KR100315079B1 - Device for automatically supplying specimen of vacuum evaporator - Google Patents
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- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 27
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 24
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 18
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 238000010079 rubber tapping Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
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Abstract
본 발명은 진공증착기용 자동 시료공급장치에 관한 것으로, 시료를 공급받아 가열하여 증발시켜 주는 증발히터가 구비된 진공용기를 포함하는 진공증착기용 자동 시료공급장치에 있어서, 상기 진공용기 내부에는 일정량의 시료를 담을 수 있는 용기 형상의 컨테이너와, 컨테이너의 아랫면에 밀착되어 있으면서 그 하부에는 상기 진공용기의 외부로 돌출되도록 설치되어 그 단부에 설치된 구동수단을 제어하는 제어부의 제어로 회전속도가 제어되는 회전자와, 상기 진공용기의 바닥면에 관통설치되어 회전자의 회전으로 컨테이너에 담긴 시료를 증발히터 상으로 공급하는 공급관을 포함하는 진공증착기용 자동 시료공급장치를 제공하는데 있다.The present invention relates to an automatic sample supply device for a vacuum vapor deposition machine, comprising: a vacuum container including a vacuum container having an evaporation heater for supplying a sample and heating and evaporating it, wherein the vacuum container has a certain amount of Rotating speed is controlled by the control of a container shaped container that can hold a sample, and a control unit for being in close contact with the bottom surface of the container and protruding to the outside of the vacuum container and controlling the driving means installed at the end thereof. The present invention provides an automatic sample supply device for a vacuum vapor deposition apparatus including a supply pipe which is installed through the bottom of the vacuum container and supplies a sample contained in the container to the evaporation heater by the rotation of the rotor.
Description
본 발명은 진공증착기용 자동 시료공급장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 진용용기 내에서 증착용 시료를 지속적이면서 안정적으로 공급할 수 있는 진공증착기용 자동 시료공급장치에 관한 것이다.The present invention relates to an automatic sample feeder for vacuum evaporator, and more particularly, to an automatic sample feeder for vacuum evaporator which can continuously and stably supply a deposition sample in a vacuum container.
최근 실생활에서 편의성을 느끼게 하는 원인은 여러가지가 있으나, 그 중에서도 전기·전자산업의 발달로 전자소자의 개발은 생활의 편의성을 더욱 증대시키는데에 큰 역할을 하고 있다.Recently, there are many causes of convenience in real life, and among them, the development of the electronic device due to the development of the electric and electronic industry plays a big role in further increasing the convenience of life.
이러한 전자소자는 시간이 지날수록 점차 크기가 작아지고 용량이 크게 제작되고 있는 추세로 제작과정이나 연구단계에서 박막화하는 경향으로 연구가 진행되고 있다.Such electronic devices have been gradually reduced in size and have a larger capacity, and research is being conducted with a tendency to thin them in the manufacturing process or the research stage.
박막의 제조는 보통 진공증착법(vacuum evaporator)을 많이 사용하고 있으며, 시료의 물리적 특성이 변하지 않은 상태로 대상물에 직접 증착이 이루어지는 물리적 증착법과 시료의 물리적 특성이 상이하게 달라지게 대상물에 증착이 이루어지는 화학적 증착법으로 대별할 수 있다.In general, a thin film is commonly used as a vacuum evaporator, and a chemical vapor deposition method is applied to an object so that the physical property of the sample is different from the physical vapor deposition method. It can be roughly classified by vapor deposition.
특히, 연구 실험용으로 사용되는 박막 증착장치는 두께가 1㎛ 이하이기 때문에 물리 증착법 중에서 주울(jule)열, RF(Radio Frequency), 열, 전자선(E-beam)열, 레이저 빔 등을 열원으로 사용하는 열 증착법(thermal evaportion method)을 많이 사용하고 있다.In particular, since the thin film deposition apparatus used for the research experiment has a thickness of 1 μm or less, Joule heat, RF (Radio Frequency), heat, electron beam (E-beam) heat, laser beam, etc. are used as heat sources among physical vapor deposition methods. The thermal evaportion method is used a lot.
