KR100287731B1 - photoresist removal method for shadow mask manufacturing system - Google Patents
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Abstract
본 발명은 박리액조 내에 스폰지 롤러 및 박리액 스프레이를 구비시켜 박리효율을 향상시키고, 수세조에서 초음파를 실은 순수를 분사시킴으로써 철판의 표면에 존재하는 미세한 잔사의 박리가 용이하게 이루어지도록 하여 제품의 수율 및 품질을 향상시키는 섀도우 마스크 제조장비의 감광막 제거방법에 관한 것으로서,The present invention improves the peeling efficiency by providing a sponge roller and the spray of the peeling liquid spray in the peeling liquid tank, and by spraying pure water loaded with ultrasonic waves in the washing tank to facilitate the peeling of the fine residue existing on the surface of the iron plate to yield the product And it relates to a photosensitive film removal method of the shadow mask manufacturing equipment to improve the quality,
철판을 박리액에 침적시켜 감광막을 팽윤시켜 철판과의 부착력을 저하시키는 제1 과정; 상기 제1 과정이 수행된 철판에 초음파를 실은 순수를 분사하여 철판에 존재하는 잔사를 박리시키는 제2 과정; 상기 제2 과정이 수행된 철판에 고압의 물을 경사지도록 분사시켜 철판 표면에서 감광막을 제거시키는 제3 과정; 상기 제3 과정이 수행된 철판이 후속공정에서 녹슬지 않도록 철판을 방청액에 침적시켜 표면에 방청액을 묻혀주는 제4 과정; 및 상기 제4 과정이 수행된 철판에 세정액을 분사하여 철판 표면의 이물질을 제거하는 제5 과정;을 포함하는 것을 특징으로 한다.A first step of dipping the iron plate in the stripping solution to swell the photosensitive film to lower adhesion to the iron plate; A second process of spraying pure water loaded with ultrasonic waves on the iron plate on which the first process is performed to peel off the residue present on the iron plate; A third process of removing the photoresist film from the surface of the iron plate by spraying water of high pressure on the iron plate on which the second process is performed; A fourth step of depositing the anti-rust solution on the surface by immersing the iron plate in the anti-rust solution so that the iron plate on which the third process is performed is not rusted in a subsequent process; And a fifth process of spraying a cleaning solution on the iron plate on which the fourth process is performed to remove foreign substances on the surface of the iron plate.
Description
본 발명은 섀도우 마스크 제조장비의 감광막 제거방법에 관한 것으로서 특히, 섀도우 마스크의 제조시 철판의 에칭공정 후 감광막 찌꺼기 및 기타의 이물질을 제거할 수 있도록 하는 섀도우 마스크 제조장비의 감광막 제거방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for removing a photoresist film of a shadow mask manufacturing equipment, and more particularly, to a method for removing a photoresist film of a shadow mask manufacturing equipment for removing photoresist residue and other foreign matters after an etching process of an iron plate in manufacturing a shadow mask.
현재 표시수단으로서 주로 사용되고 있는 디스플레이 장치는 도 1에 도시된 바와 같이, 전자총(1), CPM(2), 편향요크(3), 내부 실드(inner shield : 4), 퍼널(funnel : 5), 패널(panel : 6), 형광면(7), 섀도우 마스크(8)를 포함한다.As the display device mainly used as a display means as shown in Fig. 1, the electron gun 1, the CPM 2, the deflection yoke 3, the inner shield 4, the funnel 5, A panel 6, a fluorescent surface 7, and a shadow mask 8.
상기와 같은 디스플레이 장치의 동작원리를 설명하면, 상기 전자총(1)에서 방사된 R,G,B의 전자빔이 편향요크(3)에서 수직/수평으로 편향되고, 상기 섀도우 마스크(8)의 구멍을 통과하여 패널의 내면에 대응하는 형광면(7)에 부딪쳐 3원색 조합을 통해 컬러를 재현한다. 여기서, 3원색의 조합을 결정하는 섀도우 마스크(8)는 제조품질에 따라 디스플레이 장치의 성능이 결정된다.Referring to the operation principle of the display device as described above, the electron beams of R, G, and B emitted from the electron gun 1 are deflected vertically and horizontally in the deflection yoke 3, and the holes of the shadow mask 8 are closed. Pass through and hit the fluorescent surface 7 corresponding to the inner surface of the panel to reproduce the color through a combination of three primary colors. Here, the performance of the display apparatus of the shadow mask 8 that determines the combination of the three primary colors is determined according to the manufacturing quality.
