KR100377012B1 - 급속열처리 장치의 온도보정 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (4)
- 급속열처리 장치에서 온도보정을 위한 보정 시작온도를 설정하는 단계와,다양한 열처리 공정조건에 따른 온도보정 파라미터를 획득하는 단계와,상기에서 획득된 온도보정 파라미터들을 각각 열처리 공전조건에 따라 저장하는 단계와,상기에서 저장된 온도보정 파라미터 중에서 공정조건에 해당되는 온도보정 파라미터를 읽어와 적용하여 해당시간의 실측온도와 과거의 실측온도 및 과거의 보정온도를 기반으로 하기식에 의해 보정온도를 산출하는 단계와,상기에서 산출된 보정온도에 따라 열처리 공정을 진행하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 급속열처리 장치의 온도보정 방법.(하기식)이때,(t)은 해당스텝의 보정온도,(t-1)은 1스텝전의 보정온도,(t-2)는 2스텝전의 보정온도, Ys(t)는 해당스텝의 측정온도,Ys(t-1)은 1스텝전의 측정온도, Ys(t-2)는 2스텝전의 측정온도,p1, p2, p3, ... 와 q1, q2, q3, ...는 공정조건에 따른 온도보정 파라미터.
- 제 1항에 있어서, 상기 온도보정 파라미터를 획득하는 단계는 웨이퍼의 하부온도와 웨이퍼의 상부온도간의 격차를 보상하기 위한 상관성을 파라미터로 획득하는 것을 특징으로 하는 급속열처리 장치의 온도보정 방법.
- 제 2항에 있어서, 상기 웨이퍼 하부온도 측정지점과 웨이퍼 상부온도 측정지점은 동일한 지점의 웨이퍼 상하부인 것을 특징으로 하는 급속열처리 장치의 온도보정 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 하기식은 하기 전달함수를 z-트랜스폼하여 얻는 것을 특징으로 하는 급속열처리 장치의 온도보정 방법.(전달함수)이때,는 보정온도, Ys는 측정온도,p1, p2, p3, ...와 q1, q2, q3, ...는 공정조건에 따른 온도보정 파라미터.
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