이러한 박막 증착장치는 소정의 진공압을 생성할 수 있도록 제작된 진공용기 내에 대상물을 설치하고, 이 진공용기 내에서 알루미늄이나 실리콘 등 다양한 금속 등의 시료를 증발히터로 가열하여 생성된 증발가스를 대상물에 부착시키는 방법으로 박막을 형성하게 되는데, 이때 박막의 두께는 박막을 생성하는데 사용되는 알루미늄과 같은 시료량과 진공압 및 그 내부온도 등에 영향을 받게 된다.The thin film deposition apparatus installs an object in a vacuum vessel manufactured to generate a predetermined vacuum pressure, and heats a sample of various metals such as aluminum, silicon, etc. with an evaporation heater in the vacuum vessel, and generates an evaporation gas. The thin film is formed by attaching to the thin film, and the thickness of the thin film is influenced by the amount of sample such as aluminum used to generate the thin film, the vacuum pressure, and the internal temperature.
특히, 시료량은 증발가스량에 비례하기 때문에 100㎛ 정도의 후막(厚膜)을 형성하는 경우 박막을 형성하는 경우에 비해 시료를 지속적으로 공급해주어야 하는데, 종래에는 시료를 선재(線材) 형태로 진공용기 내에 밀어 넣으면서 증발시키는 방법과, 시료를 콘베이어 밸트에 담아 이송시켜 주입시키는 방법, 시료가 담긴 용기를 톡톡 쳐서 그 충격에 의해 시료가 주입되게 하는 방법 등 다양한 방법으로 시료를 공급하였다.In particular, since the sample amount is proportional to the amount of evaporated gas, when a thick film having a thickness of about 100 μm is formed, the sample must be continuously supplied as compared to the case where a thin film is formed. In the related art, a vacuum vessel in the form of a wire is used. The sample was supplied by various methods such as evaporating while pushing it in, a method of transporting the sample in a conveyor belt, injecting the sample, and tapping the container containing the sample to inject the sample by the impact.
그러나, 기존과 같은 방법으로 시료를 공급하는 경우 박막의 두께가 얇은 경우 시료도 적은 양을 지속적으로 공급하는데 어려움이 있으며, 또한 알루미늄을 시료로 하여 폴리머 필름(polymer film) 상에 100㎛ 정도로 후막(厚膜)을 증착하는 경우 이러한 지속적인 시료공급에 문제가 있어 이에 대한 개선이 필요하게 되었다.However, when the sample is supplied in the same manner as the conventional method, when the thickness of the thin film is thin, it is difficult to continuously supply a small amount of the sample. Also, using the aluminum as a sample, a thick film (about 100 μm) on the polymer film is used. Iii) deposition is problematic for this continuous sample supply and needs improvement.
본 발명은 이러한 점을 감안하여 안출한 것으로, 시료를 공급받아 가열하여 증발시켜 주는 증발히터가 구비된 진공용기를 포함하는 진공증착기용 자동 시료공급장치에 있어서, 상기 진공용기 내부에는 일정량의 시료를 담을 수 있는 용기 형상의 컨테이너와, 컨테이너의 아랫면에 밀착되어 있으면서 그 하부에는 상기 진공용기의 외부로 돌출되도록 설치되어 그 단부에 설치된 구동수단을 제어하는 제어부의 제어로 회전속도가 제어되는 회전자와, 상기 진공용기의 바닥면에 관통설치되어 회전자의 회전으로 컨테이너에 담긴 시료를 증발히터 상으로 공급하는 공급관을 포함하는 진공증착기용 자동 시료공급장치를 제공하는데 그 목적이 있는 것이다.The present invention has been made in view of this point, the automatic sample supply device for a vacuum evaporator comprising a vacuum container equipped with an evaporation heater for supplying a sample to heat and evaporate, the predetermined amount of sample inside the vacuum vessel A rotor having a container shape that can be stored, and a rotor which is in close contact with the bottom surface of the container and is protruded outwardly of the vacuum container and is controlled by a controller that controls the driving means installed at the end thereof. It is an object of the present invention to provide an automatic sample supply device for a vacuum evaporator comprising a supply pipe which is installed through the bottom surface of the vacuum vessel and supplies the sample contained in the container to the evaporation heater by the rotation of the rotor.
도 1은 본 발명에 따른 자동 투입장치의 구성을 나타내는 개략도,1 is a schematic view showing the configuration of an automatic feeding device according to the present invention,
도 2는 도 1에서의 A부 확대도,2 is an enlarged view of a portion A in FIG. 1;
도 3은 본 발명에 따른 회전자의 구성을 나타내는 사시도.Figure 3 is a perspective view showing the configuration of the rotor according to the present invention.
