KR100384132B1 - 타원편광분석장치 및 타원편광분석장치를 이용한 입사각정렬방법 - Google Patents

타원편광분석장치 및 타원편광분석장치를 이용한 입사각정렬방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 반도체 박막의 물성을 측정하는 타원편광분석기에 관한 것으로, 방사방향으로 다수의 제 1홈(17)이 형성되고, 원주방향으로 제 2홈(18)에 형성된 반원형상의 메인 프레임(16); 상기 메인 프레임(16)의 중심영역에 설치되고, 3축방향으로 운동이 가능한 시편 스테이지(11); 상기 메인 프레임(16)과 접하는 면에 상기 제 1홈(17)에 삽입 가능한 두개의 제 1 볼(31) 및 제 2볼(32), 상기 제 2홈(18)에 삽입 가능한 제 3볼(33) 및 상기 메인 프레임(16)에 밀착되어 위치를 고정할 수 있는 밀착수단을 포함하고 편광이 조사되는 편광부(12); 및 상기 메인 프레임(16)과 접하는 면에 상기 제 1홈(17)에 삽입 가능한 두개의 제 1 볼(31) 및 제 2볼 (32), 상기 제 2홈(18)에 삽입 가능한 제 3볼(33) 및 상기 메인 프레임(16)에 밀착되어 위치를 고정할 수 있는 밀착수단을 포함하고, 시편 스테이지(11) 상에 놓인 시편의 상부면에서 반사된 빛을 수광하는 검광부(14);를 포함하는 것을 특징으로 하는 타원편광분석장치에 의하여 달성된다.

Description

타원편광분석장치 및 타원편광분석장치를 이용한 입사각 정렬방법{An Ell ipsometer And Inclient Angle Alignment Method Using Thereof}
본 발명은 반도체 박막의 물성을 측정하는 타원편광분석기에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기구학인 커플링을 이용하여 다양한 입사각이 가능하고, 반복 신뢰성이 높으면서도 높은 정밀도를 갖는 타원 편광분석기 및 타원 편광분석기를 이용한 입사각 정렬방법에 관한 것이다.
도 1은 종래의 타원편광분석장치의 사시도이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 타원편광분석장치는 크게, 편광부(1), 검광부(3), 공결점현미경(20) 및 시편 스테이지(4)로 구성되어 있다. 편광부(1)는 시편 스테이지(4)상에 놓인 시편을 향해 빛을 조사하고, 조사된 빛은 시편의 상면에서 반사되어 검광부(3)로 들어간다. 이때, 공결점현미경(20)을 사용하여 시편의 높이와 기울기를 조절하고 입사각을 정렬하게 된다.
여기서, 입사각 정열이란, 타원편광분석기를 구성하는 각 요소의 위치나 방향이 최초의 이상적인 위치에서 벗어남에 따라 검광부(3)에 맺히는 빛의 결점의 위치가 검광부의 중심위치에서 벗어나게 되는데 입사각을 정확히 셋팅하여 검광부의 중심위치에 정확히 결점이 맺히도록 하는 과정을 말한다.
이러한 입사각의 정열은 크게 두가지로 나눌수 있다. 즉, 장치를 셋팅할 경우 각 구성요소가 정확한 위치와 방향을 갖도록 정렬하는 것이고, 두번째는 시편을 바꾸어 가면서 측정할 경우 시편의 두께나 표면의 기울기 등으로 입사각이 변동된 것을 시편 스테이지를 사용하여 정확하게 맞추는 것이다.
입사각 정렬이 필요한 이유를 알아보기 위해 Air-Au(100㎚)-GaAs 로 이루어진 3상계 시편에 대하여 모델링하고 입사각 에러와 시편의 높이방향 정열에러가 두께 측정에 미치는 영향을 시뮬레이션을 하였다. 이때 입사각은 60°로 하였다.
도 2는 입사각 에러에 대한 시편의 높이측정에러를 나타낸 그래프이고, 도 3은 시편 높이 정열에러에 대한 시편의 높이측정에러를 나타낸 그래프이다. 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 시편의 두께 오차가 1Å이 되게 하는 입사각 에러는 0.022°이고, 시편의 높이방향 정렬에러는 80㎛ 이다. 이를 통하여 시편의 두께 측정오차가 1Å 이하가 되기 위해서는 시편 스테이지의 각도 정밀도는 0.0022°, 직선운동 정밀도는 8㎛ 이하가 되어야 함을 알 수 있다.
