KR100421979B1

KR100421979B1 - 현상제층 규제장치 및 그 제조방법

Info

Publication number: KR100421979B1
Application number: KR10-2002-0032724A
Authority: KR
Inventors: 백명수
Original assignee: 삼성전자주식회사
Priority date: 2002-06-12
Filing date: 2002-06-12
Publication date: 2004-03-11
Also published as: KR20030095498A

Abstract

본 발명의 현상제층 규제장치는 현상제 저장공간을 구성하는 하우징에 부착된 표면조도(Rz) 2.0 이하의 탄성판 부재, 및 현상제 이송체와 접촉하도록 탄성판 부재의 부분에 우레탄계 고무를 5-45㎛ 범위의 두께로 코팅하여 형성한 박막 러버 블레이드를 포함한다. 이러한 현상제층 규제장치의 제조방법은 표면조도(Rz) 2.0 이하의 탄성판 부재를 형성하는 단계, 탄성판 부재에 우레탄계 고무를 주성분으로 하는 코팅액을 3-10㎛ 범위의 두께로 분무 코팅하여 제 1 코팅층을 형성하는 단계, 제 1 코팅층을 120-150˚C의 온도범위에서 10-30분 동안 건조하는 단계, 건조된 제 1 코팅층에 코팅액을 20㎛ 이하의 두께로 침지 코팅하거나 3-10㎛ 범위의 두께로 분무 코팅하여 제 2 코팅층을 형성하는 단계, 및 침지 또는 분무 코팅된 제 2 코팅층을 건조하는 단계을 포함한다. 본 발명에 따르면, 일정조성을 갖는 코팅액을 사용하여 분무코팅을 별개의 공정으로 2회 진행하거나, 분무코팅과 침지코팅을 별개의 공정으로 1회씩 진행하여 박막 러버 블레이드 형성함으로써, 현상제층 불안정으로 인한 화상 불균일문제 발생을 방지하여 안정적인 화상품질을 얻을 수 있고, 양산시 안정적이면서도 균일한 양산품질을 얻을 수 있다.

Description

현상제층 규제장치 및 그 제조방법{developer-layer regulating apparatus and fabrication method therefor}

본 발명은 복사기, 팩시밀리 장치, 레이져 프린터 등과 같은 전자사진방식을이용한 화상형성 장치에 관한 것으로, 보더 상세하게는 현상롤러와 같은 현상제 이송체에 형성되는 현상제층을 균일하게 규제함과 동시에 마찰대전을 하는 박막 러버 블레이드를 구비한 현상제층 규제 장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.

일반적으로 1성분 비자성 현상법에 의한 화성형성장치는 도 1에 도시한 바와 같이, 일정한 주속과 일정한 방향(A)으로 회전하는 감광드럼(1), 감광드럼(1) 표면을 일정한 전위로 대전시키는 대전장치(2), 컴퓨터 등의 화상신호에 따라 감광 드럼(1)의 표면에 레이저 빔을 주사하는 노광장치(3), 노광된 감광드럼(1)의 표면부분에 현상제(8)를 부착하여 현상하는 현상장치(4), 감광드럼(1)의 표면부분에 현상된 현상제(8)를 용지(13) 위에 전사시키는 전사장치(9), 용지(13)에 전사된 현상제(8)를 열과 압력으로 정착시키는 정착장치(12), 및 용지(13)를 기기 외부로 배지하는 배지장치(14)를 구비한다.

현상장치(4)는 도전성 고무로 형성된 현상롤러(5), 현상롤러(5) 주변에 현상롤러(5)와 같은 방향(B)으로 회전하고 현상롤러(5)에 현상제(8)를 공급하는 공급롤러(6), 및 현상롤러(5)에 형성되는 현상제층을 규제하는 현상제층 규제장치(7)를 구비한다.

이와 같이 구성된 화상형성 장치의 작용을 살펴보면, 먼저, 대전장치(2)를 통해 일정한 전압으로 대전된 감광드럼(1)은 도 1의 화살표(A) 방향, 즉 시계방향으로 회전하고, 화상신호에 따라 노광장치(3)로부터 방출된 레이저 빔이 감광드럼(1)에 주사됨으로써, 감광드럼(1)의 표면에는 정전잠상이 형성 된다.

