KR100312507B1 - Fabrication Method Of Plasma Display Panel of High Frequency - Google Patents
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Abstract
본 발명은 균일한 형상의 보조전극을 형성하기게 적합한 고주파 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법을 제공하는 것이다.The present invention provides a method of manufacturing a high frequency plasma display panel suitable for forming an auxiliary electrode having a uniform shape.
본 발명의 고주파 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법은 주사전극과 교차하는 데이터전극 상에서 돌출된 구조를 가지며 상기 주사전극과 평행한 방향으로 셀마다 분리되게 형성되어진 보조전극을 구비하는 고주파 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에서, 데이터전극과 보조전극을 형성하는 단계가, 임의의 기판 상에 데이터전극을 형성하는 단계와; 데이터전극이 형성된 임의의 기판 상에 금속시드층을 형성하는 단계와, 금속시드층 상에 보조전극 형상의 홀이 마련된 감광성수지패턴을 형성하는 단계와, 감광성수지패턴의 홀에 전기도금법 및 무전해도금법 중 어느 하나를 이용하여 보조전극을 형성하는 단계와, 감광성수지패턴과 그 하부의 금속시드층을 순차적으로 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the method of manufacturing a high frequency plasma display panel according to the present invention, the method of manufacturing a high frequency plasma display panel having a structure protruding on a data electrode intersecting a scan electrode and having an auxiliary electrode formed to be separated from each cell in a direction parallel to the scan electrode is provided. Forming the data electrode and the auxiliary electrode comprises: forming the data electrode on an arbitrary substrate; Forming a metal seed layer on an arbitrary substrate on which the data electrode is formed, forming a photosensitive resin pattern having holes formed in the shape of an auxiliary electrode on the metal seed layer, and performing an electroplating method and an electroless process on the holes of the photosensitive resin pattern. Forming an auxiliary electrode using any one of the plating method, and the step of sequentially removing the photosensitive resin pattern and the metal seed layer below.
이에 따라, 데이터전극 상에 균일한 형상의 보조전극을 원하는 높이로 용이하게 형성할 수 있게 된다.As a result, an auxiliary electrode having a uniform shape on the data electrode can be easily formed at a desired height.
Description
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 소자에 관한 것으로, 특히 고주파신호를 이용하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel device, and more particularly to a method of manufacturing a plasma display panel using a high frequency signal.
최근 들어, 멀티미디어용 디스플레이에 대한 요구가 증대됨에 따라 대화면 및 시야각에서 강점을 가지며 가격면에서 유리하여 가정용으로 유망한 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel; 이하, PDP라 한다) 소자에 대한 개발이 급격히 이루어지고 있다. 특히, 소자의 휘도 및 방전효율 증가에 관한 연구가 활발한 실정으로 교류(AC)형 PDP에 초점이 맞추어져 있다. 그런데, PDP는 발광휘도 및 발광효율이 낮은 단점을 가지고 있다.Recently, as the demand for multimedia displays increases, development of plasma display panel (PDP) devices that are promising for home use due to its advantages in large screens and viewing angles, and in terms of price, has been rapidly made. have. In particular, research on increasing the luminance and the discharge efficiency of the device is actively focused on AC (AC) type PDP. However, PDPs have disadvantages of low luminous luminance and luminous efficiency.
PDP는 통상 매트릭스 형태의 색화소에 대응되는 방전셀들을 구성으로 한다. 이러한 방전셀들 각각은 어드레스방전에 의해 선택된 후 계속적인 유지방전에 의해 발생된 진공 자외선이 형광체를 발광시킴으로써 가시광을 방출하게 된다. 이 경우 PDP는 유지방전기간, 즉 유지방전 횟수를 조절하여 영상 표시에 필요한 단계적인 밝기(Gray Scale)를 표시하게 된다. 유지방전 횟수는 PDP의 발광휘도 및 발광효율을 결정하는 중요한 요소가 되고 있다. 그런데, 기존의 저주파 AC 전압을 이용하여 유지방전을 발생시키는 경우 유지 방전은 인가되는 전압펄스마다 짧은 순간에 1번씩만 발생하고 그 외의 대부분 시간은 벽전하 형성 및 다음 방전을 위한 준비단계로 소비됨으로써 PDP의 발광휘도 및 발광효율은 낮을 수밖에 없었다.The PDP is usually composed of discharge cells corresponding to matrix pixels. Each of these discharge cells is selected by the address discharge, and the vacuum ultraviolet rays generated by the sustain discharge discharge the phosphor to emit visible light. In this case, the PDP adjusts the sustain discharge period, that is, the number of sustain discharges, to display the gray scale required for displaying an image. The number of sustain discharges is an important factor in determining the luminous luminance and luminous efficiency of the PDP. However, when the sustain discharge is generated using the existing low frequency AC voltage, the sustain discharge is generated only once at a short time for each applied voltage pulse, and most of the other time is consumed as a step for forming wall charges and preparing for the next discharge. The light emission luminance and light emission efficiency of the PDP were inevitably low.
