KR100424611B1 - Low profile optically-sensitive semiconductor package - Google Patents

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KR100424611B1
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Abstract

개구를 갖는 기판을 포함하는 저형상 감광성 반도체 장치가 개시된다. 감광성 반도체 칩이 기판의 개구를 통하여 기판의 제 1 표면에 부착되는 방식으로 기판의 제 1 표면에 커버 플레이트가 접합된다. 반도체 칩이 기판에 전기적으로 연결된 직후, 기판의 개구와 연결된 관통 홀을 갖는 제 1 봉지제가 기판의 제 2 표면 상에 형성된다. 그후, 관통 홀을 밀봉하기 위하여 밀봉 플레이트가 제 1 봉지제에 부착되어 반도체 칩을 대기로부터 밀봉적으로 분리한다. 기판의 제 1 표면 상에 제 2 봉지제가 형성되어 도전성 요소들의 종단들과 커버 플레이트의 외측 표면이 제 2 봉지제의 상부 표면에 노출되고 제 2 봉지제 상부 표면과 동일 평면에 있게 된다.A low profile photosensitive semiconductor device comprising a substrate having an opening is disclosed. The cover plate is bonded to the first surface of the substrate in such a manner that the photosensitive semiconductor chip is attached to the first surface of the substrate through the opening of the substrate. Immediately after the semiconductor chip is electrically connected to the substrate, a first encapsulant having a through hole connected to the opening of the substrate is formed on the second surface of the substrate. Thereafter, a sealing plate is attached to the first encapsulant to seal the through hole to seal seal the semiconductor chip from the atmosphere. A second encapsulant is formed on the first surface of the substrate such that the ends of the conductive elements and the outer surface of the cover plate are exposed to the top surface of the second encapsulant and coplanar with the second encapsulant top surface.

따라서, 반도체 장치의 만족할만한 제조 평면(manufacturing plane)이 얻어질 수 있으며 반도체 장치의 전체 높이가 효과적으로 줄어들 수 있다.Thus, a satisfactory manufacturing plane of the semiconductor device can be obtained and the overall height of the semiconductor device can be effectively reduced.

Description

저형상 감광성 반도체 패키지{Low profile optically-sensitive semiconductor package}Low profile photosensitive semiconductor package

본 발명은 감광성 반도체 패키지에 관한 것으로서, 특히 반도체 칩이 패키지 내로 방사된 외부 광을 감지할 수 있는 감광성 반도체 패키지에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive semiconductor package, and more particularly, to a photosensitive semiconductor package capable of sensing external light emitted by the semiconductor chip into the package.

일반적인 반도체 장치는 보통 불투명 몰딩 수지로 반도체 칩을 봉입하며, 이는 외부 충격으로부터 반도체 칩에 대한 손상을 방지하기 위한 기계적인 보호뿐만 아니라 외부 대기와의 화학 반응 발생으로부터 봉입된 반도체 칩을 보호한다. 그러나, 이미지 센싱 또는 자외선 소거 가능한 EP-ROM 패키지와 같은 감광성 반도체 장치들의 경우, 반도체 칩을 위해서는 외부 광을 받아들이는 것이 필요하다. 이를 달성하기 위해서, 이러한 감광성 반도체 장치의 구조는 외부 광이 장치의 내부 부품에 도달할 수 있는 방법으로 설계되어 장치 내로 방사된 광이 감광성 반도체 칩에 의하여 감지될 수 있다.Typical semiconductor devices usually enclose a semiconductor chip with an opaque molding resin, which protects the enclosed semiconductor chip from chemical reactions with the external atmosphere as well as mechanical protection to prevent damage to the semiconductor chip from external impacts. However, in the case of photosensitive semiconductor devices such as image sensing or ultraviolet erasable EP-ROM packages, it is necessary to receive external light for the semiconductor chip. To achieve this, the structure of such a photosensitive semiconductor device is designed in such a way that external light can reach internal components of the device so that light emitted into the device can be sensed by the photosensitive semiconductor chip.

많은 다른 형상들의 일반적인 감광성 반도체 장치들이 존재한다. 그들중 하나가 반도체 장치(3)를 도시하는 도 4에 나타나 있으며, 이 반도체 장치는 기판 (30)에 부착되고 골드 와이어(gold wires; 34)를 통하여 기판(30)에 전기적으로 접속된 반도체 칩(32)을 포함한다. 반도체 칩(32)은 기판(30) 상에 실장된 프레임 (36) 내에 위치하며, 투명한 커버 플레이트(38)는 프레임(36)에 부착되어 외부 광이 반도체 장치(3) 내에 봉입된 반도체 칩(32) 내로 발산되도록 하는 반면에 대기로부터 반도체 칩(32)과 골드 와이어(34)를 밀봉적으로 분리한다.There are general photosensitive semiconductor devices of many different shapes. One of them is shown in FIG. 4, which shows a semiconductor device 3, which semiconductor chip is attached to the substrate 30 and electrically connected to the substrate 30 via gold wires 34. And (32). The semiconductor chip 32 is positioned in the frame 36 mounted on the substrate 30, and the transparent cover plate 38 is attached to the frame 36 so that external light is enclosed in the semiconductor device 3. 32) while sealing the semiconductor chip 32 and the gold wire 34 from the atmosphere while being diverged into the atmosphere.