[도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명][Description of Symbols for Main Parts of Drawing]
10 : 컨테이너 11 : 지지대10 container 11: support stand
12 : 지지구멍 13 : 설치구멍12: support hole 13: mounting hole
14 : 리미트 스위치 15 : 베어링14 limit switch 15 bearing
20 : 회전자 23 : 제어부20: rotor 23: control unit
24 : 회전축 25 : 구동수단24: rotating shaft 25: drive means
26 : 토출구멍 27 : 경사면26 discharge hole 27 inclined surface
30 : 공급관 100 : 진공용기30: supply pipe 100: vacuum vessel
110 : 증발히터110: evaporation heater
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 구성을 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the configuration of the present invention with reference to the accompanying drawings in more detail.
첨부도면 도 1과 첨부도면 2는 본 발명에 따른 자동 투입장치의 구성을 나타내는 개략도로, 도면부호 100은 진공용기를, 110은 증발히터를 각각 나타낸다.1 and 2 are schematic diagrams showing the configuration of an automatic dosing device according to the present invention, reference numeral 100 denotes a vacuum vessel, and 110 denotes an evaporation heater.
본 발명은 진공압 상태에서 대상물에 박막을 형성시키기 위해 진공용기(100) 내에서 지속적으로 일정량씩 시료를 공급하여 증발히터(110)에서 발시켜 주는 진공증착용 자동 시료공급장치에 관한 것으로, 상기 진공용기 (100) 내부에 일정량의 시료가 채워진 컨테이너(10)를 설치하고, 이 컨테이너(10)의 내부면에 회전제어를 받아 구동되는 회전자(20)를 장착하여, 상기 시료가 회전자(20)의 회전으로 그 상면에 관통성형된 토출구멍 (26)을 통해 증발히터(110) 상에 공급되도록 구성함으로써, 회전자(20)의 회전속도에 따라 증발히터(110)로 공급되는 시료량을 조절할 수 있도록 한 것이다.The present invention relates to an automatic sample supply device for vacuum deposition which is supplied from the evaporation heater 110 by continuously supplying a predetermined amount of samples in the vacuum container 100 in order to form a thin film on an object under vacuum pressure. A container 10 filled with a predetermined amount of sample is installed in the vacuum container 100, and a rotor 20 driven by rotational control is mounted on the inner surface of the container 10, so that the sample is rotated. The amount of sample supplied to the evaporation heater 110 according to the rotational speed of the rotor 20 is configured to be supplied to the evaporation heater 110 through the ejection hole 26 formed through the upper surface by the rotation of 20. It is adjustable.
여기서, 상기 진공용기(100)는 보통 약 5×107torr 이하의 진공압을 형성할 수 있는 통상의 기술로 제작되어 기존의 진공증착기에 사용되는 진공용기를 그대로 사용하게 되며, 또한 상기 진공용기(100) 내에는 첨부도면에서는 도시하지 않았지만 박막을 생성하고자 하는 대상물을 고정시키기 위한 고정수단이 구비되어 있다.Here, the vacuum vessel 100 is usually manufactured by a conventional technique that can form a vacuum pressure of about 5 × 10 7 torr or less to use the vacuum vessel used in the existing vacuum evaporator as it is, and also the vacuum vessel Although not shown in the accompanying drawings, a fixing means for fixing an object to generate a thin film is provided in the 100.
또한, 본 발명은 생성하고자 하는 박막의 두께만큼 충분하게 증발가스를 형성시켜 줄 수 있는 일정량의 시료를 담아 두고 시료의 공급으로 잔여 시료량을 확인할 수 있는 컨테이너(10)를 포함하고 있다.In addition, the present invention includes a container 10 that contains a certain amount of sample that can form a sufficient amount of evaporation gas as the thickness of the thin film to be produced, the remaining sample amount by supplying the sample.
상기 컨테이너(10)는 진공용기(100)보다 작은 내용적을 갖는 일종의 시료용기로, 상기 진공용기(100)의 바닥면에 수직으로 설치된 적어도 2개의 지지대(11)에 의해 그 바닥면이 증발히터(110)보다 높은 위치하도록 진공용기(100) 내에 설치되어 있다.The container 10 is a kind of sample container having a smaller internal volume than the vacuum container 100, and its bottom surface is evaporated by the at least two support members 11 installed perpendicular to the bottom surface of the vacuum container 100. It is installed in the vacuum container 100 so as to be higher than 110.