한편, 현상제(8)는 현상제를 공급하는 공급롤러(6)에 의해 현상롤러(5)로 이동하여 흡착된 후 현상제층 규제장치(7)에 의해 현상롤러(5)의 표면에 균일한 두께의 현상제층으로 형성된다.

그 후, 현상롤러(5)가 계속 회전함에 따라, 현상제(8)는 감광드럼(1)의 표면으로 이동하여 감광드럼(1)의 표면에 형성된 정점잠상에 부착되어 가시적인 화상으로 현상된다.

이와 같이, 감광드럼(1)으로 이동된 현상제(8)는 감광드럼(1)이 회전함에 따라, 감광드럼(1)과 그 하부에 배치된 전사롤러(9) 사이로 급지되는 기록지(13)에 원하는 화상이 전사된다.

이 후, 감광드럼(1)은 계속 회전하여 클리닝 블레이드(10)에 의해 감광드럼(1)의 표면에 잔류된 현상제(8)가 제거되고, 화상이 전사된 기록지(13)는 화상을 고정하는 정착부(12)에 의해 기록지(13)에 정착된 후 배지장치(14)에 의해 기기외부로 배출된다.

이러한 종래의 화상형성 장치에 의하면, 현상제층 규제장치(7)는, 현상롤러(5)와 일정압력으로 선접촉하여 현상롤러(5) 위로 이동하는 현상제(8)를 현상에 필요한 일정한 층만큼 규제하여 주는 역할을 함으로, 항상 일정한 탄성력을 가져야 한다.

따라서, 종래에는 현상롤러(5)가 예를들어 천연고무 또는 합성고무와 같은 고무재로 형성된 롤러가 사용될 경우, 현상제층 규제장치(7)로는 2a에 도시한 바와 같이 탄성을 갖는 얇은 스테인레스 플레이트로 형성된 현상제층 규제 블레이드(7a)가 많이 사용된다.

스테인레스 현상제층 규제 블레이드(7a)는 재질 특성상 강도를 가지기 때문에, 고정 브라케트를 사용하지 않고 현상장치(4)의 하우징(15)에 직접적으로 설치되며, 또 온도변화에 따라서 탄성력의 변화가 거의 없기 때문에 현상롤러(5)를 누르는 힘(F)이 항상 일정하게 유지될 수 있다.

그러나, 스테인레스 현상제층 규제 블레이드(7a)는 현상롤러(5)와 스테인레스 현상제층 규제 블레이드(7a)가 서로 맞닿는 부분의 에지(edge)부분(16)이 현상롤러(5)와 부드럽게 접촉되도록 가공할 수 없는 단점이 있었다. 이 이유는 스테인레스 현상제층 규제 블레이드(7a)가 약 0.1 - 0.5mm 두께의 얇은 스테인레스 판재로 형성되기 때문에 에지부분(16)을 단순히 절단하여 가공할 경우 에지부분(16)에는 날카로운 날이 생기게 되고, 이로 인해 고무재질로 된 현상롤러(5)의 표면이 에지부분(16)에 생긴 날에 의해 손상되기 때문이다.

그러므로, 스테인레스 현상제층 규제 블레이드(7a)는 가공시 에지부분(16)을 밴딩시켜 라운딩부가 형성되도록 하고 있으나, 이 경우 에지부분(16)의 라운딩부에 의해 현상제(8)의 박층 규제가 잘 일어나지 않는 문제가 발생한다.

이러한 문제를 극복하기 의해, 도 2b에 도시한 바와 같이, 하우징(15)에 부착되는 탄성판 부재(7b)로써 인청동판을 형성한 다음, 사출성형에 의해 인청동판 상부에 도전성 폴리아미드계 러버 블레이드(7c)를 형성하는 것으로 현상제층 규제장치(7)를 제조하는 방법이 제안되었다.

그러나, 이 방법은 인청동판에 도전성 폴리아미드계 러버 블레이드(7c)를 사출성형한 후 인청동판에 탄성을 부여하기 위한 풀림/뜨임공정 등 복잡한 제조공정을 필요로 함으로, 실제 풀림/뜨임공정시 러버 블레이드(7c)가 수축변형되는 등 공정수율이 약 70% 이하로 저하될 뿐 아니라, 불균일한 러버 블레이드(7c)가 형성되어 화상불량을 발생하는 문제점이 있었다.

