KR100326533B1 - Plasma Display Panel Of High Frequency And Fabrication Method Thereof - Google Patents
Plasma Display Panel Of High Frequency And Fabrication Method Thereof Download PDFInfo
- Publication number
- KR100326533B1 KR100326533B1 KR1019990020550A KR19990020550A KR100326533B1 KR 100326533 B1 KR100326533 B1 KR 100326533B1 KR 1019990020550 A KR1019990020550 A KR 1019990020550A KR 19990020550 A KR19990020550 A KR 19990020550A KR 100326533 B1 KR100326533 B1 KR 100326533B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- high frequency
- electrode
- dielectric
- display panel
- plasma display
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 23
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 39
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
- A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
- A61L2/14—Plasma, i.e. ionised gases
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A46—BRUSHWARE
- A46B—BRUSHES
- A46B17/00—Accessories for brushes
- A46B17/06—Devices for cleaning brushes after use
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
- A61L2/26—Accessories or devices or components used for biocidal treatment
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L2202/00—Aspects relating to methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects
- A61L2202/10—Apparatus features
- A61L2202/12—Apparatus for isolating biocidal substances from the environment
- A61L2202/121—Sealings, e.g. doors, covers, valves, sluices
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L2202/00—Aspects relating to methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects
- A61L2202/10—Apparatus features
- A61L2202/15—Biocide distribution means, e.g. nozzles, pumps, manifolds, fans, baffles, sprayers
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 라이팅전압을 저감시킬 수 있는 구조를 가지는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma display panel having a structure capable of reducing the writing voltage of the plasma display panel and a method of manufacturing the same.
본 발명의 고주파 플라즈마 디스플레이 패널은 제1 기판 상에 산부와 골부를 가지는 유전체 패턴과, 유전체 패턴의 사이의 골부에서 교차하게끔 배치된 주사전극과 데이터전극을 구비하는 것을 특징으로 한다.The high frequency plasma display panel of the present invention is characterized by comprising a dielectric pattern having a peak and a valley on the first substrate, and a scan electrode and a data electrode arranged to intersect at the valley between the dielectric patterns.
본 발명에 의하면, 볼록한 형상의 유전체패턴을 이용하여 데이터전극과 방전공간 사이의 유전층 두께를 줄임으로써 라이팅전압을 낮출 수 있으므로 회로비용을 절감할 수 있게 된다.According to the present invention, by reducing the thickness of the dielectric layer between the data electrode and the discharge space by using the convex dielectric pattern, the writing voltage can be lowered, thereby reducing the circuit cost.
Description
본 발명은 플라즈마 디스플레이 장치에 관한 것으로, 특히 고주파를 이용하는 플라즈마 디스플레이 패널의 라이팅전압을 저감시킬 수 있는 구조를 가지는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma display device, and more particularly, to a plasma display panel having a structure capable of reducing a writing voltage of a plasma display panel using high frequency.
최근 들어, 대형 평판 표시장치의 필요에 따라 대면적의 평판 디스플레이로서 패널 제작이 용이한 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel; 이하, PDP라 한다)이 주목받고 있다. PDP는 통상 가스방전 현상을 이용하는 것으로 가스방전시 발생하는 진공자외선이 형광체를 발광시킴으로써 발생하는 가시광을 이용하여 화상을 표시하게 된다. 이러한 PDP는 제작 및 대면적화의 용이성, 광시야각 등의 장점을 가지고 있어 대형 벽걸이 TV(Television)로 기대되고 있다. 반면에 PDP는 발광휘도 및 발광효율이 낮은 단점을 가지고 있다.Recently, a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP), which is easy to manufacture a panel as a large-area flat panel display, is drawing attention as a large flat panel display needs. The PDP generally uses a gas discharge phenomenon to display an image using visible light generated by vacuum ultraviolet rays generated during gas discharge to emit phosphors. These PDPs are expected to be large wall-mounted TVs (Television) because they have advantages such as ease of manufacture, large area, and wide viewing angle. On the other hand, PDP has the disadvantage of low luminous luminance and luminous efficiency.
