KR20220067866A - Raw material feeder and apparatus for processing substrate having the same - Google Patents

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KR20220067866A
KR20220067866A KR1020200154589A KR20200154589A KR20220067866A KR 20220067866 A KR20220067866 A KR 20220067866A KR 1020200154589 A KR1020200154589 A KR 1020200154589A KR 20200154589 A KR20200154589 A KR 20200154589A KR 20220067866 A KR20220067866 A KR 20220067866A
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황철주
사승엽
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주성엔지니어링(주)
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Abstract

The present invention relates to a raw material feeder and a substrate processing apparatus including the same and, more specifically, to a raw material feeder, which supplies powder raw material and vaporizes the supplied powder raw material to deposit a thin film on a substrate, and a substrate processing apparatus including the same. The raw material feeder according to an embodiment of the present invention comprises: a container storing the powder raw material and having an outlet; a shaft provided in the container to be extended toward the outlet; a screw provided on an outer circumferential surface of the shaft; and a driving unit for independently rotating the container and the shaft.

Description

원료 공급기 및 이를 포함하는 기판 처리 장치{RAW MATERIAL FEEDER AND APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE HAVING THE SAME}Raw material feeder and substrate processing apparatus including the same

본 발명은 원료 공급기 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 원료를 공급하고, 공급된 원료를 기화시켜 기판 상에 박막을 증착하기 위한 원료 공급기 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a raw material supplier and a substrate processing apparatus including the same, and more particularly, to a raw material supplier for supplying a raw material and vaporizing the supplied raw material to deposit a thin film on a substrate, and a substrate processing apparatus including the same will be.

일반적으로, 박막을 형성하는 방법은 물리적인 충돌을 이용하여 박막을 형성하는 물리 기상 증착(PVD; Physical Vapor Deposition) 방법과, 화학 반응을 이용하여 박막을 형성하는 화학 기상 증착(CVD; Chemical Vapor Deposition) 방법으로 구분할 수 있다.In general, a method of forming a thin film includes a physical vapor deposition (PVD) method for forming a thin film using physical collision, and a chemical vapor deposition (CVD) method for forming a thin film using a chemical reaction. ) can be distinguished by

여기서, 화학 기상 증착 방법은 일반적으로 기체 상태의 반응 원료를 이용하지만, 기체 상태의 반응 원료를 제작하기 어려운 경우에는 고체 상태의 분말 원료를 기화시킨 다음 기화된 원료 가스를 이용하여 박막을 증착할 수 있다. 이와 같은 방식으로 박막을 증착하는 기판 처리 장치는 별도의 용기(canister)에 저장된 분말 원료를 공급하기 위한 적어도 하나의 원료 공급기를 구비한다.Here, the chemical vapor deposition method generally uses a gaseous reaction raw material, but when it is difficult to produce a gaseous reaction raw material, a solid powder raw material is vaporized and then a thin film can be deposited using the vaporized raw material gas. have. A substrate processing apparatus for depositing a thin film in this way includes at least one raw material supplier for supplying a powder raw material stored in a separate canister.

일반적으로, 이러한 원료 공급기는 용기의 내부로 소정의 가스를 공급하여 용기와 챔버 사이에 압력차를 발생시키고, 압력차에 의하여 용기에 저장된 분말 원료를 배출하는 방법을 사용하였다. 그러나, 이와 같은 방법은 반복적으로 분말 원료를 공급하는 경우 용기의 내부에 남아있는 분말 원료의 양, 분말 원료의 종류, 습기 함유량 및 정전기 등에 의하여 분말 원료가 배출되는 양이 불균일 또는 불연속하게 되어 공급되는 분말 원료의 양이 매번 달라지는 문제점이 있었다.In general, such a raw material supplier supplies a predetermined gas to the inside of the container to generate a pressure difference between the container and the chamber, and uses a method of discharging the powdered raw material stored in the container by the pressure difference. However, in this method, when the powder raw material is repeatedly supplied, the amount of the powder raw material remaining inside the container, the type of the powder raw material, the moisture content and the amount of the powder raw material discharged due to static electricity etc. becomes non-uniform or discontinuous. There was a problem in that the amount of powder raw material was changed each time.

또한, 최근에는 회로 패턴의 선폭이 줄어듬에 따라 공정에 필요한 미량의 분말 원료를 정해진 양으로 공급하는 것이 더욱 중요한 요소로 작용하고 있다. 즉, 마이크로 캐비티(micro cavity)와 같은 구조와 박막의 두께에 의하여 민감하게 영향을 받는 소자들로 인하여, 증착되는 박막의 두께가 정확하게 제어되어야 하므로 이와 같은 문제점을 해결할 필요성이 보다 절실히 요구되고 있는 실정이다.In addition, in recent years, as the line width of the circuit pattern is reduced, it is more important to supply a small amount of powder raw material required for the process in a predetermined amount. That is, due to devices sensitively affected by structures such as microcavities and the thickness of the thin film, the thickness of the deposited thin film must be precisely controlled. to be.

KRKR 10-2008-001980810-2008-0019808 AA

본 발명은 원료를 정량적으로 공급할 수 있는 원료 공급기 및 이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다.The present invention provides a raw material supplier capable of quantitatively supplying a raw material and a substrate processing apparatus including the same.

본 발명의 실시 예에 따른 원료 공급기는, 원료를 저장하며, 배출구가 마련되는 용기; 일 단부가 상기 배출구 내에 위치하도록 연장되어 상기 용기 내에 마련되는 샤프트; 상기 샤프트의 일 단부를 포함하는 상기 샤프트의 외주면에 마련되는 스크류; 및 상기 용기 및 샤프트를 각각 회전시키기 위한 구동부;를 포함한다.The raw material supply device according to an embodiment of the present invention, the container for storing the raw material, the outlet is provided; a shaft having one end extended to be located in the outlet and provided in the container; a screw provided on an outer circumferential surface of the shaft including one end of the shaft; and a driving unit for rotating the container and the shaft, respectively.

상기 용기 내부로 불활성 가스를 공급하기 위한 노즐;을 더 포함할 수 있다.It may further include a nozzle for supplying an inert gas into the container.

상기 배출구로부터 배출되는 원료의 양을 감지하기 위한 센서;를 더 포함할 수 있다.It may further include; a sensor for detecting the amount of the raw material discharged from the outlet.

상기 용기는 적어도 일부가 상기 배출구로 갈수록 내경이 감소하도록 마련될 수 있다.At least a portion of the container may be provided such that the inner diameter decreases toward the outlet.

상기 구동부는 상기 용기 및 샤프트를 서로 반대 방향으로 회전시킬 수 있다.The driving unit may rotate the container and the shaft in opposite directions.

