KR100416393B1 - 금속 재질의 공진기 코팅방법 및 이를 이용한 금속재 공진기 - Google Patents

금속 재질의 공진기 코팅방법 및 이를 이용한 금속재 공진기 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 조명기구에 적용되는 금속재질의 공진기를 세척하는 제 1 단계; 진공증착 장치의 챔버 내에 상기 공진기를 장착하고, 알루미늄 산화물계 또는 크롬 산화물계, 실리콘 산화물계, 티타늄 산화물계, 티타늄 질화물계, 지르코늄 산화물계 중 어느 하나를 코팅재료로 하여 챔버 내의 증발원에 위치시키는 제 2 단계; 상기 챔버를 대기압 이하로 감압하여 진공시키는 제 3 단계; 상기 챔버 내의 증발원에 동력을 공급하여 상기 코팅재료를 가열 증발시키는 제 4 단계; 상기 챔버 내의 셔터(shutter)를 열어 상기 공진기의 표면에 박막이 형성되도록 하는 제 5 단계; 상기 셔터를 닫고 증발원의 동력을 차단한 후, 챔버의 진공을 해지하는 제 6 단계로 이루어져, 종래의 졸-겔 방식에 의한 코팅방법에 비하여 투명도 및 반사율, 내열성, 내산화성을 향상시키는 공진기 코팅방법과 이를 이용한 공진기를 제공한다.

Description

금속 재질의 공진기 코팅방법 및 이를 이용한 금속재 공진기 { Method for coating metal resonator and metal resonator using the same }
본 발명은 마이크로파를 이용한 조명기구의 공진기에 관한 것으로서, 특히 PVD 증착방법을 사용하여 표면에 내열·내산화 재료를 코팅한 공진기 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
마이크로웨이브를 이용한 조명기구는 무전극 플라즈마 전구에 마이크로파를가하여 이로부터 가시광선 또는 자외선을 얻어내는 장치로서, 통상적인 백열등이나 형광등에 비해 램프의 수명이 길고, 조명의 효과가 우수한 특징을 가지고 있다.
도 1은 일반적인 마이크로웨이브를 이용한 조명기구의 내부 구조가 도시된 단면도이다.
마이크로웨이브를 이용한 조명기구는 마이크로파를 생성시키는 마그네트론(1)과, 상기 마그네트론(1)으로부터 마이크로파를 전달하는 도파관(3)과, 상기 도파관(3)을 통해 전달된 마이크로파 에너지에 의해 내부에 봉입된 물질이 플라즈마화되면서 빛을 발생시키는 전구(5)와, 상기 도파관(3)과 전구(5)의 앞쪽에 씌워져 마이크로파는 차단하면서 상기 전구(5)에서 발광된 빛은 통과시키는 공진기(20)로 구성된다.
이와 같은 마이크로웨이브를 이용한 조명기구는 상기와 같은 기본 구조에 마그네트론(1)에 상용 교류전원을 고압으로 승압시켜 제공하는 고압 발생기(7)와, 상기 마그네트론(1)과 고압 발생기(7) 등을 냉각시키기 위한 냉각 장치(9)와, 전구(5)에서 발생된 빛을 앞쪽으로 집중 반사시키는 반사경(11)과, 상기 전구(5)를 회전시켜 빛을 방출하면서 발생되는 열을 냉각시키는 전구모터(13) 및 모터축(15)과, 상기 고압 발생기(7) 및 냉각 장치(9) 등을 포함한 각종 요소를 제어하는 제어부(미도시)가 추가로 구성된다.
상기한 바와 같은 마이크로웨이브를 이용한 조명기구는 제어부에서 고압 발생기(7)에 구동신호를 입력하면, 고압 발생기(7)는 외부로부터 교류 전원을 승합시켜 승압된 고압을 마그네트론(1)에 공급한다.
마그네트론(1)은 고압 발생기(7)로부터 공급된 고압에 의해 발진하면서 매우 높은 주파수를 갖는 마이크로파를 생성시키고, 이렇게 생성된 마이크로파는 도파관(3)을 통해 공진기(20) 내부로 방사되면서 전구(5) 내의 봉입된 물질을 방전시켜 고유한 방출 스펙트럼을 가지는 빛을 발생시키게 된다.