그러나, 반도체 장치(3)의 구조는 다음의 단점들을 갖는다. 반도체 장치(3)의 전체 높이는 솔더 볼(solder ball: 39)의 높이, 기판(30)과 반도체 칩(32)의 두께, 반도체 칩(32) 상의 골드 와이어(34)의 와이어 루프(wireloop) 높이, 골드 와이어(34) 와이어 루프의 상단과 커버 플레이트(38) 사이의 간격 및 커버 플레이트 (38)의 두께로 이루어지며, 이를 줄이기는 어렵다. 그 결과로서, 이러한 높이의 제한은 저형상(low profile) 반도체 장치의 요구 조건을 거의 만족할 수 없다. 또한, 반도체 칩(32), 프레임(36) 및 솔더 볼들(39)은 기판(30)의 상부 표면 및 바닥 표면에 각각 장착된다. 이들은 다른 열 팽창 계수를 갖기 때문에 온도 주기 (temperature cycle) 및 신뢰성 테스트 동안에 실질적인 온도 변화에 기인하여 기판(30)이 뒤틀리는(wrap) 경향이 있다. 기판(30)의 비틀림 발생은 반도체 칩(32)으로부터 기판(30)의 분리뿐만 아니라 솔더 볼들(39)의 평탄도의 손실을 낳게 된다. 결과적으로, 인쇄 회로 기판과 같은 외부 장치와 솔더 볼들 (39) 간의 전기적 접속이 완전하고 효과적으로 이루어질 수 없으며, 그로 인하여 반도체 장치(3)의 외부 접속 성능에 역으로 악영향을 일으킨다.However, the structure of the semiconductor device 3 has the following disadvantages. The overall height of the semiconductor device 3 is the height of the solder ball 39, the thickness of the substrate 30 and the semiconductor chip 32, the height of the wireloop of the gold wire 34 on the semiconductor chip 32. The gap between the top of the gold wire 34 wire loop and the cover plate 38 and the thickness of the cover plate 38 are difficult to reduce. As a result, this height limitation hardly meets the requirements of low profile semiconductor devices. In addition, the semiconductor chip 32, the frame 36, and the solder balls 39 are mounted on the top surface and the bottom surface of the substrate 30, respectively. Because they have different coefficients of thermal expansion, the substrate 30 tends to wrap due to substantial temperature changes during the temperature cycle and reliability tests. Torsion of the substrate 30 results in the separation of the substrate 30 from the semiconductor chip 32 as well as the loss of flatness of the solder balls 39. As a result, the electrical connection between the solder balls 39 and an external device such as a printed circuit board cannot be made completely and effectively, thereby adversely affecting the external connection performance of the semiconductor device 3.

따라서, 본 발명의 목적은 반도체 장치의 전체 두께를 효과적으로 줄일 수 있는 저형상, 감광성 반도체 장치를 제공하는데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a low-shape, photosensitive semiconductor device that can effectively reduce the overall thickness of the semiconductor device.

본 발명의 다른 목적은 반도체 장치의 기계적 강도를 향상시켜 갈라짐 (delamination) 발생을 효과적으로 방지할 수 있는 저형상, 감광성 반도체 장치를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a low-shape, photosensitive semiconductor device capable of effectively preventing the occurrence of delamination by improving the mechanical strength of the semiconductor device.

본 발명의 또다른 목적은 종래의 반도체 장치보다 향상된 열 분산 효율을 갖는 저형상, 감광성 반도체 장치를 제공하는데 있다.It is still another object of the present invention to provide a low profile, photosensitive semiconductor device having improved heat dissipation efficiency than a conventional semiconductor device.

본 발명의 다른 목적은 외부 장치들과의 솔더 볼들의 전기적 접속의 질을 보장할 수 있는 저형상, 감광성 반도체 장치를 제공하는데 있다.It is another object of the present invention to provide a low profile, photosensitive semiconductor device capable of ensuring the quality of electrical connection of solder balls with external devices.

본 발명의 또다른 목적은 반도체 장치의 두께와 기판 제조 비용을 효과적으로 줄일 수 있는 저형상, 감광성 반도체 장치를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a low-profile, photosensitive semiconductor device that can effectively reduce the thickness of the semiconductor device and the cost of manufacturing the substrate.

상술한 목적들 및 다른 목적들에 따라, 본 발명은 신규한 저형상, 감광성 반도체 장치를 제안한다. 저형상, 감광성 반도체 장치는 개구, 제 1 표면, 제 1 표면과 마주하는 제 2 표면, 제 2 표면상에 형성된 다수의 도전성 트레이스들 및 도전성 트레이스들과의 전기적인 연결을 위하여 기판을 관통하여 형성된 다수의 도전성 비아들을 갖는 기판; 개구의 종단을 덮기 위하여 기판의 제 1 표면 상에 부착된 커버 부재; 기판의 개구 내에 위치하며 커버 부재에 부착된 반도체 칩; 반도체 칩을 기판 상의 도전성 트레이스들에 전기적으로 연결하기 위한 다수의 제 1 도전성 요소들; 도전성 트레이스들을 봉입(encapsulating)하기 위하여 기판의 제 2 표면 상에 형성된 제 1 봉지제(encapsulant); 대기로부터 반도체 칩과 제 1 도전성 요소들을 밀봉적으로 분리하도록 개구를 밀봉하기 위한 제 1 봉지제에 부착된 밀봉 부재; 도전성 비아와의 전기적인 연결을 위하여 기판의 제 1 표면상에 형성된 다수의 제 2 도전성 요소들; 및 커버 부재 및 제 2 도전성 요소들이 노출되는 방식으로 기판의 제 1 표면 상에 형성된 제 2 봉지제를 포함하여, 커버 부재의 외측 표면과 각 제 2도전성 요소의 터미널이 제 2 봉지제의 외부 표면과 같은 높이를 이루게 한다.In accordance with the above and other objects, the present invention proposes a novel low-shape, photosensitive semiconductor device. A low profile, photosensitive semiconductor device is formed through a substrate for electrical connection with an opening, a first surface, a second surface facing the first surface, a plurality of conductive traces formed on the second surface and conductive traces. A substrate having a plurality of conductive vias; A cover member attached on the first surface of the substrate to cover the end of the opening; A semiconductor chip located in the opening of the substrate and attached to the cover member; A plurality of first conductive elements for electrically connecting the semiconductor chip to conductive traces on the substrate; A first encapsulant formed on a second surface of the substrate for encapsulating conductive traces; A sealing member attached to a first encapsulant for sealing the opening to sealably separate the semiconductor chip and the first conductive elements from the atmosphere; A plurality of second conductive elements formed on the first surface of the substrate for electrical connection with the conductive vias; And a second encapsulant formed on the first surface of the substrate in such a manner that the cover member and the second conductive elements are exposed such that the outer surface of the cover member and the terminals of each second conductive element are formed on the outer surface of the second encapsulant. To the same height as