이러한 PDP의 낮은 발광휘도 및 발광효율 문제를 해결하고자 최근에는 고주파전압을 유지전압으로 인가하는 방법이 도입되었다. 보통 수 MHz 내지 수백 MHz 대의 고주파전압을 인가하게 되는 경우 방전셀의 내부에 진동전계가 발생하여 전자가 진동운동을 하면서 방전가스를 연속적으로 이온화시키고 여기시킴으로써 거의 대부분의 방전시간동안 전자의 소멸없이 연속적인 방전, 즉 고주파방전이 발생하게 된다. 이러한 고주파 방전은 글로우 방전에서 전극간의 거리가 긴 경우 방전효율이 매우 높은 양광주(Positive Column)와 같은 물리적인 효과를 갖게 된다. 이에 따라, 고주파 방전을 이용하는 경우 PDP의 방전효율을 현저하게 향상시킬 수 있는 장점이 있다.In order to solve the low luminous luminance and luminous efficiency problems of the PDP, a method of applying a high frequency voltage as a sustain voltage has recently been introduced. When a high frequency voltage of several MHz to several hundred MHz is applied, a vibrating electric field is generated inside the discharge cell, and electrons are continuously vibrated to ionize and excite the discharge gas as it vibrates, thereby continuously discharging the electrons for most of the discharge time. Discharge, that is, high frequency discharge occurs. The high frequency discharge has a physical effect such as a positive column having a very high discharge efficiency when the distance between the electrodes is long in the glow discharge. Accordingly, there is an advantage that can significantly improve the discharge efficiency of the PDP when using a high frequency discharge.
도 1을 참조하면, 고주파 PDP의 셀에 대한 단면도가 도시되어 있다. 도 1의 고주파 PDP 셀은 상부기판(10) 상에 형성되는 고주파전극(12)과, 하부기판(16)에 서로 교차하도록 형성되는 어드레스전극(18) 및 주사전극(20)을 구비한다. 상부기판(10)과 하부기판(16)은 격벽(28)에 의해 평행하게 이격되게 된다. 상부기판(10) 상에 형성되는 고주파전극(12)에는 고주파신호가 공급된다. 고주파전극(12)이 형성된 상부기판(10) 상에는 제1 유전층(14)이 도포된다. 하부기판(14) 상에는 서로 교차하는 방향으로 어드레스전극(18)과 주사전극(22)이 형성된다. 여기서, 주사전극(22)은 상기 고주파전극(12)과 나란하게 형성된다. 어드레스전극(16)과 주사전극(20) 사이에는 제2 유전층(18)이 형성되고, 주사전극(22)이 형성된 제2 유전체층(18) 상에는 제3 유전체층(24)과 보호막(26)이 순차적으로 형성된다. 보호막(26)의 상부에는 격자형 격벽(28)이 형성되고, 그 격벽(28)의 표면에는형광체(30)가 도포된다. 그리고, 내부의 방전공간에는 방전가스가 충진되게 된다.1, a cross-sectional view of a cell of a high frequency PDP is shown. The high frequency PDP cell of FIG. 1 includes a high frequency electrode 12 formed on the upper substrate 10, and an address electrode 18 and a scan electrode 20 formed to cross each other on the lower substrate 16. The upper substrate 10 and the lower substrate 16 are spaced apart in parallel by the partition wall 28. A high frequency signal is supplied to the high frequency electrode 12 formed on the upper substrate 10. The first dielectric layer 14 is coated on the upper substrate 10 on which the high frequency electrode 12 is formed. The address electrode 18 and the scan electrode 22 are formed on the lower substrate 14 in a direction crossing each other. Here, the scan electrode 22 is formed in parallel with the high frequency electrode 12. The second dielectric layer 18 is formed between the address electrode 16 and the scan electrode 20, and the third dielectric layer 24 and the passivation layer 26 are sequentially formed on the second dielectric layer 18 on which the scan electrode 22 is formed. Is formed. A lattice-shaped partition wall 28 is formed on the upper portion of the protective film 26, and a phosphor 30 is coated on the surface of the partition wall 28. Then, the discharge gas is filled in the discharge space therein.