이와 같이 상기 전구(5)에서 발생된 빛은 미러(12) 및 반사경(11)을 통해 전방으로 반사되면서 설치 장소 주변을 밝혀줄 수 있게 된다.
도 2a는 상기한 바와 같은 마이크로웨이브를 이용한 조명기구에 사용되는 종래 기술의 공진기가 도시된 사시도이고, 도 2b는 도 2a의 'A'부분의 상세도이다.
상기한 공진기(20)는 도 1을 참조하면, 금속망 형태로 이루어져 상기한 도파관(3)의 출구(3a)쪽에 조립됨으로써 상기 도파관(3)을 통해 전송된 마이크로파를 가두어 마이크로파 에너지가 상기한 전구(5) 내에서 빛으로 변환되도록 하는 동시에 마이크로파가 외부로 누출되는 것은 차단하면서 전구(5)에서 발생된 빛은 외부로 투과시키는 역할을 하게 된다.
이와 같은 공진기(20)는 도 2a와 도 2b를 참조하면, 개방된 부분(20a) 쪽의 일부분을 제외하고 에칭 가공으로 다수의 홀(20b)이 형성된 원통부(21)와, 볼록한 모양으로 형성되어 상기 원통부(21)의 앞부분에 연결되도록 에칭 가공으로 다수의홀(20b)이 형성된 뚜껑부(25)로 이루어진다.
여기서 상기 원통부(21)는 마이크로파는 차단하면서 빛은 통과시키는 망상부(22)와, 상기한 도파관(3)의 출구부에 고정될수 있도록 에칭 가공되지 않은 고정부(23)로 구성되고, 상기 고정부(23)에는 상기한 도파관(3)에 설치될 때 확장되어 용이하게 조립할 수 있도록 다수의 절개부(23a)가 형성된다.
공진기(20)는 전자파의 공진을 위한 전도도와 전구의 광효율 향상을 위한 반사도의 특성을 만족시키는 재질로 제작되는데, 일반적으로는 가공성이 양호한 스테인레스 스틸 재질이 주로 사용되며, 전도성이나 반사도를 향상시키기 위하여 니켈이나 은으로 도금을 시키기도 한다. 또한, 종래의 공진기(20)에는 사용도중 열에 의하여 반사도가 감소하는 것을 줄이기 위하여 졸-겔 과정(sol-gel process)을 이용한 알루미늄 옥사이드( Al2O3: 산화 알루미늄)코팅이 추가된다.
졸-겔 과정(sol-gel process)은 이름이 의미하는 것처럼 콜로이드 부유상태(졸:sol)를 만들고, 이 졸의 젤화 과정을 통해 액체상의 망상조직(겔:gel)으로 변화시켜 무기질 망상조직을 만드는 과정을 말한다.
이와 같은 과정을 이용하여 공진기(20)를 코팅하면, 내열성 및 내산화성이 향상된다.
그러나, 상기와 같이 제작되는 종래의 공진기(20)는 고열이 발생되는 전구의 주변에 위치하는 부분이 산화에 의한 부식이 쉽게 발생되고, 상온에서 20~30일 방치시 변색 현상이 발생하며, 제품 침적 후 인출 시 코팅액이 아래로 흘러내려 코팅층이 불균일해짐에 따라 투명도가 감소된다는 단점이 있다.
또한, 졸-겔 방법으로 공진기(20)를 코팅하는 경우, 코팅층이 두꺼워지므로 온도가 올라감에 따라 공진기(20)의 구성재료와 코팅재료와의 열팽창률 차이에 의하여 크랙이 발생되기 쉽고, 분말상태로 코팅하여 코팅층이 치밀하게되지 않는다는단점이 있다.
또한, 코팅 과정 중에 발생하는 기포로 인하여 내열성 및 내산화성이 감소되고, 제품 표면에 얼룩이 발생하며, 600℃ 이상의 온도로 국부 가열 시 산화발생으로 인한 반사율이 감소되는 등 여러 가지 문제점이 발생하였다.
본 발명은 상기 전술한 문제점을 해소하고자 안출된 것으로서, 물리적 기상도금법(PVD : physical vapor deposition)을 이용하여 표면을 얇고 균질하게 코팅함으로써, 투명도 및 반사율, 내산화성을 향상시키는 공진기 코팅 방법과 이를 이용한 공진기를 제공하는데 목적이 있다.