커버 부재는 실리콘 필름, 에폭시 수지 테이프, 폴리마이드 테이프 또는 필름 또는 유사한 재료로 만들어진 테이프일 수 있다. 대안적으로, 커버 플레이트는 구리, 알루미늄, 구리 합금 또는 알루미늄 합금과 같은 열 발산 금속으로 만들어진 열 발산기(spreader)일 수 있다. 열 발산 효율을 개선하기 위하여, 커버 부재에 반도체 칩을 부착하기 위하여 열 전도성 접착제가 사용될 수 있다.The cover member may be a silicone film, an epoxy resin tape, a polyamide tape or a tape made of a film or similar material. Alternatively, the cover plate may be a heat spreader made of heat dissipating metal such as copper, aluminum, copper alloy or aluminum alloy. In order to improve heat dissipation efficiency, a thermally conductive adhesive may be used to attach the semiconductor chip to the cover member.

밀봉 부재는 투명한 글라스(glass), 플라스틱 또는 금속성 재료로 만들어질 수 있어 기판의 개구들을 상호 연결하는 제 1 봉지제의 중앙 영역 내에 형성된 개구를 커버할 수 있다. 이는 반도체 칩 및 제 1 도전성 요소들과 대기와의 접촉을 방지한다. 반도체 칩과 제 1 도전성 부재들의 봉입을 위한 밀봉 부재로 사용하기위하여 투명한 수지 재료 또한 사용될 수 있어 기판 및 제 1 봉지제의 개구를 충진 (fill up)한다. 투명한 수지로 형성된 밀봉 부재가 광 투과성이기 때문에 반도체 칩은 외부 광을 받아 반응할 수 있다.The sealing member may be made of transparent glass, plastic or metallic material to cover the opening formed in the central region of the first encapsulant interconnecting the openings of the substrate. This prevents contact of the semiconductor chip and the first conductive elements with the atmosphere. A transparent resin material can also be used for use as a sealing member for encapsulation of the semiconductor chip and the first conductive members to fill up the openings of the substrate and the first encapsulant. Since the sealing member formed of the transparent resin is light transmissive, the semiconductor chip can receive external light and react.

제 1 도전성 요소들은 바람직하게는 골드 와이어들이다. 제 2 도전성 요소들로서 솔더 볼들(solder balls)이 사용될 수 있어 기판의 도전성 비아(via)들에 솔더 볼들을 전기적으로 연결하기 위하여 일반적인 솔더 볼 주입 방법들이 이용될 수 있다. 제 2 도전성 요소들이 구리, 납, 그 합금 또는 다른 유사한 금속들 또는 그 합금과 같은 도전성 금속들에 의하여 형성된 접속 럼프들(lumps)의 형태로 될 수 있다는 것을 주목하자. 이 경우에, 기판의 도전성 비아들을 전기적으로 연결하기 위하여 접속 럼프들은 일반적인 프린팅 기술에 의하여 기판의 제 1 표면상에 실장될 수 있다. 기판의 제 1 표면 상의 예정된 위치에 제 2 도전성 요소들이 형성된 후, 제 2 봉지부가 기판의 제 1 표면 위에 형성되어 제 2 도전성 요소들과 커버 플레이트가 제 2 봉지제에 노출되는 방식으로 제 2 도전성 요소들과 커버 부재가 봉입된다. 따라서 얻어진 장치의 전체 두께를 줄이기 위하여 일반적인 연마 (grinding) 방법이 이용될 수 있어 제 2 봉지제, 제 2 도전성 요소들 및/또는 커버 플레이트를 연마한다. 그 결과로서, 패키지화된 제품의 전체 높이가 효과적으로 줄어들 수 있을 뿐만 아니라 제 2 봉지제의 외측 표면 및 제 2 도전성 요소들의 노출된 종단들은 물론 커버 부재의 노출된 표면이 서로 동일 평면으로 될 수 있다.The first conductive elements are preferably gold wires. Solder balls may be used as the second conductive elements so that conventional solder ball injection methods may be used to electrically connect the solder balls to conductive vias of the substrate. Note that the second conductive elements may be in the form of connecting lumps formed by copper, lead, alloys thereof or other similar metals or conductive metals such as alloys thereof. In this case, connecting lumps may be mounted on the first surface of the substrate by conventional printing techniques to electrically connect conductive vias of the substrate. After the second conductive elements are formed at a predetermined position on the first surface of the substrate, the second conductive portion is formed over the first surface of the substrate such that the second conductive elements and the cover plate are exposed to the second encapsulant in a second conductive manner. Elements and cover member are enclosed. Thus, a general grinding method can be used to reduce the overall thickness of the device obtained to polish the second encapsulant, the second conductive elements and / or the cover plate. As a result, not only can the overall height of the packaged product be reduced effectively, but the exposed surfaces of the cover member as well as the outer surface of the second encapsulant and the exposed ends of the second conductive elements can be coplanar with one another.