도 2는 소재인 철판에 다수의 섀도우 마스크가 만들어진 형태를 나타낸다.2 illustrates a form in which a plurality of shadow masks are made on an iron plate which is a material.
도 2를 참조하면, 섀도우 마스크의 제조공정에서 소재인 철판에 횡2매 방식으로 다수개 형성되는데, 각각의 섀도우 마스크에는 수십만개의 구멍이 형성된다. 이때, 구멍의 형태에 따라 CPT(color picture tube)와 CDT(color display tube)로 구분된다.Referring to FIG. 2, in the manufacturing process of the shadow mask, a plurality of horizontal plates are formed on the iron plate, and hundreds of thousands of holes are formed in each shadow mask. At this time, according to the shape of the hole is divided into CPT (color picture tube) and CDT (color display tube).
상기에서 CPT의 경우는 텔레비젼용으로 주로 사용되고, 구멍이 슬롯형태로 약15만개 형성된다. 또한, CDT의 경우는 컴퓨터의 모니터용으로 주로 사용되고, 구멍이 원형으로 약80만개 형성된다. 이때, CDT의 경우는 앞뒷면의 구멍의 크기가 서로 다르게 되어 있다.The CPT is mainly used for televisions, and about 150,000 holes are formed in slots. In addition, CDT is mainly used for computer monitors, and about 800,000 holes are formed in a circular shape. In this case, in the case of the CDT, the sizes of the holes in the front and rear surfaces are different from each other.
상기에서 각각의 구멍은 위치에 따라 크기와 테이퍼량이 다른 특성을 갖는다. 이때, 섀도우 마스크에 형성된 구멍의 형태는 중심선을 기준으로 좌우 대칭적인데, 구멍에서 중심과 멀어진 부분의 테이퍼량이 중심과 가까운 부분의 테이퍼량 보다 더 크게 형성된다.In the above, each hole has a characteristic that the size and the amount of taper vary depending on the position. At this time, the shape of the hole formed in the shadow mask is symmetrical with respect to the center line, the taper amount of the portion away from the center from the hole is formed larger than the taper amount of the portion close to the center.
도 3은 섀도우 마스크의 제조공정을 나타내는 도면이다.3 is a diagram illustrating a manufacturing process of a shadow mask.
도 3을 참조하면, 정면공정, 노광공정, 현상공정, 에칭공정을 순차적으로 수행하여 섀도우 마스크의 제조를 수행한다.Referring to FIG. 3, a shadow mask may be manufactured by sequentially performing a front process, an exposure process, a developing process, and an etching process.
이때, 상기 정면공정은 도 3의 (A)에 도시된 바와 같이, 소재인 철판(11)이 외부로부터 투입되어지면, 상기 철판(11)의 표면에 묻은 방청유 및 이물질을 제거하고, 감광액(photoresist:PR)의 도포가 잘 이루어지도록 질산으로 철판(11)의 표면을 부식시키며, 질산을 중화시켜 세정한 후 감광액을 상기 철판(11)의 상하면에 도포하여 감광막(12,13)을 형성시킨다.In this case, as shown in FIG. 3A, when the iron plate 11, which is a raw material, is introduced from the outside, the rust-preventing oil and foreign substances on the surface of the iron plate 11 are removed, and a photoresist is provided. : Corrosion of the surface of the iron plate (11) with nitric acid to facilitate the application of PR, and neutralizing and cleaning the nitric acid, and then the photosensitive liquid is applied to the upper and lower surfaces of the iron plate (11) to form the photosensitive films (12, 13).
또한, 상기 노광공정은 도 3의 (B)에 도시된 바와 같이, 마스크(미도시)를 이용하여 상기 철판(11)에 형성된 감광막(12,13)의 특정부분을 패턴에 따라 노광시킨다. 이때, 상기 철판(11)의 상하면에서 노광되는 면적은 서로 다르게 된다.In addition, in the exposure process, as shown in FIG. 3B, a specific portion of the photosensitive films 12 and 13 formed on the iron plate 11 is exposed according to a pattern using a mask (not shown). In this case, areas exposed on the upper and lower surfaces of the iron plate 11 are different from each other.
