KR100403573B1

KR100403573B1 - 폴리트리메틸렌테레프탈레이트연신사의제조방법

Info

Publication number: KR100403573B1
Application number: KR1019960070225A
Authority: KR
Inventors: 박호진; 심성영; 손성균; 윤인선; 최태수
Original assignee: 주식회사 휴비스
Priority date: 1996-12-23
Filing date: 1996-12-23
Publication date: 2004-03-19
Also published as: KR19980051333A

Abstract

본 발명에 의하면 폴리트리메틸렌테레프탈레이트 수지를 방사, 연신하여 연신사를 제조하는 방법에 있어서, 상기 폴리트리메틸렌테레프탈레이트 수지로서 5-소디오술포 디메틸테레프탈레이트가 테레프탈산 또는 그 에스테르 유도체 대비 0.5~2.0몰% 공중합된 고유점도 0.55~0.75의 공중합 폴리트리메틸렌테레프탈레이트 수지를 사용하고, 이를 2.000m/min 이하의 방속으로 방사 후 연신하는 것을 특징으로 하는 폴리트리메틸렌테레프탈레이트 연신사의 제조방법이 제공된다. 이러한 방법을 적용하면 저 분자량의 PTT 수지를 사용하여 연신사를 안정하게 제조할 수 있게 된다.

Description

폴리트리메틸렌테레프탈레이트 연신사의 제조방법

본 발명은 폴리트리메틸렌테레프탈레이트(이하, "PTT"라 한다.) 수지를 사용하여 연신사를 제조하는 방법에 관한 것이다.

최근 폴리에스테르 중에 PTT라는 수지가 상업화되기 시작하고 있는데 기존의 폴리에스터에 비해 신축성, 이염성이 우수하여 여러 섬유 용도로 전개가 모색되고 있다.

그러나 PTT 연신사의 제조에서, 고유점도 0.8 이상의 분자량이 큰 수지를 사용할 경우 방사된 미연신사나 POY 원사는 강도 및 내열성이 양호하므로 사질이 우수한 연신사를 안정된 공정성으로 용이하게 제조할 수 있다. 그러나 이 경우 고유점도를 올리다 보면 반응시간이 길어져 생산원가면에서 불리해진다. 한편 고유점도가 0.55~0.75인 저분자량 PTT 수지의 경우에는 생산원가면에서는 장점이 있으나 낮은 분자량으로 인하여 방속을 올릴수록 방사공정이 불량해지므로, 가급적 방속을 낮추어야 하나 방속이 낮아지면 경시변화가 일어나 연신공정이 불량해지는 문제가 있어 저분자량 PTT 수지를 사용하여 연신사를 안정적으로 얻는다는 것은 상당히 어려운 일이다.

따라서, 본 발명은 상기한 문제점이 없이 저분자량의 PTT 수지를 사용하여 연신사를 안정하게 제조할 수 있는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기한 목적을 달성하기 이한 본 발명자의 연구에서, 5-소디오술포 디메틸테레프탈레이트 (이하, "DMS"라고 약함)가 0.5~2.0몰% 공중중합된 PTT 수지를 2,000m/min 이하의 방속으로 방사하여 얻은 미연신사를 이용하면 연신사를 안정하게 제조할 수 있게 될 뿐만 아니라, 결정화속도 및 알칼리 감량성이 향상된다는 것을 알게 되었다.

그러므로 본 발명에 의하면 DMS가 테레프탈산(TPA) 또는 그 에스테르 유도체 대비 0.5~2.0몰% 공중합된 고유점도 0.55~0.75의 PTT 수지를 2,000m/min 이하의 방속으로 방사 후 연신하는 것을 특징으로 하는 PTT 연신사의 제조방법이 제공된다.

이하, 본 발명을 보다 상세하게 설명하기로 한다.