첨부된 도면을 참고로 하여 다음의 바람직한 실시예의 상세한 설명을 통하여 본 발명을 보다 완전하게 이해할 수 있을 것이다.The present invention will be more fully understood from the following detailed description of the preferred embodiments with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 반도체 장치의 제 1 실시예의 횡단면도.1 is a cross sectional view of a first embodiment of a semiconductor device according to the present invention;

도 2는 제 1 봉지제를 완전히 덮는 플레이트를 도시하기 위하여 사용된, 도 1에 도시된 바와는 다른, 본 발명에 따른 반도체 장치의 제 1 실시예의 횡단면도.FIG. 2 is a cross-sectional view of a first embodiment of a semiconductor device according to the present invention, different from that shown in FIG. 1, used to show a plate completely covering the first encapsulant. FIG.

도 3은 본 발명에 따른 반도체 장치의 제 2 실시예의 횡단면도.3 is a cross sectional view of a second embodiment of semiconductor device according to the present invention;

도 4는 일반적인 감광성 반도체 장치의 횡단면도.4 is a cross-sectional view of a typical photosensitive semiconductor device.

제 1 실시예First embodiment

도 1에 도시된 바와 같이, 반도체 장치(1)는 그 중앙에 형성된 개구(100; opening)를 갖는 기판(10)을 포함한다. 기판(10)은 제 1 표면(101), 마주하는 제 2 표면(102), 제 2 표면(102)상에 형성된 다수의 도전성 트레이스들(103; trances) 및 기판을 관통하며 제 1 표면(101)과 제 2 표면(102)을 상호 연결하는 다수의 도전성 비아들(vias; 104)을 갖는다. 도전성 트레이스들(103)과 도전성 비아들(104)이 일반적인 방법으로 형성되기 때문에 여기서는 이에 대한 상세한 설명은 하지 않는다. 도전성 트레이스들(103)과의 전기적인 연결을 위하여 도전성 비아들(104)이 형성된다. 기판(10)의 제 1 표면(101) 상의 개구(100) 종단이 커버 플레이트(11)에 의하여 밀봉되는 방법으로 기판(10)의 제 1 표면(101) 상에 커버 플레이트(11)가 부착된다. 이는 감광성 반도체 칩(12)이 기판(10)의 제 2 표면(102) 상의 개구 (100) 개방단을 통하여 은 접착제(silver paste; 13)에 의하여 커버 플레이트(11)에 부착되어지는 것을 허용하므로 반도체 칩(12)은 기판(10)의 개구(100) 내에 수용된다.As shown in FIG. 1, the semiconductor device 1 includes a substrate 10 having an opening 100 formed in the center thereof. The substrate 10 penetrates the first surface 101, the second surface 102, the plurality of conductive traces 103 formed on the second surface 102, and the first surface 101. ) And a plurality of conductive vias 104 interconnecting the second surface 102. Since conductive traces 103 and conductive vias 104 are formed in a general manner, a detailed description thereof is not provided herein. Conductive vias 104 are formed for electrical connection with conductive traces 103. The cover plate 11 is attached on the first surface 101 of the substrate 10 in such a way that the opening 100 termination on the first surface 101 of the substrate 10 is sealed by the cover plate 11. . This allows the photosensitive semiconductor chip 12 to be attached to the cover plate 11 by silver paste 13 via an opening 100 opening end on the second surface 102 of the substrate 10. The semiconductor chip 12 is accommodated in the opening 100 of the substrate 10.

위에서 언급한 바와 같이, 커버 플레이트(11)는 폴리마이드 수지와 같은 수지 재료로 제조된 테이프 또는 구리와 같은 금속으로 제조된 열 발산기(heat spreader)이다. 커버 플레이트(11)가 열 발산기로서 형성될 때, 반도체 칩(12)에서 생성된 열은 대기로 직접적으로 방산(dissipate)하기 위하여 커버 플레이트(11)로 전달될 수 있다. 따라서, 반도체 장치(1)의 열 방산 효율이 증가될 수 있다.As mentioned above, the cover plate 11 is a heat spreader made of a metal such as copper or a tape made of a resin material such as polyamide resin. When the cover plate 11 is formed as a heat spreader, heat generated in the semiconductor chip 12 can be transferred to the cover plate 11 to dissipate directly into the atmosphere. Therefore, the heat dissipation efficiency of the semiconductor device 1 can be increased.

반도체 칩(12)이 커버 플레이트(11)상의 미리 설정된 위치에 부착되는 한편, 기판(10) 상의 도전성 트레이스들(103)을 반도체 칩(12)에 전기적으로 연결하기 위하여 다수의 골드 와이어들(14)이 사용된다. 반도체 칩(12)과 기판(10) 간의 전기적인 접속은 일반적인 테이프 자동화 본딩(bonding) 기술에 의하여 이루어질 수도 있다.While the semiconductor chip 12 is attached to a predetermined position on the cover plate 11, a plurality of gold wires 14 for electrically connecting the conductive traces 103 on the substrate 10 to the semiconductor chip 12. ) Is used. Electrical connections between the semiconductor chip 12 and the substrate 10 may be made by conventional tape automated bonding techniques.

