KR100331025B1 - Liquid Material Supply Apparatus in Metal Organic Chemical Vapor Deposition - Google Patents
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Abstract
본 발명은 과도한 액체원료의 기화기로의 공급을 방지하여 급격한 압력상승을 방지함으로써 기화기의 수명을 연장하고 클로깅을 억제하는 액체원료 공급장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a liquid raw material supply device which prevents excessive supply of liquid raw material to a vaporizer to prevent sudden pressure rise, thereby extending the life of the vaporizer and suppressing clogging.
위와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따르면, 공급되는 다수의 액체원료 및 액체용매의 유량을 제어하는 다수의 액체유량 제어기(11∼14)와, 상기 액체유량 제어기(12∼14)에서 유량이 제어된 액체원료를 혼합하는 혼합기(15)와, 상기 액체용매를 기화기(10)의 내부로 공급하여 기화기의 내부를 세척하거나 상기 혼합기에서 혼합된 액체원료를 공급하는 3방향밸브(16)와, 상기 액체원료가 원활하게 공급될 수 있도록 기화기에 수송가스를 공급하는 수송가스 공급원(17) 및, 상기 기화기로 공급되는 액체원료의 공급압력을 측정하는 압력게이지(18)를 포함하는 유기화합물 화학기상 증착방법에 사용되는 액체연료 공급장치에 있어서, 상기 혼합기와 3방향밸브의 사이에는 상기 혼합기에서 혼합된 액체원료를 상기 기화기의 진공배기와 연결하여 진공배기와 상기 혼합기간의 압력차에 의한 액체원료의 순간배출을 억제하는 액체원료 공급억제장치가 설치되어 있다.According to the present invention for achieving the above object, a plurality of liquid flow rate controller (11-14) for controlling the flow rate of the plurality of liquid raw materials and the liquid solvent to be supplied, and the flow rate in the liquid flow rate controller (12-14) A mixer 15 for mixing the controlled liquid raw material, a three-way valve 16 for supplying the liquid solvent into the vaporizer 10 to clean the interior of the vaporizer, or supplying the mixed liquid raw material in the mixer; An organic compound chemical vapor phase comprising a transport gas supply source 17 for supplying a transport gas to a vaporizer so that the liquid material can be smoothly supplied, and a pressure gauge 18 for measuring a supply pressure of the liquid material supplied to the vaporizer. In the liquid fuel supply apparatus used in the deposition method, between the mixer and the three-way valve, the liquid raw material mixed in the mixer is connected to the vacuum exhaust of the vaporizer, the vacuum exhaust A liquid material supply inhibiting unit for inhibiting the instantaneous discharge of the liquid raw material by the pressure difference of the mixing period is provided.
Description
본 발명은 액체원료 공급장치에 관한 것이며, 특히, 유기화합물 화학기상 증착시에 다수의 액체원료 및 액체용매를 공급하여 기화기에서 기화시켜 일정한 박막조성을 유지시키는 액체원료 공급장치에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid raw material supply device, and more particularly, to a liquid raw material supply device for supplying a plurality of liquid raw materials and liquid solvents during vapor deposition of organic compounds in a vaporizer to maintain a constant thin film composition.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래기술의 액체원료 공급장치는, 공급되는 액체원료 및 액체용매의 유량을 제어하는 다수의 액체유량 제어기(1∼4)와, 이런 액체유량 제어기(2∼4)에서 유량이 제어된 액체원료를 혼합하는 혼합기(5)와, 액체용매를 기화기(10) 내부로 공급하여 기화기(10)의 내부를 세척하거나 혼합기(5)에서 혼합된 액체원료를 공급하는 3방향밸브(6)와, 상기 액체원료가 원활하게 공급될 수 있도록 기화기(10)에 수송가스를 공급하는 수송가스 공급원(7) 및, 상기 기화기(10)로 공급되는 액체원료의 공급압력을 측정하는 압력게이지(8)로 구성되어 있다.As shown in Fig. 1, the prior art liquid raw material supply apparatus includes a plurality of liquid flow controllers 1 to 4 for controlling the flow rates of the liquid raw material and the liquid solvent to be supplied, and such liquid flow controllers 2 to 4; Mixer (5) for mixing the flow rate controlled liquid raw material and the liquid solvent is supplied into the vaporizer (10) to wash the interior of the vaporizer (10) or to feed the mixed liquid raw material in the mixer (5) Measuring the supply pressure of the valve 6, the transport gas supply source 7 for supplying a transport gas to the vaporizer 10 so that the liquid material can be smoothly supplied, and the liquid material supplied to the vaporizer 10 It consists of the pressure gauge 8.