또, 종래의 스테인레스 현상제층 규제 블레이드(7a)의 문제점을 개선하기 위해, 탄성판 부재(7b)로써 금속판 부재를 형성한 다음, 금속판 부재에, 미리 준비된 우레탄계 도전성 러버 블레이드를 TBF(thermo-bond film)와 같은 도전성 고온 용융 접착제, 또는 도전성 양면테이프를 사용하여 부착하거나, 도전성 우레탄계 고무 원액을 침지(deeping) 공정에 의해 코팅하여 금속판 부재에 도전성 우레탄계 러버 블레이드를 형성하는 것으로 현상제층 규제부재(7)를 제조하는 방법이 제안되어 사용되고 있으나, 이들 방법 역시 불균일한 러버 블레이드가 형성되어 화상불량을 발생하는 문제점을 나타내고 있다.

즉, 도전성 우레탄계 러버 블레이드를 금속판 부재에 도전성 양면테이프 등으로 부착하는 경우, 러버 블레이드를 도전성 양면테이프를 사용하여 금속판 부재에 부착하는 것 자체가 쉽지 않을 뿐 아니라, 도전성 양면테이프를 사용함에 따라 러버 블레이드가 불균일하게 형성될 가능성이 크고, 그로 인해 현상제층 규제가 불안정하게 되어 최종적으로 형성되는 화상이 불균일해지는 문제점이 발생한다.

또한, 침지코팅 공정으로 도전성 우레탄계 고무 원액을 코팅액으로 금속판 부재에 코팅하는 경우, 코팅액의 조성 및 코팅 방법상의 문제로 건조과정에서 불균일한 표면층이 발생하거나 고임현상에 의해 불균일한 막두께를 갖는 코팅층이 형성되는 등 불균일한 러버 블레이드가 형성되고, 그로 인해 현상제층 규제가 불안정하게 되는 문제점이 있다.

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 현상제층 불안정으로 인한 화상불균일 문제 발생을 방지하여 안정적인 화상품질을 얻을 수 있고 양산시 안정적이면서도 균일한 양산품질을 얻을 수 있는 균일한 표면조도를 갖는 박막 러버 블레이드를 구비한 현상제층 규제장치 및 그 제조방법을 제공하는 데 있다.

도 1은 일반적인 화상형성 장치의 개략도.

도 2a 및 2b는 종래의 현상제층 규제장치들의 측면도.

도 3은 본 발명의 양호한 제 1 실시예에 따른 현상제층 규제장치의 측면도.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*

1: 감광드럼 2: 대전장치

3: 노광장치 4: 현상장치

5: 현상롤러 7: 현상제층 규제장치

7a: 규제 블레이드 7b, 7d: 탄성판 부재

7c, 7e: 러버 블레이드 9: 전사장치

12: 정착장치 14: 배지장치

17, 18: 코팅층

위와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 한 실시양태에 따르면, 본 발명은 현상제를 저장하는 현상제 저장공간, 표면의 전위 특성을 이용하여 화상을 형성하는 감광체, 및 감광체와 마주보며 회전하면서 가시적인 화상이 형성되도록 감광체에 현상제 저장공간으로부터 공급되는 현상제를 부착하는 현상제 이송체를 포함하는 화상형성 장치에 사용되는, 현상제 이송체의 현상제층 형성을 규제하는 현상제층 규제장치에 있어서, 현상제 저장공간을 구성하는 하우징에 부착된 표면조도(Rz) 2.0 이하의 탄성판 부재, 및 현상제 이송체와 접촉하는 탄성판 부재의 부분에 도전성 우레탄계 고무를 5-45㎛ 범위의 두께로 코팅하여 형성한 박막 러버 블레이드를 포함하는 현상제층 규제 장치를 제공한다.

본 발명의 다른 실시양태에 따르면, 본 발명은 현상제를 저장하는 현상제 저장공간, 표면의 전위 특성을 이용하여 화상을 형성하는 감광체, 및 감광체와 마주보며 회전하면서 가시적인 화상이 형성되도록 감광체에 현상제 저장공간으로부터공급되는 현상제를 부착하는 현상제 이송체를 포함하는 화상형성 장치에 사용되는, 현상제 이송체의 현상제층 형성을 규제하는 현상제층 규제장치 제조방법에 있어서, 현상제 저장공간을 구성하는 하우징에 부착되는 탄성판 부재를 형성하는 단계, 탄성판 부재에 도전성 우레탄계 고무를 주성분으로 하는 코팅액을 3-10㎛ 범위의 두께로 분무(spray) 코팅하여 제 1 코팅층을 형성하는 단계, 제 1 코팅층을 120-150˚C의 온도범위에서 10-30분 동안 건조하는 단계, 건조된 제 1 코팅층에 코팅액을 3-10㎛ 범위의 두께로 분무 코팅하여 제 2 코팅층을 형성하는 단계, 및 제 2 코팅층을 건조하는 단계로 구성되는 현상제층 규제장치 제조방법을 제공한다.