PDP는 통상 매트릭스 형태의 색화소에 대응되는 방전셀들을 구성으로 한다. 이러한 방전셀들 각각은 어드레스방전에 의해 선택된 후 계속적인 유지방전에 의해 발생된 진공 자외선이 형광체를 발광시킴으로써 가시광을 방출하게 된다. 이 경우PDP는 유지방전기간, 즉 유지방전 횟수를 조절하여 영상 표시에 필요한 단계적인 밝기(Gray Scale)를 표시하게 된다. 유지방전 횟수는 PDP의 발광휘도 및 발광효율을 결정하는 중요한 요소가 되고 있다. 그런데, 기존의 저주파 AC 전압을 이용하여 유지방전을 발생시키는 경우 유지 방전은 인가되는 전압펄스마다 짧은 순간에 1번씩만 발생하고 그 외의 대부분 시간은 벽전하 형성 및 다음 방전을 위한 준비단계로 소비됨으로써 PDP의 발광휘도 및 발광효율은 낮을 수밖에 없었다.The PDP is usually composed of discharge cells corresponding to matrix pixels. Each of these discharge cells is selected by the address discharge, and the vacuum ultraviolet rays generated by the sustain discharge discharge the phosphor to emit visible light. In this case, the PDP adjusts the sustain discharge period, that is, the number of sustain discharges, to display the gray scale required for displaying an image. The number of sustain discharges is an important factor in determining the luminous luminance and luminous efficiency of the PDP. However, when the sustain discharge is generated using the existing low frequency AC voltage, the sustain discharge is generated only once at a short time for each applied voltage pulse, and most of the other time is consumed as a step for forming wall charges and preparing for the next discharge. The light emission luminance and light emission efficiency of the PDP were inevitably low.
이러한 PDP의 낮은 발광휘도 및 발광효율 문제를 해결하고자 최근에는 고주파전압을 유지전압으로 인가하는 방법이 도입되었다. 보통 수 MHz 내지 수백 MHz 대의 고주파전압을 인가하게 되는 경우 방전셀의 내부에 진동전계가 발생하여 전자가 진동운동을 하면서 방전가스를 연속적으로 이온화시키고 여기시킴으로써 거의 대부분의 방전시간동안 전자의 소멸없이 연속적인 방전, 즉 고주파방전이 발생하게 된다. 이러한 고주파 방전은 글로우 방전에서 전극간의 거리가 긴 경우 방전효율이 매우 높은 양광주(Positive Column)와 같은 물리적인 효과를 갖게 된다. 이에 따라, 고주파 방전을 이용하는 경우 PDP의 방전효율을 현저하게 향상시킬 수 있는 장점이 있다.In order to solve the low luminous luminance and luminous efficiency problems of the PDP, a method of applying a high frequency voltage as a sustain voltage has recently been introduced. When a high frequency voltage of several MHz to several hundred MHz is applied, a vibrating electric field is generated inside the discharge cell, and electrons are continuously vibrated to ionize and excite the discharge gas as it vibrates, thereby continuously discharging the electrons for most of the discharge time. Discharge, that is, high frequency discharge occurs. The high frequency discharge has a physical effect such as a positive column having a very high discharge efficiency when the distance between the electrodes is long in the glow discharge. Accordingly, there is an advantage that can significantly improve the discharge efficiency of the PDP when using a high frequency discharge.
도 1 및 도 2를 참조하면, 고주파 PDP에 대한 사시도 및 단면도가 도시되어 있다.1 and 2, a perspective view and a cross-sectional view of a high frequency PDP is shown.