이와 같이 구성된 액체원료 공급장치에 사용되는 액체원료는 가압가스인 질소/헬륨가스에 의해 일정한 압력으로 가압된 상태에서 원료공급라인을 통해 액체유량 제어기(2∼4)에 각각 공급된다. 그리고, 다른 액체유량 제어기(1)에는 혼합기(5)의 내부를 세척하는 액체용매가 공급된다. 이 때, 액체공급라인 내부에는 필터가 설치되어 있는 데, 이런 필터에 의해 액체원료 및 액체공급라인 내부에 존재하는 불순물들이 제거되어 정제된 액체원료가 액체유량 제어기(2∼4)에 각각 공급된다.The liquid raw materials used in the liquid raw material supply device configured as described above are respectively supplied to the liquid flow controllers 2 to 4 through the raw material supply line in a state of being pressurized at a constant pressure by nitrogen / helium gas, which is a pressurized gas. Then, the other liquid flow controller 1 is supplied with a liquid solvent for washing the inside of the mixer 5. At this time, a filter is installed inside the liquid supply line. The filter removes impurities present in the liquid raw material and the liquid supply line, and the purified liquid raw material is supplied to the liquid flow controllers 2 to 4, respectively. .
이렇게 액체유량 제어기(2∼4)에 공급된 액체원료는 필요한 양만큼씩 혼합기(5)에 공급되어 불균일한 상태로 혼합된다. 즉, 액체원료는 증착되는 박막의 조성상태와 액체원료의 특성(mole fraction 등등)을 고려하여 액체유량 제어기(2∼4)로부터 공급되어 혼합기(5)의 내부에서 혼합된다. 이 때, 최초 액체원료는 혼합기(5)의 내부체적만큼 공급되어 혼합기(5)의 내부를 액체원료만으로 채우는 혼합공정을 갖는다. 이런 혼합기(5)에서 액체원료를 효과적으로 혼합할 수 있도록 혼합기(5)의 외부에 진동발생장치를 설치하기도 한다.The liquid raw materials supplied to the liquid flow rate controllers 2 to 4 are supplied to the mixer 5 in necessary amounts and mixed in a non-uniform state. That is, the liquid raw material is supplied from the liquid flow controllers 2 to 4 in consideration of the composition state of the thin film to be deposited and the characteristics (mole fraction, etc.) of the liquid raw material, and mixed in the mixer 5. At this time, the first liquid raw material is supplied by the internal volume of the mixer 5 to have a mixing process of filling the inside of the mixer 5 with only the liquid raw material. In order to effectively mix the liquid raw materials in the mixer 5, a vibration generating device may be installed outside the mixer 5.
이렇게 혼합기(5)에서 혼합된 혼합 액체원료(가압상태)는 기화기(10)의 내부로 공급되는 데, 이런 기화기(10)는 진공상태이고 일정온도를 유지할 수 있는 온도제어가 가능한 상태이다. 이 때, 기화기(10)의 사용온도는 공정변수로 작용하여 박막조성 및 기화효율측면 등을 고려하여 결정된다.In this way, the mixed liquid raw material (pressurized state) mixed in the mixer 5 is supplied into the vaporizer 10, and the vaporizer 10 is in a vacuum state and is capable of temperature control capable of maintaining a constant temperature. At this time, the use temperature of the vaporizer 10 is determined in consideration of the thin film composition and the side of the vaporization efficiency by acting as a process variable.