특히, 상기 컨테이너(10)는 바닥면 중앙에 소정의 직경을 갖는 지지구멍(12)이 관통성형되어 여기에 베어링(15)의 지지를 받아 회전가능하도록 회전자(20)가 설치되며, 이 바닥면의 중심으로부터 일정 회전궤적 상에는 또 하나의 설치구멍 (13)이 관통 형성되어서 상기 진공용기(100)로부터 증발히터(110)에 시료를 공급하기 위한 공급관(30)이 연결설치되게 된다.In particular, the container 10 is provided with a rotor 20 through which a support hole 12 having a predetermined diameter is formed in the center of the bottom surface thereof and rotatably supported by the bearing 15. Another installation hole 13 is formed through a predetermined rotational trajectory from the center of the surface so that the supply pipe 30 for supplying a sample from the vacuum container 100 to the evaporation heater 110 is connected.
또한, 상기 컨테이너(10)의 외주면에는 리미트 스위치(14)가 설치되어 컨테이너(10)의 잔여 시료량을 확인할 뿐만 아니라 시료의 재공급시기를 알려주게 되며, 이에 대한 신호는 상기 진공용기(100)의 외부에 설치되어 회전자(20)의 구동수단(25)을 제어하는 제어부(23)에 입력신호로 제공되게 된다.In addition, a limit switch 14 is installed on the outer circumferential surface of the container 10 to confirm the remaining sample amount of the container 10 as well as to inform the resupply time of the sample. It is provided to the control unit 23 installed outside to control the driving means 25 of the rotor 20 as an input signal.
본 발명의 바람직한 구현예에서는 상기 컨테이너(10)에 담긴 시료를 일정량씩 공급관(30)을 통해 증발히터(110)에 공급해 주는 회전자(20)가 구비되어 있다.In a preferred embodiment of the present invention is provided with a rotor 20 for supplying the sample contained in the container 10 to the evaporation heater 110 through a supply pipe 30 by a predetermined amount.
상기 회전자(20)는, 첨부도면 3에서 도시한 바와 같이, 소정의 크기를 갖는 원판 형상의 부재로 그 하면의 중앙에는 회전축(24)이 수직으로 하향 돌출되어 있으며, 이 회전축(24)은 하단부가 진공용기(100)의 외부로 돌출되어 제자리에서 회전가능하도록 장착되어 있으면서 제어부(23)의 제어를 받는 구동수단(25)의 구동축과 커플링으로 연결되어 있다.The rotor 20 is a disk-shaped member having a predetermined size, as shown in the accompanying drawing 3, and the rotation shaft 24 vertically protrudes downward in the center of the lower surface thereof. The lower end portion is protruded to the outside of the vacuum vessel 100 and is rotatably mounted in place, and is coupled to the drive shaft of the driving means 25 under the control of the controller 23.
특히, 상기 회전자(20)는 상술한 컨테이너(10)의 바닥면 상에 형성된 설치구멍(13)과 겹쳐지도록 토출구멍(26)이 관통 형성되어 있으며, 이 토출구멍(26)은 윗면에서 아래로 갈수록 점차 직경이 커지는 형상으로 형성되어 이 토출구멍(26)에 유입된 입자형 시료의 양만큼 외부로 토출시켜 주게 된다.In particular, the rotor 20 is formed through the discharge hole 26 so as to overlap the installation hole 13 formed on the bottom surface of the container 10 described above, the discharge hole 26 is downward from the top surface It is formed in a shape that gradually increases in diameter to discharge to the outside by the amount of the particulate sample introduced into the discharge hole 26.
또한, 상기 회전자(20)는 윗면에 토출구멍(26)의 반대쪽에 위치하도록 경사면(27)이 형성되어 있으며, 이 경사면(27)은 컨테이너(10)의 외부로 토출되고 남은 시료가 다시 컨테이너(10)의 하부에서 한쪽으로 쏠려 토출구멍(26)이 형성된 쪽으로 모이도록 유도하게 된다.In addition, the rotor 20 has an inclined surface 27 is formed on the upper surface to be opposite to the discharge hole 26, the inclined surface 27 is discharged to the outside of the container 10 and the remaining sample is again container It is directed to one side from the lower part of the (10) to be guided to gather toward the discharge hole 26 is formed.