입사각 정렬이 필요한 또 다른 이유는 빛의 경로가 광축에서 벗어나게 되어 편광프리즘(미도시)에서 굴절하게 되고, 광량을 조절하는 조리개(미도시)에서 빛의 양이 차단되어 정확한 신호를 측정하지 못하게 되기 때문이다. 이를 시뮬레이션을통해 실험한 결과가 도 4에 도시되어 있다.
도 4는 검광부 면에서 결점의 위치를 나타낸 그래프이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 제 1원(5)은 검광부의 검출가능영역을 나타내며, 제 2원(6)은 결점의 위치를 나타내며, 제 3원(7)은 결점의 중심위치가 검광부가 회전함에 따라 회전함을 나타내는 자취이다. 즉, 회전 검광부형에서 입사각 정열이 되지 않았을 경우에 결점의 위치가 검광부의 회전에 따라 회전하고 있음을 알 수 있다. ,
이와 같은 입사각 정렬을 위해 사용되는 종래의 공촛점현미경은 신호를 정확히 측정할 수 있다는 장점은 있지만 정확한 입사각을 얻을 수 없다는 단점이 있다.
그 밖에 검광부에 모터를 설치하여 움직임으로써 입사각을 정렬하는 방법이 공지되어 있다. 그러나 이 경우 비교적인 고가의 모터가 부수적으로 필요하고 반복 재현성이 낮다는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 문제점들을 해결하고자 안출된 것으로써, 본 발명의 제 1 목적은 공촛점현미경, 모터 등을 삭제하고, 기구학적 커플링을 사용하여 다양한 입사각을 제공하는 타원편광분석기 및 타원편광분석기를 이용한 입사각 정렬방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 제 2 목적은 반복 재현성이 높고, 조작이 간단하며, 구조가 비교적 간단하여 생산성이 높은 타원편광분석기 및 타원편광분석기를 이용한 입사각 정렬방법을 제공하는 것이다.
상기와 같은 본 발명의 목적은, 방사방향으로 다수의 제 1홈(17)이 형성되고, 원주방향으로 제 2홈(18)에 형성된 반원형상의 메인 프레임(16); 상기 메인 프레임(16)의 중심영역에 설치되고, 3축방향으로 운동이 가능한 시편 스테이지 (11); 상기 메인 프레임(16)과 접하는 면에 상기 제 1홈(17)에 삽입 가능한 두개의 제 1 볼(31) 및 제 2볼(32), 상기 제 2홈(18)에 삽입 가능한 제 3볼(33) 및 상기 메인 프레임(16)에 밀착되어 위치를 고정할 수 있는 밀착수단을 포함하고 편광이 조사되는 편광부(12); 및 상기 메인 프레임(16)과 접하는 면에 상기 제 1홈(17)에 삽입 가능한 두개의 제 1 볼(31) 및 제 2볼(32), 상기 제 2홈(18)에 삽입 가능한 제 3볼(33) 및 상기 메인 프레임(16)에 밀착되어 위치를 고정할 수 있는 밀착수단을 포함하고, 시편 스테이지(11) 상에 놓인 시편의 상부면에서 반사된 빛을 수광하는 검광부(14);를 포함하는 것을 특징으로 하는 타원편광분석장치에 의하여 달성된다.
여기서, 상기 제 3 볼(33)은 상기 제 1 볼(31)과 상기 제 2 볼(32)을 잇는 연장선상에 놓이지 않는 것이 바람직하다.
그리고, 상기 제 1홈(17)과 상기 제 2홈(18)의 길이 방향에 대한 가로방향의 단면은 대략 "V" 자 형상을 갖는 것이 바람직하다.
또한, 상기 편광부(12) 및 상기 검광부(14)의 밀착수단은 영구자석(30)이고, 상기 메인 프레임(16)은 철(Fe)인 것이 더욱 바람직하다.
상기와 같은 본 발명의 목적은, 또한, 타원편광장치의 입사각 정열방법에 있어서, 3축방향으로 운동이 가능한 시편 스테이지(11)의 높이를 조절하여 상기 시편 스테이지(11)상에 높인 시편의 높이를 조절하는 단계; 편광부(12)에서 조사된빛이 검광부(14)로 수광되기 위하여 결점의 검출가능영역으로 결점을 이동하는 단계; 상기 검출가능영역내에서 상기 결점을 상기 검출가능영역의 중심으로 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 타원편광분석장치를 이용한 입사각 정렬방법에 의해서도 달성될 수 있다.