도 1 및 도 2에 있어서 고주파를 이용한 PDP는 상부기판(10) 상에 형성된 고주파전극(12)과, 하부기판(14)에 배치된 어드레스전극(16) 및 주사전극(20)을 구비한다. 상부기판(10)과 하부기판(14)은 격벽(26)에 의해 평행하게 이격되고, 상부기판(10)에는 고주파전압이 인가되는 고주파전극(12)이 형성된다. 고주파전극(12)이 형성된 상부기판(10) 상에는 제1 유전체층(13)이 도포된다. 하부기판(14) 상에는 서로 교차하는 방향으로 어드레스전극(16)과 주사전극(20)이 형성된다. 여기서, 주사전극(20)은 상기 고주파전극(12)과 나란하게 형성된다. 어드레스전극(16)과 주사전극(20) 사이에는 제2 유전체층(18)이 형성되고, 주사전극(20)이 형성된 제2 유전체층(18) 상에는 제3 유전체층(22)과 보호막(24)이 순차적으로 형성된다. 보호막(24)의 상부에는 격벽(26)이 형성되고, 그 격벽(26)의 표면에는 형광체(28)가 도포된다. 이 경우, 격벽(26)은 고주파방전을 위해 두 전극, 즉 고주파전극(12)과 주사전극(20) 사이의 거리가 충분히 확보되어야 하므로 보다 높게 설정되게 된다. 이에 따라, 방전셀간의 크로스토크 현상을 방지하기 위하여 격벽(26)은 격자형태로 형성되어 방전공간을 방전셀 단위로 분리시키게 된다. 그리고, 내부의 방전공간에는 방전가스가 충진되게 된다. 이러한 PDP에 매트릭스 형태로 구성되는 방전셀 각각은 어드레스전극(16)에 데이터신호가 공급됨과 아울러 주사전극(20)에 주사신호가 공급되면 어드레스방전이 발생하게 되고, 이 어드레스방전에 의해 생성된 하전입자들은 고주파전극(12)에 공급되는 고주파전압에 의해 고주파전극(12)과 주사전극(20) 사이에서 이온은 움직이지 못하고 전자만이 두 전극(12, 20)까지 끌려가지 않은 상태로 진동운동을 하게 된다. 이렇게, 진동운동을 하는 전자들은 방전가스를 연속적으로 이온화 및 여기시키게 되고 여기된 원자 및 분자가 기저상태로 천이하면서 진공자외선을 방출하여 형광체(28)를 발광시킴으로써 가시광을 방출하게 된다.1 and 2, the PDP using high frequency includes a high frequency electrode 12 formed on the upper substrate 10, an address electrode 16 and a scanning electrode 20 disposed on the lower substrate 14. The upper substrate 10 and the lower substrate 14 are spaced apart in parallel by the partition 26, and the upper substrate 10 is formed with a high frequency electrode 12 to which a high frequency voltage is applied. The first dielectric layer 13 is coated on the upper substrate 10 on which the high frequency electrode 12 is formed. The address electrode 16 and the scan electrode 20 are formed on the lower substrate 14 in a direction crossing each other. Here, the scan electrode 20 is formed in parallel with the high frequency electrode 12. The second dielectric layer 18 is formed between the address electrode 16 and the scan electrode 20, and the third dielectric layer 22 and the passivation layer 24 are sequentially formed on the second dielectric layer 18 on which the scan electrode 20 is formed. Is formed. The partition wall 26 is formed on the upper part of the protective film 24, and the fluorescent substance 28 is apply | coated to the surface of the partition wall 26. As shown in FIG. In this case, the partition wall 26 is set higher because the distance between the two electrodes, that is, the high frequency electrode 12 and the scan electrode 20, must be sufficiently secured for the high frequency discharge. Accordingly, in order to prevent crosstalk between discharge cells, the partition wall 26 is formed in a lattice shape to separate the discharge space in units of discharge cells. Then, the discharge gas is filled in the discharge space therein. Each of the discharge cells having a matrix form in the PDP generates an address discharge when a data signal is supplied to the address electrode 16 and a scan signal is supplied to the scan electrode 20. All particles vibrate in a state in which ions do not move between the high frequency electrode 12 and the scan electrode 20 and only electrons are not attracted to the two electrodes 12 and 20 by the high frequency voltage supplied to the high frequency electrode 12. Will be In this manner, the vibrating electrons ionize and excite the discharge gas continuously, and emit visible light by emitting vacuum ultraviolet rays and emitting phosphor 28 while the excited atoms and molecules transition to the ground state.
이러한 고주파 PDP 구조에서 어드레스전극(16)과 주사전극(20)이 같은 하부기판(14) 쪽에 순차적으로 형성됨에 따라 어드레스전극(16) 위에는 도 3에 도시된 바와 같이 제2 및 제3 유전체층(18, 22)이 형성된다. 이로 인하여, 고주파 PDP는 구조적으로 어드레스전극(16) 위의 유전체층(18, 22)의 두께(t)가 종래의 저주파 AC형 PDP의 유전체층 두께보다 약 2배 정도 두꺼울 수밖에 없게 되었다. 이 경우, 두꺼운 유전체층(18, 22)에 의해 어드레스전극(16)으로부터 방전공간에 인가되는 전압이 보다 많이 흡수됨으로써 방전공간에 인가되는 전압이 낮아질 수밖에 없다. 이에 따라, 방전공간에서 확실한 어드레스방전을 발생시키기 위해서는 두꺼운 유전체층(18, 22)에서 흡수되는 량을 감안하여 어드레스전극(16)에 보다 높은 데이터전압을 인가하거나 주사전극(20)에 보다 높은 주사전압을 인가하여야만 한다. 이 결과, 종래의 고주파 PDP는 구조적으로 어드레스방전을 위한 라이팅 전압이 높게 인가되어야만 하므로 회로비용이 커지는 문제점을 안고 있다.As the address electrode 16 and the scan electrode 20 are sequentially formed on the same lower substrate 14 in the high frequency PDP structure, the second and third dielectric layers 18 are disposed on the address electrode 16 as shown in FIG. 3. , 22). As a result, the high frequency PDP has a structure in which the thickness t of the dielectric layers 18 and 22 on the address electrode 16 is about twice as thick as that of the conventional low frequency AC type PDP. In this case, since the voltage applied to the discharge space from the address electrode 16 is absorbed more by the thick dielectric layers 18 and 22, the voltage applied to the discharge space is inevitably lowered. Accordingly, in order to generate a reliable address discharge in the discharge space, a higher data voltage is applied to the address electrode 16 or a higher scan voltage is applied to the scan electrode 20 in consideration of the amount absorbed by the thick dielectric layers 18 and 22. Must be approved. As a result, the conventional high frequency PDP has a problem in that the circuit cost becomes large because the lighting voltage for address discharge must be applied structurally.
