KR100315773B1 - Method for fabricating barrier rib of plasma display panel - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A method for fabricating a barrier rib of a plasma display panel is provided to reduce a time for fabrication process by etching directly glass to form the barrier rib. CONSTITUTION: Alien substance is removed from a surface of glass(210) as sodalime glass by performing a cleaning process. The cleaning process is performed by using IPA(IsoPropyl alcohol) as cleaning solution. A paraffin layer(220) is formed on the entire surface of the glass(210) by using a spray method. The glass(210) is exposed by milling a predetermined region of the paraffin layer(220) on which a barrier rib is not formed. In addition, the glass(210) can be exposed by performing a hot forming process on the predetermined region of the paraffin layer(220) on which a barrier rib is not formed. A pattern(230) for forming the barrier rib is formed by exposing the glass(210). The barrier rib is formed by performing an etch process. The paraffin layer(220) is removed by performing the cleaning process.

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법Method of manufacturing partition wall of plasma display panel

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법에 관한 것으로서, 특히 격벽 형성용 글라스를 직접 에칭하여 격벽을 제조함으로써 제조공정 시간을 단축할 수 있도록 한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing partition walls of a plasma display panel, and more particularly, to a method for manufacturing partition walls of a plasma display panel, in which a partition wall is manufactured by directly etching glass for forming partition walls to shorten a manufacturing process time.

일반적인 AC형 플라즈마 디스플레이 패널(이하 PDP라 한다.)은 서로 대향되는 표면 유리기판과 배면 유리기판을 포함하는데, 상기 표면 유리기판에는 표시전극이 형성되고, 배면 유리기판에는 어드레스(address) 전극 및 격벽이 스트라이프 모양으로 형성된다.A typical AC plasma display panel (hereinafter referred to as a PDP) includes a surface glass substrate and a rear glass substrate facing each other, wherein a display electrode is formed on the surface glass substrate, and an address electrode and a partition wall are formed on the rear glass substrate. It is formed in a stripe shape.

이때, 상기 표시전극과 상기 어드레스 전극이 서로 직교하도록 상기 표면 유리기판과 배면 유리기판이 조립되는데, 그 사이에 네온(Ne)이나 헬륨(He) 등의 방전 가스가 채워지고, 방전셀 단위로 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 형광체가 구분되어 도포된다.At this time, the surface glass substrate and the rear glass substrate are assembled such that the display electrode and the address electrode are perpendicular to each other, and a discharge gas such as neon or helium is filled therebetween, and the discharge cells are red in units of discharge cells. (R), green (G), and blue (B) phosphors are coated separately.

상기와 같이 구성된 PDP에서 격벽은 상기 각각의 어드레스 전극 사이에 스트라이프 모양으로 형성되며, 상기 각각의 어드레스 전극을 복수의 방전셀로 분리하는 역할을 한다.In the PDP configured as described above, the partition wall is formed in a stripe shape between each address electrode, and serves to separate each address electrode into a plurality of discharge cells.

도 1은 종래 기술에 의한 PDP의 격벽제조 과정을 순차적으로 나타내는 단면도들이다.1 is a cross-sectional view sequentially illustrating a barrier rib manufacturing process of a PDP according to the prior art.

도 1을 참조하면, 먼저 격벽형성용 글라스(110) 위에 스크린 프린팅법 등을 이용하여 격벽재료인 글라스 페이스트(120)를 소정의 두께로 인쇄하고 건조한다.Referring to FIG. 1, first, a glass paste 120, which is a partition material, is printed and dried on a partition forming glass 110 using a screen printing method or the like.

그후, 원하는 높이의 격벽을 형성하기 위해서는 상기의 스크린 프링팅을 동일한 위치에 수십회 반복하여 실시한다.Thereafter, in order to form a partition wall having a desired height, the above screen printing is repeated several times at the same position.

상기의 공정에 의해 원하는 높이로 격벽이 형성되면 소성로에서 소성을 수행하여 제품을 완성한다.When the partition wall is formed at the desired height by the above process, the baking is performed in the kiln to complete the product.