이렇게 기화기(10)에 공급되어 기화된 원료는 반응챔버의 내부로 공급될 수 있도록 수송가스 공급원(7)에서 공급되는 수송가스와 기화기(10)의 내부에서 혼합된다. 이 때, 수송가스는 기화된 원료와의 혼합시에 온도차이에 따른 기화된 원료의 열화현상을 억제할 수 있도록 액체원료의 기화온도와 가능한 유사하게 제어된다. 그리고, 압력게이지(8)를 통해 기화기(10)의 내부상태를 분석/모니터링하여 시간에 따른 기화기(10)의 내부상태를 확인하게 된다.Thus, the vaporized raw material supplied to the vaporizer 10 is mixed inside the vaporizer 10 with the transport gas supplied from the transport gas source 7 so as to be supplied into the reaction chamber. At this time, the transport gas is controlled as similar as possible to the vaporization temperature of the liquid raw material so as to suppress the deterioration of the vaporized raw material due to the temperature difference when mixing with the vaporized raw material. In addition, the internal state of the vaporizer 10 is checked by time by analyzing / monitoring the internal state of the vaporizer 10 through the pressure gauge 8.
앞서 설명한 바와 같이 구성된 액체원료 공급장치는 혼합공정시에 혼합기(5)의 내부압력이 가압가스의 압력과 동일하게 유지되고, 이런 가압상태의 혼합원료는 기화기(10)를 통해 진공배기로 배출되는 과정을 거치는 데, 이 때 가압상태의 액체원료가 진공상태의 기화기(10)로 순간 공급되면서 기화기(10)의 기화효율이상의 오버플로우(over-flow)가 발생하여 기화기(10)의 내부압력이 약 10∼15torr이상 계속적으로 증가한다. 즉, 초과 공급된 액체원료는 완전하게 기화되지 못하고 기화기(10)의 내부에서 열분해되거나 클로깅(clogging)된다. 그러나, 기화기는 20∼100torr압력범위내에서 사용되기 때문에 이러한 초기 압력상승은 기화기의 수명에 치명적이다.In the liquid raw material supply device configured as described above, the internal pressure of the mixer 5 is maintained to be equal to the pressure of the pressurized gas during the mixing process, and the mixed raw material in such a pressurized state is discharged to the vacuum exhaust through the vaporizer 10. In this process, the pressurized liquid raw material is instantaneously supplied to the vacuum vaporizer 10 so that an overflow pressure of the vaporizer 10 is greater than the vaporization efficiency, so that the internal pressure of the vaporizer 10 is increased. It increases continuously over about 10-15torr. That is, the excess liquid material is not completely vaporized but is pyrolyzed or clogged inside the vaporizer 10. However, since the carburetor is used in the pressure range of 20 to 100 torr, this initial pressure increase is fatal to the life of the carburetor.
또한, 종래기술의 액체원료 공급장치에 있어서, 기화기(10)의 사용주기에 맞춰 유지보수를 하고자 할 경우에는 액체유량 제어기(2∼4)로부터 혼합기(5)까지의 액체원료는 버려진다. 이 때, 버려지는 원료량은 약 7∼8cc로서, 액체원료 공급장치를 안정화시키는 데 소모되는 액체원료를 감안하면 그 소모량이 매우 커서 액체원료의 가격적인 측면에서 볼 때 매우 비경제적이다.In addition, in the liquid raw material supply apparatus of the prior art, when the maintenance is to be performed in accordance with the use period of the vaporizer 10, the liquid raw material from the liquid flow controllers 2 to 4 to the mixer 5 is discarded. At this time, the amount of raw materials discarded is about 7 to 8 cc, and considering the liquid raw materials consumed to stabilize the liquid raw material supply device, the consumption is very large, which is very uneconomical in view of the price of the liquid raw materials.
