KR100433042B1 - 산화로의 염산개스 퍼지 및 언로딩 방법 - Google Patents

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Abstract

통상의 산화로에서 퍼지시 질소유량이 9~10(slm), 배기압이 14~16(mmH2O)로 설정하고, 언로딩시 질소유량이 18~20(slm), 배기압이 4~6(mmH2O)로 설정하는 단계와,
FTPS 산화로에서 퍼지시 질소유량이 9~11(slm), 배기압이 9~11(mmH2O)으로 설정하고, 언로딩시 질소유량이 19~21(slm), 배기압이 4~6(mmH2O)로 설정하는 단계를 포함하여 이루어지며,
염산개스를 퍼지하기 위한 최적의 질소 유량과 배기압 조건을 산출하여 완전하게 염산개스를 퍼지시킴으로써 잔여 염산개스의 누출에 의한 산화로 부식을 막을 수 있는, 산화로의 염산개스 퍼지 및 언로딩 방법을 제공한다.

Description

산화로의 염산개스 퍼지 및 언로딩 방법{method for purging HCl gas and unloading for a oxidation furnace}
이 발명은 산화로의 염산개스 퍼지 및 언로딩 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게 말하자면 염산개스를 퍼지하기 위한 최적의 질소 유량과 배기압 조건을 산출하여 완전하게 염산개스를 퍼지시킴으로써 잔여 염산개스의 누출에 의한 산화로 부식을 막을 수 있는, 산화로의 염산개스 퍼지 및 언로딩 방법에 관한 것이다.
반도체 제조공정에서 사용되는 산화로(oxidation furnace)는, 모바일 이온 차지(mobile ionic charge)에 의한 오염(contamination)을 방지하기 위하여 염산개스 퍼지(HCl purge)를 하게 된다.
그러나, 이와 같은 종래의 염산개스 퍼지공정은, 염산이 충분히 퍼지되지 않아 보트 언로딩시에 잔여 염산 개스의 누출에 의해 산화로가 부식될 수 있는 문제점이 있다.
이와 같은 잔여 염산 개스의 누출에 의한 산화로 부식을 방지하기 위해서는 먼저 염산의 누출 여부를 알아낼 수 있어야 한다.
기존에 염산의 누출 여부를 알아 내기 위한 방법으로서는, 염산개스 누출 감지기를 사용하거나, 감도가 적은 리트머스 용지를 산화로 주변에 부착하여 리트머스 종이의 변색을 통하여 알아내는 방법이 있다.
그러나 이러한 방법으로는 잔여 염산 개스와 같은 미세한 염산의 누출을 감지할 수가 없어서, 공정이 진행될 때마다 산화로 내부에 부식이 증가하게 되는 것을 막을 수가 없다.
따라서, 이러한 염산개스 누출에 의한 산화로 부식을 막고자 기존의 리트머스 용지보다 더 감도가 높은 리트머스 용지를 이용하여, 도 1에 도시되어 있는 바와 같은 적정량의 질소(N2) 유량과 배기압을 찾아 보려는 노력이 시도된 바 있다. 도 1에 도시되어 있는 바와 같이, 통상의 산화로와 FTPS 산화로에서 시험을 해본 결과는 다음과 같다. 통상의 산화로에서는, 퍼지시 질소유량이 9~10(slm), 배기압이 14~16(mmH2O)이고, 언로딩시 질소유량이 18~20(slm), 배기압이 0(mmH2O)으로 설정한 경우(CONDITION1)와, 퍼지시 질소유량이 29~31(slm), 배기압이 19~21(mmH2O)이고, 언로딩시 질소유량이 19~21(slm), 배기압이 0(mmH2O)으로 설정한 경우(CONDITION2)에, 퍼지 및 언로딩시에 산화로의 산도가 변화하여 리트머스 시료의 색이 모두 변색이 됨으로써 염산개스의 누출이 검지되었다. 또한, FTPS 산화로에서는 퍼지시 질소유량이 29~31(slm), 배기압이 19~21(mmH2O)이고, 언로딩시 질소유량이 18~21(slm), 배기압이 0(mmH2O)으로 설정한 경우(CONDITION1)에 퍼지 및 언로딩시에 산화로의 산도가 변화하여 리트머스 시료의 색이 변색이 됨으로써 염산개스의 누출이 검지되었다.
그러나, 이와 같은 종래의 노력에도 불구하고, 통상의 산화로와 FTPS 산화로의 경우 모두 다 염산개스 퍼지후 질소(N2)를 증가시켜 퍼지를 해주어도 보트 언로딩시에는 튜브내에 잔여 염산 개스가 남아 있어서 보트 언로딩시 염산개스 누출이 발생하게 되는 문제점이 있다.
이와 같은 잔여 염산 개스의 누출에 의한 영향은 SCV 내부만이 아니고, 외부연소, SCV 외부까지 악영향을 미친다.
이 발명의 목적은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 염산개스를 퍼지하기 위한 최적의 질소 유량과 배기압 조건을 산출하여 완전하게 염산개스를 퍼지시킴으로써 잔여 염산개스의 누출에 의한 산화로 부식을 막을 수 있는, 산화로의 염산개스 퍼지 및 언로딩 방법을 제공하는 데 있다.
도 1은 종래의 산화로의 염산개스 퍼지 및 언로딩 방법을 설명하기 위한 도표이다.
도 2는 이 발명의 실시예에 따른 산화로의 염산개스 퍼지 및 언로딩 방법을 설명하기 위한 비교 도표이다.
도 3은 이 발명의 실시예에 따른 산화로의 염산개스 퍼지 및 언로딩 방법을 설명하기 위한 도표이다.