도 1은 일반적인 마이크로웨이브를 이용한 조명기구의 내부 구조가 도시된 단면도이다.
도 2a는 상기한 바와 같은 마이크로웨이브를 이용한 조명기구에 사용되는 종래 기술의 공진기가 도시된 사시도이다.
도 2b는 도 2a의 'A'부분의 상세도이다.
도 3은 본 발명에 의한 공진기 코팅방법의 흐름도이다.
도 4a는 코팅처리를 하지 않은 공진기를 300℃로 가열했을 때의 표면을 촬영한 150배율의 전자현미경 사진이다.
도 4b는 졸-겔 방식으로 코팅한 공진기를 300℃로 가열했을 때의 표면을 촬영한 100배율의 전자현미경 사진이다.
도 5a는 진공증착 방식으로 Al2O3코팅한 공진기를 300℃로 가열했을 때의 표면을 확대하여 촬영한 전자현미경 사진이다.
도 5b는 주사전자현미경을 이용하여 도 5a에 도시된 공진기의 코팅층 존재 여부를 측정한 그래프이다.
도 5c는 진공증착 방식으로 Al2O3코팅한 공진기를 700℃로 가열했을 때의 표면을 확대하여 촬영한 전자현미경 사진이다.
도 5d는 주사전자현미경을 이용하여 도 5c에 도시된 공진기의 코팅층 존재 여부를 측정한 그래프이다.
도 6a는 진공증착 방식으로 SiO2코팅한 공진기를 300℃로 가열했을 때의 표면을 확대하여 촬영한 전자현미경 사진이다.
도 6b는 주사전자현미경을 이용하여 도 6a에 도시된 공진기의 코팅층 존재 여부를 측정한 그래프이다.
도 6c는 진공증착 방식으로 SiO2코팅한 공진기를 700℃로 가열했을 때의 표면을 확대하여 촬영한 전자현미경 사진이다.
도 6d는 주사전자현미경을 이용하여 도 6a에 도시된 공진기의 코팅층 존재 여부를 측정한 그래프이다.
전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 조명기구의 공진기는 물리적 기상도금법(physical vapor deposition : 이하 PVD라 약칭함) 중 진공증착법을 이용하여 표면을 코팅한다.
진공증착법은 진공 중에서 금속, 금속화합물 또는 합금을 가열 증발시켜 증발금속 또는 증발금속화합물을 목적물질의 표면에 응축하게 하여 박막(薄膜:thin film)을 형성시키는 방법으로써, 진공도금법(vacuum metalizing)이라 불리기도 한다. 이때 적용되는 도금물체는 금속이든 비금속이든 좋으며, 그 작업조작은 장치만 완전하면 매우 간단하다는 장점이 있다.
본 발명에 적용되는 코팅 재료는 알루미늄 산화물계 또는 크롬 산화물계, 실리콘 산화물계, 티타늄 산화물계, 티타늄 질화물계, 지르코늄 산화물계 중 어느 하나의 재료를 가열 증발시켜 사용하거나 ITO 또는 ATO 중 어느 하나의 재료를 가열 증발시켜 사용한다.
본 발명에 의한 조명기구의 공진기 코팅 방법은, 조명기구에 적용되는 공진기를 세척하는 제 1 단계; 진공증착 장치의 챔버 내에 상기 공진기를 장착하고, 알루미늄 산화물계 또는 크롬 산화물계, 실리콘 산화물계, 티타늄 산화물계, 티타늄 질화물계, 지르코늄 산화물계 중 어느 하나를 코팅재료로 하여 챔버 내의 증발원에 위치시키는 제 2 단계; 상기 챔버를 대기압 이하로 감압하여 진공시키는 제 3 단계; 상기 챔버 내의 증발원에 동력을 공급하여 상기 코팅재료를 가열 증발시키는 제 4 단계; 상기 챔버 내의 셔터(shutter)를 열어 상기 공진기의 표면에 박막이 형성되도록 하는 제 5 단계; 상기 셔터를 닫고 증발원의 동력을 차단한 후, 챔버의 진공을 해지하는 제 6 단계를 포함하여 이루어진다.