또한, 상기 현상공정은 도 3의 (C)에 도시된 바와 같이, 상기 노광공정에서 노광이 이루어지지 않은 감광막(12B,13B)을 현상액을 이용하여 제거한다. 이때, 섀도우 마스크에서 구멍을 만들고자 하는 위치에 철판(11)이 노출되고, 노광된 부분의 감광막(12A,13A)은 중크롬산에 의해 경화된다. 그후, 상기 중크롬산을 제거하기 위한 수세를 수행한다.In the developing step, as illustrated in FIG. 3C, the photosensitive films 12B and 13B that are not exposed in the exposure step are removed using a developing solution. At this time, the iron plate 11 is exposed at the position to make a hole in the shadow mask, and the photosensitive films 12A and 13A of the exposed portion are cured by dichromic acid. Thereafter, washing with water to remove the dichromic acid is performed.
또한, 상기 에칭공정은 도 3의 (D)에 도시된 바와 같이, 상기 현상공정에서 노출된 부분(14,15)을 통해 염화제2철 등의 에칭액을 분사하여 철판(11)의 제1 면 및 제2 면을 개별적으로 부식시킴으로써 관통구멍을 형성시킨다. 이때, 특정면의 에칭을 수행하는 동안 다른 면의 에칭이 진행되지 않도록 에칭을 수행하지 않고자 하는 면에는 UV수지를 도포한다. 상기에서 철판(11)의 양면에서 노출되는 부분의 크기가 서로 다르기 때문에 철판(11) 상하면의 에칭정도가 다르게 나타난다. 그후, 상기 철판(11)의 상하면에 존재하는 감광막(12A,13A) 및 UV수지를 제거함으로써 섀도우 마스크가 완성된다.In the etching process, as shown in FIG. 3D, the first surface of the iron plate 11 is sprayed with an etchant such as ferric chloride through the exposed portions 14 and 15 in the developing process. And through holes are individually corroded to form through holes. At this time, the UV resin is applied to the surface where the etching is not to be performed so that the etching of the other surface does not proceed while the etching of the specific surface is performed. Since the size of the portions exposed on both sides of the iron plate 11 is different from each other, the degree of etching of the upper and lower surfaces of the iron plate 11 is different. Thereafter, the shadow mask is completed by removing the photosensitive films 12A and 13A and the UV resin present on the upper and lower surfaces of the iron plate 11.
그런데, 상기와 같은 공정에서, 에칭공정시 이루어지는 감광막 및 UV수지의 제거작업에 따라 후속공정에서의 불량률이 결정되기 때문에 섀도우 마스크의 품질 및 제품의 수율이 결정된다. 따라서, 제거작업을 정밀하게 수행하기 위한 이물질 제거장치가 필요하게 된다.However, in the above process, since the defect rate in the subsequent process is determined according to the removal of the photoresist film and the UV resin during the etching process, the quality of the shadow mask and the yield of the product are determined. Therefore, there is a need for a foreign matter removal device for precisely performing the removal operation.
도 4는 종래 기술에 의한 섀도우 마스크 제조장비의 감광막 제거장치의 구성을 나타내는 도면이다.4 is a view showing the configuration of a photoresist film removing apparatus of a shadow mask manufacturing apparatus according to the prior art.
