KR100327045B1

KR100327045B1 - 코팅장비의 내부 오염 방지 장치

Info

Publication number: KR100327045B1
Application number: KR1019990067895A
Authority: KR
Inventors: 김우용
Original assignee: 황인길; 아남반도체 주식회사
Priority date: 1999-12-31
Filing date: 1999-12-31
Publication date: 2002-03-06
Also published as: KR20010066296A

Abstract

본 발명은 코팅장비의 내부 오염 방지 장치에 관한 것으로, 공기를 계속적으로 불어넣어 주는 공압부; 웨이퍼가 웨이퍼 홀더에 안착됨을 감지하여 전기 신호를 제공하고, 웨이퍼 상에 레지스트 필름이 형성되면, 전기 신호를 차단하는 메인 콘트롤러; 밸브 상태가 차단 상태에서, 메인 콘트롤러로부터 제공되는 전기 신호에 따라 차단되어 있는 밸브를 개방하고, 공압부로부터 공급되는 공기를 패스시키는 솔레노이드 밸브; 솔레노이드 밸브를 통해 공급되는 공기를 축적시킨 후, 축적된 공기를 일시적으로 밀어주는 에어 실린더; 에러 실린더로부터 공급되는 공기에 의해 코팅장비내의 차단벽면에 개방되어 있는 웨이퍼 출입문을 차단시킨다. 따라서, 코팅장비 내부의 다른 유닛(unit)으로 레지스트 용액이 튀어나가 오염되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.

Description

코팅장비의 내부 오염 방지 장치{DEVICE FOR PREVENTING THE INSIDE POLLUTION IN AN COATING EQUIPMENT}

본 발명은 코팅장비의 내부 오염 방지 장치에 관한 것으로, 특히 코팅시 발생되는 내부 오염 물질을 방지하기 위해 코팅장비내의 차단벽면에 개방되어 있는 위치에 차단막을 설치하여 셔터 개념으로 막아주며 코팅이 종료되면, 다시 개방시켜 웨이퍼의 출입을 자유롭게 해줄 수 있도록 하는 장치에 관한 것이다.

통상적으로, 반도체 웨이퍼 가공은 로트(lot) 단위의 매 반도체 웨이퍼의 표면에 여러 종류의 막을 형성시키고, 패턴 마스크를 이용하여 반도체 웨이퍼의 특정 부분을 선택적으로 깍아내는 작업을 되풀이함으로서 반도체 웨이퍼 상의 각각의 칩상에 동일한 패턴을 갖는 전자 회로를 구성해 나가는 전 과정을 지칭한다.

상술한 과정 중에서, 반도체 소자의 제조 공정에서 포토 리쏘그라피 공정을 통해 웨이퍼상에 형성되는 포토 레지스트 막은 웨이퍼상에 형성된 절연막, 전도성막 등을 목표로 하는 임의의 패턴으로 식각하기 위한 내에칭성 마스크(mask)로써 사용되는 데, 이를 위해 웨이퍼상에 레지스트(감광제)를 균일하게 도포하기 위한 코팅 장비를 필요로 한다.

여기서, 코팅 장비는 도 1에 도시된 바와 같이, 수평으로 된 웨이퍼(b)상에 레지스트를 떨어뜨린 후, 웨이퍼(b)를 고속 회전, 예로, 1000 RPM에 가까운 속도로 회전시킴으로써 웨이퍼상에 균일한 두께의 레지스트 필름(감광막:빛에 반응하여 패턴형성)을 형성하는 방식이다.

즉, 캐치컵(c) 및 스핀척(a) 위에 웨이퍼(b)를 올려놓고 진공(vacuum)으로 잡아 스핀 RPM을 조정하여 균일한 코팅을 조정하며, 이에 따라 원심력에 의하여 웨이퍼의 중심에서 바깥으로 레지스트가 뻗어나가면서 코팅되는 것이다. 그리고, 웨이퍼의 출입을 위해 플라스틱으로 형성된 차단벽면에 충분한 크기로 공간을 잘라내어 만들어 메인 암(main arm)의 이동을 자유롭게 해준다.