양호한 실시예에 있어서, 제 2 코팅층을 건조하는 단계는 상온에서 자연건조된다. 선택적으로, 이 단계는 120-150˚C의 온도범위에서 10-30분 동안 건조하는것으로로 이루어질 수 있다.

코팅액은 일본 닛본 폴리우레탄사에서 제조한 우레탄계 고무 원액, 우레탄용 경화제 , 및 우레탄용 용제를 각각 100%, 20%, 및 0-15%의 용량(phr)으로 포함하는 혼합용액을 사용하는 것이 바람직하다.

또한, 탄성판 부재를 형성하는 단계에서 형성되는 탄성판 부재의 표면조도(Rz)는 2.0 이하인 것이 바람직하다.

본 발명의 또 다른 실시양태에 따르면, 본 발명은 현상제를 저장하는 현상제 저장공간, 표면의 전위 특성을 이용하여 화상을 형성하는 감광체, 및 감광체와 마주보며 회전하면서 가시적인 화상이 형성되도록 감광체에 현상제 저장공간으로부터 공급되는 현상제를 부착하는 현상제 이송체를 포함하는 화상형성 장치에 사용되는,현상제 이송체의 현상제층 형성을 규제하는 현상제층 규제장치 제조방법에 있어서, 현상제 저장공간을 구성하는 하우징에 부착되는 탄성판 부재를 형성하는 단계, 탄성판 부재에 도전성 우레탄계 고무를 주성분으로 하는 코팅액을 3-10㎛ 범위의 두께로 분무 코팅하여 제 1 코팅층을 형성하는 단계, 제 1 코팅층을 120-150˚C의 온도범위에서 10-30분 동안 건조하는 단계, 건조된 제 1 코팅층에 코팅액을 20㎛ 이하의 두께로 침지 코팅하여 제 2 코팅층을 형성하는 단계, 및 제 2 코팅층을 건조하는 단계로 구성되는 현상제층 규제장치 제조방법을 제공한다.

코팅액은 일본 닛본 폴리우레탄사에서 제조한 우레탄계 고무 원액, 우레탄용 경화제 , 및 우레탄용 용제를 각각 100%, 20%, 및 0-15%의 용량(phr)으로 함유하는혼합용액을 사용하는 것이 바람직하다.

이하, 양호한 실시예에 일치하는 현상제층 규제장치 및 그 제조방법을 첨부도면에 관하여 상세히 설명하기로 한다.

본 발명의 현상제층 규제장치는 도 1과 관련하여 설명한 바와 같은 일반적인 화상형성 장치에 사용된다.

도 3을 참조하면, 본 발명의 현상제층 규제장치는 현상장치의 하우징에 부착되는 탄성판 부재(7d), 및 현상롤러(5)와 접촉하도록 탄성판 부재(7d)의 부분에 코팅된 도전성 우레탄계 박막 러버 블레이드(7e)를 포함한다.

탄성판 부재(7d)는 통상 현상롤러(5)가 알루미늄과 같은 하드재질로 구성될 경우에는 PVC, PTFE, PFA, 불소수지, 폴리아미드, 실리콘 고무, 폴리우레탄 고무 등과 같은 고무재 또는 수지재 재료로 형성되고, 고무와 같은 소프트 재질로 구성될 때는 스테인레스, 베릴륨동, 인청동 등과 같은 금속재로 형성되지만, 본 발명에서는 탄성판 부재(7d)에 박막 러버 블레이드(7e)가 형성됨으로, 금속재와 같은 하드 재질이나 고무재 또는 수지재와 같은 소프트 재질의 재료 모두를 사용하여 형성될 수 있다.

탄성판 부재(7d)의 표면조도는 그 위에 형성되는 박막 러버 블레이드(7e)의 코팅을 용이하게 하기 위해 2.0이하의 범위를 갖는 것이 바람직하다.