도 4를 참조하면, 참조번호 21은 에칭이 수행된 후 에칭액과 잔사의 제거를 위한 수세가 이루어진 철판(11)이 공급되면 감광액(PR) 및 UV수지를 팽윤시켜 철판(11)과의 부착력을 저하시키는 박리액조를 나타내고, 22는 상기 박리액조(21)를 통과한 철판(11)에 고압의 물을 경사지도록 뿌려주어 철판(11) 표면에서 감광액(PR) 및 UV수지를 박리시키는 제1 수세조를 나타내고, 23은 상기 제1 수세조(22)를 통과한 철판(11)을 방청액에 침적시켜 표면에 방청액을 묻혀주어 후속공정에서 철판(11)이 녹슬지 않도록 하는 방청액조를 나타내고, 24는 상기 방청액조(23)를 통과한 철판(11)에 세정액을 분사하여 철판(11) 표면의 이물질을 제거하는 제2 수세조를 나타낸다.Referring to FIG. 4, reference numeral 21 denotes that after the etching is performed, when the iron plate 11 is flushed with water to remove the etchant and the residue, the photoresist (PR) and the UV resin are swollen to improve adhesion to the iron plate 11. The peeling liquid tank which reduces is shown, 22 is the 1st water which sprays the high pressure water to the iron plate 11 which passed through the said peeling liquid tank 21 so that it may incline, and peels the photosensitive liquid PR and UV resin from the iron plate 11 surface. 23 represents a rust tank, and 23 shows an rust prevention tank in which the iron plate 11 that has passed through the first flush tank 22 is immersed in the rust preventive solution so as to bury the rust preventive solution on the surface to prevent the iron plate 11 from rusting in a subsequent process. 24 denotes a second water washing tank for spraying a cleaning liquid on the iron plate 11 which has passed through the rustproof liquid tank 23 to remove foreign substances on the surface of the iron plate 11.
또한, 참조번호 31은 철판(11)의 이동을 수행하는 반송롤러를 나타내고, 32는 상기 제1 수세조(22)에 배치되어 50 내지 200kgf/㎠의 물을 분사하는 박리 스프레이를 나타내고, 33은 제2 수세조(24)에 배치되어 세정액을 분사하는 수세 스프레이를 나타낸다.In addition, reference numeral 31 denotes a conveying roller which performs the movement of the iron plate 11, 32 denotes a peeling spray which is disposed in the first flush tank 22 and injects water of 50 to 200 kgf / cm 2, and 33 denotes The flushing spray which is arrange | positioned in the 2nd washing tank 24 and injects a washing | cleaning liquid is shown.
상기와 같은 종래 기술에 의한 섀도우 마스크 제조장비의 감광막 제거방법은 박리잔사 및 이물질을 완전히 제거하지 못하기 때문에 불량률이 증가하여 제품의 품질 및 수율을 저하시키는 문제점이 발생한다.The method of removing the photoresist film of the shadow mask manufacturing equipment according to the prior art as described above does not completely remove the peeling residue and foreign matters, thereby increasing the defect rate, thereby causing a problem of lowering the quality and yield of the product.
또한, 스프레이 방식을 사용함으로써 섀도우 마스크의 구멍에 박리잔사가 끼어있는 경우가 자주 발생되기 때문에 후속공정에서 2차적인 불량을 유발시키는 문제점이 있다.In addition, since the peeling residue is often stuck in the hole of the shadow mask by using the spray method, there is a problem of causing secondary defects in the subsequent process.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 그 목적은 박리액조 내에 스폰지 롤러 및 박리액 스프레이를 구비시켜 박리효율을 향상시킬 수 있는 섀도우 마스크 제조장비의 감광막 제거방법을 제공하는데 있다.The present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a photosensitive film removal method of the shadow mask manufacturing equipment that can improve the peeling efficiency by providing a sponge roller and a peeling liquid spray in the peeling liquid tank.
또한, 본 발명의 다른 목적은 아쿠아 나이프(aqua knife)를 이용하여 수세조에서 초음파를 실은 순수를 분사시킴으로써 철판의 표면에 존재하는 미세한 잔사의 박리가 용이하게 이루어지도록 하여 제품의 수율 및 품질을 향상시킬 수 있는 섀도우 마스크 제조장비의 감광막 제거방법을 제공하는데 있다.In addition, another object of the present invention by using an aqua knife to spray the pure water loaded with ultrasonic waves in the washing tank to facilitate the peeling of the fine residue present on the surface of the iron plate to improve the yield and quality of the product The present invention provides a method for removing a photoresist film of a shadow mask manufacturing equipment.
또한, 본 발명의 또 다른 목적은 세정이 완료된 철판에 에어 나이프(air knife)를 이용하여 공기를 분사시킴으로써 방청액조 및 수세조에서 발생될 수 있는 이물질을 수분과 동시에 제거시킬 수 있는 섀도우 마스크 제조장비의 감광막 제거방법을 제공하는데 있다.In addition, another object of the present invention is a shadow mask manufacturing equipment that can remove the foreign matter and water at the same time generated by the air knife using an air knife (air knife) on the clean-up iron plate at the same time water To provide a method for removing the photosensitive film.