그러나, 코팅장비를 이용해 코팅시에, 포트 레지스트내지 또는 포트 레지스트와 백린스(backrinse)액의 혼합물질이 코팅장비내의 차단벽면에 웨이퍼의 출입을 위해 항상 개방상태(d)로 형성된 출입문으로 빠져나가 장비 내부의 다른 유닛(unit)으로 튀어나가 오염시키게 되는 문제점이 있었다.

따라서, 본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 그 목적은 코팅시 발생되는 내부 오염 물질을 방지하기 위해 코팅장비내의 차단벽면에 개방되어 있는 위치에 차단막을 설치하여 셔터 개념으로 막아주며 코팅이 종료되면, 다시 개방시켜 웨이퍼의 출입을 자유롭게 해줄 수 있도록 하는 코팅장비의 내부 오염 방지 장치를 제공함에 있다.

이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명에서 코팅장비의 내부 오염 방지 장치는 웨이퍼 홀더에 안착된 웨이퍼를 고속으로 회전시켜 웨이퍼 상에 레지스트 필름을 균일하게 형성하는 코팅장비에 있어서, 공기를 계속적으로 불어넣어 주는 공압부; 웨이퍼가 웨이퍼 홀더에 안착됨을 감지하여 전기 신호를 제공하고, 웨이퍼 상에 레지스트 필름이 형성되면, 전기 신호를 차단하는 메인 콘트롤러; 밸브 상태가 차단 상태에서, 메인 콘트롤러로부터 제공되는 전기 신호에 따라 차단되어 있는 밸브를 개방하고, 공압부로부터 공급되는 공기를 패스시키는 솔레노이드 밸브; 솔레노이드 밸브를 통해 공급되는 공기를 축적시킨 후, 축적된 공기를 일시적으로 밀어주는 에어 실린더; 에러 실린더로부터 공급되는 공기에 의해 코팅장비내의 차단벽면에 개방되어 있는 웨이퍼 출입문을 차단시키는 것을 특징으로 한다.

도 1은 기존 코팅장비를 도시한 측 단면도이며,

도 2는 본 발명에 따른 코딩장비에서 내부 오염을 방지하기 위한 장치를 도시한 측 단면도이다.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

10 : 메인 콘트롤러 20 : 공압부

30 : 솔레노이드 밸브 40 : 에어 실린더

50 : 차단 상태의 웨이퍼 출입문

50-1 : 개방 상태의 웨이퍼 출입문

a : 스핀척

b : 웨이퍼

c : 캐치컵

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 일실시예를 상세하게 설명하기로 한다.

도 1은 본 발명에 따른 코딩장비에서 내부 오염을 방지하기 위한 장치를 도시한 측 단면도로서, 회전축을 통해 스핀 모터(도시되지 않음)에 연결된 스핀척(a)과, 레지스트 용액을 담아주는 캐치컵(c) 및 스핀척(a)에 고정된 웨이퍼 홀더(도시되지 않음)에 안착된 웨이퍼(b)를 포함하는 코팅장비와, 웨이퍼(b)가 웨이퍼 홀더에 안착됨을 감지하여 전기 신호를 제공하는 메인 콘트롤러(10)와, 공기를 계속적으로 불어넣어 주는 공압부(20)와, 밸브 상태가 차단 상태에서, 메인 콘트롤러(10)로부터 제공되는 전기 신호에 따라 밸브 상태를 개방 및 차단시켜 공압부(20)로부터 공급되는 공기를 패스 및 차단시키는 솔레노이드 밸브(30)와, 솔레노이드 밸브(30)를 통해 공급되는 공기를 축적시킨 후, 축적된 공기를 일시적으로 밀어주는 에어 실린더(40)와, 에러 실린더(40)로부터 공급되는 공기에 의해 코팅장비내의 차단벽면을 차단시키는 웨이퍼 출입문(50, 50-1)으로 구성된다.

