KR100395606B1 - 직물에서의 입자화된 오점의 가스 제트 제거 - Google Patents

Abstract

직물은 적어도 일부분이 입자화 화학물질에 의해 처리되고, 입자화된 오점을 제거하기 위해 입자 제거 가스의 가스 제트에 의해 요동되어 세탁된다. 입자화 화학물질은 내포된 비입자상 오점을 완화시켜 입자상 형태로 변환시키고 그후에 입자 제거 가스에 의해 직물로부터 분리된다.

Description

직물에서의 입자화된 오점의 가스 제트 제거 {GAS JET REMOVAL OF PARTICULATED SOIL FROM FABRIC}

의복 드라이클리닝은 일반적으로 과클로로에틸렌이나 석유 유도체와 같은 유기 용제를 이용하여 행해진다. 이러한 용제들은 건강에 유해하고 스모그를 발생시키며 가연성이다. 드라이클리닝 용제 매개체로서 고밀도상 이산화탄소(액체 및 초임계)를 사용하는 것은 종래 용제에서 제기되었던 건강 및 환경에 관한 문제를 해소한다. 게다가 그 사용의 또 다른 이점은 종래의 용제를 이용하는 공정과 관계된 부차적인 폐기 과정을 감소시키는 것이다. 클리닝 매체로서 액화 이산화탄소를 사용하는 드라이클리닝 공정은 미국 특허 제5,467,492호에 개시되어 있다. 한 실시예로서, 직물은 압력 용기 내의 천공 통 안에 위치하고, 그 다음에 액화 이산화탄소의 수조 속에 침지된다. 수조 내의 액화 이산화탄소 및 직물은 직물의 텀블링 작용을 촉진시키는 액화 이산화탄소의 유입류에 의해 요동된다. 액화 이산화탄소 용제는 그 용해 작용에 의해 가용성 오점의 제거를 촉진하고, 직물 텀블링의 기계적 작용은 본질적으로 입자상(예를 들면 모래, 먼지, 음식물찌꺼기 등)인 오점의배제를 촉진시킨다.

이러한 액화 이산화탄소 공정의 한가지 단점은 압력 시스템 내에서 실행되어야 하므로 높은 자본 비용과 결부된다는 것이다. 미국 특허 제5,651,276호에는, 대기 압력에서 가스 제트에 의해 직물로부터 입자상 오점을 축출하는 장치 및 방법이 개시되어있다. 이 가스 제트 공정은 전반적인 직물 드라이 클리닝의 한 단계로서 전술한 액화 이산화탄소 공정의 장치를 이용하여 혹은 별도의 저가 장치에 의해 실시될 수 있다. 이러한 접근 방법은 자체적으로 사용될 때 가용성 및/또는 비입자상 오점이 제거되지 않는 단점이 있다.

일반적인 상용 드라이클리닝 공정에서, 의복 전체를 드라이 클리닝 기계 내에서 처리하기 전에, 국지적인 오점 및 때가 화학적으로 처리되고 얼룩이 스폿팅 보드(spotting board)에서 제거된다. 이렇게 직물로부터 오점을 제거하는 것을 "스폿팅(spotting)"이라고 하며, 이는 가용성 오점 및/또는 화학제를 용해시켜 그 조성을 변화시키기 위해 증기 및/또는 용제를 사용하는 것을 포함한다. 그러한 오점 변화가 발생되면 일반적으로 그 완화된 오점은 직물로부터 유출 및 진공 방출된다. 이 과정은 수작업으로 수행되고 노동 집약적이다.

상업적으로 만족스럽고 비용이 덜 드는 방식으로 비입자상 오점을 제거할 수 있으면서 가스 제트 공정의 이점을 실현하는 접근 방법이 요구된다. 본 발명은 이러한 요구를 충족시키며 나아가 관련된 이점을 제공한다.

본 발명은 직물의 세탁에 관한 것으로서, 특히 가스 제트 기술을 이용하여 직물로부터 비입자상 및 입자상 오점을 제거하는 방법에 관한 것이다.

도1은 본 발명을 실시하는 실시예를 도시한 블록 흐름 다이어그램이다.

도2는 직물에서 가스 제트를 이용하여 직물을 요동시키는 장치의 개략도이다.