도 1은 일반적인 디스플레이 장치의 구성을 나타내는 도면,1 is a view showing the configuration of a general display device;
도 2는 철판에 다수의 섀도우 마스크가 만들어진 형태를 나타내는 도면,2 is a view showing a form in which a plurality of shadow masks are made on an iron plate,
도 3은 섀도우 마스크의 제조공정을 나타내는 도면,3 is a view showing a manufacturing process of a shadow mask;
도 4는 종래 기술에 의한 감광막 제거장치의 구성을 나타내는 도면,4 is a view showing the configuration of a photosensitive film removing apparatus according to the prior art;
도 5는 본 발명에 의한 감광막 제거장치의 구성을 나타내는 도면,5 is a view showing the configuration of a photosensitive film removing apparatus according to the present invention;
도 6은 본 발명에 의한 아쿠아 나이프의 배치구조를 나타내는 도면.Figure 6 is a view showing the arrangement of the aqua knife according to the present invention.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the reference numerals for the main parts of the drawings>
41 : 박리액조 42 : 제1 수세조41: stripping liquid tank 42: first water washing tank
43 : 제2 수세조 44 : 방청액조43: second washing tank 44: antirust tank
45 : 제3 수세조 51 : 반송롤러45: third washing tank 51: conveying roller
52 : 스폰지 롤러 53 : 박리액 스프레이52: sponge roller 53: peeling liquid spray
54 : 스폰지 롤러 55 : 아쿠아 나이프(aqua knife)54: sponge roller 55: aqua knife
56 : 제1 수세 스프레이 57 : 제2 수세 스프레이56: 1st flush spray 57: 2nd flush spray
58 : 에어 나이프(air knife) 59 : 초음파 발진기58: air knife 59: ultrasonic oscillator
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따르면, 철판을 박리액에 침적시켜 감광막을 팽윤시켜 철판과의 부착력을 저하시키는 제1 과정; 상기 제1 과정이 수행된 철판에 초음파를 실은 순수를 분사하여 철판에 존재하는 잔사를 박리시키는 제2 과정; 상기 제2 과정이 수행된 철판에 고압의 물을 경사지도록 분사시켜 철판 표면에서 감광막을 제거시키는 제3 과정; 상기 제3 과정이 수행된 철판이 후속공정에서 녹슬지 않도록 철판을 방청액에 침적시켜 표면에 방청액을 묻혀주는 제4 과정; 및 상기 제4 과정이 수행된 철판에 세정액을 분사하여 철판 표면의 이물질을 제거하는 제5 과정;을 포함하여 이루어지는 섀도우 마스크 제조장비의 감광막 제거방법을 제공한다.According to a feature of the present invention for achieving the above object, the first step of immersing the iron plate in the peeling solution to swell the photosensitive film to lower the adhesion to the iron plate; A second process of spraying pure water loaded with ultrasonic waves on the iron plate on which the first process is performed to peel off the residue present on the iron plate; A third process of removing the photoresist film from the surface of the iron plate by spraying water of high pressure on the iron plate on which the second process is performed; A fourth step of depositing the anti-rust solution on the surface by immersing the iron plate in the anti-rust solution so that the iron plate on which the third process is performed is not rusted in a subsequent process; And a fifth process of spraying a cleaning solution on the iron plate on which the fourth process is performed to remove foreign substances on the surface of the iron plate.
이때, 본 발명의 부가적인 특징에 따르면, 상기 제1 과정 및 제2 과정에는 철판의 상하측에서 스폰지 롤러를 이용하여 압착함으로써 감광막과 철판의 부착력을 저하시키는 단계가 포함되고, 상기 제1 과정에는 박리액을 고압으로 분사시켜 부착력이 저하된 감광막을 박리시키는 단계가 포함되며, 상기 제2 과정에는 철판을 향하여 초음파를 실은 순수를 분사시켜 부착력이 저하된 감광막을 박리시키는 단계가 포함되는 것이 바람직하다.At this time, according to an additional feature of the present invention, the first process and the second process includes a step of lowering the adhesive force of the photosensitive film and the iron plate by pressing by using a sponge roller on the upper and lower sides of the iron plate, the first process Injecting the peeling solution at a high pressure to peel off the photosensitive film is reduced adhesion, the second process is preferably sprayed pure water carrying ultrasonic waves toward the iron plate to peel off the photosensitive film is reduced adhesion. .