따라서, 본 발명의 목적은 방전공간과 어드레스전극 사이의 유전체층의 두께를 줄임으로써 어드레스방전을 위한 라이팅전압을 낮출 수 있도록 하는 고주파 PDP와 그 제조방법을 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a high frequency PDP and a method of manufacturing the same, which can reduce the writing voltage for address discharge by reducing the thickness of the dielectric layer between the discharge space and the address electrode.
본 발명의 다른 목적은 주사전극과 어드레스전극의 높이를 같게하여 두 전극간의 방전거리를 줄임으로써 라이팅전압을 낮출 수 있도록 하는 고주파 PDP와 그 제조방법을 제공하는 것이다.It is another object of the present invention to provide a high frequency PDP and a method of manufacturing the same which can reduce the writing voltage by reducing the discharge distance between the two electrodes by making the height of the scan electrode and the address electrode the same.
도 1은 종래의 고주파 플라즈마 디스플레이 패널을 나타내는 사시도.1 is a perspective view showing a conventional high frequency plasma display panel.
도 2는 도 1에 도시된 플라즈마 디스플레이 패널의 단면도.FIG. 2 is a cross-sectional view of the plasma display panel shown in FIG. 1. FIG.
도 3은 도 1에 도시된 플라즈마 디스플레이 패널에 구성되는 방전셀을 나타내는 단면도.3 is a cross-sectional view showing a discharge cell formed in the plasma display panel shown in FIG.
도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 고주파 플라즈마 디스플레이 패널을 나타내는 단면도.4 is a cross-sectional view illustrating a high frequency plasma display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 5a 내지 도 5e는 도 4에 도시된 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 단계적으로 나타내는 단면도.5A through 5E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the plasma display panel shown in FIG. 4 in stages.
도 6은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 고주파 플라즈마 디스플레이 패널을 나타내는 단면도.6 is a cross-sectional view showing a high frequency plasma display panel according to another embodiment of the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 간단한 설명><Brief description of symbols for the main parts of the drawings>
10 : 상부기판 12 : 고주파전극10: upper substrate 12: high frequency electrode
13 : 상부 유전체층 14, 30 : 하부기판13: upper dielectric layer 14, 30: lower substrate
16, 34, 46 : 어드레스전극 18, 36, 48 : 제1 유전체층16, 34, 46: address electrodes 18, 36, 48: first dielectric layer
20, 38 : 주사전극 22, 40 : 제2 유전체층20, 38: scanning electrode 22, 40: second dielectric layer
24 : 보호층 26, 42 : 격벽24: protective layer 26, 42: partition wall
28 : 형광체 32, 44 : 유전체 패턴28: phosphor 32, 44: dielectric pattern
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 고주파 PDP는 제1 기판 상에 산부와 골부를 가지는 유전체 패턴과, 유전체 패턴의 사이의 골부에서 교차하게끔 배치된 주사전극과 데이터전극을 구비하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the high frequency PDP according to the present invention includes a dielectric pattern having a peak and a valley on the first substrate, and a scan electrode and a data electrode arranged to intersect at the valley between the dielectric patterns. do.
본 발명에 따른 고주파 PDP 제조방법은 제1 기판 상에 산부와 골부를 가지는 유전체 패턴이 형성되는 단계와, 유전체 패턴의 사이의 골부에서 교차하게끔 데이터전극과 주사전극을 순차적으로 형성되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.A method of manufacturing a high frequency PDP according to the present invention includes forming a dielectric pattern having a peak and a valley on a first substrate, and sequentially forming a data electrode and a scan electrode to intersect at the valley between the dielectric patterns. It is characterized by.