본 발명은 비입자상 오점과 입자상 오점 모두를 제거하는 직물 세탁용 가스제트 방법을 제공한다. 단일 처리 장치만이 요구되며, 이 장치를 이용하여 비입자상 오점 및 입자상 오점 모두가 제거된다. 본 발명의 접근 방법은 가스 제트 처리용기 안의 대기 압력과 적절한 압력에 의해 조작된다. 이 접근 방법 및 그에 연관된 장치에 의하면, 입자상 및 비입자상 오점의 가스 제트 클리닝은 드라이클리닝 설비 내에서와 같이 상업적 규모나 가정용 규모에서 달성될 수 있다. 이 접근 방법은 종래의 드라이클리닝에 비해 덜 노동 집약적이고 드라이클리닝과 스폿팅(spotting)에서 사용되는 유기 용제를 사용하지 않는다.

본 발명은 내포된 오점을 자체적으로 입자상이 되게 하고 그에 따라 가스 제트 요동 공정에 노출될 때 제거 가능하게 하는 방식으로 비 입자상 오점을 완화시키는 입자화 화학물질에 의해 직물의 오염 부위가 우선 처리되는 해결 방안을 제공한다. 본 발명에 따르면, 직물 세탁 방법은 일편의 직물을 제공하는 단계와, 일편의 직물의 적어도 일부분을 입자화 화학물질로 처리하는 단계와, 일편의 직물 전체로부터 입자를 제거하도록 직물 전체를 가스 제트로 요동시키는 단계를 포함한다. 가스 제트는 직물로부터 초기에 입자상인 오점과 입자화 화학물질에 의해 입자상이 된 오점 모두를 제거하고 배출한다. 처리 중에, 제거된 오점이 다시 직물에 재침전이 되는 것을 막고 직물이 가스 제트의 영향하에 얽히는 것을 방지하기 위해 정전기 방지 화합물을 포함시키는 것이 바람직하다.

입자화 화학물질은 내포된 비입자상 오점을 제거하고 비입자상 오점을 입자상 오점으로 변환시키는 데 작용 가능한 어떠한 형태일 수 있다. 입자화 화학 물질은 일반적으로 광범위한 유형의 비입자상 오점에 대해 유효하고 기능적이며, 또는 몇몇의 특정한 형태의 얼룩과 같은 좁은 범위의 유형의 비입자상 오점을 입자화하는데 선택적으로 사용될 수 있다. 입자화 화학 물질로 처리된 후에, 직물은 이전에 존재한 입자상 오점 뿐만 아니라 비입자상 얼룩 오점을 제거하도록 입자 제거 가스와 접촉된다. 입자화 화학물질은 안전성, 생물분해성, 환경 친화성과 같은 공정의 다른 특징들과 조화를 이루도록 선택된다.

이러한 접근 방법은 종래의 물/세정제 세탁보다 더 빠르게 작용하며 많은 경우에서 훨씬 더 효과적이다. 종래의 세탁에서는 종종 세정이 어려운 것으로 인식되었던 입자화된 비입자상 오점은 직물의 인접 영역에서 재침전되지 않는다. 대기압과 적절한 가스압에서 조작되는 단일의 장치만이 요구된다. 종래의 드라이클리닝의 노동 집약적인 스폿팅 공정이 배제된다. 선 처리 후에, 비입자상 오점은 일반적인 세탁 조작에서 제거된다. 본 발명의 기타 특징 및 이점은 본 발명의 원리를 예시하는 첨부된 도면과 관련된 양호한 실시예의 상세한 설명을 통해 명백해질 것이다. 그러나, 본 발명의 범주는 그러한 양호한 실시예로 제한을 받지 않는다.

도1은 본 발명의 직물 세탁 방법에 대한 양호한 실시예를 도시한다. 도면 부호(20)는 일편의 직물의 제공단계이다. 직물은 직포 및 부직포를 모두 포함하는어떤 것도 가능하다. 직물은 다양한 무게와 실의 밀도를 가질 수 있다. 일반적으로 무게가 증가할수록 실의 밀도도 커지며 다음의 단계에서 사용되는 가스 제트 노즐을 가로지르는 압력 강하가 더 커진다.