따라서, 본 발명은 앞서 설명한 바와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 과도한 액체원료의 기화기로의 공급을 방지하여 급격한 압력상승을 방지함으로써 기화기의 수명을 연장하고 클로깅을 억제하는 액체원료 공급장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the problems of the prior art as described above, to prevent excessive pressure rise by preventing excessive supply of liquid raw material to the carburetor to extend the life of the carburetor and to suppress clogging liquid The purpose is to provide a raw material feeder.
도 1은 종래기술에 따른 액체원료 공급장치의 블록도이고,1 is a block diagram of a liquid raw material supply device according to the prior art,
도 2는 본 발명의 한 실시예에 따른 액체원료 공급장치의 블록도.Figure 2 is a block diagram of a liquid raw material supply apparatus according to an embodiment of the present invention.
♠ 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ♠♠ Explanation of symbols on the main parts of the drawing ♠
10 : 기화기 11∼14 : 액체유량 제어기10: vaporizer 11-14: liquid flow controller
15 : 혼합기 16, 21 : 3방향밸브15: Mixer 16, 21: 3-way valve
17 : 수송가스 공급원 18 : 압력게이지17: transport gas source 18: pressure gauge
22 : 완충기 23 : 조절밸브22: shock absorber 23: control valve
위와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따르면, 공급되는 다수의 액체원료 및 액체용매의 유량을 제어하는 다수의 액체유량 제어기와, 상기 액체유량 제어기에서 유량이 제어된 액체원료를 혼합하는 혼합기와, 상기 액체용매를 기화기의 내부로 공급하여 기화기의 내부를 세척하거나 상기 혼합기에서 혼합된 액체원료를 공급하는 3방향밸브와, 상기 액체원료가 원활하게 공급될 수 있도록 기화기에 수송가스를 공급하는 수송가스 공급원 및, 상기 기화기로 공급되는 액체원료의 공급압력을 측정하는 압력게이지를 포함하는 유기화합물 화학기상 증착방법에 사용되는 액체연료 공급장치에 있어서, 상기 혼합기와 3방향밸브의 사이에는 상기 혼합기에서 혼합된 액체원료를 상기 기화기의 진공배기와 연결하여 진공배기와 상기 혼합기간의 압력차에 의한 액체원료의 순간배출을 억제하는 액체원료 공급억제장치가 설치되어 있다.According to the present invention for achieving the above object, a plurality of liquid flow rate controller for controlling the flow rate of the plurality of liquid raw materials and the liquid solvent supplied, a mixer for mixing the flow rate controlled liquid raw material in the liquid flow rate controller, Three-way valve for supplying the liquid solvent to the inside of the carburetor to wash the inside of the carburetor or supply the mixed liquid material in the mixer, and a transport gas for supplying a transport gas to the carburetor so that the liquid material can be smoothly supplied A liquid fuel supply apparatus for use in an organic compound chemical vapor deposition method comprising a supply source and a pressure gauge for measuring a supply pressure of a liquid raw material supplied to the vaporizer, wherein the mixer is mixed between the mixer and a three-way valve in the mixer. The prepared liquid raw material to the vacuum exhaust of the vaporizer and the pressure difference between the vacuum exhaust and the mixing period. A liquid raw material supply suppressing device is provided for suppressing the instantaneous discharge of the liquid raw material.
그리고, 상기 액체원료 공급억제장치는 상기 혼합기와 3방향밸브에 연결되는 다른 3방향밸브와, 상기 다른 3방향밸브에 연결되어 상기 진공배기와 혼합기간의 압력차에 의한 액체원료의 순간배출을 억제하도록 액체원료를 수용하는 완충기 및, 상기 완충기의 압력상태를 조절하는 조절밸브로 구성되어 있다.The liquid raw material supply suppression device is connected to the other three-way valve and the other three-way valve connected to the mixer and three-way valve to suppress the instantaneous discharge of the liquid raw material by the pressure difference between the vacuum exhaust and the mixing period And a buffer for accommodating the liquid raw material, and a control valve for adjusting the pressure of the buffer.