상기와 같은 종래 기술의 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법은 글라스 페이스트의 반복 인쇄와 건조를 통해 정확한 정위치가 잡기 어려우므로 형성된 격벽의 정도가 도 2에 도시된 바와 같이 좋지 않게 되는 문제점이 있으며, 상기의 이유로 인해 완성된 PDP의 화질이 나빠지게 되는 문제점이 있다.As described above, the barrier rib manufacturing method of the plasma display panel according to the related art has a problem in that the exact position of the barrier rib is not obtained as shown in FIG. For this reason, there is a problem in that the quality of the finished PDP is deteriorated.

또한, 글라스 페이스트의 인쇄 및 건조의 반복 공정이 많아져 작업공수가 많아지기 때문에 생산성이 저하되는 문제점이 있게 되는 동시에 제조원가의 상승을 초래하는 문제점이 있다.In addition, since the repeated process of printing and drying the glass paste increases the number of working hours, there is a problem in that the productivity is lowered and the production cost is increased.

따라서, 종래에는 상술한 문제점을 해결하기 위하여 글라스위에 포토레지스트와 같은 마스크재료를 도포한 후 노광공정에 의해 패턴을 형성하고, 상기 패턴을 적용하여 상기 글라스를 소정의 깊이로 에칭하는 공정을 통하여 격벽을 제조하여 격벽의 정도를 높이도록 하였다.Therefore, in order to solve the above-mentioned problems, the barrier rib is formed by applying a mask material such as a photoresist on the glass, forming a pattern by an exposure process, and etching the glass to a predetermined depth by applying the pattern. Was prepared to increase the degree of partition wall.

그러나, 상기와 같은 방법에 있어서도, 마스크재료를 포토레지스트와 같은 고가의 재료를 사용함에 따라 재료비가 많이 드는 문제점이 있다.However, even in the above-described method, there is a problem that the material cost is high as the mask material uses an expensive material such as a photoresist.

또한, 노광공정에 의해 패턴을 형성하기 때문에 고가의 노광장치를 사용하여 공정비가 많이 들 그 공정 과정이 또한 복잡하다는 문제점이 있다.In addition, since a pattern is formed by an exposure process, a process cost is high using an expensive exposure apparatus, and the process process is also complicated.

또한, 에칭공정에서 에칭액을 액체상태로 사용함에 따라 에칭액의 잔류정도가 많게 되어 그 제거 작업이 용이하지 않다는 문제점이 이다.In addition, as the etching solution is used in the liquid state in the etching process, there is a problem that the residual amount of the etching solution increases, so that the removing operation is not easy.

본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 그 목적은 글라스의 표면에 파라핀 재료들 도포하여 기계적 가공에 의해 패턴을 형성한 후 증기화된 에칭액에 의해 직접 글라스를 에칭하여 한번의 공정으로 격벽을 형성시킴으로써 격벽의 정도를 향상시킴은 물론 재료비 및 공정비를 줄여 제품의 가격을 다운시키는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법을 제공하는데 있다.The present invention has been made to solve the above problems of the prior art, the object of which is to apply the paraffin materials on the surface of the glass to form a pattern by mechanical processing, and then directly etch the glass by vaporized etching solution once The present invention provides a method of manufacturing a partition wall of a plasma display panel that not only improves the degree of partition wall but also reduces material cost and process cost by lowering the price of a product.

도 1은 종래 기술에 의한 PDP의 격벽 제조방법을 나타내는 단면도들,1 is a cross-sectional view showing a barrier rib manufacturing method of a PDP according to the prior art,

도 2는 종래 기술에 의한 격벽의 정도를 나타내는 확대도,2 is an enlarged view showing the degree of a partition wall according to the prior art,

도 3은 본 발명에 의한 PDP의 격벽 제조방법을 나타내는 단면도들,3 is a cross-sectional view showing a method for manufacturing a partition wall of the PDP according to the present invention;