한편, 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치는, 원료를 저장하는 용기와, 저장된 원료를 배출하기 위한 샤프트가 각각 회전 가능하게 마련되는 원료 공급기; 상기 원료 공급기의 배출구와 연통되어, 상기 원료 공급기로부터 배출되는 분말 원료를 이송하기 위한 이송 배관; 상기 분말 원료를 원료 가스로 기화시키기 위하여, 상기 이송 배관에 마련되는 가열기; 및 상기 원료 가스를 공급받아 기판에 박막을 형성하기 위한 챔버;를 포함한다.On the other hand, a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, a container for storing a raw material, and a raw material supplier in which a shaft for discharging the stored raw material is provided rotatably, respectively; a transfer pipe communicating with the outlet of the raw material feeder to transfer the powdered raw material discharged from the raw material supplier; a heater provided in the transfer pipe to vaporize the powder raw material into a raw material gas; and a chamber for receiving the source gas to form a thin film on the substrate.

상기 원료 공급기에는 저장된 원료를 제1 방향으로 배출하기 위한 배출구가 마련되고, 상기 이송 배관은, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장되어, 상기 챔버에 연결되는 메인 배관; 및 상기 제1 방향과 상기 제2 방향의 사이를 향하는 제3 방향으로 연장되어, 상기 배출구와 상기 메인 배관을 연결하는 연결 배관;을 포함할 수 있다.The raw material feeder is provided with an outlet for discharging the stored raw material in a first direction, the transfer pipe may include a main pipe extending in a second direction crossing the first direction and connected to the chamber; and a connection pipe extending in a third direction between the first direction and the second direction to connect the outlet and the main pipe.

상기 가열기는 상기 메인 배관에 마련될 수 있다.The heater may be provided in the main pipe.

상기 가열기는 상기 메인 배관을 따라 복수로 마련될 수 있다.The heater may be provided in plurality along the main pipe.

본 발명의 실시 예에 따르면, 원료를 저장하는 용기와, 저장된 원료를 배출하기 위한 샤프트를 각각 회전시켜 뭉침성이 높은 원료를 원활하게 배출시킬 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the container for storing the raw material and the shaft for discharging the stored raw material are rotated, respectively, so that the raw material having high agglomeration property can be smoothly discharged.

또한, 원료를 배출하기 위한 배출구까지 샤프트의 외주면에 마련되는 스크류를 연장 형성하여, 용기에 저장된 원료를 안정적으로 유도하여 배출할 수 있다.In addition, by extending the screw provided on the outer circumferential surface of the shaft to the outlet for discharging the raw material, the raw material stored in the container can be stably guided and discharged.

뿐만 아니라, 공급되는 원료의 양을 정량적으로 제어하여 공급함으로써 증착되는 박막의 두께를 정확하게 제어하여 고효율 및 고품위의 박막 제품을 제조할 수 있다.In addition, by quantitatively controlling and supplying the amount of the supplied raw material, it is possible to accurately control the thickness of the deposited thin film to manufacture a high-efficiency and high-quality thin film product.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 원료 공급기를 개략적으로 나타내는 도면.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따라 용기 및 샤프트가 회전하는 모습을 나타내는 도면.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 나타내는 도면.1 is a view schematically showing a raw material feeder according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a view showing a state that the container and the shaft rotates according to an embodiment of the present invention.
3 is a view schematically showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 발명의 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 발명을 상세하게 설명하기 위해 도면은 과장되어 도시될 수 있으며, 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various different forms, only the embodiments of the present invention allow the disclosure of the present invention to be complete, and the scope of the invention to those of ordinary skill in the art It is provided to fully inform In order to describe the invention in detail, the drawings may be exaggerated, and like reference numerals refer to like elements in the drawings.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 원료 공급기를 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 2는 본 발명의 실시 예에 따라 용기 및 샤프트가 회전하는 모습을 나타내는 도면이다.1 is a view schematically showing a raw material feeder according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a view showing a state in which a container and a shaft rotate according to an embodiment of the present invention.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 원료 공급기(100)는, 원료를 저장하며, 배출구(116)가 마련되는 용기(110), 상기 배출구(116)를 향하여 연장되도록 상기 용기 내에 마련되는 샤프트(130), 상기 샤프트(130)의 외주면에 마련되는 스크류(140) 및 상기 용기(110) 및 샤프트(130)를 각각 회전시키기 위한 구동부(150)를 포함한다.1 and 2 , the raw material supplier 100 according to an embodiment of the present invention stores raw materials and extends toward the container 110 in which the outlet 116 is provided and the outlet 116. It includes a shaft 130 provided in the container, a screw 140 provided on an outer peripheral surface of the shaft 130 , and a driving unit 150 for rotating the container 110 and the shaft 130 , respectively.

용기(110)는 원료를 저장하며, 저장된 원료를 배출하기 위한 배출구(116)가 마련된다. 여기서, 원료는 분말 원료를 포함할 수 있으며, 분말 원료는 분말 형태를 가지는 고체 상태의 증착 원료를 의미한다. 이러한, 용기(110)는 용기 본체(112) 및 용기 덮개(114)를 포함할 수 있다.The container 110 stores raw materials, and an outlet 116 for discharging the stored raw materials is provided. Here, the raw material may include a powder raw material, and the powder raw material means a solid deposition raw material having a powder form. The container 110 may include a container body 112 and a container cover 114 .

용기 본체(112)는 내부에 소정의 공간이 마련되어 원료를 저장한다. 이러한 용기 본체(112)는 적어도 일부가 배출구(116)로 갈수록 내경이 감소하도록 마련될 수 있다. 즉, 용기 본체(112)는 하측이 감소된 내경을 가지도록 마련될 수 있다.The container body 112 is provided with a predetermined space therein to store raw materials. At least a portion of the container body 112 may be provided so that the inner diameter decreases toward the outlet 116 . That is, the container body 112 may be provided so that the lower side has a reduced inner diameter.

예를 들어, 용기 본체(112)는 상부로부터 하측으로 소정 영역까지 일정한 내경을 가지며, 그로부터 하측으로 점점 감소된 내경을 가지며, 그로부터 하측으로 다시 일정한 내경을 가지도록 마련될 수 있다. 즉, 용기 본체(112)는 깔때기 형상으로 마련될 수 있다. 이러한 용기 본체(112)는 전체가 깔때기 형상으로 마련될 수도 있고, 외측은 수직 형상을 가지며, 내측이 깔때기 형상으로 마련될 수도 있다. 이때, 용기 본체(112)의 하부에 위치한 감소된 내경을 가지는 영역은 원료가 배출되는 배출구(116)가 된다.For example, the container body 112 may be provided to have a constant inner diameter from the upper side to the lower side to a predetermined area, have an inner diameter gradually decreased downward therefrom, and to have a constant inner diameter again downward therefrom. That is, the container body 112 may be provided in a funnel shape. The container body 112 may be provided as a whole in a funnel shape, the outside may have a vertical shape, and the inside may be provided in a funnel shape. At this time, a region having a reduced inner diameter located in the lower portion of the container body 112 becomes the outlet 116 through which the raw material is discharged.