박막 러버 블레이드(7e)는 현상롤러(5)와 접촉하도록 탄성판 부재(7d)의 단부에 도전성 우레탄계 고무를 주성분으로하는 코팅액을 별도의 공정으로 2차례 분무(spray)코팅하여 형성한 제 1 및 제 2 분무코팅층(17, 18)이나, 분무 코팅과 침지 코팅을 별도의 공정으로 순차적으로 진행하여 형성된 제 1 분무 코팅층(도시하지 않음) 및 제 2 침지 코팅층(도시하지 않음)로 구성된다. 이 때, 형성된 박막 러버 블레이드(7e)의 총 두께(t)는 5- 45㎛ 범위를 갖는 것이 바람직하다.

박막 러버 블레이드(7e)는 탄성판 부재(7d)에 의해 예를들면, 알루미늄 드럼으로 구성된 현상롤러(5)의 원주면에 일정 압력을 가한 상태로 선접촉 하면서 현상롤러(5)의 표면으로 운반되는 현상제의 양을 조절하며, 현상제와 마찰하여 현상제에 전하를 부여한다.

이와 같이, 박막 러버 블레이드(7e)는 도전성 우레탄계 고무를 포함하는 코팅액을 2차례 분무 코팅 또는 분무코팅/침지코팅을 번갈아 도포하여 형성함으로, 형성된 박막 러버 블레이드(7e)는 균일한 표면조도를 가지게되며, 이에 따라 현상제층 불균일문제 및 그로 인한 화상 불균일 문제를 방지할 수 있다.

이와 같이 구성된 본발명의 현상제층 규제장치의 제조방법을 양호한 실시예에 따라 설명하면 다음과 같다.

(실시예 1)

도 3에 도시한 바와 같이, 먼저, 스테인레스, 베릴륨동, 인청동 등과 같은 금속재나, PVC, PTFE, PFA, 불소수지, 폴리아미드, 실리콘 고무, 폴리우레탄 고무 등과 같은 고무재 또는 수지재 재료로 탄성판 부재(7d)가 프레스 또는 사출, 및 표면가공에 의해 형성된다. 이 때, 형성된 판성판 부재(7d)의 표면조도(Rz)는 후속 공정의 코팅시 접착을 용이하게 하기 위해 2.0 이하인 것이 바람직하다.

그 다음, 준비된 탄성판 부재(7d)에 박막 러버 블레이드(7e)를 형성할 부분을 제외한 부분을 마스킹한 후 우레탄계 고무를 주성분으로 하는 코팅액을 3-10㎛, 더욱 바람직하게는 5-10㎛ 범위의 두께로 분무 코팅하여 제 1 코팅층(17)을 형성한다.

이 때, 코팅액은 우레탄계 고무 원액, 우레탄용 경화제, 및 우레탄용 용제를 각각 100%, 20%, 0-15%의 용량(phr)으로 혼합하여 일정 시간 경과한 후 고형분을 제거한 용액을 사용한다. 우레탄계 고무 원액은 일본의 닛본 폴리우레탄사에서 제조한 우레탄계 고무 원액을 사용하며, 경화제와 용제는 일반적인 우레탄용 경화제 및 용제를 사용한다. 또한, 도전성을 부가하기 위한 일반적인 도전성 재료도 미량첨가 된다.

탄성판 부재(7d)에 제 1 코팅층(17)이 형성된 후, 제 1 코팅층(17)은 오븐에서 120-150˚C 범위의 온도로 10-30분 동안 건조된다.

제 1 코팅층(17)이 건조된 후, 제 1 코팅층(17)에는 다시 제 1 코팅층(17)과 같은 조성의 코팅액이 3-10㎛, 더욱 바람직하게는 5-10㎛ 범위의 두께로 분무 코팅되어 제 2 코팅층(18)이 제 1 코팅층(17)과 거의 일체(도 3에서는 설명의 편의상 제 1 코팅층(17)과 분리하여 도시함)로 형성된다.

제 2 코팅층(18)이 형성된 후, 제 2 코팅층(18)은 상온에서 자연 건조되며, 건조가 완료되면, 박막 러버 블레이드(7e) 및 본 발명의 현상제층 규제장치의 형성이 완료된다. 선택적으로, 제 2 코팅층의 건조는 오븐에서 120-150˚C 범위의 온도로 10-30분 동안 건조하는것에 의해 이루어질 수 있다.