도 4는 본 발명에 의한 격벽의 정도를 나타내는 확대도.Figure 4 is an enlarged view showing the degree of partition wall according to the present invention.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 의한 PDP의 격벽 제조방법을 나타내는 단면도들이다.5 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a partition wall of a PDP according to another embodiment of the present invention.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명은 글라스위에 마스크재료를 도포한 후패턴을 형성하고, 상기 패턴을 적용하여 상기 글라스를 소정의 깊이로 에칭하는 공정을 통하여 격벽을 제조하는 방법에 있어서, 상기 글라스의 표면에 파라핀을 도포하여 파라핀 피막을 형성하는 제1 과정과, 상기 제 1 과정의 결과물에서 격벽을 형성하고자 하는 면에서 격벽이 형성되지 않을 곳의 파라핀 피막을 기계가공에 의해 제거하여 격벽 형성용 글라스를 노출시킴으로써 격벽을 형성하기 위한 패턴을 형성한는 제 2 과정과, 상기 제2 과정의 결과물에서 노출된 격벽 형성용 글라스를 향하여 중기화된 에칭액을 분사하여 격벽 형성용 글라스를 직접 부식 시켜 원하는 격벽의 높이 만큼 에칭(etching)을 수행하는 제3 과정과, 상기 제3 과정의 결과물에서 세척을 수행하여 잔존하는 파라핀 피막을 제거하는 제4 과정으로 이루어지는 것을 특징으로 한다.The present invention for achieving the above object is a method of manufacturing a partition wall through the process of forming a pattern after applying the mask material on the glass, and applying the pattern to etch the glass to a predetermined depth, the glass The first step of forming a paraffin coating by applying paraffin on the surface of the paraffin coating, and the paraffin film in the place where the partition wall is not formed in the surface to form the partition wall from the result of the first process by machining to remove the partition wall The second step of forming a pattern for forming the partition wall by exposing the glass and spraying the neutralized etching solution toward the partition wall forming glass exposed from the result of the second step to directly corrode the glass for forming the partition wall to the desired partition wall A third process of etching by a height of and a cleaning process in the resultant of the third process Claim characterized in that comprising a fourth step of removing the paraffin coating.

이하, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a preferred embodiment of a method for manufacturing a partition wall of a plasma display panel according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명에 의한 PDP용 격벽 제조 과정을 나타내는 단면도들이고, 도 4는 본 발명에 의한 격벽의 정도를 나타내는 확대도이고, 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 의한 PDP의 격벽 제조방법을 나타내는 단면도들이다.3 is a cross-sectional view showing a process for manufacturing a PDP partition wall according to the present invention, Figure 4 is an enlarged view showing the degree of the partition wall according to the present invention, Figure 5 is a method for manufacturing a partition wall of the PDP according to another embodiment of the present invention It is sectional drawing to show.

도 3 및 도 5를 참조하면, 먼저 3㎜의 두께를 갖는 소다라임(sodalime)계 글라스로서 격벽 형성용 글라스(210)를 세정하여 표면의 이물질을 제거한다. 이때, 세정 동작은 이소 프로필 알콜(IPA)을 세정액으로 하여 20내지 30℃의 온도에서 디핑(dipping)한다.Referring to FIGS. 3 and 5, first, the barrier rib-forming glass 210 is cleaned as a soda lime-based glass having a thickness of 3 mm to remove foreign substances from the surface. At this time, the cleaning operation is dipping at a temperature of 20 to 30 ° C with isopropyl alcohol (IPA) as the cleaning liquid.

상기에서 이소 프로필 알콜(IPA)을 사용하지 않고 염소계의 세정제를 사용할수도 있다.It is also possible to use a chlorine-based cleaner without using isopropyl alcohol (IPA).

그 후, 격벽 형성용 글라스(210) 전체에 스프레이(spray) 방식으로 소정의 두께(1~500㎛)를 갖도록 파라핀 피막(220)을 형성한다. 이때, 격벽을 형성하고자 하는 면에서 격벽이 형성되지 않을 곳의 파라핀 피막(220)을 밀링 가공 또는 격벽이 형성되지 않을 곳의 파라핀 피막(220)을 밀링 가공 또는 격벽의 역형상 패턴을 가진 금형(M)을 이용하여 열간성형에 의해 격벽 형성용 글라스(210)를 노출시킴으로써 격벽을 형성하기 위한 패턴을 형성한다(참조번호 230 참조). 결국, 상기 파라핀 피막(220)은 일정간격으로 제거되어 마스크(mask)의 역할을 한다.Thereafter, the paraffin coating 220 is formed on the entire partition wall forming glass 210 to have a predetermined thickness (1 to 500 μm) by a spray method. In this case, the paraffin coating 220 in the place where the partition is not to be formed in the surface to form the partition, or the paraffin coating 220 in the place where the partition is not formed by milling or forming a mold having an inverted pattern of the partition ( The pattern for forming a partition is formed by exposing the glass 210 for partition formation by hot forming using M) (refer reference numeral 230). As a result, the paraffin coating 220 is removed at regular intervals to serve as a mask.