도면 부호(22)는 입자화 화학물질의 제공 단계이다. 입자화 화학물질은 비입자상 오점이 직물로부터 완화되게 하고 대개 액상이 없는 상태에서 입자상 오점 형태로 변환되게 한다. 본 발명의 이점은 입자화 화학물질의 매우 유연한 선택이 가능하다는 것이다. 예를 들어, 단일의 일반적인 입자화 화학물질이 사용될 수 있고, 특정 용도의 특정한 입자화 화학물질이 사용될 수 있으며, 다른 입자화 화학물질이 순차적으로 함께 처리되는 다른 직물에 사용될 수 있으며, 다른 입자화 화학물질이 일편의 직물의 동일한 부분에 사용될 수 있으며, 다른 입자화 화학물질이 같은 직물의 다른 부분에 사용될 수 있으며, 또는 직물이 일반적으로 처리될 수도 있다. 이들 접근 방법의 임의의 조합도 실시될 수 있다.

입자화 화학물질은 내포된 비입자상 오점을 제거하고 비입자상 오점을 입자상 오점으로 변환시키는 어떠한 작용 가능한 유형일 수 있다. 입자화 화학물질은 작용면에서 일반적일 수 있으며 예를 들자면 수용성의 비입자상 오점을 완화시키는 물일 수도 있고 대부분 일반적으로 접할 수 있는 지방과 기름을 제거하고 입자화하는 작용을 하는 지방족 알코올과 같은 수용성 유기 용제일 수도 있다. 입자화 화학물질은 예를 들어 확인된 비입자상 오점이나 얼룩을 입자화하는 특정한 입자화 화학물질처럼 특정한 작용을 할 수도 있다. 예를 들어, 미국 특허 제4,501,591호, 제4,592,940호, 제4,908,149호 및 제4,699,812호에 개시된 것과 같은 무색의 술폰산염 다이사이트 차단제(dye site blocker)는 특정한 얼룩을 입자화하고 제거하는데 사용된다. 지방족 술폰산 세정 화합물로써 미국특허 제4,699,812호에 개시된 바와 같은 C8-C24의 양호한 범위 내에서의 알킬 및 알케닐이 특히 양호하다. 입자화 화학물질은 특히 안전성, 생물 분해성 및 환경친화성 같은 공정에서의 다른 특성들에 조화되도록 선택된다. 입자화 화학물질은 종종 액체로 제공되지만, 단지 직물을 적시게 하는데만 사용되고 종래의 세탁기와 같이 일반적인 세탁 매체로는 사용되지 않는다.

직물은 단계(24)에서 임의의 작용 가능한 방법으로 입자화 화학물질에 의해 처리된다. 직물은 확인된 오점 영역에서 국지적으로 처리될 수 있고 또는 직물은 대개 광범한 부분상에서 처리될 수도 있다. 일반적으로, 입자화 화학물질은 직물에 입자화 화학물질을 충분히 접촉시키는 분무, 침지, 문지름 또는 조작 가능한 다른 방법에 의해 직물에 가해진다. 입자화 화학물질은 비입자상 오점이 입자상 오점으로 변환될 수 있는 소정의 시간동안 직물에 접촉되어 있을 수 있다. 이 기간동안 비입자상 오점은 직물에서 완화되어 직물의 표면에 입자의 형태로 농축된다. 입자화 화학물질이 작용하는데 요구되는 시간은 입자화 화학물질, 직물의 특성, 비입자화 오점의 형태 및 농도에 달려있다.

단계(24)에서 입자화 화학물질과 함께 직물에 기포제가 선택적으로 가해질 수 있다. 기포제는 본 기술 분야에 공지되어 있다. 양호한 기포제는 스테판 컴퍼니(Stephan Co.)사에서 세코실(secosyl)로 시판하는 나트륨 라우로일 사코시네이트(lauroyl sarcosinate)이다. 기포제가 사용될 때, 기포제는 완화 및입자화된 비입자상 오염을 직물 표면에 부유시키는데 도움을 주고, 그 직물 표면에서는 기포제가 건조 또는 증발되어 차후에 제거되는 표면 부착물로서 입자화된 비입자상 오점을 남긴다.