골드 와이어들(14)의 와이어 본딩이 완료된 후, 일반적인 프린팅 방법 또는 유사한 방법에 의하여 수지 컴파운드가 기판(10)의 제 2 표면 상에 도포되어 제 1 봉지제(15)가 형성되며, 제 1 봉지제는 개구(100) 및 골드 와이어(14)가 접속되는 제 2 표면(102)의 일부를 덮여지지 않은 상태로 남겨두고 기판(10)의 제 2 표면(102)을 완전히 봉입한다. 제 1 봉지제(15)에 의하여 도전성 트레이스들(103)은 대기와 접촉하지 않고 있어 공기 또는 습기에 의한 도전성 트레이스(103)의 산화가 방지된다. 제 1 봉지제(15)의 형성 직후, 골드 와이어들(14)이 얹혀지는 제 2 표면(102)의 영역을 관통 홀(150)에 노출되는 상태로 남겨두게 하기 위하여 관통 홀(150)이 형성되어 개구(100)와 접속된다. 제 1 봉지제(15)가 일반적인 프린팅 방법에 의하여 기판(10)의 제 2 표면(102) 상에 형성되기 때문에 두께(H)는 기판(10)의 제 2 표면(102)을 지나 연장되는 골드 와이어(14)의 와이어루프(wireloop)의 높이를 나타내는 높이(h)보다 다소 높은 정도까지 만족할만하게 제어될 수 있다. 따라서, 도 4에 도시된 일반적인 볼 그리드 어레이(ball grid arrayed) 반도체 장치 내의 기판의 바닥 표면에 장착된 솔더 볼의 볼 높이와 비교하면 제 1 봉지제(15)의 두께(H)는 효과적으로 줄어들 수 있다. 이는 또한 제 1 봉지제(15)로의 골드 와이어(14)의 노출을 회피한다.After the wire bonding of the gold wires 14 is completed, a resin compound is applied on the second surface of the substrate 10 by a general printing method or a similar method to form a first encapsulant 15, and a first encapsulation. The agent completely encloses the second surface 102 of the substrate 10, leaving an uncovered portion of the second surface 102 to which the opening 100 and the gold wire 14 are connected. The conductive encapsulation 103 is not in contact with the atmosphere by the first encapsulant 15 to prevent oxidation of the conductive trace 103 by air or moisture. Immediately after the formation of the first encapsulant 15, the through holes 150 are formed to leave the area of the second surface 102 on which the gold wires 14 are to be left exposed to the through holes 150. And is connected to the opening 100. Since the first encapsulant 15 is formed on the second surface 102 of the substrate 10 by a common printing method, the thickness H extends beyond the second surface 102 of the substrate 10. It can be satisfactorily controlled to a degree somewhat higher than the height h representing the height of the wireloop of the wire 14. Therefore, the thickness H of the first encapsulant 15 can be effectively reduced as compared with the ball height of the solder balls mounted on the bottom surface of the substrate in the general ball grid arrayed semiconductor device shown in FIG. 4. have. This also avoids the exposure of the gold wire 14 to the first encapsulant 15.

개구(100) 내에 수용된 반도체 칩(12) 및 골드 와이어(14)가 대기 및 외부 습기와 접촉하지 않도록 하기 위하여, 투명한 밀봉 플레이트(16)가 제 1 봉지제 (15)에 접착제에 의해 부착되어 관통 홀(150)을 밀봉적으로 밀봉하며, 그로 인하여 외부 광이 반도체 칩(12)으로 방사되어지는 것을 허용하는 반면에 대기로부터 반도체 칩(12)과 골드 와이어들(14)을 분리한다.In order to prevent the semiconductor chip 12 and the gold wire 14 accommodated in the opening 100 from coming into contact with atmospheric and external moisture, a transparent sealing plate 16 is attached to the first encapsulant 15 by an adhesive and penetrates therethrough. The hole 150 is hermetically sealed, thereby separating the semiconductor chip 12 and the gold wires 14 from the atmosphere while allowing external light to be emitted to the semiconductor chip 12.

다수의 접속 럼프들(lumps; 17)이 일반적인 프린팅 방법에 의하여 기판(10)의 제 1 표면(101) 상에 정렬 상태로 실장되어 기판의 제 1 표면(101)에 노출된 도전성 비아들(104)의 대응 종단들을 전기적으로 접속한다. 이는 골드 와이어들(14), 도전성 트레이스들(103), 도전성 비아들(104) 및 접속 럼프들(17)로 이루어진 루트 (route)를 통하여 반도체 칩(12)이 예를 들어, 인쇄 회로 기판(PCB)과 같은 외부 장치들(도시되지 않음)에 전기적으로 접속되는 것을 허용한다.A plurality of connecting lumps 17 are mounted in alignment on the first surface 101 of the substrate 10 by the usual printing method and are exposed to the first surface 101 of the substrate 104. Electrical connections of the corresponding terminations. This is because the semiconductor chip 12 is connected to, for example, a printed circuit board through a route consisting of gold wires 14, conductive traces 103, conductive vias 104 and connecting lumps 17. Allow to be electrically connected to external devices (not shown) such as a PCB.

