴퓨터, 이하에 설명하는 기능 및 동작을 달성하는 당해 컴퓨터 상에서 작동하는 프로그램을 조합함으로써도 달성할 수 있고, 이러한 프로그램은 당해 컴퓨터로 판독할 수 있는 플로피 디스크, CD-ROM 등의 기록매체에 기록할 수 있다.

도 2는 본 SAW필터 설계장치의 기능 블록도를 도시한다.

도 2에 도시된 바와같이, 본 SAW필터 설계장치(100)는 기능적으로 입력접수부(101), 필터스펙 설정부(102), 시뮬레이션부(104), 스펙값 연산부(103), 레이아웃부(105)로 구성된다. 또한, 입력접수부(101)에는 입력장치(5)나 외부기억장치(4)가 레이아웃부(105)에는 표시장치(7)나 인쇄장치(6)가 접속되어 있다.

입력접수부(101)는 사용자에 의해 외부기억장치(4)나 입력장치(5)를 통하여 시뮬레이션(simulation) 요구사항(required specification)이나 레이아웃(lay-out) 요구사항 등의 입력을 접수하는 부분이다. 또한, 입력접수부(101)는 사용자로부터의 지시도 접수한다.

상기 필터스펙 설정부(102)는 필터타입 설정부(102a)와 파라미터 설정부(102b)로 구성된다.

상기 필터타입 설정부(102a)는 사용자에 의해 선택된 필터타입에 따라 시뮬레이션 요구사항(simulation required specification)을 확정하는 모듈이다.

즉, 필터타입 설정부(102a)는 도 3과 같이 사용자가 여러가지 SAW필터 타입, Apodization Withdrawal Model(201), Apodization Segmented Weight Model(202), MSC(Multistrip coupler) Model(203), Withdrawal Withdrawal Model(204), FAN Shape Model(205), Withdrawed FAN Shape Model(206), User Defined Sequence Model(207)중 어느 하나를 선택하면, 선택된 필터타입에 대응하는 시뮬레이션 요구사항을 셋팅한다. 예를들어, 도 3과 같이 사용자가 여러가지 SAW필터 타입중 MSC 모델(203)을 선택하면, 필터타입 설정부(102a)는 MSC 모델에 대응하는 시뮬레이션 요구사항인 중심주파수(center frequency), 전극의 갯수(number of electrode pair), 제로크로수 값(number of zero cross), 카이저창 함수의 특성값(beta) 등을 시뮬레이션을 위한 입력 파라미터로 설정한다. 그러나,사용자가 필터타입을 FAN Shape Model(205)로 선택하게 되면, 필터타입 설정부(102a)는 시뮬레이션을 위한 입력 파라미터(즉, 시뮬레이션 요구사항)로 center frequency, sequence for input, sequence for output, sequence for side track, list of side 등을 설정한다.

상기 파라미터 설정부(102b)는 상기 필터타입 설정부(102a)에 의해 셋팅된 입력 파라미터를 이용하여 도 4와 같은 파라미터 입력 인터페이스(210)를 작성하고, 이 인터페이스(210)를 통해 사용자로부터 파라미터값을 입력받아 시뮬레이션하고자 하는 설계 스펙을 확정하는 모듈이다.

즉, 사용자가 도 3의 필터타입(200)중 MSC 모델(203)을 선택하면, 필터타입 설정부(201a)는 MSC 모델(203)에 대응하는 파라미터를 셋팅하게 되고, 사용자 화면에는 도 4와 같은 파라미터값 입력 인터페이스(210)가 디스플레이된다. 사용자가 도 4의 인터페이스(210)상에 필요한 수치를 입력하면, 상기 파라미터 설정부(201b)는 이 파라미터값을 시뮬레이션을 위한 스펙값(spec value)으로 확정한다.

도 4의 사용자 인터페이스(210)는 스펙값(specification)으로 중심주파수(211), 전극의 갯수(212), 제로크로스 값(213) 및 카이저창 함수의 특성값(214)을 요구하고, 시뮬레이션 옵션값(plot options)으로 주파수 레인지(215), 진폭 레인지(216) 등을 요구한다. 또한, 상기 사용자 인터페이스(210)에는 메뉴로서 Frequency(217), Time(218), Calc(219) 등이 존재한다.