처리된 직물은 입자 제거 가스(26)의 가스 제트에 의해 요동된다. 가스 제트는 직물로부터 입자를 제거하고 축출하여 분리시킨다. 제거된 입자는 초기에 입자로 존재하는 오점과 처리 단계(24)에서 비입자상 형태에서 입자상 형태로 변환되는 오점을 모두를 포함한다. 이렇게 초기의 입자상 오점과 입자화된 비입자상 오점을 동시에 제거한다는 것은 중요하다. 종래의 드라이클리닝 작업은 비입자상 오점을 제거하는 스폿팅(spotting)이 우선 완료된 후에 입자상 오점을 제거하는 일반적인 드라이클리닝 작업이 수반되는 것을 요구하였다. 본 실시예에서는 처리된 직물은 가스제트에 의해 비입자상 오점과 입자상 오점을 함께 제거하도록 단일 조작으로 요동됨으로써 세탁 비용이 저감된다.

이 요동 단계(26)는 일반적으로 처리 단계(24)가 완료된 후에 수행된다. 즉 섬유는 단계(24)에서 처음으로 처리된다. 그리고 나서, 입자화 화학물질이 작용하는 시간 경과 후에 요동 단계(26)가 수행된다.

그러나, 어떤 경우에는 처리 단계(24)와 요동 단계(26)가 동시에 수행될 수도 있다. 즉, 신속하게 작용하는 입자화 화학물질이 가스 제트에 의한 직물의 요동과 동시에 직물에 가해질 수 있다. 입자화 화학물질은 예를 들어 가스 제트가 한 세트의 노즐을 통해 유도될 때 다른 한 세트의 노즐에 의해 가해질 수 있다. 이 목적과 동일하게 입자화 화학물질은 가스 제트 흐름 내에 동반될 수 있다.

가스 제트를 형성하는 입자 제거 가스는 어떠한 반응 가능한 가스가 될 수도 있고 어떠한 반응 가능한 가스 압력에 있을 수 있다. 양호한 가스는 공기, 질소와 같은 공기의 한 성분 또는 이산화탄소와 같은 또 다른 유익한 가스를 포함한다. 입자 제거가스는 양호하게는 가장 저렴한 형태인 가스상으로 공급되고 사용되어진다. 또는, 입자 제거가스는 응축된 고상이나 액상으로 공급되어 기화될 수도 있다. 가스 제트 노즐을 가로지르는 양호한 가스 압력 강하는 약 207kPa 내지 2068kPa(약 30psi 내지 300psi)이다.

요동 단계(26)의 기간은 사용된 장치의 특성과 오점의 특성 및 범위와 처리되는 직물의 하중의 크기에 달려있다. 일반적으로 다음의 도2와 관련하여 설명하는 장치 안에서의 직물의 정규 하중에 있어서 노출시간은 30초 내지 5분이다. 이 노출시간은 종래의 드라이클리닝이나 물세탁에서 요구되는 것보다 상당히 짧으며, 직물은 건조와 향균 처리 과정이 남게된다.

요동 단계(26)중에 첨가제가 투입될 수 있다. 일반적으로, 요동 단계(26)에서 정전기 방지 화합물이 투입될 수 있다. 정전기 방지 화합물은 입자 제거 가스의 가스 제트로 유도되거나 별도로 도입될 수 있으며, 또는 요동 단계(26) 전에 정전기 방지 화합물로 직물이 처리될 수 있다. 정전기 방지 화합물은 가스 유동 및 입자 제거 중에 전단에 의해 발생된 정전기를 방산하도록 촉진시킨다. 상기 방식으로 정전기가 방산되지 않으면 이 정전기는 직물이 자체적으로 들러붙게 하고 직물이 꼬이게 하여 가스 제트가 직물 전체 영역에 명확한 조준선으로 접근하지 못하게 한다. 직물의 정전기는 또한 입자가 직물에 재 침전되게 할 수 있다. 따라서,정전기 방지 화합물의 투입은 장치(30)의 세탁 성능을 개선시키는데 있어 바람직하다. 작용가능한 정전기 방지 화합물은 알콜 에소실레이트(ethoxylate), 알킬렌 글리콜 또는 글리콜 에스테르를 포함하지만 이에 제한 받지 않는다.

또한, 요동 단계(26) 중에 다른 첨가제가 투입될 수도 있다. 예를 들어, 직물에 좋은 향기가 나도록 향균 화합물이 직물에 적용될 수도 있다. 향균 화합물의 예는 향수 및 본질적으로 자연산 또는 합성 오일이다.