상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 이점들은 첨부 도면을 참조한 본 발명의 바람직한 실시 예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and advantages of the present invention in addition to the above object will be apparent from the description of the preferred embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 도 4 내지 도 6을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 4 to 6.
도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 고주파 PDP의 하판에 대한 단면도를 나타내는 것으로서, 도 4에 도시된 고주파 PDP의 하판은 하부기판(30) 상에 순차적으로 형성된 유전체 패턴(32)과 데이터전극(34) 및 제1 유전체층(36)과, 제1 유전체층(36) 위에 데이터전극(34)과 직교하게 형성된 주사전극(38)과, 주사전극(38)이 형성된 제1 유전체층(36) 위에 형성된 제2 유전체층(40)과, 제2 유전체층(40) 위에 형성된 격벽(42)을 구비한다.4 is a cross-sectional view of a lower plate of the high frequency PDP according to an embodiment of the present invention. The lower plate of the high frequency PDP shown in FIG. 4 is a dielectric pattern 32 and a data electrode formed sequentially on the lower substrate 30. 34 and the first dielectric layer 36, the scan electrode 38 formed on the first dielectric layer 36 orthogonal to the data electrode 34, and the first dielectric layer 36 formed on the scan electrode 38. The second dielectric layer 40 and the partition 42 formed on the second dielectric layer 40 are provided.
도 4의 고주파 PDP에서 유전체 패턴(32)은 볼록한 형상으로 일정한 간격을 유지하여 하부기판(30) 상에 형성된다. 데이터전극(34)은 유전체 패턴(32)이 형성된 하부기판(30) 상에 균일한 두께로 형성된다. 이 경우, 하부의 유전체 패턴(32)이 일정한 간격으로 볼록한 형상을 가지고 있으므로 데이터전극(34)은 산과 골을 구조를 가지게 된다. 이러한 산/골 구조를 가지는 데이터전극(34)을 포함하여 전면 도포되는 제1 유전체층(36) 또한 데이터전극(34)과 동일한 형상의 산/골 구조를 가지게 된다. 이 경우, 제1 유전체층(36)의 골부위는 데이터전극(34)의 골부위보다 오목한 정도가 완만해지게 된다. 주사전극(38)은 보다 완만해진 제1 유전체층(36)의 골부위에 데이터전극(34)과 직교하는 방향으로 형성된다. 제2 유전체층(40)은 주사전극(38)이 형성된 제2 유전체층(40) 위에 평탄한 표면을 가지도록 형성된다. 이 경우, 데이터전극(34)의 산부분 위에 형성되는 제1 및 제2 유전체층(36, 40)의 두께(t')가 종래에 비하여 얇아질 수 있게 된다. 이렇게, 데이터전극(34) 위의 제1 및 제2 유전체층(36, 40)의 두께(t')가 종래보다 얇아짐에 따라 데이터전극(34)으로부터 방전공간(41)에 전달되는 전압 흡수량이 줄어들게 되므로 그 만큼 라이팅전압을 낮출 수 있게 된다. 격벽(42)은 데이터전극(34)과 제1 유전체층(36)의 산부위가 위치하는 제2 유전체층(40) 위에 형성된다.In the high frequency PDP of FIG. 4, the dielectric pattern 32 is formed on the lower substrate 30 at regular intervals in a convex shape. The data electrode 34 is formed to have a uniform thickness on the lower substrate 30 on which the dielectric pattern 32 is formed. In this case, since the lower dielectric pattern 32 has a convex shape at regular intervals, the data electrode 34 has a hill and valley structure. The first dielectric layer 36 coated on the front surface including the data electrode 34 having the mountain / valley structure also has a mountain / valley structure having the same shape as the data electrode 34. In this case, the valley portion of the first dielectric layer 36 becomes more concave than the valley portion of the data electrode 34. The scan electrode 38 is formed in a direction perpendicular to the data electrode 34 on the valley portion of the first dielectric layer 36 that is smoother. The second dielectric layer 40 is formed to have a flat surface on the second dielectric layer 40 on which the scan electrode 38 is formed. In this case, the thickness t 'of the first and second dielectric layers 36 and 40 formed on the acid portion of the data electrode 34 may be thinner than in the related art. Thus, as the thickness t 'of the first and second dielectric layers 36 and 40 on the data electrode 34 becomes thinner than before, the amount of voltage absorption transmitted from the data electrode 34 to the discharge space 41 is increased. Since it decreases, the lighting voltage can be lowered by that much. The partition wall 42 is formed on the second dielectric layer 40 where the acid electrodes of the data electrode 34 and the first dielectric layer 36 are positioned.