이때, 제 1 단계에서 공진기 세척 방법은 초음파 세척법을 이용함이 바람직 하며, 제 2 단계의 진공실 압력은 2.8 ~ 3.5×10-5torr, 코팅재료가 가열 증발되는 제 3 단계의 진공실 압력은 1.6 ~ 2.6×10-3torr가 되도록 감압상태를 유지한다. 또한, 본 발명에 적용되는 코팅 재료로는 ITO 또는 ATO로 변경되어 적용될 수 있다.
또한, 코팅재료를 공진기에 증착시키는 시간은 15∼30분 이내이고, 코팅 재료가 공진기에 증착될 때의 진공실 온도는 90 ~ 150℃이다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하도록 한다.
도 3은 본 발명에 의한 공진기 코팅방법의 흐름도이다.
먼저, 중성세제나 탈이온수, 알콜 등을 이용하여 조명기구의 공진기를 초음파 세척하고 필요에 따라 질소가스를 사용하여 수분을 완전히 제거한다(110단계). 이때, 공진기의 세척 방법에는 여러 가지 다양한 방식이 적용될 수 있지만, 세척을 위한 세제가 필요하지 아니하고 피세척물을 손상 없이 완벽하게 세척시킬 수 있다는 점에서 초음파 세척방식을 적용함이 바람직하다.
공진기의 세척이 완료되면, 진공증착 장치의 챔버 내에 상기 공진기를 장착하고, 코팅재료를 챔버 내의 증발원에 위치시킨다(120단계). 공진기가 장착되는 위치와 코팅재료가 위치되는 증발원의 사이에는 양측을 구분하는 분리벽이 형성되고, 분리벽에는 분리벽의 일부를 개폐시키는 셔터(shutter)가 구비된다. 본 발명에 적용되는 코팅재료로는 알루미늄 산화물계 또는 크롬 산화물계, 실리콘 산화물계, 티타늄 산화물계, 티타늄 질화물계, 지르코늄 산화물계 물질 중 어느 하나의 물질이 사용되거나 ITO 또는 ATO 중 어느 하나의 물질이 사용되는데, 이와 같은 코팅재료들은 종래의 진공증착 방식에 있어 상용화 되어있는 물질이므로 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
공진기의 장착 및 코팅재료의 투입이 완료되면 챔버 내부의 기압을 2.8 ~ 3.5×10-5torr로 감압시킨 후(130단계), 챔버 내의 증발원에 동력을 공급하여 코팅재료를 가열 증발시킨다(140단계). 이와 같이 챔버 내부의 기압을 감압시킨 후 코팅재료를 가열 증발시키면, 코팅재료의 증발이 촉진될 뿐만 아니라 증발되는 코팅재료의 입자가 공진기의 표면에 고르게 증착되므로, 균일한 코팅층을 얻을 수 있게된다.
이때, 챔버 내의 증발원에 330~350V/140~155mA의 동력을 공급함으로써, 챔버의 반응 조건이 1.6 ~ 2.6×10-3torr, 90 ~ 150℃가 되도록 하여, 코팅재료가 기체와 액체 및 고체상태로 공존할 수 있는 평형증기압이 되도록 한다.
상기 증발원으로는 고융점의 필라멘트(filament), 바스켓(basket ) 또는 보트(boat) 등을 이용할 수 있고, 상기한 증발원의 재료로는 W, Mo, Ta 등을 이용한다.
코팅재료의 증발이 본격화되면, 사용자는 챔버 내의 셔터(shutter)를 열어 증발원에서 증발되는 코팅재료가 공진기의 표면에 증착되어 코팅막이 형성되도록 한다(150단계). 코팅재료를 공진기에 증착시키는 시간은 15 ~ 30분으로 하여 공진기의 표면에서 코팅입자(particle)들이 충분히 재배열될 수 있도록 하고, 증발원에 공급하는 전류의 양을 적절히 조절하여 증착속도를 제어하도록 한다.
코팅재료의 증착이 완료되면, 사용자는 셔터를 닫고 증발원의 동력을 차단한 후, 챔버의 진공을 해지한다(160). 이때, 너무 급한 챔버의 진공해지는 공진기에 형성된 박막의 균열을 초래하므로 3 ~ 5분 정도의 시간을 두고 진공을 해지하는 것이 바람직하다.