도 1 및 도 2에 도시되지는 않았으나, 본 발명의 실시 예에 따른 원료 공급기에는 원료의 배출량을 감지하기 위한 센서가 마련될 수 있다. 센서는 배출구(116)를 통하여 배출되는 원료의 배출량을 감지하기 위하여 배출구(116) 내부 또는 배출구(116)와 인접한 위치에 배치되도록 용기 본체(112)에 마련될 수 있다. 또한, 도 3에 도시된 바와 같이 센서(160)는 본 발명의 실시 예에 따른 원료 공급기를 포함하는 기판 처리 장치에 마련되어, 배출구(116)와 메인 배관(210)을 연결하는 연결 배관(220)에 설치될 수도 있다. 이와 같은 센서(160)는 배출구(116)로부터 배출되는 원료의 배출량을 공지된 다양한 방법을 사용하여 감지할 수 있다.Although not shown in FIGS. 1 and 2 , a sensor for detecting a discharge amount of a raw material may be provided in the raw material feeder according to an embodiment of the present invention. The sensor may be provided in the container body 112 to be disposed in the outlet 116 or in a position adjacent to the outlet 116 in order to detect the amount of the raw material discharged through the outlet 116 . In addition, as shown in FIG. 3 , the sensor 160 is provided in the substrate processing apparatus including the raw material supplier according to an embodiment of the present invention, and a connection pipe 220 connecting the outlet 116 and the main pipe 210 is provided. may be installed in Such a sensor 160 may detect the amount of raw material discharged from the outlet 116 using various well-known methods.

이때, 용기 본체(112)에는 진동이 인가될 수 있다. 즉, 내부에 저장된 원료를 혼합하거나, 내부에 저장된 원료가 배출구(116)를 통하여 원활하게 배출되도록, 용기 본체(112)에는 진동이 인가될 수 있다. 용기 본체(112)에 직접적으로 진동을 인가하기 위하여 용기 본체(112)에는 진동부(미도시)가 설치될 수 있다. 진동부는 진동 모터를 포함하는 바이브레이터(vibrator)로 구성될 수 있으며, 후술하는 구동부(150)와 연결되어 용기 본체(112)에 진동을 인가할 수 있다.At this time, vibration may be applied to the container body 112 . That is, vibration may be applied to the container body 112 to mix the raw materials stored therein, or to allow the raw materials stored therein to be smoothly discharged through the outlet 116 . In order to directly apply vibration to the container body 112 , a vibrating unit (not shown) may be installed in the container body 112 . The vibrator may be configured as a vibrator including a vibration motor, and may be connected to a driving unit 150 to be described later to apply vibration to the container body 112 .

한편, 용기 본체(112)는 구동부(150)와 연결되어 회전할 수 있다. 즉, 용기 본체(112)는 내부에 저장된 원료를 혼합하거나, 내부에 저장된 원료를 배출구(116)를 통하여 원활하게 배출되도록 구동부(150)와 연결되어 회전할 수 있다. 용기 본체(112)를 회전시켜 원료를 배출하는 세부 구성과 관련하여는 도 2를 참고하여 후술하기로 한다.Meanwhile, the container body 112 may be connected to the driving unit 150 to rotate. That is, the container body 112 may be connected to the driving unit 150 to rotate to mix the raw materials stored therein, or to smoothly discharge the raw materials stored therein through the outlet 116 . A detailed configuration for discharging raw materials by rotating the container body 112 will be described later with reference to FIG. 2 .

용기 덮개(114)는 용기 본체(112)의 상부에 개폐 가능하게 결합될 수 있다. 즉, 용기 본체(112) 상에 용기 덮개(114)가 마련되어 원료를 저장하고 밀폐할 수 있다. 도시되지는 않았으나, 용기 덮개(114)의 일 영역에는 원료를 공급하기 위한 투입구가 마련될 수 있다. 투입구는 원료 공급관(미도시)을 통하여 원료 저장부(미도시)와 연결될 수 있다. 따라서, 원료 저장부에 저장된 원료는 원료 공급관 및 투입구를 통하여 용기 본체(112)의 내부로 공급될 수 있다. 이때, 원료 공급관의 소정 영역에는 원료의 공급을 제어하는 밸브 등과 같은 제어기가 마련될 수 있다. 한편, 용기 덮개(114)에는 투입구 및 원료 공급관이 마련되지 않고, 용기 본체(112)로부터 용기 덮개(114)를 분리 또는 개방시킨 후 용기 본체(112)의 내부 공간에 원료를 투입할 수도 있음은 물론이다.The container cover 114 may be openably coupled to the upper portion of the container body 112 . That is, the container cover 114 is provided on the container body 112 to store and seal the raw material. Although not shown, an inlet for supplying a raw material may be provided in one region of the container cover 114 . The inlet may be connected to a raw material storage unit (not shown) through a raw material supply pipe (not shown). Accordingly, the raw material stored in the raw material storage unit may be supplied to the inside of the container body 112 through the raw material supply pipe and the inlet. In this case, a controller such as a valve for controlling the supply of the raw material may be provided in a predetermined region of the raw material supply pipe. On the other hand, the container cover 114 is not provided with an inlet and a raw material supply pipe, and after separating or opening the container cover 114 from the container body 112, the raw material may be put into the inner space of the container body 112. Of course.

본 발명의 실시 예에 따른 원료 공급기(100)는 용기 본체(112)의 내부로 불활성 가스를 공급하기 위한 노즐(118)을 더 포함할 수 있다. 이와 같은 노즐(118)은 용기 덮개(114)를 관통하여 설치될 수 있으며, 용기 본체(112)의 내부로 아르곤(Ar) 등과 같은 불활성 가스를 공급할 수 있다. 이와 같이, 노즐(118)을 통하여 용기 본체(112)의 내부로 불활성 가스를 공급하게 되면, 용기 본체(112) 내부의 압력을 증가시킬 수 있게 되고, 이에 의하여 원료 공급기(100)와 후술할 챔버(310) 사이의 압력 차이를 발생시켜 용기 본체(112)에 저장된 원료가 배출구(116)를 통하여 원활하게 배출될 수 있게 된다.The raw material supplier 100 according to an embodiment of the present invention may further include a nozzle 118 for supplying an inert gas to the interior of the container body 112 . Such a nozzle 118 may be installed through the container cover 114, and may supply an inert gas such as argon (Ar) to the inside of the container body 112 . In this way, when the inert gas is supplied to the inside of the container body 112 through the nozzle 118, the pressure inside the container body 112 can be increased, whereby the raw material supplier 100 and the chamber to be described later. By generating a pressure difference between the 310 , the raw material stored in the container body 112 can be smoothly discharged through the outlet 116 .