이러한 PDP 셀에서는 주사전극(22)에 주사신호가 공급되고 어드레스전극(18)에 데이터신호가 공급되면 어드레스방전이 발생하게 된다. 이 어드레스방전에 의해 생성된 하전입자들은 고주파전극(12)에 공급되는 고주파신호에 의해 고주파전극(12)과 주사전극(20) 사이에서 이온은 움직이지 못하고 전자만이 두 전극(12, 20)까지 끌려가지 않은 상태로 진동운동을 하게 된다. 이렇게, 진동운동을 하는 전자들은 방전가스를 연속적으로 이온화 및 여기시키게 되고 여기된 원자 및 분자가 기저상태로 천이하면서 진공자외선을 방출하여 형광체를 발광시킴으로써 가시광을 방출하게 된다.In such a PDP cell, when a scan signal is supplied to the scan electrode 22 and a data signal is supplied to the address electrode 18, an address discharge occurs. The charged particles generated by this address discharge do not move ions between the high frequency electrode 12 and the scan electrode 20 due to the high frequency signal supplied to the high frequency electrode 12, and only the electrons are the two electrodes 12 and 20. Vibration movement is performed without being pulled up. In this way, the vibrating electrons ionize and excite the discharge gas continuously and emit visible light by emitting vacuum ultraviolet rays and emitting phosphors while the excited atoms and molecules transition to the ground state.
그런데, 상기 고주파 PDP에서는 어드레스전극(18)과 주사전극(22)이 같은 하부기판(16)에 순차적으로 형성됨에 따라 어드레스전극(18)과 주사전극(22) 간의 절연을 위한 제2 유전층(20)이 삽입되게 된다. 이로 인하여, 고주파 PDP는 구조적으로 어드레전극(18) 위의 유전층(20, 24)의 두께가 종래의 저주파 AC형 PDP의 유전체층 두께보다 약 2배 정도 두꺼울 수밖에 없게 되었다. 이 두꺼운 유전층(20, 24)에 의해 어드레스전극(18)으로부터 방전공간에 인가되는 전압이 보다 많이 흡수됨으로써 방전공간에 인가되는 전압이 낮아질 수밖에 없다. 이에 따라, 방전공간에서 확실한 어드레스방전을 발생시키기 위해서는 상대적으로 두꺼운 유전체층(18, 22)에서의 전압강하량을 감안하여 어드레스전극(18)에 보다 높은 데이터전압을 인가하거나 주사전극(22)에 보다 높은 주사전압을 인가하여야만 한다. 이 결과, 종래의 고주파 PDP는 구조적으로 어드레스방전을 위한 라이팅 전압이 높게 인가되어야만 하므로 회로비용이 커지는 단점을 안고 있다.However, in the high frequency PDP, as the address electrode 18 and the scan electrode 22 are sequentially formed on the same lower substrate 16, the second dielectric layer 20 for insulation between the address electrode 18 and the scan electrode 22 is formed. Will be inserted. As a result, in the high frequency PDP, the thickness of the dielectric layers 20 and 24 on the address electrode 18 is about twice as thick as that of the conventional low frequency AC PDP. The thick dielectric layers 20 and 24 absorb more voltage from the address electrode 18 to the discharge space, thereby lowering the voltage applied to the discharge space. Accordingly, in order to generate a reliable address discharge in the discharge space, a higher data voltage is applied to the address electrode 18 or higher than the scan electrode 22 in consideration of the voltage drop amount in the relatively thick dielectric layers 18 and 22. Scanning voltage must be applied. As a result, the conventional high frequency PDP has a disadvantage in that the circuit cost becomes large because the lighting voltage for address discharge must be applied structurally.