본 발명자는 본 발명의 상업용 및 가정용 용도에 주목하고, 요동 단계(26)에서 사용될 수 있는 실질적인 상업용과 가정용 장치(30)가 도2에 도시되어 있다. 장치(30)는 천공 바스킷(36)을 갖춘 접촉실(32)을 포함한다. 천공 바스킷(36)은 지면(35)과 전기적으로 접지되어 있다. 접촉실(32)과 천공 바스킷(36)은 원통형 축(37)(도면 밖까지 연장되어 있음)에 대한 단면이 원통형이다. 천공 바스킷(36)은 원통 지름이 접촉실(32)보다 작다. 천공 바스킷(36)은 원통형 축(37)을 중심으로 회전하도록 회전 지지부 상에 선택적으로 장착될 수 있고 종래의 의복 건조기의 방식으로 회전할 수 있도록 회전 구동 모터가 제공될 수 있다. 그러한 회전 성능이 제공될 때, 본 발명의 요동 단계(26)중에 천공 바스킷(36)은 고정 위치에 선택적으로 체결될 수도 있고 또는 가스 제트 작용 중에 회전될 수도 있다.

가스 제트에 의해 요동되는 직물은 천공 바스킷(36)의 내부(38)안에 배치된다. 또한, 접촉실(32)을 둘러싸고 있는 캐비닛과, 천공 바스킷(26)의 내부(38)로 접근을 허용하는 캐비닛 내의 외부 도어가 제공될 수 있다.

접촉실(32)의 내부면(40)과 천공 바스킷(36)의 외부면(42)의 사이에는 적어도 하나, 양호하게는 몇 개의 가스 제트 매니폴드(44)가 위치한다. 양호한 원통 설계에서, 가스 제트 매니폴드(44)는 원통형 축(37)에 평행하게 연장된다. 매니폴드(44)는 천공 바스킷의 외부면(42)이나, 접촉실(32)의 내부면(40)에 고정될 수 있고 또는 별도로 지지될 수도 있다. 양호하게는, 매니폴드(44)는 천공 바스킷(36)에 대해 축(37)을 중심으로 회전될 수 있도록 천공 바스킷(36)의 외부면에 고정된다. 다수의 가스 제트 노즐(46)은 노즐(46)로부터 구멍을 통해 천공 바스킷(36)의 내부(38)를 향해 가스유동이 일어나도록 각각의 매니폴드에 제공된다. 매니폴드(44)와 가스 제트 노즐(46)은 요동 단계(26) 중에 의복이 꼬이거나 얽히거나 협착되는 것을 막는 가역적 의복 요동을 촉진시키기 위해 설치된다. 천공 바스킷(36)의 회전 역시 이러한 효과를 돕는다. 요동 단계(26)중에, 입자 제거 가스는 매니폴드(44), 노즐(46) 및 천공 바스킷(36)의 내부(38)를 통해 직물에 접촉하도록 유동된다.

양호하게는, 적어도 하나의 인젝터(48)가 제공되고 천공부를 통해 천공 바스킷(36)의 내부(38)로 배향된다. 매니폴드(44)에서와 같이, 인젝터(48)는 천공 바스킷(36)의 외부면에 고정되고 인젝터(48)로부터의 유동이 천공 바스킷(36)내에서 천공부를 통해 배향되는 것이 바람직하다. 요동 단계(26) 중에 직물에 접촉되는 정전기 방지 화합물 및/또는 향균 화합물과 같은 어떤 첨가제가 인젝터(48)를 통해 도입될 수 있다. 또 다르게는, 그러한 첨가제가 입자 제거 가스 내로 동반되고 노즐(46)을 통해 제공될 수 있다.

입자 제거가스는 압축기(50)에 의해 가압되고(또는 가압 가스통 또는 응축가스원으로부터 공급됨. 도시되지 않음), 제1 배관 시스템(52)을 통해 매니폴드(44)로 제공된다. 제1 배관 시스템(52)은 가스유동을 분배하기 위한 수동식 또는 처리장치 제어식의 밸브(54)와, 선택적으로 유입공기를 여과하기 위한 필터(56)와, 유입 가스를 소정 온도로 가열하는 가열기(58)를 포함한다. 입자 제거 가스는 압축기(50)에 의해 가압되고 제1 배관시스템(52)을 통해 매니폴드(44)로 유동되며, 노즐(46)을 통해 천공 바스킷(36)의 내부(38)로 유입되고, 배출 파이프(60)를 통해서 접촉실(32)로부터 유출된다. 입자 필터(62)는 입자가 대기 및 주위로 빠져나가는 것을 막도록 배출 파이프(60)의 가스유동으로부터 입자를 제거한다.