여기서, 상기 경사면(27)은 반원형 쐐기 형상으로 형성되어서 회전판 (21)의 윗면에 토출구멍(26)과 대향하는 위치에 설치하게 되는데, 본 발명의 바람직한 구현예에서 상기 경사면(27)은 쐐기 형상의 단부가 회전자(20)의 중심선상에 밀착되도록 설치하여 시료가 소모됨에 따라 나머지 시료가 이 경사면을 따라 아래로 유동되도록 하고, 또한 상기 단부를 급경사각도로 제작하여 시료의 소모가 많더라도 나머지 나머지 시료가 이 급경사면을 따라 쉽게 회전자(20)의 일측으로 모여 토출구멍(26)으로 토출되도록 유도하게 된다.Here, the inclined surface 27 is formed in a semi-circular wedge shape to be installed in a position opposite to the discharge hole 26 on the upper surface of the rotating plate 21, in the preferred embodiment of the present invention the inclined surface 27 is wedge-shaped The end of is installed so as to be in close contact with the center line of the rotor 20 so that the remaining sample flows down along the inclined surface as the sample is consumed, and the end is made at an inclined angle so that the remaining even if the consumption of the sample is high The remaining samples are easily collected along one side of the rotor 20 along the steep slope to be discharged to the discharge hole 26.
상기 회전자(20)의 하면 중앙에 소정의 길이로 하향 돌출된 회전축 (24)은 상술한 지지구멍(12)에 베어링(15)를 받으면서 그 단부가 상기 진공용기(100)의 하면을 관통하여 돌출되도록 설치되어 있고, 돌출된 단부에는 상기 제어부(23)의 제어를 받는 구동수단(25)의 구동축과 커플링으로 연결되어 있다.The rotary shaft 24 projecting downward in the center of the lower surface of the rotor 20 by a predetermined length receives the bearing 15 in the above-described support hole 12 and its end penetrates the lower surface of the vacuum container 100. It is installed to protrude, and the protruding end is coupled to the drive shaft of the drive means 25 under the control of the control unit 23 by a coupling.
이와 같이 이루어진 회전자(20)는 구동수단(25)의 구동속도에 따라 회전속도를 달리하여 회전가능하게 되며, 또한 이 회전속도와 함께 상기 토출구멍(26)의 형성갯수에 따라 토출되는 시료량을 조절할 수 있게 된다.The rotor 20 configured as described above is rotatable by varying the rotational speed according to the driving speed of the driving means 25, and also the amount of sample discharged according to the number of formation of the discharge hole 26 together with the rotational speed. It can be adjusted.
본 발명의 바람직한 구현예에서, 상기 토출구멍(26)은 적어도 2∼6개 정도를 회전자(20)의 윗면에 형성하여, 상기 구동수단(25)의 구동속도를 제어하여 토출구멍(26)과 설치구멍(13)의 겹쳐지는 횟수를 임의로 조절할 수 있게 하여서 시료의 공급량을 임의로 조절할 수 있게 하는 것이 바람직하다.In a preferred embodiment of the present invention, the discharge holes 26 are formed on the upper surface of the rotor 20 at least about 2 to 6, to control the drive speed of the drive means 25 to discharge holes 26 It is preferable to be able to arbitrarily adjust the number of times of overlapping the installation hole 13 and the supply amount of the sample can be arbitrarily adjusted.
여기서, 상기 구동수단(25)은 통상 정역방향으로 회전가능한 스텝모터를 이용하여 회전자(20)의 회전량을 제어하게 되는데, 이를 위해서 진공용기(100)의 외부에 설치된 제어부(23)의 제어에 따라 회전속도를 제어받게 된다.Here, the driving means 25 is to control the amount of rotation of the rotor 20 by using a step motor that can rotate in the normal and reverse direction, for this purpose, the control of the control unit 23 installed outside the vacuum vessel 100 Depending on the rotational speed is controlled.
상기 제어부(23)는 구동수단(25)의 회전속도와 함께 시료의 공급량을 측정하고 이에 대한 데이타를 디스플레이시켜 주는 구성요소로, 상술한 리미트 스위치(14)로부터 시료의 잔여량에 대한 신호를 받아 구동수단(25)의 구동여부를판단하게 되며, 작업자가 박막의 두께에 따라 임의로 제어를 하게 된다.The controller 23 is a component for measuring the supply amount of the sample together with the rotational speed of the driving means 25 and displaying the data thereof. The control unit 23 receives the signal for the remaining amount of the sample from the above-described limit switch 14 and drives it. It is determined whether the means 25 is driven, and the operator arbitrarily controls according to the thickness of the thin film.