이와 같은 방법으로 코팅된 공진기와 종래의 졸-겔 방식으로 코팅된 공진기
와의 산화에 의한 변색 발생 시간을 비교하면 다음과 같다.
시험 온도(℃) 변색 발생 시간 (h) 비고
졸-겔 방식코팅제품 진공증착 방식 코팅제품
ITO AL2O3 Zr02 SiO2
상온 720 2,160 2,160 2,160 2,160 2,106시간경과시 시험종료
500 60 180 240 220 220
600 43 90 98 92 95
700 30 45 50 48 50
상기 표 1은 졸-겔 방식으로 알루미늄 산화물계 물질 중 하나인 Al2O3(Aluminum oxide:알루미늄 옥사이드)로 코팅된 공진기와 진공증착 방식으로 복합 산화물질 중 하나인 ITO(Indium Tin Oxide:인듐 틴 옥사이드) 및 Al2O3(Aluminum oxide:알루미늄 옥사이드), 지르코늄 산화물계 물질 중 하나인 ZrO2(Zirconia:지르코니아), 실리콘 산화물계 물질 중 하나인 SiO2(Silica:실리카)로 코팅된 공진기를 상온 방치 및 가열하였을 때, 산화로 인한 변색 발생시간을 측정한 데이터이다.
표 1에 나타난 바와 같이, 졸-겔 방식으로 Al2O3코팅된 공진기는 상온에서 720시간이 경과하였을 때 변색이 시작되는 반면, 진공증착 방식으로 코팅된 공진기는 상온에서 2,160시간이 지나도 변색이 시작되지 아니하였다.
또한, 시험온도를 각각 500℃, 600℃, 700℃로 변경하였을 때에도 진공증착 방식으로 코팅된 공진기는 졸-겔 방식으로 Al2O3코팅된 공진기에 비하여 오랜 시간동안 산화에 의하여 변색되지 아니하므로, 내산화성이 향상되었음을 알 수 있다.
도 4a는 코팅처리를 하지 않은 공진기를 300℃로 가열했을 때의 표면을 촬영한 150배율의 전자현미경 사진이다.
표면에 코팅처리가 되지 아니한 공진기를 300℃로 가열하면, 도 4a에 도시된 바와 같이 산화 현상이 발생하게 된다. 이와 같이 공진기의 표면이 산화되면, 빛 반사율이 감소되어 램프의 광효율이 저하되고, 공진기의 수명이 짧아지게 된다.
도 4b는 졸-겔 방식으로 코팅한 공진기를 300℃로 가열했을 때의 표면을 촬영한 100배율의 전자현미경 사진이다.
졸-겔 방식으로 코팅한 공진기를 300℃로 가열하면, 도 4b에 도시된 바와 같이 표면 일부에 부분적으로 산화현상이 발생하게 된다. 표면에 코팅처리가 되지 아니한 공진기와 비교하였을 때 산화 범위 및 정도가 감소하기는 하지만, 산화현상으로 인한 반사율 감소와 수명 저하 현상을 완벽하게 방지할 수는 없게된다.
도 5a는 진공증착 방식으로 Al2O3코팅된 공진기를 300℃로 가열했을 때의 표면을 확대하여 촬영한 전자현미경 사진이다.
본 발명에 의한 코팅방법으로 Al2O3코팅된 공진기는 300℃로 가열되더라도, 도 5a에 도시된 바와 같이 산화 현상이 발생하지 아니하므로 반사율 감소 및 수명 저하 현상이 방지된다.
또한, 본 발명에 의한 코팅방법으로 Al2O3코팅된 공진기는 졸-겔 방식으로 코팅된 공진기에 비하여 코팅층이 균일하게 형성되므로, 투명도가 유지되고 표면에 얼룩이 발생하지 아니하며 고팅층의 접착성이 향상된다는 장점이 있다.
도 5b는 주사전자현미경을 이용하여 도 5a에 도시된 공진기의 코팅층 존재 여부를 측정한 그래프이다.
본 발명에 의한 코팅방법으로 Al2O3코팅된 공진기를 300℃로 가열한 후, 주사전자현미경(Scanning Electron Microscope)으로 공진기의 표면을 측정하여 보면, 도 5b에 도시된 바와 같이 표면에 코팅한 원소 및 산화 피크가 검출되므로 300℃의 고온에서도 코팅층이 존재하고 있음을 알 수 있다.