도 5a 내지 도 5e는 도 4에 도시된 PDP 하판 제조방법을 단계적으로 나타내는 단면도이다.5A through 5E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a PDP lower plate shown in FIG. 4 in steps.
우선, 도 5a에 도시된 바와 같이 하부기판(30) 상에 유전체 패턴(32)을 형성하게 된다. 유전체 패턴(32)은 스트라이프(Stripe)형 패턴이 형성된 마스크를 이용하여 스크린프린팅 방법을 반복함으로써 형성하게 된다. 이 경우, 스크린프린팅 방법을 반복하는 경우 에지부분의 유전체가 무너지게 되므로 결과적으로 유전체 패턴(32)은 볼록한 형상으로 하부기판(30) 상에 형성되게 된다. 그 다음, 도 5b에 도시된 바와 같이 유전체 패턴(32)이 형성된 하부기판(30) 상에 데이터전극(34)을 형성하게 된다. 데이터전극(34)은 통상 스퍼터링 방법에 의해 유전체 패턴(32)이 형성된 하부기판(30) 상에 유전체 패턴(32)을 가로지르는 방향으로 형성된다. 이 경우, 데이터전극(34)은 볼록한 형상의 유전체 패턴(32)에 대응하여 산과 골을 구조를 가지게 된다. 이어서, 도 5c에 도시된 바와 같이 데이터전극(34) 위에 제1 유전체층(36)이 전면도포된다. 제1 유전체층(36)은 통상 스크린프린팅 방법에 의해 데이터전극(34)을 포함하여 전면 도포된다. 이 경우, 제1 유전체층(36) 또한 데이터전극(34)과 동일한 산/골 구조를 가지게 된다. 그리고, 도 5d에 도시된 바와 같이 제1 유전체층(36)의 골부위에 데이터전극(34)과 직교하는 방향으로 주사전극(38)을 형성하게 된다. 주사전극(38)은 통상 스퍼터링 방법에 의해 형성된다. 끝으로, 도 5e에 도시된 바와 같이 주사전극(38)이 형성된 제1 유전체층(36) 위에 제2 유전체층(40)이 평탄한 표면을 가지도록 전면도포된다. 이 제2 유전체층(40)은 통상 스크린프린팅 방법에 의해 형성된다.First, as shown in FIG. 5A, the dielectric pattern 32 is formed on the lower substrate 30. The dielectric pattern 32 is formed by repeating the screen printing method using a mask in which a stripe pattern is formed. In this case, when the screen printing method is repeated, the dielectric at the edge portion collapses, and as a result, the dielectric pattern 32 is formed on the lower substrate 30 in a convex shape. Next, as illustrated in FIG. 5B, the data electrode 34 is formed on the lower substrate 30 on which the dielectric pattern 32 is formed. The data electrode 34 is generally formed in a direction crossing the dielectric pattern 32 on the lower substrate 30 on which the dielectric pattern 32 is formed by a sputtering method. In this case, the data electrode 34 has a peak and valley structure corresponding to the convex dielectric pattern 32. Subsequently, as shown in FIG. 5C, the first dielectric layer 36 is coated over the data electrode 34. The first dielectric layer 36 is generally coated on the entire surface including the data electrode 34 by a screen printing method. In this case, the first dielectric layer 36 also has the same acid / valley structure as the data electrode 34. As shown in FIG. 5D, the scan electrode 38 is formed on the valley of the first dielectric layer 36 in a direction orthogonal to the data electrode 34. The scan electrode 38 is usually formed by a sputtering method. Finally, as shown in FIG. 5E, the second dielectric layer 40 is coated over the entire surface of the first dielectric layer 36 on which the scan electrodes 38 are formed. This second dielectric layer 40 is usually formed by a screen printing method.
도 6은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 고주파 PDP의 하판에 대한 단면도를 나타내는 것으로서, 도 6에 도시된 고주파 PDP의 하판은 도 4에 도시된 유전체 패턴(32)과 다른 형상을 가지는 유전체 패턴(44)을 구비한다.6 is a cross-sectional view of a lower plate of the high frequency PDP according to another embodiment of the present invention. The lower plate of the high frequency PDP shown in FIG. 6 may have a dielectric pattern having a different shape from that of the dielectric pattern 32 shown in FIG. 44).