즉, 박막의 두께와 시료의 재질 등에 따라 증발히터(110)의 온도와 시료의 공급량 등에 대한 신호를 미리 제어부(23)에 입력시킨 다음 박막 형성을 위한 작업에 들어가게 되는데, 이때 상기 제어부(23)는 회전자(20)의 회전속도를 조절하여 토출구멍(26)을 통해 토출되는 시료의 양을 제어하게 되며, 상기 리미트 스위치(14)에 의해 컨테이너(10)에 남아있는 시료량을 검지하여 이에 대한 신호를 디스플레이 시켜 줌으로써 작업자가 시료공급 시기와 작업의 진행 현황 등을 쉽게 확인할 수 있게 되는 것이다.That is, a signal for the temperature of the evaporation heater 110 and the supply amount of the sample is input to the controller 23 in advance according to the thickness of the thin film and the material of the sample, and then enters a job for forming the thin film. The amount of the sample discharged through the discharge hole 26 is controlled by adjusting the rotational speed of the rotor 20. The limit switch 14 detects the amount of sample remaining in the container 10 and By displaying the signal, the operator can easily check the timing of the sample supply and the progress of the work.
물론, 상기 제어부(23)는 구동수단(25)의 회전속도를 임의로 조절할 수 있게 되는데, 회전속도가 빨라지게 되면 토출구멍(26)이 설치구멍(13)에 설치되는 공급관(30)과 자주 겹쳐지게 되어 시료공급량이 많아지게 되고, 반대로 회전속도가 느려지게 되면 겹쳐지는 횟수가 줄어들어 그만큼 시료공급량은 줄어들게 된다.Of course, the control unit 23 can arbitrarily adjust the rotational speed of the drive means 25. When the rotational speed becomes faster, the discharge hole 26 frequently overlaps the supply pipe 30 installed in the installation hole 13. In this case, the amount of sample supplied increases, and if the rotational speed becomes slow, the number of overlaps decreases, and thus the amount of sample supplied decreases.
여기서, 상기 구동수단(25)은 0∼5prm의 속도로 회전하게 되며, 본 발명의 바람직한 실시예에서 구동수단(25)로 2개의 토출구멍(26)을 갖는 회전자(20)를 2rpm의 속도로 회전시켜 주면서 동시에 직경이 1.5mm인 알루미늄 알갱이를 시료로 사용하였을 때 분당 약 2,500Å의 박막이 증착됨을 실험을 통해 확인하였다.Here, the driving means 25 is rotated at a speed of 0 to 5prm, and in the preferred embodiment of the present invention, the drive means 25 drives the rotor 20 having two discharge holes 26 at a speed of 2 rpm. In the experiment, it was confirmed that about 2,500Å of thin film was deposited per minute when aluminum granules having a diameter of 1.5mm were used as a sample while rotating to.
따라서, 상기 회전자(20)는 제어부(23)의 제어로 회전속도 및 시료량에 따라 회전속도에 제한을 받아 회전하게 되며, 이에 따라 상기 컨테이너 (10)에 채워진 시료가 토출구멍(26)을 통해 컨테이너(10) 외부로 토출시켜 주게 되고, 남아있는 시료는 토출된 양만큼 자중에 의해 경사면(27)을 따라 아래로 흘러 내리면서 다시각 구멍을 통해 토출가능한 상태가 되는 것이다.Therefore, the rotor 20 is rotated by the control of the control unit 23 is limited by the rotational speed according to the rotational speed and the sample amount, and thus the sample filled in the container 10 through the discharge hole 26 The sample is discharged to the outside of the container 10, and the remaining sample flows down along the inclined surface 27 by its own weight by the discharged amount, and is discharged through each hole again.
본 발명의 바람직한 구현예에서는 상기 회전자(20)의 회전으로 토출 구멍(26)을 통해 컨테이너(10) 외부로 토출되는 시료를 증발히터(110)에 공급할 수 있도록 공급관(30)이 구비되어 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the supply pipe 30 is provided to supply the sample discharged to the outside of the container 10 through the discharge hole 26 by the rotation of the rotor 20 to the evaporation heater 110. .