이러한 단점을 해결하기 위하여, 도 2에 도시된 바와 같이 어드레스전극(18)에 주사전극(22)과 동일한 높이로 평행한 보조전극(18A)을 가지는 전극구조가 제안되어졌다. 이 경우, 보조전극(18A)의 형상에 따라 방전의 균일성이 좌우되므로 각 셀마다 보조전극이 균일한 형상을 가질 수 있게끔 정밀한 보조전극의 형성이 요구된다. 그런데, 보조전극(18A)을 통상의 전극형성방법인 스크린프린팅방법을 이용하여 형성하는 경우 보조전극(18A)의 영역이 필요이상 크게 될 수 있으므로 정밀한 보조전극 형성을 위한 공정제어에 어려움이 있다. 또한, 보조전극(18A)을 주사전극(22)과 같은 높이가 되게끔 형성하기 위해서는 적어도 4번 이상 반복 인쇄를 해야하므로 공정수가 늘어남과 아울러 보조전극(18A) 부위만 국부적으로 높기 때문에 소성시 보조전극(18A)이 무너질 가능성이 매우 높다.In order to solve this disadvantage, an electrode structure having an auxiliary electrode 18A parallel to the address electrode 18 at the same height as the scan electrode 22 has been proposed as shown in FIG. In this case, since the uniformity of discharge depends on the shape of the auxiliary electrode 18A, precise formation of the auxiliary electrode is required so that the auxiliary electrode can have a uniform shape for each cell. However, when the auxiliary electrode 18A is formed using a screen printing method, which is a conventional electrode forming method, the area of the auxiliary electrode 18A may be larger than necessary. In addition, in order to form the auxiliary electrode 18A to be the same height as the scan electrode 22, since the printing must be repeated at least four times, the number of processes increases and only the portion of the auxiliary electrode 18A is locally high. The likelihood of the electrode 18A falling down is very high.
따라서, 본 발명의 목적은 균일한 형상의 보조전극을 형성하기에 적합한 고주파 PDP 제조방법을 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a high frequency PDP suitable for forming an auxiliary electrode having a uniform shape.
도 1은 종래 고주파 플라즈마 디스플레이 패널의 셀을 나타내는 단면도.1 is a cross-sectional view showing a cell of a conventional high frequency plasma display panel.
도 2는 종래의 다른 고주파 플라즈마 디스플레이 패널의 셀을 나타내는 단면도.2 is a cross-sectional view showing a cell of another conventional high frequency plasma display panel;
도 3a 내지 도 3j는 본 발명의 실시 예에 따른 고주파 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 단계적으로 나타내는 평면도.3A to 3J are plan views illustrating a method of manufacturing a high frequency plasma display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 간단한 설명><Brief description of symbols for the main parts of the drawings>
10 : 상부기판 12 : 고주파전극10: upper substrate 12: high frequency electrode
14 : 제1 유전층 16 : 하부기판14: first dielectric layer 16: lower substrate
18 : 어드레스전극 20 : 제2 유전층18: address electrode 20: second dielectric layer
22 : 주사전극 24 : 제3 유전층22: scanning electrode 24: third dielectric layer
26 : 보호막 28 : 격벽26: shield 28: bulkhead
30 : 형광체 32 : 금속시드층30 phosphor 32 metal seed layer
34 : 감광성수지패턴 18A : 보조전극34: photosensitive resin pattern 18A: auxiliary electrode
상기 목적들을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 고주파 PDP의 제조방법은 보조전극을 전기도금법을 이용하여 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above objects, the manufacturing method of the high frequency PDP according to the present invention is characterized in that it comprises the step of forming the auxiliary electrode using the electroplating method.
상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 이점들은 첨부 도면을 참조한 본 발명의 바람직한 실시 예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and advantages of the present invention in addition to the above object will be apparent from the description of the preferred embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 예들을 도 3a 내지 도 3j를 참조하여 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 3A to 3J.