그후, 상기 노출된 격벽 형성용 글라스(210)를 향하여 증기화 된 에칭액을 분사하여 격벽 형성용 글라스(210)를 직접 부식 시켜 원하는 격벽의 높이 만큼 에칭(etching)을 수행한다. 이때, 에칭액은 1 내지 50%의 HF, 1 내지 10%의 KF, 1 내지 5%의

Figure pat00001
,0.1 내지 5%의 유기아민, 1 내지 20%의 FeCI3, 50%의 물(H2O)을 포함하고, 에칭 동작은 증기온도 5 내지 110℃, 분무압력 1 내지 10㎏/㎠, 에칭시간 10 내지 40분으로 한다.Thereafter, the vaporized etching solution is sprayed toward the exposed barrier rib forming glass 210 to directly corrode the barrier rib forming glass 210 to perform etching as much as a desired height of the barrier rib. At this time, the etching solution is 1 to 50% HF, 1 to 10% KF, 1 to 5%
Figure pat00001
, 0.1 to 5% of organic amine, 1 to 20% of FeCI 3 , 50% of water (H 2 O), the etching operation is a steam temperature of 5 to 110 ℃, spray pressure 1 to 10 kg / ㎠, etching The time is 10 to 40 minutes.

상기의 에칭액 분사 공정에서는 격벽 형성용 글라스(210)의 면과 수직이 되도록 분사하여 에칭이 동일한 깊이로 되도록 하는 동시에 정도를 향상시킨다.In the etching liquid spraying step, the spraying is performed perpendicular to the surface of the partition wall forming glass 210 so that the etching is the same depth and the degree is improved.

그후, 세척을 수행하여 잔존하는 파라핀 피막(220)을 제거함으로써 격벽을 완성한다. 이때, 상기 파리판 피막(220)의 제거 동작은 사염화탄소를 세척액으로 하여 수행한다.Thereafter, washing is performed to remove the remaining paraffin coating 220 to complete the partition wall. At this time, the removing operation of the fly plate film 220 is performed by using carbon tetrachloride as a washing liquid.

상기 본 발명의 제 1 과정에서 파라핀으로 피막을 형성하는 것은 내불산성이 있고, 제거가공이 용이하며, 가격이 저렴하기 때문이다.In the first process of the present invention, the film is formed of paraffin because it is hydrofluoric acid resistant, easy to remove, and inexpensive.

상기 본 발명의 제 2 과정에서 파라핀 피막을 기계가공(밀링가공 또는 금형에 의한 열간성형)에 의함은 저가의 장비를 이용하여 빠른 시간내에 패턴을 형성 할 수 있기 때문이다.In the second process of the present invention, the paraffin coating is machined (hot forming by milling or mold) because it is possible to form a pattern in a short time by using inexpensive equipment.

상기에 있어 증기화된 에칭액을 사용함에 따라 에칭액의 남아 있는 정도가 작아 에칭액 제거작업이 용이하게 된다.By using the vaporized etchant in the above, the remaining degree of the etchant is small, so that the etchant removal operation is easy.

상기에서 설명한 바와 같은 본 발명의 PDP의 격벽 제조방법은 파라핀 피막으로 마스킹하고 또한, 격벽을 형성을 위한 패턴을 기계적 방법에 의해 형성하기 때문에 저가의 재료를 사용함과 동시에 저가의 장비를 이용하게 됨으로써 제품의 가격을 낮출 수 있는 효과가 있다.As described above, the barrier rib manufacturing method of the PDP of the present invention masks with a paraffin coating and forms a pattern for forming the barrier rib by a mechanical method, thereby using a low-cost material and a low-cost equipment. It is effective to lower the price of.