상기한 목적을 달성하기 위한 수단으로서 이 발명의 구성은, 통상의 산화로에서 퍼지시 질소유량이 9.5, 배기압이 15로 설정하고, 언로딩시 질소유량이 19, 배기압이 5로 설정하는 단계와, FTPS 산화로에서 퍼지시 질소유량이 10, 배기압이 10으로 설정하고, 언로딩시 질소유량이 20, 배기압이 5로 설정하는 단계를 포함하여 이루어진다.
이하, 이 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 이 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 이 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조로 하여 상세히 설명하기로 한다. 이 발명의 목적, 작용, 효과를 포함하여 기타 다른 목적들, 특징점들, 그리고 동작상의 이점들이 바람직한 실시예의 설명에 의해 보다 명확해질 것이다.
참고로, 여기에서 개시되는 실시예는 여러가지 실시가능한 예중에서 당업자의 이해를 돕기 위하여 가장 바람직한 예를 선정하여 제시한 것일 뿐, 이 발명의 기술적 사상이 반드시 이 실시예에만 의해서 한정되거나 제한되는 것은 아니고, 본발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 다양한 변화와 부가 및 변경이 가능함은 물론, 균등한 타의 실시예가 가능함을 밝혀 둔다.
도 3에 도시되어 있는 바와 같이, 이 발명의 실시예에 따른 산화로의 염산개스 퍼지 및 언로딩 방법은, 통상의 산화로에서는 퍼지시 질소유량이 9.5, 배기압이 15이고, 언로딩시 질소유량이 19, 배기압이 5가 최적조건이고, FTPS 산화로에서는 퍼지시 질소유량이 10, 배기압이 10이고, 언로딩시 질소유량이 20, 배기압이 5가 최적조건이다.
상기한 구성에 의한, 이 발명의 실시예에 따른 산화로의 염산개스 퍼지 및 언로딩 방법의 작용은 다음과 같다.
염산개스를 퍼지하기 위한 최적의 질소 유량과 배기압을 찾아내기 위하여 감도가 높은 리트머스 종이를 통상의 산화로와 FTPS 산화로의 각 부위에 부착하여, 도 2에 도시되어 있는 바와 같이 질소유량과 배기압을 변경해가면서 시험을 하였다.
이와 같이 통상의 산화로와 FTPS 산화로에서 시험을 해본 결과는 다음과 같다.
통상의 산화로에서는, 퍼지시 질소유량이 30, 배기압이 20이고, 언로딩시 질소유량이 5, 배기압이 15로 설정한 경우(TEST1)와, 퍼지시 질소유량이 9.5, 배기압이 15이고, 언로딩시 질소유량이 19, 배기압이 5로 설정한 경우(TEST2)에 염산개스의 누출이 검지되지 않는다.
FTPS 산화로에서는 퍼지시 질소유량이 30, 배기압이 20이고, 언로딩시 질소유량이 20, 배기압이 15로 설정한 경우(TEST1)와, 퍼지시 질소유량이 30, 배기압이 20이고, 언로딩시 질소유량이 20, 배기압이 5로 설정한 경우(TEST2)와, 퍼지시 질소유량이 10, 배기압이 10이고, 언로딩시 질소유량이 20, 배기압이 5로 설정한 경우(TEST3)에 염산개스의 누출이 검지되지 않는다.
상기한 바와 같은 설정조건중에서도, 도 3에 도시되어 있는 바와 같이, 통상의 산화로에서는 퍼지시 질소유량이 약 9.5, 배기압이 약 15이고, 언로딩시 질소유량이 약 19, 배기압이 약 5로 설정하는 경우가 최적조건이고, FTPS 산화로에서는 퍼지시 질소유량이 약 10, 배기압이 약 10이고, 언로딩시 질소유량이 약 20, 배기압이 약 5로 설정하는 경우가 가장 최적의 조건이다.
상기한 수치의 단위로서, 질소유량은 slm, 배기압은 mmH2O를 사용한다.
이상의 설명에서와 같이 이 발명의 실시예에서, 염산개스를 퍼지하기 위한 최적의 질소 유량과 배기압 조건을 산출하여 완전하게 염산개스를 퍼지시킴으로써 잔여 염산개스의 누출에 의한 산화로 부식을 막을 수 있는 효과를 가진 산화로의 염산개스 퍼지 및 언로딩 방법을 제공할 수가 있다. 이 발명의 이와 같은 효과는 산화로의 염산개스 클리닝 분야에서 이 발명의 기술적 사상의 범위를 벗어나지 않는 범위내에서 다양하게 응용되어 이용될 수가 있다.

Claims (2)

  1. (정정) 통상의 산화로에서,
    퍼지시 질소유량이 9~10(slm), 배기압이 14~16(mmH2O)로 설정하고,
    언로딩시 질소유량이 18~20(slm), 배기압이 4~6(mmH2O)로 설정하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 산화로의 염산개스 퍼지 및 언로딩 방법.
  2. (신설) FTPS 산화로에서,
    퍼지시 질소유량이 9~11(slm), 배기압이 9~11(mmH2O)으로 설정하고,
    언로딩시 질소유량이 19~21(slm), 배기압이 4~6(mmH2O)로 설정하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 산화로의 염산개스 퍼지 및 언로딩 방법.
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