아래에서, 본 발명에 따른 액체원료 공급장치의 양호한 실시예를 첨부한 도면을 참조로 하여 상세히 설명하겠다.In the following, with reference to the accompanying drawings a preferred embodiment of the liquid raw material supply apparatus according to the present invention will be described in detail.
도면에서, 도 2는 본 발명의 한 실시예에 따른 액체원료 공급장치의 블록도이다.2 is a block diagram of a liquid raw material supply apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 2에 보이듯이, 본 발명의 액체원료 공급장치는, 공급되는 액체원료 및 액체용매의 유량을 제어하는 다수의 액체유량 제어기(11∼14)와, 이런 액체유량 제어기(12∼14)에서 유량이 제어된 서로 다른 액체원료를 혼합하는 혼합기(15)와, 이런 혼합기(15)에서 혼합된 액체원료를 기화기(10)의 진공배기와 연결하여 진공배기와 혼합기(15)간의 압력차에 의한 액체원료의 순간배출을 억제하는 액체원료 공급억제장치와, 액체용매를 기화기(10) 내부로 공급하여 기화기(10)의 내부를 세척하거나 억제된 액체원료를 공급하는 3방향밸브(16)와, 상기 액체원료가 원활하게 공급될 수 있도록 기화기(10)에 수송가스를 공급하는 수송가스 공급원(17) 및, 상기 기화기(10)로 공급되는 액체원료의 공급압력을 측정하는 압력게이지(18)로 구성되어 있다.As shown in Fig. 2, the liquid raw material supply apparatus of the present invention includes a plurality of liquid flow controllers 11 to 14 for controlling the flow rates of the liquid raw material and the liquid solvent to be supplied, and the flow rates at the liquid flow controllers 12 to 14, respectively. The mixer 15 for mixing the controlled different liquid raw materials and the liquid raw material mixed in the mixer 15 are connected to the vacuum exhaust of the vaporizer 10 so that the liquid by the pressure difference between the vacuum exhaust and the mixer 15 is mixed. A liquid raw material supply suppression apparatus for suppressing instant discharge of raw materials, a three-way valve 16 for supplying a liquid solvent into the vaporizer 10 to clean the interior of the vaporizer 10 or supplying a suppressed liquid raw material, and It consists of a transport gas supply source 17 for supplying a transport gas to the vaporizer 10 so that the liquid material can be smoothly supplied, and a pressure gauge 18 for measuring the supply pressure of the liquid material supplied to the vaporizer 10 It is.
상기 액체원료 공급억제장치는, 상기 혼합기(15)와 3방향밸브(16)에 연결되는 다른 3방향밸브(21)와, 이런 3방향밸브(21)에 연결되어 진공배기와 혼합기(15)간의 압력차에 의한 액체원료의 순간배출을 억제하는 완충기(22) 및 조절밸브(23)로 구성되어 있다. 이 때, 액체원료 공급억제장치의 3방향밸브(21)와 진공배기를 직접 연결하면 3방향밸브(21)를 사이로 가압상태와 저진공상태가 유지되기 때문에, 3방향밸브(21)를 개방하자마자 혼합기(15) 내부의 액체원료가 완전히 진공배기로 배출되는 데, 이를 막기 위해 3방향밸브(21)와 진공배기의 사이에 액체원료를 수용할 수 있는 완충기(22)와, 이런 완충기(22)의 압력상태를 조절할 수 있는 조절밸브(23)를 추가로 설치하는 것이다.The liquid raw material supply suppression device is connected to the mixer (15) and the three-way valve (16), and the three-way valve (21) connected between the vacuum exhaust and the mixer (15) It consists of a shock absorber 22 and a control valve 23 for suppressing the instantaneous discharge of the liquid raw material by the pressure difference. At this time, if the 3-way valve 21 and the vacuum exhaust of the liquid raw material supply suppression device are directly connected, the pressurized state and the low vacuum state are maintained between the 3-way valve 21, so as soon as the 3-way valve 21 is opened. The liquid raw material inside the mixer 15 is completely discharged to the vacuum exhaust, and the shock absorber 22 capable of accommodating the liquid raw material between the three-way valve 21 and the vacuum exhaust to prevent this, and such a buffer 22 To install a control valve 23 that can adjust the pressure of the state.