또한, 증기화 된 에칭액을 사용하여 격벽을 형성하기 때문에 격벽의 정도가 향상됨은 물론 잔류물이 남아 있는 정도가 적어 후공정 작업이 쉬운 이점이 있다.In addition, since the partition wall is formed by using the vaporized etching solution, the degree of partition wall is improved, as well as the degree of residue remaining is small, there is an advantage that the post-process operation is easy.

Claims (7)

글라스위에 마스크재료를 도포한 후 패턴을 형성하고, 상기 패턴을 적용하여 상기 글라스를 소정의 깊이로 에칭하는 공정을 통하여 격벽을 제조하는 방법에 있어서,In the method of manufacturing a partition wall by applying a mask material on the glass and forming a pattern, and applying the pattern to the etching of the glass to a predetermined depth, 상기 글라스의 표면에 파라핀을 도포하여 파라핀 피막을 형성하는 제 1 과정과,A first process of forming a paraffin coating by applying paraffin on the surface of the glass, 상기 제1 과정의 결과물에서 격벽을 형성하고자 하는 면에서 격벽이 형성되지 않을 곳의 파라핀 피막을 기계가공에 의해 제거하여 격벽 형성용 글라스를 노출시킴으로써 격벽을 형성하기 위한 패턴을 형성하는 제2 과정과,A second process of forming a pattern for forming the barrier rib by exposing the glass for forming the barrier rib by removing the paraffin coating where the barrier rib is not to be formed on the surface where the barrier rib is to be formed in the result of the first process; , 상기 제2 과정의 결과물에서 노출된 격벽 형성용 글라스를 향하여 증기화된 에칭액을 분사하여 격벽 형성용 글라스를 직접 부식 시켜 원하는 격벽의 높이 만큼 에칭(etching)을 수행하는 제3 과정과,A third process of injecting a vaporized etching solution toward the barrier forming glass exposed from the result of the second process to directly corrode the barrier forming glass to perform etching by a desired height of the barrier rib; 상기 제3 과정의 결과물에서 세척을 수행하여 잔존하는 파라핀 피막을 제거하는 제4 과정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.And a fourth process of removing the remaining paraffin film by performing washing in the resultant of the third process. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 글라스는 제1 과정에서 이소 프로필 알콜(IPA)을 세정액으로 하여 그 표면이 세정된 후 파라핀이 도포 되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.The glass is a plasma display panel manufacturing method of the plasma display panel, characterized in that in the first step isopropyl alcohol (IPA) as a cleaning liquid, the surface is cleaned and then paraffin is applied. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제3 과정에서 에칭액은 1 내지 50%의 HF, 1 내지 10%의 KF, 1 내지 5%의 H3BO4, 0.1 내지 5%의 유기아민, 1 내지 20%의 FeCl3, 50%의 물(H2O)을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.In the third process, the etchant may contain 1 to 50% HF, 1 to 10% KF, 1 to 5% H 3 BO 4 , 0.1 to 5% organic amine, 1 to 20% FeCl 3 , and 50% A partition wall manufacturing method of a plasma display panel comprising water (H 2 O). 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제3 과정에서 에칭 동작은 증기온도를 5 내지 110℃로 하고, 분무압력을 1 내지 10㎏/㎠로 하고, 에칭시간을 10 내지 40분으로 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.In the third process, the etching operation includes a vapor temperature of 5 to 110 ° C., a spray pressure of 1 to 10 kg / cm 2, and an etching time of 10 to 40 minutes. . 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제4 과정에서 파라핀 피막의 제거 동작은 사염화탄소를 세척액으로 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.Removing the paraffin film in the fourth process is a manufacturing method of the partition wall of the plasma display panel, characterized in that the carbon tetrachloride as a cleaning liquid. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 2 과정의 패턴 형성은 밀링가공에 의한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널이 격벽 제조 방법.The method of claim 2, wherein the pattern formation of the second process is performed by milling. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 2 과정의 패턴형성은 격벽의 역형상 패턴을 가진 금형을 이용하여 열간 성형에 의한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조 방법.The pattern forming of the second process is performed by hot forming using a mold having an inverted pattern of the partition wall.
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