(실시예 2)

제 2 코팅층이 제 1 코팅층과 같은 조성의 코팅액으로 20㎛ 이하의 두께로 침지공정을 통해 코팅되어 형성된다는 점을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 박막 러버 블레이드가 형성된다.

이 실시예의 경우, 아래 표 1에서 예시한 바와 같이, 코팅액이 본 발명에 따라 우레탄계 고무 원액, 우레탄용 경화제, 및 우레탄용 용제를 각각 100%, 20%, 0-15%의 용량(phr)으로 혼합한 혼합용액을 사용함으로, 종래의 우레탄계 러버 블레이드와 같이 침지 공정후 건조과정에서 발생하는 불균일한 표면층이나 고임현상에 의해 불균일한 막두께를 갖는 코팅층 등의 문제는 나타나지 않는다.

(비교예 1 내지 5)

코팅액은 아래 표1 과 같은 조성의 코팅액을 사용하고, 코팅조건은 본 발명의 실시예 2와 같은 조건으로 진행하여 박막 러버 블레이드를 얻었다.

아래 표1 에 예시한 바와 같이, 코팅액에 포함되는 우레탄계 고무 원액, 경화제 및 용제의 양에 따라, 최종적으로 제조된 박막 러버 블레이드의 화상품질에서 많은 차이를 보였다.

표1에 예시한 바와 같이, 코팅액으로 우레탄계 고무 원액, 우레탄용 경화제, 및 우레탄용 용제의 용량(phr)을 각각 100%, 20%, 및 0-15%로 혼합한 용액을 사용한 실시예 2가 비교예 1-5의 경우보다 우수한 것으로 나타났다.

종류	배합(phr)	화상품질 문제
종류	우레탄원액	경화제	용제	기포/백선불	층불균일	조도(Rz)	백그라운드
실시예2*	100	20	0-15	양호	양호	0.2-1.0	양호
비교예1*	100	20	20이상	양호	불량	0.9-1.8	양호
비교예2*	100	10	10	불량	불량	1.2-2.5	양호
비교예3*	100	10	20이상	불량	불량	3-5.5	양호
비교예4**	100	3	10	양호	불량(초기발생)	3-9	양호
비교예5*	30	40	10	양호	양호	0.6-0.7	불량(초기발생)

*는 일본의 닛본 폴리우레탄사 제조 우레탄계 고무 원액 사용.

**는 미합중궁의 캠록(camrock)사 제조 우레탄계 고무 원액 사용.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 현상제층 규제장치와 그 제조방법은 일정조성을 갖는 코팅액을 사용하여 분무코팅을 별개의 공정으로 2회 진행하거나,분무코팅과 침지코팅을 별개의 공정으로 1회씩 진행하여 박막 러버 블레이드 형성함으로써, 현상제층 불안정으로 인한 화상 불균일문제 발생을 방지하여 안정적인 화상품질을 얻을 수 있고, 양산시 안정적이면서도 균일한 양산품질을 얻을 수 있다.

이상에서, 본 발명의 특정한 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 또한 설명하였다. 그러나, 본 발명은 상술한 실시예에 한정되지 아니하며, 특허청구의 범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명에 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자라면 누구든지 다양한 수정과 변형실시가 가능할 것이다.

Claims

현상제를 저장하는 현상제 저장공간, 표면의 전위 특성을 이용하여 화상을 형성하는 감광체, 및 상기 감광체와 마주보며 회전하면서 가시적인 화상이 형성되도록 상기 감광체에 상기 현상제 저장공간으로부터 공급되는 현상제를 부착하는 현상제 이송체를 포함하는 화상형성 장치에 사용되는, 상기 현상제 이송체의 현상제층 형성을 규제하는 현상제층 규제장치에 있어서,