도 6에 도시된 고주파 PDP의 하판에서 볼록한 형상의 유전체 패턴(44)이 방전셀 내에 일정한 간격을 가지고 2개가 포함되도록 도 4에 도시된 유전체 패턴(32) 보다 작은 크기로 형성된다. 이 경우, 방전셀 사이에 인접한 두 개의 유전체 패턴(44)은 서로 인접하게 된다. 데이터전극(46)은 유전체 패턴(44)이 형성된 하부기판(30) 상에 유전체 패턴(44)을 가로질러 균일한 두께로 형성된다. 이 경우, 유전체 패턴(44)의 볼록한 형상에 대응하여 데이터전극(46)은 산과 골을 구조를 가지게 된다. 특히, 데이터전극(46)은 유전체 패턴(44)의 형상에 대응하여 방전셀 내의 중앙부에 위치하는 평탄한 골을 가지고 방전셀 사이에 위치하는 오목한 골을 가지게 된다. 이러한 산/골 구조를 가지는 데이터전극(46)을 포함하여 전면 도포되는 제1 유전체층(48)도 산/골 구조를 가지게 된다. 주사전극(38)은 제1 유전체층(48)의 평탄한 골에 데이터전극(46)과 직교하는 방향으로 형성된다. 제2 유전체층(40)은 주사전극(38)이 형성된 제1 유전체층(48) 위에 평탄한 표면을 가지도록 형성된다. 이 경우, 주사전극(38)의 양측부에 위치하고 데이터전극(46)의 산부분 위에 형성된 제1 및 제2 유전체층(48, 40)의 두께(t')가 종래에 비하여 얇아지게 됨을 알 수 있다. 이에 따라, 데이터전극(46)으로부터 방전공간(41)에 전달되는 데이터전압 흡수량이 줄어들게 되므로 그 만큼 데이터전압 또는 주사전압, 즉 라이팅 전압을 낮출 수 있게 된다. 특히, 주사전극(38)의 양측부에 위치하는 데이터전극(46)의 산부분이 주사전극(38)과 비슷한 높이를 가지게 됨으로써 두 전극(38, 46) 간의 방전거리를 줄일 수 있게 된다. 다시 말하여, 골부분의 주사전극(38)과 산부분의 데이터전극(46) 간의 거리가 방전거리가 되므로 유전체 패턴(44)의 크기를 적절하게 조절함으로써 방전거리를 줄일 수 있게 된다. 이와 같이, 두 전극(38, 46) 간의 방전거리가 줄어드는 경우 그 만큼 방전전압이 줄어들게 되므로 라이팅전압을 줄일 수 있게 된다.In the lower plate of the high frequency PDP shown in FIG. 6, the convex shape dielectric pattern 44 is formed to have a smaller size than the dielectric pattern 32 shown in FIG. 4 so that two are included at regular intervals in the discharge cell. In this case, two dielectric patterns 44 adjacent to the discharge cells are adjacent to each other. The data electrode 46 is formed to have a uniform thickness across the dielectric pattern 44 on the lower substrate 30 on which the dielectric pattern 44 is formed. In this case, corresponding to the convex shape of the dielectric pattern 44, the data electrode 46 has a hill and valley structure. In particular, the data electrode 46 has a flat valley located in the center portion of the discharge cell corresponding to the shape of the dielectric pattern 44 and has a concave valley located between the discharge cells. The first dielectric layer 48 coated on the front surface including the data electrode 46 having the acid / valley structure also has an acid / valley structure. The scan electrode 38 is formed in a direction perpendicular to the data electrode 46 in a flat valley of the first dielectric layer 48. The second dielectric layer 40 is formed to have a flat surface on the first dielectric layer 48 on which the scan electrode 38 is formed. In this case, it can be seen that the thicknesses t 'of the first and second dielectric layers 48 and 40 which are positioned at both sides of the scan electrode 38 and formed on the mountain portions of the data electrode 46 are thinner than in the related art. . As a result, the amount of absorbed data voltage transmitted from the data electrode 46 to the discharge space 41 is reduced, thereby lowering the data voltage or the scan voltage, that is, the writing voltage. In particular, since the acid portions of the data electrodes 46 positioned at both sides of the scan electrode 38 have a height similar to that of the scan electrode 38, the discharge distance between the two electrodes 38 and 46 can be reduced. In other words, since the distance between the scan electrode 38 in the valley portion and the data electrode 46 in the peak portion becomes the discharge distance, the discharge distance can be reduced by appropriately adjusting the size of the dielectric pattern 44. As such, when the discharge distance between the two electrodes 38 and 46 is reduced, the discharge voltage is reduced by that amount, thereby reducing the writing voltage.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 고주파 PDP 및 그 제조방법에 의하면 볼록한 형상의 유전체패턴을 이용하여 데이터전극과 방전공간 사이의 거리를 줄임으로써 라이팅전압을 낮출 수 있게 된다. 또한, 본 발명에 따른 고주파 PDP 및 그 제조방법에 의하면, 볼록한 형상의 유전체패턴을 이용하여 데이터전극과 주사전극 간의 방전거리를 줄임으로써 라이팅전압을 낮출 수 있게 된다. 