샤프트(130)는 배출구(116)를 향하여 연장되도록 용기 본체(112)의 내부에 마련될 수 있다. 이때, 샤프트(130)는 용기 덮개(114)로부터 배출구(116)를 향하여 하측으로 수직 연장되도록 마련될 수 있다. 이와 같은, 샤프트(130)는 후술하는 구동부(150)와 연결되어 회전할 수 있다. 또한, 샤프트(130)는 회전하면서 상하 방향으로 이동할 수 있으며, 상하 방향으로 이동한 후 회전하거나, 회전한 후 상하 방향으로 이동할 수도 있다.The shaft 130 may be provided inside the container body 112 to extend toward the outlet 116 . At this time, the shaft 130 may be provided to vertically extend downwardly from the container cover 114 toward the outlet 116 . As such, the shaft 130 may rotate in connection with a driving unit 150 to be described later. In addition, the shaft 130 may move in the vertical direction while rotating, and may rotate after moving in the vertical direction, or may move in the vertical direction after rotating.

이때, 샤프트(130)는 용기 본체(110)의 내부 형상에 대응되는 형상으로 마련될 수도 있다. 즉, 샤프트(130)는 원기둥 형상으로 마련될 수 있으며, 하측의 일부 영역이 다른 영역에 비해 작은 직경을 가지도록 마련될 수도 있다. 예를 들어, 샤프트(130)는 상부로부터 하측으로 소정 영역까지 제1 직경을 갖는 제1 영역이 마련되고, 그로부터 하측으로 제1 직경보다 작은 제2 직경을 갖는 제2 영역이 마련될 수 있다. 또한, 제1 영역과 제2 영역 사이에 제1 직경으로부터 제2 직경까지 폭이 좁아지는 제3 영역이 더 마련될 수도 있다. 이때, 제1 직경은 배출구(116)의 내경보다 클 수 있으며, 제2 직경은 배출구(112)의 내경보다 작을 수 있다. 즉, 샤프트(130) 하측의 일 단부인 제2 영역이 용기 본체(110) 하측의 배출구(116)에 위치할 수 있도록 제2 직경은 배출구(116)의 내경보다 작게 마련될 수 있다.In this case, the shaft 130 may be provided in a shape corresponding to the inner shape of the container body 110 . That is, the shaft 130 may be provided in a cylindrical shape, and a portion of the lower portion may be provided to have a smaller diameter than other areas. For example, the shaft 130 may be provided with a first area having a first diameter from an upper portion to a lower portion to a predetermined area, and a second area having a second diameter smaller than the first diameter may be provided downward therefrom. Also, a third region having a narrower width from the first diameter to the second diameter may be further provided between the first region and the second region. In this case, the first diameter may be larger than the inner diameter of the outlet 116 , and the second diameter may be smaller than the inner diameter of the outlet 112 . That is, the second diameter may be provided to be smaller than the inner diameter of the outlet 116 so that the second region, which is one end of the shaft 130, is located in the outlet 116 at the lower side of the container body 110 .

또한, 샤프트(130)의 제2 영역은 배출구(116)의 길이보다 길거나, 같은 길이로 마련될 수 있다. 이는 배출구(116)에 샤프트(130)의 제2 영역이 삽입될 때 삽입되지 않는 제1 영역이 배출구(116)의 입구와 접촉되지 않도록 하기 위함이다. 이러한 샤프트(130)는 하측으로 이동하면서 배출구(116)에 압력을 인가할 수 있고, 그에 따라 배출구(116)에 고인 원료를 하측으로 이동시킬 수 있다. 즉, 샤프트(130)가 하측으로 이동하면서 배출구(116)에 압력을 인가할 수 있으므로, 배출구(116) 내의 원료 분말(10)은 하측으로 원활하게 공급될 수 있다.In addition, the second region of the shaft 130 may be provided with a length equal to or longer than the length of the outlet 116 . This is to prevent the first region not being inserted into contact with the inlet of the outlet 116 when the second region of the shaft 130 is inserted into the outlet 116 . The shaft 130 may apply pressure to the outlet 116 while moving downward, and thus may move the raw material accumulated in the outlet 116 to the lower side. That is, since the shaft 130 can apply pressure to the outlet 116 while moving downward, the raw material powder 10 in the outlet 116 can be smoothly supplied to the lower side.

스크류(140)는 샤프트(130)의 외주면에 마련되며, 샤프트(130)가 회전함에 따라 회전 가능하도록 마련된다. 예를 들어, 스크류(140)는 샤프트(130)의 샤프트(130)의 외측면을 따라 마련되고, 샤프트(130)와 함께 회전할 수 있다. 즉, 샤프트(130)가 구동부(150)에 의하여 회전함에 따라 스크류(140)가 동시에 회전할 수 있다.The screw 140 is provided on the outer peripheral surface of the shaft 130 and is provided to be rotatable as the shaft 130 rotates. For example, the screw 140 is provided along the outer surface of the shaft 130 of the shaft 130 , and may rotate together with the shaft 130 . That is, as the shaft 130 rotates by the driving unit 150 , the screw 140 may rotate at the same time.

이와 같은 스크류(140)는 샤프트(130)의 상부로부터 하측의 일 단부를 포함하는 샤프트(130)의 외주면까지 연장되도록 마련될 수 있다. 즉, 스크류(140)는 샤프트(130)의 상부로부터 하단부의 외주면까지 연장되도록 마련될 수 있다. 이때, 전술한 바와 같이 샤프트(130)는 하단부가 배출구(116) 내에 위치하도록 연장될 수 있으며, 스크류(140)는 배출구(116) 내에 위치한 샤프트(130)의 하단부의 외주면까지 연장되도록 마련될 수 있다. 또한, 전술한 바와 같이 샤프트(130)가 제1 직경을 갖는 제1 영역 및 상기 제1 직경보다 작은 제2 직경을 갖는 제2 영역을 포함하는 경우 스크류(140)는 제1 영역으로부터 제2 영역까지 연장되어 마련될 수 있다. 이와 같이, 스크류(140)를 샤프트(130)의 상부로부터 하측의 일 단부를 포함하는 샤프트(130)의 외주면까지 연장되도록 마련하는 경우, 용기 본체(112)에 저장된 원료를 샤프트(130)의 회전에 의하여 배출구(116)의 외측으로 안정적으로 유도하여 배출할 수 있게 된다.Such a screw 140 may be provided to extend from the upper portion of the shaft 130 to the outer peripheral surface of the shaft 130 including one end at the lower side. That is, the screw 140 may be provided to extend from the upper portion of the shaft 130 to the outer peripheral surface of the lower end portion. At this time, as described above, the shaft 130 may extend so that the lower end thereof is located in the outlet 116 , and the screw 140 may be provided to extend to the outer peripheral surface of the lower end of the shaft 130 located in the outlet 116 . have. In addition, as described above, when the shaft 130 includes a first region having a first diameter and a second region having a second diameter smaller than the first diameter, the screw 140 moves from the first region to the second region. It may be extended to . In this way, when the screw 140 is provided to extend from the upper part of the shaft 130 to the outer peripheral surface of the shaft 130 including one end at the lower side, the raw material stored in the container body 112 is rotated by the shaft 130 . By this, it is possible to stably guide and discharge the outlet 116 to the outside.

구동부(150)는 용기(110) 및 샤프트(130)를 각각 회전시키기 위하여 마련된다. 또한, 구동부(150)에 의하여 샤프트(130)는 상하 이동할 수도 있다. 도면에서는 하나의 구동부(150)에 의하여 용기(110) 및 샤프트(130)를 각각 회전시키는 것으로 도시하였으나, 구동부(150)는 복수로 마련되어 용기(110) 및 샤프트(130)를 각각 회전시킬 수도 있음은 물론이다.The driving unit 150 is provided to respectively rotate the container 110 and the shaft 130 . In addition, the shaft 130 may move up and down by the driving unit 150 . Although the drawing shows that the container 110 and the shaft 130 are rotated by one driving unit 150, respectively, the driving unit 150 may be provided in plurality to rotate the vessel 110 and the shaft 130, respectively. is of course

이러한, 구동부(150)는 도 2에 도시된 바와 같이, 용기(110) 및 샤프트(130)를 서로 반대 방향으로 회전시킬 수 있다. 즉, 구동부(150)는 샤프트(130)를 스크류(140)의 진행 방향을 따라 회전시키고, 용기 본체(112)를 샤프트(130)의 회전 방향과 반대되는 방향으로 회전시킬 수 있다. 즉, 스크류(140)가 시계 방향으로 회전하여 원료를 하측으로 이동시키도록 마련되면, 구동부(150)는 샤프트(130)를 시계 방향으로 회전시키고, 용기 본체(112)를 반시계 방향으로 회전시킬 수 있다. 이와 반대로, 스크류(140)가 반시계 방향으로 회전하여 원료를 하측으로 이동시키도록 마련되면, 구동부(150)는 샤프트(130)를 반시계 방향으로 회전시키고, 용기 본체(112)를 시계 방향으로 회전시켜 원료를 스크류(140)의 진행 방향에 따라 배출구(116)로 이동시킬 수 있다.As shown in FIG. 2 , the driving unit 150 may rotate the container 110 and the shaft 130 in opposite directions. That is, the driving unit 150 may rotate the shaft 130 along the traveling direction of the screw 140 , and rotate the container body 112 in a direction opposite to the rotation direction of the shaft 130 . That is, when the screw 140 is rotated clockwise to move the raw material downward, the driving unit 150 rotates the shaft 130 clockwise and rotates the container body 112 counterclockwise. can Conversely, when the screw 140 is rotated counterclockwise to move the raw material downward, the driving unit 150 rotates the shaft 130 counterclockwise and turns the container body 112 clockwise. By rotating it, the raw material may be moved to the outlet 116 according to the moving direction of the screw 140 .

여기서, 원료가 배출구(116)로 이송되는 양은 원료가 샤프트(130)에 접촉되는 접촉 면적, 샤프트(130)의 회전수, 스크류(140)의 피치 간격 등으로 조절이 가능하다. 특히, 구동부(150)는 샤프트(130)를 펄스 형태로 동작시켜 샤프트(130)의 회전수를 미세하고 정밀하게 제어함으로써 미량의 원료를 정해진 양만큼 배출할 수 있다. 이와 같이 구동부(150)가 샤프트(130)를 펄스 형태로 동작시키는 경우, 구동부(150)는 용기 본체(112)를 샤프트(130)의 회전 방향과 반대되는 방향으로 연속적으로 회전시킬 수 있으며, 이에 의하여 용기 본체(112)의 내부에 저장된 원료, 특히 용기 본체(112)의 내부 가장자리에 저장된 원료는 배출구(116)를 통하여 원활하게 배출될 수 있다.Here, the amount of the raw material transferred to the outlet 116 can be adjusted by the contact area between the raw material and the shaft 130 , the number of rotations of the shaft 130 , the pitch interval of the screw 140 , and the like. In particular, the driving unit 150 operates the shaft 130 in a pulse form to finely and precisely control the number of rotations of the shaft 130 , thereby discharging a small amount of raw material by a predetermined amount. As such, when the driving unit 150 operates the shaft 130 in a pulse form, the driving unit 150 may continuously rotate the container body 112 in a direction opposite to the rotation direction of the shaft 130 , and thus Thus, the raw material stored inside the container body 112, in particular, the raw material stored on the inner edge of the container body 112 can be smoothly discharged through the outlet 116.

이하에서는 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치에 대하여 보다 상세하게 설명하기로 한다. 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 전술한 본 발명의 실시 예에 따른 원료 공급기(100)로부터 원료를 공급받아 이를 기화시켜 박막을 증착하는 장치로서, 원료 공급기(100)와 관련하여 전술한 내용이 그대로 적용될 수 있으므로, 이와 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in more detail. A substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention is an apparatus for depositing a thin film by receiving a raw material supplied from the raw material supplier 100 according to the embodiment of the present invention and vaporizing it, and is described above with respect to the raw material supplier 100 . Since the content may be applied as it is, a redundant description thereof will be omitted.

도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.3 is a diagram schematically illustrating a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치는, 원료를 저장하는 용기(110)와, 저장된 원료를 배출하기 위한 샤프트(130)가 각각 회전 가능하게 마련되는 원료 공급기(100), 상기 원료 공급기(100)의 배출구(116)와 연통되어, 상기 원료 공급기(100)로부터 배출되는 원료를 이송하기 위한 이송 배관(200), 상기 원료를 원료 가스로 기화시키기 위하여, 상기 이송 배관(200)에 마련되는 가열기(400) 및 상기 원료 가스를 공급받아 기판(S)에 박막을 형성하기 위한 챔버(310)를 포함한다.Referring to FIG. 3 , in the substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, a container 110 for storing raw materials and a shaft 130 for discharging the stored raw materials are provided rotatably in a raw material supplier 100 , respectively. , in communication with the outlet 116 of the raw material supplier 100, a transfer pipe 200 for transferring the raw material discharged from the raw material supplier 100, the transfer pipe 200 to vaporize the raw material into raw material gas ( It includes a heater 400 provided in the 200 and a chamber 310 for forming a thin film on the substrate S by receiving the source gas.

원료 공급기(100)는 원료를 저장하는 용기(110)와, 저장된 원료를 배출하기 위한 샤프트(130)가 각각 회전 가능하게 마련되어, 내부에 저장된 원료를 정량적으로 배출한다. 여기서, 원료 공급기(100)는, 원료를 저장하며, 배출구(116)가 마련되는 용기(110), 상기 배출구(116)를 향하여 연장되도록 상기 용기 내에 마련되는 샤프트(130), 상기 샤프트(130)의 외주면에 마련되는 스크류(140) 및 상기 용기(110) 및 샤프트(130)를 각각 회전시키기 위한 구동부(150)를 포함할 수 있으며, 원료 공급기(100)의 세부 구조와 관련하여는 전술한 내용이 그대로 적용될 수 있으므로 중복적인 설명은 생략하기로 한다.The raw material supplier 100 includes a container 110 for storing raw materials and a shaft 130 for discharging the stored raw materials to be rotatably provided, respectively, to quantitatively discharge the raw materials stored therein. Here, the raw material supplier 100 stores the raw material, and the container 110 in which the outlet 116 is provided, the shaft 130 provided in the container to extend toward the outlet 116, the shaft 130 It may include a screw 140 provided on the outer circumferential surface of the driving unit 150 for rotating each of the container 110 and the shaft 130, and the detailed structure of the raw material feeder 100 is described above. Since this can be applied as it is, a redundant description will be omitted.

이송 배관(200)은 원료 공급기(100)의 배출구(116)와 연통되어, 상기 원료 공급기(100)로부터 배출되는 원료를 이송한다. 여기서, 이송 배관(200)은 원료 공급기(100)의 배출구와 챔버(310)를 서로 연결할 수 있다.The transfer pipe 200 communicates with the outlet 116 of the raw material supplier 100 to transfer the raw material discharged from the raw material supplier 100 . Here, the transfer pipe 200 may connect the outlet of the raw material supplier 100 and the chamber 310 to each other.

이때, 원료 공급기(100)에는 저장된 원료를 제1 방향으로 배출하기 위한 배출구(116)가 마련되고, 상기 이송 배관(200)은 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장되어 상기 챔버(310)에 연결되는 메인 배관(210) 및 상기 제1 방향과 상기 제2 방향의 사이를 향하는 제3 방향으로 연장되어 상기 배출구(116)과 메인 배관(210)을 연결하는 연결 배관(220)을 포함할 수 있다.At this time, the raw material supplier 100 is provided with an outlet 116 for discharging the stored raw material in a first direction, and the transfer pipe 200 extends in a second direction intersecting the first direction to the chamber 310 . ) and a connection pipe 220 extending in a third direction toward between the first direction and the second direction and connecting the outlet 116 and the main pipe 210 to the main pipe 210 connected to the can do.

전술한 바와 같이, 용기 본체(112)의 하부에는 용기 본체(112)의 내부에 저장된 원료를 하측으로 배출하기 위한 배출구(116)가 마련될 수 있다. 이때, 메인 배관(210)은 원료가 배출되는 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 마련될 수 있는데, 예를 들어 도 3에 도시된 바와 같이 메인 배관(210)은 수평 방향으로 연장되어 원료 공급기(100)로부터 배출되는 원료를 우측으로 이송하도록 마련될 수 있다. 이때, 연결 배관(220)은 상기 제1 방향과 상기 제2 방향의 사이를 향하는 제3 방향, 즉 배출구(116)로부터 우측 하부로 연장되어 배출구(116)와 메인 배관(210)을 연결할 수 있다. 이와 같이, 연결 배관(220)을 배출구(116)와 메인 배관(210) 사이에서 메인 배관(210)을 통한 원료의 이송 방향에 치우치도록 연장하여 마련함으로써, 배출구(116)로부터 배출되는 원료가 메인 배관(210) 내에 정체되지 않고, 메인 배관(210)을 따라 챔버(310) 측으로 원활하게 이송될 수 있다.As described above, the lower portion of the container body 112 may be provided with a discharge port 116 for discharging the raw material stored in the interior of the container body 112 to the lower side. At this time, the main pipe 210 may be provided in a second direction that intersects the first direction through which the raw material is discharged. For example, as shown in FIG. 3 , the main pipe 210 extends in the horizontal direction to supply the raw material. It may be provided to transport the raw material discharged from (100) to the right. At this time, the connection pipe 220 may extend in a third direction between the first direction and the second direction, that is, from the outlet 116 to the lower right side to connect the outlet 116 and the main pipe 210 . . In this way, by providing the connection pipe 220 between the outlet 116 and the main pipe 210 to be biased toward the transfer direction of the raw material through the main pipe 210, the raw material discharged from the outlet 116 is It does not stagnate in the main pipe 210 , and may be smoothly transferred to the chamber 310 side along the main pipe 210 .

여기서, 메인 배관(210)을 통한 원료의 이송은 다양한 방법에 의하여 이루어질 수 있다. 즉, 메인 배관(210)의 일측, 예를 들어 메인 배관(210)의 좌측으로부터 우측으로 프레스(미도시)를 이동시켜 원료를 메인 배관(210)의 우측으로 이동시킬 수도 있으며, 메인 배관(210)의 좌측에 캐리어 가스 분사부(미도시)를 설치하여 캐리어 가스 분사부(미도시)로부터 분사되는 캐리어 가스에 의하여 원료를 메인 배관(210)의 우측으로 이동시킬 수도 있다. 또한, 메인 배관(210)이 하향 연장되도록 구성하여 원료를 자중에 의하여 이동시키는 등 메인 배관(210)을 통한 원료의 이송은 다양한 방법에 의하여 이루어질 수 있다.Here, the transfer of the raw material through the main pipe 210 may be accomplished by various methods. That is, the raw material may be moved to the right side of the main pipe 210 by moving a press (not shown) from one side of the main pipe 210 , for example, from the left side of the main pipe 210 to the right side, and the main pipe 210 . ) may be installed on the left side of the carrier gas injection unit (not shown) to move the raw material to the right side of the main pipe 210 by the carrier gas injected from the carrier gas injection unit (not shown). In addition, the main pipe 210 is configured to extend downward, and the raw material is transferred through the main pipe 210 by various methods, such as moving the raw material by its own weight.

가열기(400)는 원료를 이송 배관(200) 내에서 기체 상태를 가지는 원료 가스로 기화시키기 위하여 이송 배관(200)에 마련될 수 있다. 여기서, 가열기(400)는 이송 배관(200)의 내측 또는 외측에 마련될 수 있다. 또한, 가열기(400)는 이송 배관(200) 중에 마련될 수도 있다. 즉, 가열기(400)는 이송 배관의 일부를 이루도록 마련될 수도 있다. 전술한 바와 같이, 이송 배관(200)이 메인 배관(210) 및 연결 배관(200)을 포함하는 경우에 가열기(400)는 메인 배관(210)에 마련되어 원료를 메인 배관(210) 내에서 기체 상태를 가지는 원료 가스로 기화시킬 수 있다.The heater 400 may be provided in the transfer pipe 200 to vaporize the raw material into the raw material gas having a gaseous state in the transfer pipe 200 . Here, the heater 400 may be provided inside or outside the transfer pipe 200 . In addition, the heater 400 may be provided in the transfer pipe 200 . That is, the heater 400 may be provided to form a part of the transfer pipe. As described above, when the transfer pipe 200 includes the main pipe 210 and the connecting pipe 200 , the heater 400 is provided in the main pipe 210 to supply the raw material to the main pipe 210 in a gaseous state. It can be vaporized with a source gas having

이와 같은 가열기(400)는 메인 배관(210)을 따라 복수로 마련될 수 있다. 즉, 가열기(400)는 메인 배관(210) 중 배출구(116)에 상대적으로 인접한 위치에 마련되는 제1 가열기(410) 및 챔버(310)에 상대적으로 인접한 위치에 마련되는 제2 가열기(420)를 포함할 수 있다. 여기서, 제1 가열기(410)와 제2 가열기(420)는 동일한 방식 또는 서로 상이한 방식으로 원료를 가열하여 원료 가스로 기화시킬 수 있다. 예를 들어, 제1 가열기(410)와 제2 가열기(420) 중 어느 하나는 원료를 직접 가열하고, 다른 하나는 원료를 간접 가열할 수 있다. 여기서, 직접 가열은 원료를 메인 배관(210) 내에서 직접 가열하는 것으로, 이때의 가열기는 연소 가스를 원료에 공급하여 가열하는 기화기를 포함하거나, 메인 배관(210) 내에 배치되는 핫 플레이트(hot plate) 등와 같은 발열 부재를 포함할 수 있다. 또한, 간접 가열은 원료가 경유하는 메인 배관(210)의 일 영역을 가열하는 것으로, 이때의 가열기는 메인 배관(210)을 감싸도록 열선이나 유도 코일을 배치한 자켓 히터(jacket heater)를 포함하거나, 메인 배관(210) 외측에 배치되는 가열 부재를 포함할 수 있다. 한편, 제1 가열기(410)와 제2 가열기(420)는 모두 원료를 직접적으로 가열하거나, 모두 원료를 간접적으로 가열할 수도 있음은 물론이다. 이와 같이, 가열기(400)를 메인 배관(210)을 따라 복수로 마련함으로써 메인 배관(210)을 통하여 이송되는 원료를 메인 배관(210) 내에서 효과적으로 기화시킬 수 있다. 도 3에서는 가열기(400)가 2개로 마련되는 구성을 예로 들어 도시하였으나, 가열기(400)의 개수는 이에 제한되지 않으며, 메인 배관(210)을 따라 3개 이상으로 마련될 수도 있음은 물론이다.A plurality of such heaters 400 may be provided along the main pipe 210 . That is, the heater 400 includes a first heater 410 provided at a position relatively adjacent to the outlet 116 of the main pipe 210 and a second heater 420 provided at a location relatively adjacent to the chamber 310 . may include Here, the first heater 410 and the second heater 420 may heat the raw material in the same or different manners to vaporize the raw material into the raw material gas. For example, any one of the first heater 410 and the second heater 420 may directly heat the raw material, and the other may indirectly heat the raw material. Here, the direct heating refers to heating the raw material directly in the main pipe 210 , and the heater at this time includes a vaporizer that heats the raw material by supplying combustion gas to the raw material, or a hot plate disposed in the main pipe 210 . ) may include a heating member, such as. In addition, indirect heating is to heat a region of the main pipe 210 through which the raw material passes, and the heater at this time includes a jacket heater in which a heating wire or an induction coil is disposed to surround the main pipe 210 or , may include a heating member disposed outside the main pipe 210 . On the other hand, of course, both the first heater 410 and the second heater 420 may directly heat the raw material, or both may indirectly heat the raw material. As described above, by providing a plurality of heaters 400 along the main pipe 210 , the raw material transferred through the main pipe 210 can be effectively vaporized in the main pipe 210 . Although FIG. 3 illustrates a configuration in which two heaters 400 are provided as an example, the number of heaters 400 is not limited thereto, and three or more heaters may be provided along the main pipe 210 as a matter of course.

챔버(310)는 메인 배관(210)과 연결되고, 메인 배관(210)에서 원료로부터 기화된 원료 가스를 제공받는 반응 공간을 가진다. 즉, 챔버(310)는 소정의 반응 공간을 마련하고, 이를 기밀하게 유지시킨다. 챔버(310)는 대략 원형 또는 사각형의 평면부 및 평면부로부터 상향 연장된 측벽부를 포함하여 소정의 반응 공간을 가지는 몸체와, 대략 원형 또는 사각형으로 몸체 상에 위치하여 챔버를 기밀하게 유지하는 덮개를 포함할 수 있다. 그러나, 챔버(400)는 이에 한정되지 않고 기판(S)의 형상에 대응하는 다양한 형상으로 제작될 수 있다.The chamber 310 is connected to the main pipe 210 and has a reaction space that receives the raw material gas vaporized from the raw material in the main pipe 210 . That is, the chamber 310 prepares a predetermined reaction space and keeps it airtight. The chamber 310 includes a body having a predetermined reaction space including a substantially circular or rectangular flat portion and a sidewall portion extending upward from the flat portion, and a cover positioned on the body in an approximately circular or square shape to keep the chamber airtight. may include However, the chamber 400 is not limited thereto and may be manufactured in various shapes corresponding to the shape of the substrate S.

챔버(310) 내에는 메인 배관(210)과 연결되어 원료 가스를 반응 공간에 분사하기 위한 가스 분사부(320)가 마련될 수 있다. 가스 분사부(320)는 상기 챔버(310) 내부, 예를 들어 덮개의 하면에 설치되어, 원료 가스를 기판(S)에 분사할 수 있다.A gas injection unit 320 connected to the main pipe 210 may be provided in the chamber 310 to inject a source gas into the reaction space. The gas injection unit 320 may be installed inside the chamber 310 , for example, on a lower surface of a cover, and may inject a source gas to the substrate S.

또한, 챔버(310) 내에는 상기 가스 분사부(320)와 대향 배치되어 반응 공간에 제공된 기판(S)을 안착시키기 위한 기판 지지부(330)가 마련될 수 있다. 기판 지지부(330)는 기판(S)이 안착되어 지지될 수 있도록, 예를 들어 정전척 등이 마련되어 기판(S)을 정전력에 의해 흡착 유지할 수도 있고, 진공 흡착이나 기계적 힘에 의해 기판(S)을 지지할 수도 있음은 물론이다.Also, in the chamber 310 , a substrate support part 330 may be provided opposite the gas injection part 320 to seat the substrate S provided in the reaction space. The substrate support 330 may be provided with an electrostatic chuck so that the substrate S is seated and supported, and the substrate S may be adsorbed and maintained by electrostatic force, or the substrate S by vacuum suction or mechanical force. ) can be supported, of course.