상기 공급관(30)은 일종의 튜브와 같은 파이프로 토출구멍(26)과 겹쳐지도록 컨테이너(10)의 하면에 형성된 설치구멍(13)에 삽입 장착되며, 상술한 바와 같이 회전자(20)가 회전하면서 자중과 회전력에 의해 이 토출구멍(26)으로 떨어지는 시료를 증발히터(110) 상에 공급하게 된다.The supply pipe 30 is a kind of tube and is inserted into the installation hole 13 formed in the lower surface of the container 10 so as to overlap the discharge hole 26, and as the rotor 20 rotates as described above The sample falling into the discharge hole 26 by the weight and the rotational force is supplied onto the evaporation heater 110.
이러한 공급관(30)은 일단이 상술한 바와 같이 컨테이너(10)의 설치구멍(13)에 설치되고 타단이 증발히터(110)의 윗면에 위치하도록 설치되어 있으며, 특히 상기 증발히터(110)의 윗면에 오도록 설치되는 일단부는 급경사지도록 성형하여 시료가 공급관(30)을 타고 아래로 떨어지는 동안 열을 받아 미리 녹아 증발되는 것을 막을 수 있도록 형성되어 있다.One end of the supply pipe 30 is installed in the installation hole 13 of the container 10 as described above, and the other end is installed on the upper surface of the evaporation heater 110. In particular, the upper surface of the evaporation heater 110 is provided. One end portion is installed so as to be inclined so that it is formed so as to prevent the sample from being melted and evaporated in advance while the sample falls down the supply pipe (30).
따라서, 상기 진공용기(100) 내에서 회전자(20)의 회전에 의해 토출구멍(26)이 설치구멍(13)과 겹쳐지면서 공급관(30)을 지나게 되면 상기 토출구멍(26)으로 유입된 시료 입자는 공급관(30)을 따라 아래로 떨어지게 되고, 이렇게 떨어진 시료입자는 상기 공급관(30)을 따라서 증발히터(110)에 공급되어 증발이 일어나게 되고, 이렇게 증발된 증발가스에 의해 시편에 박막이 형성되게 되는 것이다.Therefore, when the discharge hole 26 passes through the supply pipe 30 while the discharge hole 26 overlaps with the installation hole 13 by the rotation of the rotor 20 in the vacuum container 100, the sample introduced into the discharge hole 26. Particles fall down along the supply pipe 30, and the sample particles thus dropped are supplied to the evaporation heater 110 along the supply pipe 30 to evaporate, and a thin film is formed on the specimen by the evaporated gas. It will be.
이상에서 보는 바와 같이 본 발명은 진공용기 내에 시료를 공급받아 증발가스를 생성시켜 박막을 형성함에 있어서, 상기 진공용기 내에서 시료가 일정량씩 장시간에 걸쳐 공급할 수 있게 함으로써, 장시간 동안 박막을 생성하는 과정에서도 별도로 시료공급을 위해 진공을 해제시키지 않고도 증발가스를 지속적으로 얻을 수 있게 되어 양질의 박막과 후막을 얻을 수 있는 효과가 있는 것이다.As described above, in the present invention, when a sample is supplied into a vacuum container to generate an evaporation gas to form a thin film, a process of generating a thin film for a long time by allowing a sample to be supplied for a long time by a predetermined amount in the vacuum container. In addition, the evaporation gas can be continuously obtained without releasing the vacuum to supply the sample separately, which is effective in obtaining high quality thin films and thick films.
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019990038852A KR100315079B1 (en) | 1999-09-11 | 1999-09-11 | Device for automatically supplying specimen of vacuum evaporator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| KR1019990038852A KR100315079B1 (en) | 1999-09-11 | 1999-09-11 | Device for automatically supplying specimen of vacuum evaporator |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20010027218A KR20010027218A (en) | 2001-04-06 |
| KR100315079B1 true KR100315079B1 (en) | 2001-11-24 |
Family
ID=19611125
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019990038852A KR100315079B1 (en) | 1999-09-11 | 1999-09-11 | Device for automatically supplying specimen of vacuum evaporator |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100315079B1 (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114293152A (en) * | 2021-12-22 | 2022-04-08 | 维达力实业（赤壁）有限公司 | Device for adding film material before melting material in crucible |
-
1999
- 1999-09-11 KR KR1019990038852A patent/KR100315079B1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20010027218A (en) | 2001-04-06 |
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