도 5c는 진공증착 방식으로 Al2O3코팅된 공진기를 700℃로 가열했을 때의 표면을 확대하여 촬영한 전자현미경 사진이다.
본 발명에 의한 코팅방법으로 Al2O3코팅된 공진기는 700℃로 가열되더라도, 300℃로 가열되었을 때와 마찬가지로 산화현상이 발생하지 아니한다.
도 5d는 주사전자현미경을 이용하여 도 5c에 도시된 공진기의 코팅층 존재 여부를 측정한 그래프이다.
본 발명에 의한 코팅방법으로 Al2O3코팅된 공진기를 700℃로 가열한 후, 주사전자현미경으로 공진기의 표면을 측정하여 보면, 300℃로 가열하였을 때와 마찬가지로 표면에 코팅한 원소 및 산화 피크가 검출되므로 700℃의 고온에서도 코팅층이 존재하고 있음을 알 수 있다.
도 6a 및 도 6c는 진공증착 방식으로 SiO2코팅된 공진기를 300℃ 및 700℃로 각각 가열했을 때의 표면을 확대하여 촬영한 전자현미경 사진이고, 도 6b 및 도 6d는 주사전자현미경을 이용하여 도 6a 및 도 6c에 도시된 공진기의 코팅층 존재 여부를 측정한 그래프이다.
코팅재료를 SiO2로 바꾸어 코팅하더라도 도 6a 내지 도 6d에 도시된 바와 같이 공진기의 표면에 형성된 코팅층은 300℃ 및 700℃의 고온에서도 손실되지 아니한다.
본 발명에 의한 코팅방법으로 SiO2코팅된 공진기는, 도 5a 내지 도 5d의 도면을 참조로 설명된 Al2O3코팅된 공진기의 경우와 특성 및 효과가 동일하게 나타나므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
이상, 본 발명을 바람직한 실시 예를 사용하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 범위는 특정 실시 예에 한정되는 것은 아니며, 첨부된 특허 청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 또한, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 이해하여야 할 것이다.
본 발명에 따른 공진기 코팅방법으로 코팅된 공진기는, 종래의 졸-겔 방식에의하여 코팅된 공진기에 비하여 얇은 코팅층이 균일하게 형성되므로 투명도 및 반사율이 향상되고, 내열성 및 내산화성이 향상된다.
또한, 종래의 졸-겔 방식에 의하여 코팅된 공진기에 비하여 코팅층이 얇게 형성되므로 열팽창에 의한 크랙 현상이 발생하지 아니하고, 굽힘에 의한 박리현상이 발생하지 아니한다는 장점이 있다.

Claims (20)

  1. 조명기구에 적용되는 공진기를 세척하는 제 1 단계;
    진공증착 장치의 챔버 내에 상기 공진기를 장착하고, 알루미늄 산화물계 물질, 크롬 산화물계 물질, 실리콘 산화물계 물질, 티타늄 산화물계 물질, 티타늄 질화물계 물질, 지르코늄 산화물계 물질, ITO 내지 ATO 중 어느 하나를 코팅재료로 하여 챔버 내의 증발원에 위치시키는 제 2 단계;
    상기 챔버를 대기압 이하로 감압하여 진공시키는 제 3 단계;
    상기 챔버 내의 증발원에 동력을 공급하여 상기 코팅재료를 가열 증발시키는 제 4 단계;
    상기 챔버 내의 셔터를 열어 상기 공진기의 표면에 상기 코팅재료가 증착되어 박막이 형성되도록 하는 제 5 단계;
    상기 셔터를 닫고 상기 증발원의 동력을 차단한 후, 상기 챔버의 진공을 해지하는 제 6 단계;
    로 이루어지는 것을 특징으로 하는 조명기구의 금속재 공진기 코팅방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 단계의 상기 진공실 압력은 2.8 ~ 3.5×10-5torr이고, 상기 제 3 단계의 상기 진공실 압력은 1.6 ~ 2.6×10-3torr인 것을 특징으로 하는 조명기구의금속재 공진기 코팅방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 제 5 단계에서,
    상기 코팅재료를 상기 공진기에 증착시키는 시간은 15 ∼ 30분인 것을 특징으로 하는 조명기구의 금속재 공진기 코팅방법.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 제 5 단계의 상기 진공실 온도는 90 ~ 150℃인 것을 특징으로 하는 조명기구의 금속재 공진기 코팅방법.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 알루미늄 산화물계 물질은,
    Al2O3인 것을 특징으로 하는 조명기구의 금속재 공진기 코팅방법.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 크롬 산화물계 물질은,
    Cr2O3인 것을 특징으로 하는 조명기구의 금속재 공진기 코팅방법.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 실리콘 산화물계 물질은,
    SiO2또는 SiO 인 것을 특징으로 하는 조명기구의 금속재 공진기 코팅방법.