이에 따라, 본 발명에 따른 고주파 PDP는 회로비용을 절감할 수 있게 된다.As described above, according to the high frequency PDP and the manufacturing method thereof according to the present invention, the writing voltage can be lowered by reducing the distance between the data electrode and the discharge space by using the convex dielectric pattern. In addition, according to the high frequency PDP and the method of manufacturing the same according to the present invention, the writing voltage can be reduced by reducing the discharge distance between the data electrode and the scan electrode by using the convex dielectric pattern. Accordingly, the high frequency PDP according to the present invention can reduce the circuit cost.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.
Claims (7)
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019990020550A KR100326533B1 (en) | 1999-06-03 | 1999-06-03 | Plasma Display Panel Of High Frequency And Fabrication Method Thereof |
US09/585,444 US6794820B1 (en) | 1999-06-03 | 2000-06-02 | Plasma display panel with shaped dielectric patterns |
JP2000167946A JP3454781B2 (en) | 1999-06-03 | 2000-06-05 | High frequency drive plasma display panel and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019990020550A KR100326533B1 (en) | 1999-06-03 | 1999-06-03 | Plasma Display Panel Of High Frequency And Fabrication Method Thereof |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20010001389A KR20010001389A (en) | 2001-01-05 |
KR100326533B1 true KR100326533B1 (en) | 2002-03-12 |
Family
ID=19589930
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019990020550A KR100326533B1 (en) | 1999-06-03 | 1999-06-03 | Plasma Display Panel Of High Frequency And Fabrication Method Thereof |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100326533B1 (en) |
-
1999
- 1999-06-03 KR KR1019990020550A patent/KR100326533B1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20010001389A (en) | 2001-01-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6670754B1 (en) | Gas discharge display and method for producing the same | |
US7211953B2 (en) | Plasma display device having portion where electrical field is concentrated | |
US7973477B2 (en) | Plasma display panel having a phosphor layer that is at least partly covered with a material higher in secondary electron emission and production method therefore | |
US6768261B2 (en) | Transmission type color plasma display panel | |
US20060076890A1 (en) | Plasma display panel (PDP) | |
JP2001126625A (en) | Plasma display panel | |
JP3523184B2 (en) | High frequency plasma display panel | |
KR100378618B1 (en) | Plasma Display Panel | |
KR100326533B1 (en) | Plasma Display Panel Of High Frequency And Fabrication Method Thereof | |
US7345425B2 (en) | Plasma display panel | |
KR100327352B1 (en) | Plasma Display Panel | |
JP3454781B2 (en) | High frequency drive plasma display panel and method of manufacturing the same | |
KR100696635B1 (en) | Plasma display panel and method of manufacturing the same | |
KR100324270B1 (en) | Plasma Display Panel Device Of High Frequency | |
JP3477151B2 (en) | High frequency driving plasma display panel, method of manufacturing the same, and driving device for driving the same | |
KR100326531B1 (en) | Plasma Display Panel Device | |
KR100329765B1 (en) | Plasma display panel capable of using positive column | |
KR20000009188A (en) | Plasma display panel | |
KR100312507B1 (en) | Fabrication Method Of Plasma Display Panel of High Frequency | |
KR100340443B1 (en) | Radio Frequency Plasma Display Panel | |
KR100298404B1 (en) | Plasma Display Panel | |
KR100326227B1 (en) | Plasma Display Panel Device for Radio Frequency | |
KR100444513B1 (en) | Radio Frequency Plasma Display Panel | |
KR100768045B1 (en) | Plasma Display Panel Using a High Frequency | |
KR100269396B1 (en) | Color plasma display panel |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20080102 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |