KR100295551B1 - Conductive metal coating method and aparatus thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 전자파 차폐막 코팅방법 및 그 장치에 관한 것으로, 합성수지물(2)에 반응성가스를 이용하여 플라즈마 에칭을 실시한 다음 차폐막을 코팅하여 도전성 금속 코팅층과 합성수지물(2)의 밀착력을 증대시킴과 아울러 양질의 코팅막을 제조하고, 대구경 챔버(1)의 내측에 회전가능하게 설치되는 원통형 회전지그(3)에 대량의 피코팅물(2)을 설치한 상태에서 코팅작업을 실시할 수 있도록 하여 대량생산 및 균일한 코팅막의 제조가 가능하다.The present invention relates to a method for coating an electromagnetic wave shielding film and a device therefor, wherein the synthetic resin (2) is subjected to plasma etching using a reactive gas and then coated with a shielding film to increase adhesion between the conductive metal coating layer and the synthetic resin (2). Production of high quality coating film, mass production by allowing coating work to be carried out in a state in which a large amount of the coated object (2) is installed in a cylindrical rotary jig (3) rotatably installed inside the large diameter chamber (1) And it is possible to produce a uniform coating film.

Description

전자파 차폐막 코팅방법 및 그 장치{CONDUCTIVE METAL COATING METHOD AND APARATUS THEREOF}Electromagnetic shielding film coating method and device therefor {CONDUCTIVE METAL COATING METHOD AND APARATUS THEREOF}

본 발명은 전자파 차폐막 코팅방법 및 그 장치에 관한 것으로, 특히 합성수지물에 반응성가스를 이용하여 플라즈마 에칭을 실시한 다음 차폐막을 코팅하여 도전성 금속 코팅층과 합성수지물의 밀착력을 증대시킴과 아울러 양질의 코팅막을 제조하고, 대구경 챔버의 내측에 회전가능하게 설치되는 지그에 대량의 합성수지물을 설치한 상태에서 코팅작업을 실시할 수 있도록 하여 대량생산 및 균일한 코팅막의 제조가 가능한 전자파 차폐막 코팅방법 및 그 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a method for coating an electromagnetic wave shielding film and a device therefor, in particular, by performing plasma etching using a reactive gas on a synthetic resin and then coating the shielding film to increase the adhesion between the conductive metal coating layer and the synthetic resin and to produce a high quality coating film. The present invention relates to an electromagnetic shielding film coating method and apparatus for mass production and production of uniform coating film by coating in a state in which a large amount of synthetic resin is installed on a jig rotatably installed inside a large diameter chamber. .

전자파의 이용은 현대문명 생활의 전기, 전자, 통신, 컴퓨터 의료분야에서 활발하게 이용되고 있을뿐 아니라 응용범위가 극대화되고 있다. 또한 최근에는 반도체 개발의 진보에 따라 가전기기, 산업기기, 의료기기 분야에서 기기의 소형화, 경량화, 다기능화, 고신뢰성을 목적으로 디지털화가 급속히 추진되고 있으며, 이러한 디지털 기계의 증가로 여러 가지 형태의 노이즈가 발생하여 전자파 장애를 일으키며, VDT(Video display terminal)증후군 및 Na+, Ka+이온흐름의 교란에 의한 호르몬 분비이상, 암유발 등의 원인이 되고 있으며, 항공기등 첨단 전자 장비의 장비 오동작과 같은 기기상호간 및 인체에 영향을 미치므로 전자파공해의 문제를 시급히 해결할 필요가 있다.The use of electromagnetic waves is actively used in the fields of electricity, electronics, telecommunications, and computer medical care in modern civilized life, and the scope of application is maximized. Recently, with the development of semiconductors, digitalization is rapidly being promoted in the fields of home appliances, industrial devices, and medical devices for the purpose of miniaturization, light weight, multifunctionality, and high reliability. It causes noise and causes electromagnetic wave disturbance. It causes VDT (Video display terminal) syndrome and abnormal hormone secretion and cancer caused by disturbance of Na + , Ka + ion flow. Since it affects the same device and the human body, there is an urgent need to solve the problem of electromagnetic pollution.

이러한 유해 전자파를 차폐하기 위한 방법중 가장많이 실시하고 있는 방법은 차폐금속 용액을 스프레이로 합성수지물에 분사하여 도포하는 스프레이 방식과, 도금조의 내부에 합성수지물을 넣고 무전해도금을 실시하는 무전해 도금방식이 알려지고 있는 데, 이와 같은 방법들은 여러 가지 문제점을 가지고 있는 것이었다.The most common method for shielding such harmful electromagnetic waves is spraying method by spraying shielding metal solution to synthetic resin by spraying, and electroless plating which puts synthetic resin inside plating bath and conducts electroless plating. The method is known, and these methods have various problems.

첫 번째로 상기 스프레이 방식과 무전해도금으로 전자파 차폐막을 형성시키는 경우에는 대기중에서 작업공정이 이루어지고, 기술수준이 열악하여 합성수지물에 코팅되는 차폐막의 밀착력이 상당히 낮으며, 그럼에도 불구하고 코팅되는 차폐막의 코팅두께 및 코팅입자들의 농도가 불균일하게 코팅되어 차폐효과를 향상시키는데 한계가 있는 문제점이 있었다.First, in the case of forming the electromagnetic shielding film by the spray method and the electroless plating, a work process is performed in the air, and the technical level is poor, so that the adhesion of the shielding film coated on the synthetic resin is considerably low, nevertheless the coating film is coated. The coating thickness and the concentration of the coating particles of the coating is non-uniformly there was a problem that there is a limit to improve the shielding effect.

두 번째로 작업의 대부분이 수작업으로 이루어져서 대량작업을 재연성 있게 실시하는 것이 불가능한 문제점이 있었다.Secondly, most of the work was done by hand, so it was impossible to carry out mass work repetitively.

세 번째로 작업자가 스프레이 작업시 발생하는 분진 등이 인체에 유해하며, 무전해도금시 사용되는 공업용수에 의한 폐수처리 비용이 많이 소요되는 문제점이 있었다.Third, there is a problem that the dust generated when the worker sprays are harmful to the human body, and the waste water treatment cost by the industrial water used in electroless plating is high.

상기와 같은 문제점을 감안하여 안출한 본 발명의 주목적은 상기와 같은 여러 문제점을 갖지 않는 전자파 차폐막 코팅방법 및 그 장치를 제공함에 있다.The main object of the present invention devised in view of the above problems is to provide an electromagnetic wave shielding film coating method and apparatus thereof which do not have various problems as described above.

본 발명의 다른 목적은 차폐막의 밀착력을 향상시킴과 아울러 균일하게 코팅될 수있도록 있도록 하는데 적합한 전자파 차폐막 코팅방법 및 그 장치를 제공함에 있다.Another object of the present invention is to provide an electromagnetic shielding film coating method and apparatus suitable for improving the adhesion of the shielding film and allowing it to be uniformly coated.

본 발명의 또다른 목적은 대량작업을 재연성있게 실시할 수 있는 전자파 차폐막 코팅장치를 제공함에 있다.Still another object of the present invention is to provide an electromagnetic wave shielding film coating apparatus capable of repetitively carrying out mass operations.

본 발명의 또다른 목적은 안전사고의 위험이 없을뿐 아니라, 건식공정으로 실시하여 무공해작업이 가능한 전자파 차폐막 코팅장치를 제공함에 있다.Still another object of the present invention is to provide an electromagnetic wave shielding film coating apparatus capable of performing a pollution-free operation by performing a dry process as well as having no risk of a safety accident.

도 1은 본 발명 전자파 차폐막 코팅장치의 구성을 보인 횡단면도.1 is a cross-sectional view showing the configuration of the electromagnetic wave shielding film coating apparatus of the present invention.

도 2는 본 발명 전자파 차폐막 코팅장치에서 도어를 제거한 상태의 정면도.Figure 2 is a front view of a state in which the door is removed from the electromagnetic wave shielding film coating apparatus of the present invention.

도 3은 본 발명 전자파 차폐막 코팅장치에서 회전지그가 인출된 상태의 단면도.Figure 3 is a cross-sectional view of the rotary jig withdrawal state in the electromagnetic wave shielding film coating apparatus of the present invention.

도 4는 본 발명 전자파 차폐막 코팅장치에서 회전지그가 인입된 상태의 단면도.Figure 4 is a cross-sectional view of the rotary jig inserted state in the electromagnetic wave shielding film coating apparatus of the present invention.

도 5는 도 4의 A-A'를 절취하여 보인 단면도.5 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 4;

도 6은 도 4의 B-B'를 절취하여 보인 단면도.6 is a cross-sectional view taken along line BB ′ of FIG. 4;

도 7은 본 발명에 따른 회전지그의 구성을 보인 정면도.Figure 7 is a front view showing the configuration of a rotary jig according to the present invention.

도 8은 도 7의 C-C'를 절취하여 보인 단면도.FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line CC ′ of FIG. 7;

도 9는 도 8의 D부를 상세히 보인 확대도.FIG. 9 is an enlarged view showing part D of FIG. 8 in detail; FIG.

도 10은 본 발명에 따른 타겟의 구조를 보인 단면도.10 is a cross-sectional view showing the structure of a target according to the present invention.

도 11은 O2플라즈마 에칭장치의 구조를 개략적으로 보인 단면도.11 is a cross-sectional view schematically showing the structure of an O 2 plasma etching apparatus.

도 12는 폴리카보네이트의 AFM 특성.12 AFM properties of polycarbonate.

도 13은 폴리카보네이트의 XPS 스펙트럼.13 is an XPS spectrum of polycarbonate.

도 14는 전자파 차폐막의 단면도.14 is a sectional view of an electromagnetic shielding film.

도 15는 구리막의 주사전자현미경 사진.15 is a scanning electron micrograph of a copper film.

도 16은 종래와 본 발명에 따른 전자파 차폐막의 구조를 비교한 사진.16 is a photograph comparing the structure of the electromagnetic shielding film according to the prior art and the present invention.

도 17은 종래와 본 발명에 따른 전자파 차폐막의 EDS 성분분석.17 is a conventional EDS component analysis of the electromagnetic shielding film according to the present invention.

도 18은 종래와 본 발명에 따른 전차파 차폐막의 밀착력 테스트후의 비교사진.Figure 18 is a comparison photograph after the adhesion test of the conventional electric wave shielding film according to the present invention.

도 19는 종래와 본 발명에 따른 전자파 차폐막의 ASTM의 전자파 차폐효과.19 is an electromagnetic shielding effect of ASTM of the electromagnetic shielding film according to the prior art and the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

1 : 챔버 2 : 합성수지물1 chamber 2 synthetic resin

3 : 회전지그 4 : 지그회전수단3: jig rotation 4: jig rotation means

5 : 지그이동수단 6 : 타겟5: jig movement means 6: target

7 : 콘트롤러 8 : 지그이송대7: controller 8: jig feeder

9,9',44,44': 레일 14 : 도어9,9 ', 44,44': Rail 14: Door

21,21' : 고정판 22 : 고정대21,21 ': fixing plate 22: holder

23 : 클램핑수단 24 : 가동클램프23: clamping means 24: movable clamp

25 : 볼트 26 : 조임나사25: Bolt 26: Tightening Screw

27 : 지그측돌기 31 : 모터27: jig side projection 31: motor

31a : 모터축 32 : 구동기어31a: motor shaft 32: drive gear

33 : 지지롤러 34 : 종동기어33: support roller 34: driven gear

35 : 구동측돌기 41,41' : 지그받침대35: driving side protrusion 41,41 ': jig support

42,42' : 지지대 43 : 롤러42,42 ': Support 43: Roller

53 : 막대자석 55 : 냉각수순환홀53: bar magnet 55: cooling water circulation hole

상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 진공도가 30~60mTorr인 에칭 챔버에 20~50scm의 반응가스를 주입하는 상태에서 100~150W의 전압을 인가하여 발생되는 플라즈마를 이용하여 합성수지물의 표면을 에칭하는 단계와,In order to achieve the object of the present invention as described above, the surface of the synthetic resin is etched using a plasma generated by applying a voltage of 100 to 150 W while injecting a reaction gas of 20 to 50 cm into the etching chamber having a vacuum degree of 30 to 60 mTorr. To do that,

그 에칭된 합성수지물을 진공도가 10-2~10-4Torr인 원통형의 공정챔버 내에서 원통형 코팅영역을 회전시키는 상태에서 300~600V/5~10A의 전압을 구리 전극과 스테인레스 전극에 차례로 인가하여 발생되는 스퍼터링으로 합성수지물의 표면에 구리막과 스테인레스막을 차례로 증착되도록 함으로써 합성수지물에 전자파 차폐막이 코팅되도록 하는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐막 코팅방법이 제공된다.The etched synthetic resin was applied to a copper electrode and a stainless electrode in turn by applying a voltage of 300 to 600 V / 5 to 10 A while rotating the cylindrical coating region in a cylindrical process chamber having a vacuum degree of 10 -2 to 10 -4 Torr. The electromagnetic wave shielding film coating method is provided so that the electromagnetic shielding film is coated on the synthetic resin by sequentially depositing a copper film and a stainless film on the surface of the synthetic resin by sputtering generated.

또한, 공정 챔버의 내측에 타겟이 배치되어 있고, 그 챔버의 내측에 피코팅물을 장착하기 위한 회전지그가 배치되어 있으며, 그 회전지그를 일정속도로 회전시키기 위한 지그회전수단이 구비되어 있는 코팅장치에 있어서,In addition, a target is disposed inside the process chamber, and a rotating jig for mounting the object to be coated is disposed inside the chamber, and a coating having jig rotating means for rotating the rotating jig at a constant speed. In the apparatus,

상기 회전지그는 일정간격을 배치되는 한쌍의 원형 고정판과, 그 원형 고정판들의 사이에 원통형상으로 이루도록 일정간격을 두고 고정되는 다수개의 고정대들과, 그 정대들의 외측에 위치되어 합성수지물들을 고정대들의 외측에 다단 다열로 고정하기 위한 클램핑수단으로 구성되어 합성수지물들이 원통형 코팅영역을 회전하며 코팅이 이루어지도록 한 것을 특징으로 하는 전자파 차폐막 코팅장치가 제공된다.The rotary jig is a pair of circular fixing plate that is arranged at a predetermined interval, a plurality of fixing rods fixed at regular intervals to form a cylindrical shape between the circular fixing plates, and positioned on the outside of the jeongdae outside the synthetic resin The electromagnetic shielding film coating apparatus is provided, characterized in that the synthetic resin is made to rotate the cylindrical coating area to the coating is made of a clamping means for fixing in multiple stages.

이하, 상기와 같은 본 발명 전자파 차폐막 코팅장치의 실시예를 도면을 참고로 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an embodiment of the electromagnetic wave shielding film coating apparatus of the present invention as described above will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지 도 10에 도시된 바와 같이, 본 발명 전자파 차폐막 코팅장치는 원통형 챔버(1)와, 그 챔버(1)의 내측에 설치되어 다수개의 합성수지물(2)을 장착할 수 있는 원통형상의 회전지그(3)와, 그 회전지그(3)의 후방에 설치되어 회전지그(3)를 일정속도로 회전시키기 위한 지그회전수단(4)과, 상기 회전지그(3)의 하측에 설치되어 회전지그(3)를 챔버(1)의 내측으로 넣거나 꺼내기 위한 지그이동수단(5)과, 상기 챔버(1)의 내부에 배치되며 전기적으로 음극이 되는 수개의 타겟(6:6a,6b)들과, 상기 챔버(1)의 일측에 설치되어 전원을 공급함과 아울러 장치의 동작을 콘트롤하기 위한 콘트롤러(7) 및 상기 챔버(1)의 외측에 설치되며 회전지그(3)를 얹어 놓기 위한 지그이송대(8)로 구성되어 있다.As shown in Figures 1 to 10, the electromagnetic wave shielding film coating apparatus of the present invention is a cylindrical chamber (1), and a cylindrical rotation that can be installed inside the chamber (1) to mount a plurality of synthetic resin (2) Jig (3), jig rotating means (4) provided at the rear of the rotary jig (3) for rotating the rotary jig (3) at a constant speed, and jig rotation means is provided below the rotary jig (3) Jig moving means (5) for putting or removing (3) into or out of the chamber (1), several targets (6: 6a, 6b) disposed inside the chamber (1) and being electrically negative electrodes; The controller 7 is installed at one side of the chamber 1 to supply power and is installed outside the chamber 1 to control the operation of the apparatus, and the jig feeder 8 is mounted on the rotary jig 3. It consists of).

상기 챔버(1)의 일측에는 2개의 디퓨션 펌프(11)(11')가 배기라인(12)으로 연결설치되어 있고, 타측에는 1개의 크라이오 펌프(13)가 배기라인(12')으로 연결되어 있으며, 전면에는 뷰포트(14a)가 구비된 도어(14)가 개폐가능하게 설치되어 있고, 후단부에는 냉각수, 전원 및 가스라인이 연결되는 외부보호관(15)이 설치되어 있으며, 그 외부보호관(15)의 내부에는 챔버(1)의 내측으로 일정부분 돌출됨과 아울러 챔버(1)의 내측으로 들어오는 전원선(16)과 냉각수라인(16') 및 가스라인(16")들이 보호되도록 내부보호관(17)이 설치되어 있고, 그 챔버(1) 내측에 위치되는 내부보호관(17)에는 하측으로 타겟받침대(18)가 연결설치되어 있다.Two diffusion pumps 11 and 11 'are connected to the exhaust line 12 at one side of the chamber 1, and one cryopump 13 is connected to the exhaust line 12' at the other side. It is connected, the front door 14 with a viewport (14a) is installed to open and close, the rear end is provided with an outer protective tube 15 to which the cooling water, power and gas lines are connected, the outer protective tube An inner protective tube is provided in the interior of the chamber 15 to protrude a predetermined portion into the chamber 1 and to protect the power line 16, the coolant line 16 ′, and the gas line 16 ″ coming into the chamber 1. (17) is provided, and the target support 18 is connected to the inner protection pipe 17 located inside the chamber 1 downward.

상기 회전지그(3)는 원형링형상이며 일정간격을 두고 배치되는 한쌍의 고정판(21)(21')과, 그 고정판(21)(21')들의 사이에 방사형으로 고정되는 다수개의고정대(22)와. 그 고정대(22)의 외측에 위치되며 합성수지물(2)을 고정시키기 위한 클램핑수단(23)으로 구성되어 있다.The rotary jig 3 has a circular ring shape and a pair of fixing plates 21 and 21 'arranged at regular intervals, and a plurality of fixing tables 22 fixed radially between the fixing plates 21 and 21'. )Wow. It is located on the outside of the fixture 22 and consists of clamping means 23 for fixing the synthetic resin 2.

상기 클램핑수단(23)은 상기 고정대(22)의 외측에 배치되는 가동클램프(24)와, 상기 고정대(22)와 가동클램프(24)에 관통되도록 일정간격으로 설치되는 볼트(25)와, 그 볼트(25)에 결합되어 가동클램프(24)를 조이거나 풀기위한 조임나사(26)로 구성되어 있다.The clamping means 23 is a movable clamp 24 disposed on the outside of the holder 22, bolts 25 are installed at regular intervals so as to pass through the holder 22 and the movable clamp 24, and Composed to the bolt 25 is composed of a tightening screw 26 for tightening or loosening the movable clamp (24).

상기 지그회전수단(4)는 상기 챔버(1)의 후면외측에 설치되는 모터(31)와, 그 모터(31)의 모터축(31a)에 연결됨과 아울러 챔버(1)의 내측에 회전가능하게 배치되는 구동기어(32)와, 그 구동기어(32)에 기어결합됨과 아울러 내주면이 지지롤러(33)들에 지지되어 있는 도우넛형상의 종동기어(34)로 구성되어 있다.The jig rotation means 4 is connected to a motor 31 installed outside the rear surface of the chamber 1 and the motor shaft 31a of the motor 31 and rotatably inside the chamber 1. The drive gear 32 is arranged, and the donut-shaped driven gear 34 which is gear-coupled with the drive gear 32 and whose inner peripheral surface is supported by the support rollers 33 is comprised.

상기 종동기어(34)의 일정부분에는 구동측돌기(35)가 설치되어 있고, 상기 회전지그(3)의 고정판(21')에는 상기 종동기어(34)가 회전시 구동측돌기(35)에 걸리도록 지그측돌기(27)가 설치되어 있다.A driving side protrusion 35 is provided at a predetermined portion of the driven gear 34, and the driven gear 34 is rotated to the driving side protrusion 35 when the driven gear 34 is rotated on the fixed plate 21 ′ of the rotary jig 3. The jig side protrusion 27 is provided so that it may be caught.

상기 지그이동수단(5)은 상기 회전지그(3)의 하측에 일정간격을 두고 설치되는 한쌍의 반원형 지그받침대(41)(41')와, 그 받침대(41)(41')들이 연결되도록 양측에 설치되는 한쌍의 지지대(42)(42')와, 그 지지대(42)(42')에 일정간격을 두고 설치되는 수개의 롤러(43) 및 상기 챔버(1)의 내부 양측에 배치되어 상기 롤러(43)들이 전,후방향으로 롤링될 수 있도록 되어 있는 한쌍의 레일(44)(44')로 구성되어 있다.The jig movement means (5) is a pair of semi-circular jig support 41, 41 'installed at a predetermined interval on the lower side of the rotary jig 3, both sides so that the pedestal 41, 41' is connected A pair of supports 42 and 42 'installed at the plurality of rollers, and several rollers 43 and a plurality of rollers 43 provided at predetermined intervals on the supports 42 and 42' and disposed inside both sides of the chamber 1 The rollers 43 are constituted by a pair of rails 44 and 44 'which can be rolled forward and backward.

상기 받침대(41)(41')들의 상면에는 각각 일정깊이의 이탈방지홈(41a)(41a')이 형성되어 있고, 그 이탈방지홈(41a)(41a')의 내측에는 베어링(45)들이 위치되어 있으며, 상기 회전지그(3)의 고정판(21)(21') 외주면에 형성된 안내돌기(21a)(21a')가 상기 이탈방지홈(41a)(41a')에 삽입되어 있어서, 회전시 지그이동수단(5)에서 회전지그(3)가 이탈이 방지되도록 되어 있다Departure preventing grooves 41a and 41a 'having a predetermined depth are formed on the upper surfaces of the pedestals 41 and 41', respectively, and bearings 45 are formed inside the separation preventing grooves 41a and 41a '. The guide protrusions 21a and 21a 'formed on the outer circumferential surface of the fixed plate 21 and 21' of the rotary jig 3 are inserted into the release preventing grooves 41a and 41a ', so that The rotation jig 3 is prevented from being detached from the jig movement means 5.

상기 챔버(1)의 내측 상부와 상기 타겟받침대(18)에는 챔버(1)에 절연체(미도시)로 절연되도록 일정거리를 두고 각각 2개씩 구리 타겟(6a)과 스테인레스 타겟(6b)이 설치되어 있고, 그 챔버(1)의 내측 상부에 설치된 타겟(6a,6b)들은 챔버(1)의 내부 중앙을 향하도록 배치되고, 타겟받침대(18)에 설치된 타겟(6a,6b)들은 챔버(1)의 내주면을 향하도록 배치되어 있다.The inner upper portion of the chamber 1 and the target support 18 are provided with two copper targets 6a and stainless targets 6b each at a predetermined distance to insulate the chamber 1 with an insulator (not shown). The targets 6a and 6b installed in the upper part of the chamber 1 are disposed to face the inner center of the chamber 1, and the targets 6a and 6b installed in the target support 18 are chambers 1. It is arranged to face the inner circumferential surface of the.

상기 타겟(6:6a,6b)들의 후면에는 자력을 발생시키기 위한 다수개의 막대자석(53)들이 배열되어 있고, 상기 타겟(6:6a,6b)과 막대자석(53)들을 고정시키기 위한 홀더(54)에는 냉각수순환홀(55)이 형성되어 있으며, 상기 홀더(54)의 외측에는 다수개의 가스분사홀(미도시)들이 형성되어 있는 가스라인(56)이 설치되어 있다.A plurality of bar magnets 53 for generating magnetic force are arranged on the rear of the targets 6: 6a and 6b, and holders for fixing the targets 6: 6a and 6b and the bar magnets 53 ( A cooling water circulation hole 55 is formed at 54, and a gas line 56 is provided at the outside of the holder 54 in which a plurality of gas injection holes (not shown) are formed.

상기 냉각수순환홀(55)은 내부보호관(17)으로 인입되어 있는 냉각수라인(16')에 연결되어 있어서, 냉각수가 타겟(6:6a,6b)들을 냉각하면서 순환할 수 있도록 되어 있다.The cooling water circulation hole 55 is connected to the cooling water line 16 ′ introduced into the inner protection tube 17, so that the cooling water can circulate while cooling the targets 6: 6a and 6b.

상기 지그이송대(8)는 회전지그(3)를 챔버(1) 밖으로 꺼낼 때 회전지그(3)를 받치기 위한 보조기구로서 양측에 한쌍의 레일(9)(9')이 구비되어 있어서, 상기 회전지그(3)에 설치된 롤러(43)들이 롤링할 수 있도록 되어 있다.The jig carriage 8 is an auxiliary mechanism for supporting the rotary jig 3 when the rotary jig 3 is taken out of the chamber 1, and a pair of rails 9, 9 'are provided on both sides. The rollers 43 provided on the rotary jig 3 are capable of rolling.

도면중 미설명 부호 60은 챔버(1)를 받치고 있는 챔버받침대이다.In the figure, reference numeral 60 denotes a chamber supporter supporting the chamber 1.

상기와 같은 전자파 차폐막 코팅장치를 이용하여 코팅을 실시하는 방법을 설명하면 다음과 같다.Referring to the method of coating using the electromagnetic shielding film coating apparatus as described above are as follows.

코팅을 실시하는 합성수지물(2)은 플라스틱 사출품인 폴리카보네이트로서 요즈음 많이 사용되는 휴대폰 케이스이다.The synthetic resin 2 to be coated is a mobile phone case which is used a lot recently as polycarbonate which is a plastic injection product.

1. 사출품검사 및 초음파세정단계1. Injection product inspection and ultrasonic cleaning

합성수지물의 전처리단계로서 코팅에 영향을 줄 수 있는 사출품성형시 발생되는 이형제, 지문, 먼지 및 유기물 등의 오염물질을 육안으로 검사하고, 초음파세정기에서 초음파세척을 실시한다.As a pretreatment step for synthetic resins, contaminants such as release agents, fingerprints, dust, and organic substances generated during injection molding that may affect the coating are visually inspected, and ultrasonic cleaning is performed in an ultrasonic cleaner.

2. 오븐열풍건조단계2. oven hot air drying step

초음파세정단계를 거친 합성수지물을 오븐에 넣고, 사출품이 열에 의하여 손상되지 않는 범위내에서 합성수지물의 표면에 발생될 수 있는 가스를 충분히 제거하여 양산작업시 발생될 수 있는 가스로 인한 초기 공정압력저하를 줄임으로서 공정시간을 절약시키고 채산성을 높여주기 위하여 실시한다.Put the synthetic resin that went through the ultrasonic cleaning step into the oven, and remove the gas that may be generated on the surface of the synthetic resin within the range that the injection product is not damaged by heat, thereby lowering the initial process pressure due to the gas that may be generated during mass production. Reduce the process time to save process time and increase profitability.

3. 플라즈마 에칭단계.3. Plasma Etching Step.

에칭장치의 챔버 내측에 합성수지물을 넣고, 챔버의 내부를 30∼60mTorr의 진공도를 유지하면서 100∼150W의 전압을 인가하며, 20∼50sccm 정도의 산소가스(O2)를 10∼30분 정도 주입하면서 플라즈마 에칭을 실시한다.A synthetic resin is placed inside the chamber of the etching apparatus, a voltage of 100 to 150 W is applied to the inside of the chamber while maintaining a vacuum degree of 30 to 60 mTorr, and oxygen gas (O 2 ) of about 20 to 50 sccm is injected for about 10 to 30 minutes. Plasma etching is performed.

4. 피코팅물 로딩단계.4. Loading of the coating material.

상기와 같이 에칭작업이 완료된 합성수지물(2)들을 본 발명에 따른 상기 전자파 차폐막 코팅장치에 장착하는 단계로서, 챔버(1)의 도어(14)를 열고, 챔버(1)의 내측에서 지그받침대(41)(41')와 회전지그(3)를 잡아당겨서 지그받침대(41)(41')와 회전지그(3)를 지그이송대(8)의 위에 위치되도록 한다.Mounting the synthetic resin (2), the etching operation is completed as described above to the electromagnetic shielding film coating apparatus according to the present invention, by opening the door 14 of the chamber (1), the jig support (inside the chamber 1) ( 41) 41 'and the rotary jig 3 are pulled so that the jig support 41, 41' and the rotary jig 3 are positioned above the jig carriage 8.

그런다음, 회전지그(3)에 설치된 조임나사(26)들을 풀고, 가동클램프(24)가 느슨하게 된 상태에서 가동클램프(24)와 고정대(22)의 사이에 피코팅물(2)의 일측을 끼우고 타측은 인접한 다른 가동클램프(24)와 고정대(22)의 사이에 끼운 상태에서 조임나사(26)를 조여서 합성수지물(2)들을 고정하는 방법으로 원통형의 회전지그(3)에 2열로 다수개 설치하되, 코팅면이 서로 외측을 향하도록 배치한다.Then, loosen the tightening screws 26 installed on the rotary jig 3 and, with the movable clamp 24 loosened, one side of the object to be coated 2 between the movable clamp 24 and the holder 22. The other side is fastened to the cylindrical rotary jig 3 in two rows by fastening the tightening screw 26 to fix the synthetic resin 2 in the state sandwiched between the other movable clamp 24 and the holder 22 adjacent to each other. Dogs are installed, but the coating surfaces are disposed to face the outside.

그런 다음, 합성수지물(2)들이 장착된 회전지그(3)를 밀어서 챔버(1)의 내측으로 넣게 되는데, 이때 회전지그(3)는 지지대(42)(42')에 설치된 롤러(43)들이 레일(44)(44')을 타고 롤링되면서 이동하는 것에 의하여 지그받침대(41)(41')와 함께 챔버(1)의 내측으로 들어가고, 열려 있던 도어(14)는 다시 닫게 된다.Then, the rotary jig 3, on which the synthetic resins 2 are mounted, is pushed into the chamber 1, and the rotary jig 3 is formed by the rollers 43 installed on the supports 42, 42 '. Rolling along the rails 44 and 44 ′ moves into the chamber 1 together with the jig support 41 and 41 ′, and the door 14 that has been opened is closed again.

5. 구리막 코팅단계5. Copper film coating step

상기와 같이 합성수지물(2)들을 챔버(1)의 내측으로 로딩한 다음에는 디퓨션 펌프(11)(11')로 펌핑하여 챔버(1)의 내측 진공도가 10-5mbar가 유지되도록 하고, 가스라인(56)을 통하여 챔버(1)의 내측에 아르곤 가스(Ar gas)를 10∼20sccm정도로 주입한다. 그리고 모터(31)를 회전시켜서 종동기어(34)에 형성된 구동측 돌기(35)에 회전지그(3)의 고정판(21')에 형성된 지그측 돌기(26)가 걸려서 회전지그(3)가 같이 회전되도록 한다. 이와 같이 합성수지물(2)들이 장착된 회전지그(3)가 회전되는 상태에서 콘트롤러(7)에서 구리 타겟(6a)에 300∼600V/5∼10A의 디시(DC) 전압을 인가시켜서 5∼10초 구리 타겟(6a)을 프리 스퍼터링(Free sputtering)한 다음,진공도를 10-2∼10-4mTorr정도가 유지되도록 조정한 상태에서 일정시간 플라즈마에 의한 스퍼터링으로 합성수지물(2)에 구리막을 코팅한다.After loading the synthetic resins 2 into the chamber 1 as described above, the pumps are pumped by the diffusion pumps 11 and 11 ′ so that the inner vacuum of the chamber 1 is maintained at 10 −5 mbar. Argon gas (Ar gas) is injected into the chamber 1 through the gas line 56 at about 10 to 20 sccm. Then, by rotating the motor 31, the jig side projection 26 formed on the fixed plate 21 'of the rotary jig 3 is caught by the driving side projection 35 formed on the driven gear 34, so that the rotary jig 3 is held together. Let it rotate As described above, a DC voltage of 300 to 600 V / 5 to 10 A is applied to the copper target 6a by the controller 7 while the rotary jig 3 on which the synthetic resins 2 are mounted is rotated. After sputtering the super copper target 6a, the copper film is coated on the synthetic resin 2 by sputtering by plasma for a certain time while adjusting the degree of vacuum to be maintained at about 10 -2 to 10 -4 mTorr. do.

6. 스테인레스막 코팅단계6. Stainless film coating step

상기와 같이 설정된 시간동안 구리막 코팅작업을 실시한 다음에는 스테인레스 타겟(6b)에 400∼700V/5∼10A의 디시(DC) 전압을 인가시키고, 챔버(1)의 내측에 아르곤 가스(Ar gas)를 20∼50sccm정도로 주입하면서 플라즈마에 의한 스퍼터링으로 구리막의 외측에 스테인레스 막을 코팅한다. 이와 같이 코팅되는 스테인레스 막은 구리막이 산화되거나 마모되는 것을 방지하는 보호막의 역할을 한다.After the copper film coating operation is performed for the time set as described above, a DC (DC) voltage of 400 to 700 V / 5 to 10 A is applied to the stainless target 6b, and argon gas (Ar gas) is formed inside the chamber 1. The stainless film is coated on the outside of the copper film by sputtering by plasma while injecting about 20 to 50 sccm. The stainless film thus coated serves as a protective film to prevent the copper film from being oxidized or worn out.

도 11은 상기와 같은 코팅작업시에 사용되는 플라즈마 에칭장치의 일예를 보인 것으로 챔버(71)의 내측에 피코팅물(2)를 장착하기 위한 홀더(73)가 설치되어 있고, 그 홀더(73)를 감싸도록 대면 그라운딩 전극(74)이 설치되어 있으며, 덮개(75)에 설치된 가스주입구(76)를 통하여 O2및 반응성 가스를 챔버(71)의 내측으로 주입하면서 홀더(73)에 장착된 RF전극(77)에 전원을 인가하여 O2플라즈마에 의하여 합성수지물(2)의 표면이 균일하게 에칭되어 도전성 코팅물들의 밀착력이 증진된다.11 shows an example of a plasma etching apparatus used in the coating operation as described above. A holder 73 for mounting the object to be coated 2 inside the chamber 71 is provided, and the holder 73 is provided. The grounding electrode 74 is provided to surround the holder, and is mounted on the holder 73 while injecting O 2 and a reactive gas into the chamber 71 through the gas inlet 76 installed in the cover 75. The surface of the synthetic resin 2 is uniformly etched by the O 2 plasma by applying power to the RF electrode 77 to enhance the adhesion of the conductive coatings.

상기와 같이 합성수지물(2)들을 플라즈마 에칭장치에서 에칭하는 경우에 피코팅물(휴대폰 케이스로 사용되는 플라스틱 사출품인 폴리카보네이트)과 도전성 코팅물인 구리막의 밀착력이 증진되는 이유를 알아보면 다음과 같다.When the synthetic resins 2 are etched in the plasma etching apparatus as described above, the reason why the adhesion between the coated material (polycarbonate, which is a plastic injection product used as a mobile phone case) and the copper coating, which is a conductive coating, is improved is as follows. .

도 12는 피코팅물인 폴리카보네이트의 에칭전 표면(12-1)과 에칭후의 표면상태(12-2)의 AFM(Atomic Force Microscopy, 원자간력 전자현미경)특성을 비교하여 보인 사진으로, O2및 반응성가스 에칭처리를 함으로써 피코팅물의 표면에 흡착된 오염물질들이 제거되어 구리막의 코팅시 구리막 코팅물과의 흡착율을 높여주게 된다.Figure 12 is a picture seen by comparing the AFM (Atomic Force Microscopy, atomic force electron microscope) before etching characteristics of the surface 12-1 and etching after the surface state (12-2) of the coating is water polycarbonate blood, O 2 And the reactive gas etching process removes contaminants adsorbed on the surface of the coated object to increase the adsorption rate of the copper film with the copper film coating.

즉, 사진에서 보듯이 에칭을 실시하는 경우에 균일한 미세표면거칠기가 증가함으로써, 표면에너지가 증가할뿐만 아니라 코팅물과 접하는 면적이 증가하여 구리막의 코팅시 구리 코팅물을 앵커시키는 효과가 있다.That is, as shown in the photo by the uniform fine surface roughness increases when etching, not only the surface energy increases but also the area in contact with the coating has the effect of anchoring the copper coating when coating the copper film.

도 13은 피코팅물인 폴리카보네이트의 에칭을 실시하지 않는 상태(상측 그래프)와 에칭을 실시한 경우(하측 그래프)의 표면결합에너지를 비교할 수 있는 XPS(X-ray Photoelectron Spectroscopy, X-선 광전자 분석기) 스펙트럼을 비교한 사진으로, O2및 반응성 가스 플라즈마 에칭처리를 하는 경우에 산소의 원자량은 원래의 합성수지물에 비해 약2배정도 증가하게 되며, 피코팅물인 폴리카보네이트의 결합형태인 C-O-C결합이 줄어들고 C=O결합이 증가하여 구리막을 코팅하는 경우에 이들의 효과에 의해 얇은층의 구리-산소-탄소 복합체박막 및 구리산화막들이 피코팅물과 코팅물 사이의 계면에 형성되어 계면반응을 촉진시킴으로서 밀착력을 증진시킨다.FIG. 13 shows the XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy, X-ray Photoelectron Analyzer), which can compare the surface binding energy of the polycarbonate, which is the coated object, with no etching (top graph) and when etching (bottom graph). Compared with the spectra, O 2 and reactive gas plasma etching process increases the atomic amount of oxygen by about 2 times that of the original synthetic resin, and reduces the COC bond, which is a bond form of the polycarbonate to be coated, and C. When the O bond is increased to coat the copper film, a thin layer of copper-oxygen-carbon composite thin film and copper oxide film is formed at the interface between the coating material and the coating material to promote the interfacial reaction. Promote.

도 14는 폴리카보네이트에 에칭을 실시한 다음 코팅물을 코팅한 상태의 단면상태를 보인 것으로, 폴리카보네이트의 표면 상태가 변하여 구리-산소-탄소 복합체 및 구리산화막들이 계면에 형성되며 이들에 의하여 밀착력이 증진되고, 도전성이 우수하여 전자파 차폐특성이 우수한 구리막의 상면에 구리막과 밀착력이 우수한 스테인레스 막을 코팅함으로써, 수마이크로 이하의 두께로 코팅됨에도 불구하고 코팅막들의 밀착력이 우수할뿐만 아니라, 전자파 차폐특성도 우수하게 나타난다.Figure 14 shows a cross-sectional state of a state in which the coating is coated after etching the polycarbonate, the surface state of the polycarbonate is changed to form a copper-oxygen-carbon composite and a copper oxide film at the interface, thereby improving adhesion By coating a stainless film with excellent adhesion to the copper film on the upper surface of the copper film having excellent conductivity and excellent electromagnetic shielding properties, the coating film has excellent adhesion as well as excellent electromagnetic shielding properties despite being coated to a thickness of several micrometers or less. Appears.

도 15는 폴리카보네이트 재질의 피코팅물에 에칭을 실시하지 않는 경우(15-1)와 에칭을 실시한 경우(15-2)의 시편을 준비하고, 그 시편에 구리막을 코팅한 다음 스카치 테이프(3M 매직테이프)를 이용하여 밀착력 테스트를 수행한 주사전자현미경사진을 보인 것으로, 에칭처리를 하지 않은 피코팅물에 코팅된 구리막은 스카치 테이프에 의하여 쉽게 박리됨을 알 수 있고, 에칭처리를 한 다음 코팅된 구리막은 밀착력이 우수함을 확인할 수 있고, 100℃의 끊는 물에서 2시간 동안 열을 가한 후에도 스카치 테이프에 의하여 박리되지 않는 우수한 밀착력을 나타내었다.Fig. 15 shows the preparation of specimens in which the polycarbonate coated material is not etched (15-1) and in the case of etching (15-2), and coated the copper film on the specimen, followed by scotch tape (3M). A scanning electron microscope photograph showing the adhesion test using a magic tape) shows that the copper film coated on the unetched coated material is easily peeled off by Scotch tape. The copper film can be confirmed that the adhesion is excellent, and even after the heat applied for 2 hours in the water of 100 ℃ exhibited excellent adhesion not peeled off by the Scotch tape.

도 16은 종래의 스프레이 방식에 의하여 전자파 차폐막을 형성한 경우와 본 발명의 전자파 차폐장치와 방법으로 전자파 차폐막을 형성한 경우의 구조를 비교하여 보인 주사현미경 사진으로, 16-1은 종래의 방법으로 제조된 전자파 차폐막의 표면사진으로서, 코팅층 표면에 코팅된 입자가 조대하고, 치밀하지 못하며, 거칠기가 클뿐만아니라 피코팅물이 코팅층의 외부로 많은 부분이 노출되어 있는 반면에, 16-2와 같이 본 발명에 의하여 제조된 전자파 차폐막은 표면 코팅입자가 미세하고, 치밀하며, 표면평탄화가 우수한 것을 알 수 있다.16 is a scanning microscope photograph comparing the structure of the electromagnetic wave shielding film formed by the conventional spray method with the structure of the electromagnetic wave shielding film formed by the method and the electromagnetic wave shielding apparatus of the present invention. As the surface photograph of the prepared electromagnetic shielding film, the particles coated on the surface of the coating layer are coarse, not dense, and have a large roughness, and much of the coating is exposed to the outside of the coating layer, as shown in 16-2. Electromagnetic shielding film prepared by the present invention can be seen that the surface coating particles are fine, dense, and excellent surface leveling.

또한, 16-3의 사진은 종래의 방법으로 제조된 전차파 차폐막의 단면은 형상이 치밀하지 못하고, 코팅입자와 입자 사이가 분리되어 있으며, 피코팅물과 코팅층 사이가 떨어져 있어서 밀착이 떨어지는 것을 알 수 있고, 40 마이크로 정도의 코팅층두께로 두껍게 코팅되어 있는 반면에, 16-4와 같이 본 발명에 의하여 제조된 전자파 차폐막은 단면구조에서는 종래의 전자파 차폐막과 비교하여 볼 때 코팅층이 치밀하고, 표면균일도 및 피코팅물과 코팅층사이가 밀착되어 밀착력이 우수할뿐만 아니라, 1.3 마이크로 정도로 얇게 코팅되어 있음을 확인할 수 있었다.In addition, the picture of 16-3 shows that the cross-section of the electric wave shielding film manufactured by the conventional method is not dense in shape, and the coated particles and the particles are separated, and the adhesion between the coated material and the coating layer is separated, resulting in poor adhesion. In the cross-sectional structure, the electromagnetic wave shielding film manufactured by the present invention as shown in 16-4 has a dense coating surface and a surface uniformity as compared with the conventional electromagnetic wave shielding film. And the adhesion between the coating and the coating layer was not only excellent adhesion, it could be confirmed that the coating as thin as 1.3 microns.

도 17은 EDX(Energy Dispersive X-ray Spectrometer, 에너지 분산 X-선 검출기)로 종래 전자파 차폐막과 본 발명의 전자파 차폐막의 성분분석을 한 것으로, 17-1에서 보듯이 종래의 방법으로 제조된 전자파 차폐막의 주성분은 구리와 은으로 이루어진 것을 알 수 있었고, 코팅층이 치밀하지 못하며 불균일하여 노출된 피코팅물 성분과 스프레이 코팅시 발생되는 불순물 성분인 탄소와 산소가 존재함을 알 수 있다.17 is an analysis of the components of the conventional electromagnetic shielding film and the electromagnetic shielding film of the present invention with an energy dispersive X-ray spectrometer (EDX), and the electromagnetic shielding film manufactured by the conventional method as shown in 17-1. It can be seen that the main components of the copper and silver, the coating layer is not dense, uneven and exposed to the coating component and the impurity components generated during spray coating carbon and oxygen are present.

그러나, 17-2에서와 같이 본 발명의 장치 및 방법에 의하여 제조된 전자파 차폐막에서는 구리 및 스테인레스를 이루는 성분들이 존재함을 알 수 있고, 코팅층이 치밀하며 균일하여 노출된 피코팅물 성분이나 불순물이 존재하지 않음을 알 수 있다.However, in the electromagnetic shielding film manufactured by the apparatus and method of the present invention as in 17-2, it can be seen that there are components forming copper and stainless steel, and the coating layer is dense and uniformly exposed to the coated component or impurities. It can be seen that it does not exist.

도 18은 종래의 방법으로 제조된 전자파 차폐막과 본 발명의 장치 및 방법으로 제조된 전자파 차폐막을 테이프 처리한 다음, 각각을 주사현미경 사진으로 쵤영한 것으로, 18-1의 사진에서 보듯이 종래 전자파 차폐막의 표면사진은 코팅표면이 테이프에 붙어서 박리됨을 알 수 있고, 18-2의 사진에서 보듯이 본 발명의 장치와 방법으로 제조된 전자파 차폐막의 표면은 테이프처리를 한 전상태와 같은 표면형상으로 되어 있어서, 본 발명에 따른 전자파 차폐막이 종래의 전자파 차폐막 보다 밀착력이 우수함을 알 수 있다.18 is a tape treatment of the electromagnetic shielding film manufactured by the conventional method and the electromagnetic shielding film manufactured by the apparatus and method of the present invention, and then taken with a scanning microscope picture, respectively, as shown in the photo of 18-1, the conventional electromagnetic shielding film It can be seen that the surface of the coating surface is attached to the tape and peeled off, and as shown in the photograph of 18-2, the surface of the electromagnetic shielding film manufactured by the apparatus and method of the present invention has the same surface shape as before the tape treatment. In this regard, it can be seen that the electromagnetic wave shielding film according to the present invention is superior in adhesion to the conventional electromagnetic wave shielding film.

도 19는 종래 스프레이 방식에 의하여 제조된 전자파 차폐막과 본 발명에 의한 장치와 방법으로 제조된 전자파 차폐막의 ASTM(American Society of Testing and Material)의 전자파 차폐효과를 비교한 것으로, 종래 전자파 차폐막의 전자파 차폐효과는 40 마이크로의 코팅층 두께에서 43∼33dB로 나타나고, 본 발명에 따른 장치와 방법으로 제조된 전자파 차폐막은 1.3 마이크로 코팅층 두께에서 70∼62dB로 나타났으며, 따라서 차폐효과는 종래방법으로 제조된 전자파 차폐막 보다 본 발명으로 제조된 전자파 차폐막이 차폐효과가 우수함을 알 수 있다.19 is a comparison of the electromagnetic shielding effect of the ASTM (American Society of Testing and Material) of the electromagnetic shielding film prepared by the conventional spray method and the electromagnetic shielding film manufactured by the apparatus and method according to the present invention, the electromagnetic shielding of the conventional electromagnetic shielding film The effect was 43 to 33 dB at a thickness of 40 micro coating layer, and the electromagnetic shielding film produced by the apparatus and method according to the present invention was 70 to 62 dB at the thickness of 1.3 micro coating layer, so the shielding effect was electromagnetic wave produced by the conventional method. It can be seen that the electromagnetic shielding film produced by the present invention rather than the shielding film has an excellent shielding effect.

상기와 같은 기술을 이용함으로써, 플라스틱(피코팅물)/금속(코팅물), 세라믹(피코팅물)/금속(코팅물), 섬유(피코팅물)/금속(코팅물) 뿐만 아니라, 마이크로 전자부품에도 폭 넓게 응용될 수 있으며, 상기의 공정들이 독립된 공간내에서 플라즈마 기술 및 스퍼터링 기술을 이용한 건식코팅이므로 기존의 무전해도금이나 스프레이 코팅과는 차별화되는 무공해공정으로 환경친화성산업에 적합하다.By using such a technique, not only plastic (coated material) / metal (coated material), ceramic (coated material) / metal (coated material), fiber (coated material) / metal (coated material), but also micro It can be widely applied to electronic parts, and the above processes are dry coatings using plasma technology and sputtering technology in independent spaces, and are suitable for environmentally friendly industry as a pollution-free process that is differentiated from conventional electroless plating or spray coating.

또한, 스퍼터링 및 지그회전효과에 의하여 구리막 및 스테인레스 막을 치밀하게 제조하므로, 종래의 차폐막에서 문제됐던 피코팅물의 가장자리에서의 불균일코팅 및 치밀하지 못한 코팅에 의하여 차폐효과가 떨어지는 문제점을 해결할 수 있었으며, 대면적의 스퍼터 캐소드, 균일하게 배치된 가스홀, 타겟과 피코팅물의 근접배치 및 지그회전에 의하여 코팅층의 두께 및 저항인자의 균일도를 ±2% 이내로 유지할 수 있으며, 코팅층의 두께를 조절하여 도전성 코팅막의 저항을 미세하게 조절할 수 있다.In addition, since the copper film and the stainless film are manufactured by the sputtering and jig rotation effect precisely, the problem of inferior shielding effect due to the nonuniform coating and the dense coating at the edge of the coated object, which is a problem in the conventional shielding film, could be solved. The thickness of the coating layer and the uniformity of the resistance factor can be maintained within ± 2% by the large-area sputtering cathode, the uniformly arranged gas hole, the close arrangement of the target and the coated object, and the jig rotation.The thickness of the coating layer is controlled to control the thickness of the conductive coating layer. The resistance of the can be finely adjusted.

그리고, 본 발명에 의하여 제조된 전자파 차폐막은 구리막과 스테인레스 막으로된 2중코팅막의 도전성금속막을 사용함으로써, 저주파범위에서 우수한 전자파 차폐 특성을 나타내는 구리코팅막과 고주파범위에서 우수한 전자파 차폐특성을 나타내는 스테인레스 코팅막을 복합시킨 형태가되어 넓은 주파수 범위에서 안정되고 우수한 전자파 차폐효과를 얻을 수 있다.In addition, the electromagnetic shielding film prepared according to the present invention uses a conductive metal film of a double coating film made of a copper film and a stainless film, thereby producing a copper coating film exhibiting excellent electromagnetic shielding characteristics in a low frequency range and a stainless steel exhibiting excellent electromagnetic shielding characteristics in a high frequency range. It becomes a composite form of the coating film, it is possible to obtain a stable and excellent electromagnetic shielding effect in a wide frequency range.

양산성을 극대화하기 위해 챔버는 직경이 1200mm, 길이 1500mm인 대형챔버로 구성하고, 회전지그는 직경이 약700mm, 길이 1300mm로서 회전가능하게 구성하고, 도전성 및 부도체 재질과 크기 및 형상에 구애받지 않고, 대량의 피코팅물장착이 가능하며, 대형고속펌핑장비를 사용함으로써 잔류가스 펌핑시간을 단축시킬 수 있고, 장치내에 존재하는 표면 이물질 및 사출이형제 등이 에칭처리에 의하여 제거되기 때문에 최적의 코팅조건이 만들어 진다.The chamber is composed of a large chamber of 1200mm in diameter and 1500mm in length to maximize mass production, and the rotating jig is configured to be rotatable in diameter of about 700mm and 1300mm in length, regardless of conductive and non-conductive materials, sizes and shapes. It is possible to install a large amount of coated materials, and to reduce the residual gas pumping time by using the large-scale high speed pumping equipment, and the optimum coating because the surface foreign substances and the injection release agent existing in the apparatus are removed by etching treatment. The condition is created.

그리고, 타겟들의 이면에 강력한 자석들이 설치되어 있어서 타겟에서 스퍼터된 원자가 방전가스의 원자에 산란되어 제품에 도달하는 스퍼터링 수율을 향상시킬 수 있고, 타겟에 부하되는 자장이 피코팅물에 평형으로 가깝게 배열되게 하여 이온화된 원자들이 피코팅물에 도달하는 시간단축이 가능하며, 넓은 영역의 증착이 가능하기 때문에 종래의 차폐막형성 방법들에서 발생되는 막형성속도의 저하의 단점을 보완하였다.In addition, powerful magnets are installed on the backside of the target, so that the sputtered atoms from the target are scattered by the atoms of the discharge gas to improve the sputtering yield reaching the product, and the magnetic field loaded on the target is arranged in equilibrium with the target to be coated. In this way, it is possible to shorten the time for the ionized atoms to reach the coated object and to deposit a wide area, thereby compensating for the disadvantage of the decrease in the film formation rate caused by the conventional shielding film forming methods.

또한, 타겟의 후면에 냉각수가 순환되도록 하여, 과열에 의하여 자석이 변형되거나 노화되는 것을 방지하게 되어, 자석의 수명을 향상시키게 된다.In addition, the coolant is circulated to the rear surface of the target, thereby preventing the magnet from being deformed or aged due to overheating, thereby improving the life of the magnet.

재연성측면에서 본 발명에 따른 전자파 차폐막 코팅장치는 전공정이 완전자동화시스템으로 구성되므로 전력, 가스의 양 등의 조절이 가능하고, 지그회전속도의 조절이 가능하므로 재연성이 우수하며, 경제성 측면에서는 회전지그가 10회전시 25m 길이의 In-Line 스퍼터 시스템과 동일한 성막속도를 가지므로, 25m 길이의 In-Line 스퍼터 시스템의 제작시와 비교하면 제작비가 훨씬 적게 소요된다.In terms of flammability, the electromagnetic wave shielding film coating apparatus according to the present invention is capable of controlling the amount of power and gas since the entire process is composed of a fully automated system, and it is possible to control the jig rotation speed, so that the jig is superior in terms of economic efficiency, When 10 revolutions have the same film formation speed as the 25-meter in-line sputter system, the manufacturing cost is much lower than that of the 25-meter in-line sputter system.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명의 전자파 차폐막 코팅방법은 합성수지물을 에칭한 다음 차폐막을 코팅하여 코팅되는 합성수지물과 차폐막간의 접착력이 향상되고, 차폐막이 치밀하며, 차폐막의 두께 및 성분이 균일한 전자파 차폐막의 제조가 가능하다.As described in detail above, in the electromagnetic wave shielding coating method of the present invention, the adhesion between the synthetic resin and the shielding film coated by etching the synthetic resin and then coating the shielding film is improved, the shielding film is dense, and the thickness and composition of the shielding film are uniform. The electromagnetic wave shielding film can be manufactured.

또한, 원통형 회전지그에 합성수지물을 다단 다열로 장착하고, 그 회전지그를 회전시켜서 합성수지물들이 원통형 회전영역을 회전하는 상태에서 차폐막 코팅작업이 이루어지므로 제품의 대량코팅작업이 가능하며, 균일한 코팅이 가능할뿐만 아니라, 코팅층내에 불순물이 전혀존재하지 않게 된다.In addition, the synthetic resin is mounted on the cylindrical rotary jig in multiple stages, and by rotating the rotary jig, the shielding coating is performed in the state where the synthetic resin rotates the cylindrical rotary zone, thereby enabling mass coating of the product and uniform coating. Not only is this possible, but no impurities are present in the coating layer.

또한, 상기와 같이 제조된 전자파 차폐막은 구리막과 스테인레스 막의 이중금속막으로 구성되어 넓은 주파수 범위내에서 안정되고 우수한 전자파 차폐효과를 얻을 수 있으며, 스테인레스 막이 보호막으로 작용하여 표면손상이 방지된다.In addition, the electromagnetic wave shielding film prepared as described above is composed of a double metal film of a copper film and a stainless film to obtain a stable and excellent electromagnetic shielding effect within a wide frequency range, and the stainless film acts as a protective film to prevent surface damage.

Claims (3)

진공도가 30~60mTorr인 에칭 챔버에 20~50scm의 반응가스를 주입하는 상태에서 100~150W의 전압을 인가하여 발생되는 플라즈마를 이용하여 합성수지물의 표면을 에칭하는 단계와,Etching the surface of the synthetic resin using a plasma generated by applying a voltage of 100 to 150 W while injecting a reaction gas of 20 to 50 cm into a etching chamber having a vacuum degree of 30 to 60 mTorr, 그 에칭된 합성수지물을 진공도가 10-2~10-4Torr인 원통형의 공정챔버 내에서 원통형 코팅영역을 회전시키는 상태에서 300~600V/5~10A의 전압을 구리 전극과 스테인레스 전극에 차례로 인가하여 발생되는 스퍼터링으로 합성수지물의 표면에 구리막과 스테인레스막을 차례로 증착되도록 함으로써 합성수지물에 전자파 차폐막이 코팅되도록 하는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐막 코팅방법.The etched synthetic resin was applied to a copper electrode and a stainless electrode in turn by applying a voltage of 300 to 600 V / 5 to 10 A while rotating the cylindrical coating region in a cylindrical process chamber having a vacuum degree of 10 -2 to 10 -4 Torr. Electromagnetic shielding film coating method characterized in that the electromagnetic shielding film is coated on the synthetic resin by sequentially depositing a copper film and a stainless film on the surface of the synthetic resin by sputtering generated. 공정 챔버의 내측에 타겟이 배치되어 있고, 그 챔버의 내측에 피코팅물을 장착하기 위한 회전지그가 배치되어 있으며, 그 회전지그를 일정속도로 회전시키기 위한 지그회전수단이 구비되어 있는 코팅장치에 있어서,In the coating apparatus, a target is disposed inside the process chamber, and a rotating jig for mounting the object to be coated is disposed inside the chamber, and a jig rotating means is provided for rotating the rotating jig at a constant speed. In 상기 회전지그는 일정간격을 배치되는 한쌍의 원형 고정판과, 그 원형 고정판들의 사이에 원통형상으로 이루도록 일정간격을 두고 고정되는 다수개의 고정대들과, 그 정대들의 외측에 위치되어 합성수지물들을 고정대들의 외측에 다단 다열로 고정하기 위한 클램핑수단으로 구성되어 합성수지물들이 원통형 코팅영역을 회전하며 코팅이 이루어지도록 한 것을 특징으로 하는 전자파 차폐막 코팅장치.The rotary jig is a pair of circular fixing plate that is arranged at a predetermined interval, a plurality of fixing rods fixed at regular intervals to form a cylindrical shape between the circular fixing plates, and positioned on the outside of the jeongdae outside the synthetic resin Electromagnetic shielding film coating apparatus consisting of a clamping means for fixing in a multi-stage in the synthetic resin to rotate the cylindrical coating area and the coating is made. 제 2항에 있어서, 상기 클램핑수단은 상기 고정대의 외측에 배치되는 가동클램프와, 상기 고정대와 가동클램프에 관통되도록 일정간격으로 설치되는 볼트와, 그 볼트에 결합되어 가동클램프를 조이거나 풀기위한 조임나사로 구성되는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐막 코팅장치.The method of claim 2, wherein the clamping means is a movable clamp disposed on the outer side of the holder, a bolt that is installed at regular intervals so as to penetrate through the holder and the movable clamp, coupled to the bolt to tighten or loosen the movable clamp Electromagnetic shielding film coating device, characterized in that consisting of screws.
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