본 발명에 따라 DMS가 TPA 또는 그 에스테르 유도체 대비 0.5~2.0몰% 공중합된 고유점도 0.55~0.75의 PTT 수지를 2,000m/min 이하의 방속으로 방사하면 미연신사의 경시변화가 현저히 감소하며 방사 및 연신성능이 향상된다. 또한 알칼리 감량시 감량속도가 빨라져 후가공의 생산성이 향상되는 효과를 얻게 되며 카티온(cation) 염료로도 염색가능하게 된다.

본 발명에 있어서, PTT 수지는 DMS가 TPA 또는 그 에스테르 유도체 대비 0.5~2.0몰% 공중합된 것이 바람직하다. 이와 같이 DMS를 공중합시키면 경시변화 억제 외에도 감량속도가 빨라져 염가공시 생산속도가 빨라 생산비용절감에도 유리한 측면이 있다. 만일 DMS 함량이 0.5몰% 미만이면 원하는 효과를 거의 얻을 수 없으며 2.0몰%를 초과하면 원가가 상승되며, 고유점도를 올릴 수 없는 등 물성에 불리한 영향을 준다.

상기한 PTT 수지는 원할 경우 DMS와 함께 다음 화합물을 TPA 또는 그 에스테르 유도체 대비 10몰% 이하로 공중합시켜 용융점도나 기타 물성을 변경할 수도 있다.

(ㄱ) 이소프탈산 또는 그 에스테르 유도체

(ㄴ) HO-(CH₂CH₂-O)n-OH (여기서 n은 1~200)

(ㄷ) HOOC-(CH₂)m-COOH (여기서 m은 1~30) 또는 그 에스테르 유도체

사용되는 PTT 수지의 고유점도는 0.55~0.75인 것이 바람직하다. 만일 0.55 미만시엔 분자량이 너무 작아 방사공정 및 최종 원사의 물성이 좋지 않게 되며 0.75 초과시엔 분자량이 커서 공정이나 물성은 양호하나 PTT 수지의 제조를 위한 반응시간이 오래 걸리고 원료비용이 많이 상승하여 생산비용이 크게 상승하게 되는 단점이 있다.

본 제조방법에 있어서, 방사시 방속은 2,000m/min 이하로 하는 것이 바람직하다. 이렇게 낮은 방속으로 제조한 미연신사는 5일 이내에 연신하게 되면 연신성이 크게 나빠지지 않는다. 이것은 DMS 성분에 의해 수지의 결정화 속도가 빨라져 방사 중 및 방사 직후 얻어진 물성이 그 후 거의 변화하지 않기 때문인 것으로 보인다. 방속이 2,000m/min을 초과하게 되면 방사중에 과도한 장력이 걸리면서 사절이 많이 일어나는 단점이 있다.

상기 방법은 방사와 연신을 동시에 하는 스핀드로 공법에 있어서도 동일하게 적용된다. 즉, 고뎃트롤러 1의 속도가 2,000m/min 이하에서는 방사성이 양호하지만, 그 보다 높은 속도에서는 방사성이 저하된다.

상술한 바와 같은 본 발명의 특징 및 기타의 장점은 후술되는 실시예로부터 보다 명백하게 될 것이다. 물론 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위해서 예시되는 것일 뿐 제한하기 위한 것은 아니다. 하기 실시예 및 비교예에서 특별히 한정하지 않는 한, 부는 중량부를 나타낸다. 하기 실시예 및 비교예에서 제시되는 물성은 다음과 같은 방법으로 측정된 것이다.

◎ 고유점도(IV) : 120℃ 오르토-클로로페놀에 1% 농도로 용해 후 30℃의 항온조에서 우벨로드형 점도계를 사용하여 측정.

◎ 알칼리 감량속도 : 75/36 필라멘트사를 2합하여 제편기에서 제편한 후 98℃, 5% NaOH 용액속에 30분 침지한 후 침지 전후의 무게변화로 감량속도를 측정하였다.

◎ 강신도, 영율(Youngs modulus) : 온도 20℃, 습도 65%의 항온항습 조건에서 인스트론을 사용하여 시료길이 200mm, 크로스 헤드 스피드(Cross head speed) 400mm/min의 조건으로 5회 측정 후 평균값을 구함.