이와 같이, 본 발명의 실시 예에 따르면, 원료를 저장하는 용기와, 저장된 원료를 배출하기 위한 샤프트를 각각 회전시켜 뭉침성이 높은 원료를 원활하게 배출시킬 수 있다.As described above, according to an embodiment of the present invention, the container for storing the raw material and the shaft for discharging the stored raw material are rotated, respectively, so that the raw material with high agglomeration property can be smoothly discharged.

또한, 원료를 배출하기 위한 배출구까지 샤프트의 외주면에 마련되는 스크류를 연장 형성하여, 용기에 저장된 원료를 안정적으로 유도하여 배출할 수 있다.In addition, by extending the screw provided on the outer circumferential surface of the shaft to the outlet for discharging the raw material, the raw material stored in the container can be stably guided and discharged.

뿐만 아니라, 공급되는 원료의 양을 정량적으로 제어하여 공급함으로써 증착되는 박막의 두께를 정확하게 제어하여 고효율 및 고품위의 박막 제품을 제조할 수 있다.In addition, by quantitatively controlling and supplying the amount of the supplied raw material, it is possible to accurately control the thickness of the deposited thin film to manufacture a high-efficiency and high-quality thin film product.

상기에서, 본 발명의 바람직한 실시 예가 특정 용어들을 사용하여 설명 및 도시되었지만 그러한 용어는 오로지 본 발명을 명확하게 설명하기 위한 것일 뿐이며, 본 발명의 실시 예 및 기술된 용어는 다음의 청구범위의 기술적 사상 및 범위로부터 이탈되지 않고서 여러 가지 변경 및 변화가 가해질 수 있는 것은 자명한 일이다. 이와 같이 변형된 실시 예들은 본 발명의 사상 및 범위로부터 개별적으로 이해되어져서는 안 되며, 본 발명의 청구범위 안에 속한다고 해야 할 것이다.In the above, preferred embodiments of the present invention have been described and illustrated using specific terms, but such terms are only for clearly explaining the present invention, and the embodiments of the present invention and the described terms are the spirit of the following claims And it is obvious that various changes and changes can be made without departing from the scope. Such modified embodiments should not be individually understood from the spirit and scope of the present invention, but should be said to fall within the scope of the claims of the present invention.

110: 용기 112: 용기 본체
114: 용기 덮개 130: 샤프트
140: 스크류 150: 구동부
200: 이송 배관 210: 메인 배관
220: 연결 배관 310: 챔버
320: 가스 분사부 330: 기판 지지부
400: 가열기110: container 112: container body
114: container lid 130: shaft
140: screw 150: drive unit
200: transfer pipe 210: main pipe
220: connecting pipe 310: chamber
320: gas injection unit 330: substrate support
400: burner

Claims (9)

원료를 저장하며, 배출구가 마련되는 용기;
일 단부가 상기 배출구 내에 위치하도록 연장되어 상기 용기 내에 마련되는 샤프트;
상기 샤프트의 일 단부를 포함하는 상기 샤프트의 외주면에 마련되는 스크류; 및
상기 용기 및 샤프트를 각각 회전시키기 위한 구동부;를 포함하는 원료 공급기.A container for storing raw materials and provided with an outlet;
a shaft having one end extended to be located in the outlet and provided in the container;
a screw provided on an outer circumferential surface of the shaft including one end of the shaft; and
A raw material feeder comprising a; a drive unit for rotating the vessel and the shaft, respectively. 청구항 1에 있어서,
상기 용기 내부로 불활성 가스를 공급하기 위한 노즐;을 더 포함하는 원료 공급기.The method according to claim 1,
The raw material feeder further comprising a; nozzle for supplying an inert gas into the vessel. 청구항 1에 있어서,
상기 배출구로부터 배출되는 원료의 양을 감지하기 위한 센서;를 더 포함하는 원료 공급기.The method according to claim 1,
The raw material feeder further comprising; a sensor for detecting the amount of the raw material discharged from the outlet. 청구항 1에 있어서,
상기 용기는 적어도 일부가 상기 배출구로 갈수록 내경이 감소하도록 마련되는 원료 공급기.The method according to claim 1,
The container is at least a portion of the raw material feeder is provided so that the inner diameter decreases toward the outlet. 청구항 1에 있어서,
상기 구동부는 상기 용기 및 샤프트를 서로 반대 방향으로 회전시키는 원료 공급기.The method according to claim 1,
The driving unit rotates the container and the shaft in opposite directions to each other. 원료를 저장하는 용기와, 저장된 원료를 배출하기 위한 샤프트가 각각 회전 가능하게 마련되는 원료 공급기;
상기 원료 공급기의 배출구와 연통되어, 상기 원료 공급기로부터 배출되는 분말 원료를 이송하기 위한 이송 배관;
상기 분말 원료를 원료 가스로 기화시키기 위하여, 상기 이송 배관에 마련되는 가열기; 및
상기 원료 가스를 공급받아 기판에 박막을 형성하기 위한 챔버;를 포함하는 기판 처리 장치.a raw material feeder in which a container for storing raw materials and a shaft for discharging the stored raw materials are provided rotatably, respectively;
a transfer pipe communicating with the outlet of the raw material supplier to transfer the powdered raw material discharged from the raw material supplier;
a heater provided in the transfer pipe to vaporize the powder raw material into a raw material gas; and
and a chamber for forming a thin film on a substrate by receiving the source gas. 청구항 6에 있어서,
상기 원료 공급기에는 저장된 원료를 제1 방향으로 배출하기 위한 배출구가 마련되고,
상기 이송 배관은,
상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장되어, 상기 챔버에 연결되는 메인 배관; 및
상기 제1 방향과 상기 제2 방향의 사이를 향하는 제3 방향으로 연장되어, 상기 배출구와 상기 메인 배관을 연결하는 연결 배관;을 포함하는 기판 처리 장치.7. The method of claim 6,
The raw material feeder is provided with an outlet for discharging the stored raw material in a first direction,
The transfer pipe is
a main pipe extending in a second direction crossing the first direction and connected to the chamber; and
and a connection pipe extending in a third direction between the first direction and the second direction to connect the outlet and the main pipe. 청구항 7에 있어서,
상기 가열기는 상기 메인 배관에 마련되는 기판 처리 장치.8. The method of claim 7,
The heater is a substrate processing apparatus provided in the main pipe. 청구항 7에 있어서,
상기 가열기는 상기 메인 배관을 따라 복수로 마련되는 기판 처리 장치.
8. The method of claim 7,
A substrate processing apparatus in which the heater is provided in plurality along the main pipe.
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