이와 같이 구성된 액체원료 공급장치에 사용되는 액체원료는 가압가스인 질소/헬륨가스에 의해 일정한 압력으로 가압된 상태에서 원료공급라인을 통해 액체유량 제어기(12∼14)에 각각 공급된다. 그리고, 다른 액체유량 제어기(11)에는 혼합기(15)의 내부를 세척하는 액체용매가 공급된다. 이 때, 액체공급라인 내부에는 필터가 설치되어 있는 데, 이런 필터에 의해 액체원료 및 액체공급라인 내부에 존재하는 불순물들이 제거되어 정제된 액체원료가 액체유량 제어기(12∼14)에 각각 공급된다.The liquid raw materials used in the liquid raw material supply device configured as described above are respectively supplied to the liquid flow controllers 12 to 14 through the raw material supply line in a state of being pressurized at a constant pressure by nitrogen / helium gas, which is a pressurized gas. The other liquid flow controller 11 is supplied with a liquid solvent for washing the inside of the mixer 15. At this time, a filter is provided inside the liquid supply line. The filter removes impurities present in the liquid raw material and the liquid supply line, and the purified liquid raw material is supplied to the liquid flow controllers 12 to 14, respectively. .
이렇게 액체유량 제어기(12∼14)에 공급된 액체원료는 필요한 양만큼씩 혼합기(15)에 공급되어 불균일한 상태로 혼합된다. 즉, 액체원료는 증착되는 박막의 조성상태와 액체원료의 특성(mole fraction 등등)을 고려하여 액체유량 제어기(12∼14)로부터 공급되어 혼합기(15)의 내부에서 혼합된다. 이런 혼합기(15)에서 액체원료를 효과적으로 혼합할 수 있도록 혼합기(15)의 외부에 진동발생장치를 설치하기도 한다.The liquid raw materials supplied to the liquid flow rate controllers 12 to 14 are supplied to the mixer 15 in necessary amounts and mixed in a non-uniform state. That is, the liquid raw material is supplied from the liquid flow controllers 12 to 14 in consideration of the composition state of the thin film to be deposited and the characteristics (mole fraction, etc.) of the liquid raw material and mixed in the mixer 15. In order to effectively mix the liquid raw materials in the mixer 15, a vibration generating device may be installed outside the mixer 15.
이 때, 혼합기(15)에 초기 공급되는 액체원료는 가압된 상태이기 때문에 진공배기를 통해 일정 압력으로 감압시켜야 하는 데, 혼합기(15)와 진공배기라인에 연결되어 있는 액체원료 공급억제장치의 3방향밸브(21)와 완충기(22) 및 조절밸브(23)를 통해 혼합기(15)의 내부압력 및 액체원료의 압력이 감소된다.At this time, since the liquid raw material initially supplied to the mixer 15 is pressurized, the liquid raw material must be decompressed to a predetermined pressure through a vacuum exhaust, and the liquid raw material supply suppressing device connected to the mixer 15 and the vacuum exhaust line is Through the directional valve 21, the shock absorber 22 and the control valve 23, the internal pressure of the mixer 15 and the pressure of the liquid raw material are reduced.
이렇게 액체원료 공급억제장치에 의해 1차로 압력이 감소된 혼합 액체원료는 기화기(10)의 내부로 공급되는 데, 이런 기화기(10)는 진공상태이고 일정온도를 유지할 수 있는 온도제어가 가능한 상태이다. 이 때, 기화기(10)의 사용온도는 공정변수로 작용하여 박막조성 및 기화효율측면 등을 고려하여 결정된다.In this way, the mixed liquid raw material of which the pressure is primarily reduced by the liquid raw material supply suppression device is supplied into the vaporizer 10. The vaporizer 10 is in a vacuum state and is capable of temperature control to maintain a constant temperature. . At this time, the use temperature of the vaporizer 10 is determined in consideration of the thin film composition and the side of the vaporization efficiency by acting as a process variable.