도 3a에 도시된 바와 같이 임의의 기판(16)을 마련한 후, 도 3b에 도시된 바와 같이 어드레스전극(18)을 형성하게 된다. 이 어드레스전극(18)은 통상 스크린프린팅 방법에 의해 형성된다. 어드레스전극(18)이 형성된 기판(16) 상에 도 3c에 도시된 바와 같이 이후 보조전극형성을 위한 시드(seed)층(32)을 형성하게 된다. 이 시드층(32)은 Cr/Cu, Ti/Cu 재질의 금속물질을 스퍼터링 등의 방법을 이용하여 형성하게 된다. 계속하여 도 3d에 도시된 바와 같이 보조전극형성을 위하여 보조전극형상의 홀(34A)을 가지는 감광성수지패턴(34)을 형성하게 된다. 이 감광성수지패턴(34)은 포토리소그라피 방법에 의해 형성하게 된다. 감광성수지패턴(34)이 형성되면 도 3e에 도시된 바와 같이 보조전극(18A)을 형성하게 된다. 이 보조전극(18A)은 전극도금 방법 또는 무전해도금 방법을 이용하여 형성하게 된다. 이와 같이, 전기도금 방법을 이용하여 보조전극(18A)을 형성하므로 원하는 두께로 높게 성장시키는 것이 용이하게 된다. 보조전극(18A)이 형성되면 도 3f에 도시된 바와 같이 감광성수지패턴(34)을 제거해내고 계속하여 시드층(32)을 제거해내게 된다. 이렇게 시드층(32)이 제거되면 도 3g에 도시된 바와 같이 어드레스전극(16) 상에 보조전극(18A)이 형성된 형태가 된다. 이어서, 도 3h에 도시된 바와 같이 어드레스전극(18) 및 보조전극(18A)이 형성된 기판(16)의 전면에 제2 유전층(20)을 형성한 후 소성시키게 된다. 이 경우, 제2 유전층(20)은 공정수나 점도 등을 조절하여 평탄화시킬 수도 있다. 이 제2 유전층(20) 상에 도 3i에 도시된 바와 같이 주사전극(22)을 형성하게 된다. 이 주사전극(22)은 스크린프린팅 및 기타 적절한 방법에 의해 어드레스전극(18)과 교차하는 방향으로 형성되게 된다. 주사전극(22)이 형성된 제2 유전층(20) 상에 도 3j에 도시된 바와 같이 제3 유전층(24)을 평탄하게 형성하게 된다. 제3 유전층(24)이 상에 필요시 보호막(26)을 형성하여 하판을 완성하게 된다.After the arbitrary substrate 16 is provided as shown in FIG. 3A, the address electrode 18 is formed as shown in FIG. 3B. This address electrode 18 is usually formed by a screen printing method. As shown in FIG. 3C, a seed layer 32 for forming an auxiliary electrode is formed on the substrate 16 on which the address electrode 18 is formed. The seed layer 32 is formed of a metal material of Cr / Cu or Ti / Cu by sputtering or the like. Subsequently, as shown in FIG. 3D, the photosensitive resin pattern 34 having the hole 34A having the auxiliary electrode shape is formed to form the auxiliary electrode. This photosensitive resin pattern 34 is formed by a photolithography method. When the photosensitive resin pattern 34 is formed, the auxiliary electrode 18A is formed as shown in FIG. 3E. The auxiliary electrode 18A is formed using an electrode plating method or an electroless plating method. As such, since the auxiliary electrode 18A is formed using the electroplating method, it is easy to grow to a desired thickness. When the auxiliary electrode 18A is formed, as shown in FIG. 3F, the photosensitive resin pattern 34 is removed and the seed layer 32 is continuously removed. When the seed layer 32 is removed as shown in FIG. 3G, the auxiliary electrode 18A is formed on the address electrode 16. Subsequently, as shown in FIG. 3H, the second dielectric layer 20 is formed on the entire surface of the substrate 16 on which the address electrode 18 and the auxiliary electrode 18A are formed, and then fired. In this case, the second dielectric layer 20 may be planarized by adjusting process water, viscosity, and the like. The scan electrode 22 is formed on the second dielectric layer 20 as shown in FIG. 3I. The scan electrodes 22 are formed in the direction intersecting the address electrodes 18 by screen printing and other suitable methods. As shown in FIG. 3J, the third dielectric layer 24 is formed flat on the second dielectric layer 20 having the scan electrode 22 formed thereon. The protective layer 26 is formed on the third dielectric layer 24 if necessary to complete the lower plate.
이와 같이, 본 발명의 고주파 PDP 제조방법에서는 전기도금 방법을 이용하여 보조전극을 형성함으로써 균일한 형상의 보조전극을 원하는 높이로 용이하게 형성할 수 있게 된다.As described above, in the manufacturing method of the high frequency PDP of the present invention, the auxiliary electrode is formed by using the electroplating method, and thus the auxiliary electrode having a uniform shape can be easily formed at a desired height.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 고주파 PDP 제조방법에 의하면 전기도금 방법을 이용하여 보조전극을 형성함으로써 균일한 형상의 보조전극을 원하는 높이로 용이하게 형성할 수 있게 된다.As described above, according to the high frequency PDP manufacturing method according to the present invention, by forming the auxiliary electrode using the electroplating method, it is possible to easily form the auxiliary electrode having a uniform shape to a desired height.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.
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1999
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Patent Citations (2)
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|---|---|---|---|---|
| JPS57182941A (en) * | 1981-05-06 | 1982-11-11 | Nec Corp | Plasma display panel |
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