여기서, 상기 높이 조절단계에서, 높이(h)는,
에 의하여 결정되고,
이며,이고, 여기서,
L은 시편과 검광부 사이의 거리, θ1은 첫번째 입사각, θ2는 두번째 입사각, δ는 입사각 에러, e는 검광부면에서 결점의 위치에러인 것이 가능하다.
아울러, 상기 결점의 검출가능영역으로 결점을 이동하는 단계는, 상기 결점을 원형으로 회전시켜 신호를 검출하는 함으로써 상기 검출가능영역으로 상기 결점이 이동시키는 것이 바람직하다.
또한, 상기 중심 이동단계는, 상기 검출가능영역내에서 일방향으로 상기 결점을 이동시키면서 빛의 최대광량을 얻는 단계; 상기 최대광량의 절반이 될 때까지 상기 결점을 이동시켜 제 1 위치(x1)를 기억하게 하는 단계; 상기 결점을 상기 방향과 반대방향으로 이동시키면서 최대광량의 절반이 될 때까지 이동시켜 제 2위치(x2)를 기억시키는 단계; 및 상기 제 1위치(x1) 및 제 2위치(x2)의 평균위치로 상기 결점을 이동시키는 단계를 포함하는 것이 가능하다.
도 1은 종래의 타원편광분석장치의 사시도,
도 2는 입사각 에러에 대한 시편의 높이측정에러를 나타낸 그래프,
도 3은 시편 높이 정열에러에 대한 시편의 높이측정에러를 나타낸 그래프,
도 4는 검광부 면에서 결점의 위치를 나타낸 그래프,
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 타원편광분석장치의 개략적인 정면도,
도 6은 도 5에 도시된 편광부가 메인 프레임에 부착된 상태를 확대한 확대도.
도 7은 첫번째 입사각의 정의를 나타내는 도면,
도 8은 두번째 입사각의 정의를 나타내는 도면,
도 9은 결점을 검출가능영역으로 이동시키기 위해 방법을 도식적으로 나타내는 도면,
도 10a,b,c는 중심 이동단계를 단계적으로 나타내는 도면,
도 11은 검광부면에서 결점의 위치를 나타내는 그래프,
도 12a, b, c는 입사각 자동 정렬시 광량과 시편 스테이지의 각도를 나타내는 그래프이다.
<도면의 주요 분분에 대한 부호의 설명>
10 : 타원편광 분석기, 11 : 시편 스테이지,
12 : 편광부, 14 : 검광부,
16 : 메인 프레임, 17 : 제 1 홈,
18 : 제 2 홈, 30 : 영구자석,
31 : 제 1 볼, 32 : 제 2 볼,
33 : 제 3 볼
본 발명의 다른 목적들, 분명한 장점들 및 신규한 특징들은 이하의 상세한 설명 및 첨부된 도면들에 따른 바람직한 실시예들로 부터 더 분명해 질것이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 타원편광분석장치(10)의 개략적인 정면도이다. 도 5에 도시된 바와 같이, 타원편광분석장치(10)는 크게 메인 프레임(16), 편광부(12), 검광부(14), 시편 스테이지(11)로 구성되어 있다.
메인 프레임(16)은 영구자석(30)이 부착될 수 있는 반원형의 금속재로서 이루어져 있고, 일면에 제 1홈(17)과 제 2홈(18)이 형성되어 있다. 제 1 홈(17)은 단면이 "V"-자형을 이루고 있으며, 방사방향으로 형성된 다수의 직선이다. 이러한 다수의 제 1 홈(17)은 메인 프레임(16)의 수직방향 중심축선(15)에 대해 좌우 대칭을 이루고 있다.
제 2 홈(18)은 단면이 "V"-자형을 이루고 있으며, 메인 프레임(16)의 중심점으로부터 소정거리 떨어진 반경위치에서 원주방향으로 약 180도의 각도를 이루며 형성되어 있다. 이러한 제 1홈(17)과 제 2 홈(18)은 매우 정밀한 형상과 위치를 갖도록 절삭되는 것이 요구된다.
시편 스테이지(11)는 그 상부면의 중심이 대략 메인 프레임(16)의 중심점과 일치하도록 배치되어 있으며, 세개의 직선운동이 가능한 구동기로 구성되어 있으며, 한축의 직선운동과 두축의 회전운동이 가능하다. 이러한 구성은 3축 이송테이블 또는 선반으로 부터 쉽게 구현할 수 있다. 시편 스테이지(11)의 상부면에는 검사하고자 하는 반도체 박막 시편이 놓여지게 된다.
편광부(12)는 일면이 상기 메인 프레임(16)에 밀착되어 고정될 수 있고(상세한 구조는 추후 설명함), 상기 시편 스테이지(11)를 향해 빛을 조사하도록 구성되고 배열된다.
검광부(14)는 일면이 상기 메인 프레임(16)에 밀착되어 고정될 수 있고(상세한 구조는 추후 설명함), 상기 시편 스테이지(11)로부터 반사된 빛을 수광하도록 구성되고 배열된다.
도 6은 도 5에 도시된 편광부(12)가 메인 프레임(16)에 부착된 상태를 확대한 확대도이다. 도 6에 도시된 바와 같이, 편광부(12)중 메인 프레임(16)에 접하는 면에는 영구자석(30)과 제 1 볼(31), 제 2 볼(32) 및 제 3 볼(33)이 구비되어 있다. 제 1 볼(31) 및 제 2 볼(32)은 편광부(12)의 빛 조사방향과 일치하도록 편광부 (12)의 중심선상에 구비되고, 제 3 볼(33)은 상기 일면중 상기 제 1 볼(31)과 제 2 볼(32)을 이은 연장선에서 벗어난 임의의 위치에 구비된다.
이와 같은 구성으로 인해, 제 1 볼(31) 및 제 2 볼(32)은 제 1홈 (17) 상에 끼워지고, 제 3볼(33)은 제 2 홈(18)상에 끼워진다. 영구자석(30)은 메인 프레임 (16)과의 간격을 조절하여 메인 프레임(16)에 미치는 자력을 조절할 수 있다.
검광부(14)중 메인 프레임(16)과 접하는 면의 구성은 편광부(12)의 그것과 동일하다.
이하에서는 상기와 같은 타원편광분광장치의 작동에 대해 설명하기로 한다.
시편 스테이지(11)의 상면에 검사할 반도체 박막을 올려 놓고, 편광부(12)의 제 1 볼(31) 및 제 2 볼(32)을 임의의 제 1 홈(17)상에 위치시키고, 제 3 볼(33)을 제 2 홈(33)상에 위치시킨 후, 영구자석(30)으로 위치를 고정한다. 검광부(14)의 제 1 볼(31) 및 제 2 볼(32)을 또 다른 제 1 홈(17)상에 위치시키고, 제 3 볼(33)을 제 2 홈(33)상에 위치시킨 후, 영구자석(30)으로 위치를 고정한다.
이 때, 상기 두 제 1 홈(17)은 중심축선(15)에 대하여 대칭이어야 한다. 따라서, 편광부(12)의 위치가 정해지면 검광부(14)의 위치도 중심축선(15)에 대해 대칭으로서 정해진다.
이하에서는 본 발명에 따른 타원편광분광장치를 이용한 입사각 정렬에 대하여 설명하기로 한다.
입사각 정렬을 하기 위해서는 한 방향의 직선운동과 두 방향의 회전운동을 하는 3자유도의 시편 스테이지(11)가 필요하다. 이러한 시편 스테이지(11)를 이용하는 입사각 자동정렬은 크게 3 단계로 구성되어 있다. 즉, 첫번째 단계에서는 시편의 높이를 조절하고, 두번째 단계에서는 검출가능영역으로 결점의 위치를 옮기고, 세번째 단계에서는 검출가능영역의 중심으로 결점의 위치를 옮기는 것이다.
도 7은 첫번째 입사각의 정의를 나타내는 도면이고, 도 8은 두번째 입사각의 정의를 나타내는 도면이다. 도 7 및 도 8에서, L은 시편과 검광부면 사이의 거리, θ1은 첫번째 입사각, θ2는 두번째 입사각, δ는 입사각 에러, e는 검광부면에서 결점의 위치에러, h 는 시편의 높이방향 정렬에러이다.
첫번째 단계는 시편을 높이방향으로 정확한 위치에 셋팅하는 것이다. 첫번째 단계가 필요한 이유는 시편의 높이방향 위치가 정확하지 않은 상태에서 두 번째와 세번째 단계(추후 설명함)를 이용하여 입사각을 정렬하면 정확한 입사각을 갖지 못하기 때문이다. 이 경우 입사각 에러는 아래의 수식으로 나타내어진다.
이고,
δ= θ1- θ1' = θ2- θ2' 이다.
시편의 높이방향 위치를 맞추는 방법은 첫번째 입사각 위치로 편광부와 검광부를 이동시켜서 추후 설명할 두번째 단계와 세번째 단계를 이용하여 입사각을 정렬하는 것이다. 그리고, 두번째 입사각 위치로 편광부와 검광부를 이동시키고 검광부면에서 결점의 위치에러를 계산한다. 여깃서 기하학적인 관계식으로 부터 첫 번째 입사각과 두번째 입사각 및 결점의 위치에러를 이용하여 시편의 위치에러값을 다음과 같이 계산하게 된다.
에 의하여 결정되고,
여기서,이며,이다.
결과적으로 시편의 위치에러값만큼 시편 스테이지를 이동시켜서 시편의 높이방향 위치를 맞추게 된다. 여기서 첫번째 입사각과 두 번째 입사각은 메인 프레임 (16)에 가공된 직선형의 제 1 홈(17)에 의하여 알 수 있고, 검광부 면에서 결점의 위치에러는 좌표원점에서 검출영역 중심까지의 거리와 결점이 검출영역 중심까지 이동할 때 시편 스테이지(11)기 이동한 각도로부터 알 수 있다.
두 번째 단계는 검광부(14)의 검출가능영역에 결점이 접근해서 신호가 나오기 시작할 때까지이다, 즉 이 원리는 가장 빠른 시간에 검출영역까지 접근하기 위하여 결점의 위치를 도 9와 같이 원형으로 회전시켜서 검출신호를 관찰하는 것이다. 도 9는 결점을 검출가능영역으로 이동시키기 위해 방법을 도식적으로 나타내는 도면이다. 도 9에서, Ad는 검출가능영역의 지름이고, Sd는 결점의 지름이다.
결점이 원형으로 회전하는 반경의 증가치는 검출가능 영역의 지름과 결점의 지름을 합한 값이다. 원형으로 찾는 방법은 다른 방법에 비해 빠르고 간단하며 검출영역을 반드시 찾아내는 장점을 가지고 있다.
세 번째 단계는 도 10a,b,c에 도시된 바와 같이 결점을 검출가능 영역의 중심으로 가게 하는 것이다. 도 10a,b,c는 중심 이동단계를 단계적으로 나타내는 도면이다. 도 10a,b,c에서 X1, X2는 최대광량의 절반이 되는 결점의 위치이고, Imax는 최대광량을 나타낸다.
도 10a,b,c에 도시된 바와 같이, 먼저 검출가능 영역에서 X축방향으로 광량이 증가하는 빛의 결점을 이동시키면서 빛의 최대광량을 얻고 최대 광량의 절반이 될 때까지 결점을 이동시켜 그 위치를 기억한다. 그 다음, 결점을 반대방향으로 최대 광량의 절반이 될 때까지 이동시켜 그 위치를 기억한다. 최종적으로 기억한 두위의 평균값으로 결점을 보내면 축방향으로 검광부 구경의 중심점에 위치하게 된다.
광원-편광자-변조기-시편-검광자-검출기 형태의 타원편광분석기에 대하여 상기와 같은 알로리즘을 이용하여 시뮬레이션 하였다. 즉, 도 11은 검광부면에서 결점의 위치를 나타내는 그래프이다. 검광부의 구경을 빛의 결점이 탐색해 가는 과정과 검광부의 구경중심에 빛의 결점이 위치하는 과정이 앞에서 예상했던 바와 동일함을 알 수 있다. 도 12a, b, c는 입사각 자동 정렬시 광량과 시편 스테이지의 각도를 나타내는 그래프이다. 도 12a, b, c에 도시된 바와 같이, 입사각 정렬과정에서 검광부에 검출되는 광량의 양, 시편 스테이지의 두 회전각을 볼 수 있다.
상기와 같은 본 발명의 타원편광분석기 및 이를 이용한 입사각 정렬방법에 의하면, 공촛점현미경, 모터 등을 삭제하고, 기구학적 커플링을 사용하여 다양한 입사각을 제공하는 특징이 있다.
아울러, 반복 재현성이 높고, 조작이 간단하며, 구조가 비교적 간단하여 생산성이 높다는 장점이 있다.
비록 발명이 상기에서 언급된 바람직한 실시예에 관해 설명되어졌으나, 발명의 요지와 범위를 벗어남이 없이 많은 다른 가능한 수정과 변형이 이루어질 수 있다. 따라서, 첨부된 청구범위는 발명의 진정한 범위내에서 속하는 이러한 수정과 변형을 포함할 것으로 예상된다.

Claims (8)

  1. 방사방향으로 다수의 제 1홈(17)이 형성되고, 원주방향으로 제 2홈(18)에 형성된 반원형상의 메인 프레임(16);
    상기 메인 프레임(16)의 중심영역에 설치되고, 3축방향으로 운동이 가능한 시편 스테이지(11);
    상기 메인 프레임(16)과 접하는 면에 상기 제 1홈(17)에 삽입 가능한 두개의 제 1 볼(31) 및 제 2볼(32), 상기 제 2홈(18)에 삽입 가능한 제 3볼(33) 및 상기 메인 프레임(16)에 밀착되어 위치를 고정할 수 있는 밀착수단을 포함하고 편광이 조사되는 편광부(12); 및
    상기 메인 프레임(16)과 접하는 면에 상기 제 1홈(17)에 삽입 가능한 두개의 제 1 볼(31) 및 제 2볼(32), 상기 제 2홈(18)에 삽입 가능한 제 3볼(33) 및 상기 메인 프레임(16)에 밀착되어 위치를 고정할 수 있는 밀착수단을 포함하고, 시편 스테이지(11) 상에 놓인 시편의 상부면에서 반사된 빛을 수광하는 검광부(14);를 포함하고,
    상기 제 3 볼(33)은 상기 제 1 볼(31)과 상기 제 2 볼 (32)을 잇는 연장선상에 놓이지 않고,
    상기 제 1홈(17)과 상기 제 2홈(18)의 길이 방향에 대한 가로방향의 단면은 대략 "V" 자 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 타원편광분석장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 편광부(12) 및 상기 검광부(14)의 밀착수단은 영구자석(30)이고, 상기 메인 프레임(16)은 철인 것을 특징으로 하는 타원편광분석장치.
  5. 타원편광장치의 입사각 정열방법에 있어서,
    3축방향으로 운동이 가능한 시편 스테이지(11)의 높이를 조절하여 상기 시편 스테이지(11)상에 높인 시편의 높이를 조절하는 단계;
    편광부(12)에서 조사된 빛이 검광부(14)로 수광되기 위하여 결점의 검출가능영역으로 결점을 이동하는 단계;
    상기 검출가능영역내에서 상기 결점을 상기 검출가능영역의 중심으로 이동시키는 단계를 포함하고,
    상기 높이 조절단계에서, 높이(h)는,
    에 의하여 결정되고,
    이며,이고, 여기서,
    L은 시편과 검광부 사이의 거리, θ1은 첫번째 입사각, θ2는 두번째 입사각, δ는 입사각 에러, e는 검광부면에서 결점의 위치에러인 것을 특징으로 하는 타원편광분석장치를 이용한 입사각 정렬방법.
  6. 삭제
  7. 제 5 항에 있어서, 상기 결점의 검출가능영역으로 결점을 이동하는 단계는,
    상기 결점을 원형으로 회전시켜 신호를 검출하게 함으로써 상기 검출가능영역으로 상기 결점이 이동시키는 것을 특징으로 하는 타원편광분석장치를 이용한 입사각 정렬방법.
  8. 제 5 항에 있어서, 상기 중심 이동단계는,
    상기 검출가능영역내에서 일방향으로 상기 결점을 이동시키면서 빛의 최대광량을 얻는 단계;
    상기 최대광량의 절반이 될 때까지 상기 결점을 이동시켜 제 1 위치(x1)를 기억하게 하는 단계;
    상기 결점을 상기 방향과 반대방향으로 이동시키면서 최대광량의 절반이 될 때까지 이동시켜 제 2위치(x2)를 기억시키는 단계; 및
    상기 제 1위치(x1) 및 제 2위치(x2)의 평균위치로 상기 결점을 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 타원편광분석장치를 이용한 입사각 정렬방법.
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JP2000171212A (ja) * 1998-12-02 2000-06-23 Siemens Ag 形状複屈折を有する表面特徴を測定するためのシステムおよび形状複屈折を有する特徴サイズを測定するための方法および高い横方向分解能で異方性サンプル上でクリティカルディメンションを測定するための装置および高い横方向分解能でサンプルにおけるクリティカルディメンションを求めるための方法

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