기판(10) 상에 접속 럼프들(17)이 실장된 후, 에폭시 수지와 같은 봉지 재료에 의하여 제 2 봉지제(18)가 기판(10)의 제 1 표면(101) 상에 형성되어 접속 럼프들(17)과 커버 플레이트(11)를 봉입한다. 접속 럼프들(17)의 종단들(170)과 커버 플레이트(11)의 외측 표면(110)이 제 2 봉지제(18)에 노출되는 방식 또는 대안적으로 접속 럼프들(17)과 커버 플레이트(11)가 완전히 덮여지는 방식으로 제 2 봉지제(18)가 형성되고, 그후 제 2 봉지제(18)에 대한 연마(grinding) 처리를 뒤이어 실행하며, 따라서 접속 럼프들(17)의 종단들과 커버 플레이트(11)의 외측 표면 (110)이 제 2 봉지제에 노출되는 정도까지 제 2 봉지제(18)의 두께가 감소된다. 제 2 봉지제(18)의 형성 직후, 제 2 봉지제(18)의 상부 표면(180)은 접속 럼프들(17)의 종단들 및 커버 플레이트(11)의 외측 표면(110)과 같은 높이가 된다. 그러나, 반도체 장치(1)의 전체 높이를 더 줄이기 위하여, 접속 럼프들(17)과 커버 플레이트(11)를 제 2 봉지제에 노출되도록 제 2 봉지제(18)를 형성한 직후, 제 2 봉지제 (18)의 적절한 그리고 설정된 두께에 도달할 때까지 기판(10)을 향하는 방향으로 제 2 봉지제(18), 접속 럼프들(17) 및 커버 플레이트(11)를 동시에 연마하기 위하여 후(post) 연마 처리가 수행될 수 있다. 제 2 봉지제(18)의 상부 표면(180), 접속 럼프들(17)의 종단들(170) 및 커버 플레이트(11)의 외측 표면(110)이 동일 평면 (co-planarly)으로 위치할 때, 반도체 장치(1)는 표면 실장 기술에 의하여, 접속 럼프들(17)의 종단들(170)과 인쇄 회로 기판과 같은 외부 장치 사이에 접속 상태가 보장된 전기적 접속을 제공하는 만족할만한 제조 평면(manufacturing plane)을 갖고 형성된다. 이것은 각 접속 럼프(17)가 외부 장치 상에 형성된 대응 접속 패드들 (pads)에 완전하고 효과적으로 접속할 수 있기 때문이다. 그 결과로서, 본 발명의 반도체 장치는 종래 기술보다 더 우수하게 제조될 수 있으며 일반적인 BGA 반도체 장치의 솔더 볼들의 종단에 의하여 형성된 평면의 불충분한 평탄도(planarity)에 기인한 불완전한 전기적 접속의 문제를 효과적으로 해결한다.After the connecting lumps 17 are mounted on the substrate 10, a second encapsulant 18 is formed on the first surface 101 of the substrate 10 by means of an encapsulating material such as an epoxy resin to form the connecting lumps. The field 17 and the cover plate 11 are sealed. The ends 170 of the connecting lumps 17 and the outer surface 110 of the cover plate 11 are exposed to the second encapsulant 18 or alternatively the connecting lumps 17 and the cover plate ( The second encapsulant 18 is formed in such a way that 11 is completely covered, followed by a grinding process on the second encapsulant 18, thus providing the ends of the connecting lumps 17 with the ends. The thickness of the second encapsulant 18 is reduced to the extent that the outer surface 110 of the cover plate 11 is exposed to the second encapsulant. Immediately after formation of the second encapsulant 18, the upper surface 180 of the second encapsulant 18 is flush with the ends of the connecting lumps 17 and the outer surface 110 of the cover plate 11. do. However, in order to further reduce the overall height of the semiconductor device 1, immediately after forming the second encapsulant 18 to expose the connecting lumps 17 and the cover plate 11 to the second encapsulant, the second encapsulation Post to simultaneously polish the second encapsulant 18, the connecting lumps 17 and the cover plate 11 in the direction towards the substrate 10 until the appropriate and set thickness of the 18th is reached. ) Polishing may be performed. When the upper surface 180 of the second encapsulant 18, the ends 170 of the connecting lumps 17 and the outer surface 110 of the cover plate 11 are co-planarly positioned. The semiconductor device 1 is a satisfactory fabrication plane that provides a guaranteed electrical connection between the terminations 170 of the connection lumps 17 and an external device such as a printed circuit board by means of surface mount technology. It is formed with a manufacturing plane. This is because each connecting lump 17 can be completely and effectively connected to the corresponding connecting pads formed on the external device. As a result, the semiconductor device of the present invention can be manufactured better than the prior art and solves the problem of incomplete electrical connection due to insufficient planarity of the plane formed by the termination of the solder balls of the general BGA semiconductor device. Solve effectively.

한편, 기판(10)의 제 1 표면(101) 및 제 2 표면(102)에 제 2 봉지제(18)와 제 1 봉지제(15)가 각각 형성된다. 이러한 종류의 구조는 장치 자체의 기계적인 강도를 증가시킬 뿐만 아니라 가동 하에서의 온도 사이클(temperature cycle)및 고온 조건 동안에 기판(10)에 가해지는 제 1 봉지제(15)와 제 2 봉지제(18)로 인한 열 응력을 제거한다. 따라서, 본 발명의 반도체 장치의 휘어짐(warpage)은 효과적으로 제거될 수 있으며 반도체 칩(12)과 커버 플레이트(11) 간의 갈라짐(delamination)이 방지될 수 있어 패키지 제품의 수율과 신뢰성을 효과적으로 개선한다.On the other hand, the second encapsulant 18 and the first encapsulant 15 are formed on the first surface 101 and the second surface 102 of the substrate 10, respectively. This kind of structure not only increases the mechanical strength of the device itself, but also the first encapsulant 15 and the second encapsulant 18 applied to the substrate 10 during temperature cycles and high temperature conditions under operation. Eliminate thermal stress caused by Therefore, warpage of the semiconductor device of the present invention can be effectively eliminated, and delamination between the semiconductor chip 12 and the cover plate 11 can be prevented, thereby effectively improving the yield and reliability of the packaged product.

더욱이, 반도체 칩(12)이 기판(10)의 개구(100) 내에 위치하고 제 1 봉지제 (15)의 두께가 일반적인 솔더 볼의 두께보다 작으며 제 2 봉지제(18)의 두께 역시 일반적인 반도체 칩의 두께보다 작기 때문에 본 발명의 반도체 장치(1)는 반도체 칩이 기판의 상부 표면에 접합되고 솔더 볼들이 기판의 바닥 표면에 주입된 선행 기술의 BGA 반도체 장치보다 높이가 낮은 저형상 반도체 장치를 제공한다.Moreover, the semiconductor chip 12 is located in the opening 100 of the substrate 10 and the thickness of the first encapsulant 15 is smaller than the thickness of the general solder ball and the thickness of the second encapsulant 18 is also a general semiconductor chip. Since the semiconductor device 1 of the present invention is smaller than the thickness of the semiconductor device 1 of the present invention, the semiconductor device is bonded to the upper surface of the substrate and the solder ball is injected into the bottom surface of the substrate provides a low shape semiconductor device having a lower height than the prior art BGA semiconductor device do.

또한, 제 2 봉지제(18)와 제 1 봉지제(15)가 기판(10)의 제 1 표면(101)과 제 2 표면(102) 위에 각각 형성되어 있기 때문에 따라서 기계적 강도는 증가한다. 그 결과로서, 기판(10)의 두께는 감소될 수 있어 장치의 기계적 강도의 약해짐 없이 장치의 제조 비용이 줄어든다.Further, since the second encapsulant 18 and the first encapsulant 15 are formed on the first surface 101 and the second surface 102 of the substrate 10, respectively, the mechanical strength increases accordingly. As a result, the thickness of the substrate 10 can be reduced to reduce the manufacturing cost of the device without weakening the mechanical strength of the device.

한편, 제 1 실시예에 따른 반도체 장치(1)의 밀봉 플레이트(16)는 도 2에 도시된 바와 같이, 제 1 봉지제(15) 및 관통 홀(150) 전체를 커버하기에 충분한 규격일 수 있다. 이것은 제 1 봉지제(15)에 대한 밀봉 플레이트(16)의 접착을 보다 쉽게 수행하게 할 수 있다.Meanwhile, as shown in FIG. 2, the sealing plate 16 of the semiconductor device 1 according to the first embodiment may have a size sufficient to cover the entirety of the first encapsulant 15 and the through hole 150. have. This can make the adhesion of the sealing plate 16 to the first encapsulant 15 easier.

제 2 실시예Second embodiment

도 3은 본 발명에 따른 반도체 장치의 제 2 실시예의 횡단면도이다. 본 도면에 도시된 바와 같이, 제 2 실시예의 반도체 장치(2)는 대기로부터 반도체 칩(22)과 골드 와이어들(24)을 밀봉적으로 분리하기 위하여 제 1 실시예에서 설명된 밀봉 플레이트(16) 대신에 수지체(26)가 사용되었다는 점을 제외하고는 제 1 실시예에서 설명된 구조와 실질적으로 동일한 구조를 갖는다. 수지체(26)는 제 1 봉지제(25)의 관통 홀(250) 및 개구(200)를 메울 수 있는 투명 수지 재료로 형성된다. 수지체 (26)가 경화된 직후, 반도체 칩과 골드 와이어를 대기로 노출시키기 않게 하기 위하여 수지체는 반도체 칩(22)과 골드 와이어(24)를 완전하게 봉입할 수 있다. 한편, 기판(20)의 도전성 비아들(204)에 전기적으로 연결시키기 위하여 일반적인 솔더 볼 주입 방법에 의하여 기판(20)의 제 1 표면(201) 상에 직접적으로 접합되는 주석, 납, 납 합금 또는 주석 합금으로 형성된 솔더 볼들(27)이 사용된다. 커버 플레이트(21), 솔더 볼들(27) 및 제 2 봉지제(28)를 봉입하기 위하여 기판(20)의 제 1 표면 (201) 상에 제 2 봉지제(28)가 형성된 후, 연마 처리가 수행되어 제 2 봉지제(28) 및 솔더 볼들(27)의 두께가 커버 플레이트(21)와 동일한 높이까지 감소된다. 따라서, 이는 제 2 봉지제(28)의 상부 표면(280)과 솔더 볼들(27)의 종단(270)을 커버 플레이트(21)의 외측 표면(210)에 노출시키고 커버 플레이트의 외측 표면과 동일 평면에 있게 한다.3 is a cross sectional view of a second embodiment of semiconductor device according to the present invention; As shown in the figure, the semiconductor device 2 of the second embodiment has the sealing plate 16 described in the first embodiment for sealingly separating the semiconductor chip 22 and the gold wires 24 from the atmosphere. It has a structure substantially the same as the structure described in the first embodiment except that the resin body 26 is used instead. The resin body 26 is formed of a transparent resin material that can fill the through hole 250 and the opening 200 of the first encapsulant 25. Immediately after the resin body 26 is cured, the resin body can completely enclose the semiconductor chip 22 and the gold wire 24 in order not to expose the semiconductor chip and the gold wire to the atmosphere. On the other hand, tin, lead, lead alloy or directly bonded on the first surface 201 of the substrate 20 by a common solder ball injection method to electrically connect to the conductive vias 204 of the substrate 20 Solder balls 27 formed of tin alloy are used. After the second encapsulant 28 is formed on the first surface 201 of the substrate 20 to encapsulate the cover plate 21, the solder balls 27 and the second encapsulant 28, the polishing treatment is performed. The thickness of the second encapsulant 28 and the solder balls 27 is reduced to the same height as the cover plate 21. Thus, this exposes the upper surface 280 of the second encapsulant 28 and the termination 270 of the solder balls 27 to the outer surface 210 of the cover plate 21 and is flush with the outer surface of the cover plate. To be in.

본 발명을 예시적인 바람직한 실시예들을 이용하여 설명하였다. 그러나, 본 발명의 범위는 개시된 실시예에 제한되지 않는다는 것이 이해될 것이다. 반대로, 다양한 변형들 및 유사한 배열들을 커버하기 위한 것으로 의도된다. 따라서, 이러한 모든 변형과 유사한 배열을 포함하기 위하여 청구의 범위는 가장 넓은 설명에 일치되어야 한다.The present invention has been described using exemplary preferred embodiments. However, it will be understood that the scope of the invention is not limited to the disclosed embodiments. On the contrary, it is intended to cover various modifications and similar arrangements. Accordingly, the claims should be accorded the broadest description so as to encompass an arrangement similar to all such variations.