즉, 사용자가 상기 사용자 인터페이스(210)의 메뉴중 Frequency(217)나 Time(218) 메뉴를 선택하면, 파라미터 설정부(201b)는 사용자에 의해 입력된 스펙값(시뮬레이션 요구사항)을 도 2의 시뮬레이션부(104)에 전달한다. 또한, 사용자가 Calc(219) 메뉴를 선택하면, 파라미터 설정부(102b)는 입력 스펙값을 도 2의 스펙값 연산부(103)에 전달한다.

상기 시뮬레이션부(104)는 상기 파라미터 설정부(102b)로부터 입력 스펙값을 전달받아 도 5의 주파수 응답곡선 또는 도 6의 임펄스 응답곡선을 시뮬레이션하는 모듈이다. 즉, 사용자가 도 4의 사용자 인터페이스의 메뉴중 Frequency(217) 메뉴를 선택하면, 시뮬레이션부(104)의 주파수 PLOT 생성부(104b)는 설정된 중심주파수(211), 전극의 갯수(212), 제로크로스 값(213) 및 카이저창 함수의 특성값(214)에 근거하여 도 5와 같은 주파수 응답곡선(220)을 출력한다.

반면에, 사용자가 Time(218) 메뉴를 선택하면, 시뮬레이션부(104)의 IDT PLOT(Inter Digital Transducer PLOT) 생성부(104a)는 설정된 중심주파수(211), 전극의 갯수(212), 제로크로스 값(213) 및 카이저창 함수의 특성값(214)에 근거하여 도 6과 같은 임펄스 응답곡선(230)을 출력한다.

상기 스펙값 연산부(103)는 상기 파라미터 설정부(102b)로부터 중심주파수(211), 전극의 갯수(212), 제로크로스 값(213) 및 카이저창 함수의 특성값(214)을 넘겨받아 대역폭(bandwith), 양호도(shape factor), 차단레벨(rejection level)과 같은 설계계수를 연산하는 모듈이다. 스펙값 연산부(103)는 아래와 같은 상관관계를 이용하여 설계계수를 연산한다.

제로크로스 값과 필터의 대역폭은 서로 비례하고, 전극의 갯수와 필터의 대역폭은 서로 반비례하며, 카이저창 함수의 베타값과 차단레벨(rejection level)은서로 비례하고, 카이저창 함수의 베타값과 양호도는 서로 반비례한다.

이와같이, 사용자는 도 4의 사용자 인터페이스에 적절한 시뮬레이션 스펙값을 설정하는 것에 의해 설계하고자 하는 SAW필터의 주파수 응답, 임펄스 응답 및 설계계수를 얻을 수 있다. 따라서, 사용자는 이러한 시뮬레이션 응답과 디자인 연산치를 분석하여 소망하는 특성의 SAW필터를 구현할 수 있다. 즉, 사용자는 상기 사용자 인터페이스에 적절한 스펙값을 입력하고, 해당 스펙값에 대응하는 주파수 응답과, 임펄스 응답 및 설계계수값을 확인한 후 필터의 특성이 만족스럽지 않을 경우에는 새로운 스펙값을 설정하고, 만족스러운 경우에는 후술하는 마스크 레이아웃 설계작업에 들어간다.

상기 레이아웃부(105)는 상기 시뮬레이션 과정을 통해 확정된 SAW필터의 주파수 응답으로부터 레이아웃 파라미터를 도출하고, 이 도출된 파라미터에 따라 디자인하고자 하는 필터의 마스크 레이아웃을 생성하는 모듈이다. 이 레이아웃부(105)는 도 2와 같이 레이아웃 파라미터 설정부(105a)와 마스크 레이아웃 생성부(105b)로 이루어진다.

상기 레이아웃 파라미터 설정부(105a)는 사용자에 의해 선택된 필터타입에 대응하는 레이아웃 요구사항을 확정하고, 이렇게 확정된 요구사항을 포함하는 사용자 인터페이스를 통해 사용자로부터 레이아웃 파라미터값을 입력받아 이를 마스크 레이아웃 생성부(105b)에 전달하는 모듈이다.

즉, 예를들어, 사용자가 MSC모델을 선택한 경우 상기 레이아웃 파라미터 설정부(105a)는 필요한 레이아웃 요구사항을 도 7과 같이 표면파의 속도(velocity),주파수(frequency), 파장(lamda), 메탈의 폭(metal), 메탈사이의 간격(space), 메탈의 겹침길이(beam aperture)등으로 설정하고, 이러한 파라미터의 값을 사용자로부터 손쉽게 입력받을 수 있도록 도 7과 같은 사용자 인터페이스(240)를 출력한다.