정전기 방지 화합물 및/또는 향균 화합물과 같은 첨가제들은 첨가제 공급원(64)으로부터 제2 배관 시스템(66)을 통해서 인젝터(48)로 공급된다. 제2 배관 시스템(66)은 첨가물의 유형 및 양을 선택하기 위한 수동식이나 공정 제어식의 밸브(68)와, 소정의 혼합기(70)와, 첨가물을 인젝터(48)나 소정의 매니폴드(44)에 분배하기 위한 수동식 또는 공정 제어식의 밸브(72)를 포함한다. 천공 바스킷(36)의 내부(38)에서 직물과 반응하지 않는 임의의 첨가제는 배출 파이프(60)를 통해 접촉실(32)을 빠져나와 배출 필터(62) 내에 포집된다.

양호한 조작 방식으로서, 직물은 단계(24)에서 처리되고, 입자화 화학물질이 작용할 수 있는 시간을 지탱할 수 있고 천공 바스킷(36)의 내부(38)에 배치될 수 있다. 직물로부터 입자 물질을 제거하기 위해 가스 제트는 매니폴드(44)와 노즐(46)을 통해 직물을 요동시키도록 동작된다. 가스 제트는 직물에서 가스 유동을 반출하고, 직물로부터 입자상 물질의 제거를 촉진한다. 사용하는 첨가제들은 동시에 인젝터(48)를 통해 추가된다. 직물로부터 제거된 입자 물질은 접촉실(32)로부터 가스 유동 내로 반출되고 배출 파이프(60) 내로 들어와서 배출 필터(62) 내에 포집된다.

본 발명의 설명을 위한 목적으로 본 발명의 양호한 실시예가 상세하게 설명되었지만, 본 발명의 정신 및 범주로부터 벗어남 없이도 다양한 변경예 및 개선예가 이루어질 수 있다. 따라서 본 발명은 첨부된 청구 범위에 의한 것 이외에는 제한되지 않는다.

Claims (12)

1. 직물을 세탁하는 방법에 있어서,

   비입자상 오점이 있는 일편의 직물을 제공하는 단계와,

   입자상 오점을 완화시켜 입자상 형태로 변환시키는 입자화 화학물질에 의해 일편의 직물의 적어도 일부분을 처리하는 단계와,

   일편의 직물로부터 입자를 제거하기 위해 입자 제거 가스에 의해 일편의 직물 전체를 요동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
2. 제1항에 있어서, 입자화 화학물질은 광범위한 유형의 비입자상 오점에 작용하는 일반적인 효과의 화학물질인 것을 특징으로 하는 방법.
3. 제1항에 있어서, 입자화 화학물질은 좁은 범위의 유형의 비입자상 오점에 작용하는 선택적 화학물질인 것을 특징으로 하는 방법.
4. 제1항에 있어서, 입자화 화학물질은 물인 것을 특징으로 하는 방법.
5. 제1항에 있어서, 입자화 화학물질은 수용성 유기용제인 것을 특징으로 하는 방법.
6. 제1항에 있어서, 입자화 화학물질은 무색의 술폰산염 다이 사이트 차단제(dye site blocker)인 것을 특징으로 하는 방법.
7. 제1항에 있어서, 상기 처리 단계는 입자화 화학물질과 기포제를 적용하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
8. 제1항 내지 제7항 중 어느 하나의 항에 있어서, 입자 제거 가스는 공기, 질소 및 이산화탄소로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
9. 제1항 내지 제7항 중 어느 하나의 항에 있어서, 입자 제거가스는 대략 207kPa 내지 2068kPa(30psi 내지 300psi)의 압력 강하의 가스 제트로부터 가압되는 것을 특징으로 하는 방법.
10. 제1항 내지 제7항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 요동 단계는 상기 처리 단계 후에 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
11. 제1항 내지 제7항 중 어느 하나의 항에 있어서, 상기 요동 단계 및 상기 처리 단계는 동시에 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
12. 삭제