Claims (11)

기판을 관통하여 형성된 개구, 제 1 표면, 마주하는 제 2 표면, 제 2 표면상에 형성된 다수의 도전성 트레이스들 및 기판을 관통하여 형성된 다수의 도전성 비아들(vias)을 가지되, 각 도전성 트레이스는 도전성 비아들중 하나와 전기적으로 접속된 기판;An opening formed through the substrate, a first surface, an opposing second surface, a plurality of conductive traces formed on the second surface and a plurality of conductive vias formed through the substrate, each conductive trace A substrate in electrical connection with one of the conductive vias; 기판 개구의 종단을 덮기 위하여 기판의 제 1 표면 상에 실장된 커버 부재;A cover member mounted on the first surface of the substrate to cover the end of the substrate opening; 반도체 칩이 기판의 개구 내에 수용되는 방식으로 커버 플레이트에 부착된 반도체 칩;A semiconductor chip attached to the cover plate in such a manner that the semiconductor chip is received in the opening of the substrate; 개구를 통하여 반도체 칩을 기판에 전기적으로 연결하기 위한 다수의 제 1 도전성 요소들;A plurality of first conductive elements for electrically connecting the semiconductor chip to the substrate through the opening; 기판의 제 2 표면상의 도전성 트레이스들을 봉입하기 위하여 기판의 제 2 표면 상에 형성되되, 기판의 개구를 덮여지지 않은 상태로 남겨둔 제 1 봉지제;A first encapsulant formed on the second surface of the substrate for encapsulating conductive traces on the second surface of the substrate, leaving the openings of the substrate uncovered; 대기로부터 반도체 칩과 제 1 도전성 요소들을 밀봉하여 분리하도록 제 1 봉지제에 부착되어 기판의 개구를 밀봉하는 밀봉 부재;A sealing member attached to the first encapsulant to seal and separate the semiconductor chip and the first conductive elements from the atmosphere to seal the opening of the substrate; 기판의 제 1 표면에 연결되며, 기판의 도전성 비아에 전기적으로 접속된 다수의 제 2 도전성 요소들; 및A plurality of second conductive elements connected to the first surface of the substrate and electrically connected to the conductive vias of the substrate; And 커버 부재의 외측 표면 및 제 2 도전성 요소들의 종단이 제 2 봉지제의 상부 표면에 노출되고 제 2 봉지제의 상부 표면과 같은 높이를 이루는 방식으로, 커버 플레이트 및 제 2 도전성 요소들을 봉입하기 위하여 기판의 제 1 표면 상에 형성된제 2 봉지제를 포함하는 저형상 감광성 반도체 장치.The substrate for encapsulating the cover plate and the second conductive elements in such a manner that the outer surface of the cover member and the end of the second conductive elements are exposed to the upper surface of the second encapsulant and flush with the upper surface of the second encapsulant. A low profile photosensitive semiconductor device comprising a second encapsulant formed on a first surface of the substrate. 제 1 항에 있어서, 상기 커버 부재는 수지 재료로 제조된 테이프로서 형성된 반도체 장치.The semiconductor device according to claim 1, wherein the cover member is formed as a tape made of a resin material. 제 1 항에 있어서, 상기 커버 부재는 열 전도성 금속으로 제조된 열 발산기 (heat spreader)인 반도체 장치.The semiconductor device of claim 1, wherein the cover member is a heat spreader made of a thermally conductive metal. 제 1 항에 있어서, 상기 밀봉 부재는 투명하며, 상기 제 1 봉지제 내에 형성된 관통 홀을 밀봉적으로 밀봉하기 위하여 상기 제 1 봉지제에 부착되며, 기판의 개구에 상호 접속된 반도체 장치.The semiconductor device according to claim 1, wherein the sealing member is transparent and attached to the first encapsulant for sealingly sealing a through hole formed in the first encapsulant and interconnected to an opening of a substrate. 제 1 항에 있어서, 상기 밀봉 부재는 투명하며, 상기 제 1 봉지제를 완전하게 덮기 위하여 상기 제 1 봉지제에 접합되어 기판의 개구를 밀봉적으로 밀봉하는 반도체 장치.The semiconductor device according to claim 1, wherein the sealing member is transparent and is joined to the first sealing agent to seal the opening of the substrate to completely cover the first sealing agent. 제 1 항에 있어서, 반도체 칩과 제 1 전도성 요소를 봉입하기 위하여 상기 밀봉 부재는 기판의 개구를 충진하기 위한 투명 수지로 이루어진 수지체로서 형성된 반도체 장치.The semiconductor device according to claim 1, wherein the sealing member is formed as a resin body made of a transparent resin for filling an opening of a substrate in order to seal the semiconductor chip and the first conductive element. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 도전성 요소들은 골드 와이어인 반도체 장치.The semiconductor device of claim 1, wherein the first conductive elements are gold wires. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 도전성 요소들은 솔더 볼들인 반도체 장치.The semiconductor device of claim 1, wherein the second conductive elements are solder balls. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 도전성 요소들은 접속 럼프들인 반도체 장치.The semiconductor device of claim 1, wherein the second conductive elements are connection lumps. 제 9항에 있어서, 상기 접속 럼프들은 도전성 금속으로 형성된 반도체 장치.The semiconductor device of claim 9, wherein the connection lumps are formed of a conductive metal. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 봉지제의 두께는 기판의 제 2 표면 상으로 연장된 제 1 도전성 요소들의 높이보다 높은 반도체 장치.The semiconductor device of claim 1, wherein the thickness of the first encapsulant is higher than the height of the first conductive elements extending onto the second surface of the substrate.
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