상기 현상제 저장공간을 구성하는 하우징에 부착된 표면조도(Rz) 2.0 이하의 탄성판 부재; 및

상기 현상제 이송체와 접촉하도록 상기 탄성판 부재의 부분에 도전성 우레탄계 고무를 5-45㎛ 범위의 두께로 코팅하여 형성한 박막 러버 블레이드를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상제층 규제 장치
현상제를 저장하는 현상제 저장공간, 표면의 전위 특성을 이용하여 화상을 형성하는 감광체, 및 상기 감광체와 마주보며 회전하면서 가시적인 화상이 형성되도록 상기 감광체에 상기 현상제 저장공간으로부터 공급되는 현상제를 부착하는 현상제 이송체를 포함하는 화상형성 장치에 사용되는, 상기 현상제 이송체의 현상제층 형성을 규제하는 현상제층 규제장치 제조방법에 있어서,

상기 현상제 저장공간을 구성하는 하우징에 부착되는 탄성판 부재를 형성하는 단계;

상기 탄성판 부재에 도전성 우레탄계 고무를 주성분으로 하는 코팅액을 3-10㎛ 범위의 두께로 분무 코팅하여 제 1 코팅층을 형성하는 단계;

상기 제 1 코팅층을 120-150˚C의 온도범위에서 10-30분 동안 건조하는 단계;

건조된 상기 제 1 코팅층에 상기 코팅액을 3-10㎛ 범위의 두께로 분무 코팅하여 제 2 코팅층을 형성하는 단계; 및

상기 제 2 코팅층을 건조하는 단계을 포함하는 것을 특징으로 하는 현상제층 규제장치 제조방법.
제 2 항에 있어서, 상기 제 2 코팅층을 건조하는 단계는 상온에서 자연건조되는 것을 특징으로 하는 현상제층 규제장치 제조방법.
제 2 항에 있어서, 상기 제 2 코팅층을 건조하는 단계는 120-150˚C의 온도범위에서 10-30분 동안 건조되는 것을 특징으로 하는 현상제층 규제장치 제조방법.
제 1 항에 있어서, 상기 코팅액은 일본의 닛본 폴리우레탄사에서 제조한 우레탄계 고무 원액, 우레탄용 경화제, 및 우레탄용 용제를 각각 100%, 20% , 및 0-15%의 용량(phr)을 포함하는 것을 특징으로 하는 현상제층 규제장치 제조방법.
제 5 항에 있어서, 상기 탄성판 부재를 형성하는 단계에서 형성되는 상기 탄성판 부재의 표면조도(Rz)는 2.0 이하인 것을 특징으로 하는 현상제층 규제장치 제조방법.
현상제를 저장하는 현상제 저장공간, 표면의 전위 특성을 이용하여 화상을 형성하는 감광체, 및 상기 감광체와 마주보며 회전하면서 가시적인 화상이 형성되도록 상기 감광체에 상기 현상제 저장공간으로부터 공급되는 현상제를 부착하는 현상제 이송체를 포함하는 화상형성 장치에 사용되는, 상기 현상제 이송체의 현상제층 형성을 제어하는 현상제층 규제장치 제조방법에 있어서,

상기 현상제 저장공간을 구성하는 하우징에 부착되는 탄성판 부재를 형성하는 단계;

상기 탄성판 부재에 우레탄계 고무를 주성분으로 하는 코팅액을 3-10㎛ 범위의 두께로 1차 분무 코팅하여 제 1 코팅층을 형성하는 단계;

상기 제 1 코팅층을 120-150˚C의 온도범위에서 10-30분 동안 건조하는 단계;

건조된 상기 제 1 코팅층에 코팅액을 20㎛ 이하의 두께로 침지 코팅하여 제 2 코팅층을 형성하는 단계; 및

상기 제 2 코팅층을 건조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상제층 규제장치 제조방법.
제 7 항에 있어서, 상기 제 2 코팅층을 건조하는 단계는 상온에서 자연건조되는 것을 특징으로 하는 현상제층 규제장치 제조방법.
제 7항에 있어서, 상기 제 2 코팅층을 건조하는 단계는 120-150˚C의 온도범위에서 10-30분 동안 건조되는 것을 특징으로 하는 현상제층 규제장치 제조방법.
제 7항에 있어서, 상기 코팅액은 일본의 닛본 폴리우레탄사에서 제조한 우레탄계 고무 원액 , 우레탄용 경화제, 및 우레탄용 용제를 각각 100%, 20%, 및 0-15%를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상제층 규제장치 제조방법.
제 10 항에 있어서, 상기 탄성판 부재를 형성하는 단계에서 형성되는 상기 탄성판 부재의 표면조도(Rz)는 2.0 이하인 것을 특징으로 하는 현상제층 규제장치 제조방법.