사용자는 도 5 및 도 6과 같은 시뮬레이션 결과를 참조하여 레이아웃 파라미터의 값을 도출하고, 이렇게 도출된 값을 상기 사용자 인터페이스를 통해 마스크 레이아웃 생성부(105b)에 전달한다.

일반적으로, 설계자가 필터의 재질을 결정하면, 필터의 속도(velocity)는 재질의 특성에 의해서 자동으로 결정되고, 주파수를 지정하면 그 주파수와 표면파의 속도에 의해서 파장이 연산된다. (lamda = velocity/frequency)

메탈의 폭(metal)은 lamda/4 또는 lamda/8로 하는 것이 보통이며, 메탈사이의 간격(space)은 메탈의 간격과 동일하거나 공정단계에서 발생되는 팩터를 고려해서 메탈간격 보다 작게 설정한다.

또한, 메탈의 겹침길이(beam aperture)는 전극의 갯수와 함께 필터의 커패시턴스를 결정한다.

이와같이, 설계자는 디자인하고자 하는 필터의 주파수응답이나 임펄스 응답을 참조하여 레이아웃 스펙값을 결정하고, 이 스펙값은 도 7과 같은 사용자 인터페이스(240)를 통해 상기 마스크 레이아웃 생성부(105b)로 전달된다.

마스크 레이아웃 생성부(105b)는 상기 레이아웃 파라미터 설정부(105a)에서 전달된 레이아웃 디자인 팩터에 근거하여 도 8과 같은 마스크 레이아웃(260)을 자동으로 생성하는 모듈이다.

즉, 마스크 레이아웃 생성부는 도 7의 사용자 인터페이스를 통해 필터속도(241)(velocity), 주파수(242), 파장(243), 메탈의 폭(metal)(244), 메탈사이의 간격(space)(245), No of MSC(246), Metal of MSC(247), Space of MSC(248), Gap of MSCnIDT(249), Beam Aperture(250), Slope(251), Dummy(252), Gap(253), Bus Line(254), Electrode Type(255)와 같은 레이아웃 디자인팩터를 전달받고, 이러한 디자인 팩터를 만족하는 마스크 레이아웃을 자동으로 설계한다. 이렇게 설계된 마스크 레이아웃(260)은 표시장치(7)나 인쇄장치(6)를 통해 출력된다.

상술한 바와같은 구조적 내지 기능적 구성을 갖는 설계장치를 이용하여 SAW 필터의 마스크 레이아웃을 설계하는 과정을 도 9를 참조하여 상세히 설명한다.

특정한 특성값을 갖는 SAW필터를 디자인하고자 하는 설계자는 먼저, 도 3의 인터페이스 화면(200)상에서 필터의 타입을 선택한다.(S101) 필터의 타입이 결정되면, 필터타입 설정부(102b)는 선택된 필터타입에 대응하는 시뮬레이션 스펙(spec)을 설정하고, 이를 도 4와 같은 사용자 인터페이스(210)를 통해 해당하는 스펙값을 설계자에게 요청한다. (S103)

설계자는 상기 사용자 인터페이스(210)를 통해 중심주파수, 전극의 갯수, 제로크로스의 값 및 카이저창 함수의 베타값 등을 입력하고, 이를 시뮬레이션부(104)와 스펙값 연산부(103)에 전달한다.(S105)

시뮬레이션부의 주파수 PLOT 생성부(104b)는 상기한 시뮬레이션 파라미터값에 근거하여 도 5와 같은 주파수 응답곡선(220)을 출력하고, IDT PLOT 생성부(104a)는 도 6과 같은 임펄스 응답곡선(230)을 출력한다.

또한, 스펙값 연산부는 상기한 시뮬레이션 파라미터값에 근거하여 대역폭, 양호도, 차단레벨과 같은 필터 디자인 팩터를 연산하여 출력한다.