동 도면을 참조하면, 메인 콘트롤러(10)는 스핀척(a)에 의해 웨이퍼 홀더에 웨이퍼(b)가 안착(또는 탑재)됨을 감지하여 코팅장비내의 차단벽면에 항상 개방되어 있는 웨이퍼 출입문(50-1)을 차단시키기 위한 전기 신호를 솔레노이드 밸브(30)에 제공한다.

솔레노이드 밸브(30)는 항시 밸브 상태를 차단하고 있다가 메인콘트롤러(10)로부터 제공되는 전기 신호에 따라 차단되어 있는 밸브를 개방한다. 이때, 공압부(20)에서 계속적으로 공급되는 공기를 개방된 밸브를 통해 에어 실린더(40)에 공급한다.

에어 실린더(40)는 솔레노이드 밸브(30)를 통해 공급되는 공기를 축적시킨 후, 축적된 공기를 코팅장비내의 차단벽면에 항상 개방되어 있는 웨이퍼 출입문(50-1)으로 일시적으로 밀어주어 개방되어 있는 웨이퍼 출입문(50-1)을 웨이퍼 출입문(50)과 같이 차단시킨다. 여기서, 웨이퍼 출입문(50)이 차단됨에 따라 코팅장비 내부의 다른 유닛(unit)으로 레지스트 용액이 튀어나가 오염되는 것이 방지된다.

웨이퍼 출입문(50)이 차단된 후, 웨이퍼(b)의 중심 부분에 레지스트 용액을 공급시키고, 스핀 모터(도시되지 않음)로부터의 구동력에 따라 스핀척(a)이 고속으로 회전하여 웨이퍼(b) 상에 레지스트 필름을 균일하게 형성한다.

이후, 레지스트 필름이 균일하게 형성된 후, 웨이퍼(b)를 출입하기 위해 메인 콘트롤러(10)는 솔레노이드 밸브(30)에 제공되는 전기 신호를 차단한다. 이로 인해 솔레노이드 밸브(30)는 개방 상태에서 다시 차단 상태로 복귀함에 따라 공압부(20)에서 공급되는 공기를 차단시킨다.

이에 따라, 에어 실린더(40)에도 공기가 제공되지 않음에 따라 차단 상태의 웨이퍼 출입문(50)을 원래 상태인 개방 상태의 웨이퍼 출입문(50-1)으로 복귀시켜 웨이퍼(b)를 자유롭게 출입할 수 있는 것이다.

상기와 같이 설명한 본 발명은 코팅장비내의 차단벽면에 개방되어 있는 위치에 차단막을 설치하여 셔터 개념으로 막아주어 코팅장비 내부의 다른 유닛(unit)으로 레지스트 용액이 튀어나가 오염되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.

Claims

웨이퍼 홀더에 안착된 웨이퍼를 고속으로 회전시켜 상기 웨이퍼 상에 레지스트 필름을 균일하게 형성하는 코팅장비에 있어서,

공기를 계속적으로 불어넣어 주는 공압부;

상기 웨이퍼가 웨이퍼 홀더에 안착됨을 감지하여 전기 신호를 제공하고, 상기 웨이퍼 상에 레지스트 필름이 형성되면, 상기 전기 신호를 차단하는 메인 콘트롤러;

밸브 상태가 차단 상태에서, 상기 메인 콘트롤러로부터 제공되는 전기 신호에 따라 상기 차단되어 있는 밸브를 개방하고, 상기 공압부로부터 공급되는 공기를 패스시키는 솔레노이드 밸브;

상기 솔레노이드 밸브를 통해 공급되는 공기를 축적시킨 후, 축적된 공기를 일시적으로 밀어주는 에어 실린더;

상기 에러 실린더로부터 공급되는 공기에 의해 상기 코팅장비내의 차단벽면에 개방되어 있는 웨이퍼 출입문을 차단시키는 것을 특징으로 하는 코팅장비의 내부 오염 방지 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 코팅장비 내 차단벽면의 웨이퍼 출입문을 차단시킴에 따라 상기 코팅장비 내부의 다른 유닛(unit)으로 상기 레지스트 용액이 튀어나가 오염되는 것을 방지함을 특징으로 하는 코팅장비의 내부 오염 방지 장치.