<실시예 1>

교반기와 유출콘덴서를 구비한 반응기 속에 디메틸테레프탈레이트(DMT) 500부, DMS 9.2부(DMT 대비 1.2몰%), 1,3-프로필렌글리콜(이하, 1,3-PG라고 약함) 330부, 테트라부틸티타네이트 1부, 초산나트륨 0.1부를 넣고 반응기의 온도를 서서히 220℃로 올리면서 반응을 시킨다. 이때 발생하는 메탄올을 계외로 유출시켜 에스테르 교환반응을 시키고 메탄올 유출이 종료되면 안정제로 트리메틸포스페이트 1부를 넣고 10분 교반 후 교반기와 글리콜 콘덴서 및 진공 시스템이 부착된 중축합 반응기로 반응물을 옮긴다. 여기서 내부온도를 220℃에서 250℃까지 올리면서 압력을 상압에서 0.1mmHg까지 서서히 감압하여 1,3-PG를 빼내면서 원하는 수준의 고유점도에 도달할 때까지 반응을 시키고 이를 토출하고 칩상으로 절단한다.

이렇게 중합 제조된 PTT 수지 칩을 진공건조기에서 150℃에서 6시간 건조하여 수분율을 100ppm 이하로 한 후 통상의 방사기를 사용하여 방사하여 210De' 36필라멘트의 비연신사를 제조하였다. 방사조건은 방사온도 260℃, 방사속도 1,200m/min, 냉각풍 온도 25℃, 노즐지름 0.3mm이었다. 이렇게 제조한 미연신사를 통상의 연신기를 이용하여 핫롤러 온도 65℃, 핫플레이트 온도 160℃, 연신속도 400m/min의 조건에서 3배 연신하였다. 본 실시예의 조건 및 결과를 표 1에 정리하여 나타내었다.

<실시예 2 및 비교예 1~13>

PTT 수지의 고유점도, DMS의 함량, 방속 및 연신배율을 하기 표 1과 같이 변화시킨 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 절차를 반복하였다.

<실시예 3>

반응초기에 디메틸이소프탈레이트 10부를 추가로 첨가하여 반응시킨 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 절차를 반복하였다.

<실시예 4>

반응초기에 디에틸렌글리콜 10부를 추가로 첨가하여 반응시킨 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 절차를 반복하였다.

<실시예 5>

반응초기에 아디팍산 10부를 추가로 첨가하여 반응시킨 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 절차를 반복하였다.

상기 표 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 의하면 낮은 고유점도의 PTT 수지를 이용하여 연신사를 안정하게 제조할 수 있게 된다.

Claims

폴리트리메틸렌테레프탈레이트 수지를 방사, 연신하여 연신사를 제조하는 방법에 있어서, 상기 폴리트리메틸렌테레프탈레이트 수지로서 5-소디오술포 디메틸레프탈레이트가 테레프탈산 또는 그 에스테르 유도체 대비 0.5~2.0몰% 공중합된 고유점도 0.55~0.75의 공중합 폴리트리메틸렌테레프탈레이트 수지를 사용하고, 이를 2.000m/min 이하의 방속으로 방사 후 연신하는 것을 특징으로 하는 폴리트리메틸렌테레프탈레이트 연신사의 제조방법.
제 1 항에 있어서, 상기 공중합 폴리트리메틸렌-레프탈레이트 수지가 5-소디오술포 디메틸테레프탈레이트 성분과 함께 하기 성분 중의 적어도 1종 이상을 테레프탈산 또는 그 에스테르 유도체 대비 10몰% 이하로 공중합된 것임을 특징으로 하는 폴리트리메틸렌테레프탈레이트 연신사의 제조방법 :

(ㄱ) 이소프탈산 또는 그 에스테르 유도체

(ㄴ) HO-(CH₂CH₂-O)n-OH (여기서 n은 1~200)

(ㄷ) HOOC-(CH₂)m-COOH (여기서 m은 1~30) 또는 그 에스테르 유도체