  8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 티타늄 산화물계 물질은,
    TiO, TiO2, Ti2O3내지 TiO4중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 조명기구의 금속재 공진기 코팅방법.
  9. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 티타늄 질화물계 물질은,
    TiN 인 것을 특징으로 하는 조명기구의 금속재 공진기 코팅방법.
  10. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 지르코늄 산화물계 물질은,
    ZrO 또는 ZrO2인 것을 특징으로 하는 조명기구의 금속재 공진기 코팅방법.
  11. 조명기구에 적용되는 공진기를 세척하는 제 1 단계;
    진공증착 장치의 챔버 내에 상기 공진기를 장착하고, 알루미늄 산화물계 물질, 크롬 산화물계 물질, 실리콘 산화물계 물질, 티타늄 산화물계 물질, 티타늄 질화물계 물질, 지르코늄 산화물계 물질, ITO 내지 ATO 중 어느 하나를 코팅재료로 하여 챔버 내의 증발원에 위치시키는 제 2 단계;
    상기 챔버를 대기압 이하로 감압하여 진공시키는 제 3 단계;
    상기 챔버 내의 증발원에 동력을 공급하여 상기 코팅재료를 가열 증발시키는 제 4 단계;
    상기 챔버 내의 셔터를 열어 상기 공진기의 표면에 상기 코팅재료가 증착되어 박막이 형성되도록 하는 제 5 단계;
    상기 셔터를 닫고 상기 증발원의 동력을 차단한 후, 상기 챔버의 진공을 해지하는 제 6 단계;
    를 거쳐 코팅되는 것을 특징으로 하는 조명기구의 공진기.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 2 단계의 상기 진공실 압력은 2.8 ~ 3.5×10-5torr으로 감압되고, 상기 제 3 단계의 상기 진공실 압력은 1.6 ~ 2.6×10-3torr으로 감압되어 코팅되는 것을 특징으로 하는 조명기구의 공진기.
  13. 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,
    상기 제 5 단계에서,
    상기 코팅재료를 상기 공진기에 증착시키는 시간은 15∼30분으로 설정되어 코팅되는 것을 특징으로 하는 조명기구의 공진기.
  14. 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,
    상기 제 5 단계의 상기 진공실 온도는 90 ~ 150℃로 설정되어 코팅되는 것을 특징으로 하는 조명기구의 공진기.
  15. 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,
    상기 알루미늄 산화물계 물질은,
    Al2O3인 것을 특징으로 하는 조명기구의 금속재 공진기 코팅방법.
  16. 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,
    상기 크롬 산화물계 물질은,
    Cr2O3인 것을 특징으로 하는 조명기구의 금속재 공진기 코팅방법.
  17. 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,
    상기 실리콘 산화물계 물질은,
    SiO2또는 SiO 인 것을 특징으로 하는 조명기구의 금속재 공진기 코팅방법.
  18. 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,
    상기 티타늄 산화물계 물질은,
    TiO, TiO2, Ti2O3내지 TiO4중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 조명기구의 금속재 공진기 코팅방법.
  19. 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,
    상기 티타늄 질화물계 물질은,
    TiN 인 것을 특징으로 하는 조명기구의 금속재 공진기 코팅방법.
  20. 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서,
    상기 지르코늄 산화물계 물질은,
    ZrO 또는 ZrO2인 것을 특징으로 하는 조명기구의 금속재 공진기 코팅방법.
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KR101480441B1 (ko) 2013-04-02 2015-01-13 한국기계연구원 티타늄 하이드라이드를 이용한 금속 다공체의 표면 합금화 방법

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