설계자는 주파수 응답곡선, 임펄스 응답곡선을 통해 시뮬레이션된 필터의 특성치가 만족스러운지 여부를 판단한다.(S111) 즉, 구현된 주파수, 임펄스 응답이 만족스러운 특성치를 구현하지 않는 경우 설계자는 상기 S105로 복귀하여 시뮬레이션 파라미터를 재입력한다. 반면에, 구현된 필터의 주파수 내지 임펄스 응답이 만족스러운 경우 설계자는 주파수 응답과 임펄스 응답을 참조하여 레이아웃 파라미터를 결정한다.(S113)

레이아웃 파라미터는 설계자의 경험과 주파수 응답의 결과로 부터 도출되는바, 이렇게 도출된 레이아웃 파라미터는 도 7의 사용자 인터페이스(240)를 통해 마스크 레이아웃 생성부(105b)에 전달된다.(S113)

레이아웃 파라미터를 전달받은 마스크 레이아웃 생성부는 이 파라미터값에 근거하여 마스크 레이아웃을 생성하고, 이를 표시장치나 인쇄장치를 통해 출력한다. (S115)

이상과 같이, 본 발명은 상술한 실시예에 한정되는 것은 아니며 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 갖는 자에 의해 본 발명의 기술사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등범위내에서 다양한 수정 및 변형이 가능함은 물론이다.

본 발명의 SAW필터 설계장치는 여러가지 타입의 SAW필터를 주파수 도메인과 시간 도메인상에서 시뮬레이션하고, 이 시뮬레이션 결과에 근거하여 마스크 레이아웃까지 설계한다.

Claims

탄성표면파 필터의 마스크 레이아웃을 설계하기 위한 방법으로서,

소망하는 SAW필터의 타입을 선택하는 제 1 단계와;

상기에서 선택된 SAW필터 타입에 대응되도록 중심주파수(center frequency), 전극의 갯수(number of electrode), 제로크로스 값(number of zero cross) 및 카이저창 함수의 베타값(beta)과 같은 시뮬레이션 스펙값(spec value)을 설정하는 제 2 단계와;

상기 시뮬레이션 스펙값에 근거하여 주파수응답 특성과 임펄스 응답특성을 시뮬레이션하는 제 3 단계와;

상기 시뮬레이션 플롯(plot)에 근거하여 표면파 속도(velocity), 주파수(frequency), 파장(lamda), 메탈의 폭(metal), 메탈사이의 간격(space), 메탈의 겹침길이(beam aperture)와 같은 마스크 레이아웃 스펙값(mask lay-out spec value)을 설정하는 제 4 단계와;

상기 마스크 레이아웃 스펙값에 근거하여 마스크 레이아웃을 설계하고, 출력하는 제 5 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 탄성표면파 필터의 마스크 레이아웃을 설계하기 위한 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 시뮬레이션 스펙값에 근거하여 필터의 디자인 팩터(design factor)를 연산하는 단계를 부가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 탄성표면파 필터의 마스크 레이아웃을 설계하기 위한 방법.
제 2 항에 있어서,

상기 디자인 팩터가 중심주파수(center frequency), 대역폭(bandwith), 양호도 (shape factor) 및 차단레벨(rejection level)인 것을 특징으로 하는 탄성표면파 필터의 마스크 레이아웃을 설계하기 위한 방법.
제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,

상기 제 3 단계에 있어서,

상기 시뮬레이션 플롯의 결과가 소망하는 필터의 특성치를 만족하지 않을 경우 상기 제 2 단계로 복귀하는 것을 특징으로 하는 탄성표면파 필터의 마스크 레이아웃을 설계하기 위한 방법.
탄성표면파 필터의 마스크 레이아웃을 설계하기 위한 CAD장치에 있어서,

사용자로부터 필터의 타입, 시뮬레이션 파라미터값[중심주파수(center frequency), 전극의 갯수(number of electrode), 제로크로스 값(number of zero cross) 및 카이저창 함수의 베타값(beta)] 및 레이아웃 파라미터값[표면파 속도(velocity), 주파수(frequency), 파장(lamda), 메탈의 폭(metal), 메탈사이의 간격(space), 메탈의 겹침길이(beam aperture)]를 입력받기 위한 사용자 인터페이스;

상기 사용자 인터페이스를 통해 입력된 필터타입 및 시뮬레이션 파라미터값에 근거하여 설계하고자 하는 필터의 주파수응답 특성과 임펄스 응답특성을 생성하기 위한 시뮬레이션 수단과;

상기 시뮬레이션 수단에 의해 생성된 주파수 응답곡선과 임펄스 응답곡선을 디스플레이하기 위한 그래픽 표시장치와;

상기 사용자 인터페이스를 통해 입력되는 레이아웃 파라미터값에 근거하여 마스크 레이아웃을 생성하는 장치와;

상기 생성장치에 의해 생성된 마스크 레이아웃을 디스플레이하기 위한 레이아웃 표시장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 탄성표면파 필터의 마스크 레이아웃을 설계하기 위한 장치.
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