이렇게 기화기(10)에 공급되어 기화된 원료는 반응챔버의 내부로 공급될 수 있도록 수송가스 공급원(17)에서 공급되는 수송가스와 기화기(10)의 내부에서 혼합된다. 이 때, 수송가스는 기화된 원료와의 혼합시에 온도차이에 따른 기화된 원료의 열화현상을 억제할 수 있도록 액체원료의 기화온도와 가능한 유사하게 제어된다. 그리고, 압력게이지(18)를 통해 기화기(10)의 내부상태를 분석/모니터링하여 시간에 따른 기화기(10)의 내부상태를 확인하게 된다.Thus, the vaporized raw material supplied to the vaporizer 10 is mixed in the interior of the vaporizer 10 with the transport gas supplied from the transport gas source 17 so as to be supplied into the reaction chamber. At this time, the transport gas is controlled as similar as possible to the vaporization temperature of the liquid raw material so as to suppress the deterioration of the vaporized raw material due to the temperature difference when mixing with the vaporized raw material. Then, the internal state of the vaporizer 10 over time is analyzed by analyzing / monitoring the internal state of the vaporizer 10 through the pressure gauge 18.
앞서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명의 액체원료 공급장치는 액체원료 공급억제장치를 통한 과도한 액체원료의 기화기로의 공급을 방지하여 급격한 압력상승을 방지함으로써 기화기의 수명을 연장시킬 수 있다.As described in detail above, the liquid raw material supply device of the present invention can prolong the life of the vaporizer by preventing excessive pressure of the liquid material from being supplied to the vaporizer through the liquid raw material supply suppression device.
또한, 본 발명의 액체원료 공급장치는 기화기의 내부로 공급되는 액체원료를정량/정압으로 유지함으로써 기화기 내부의 클로깅을 억제할 뿐만 아니라, 이런 클로깅에 의한 불순물 발생을 억제하는 효과가 있다.In addition, the liquid raw material supply device of the present invention not only suppresses clogging inside the vaporizer by keeping the liquid raw material supplied into the vaporizer at a constant / static pressure, but also has an effect of suppressing the generation of impurities due to such clogging.
또한, 본 발명의 액체원료 공급장치에 있어서, 기화기의 유지보수 및 세척시에 혼합기와 액체원료 공급억제장치의 3방향밸브사이가 독립적으로 고립되기 때문에 혼합기 내부의 혼합원료를 진공배출할 필요가 없고, 액체용매의 사용에 의한 세척시에만 혼합기의 액체원료를 배출하면 되므로 비용적 측면에서도 상대한 기대효과가 있다.In addition, in the liquid raw material supply device of the present invention, since the mixer and the three-way valve of the liquid raw material supply suppression device are isolated independently during maintenance and cleaning of the vaporizer, there is no need to evacuate the mixed raw material inside the mixer. Therefore, since the liquid raw material of the mixer needs to be discharged only when washing by the use of a liquid solvent, there is an expected effect in terms of cost.
이상에서 본 발명의 액체원료 공급장치에 대한 기술사항을 첨부도면과 함께 서술하였지만 이는 본 발명의 가장 양호한 실시예를 예시적으로 설명한 것이지 본 발명을 한정하는 것은 아니다.The technical details of the liquid raw material supply device of the present invention has been described above with the accompanying drawings, but this is only illustrative of the best embodiment of the present invention and is not intended to limit the present invention.
또한, 이 기술분야의 통상의 지식을 가진 자이면 누구나 본 발명의 기술사상의 범주를 이탈하지 않는 범위내에서 다양한 변형 및 모방이 가능함은 명백한 사실이다.In addition, it is obvious that any person skilled in the art can make various modifications and imitations without departing from the scope of the technical idea of the present invention.
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