또한, 상기 제1 과정에서 사용되는 박리액은 60 내지 90℃의 온도를 유지하고, 제1 및 제2 과정에서 분사되는 박리액 및 순수의 압력은 10 내지 100kgf/㎠를 유지하는 것이 바람직하다.In addition, the stripping liquid used in the first process is maintained at a temperature of 60 to 90 ℃, the pressure of the stripping liquid and the pure water sprayed in the first and second processes is preferably maintained to 10 to 100kgf / ㎠.
또한, 상기 제5 과정에는 철판에 세정액을 분사하여 철판 표면의 이물질을 제거한 후 공기를 분사하여 철판 표면에 존재하는 이물질 및 수분을 제거하는 단계가 포함되는 것이 바람직하다.In addition, the fifth process may include the step of removing the foreign matter on the surface of the iron plate by removing the foreign matter on the surface of the iron plate by spraying the cleaning liquid on the iron plate, and then removing the foreign matter and water present on the surface of the iron plate.
이하, 본 발명에 의한 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.
도 5는 본 발명에 의한 섀도우 마스크 제조장비의 감광막 제거장치의 구성을 나타내는 도면이다.5 is a view showing the configuration of the photoresist film removing apparatus of the shadow mask manufacturing equipment according to the present invention.
도 5를 참조하면, 참조번호 41은 에칭이 수행된 후 에칭액과 잔사의 제거를 위한 수세가 이루어진 철판(11)이 공급되면 감광액(PR) 및 UV수지를 팽윤시켜 철판(11)과의 부착력을 저하시키는 박리액조를 나타내고, 42는 상기 박리액조(41)를 통과한 철판(11)에 초음파를 실은 순수를 분사하여 철판(11)에 존재하는 잔사를 박리시키는 제1 수세조를 나타내고, 43은 상기 제1 수세조(42)를 통과한 철판(11)에 고압의 물을 경사지도록 뿌려주어 철판(11) 표면에서 감광막(PR) 및 UV수지를 제거시키는 제2 수세조를 나타내고, 44는 상기 제2 수세조(43)를 통과한 철판(11)을 방청액에 침적시켜 표면에 방청액을 묻혀주어 후속공정에서 철판(11)이 녹슬지 않도록 하는 방청액조를 나타내고, 45는 상기 방청액조(44)를 통과한 철판(11)에 세정액을 분사하여 철판(11) 표면의 이물질을 제거하는 제3 수세조를 나타낸다.Referring to FIG. 5, reference numeral 41 denotes an adhesion force to the iron plate 11 by swelling the photoresist liquid PR and UV resin when the iron plate 11 is washed with water to remove the etchant and the residue after the etching is performed. 42 shows a 1st water tank which peels the residue which exists in the iron plate 11 by spraying the pure water which carried the ultrasonic wave to the iron plate 11 which passed through the said separation liquid tank 41, and 43 A high pressure water is sprayed on the iron plate 11 passing through the first washing tank 42 so as to be inclined, and a second water washing tank for removing the photoresist film PR and UV resin from the surface of the iron plate 11 is indicated. The steel plate 11 passing through the second washing tank 43 is immersed in the rust preventive solution to bury the rust preventive solution on the surface to represent the rust preventive tank to prevent the iron plate 11 in the subsequent process, 45 is the rust preventive solution tank 44 Cleaning liquid is sprayed on the iron plate 11 which has passed through) to remove foreign substances on the surface of the iron plate 11. The number 3, which shows a Sejo.
또한, 참조번호 51은 철판(11)의 이동을 수행하는 반송롤러를 나타내고, 52는 상기 박리액조(41)에서 이송되는 철판(11)의 상하측에 접촉되도록 배치되어 감광막(PR) 및 UV수지를 압착하는 스폰지 롤러를 나타내고, 53은 상기 박리액조(41)의 상부에 배치되어 철판(11)을 향하여 박리액을 고압으로 분사시키는 박리액 스프레이를 나타낸다.In addition, reference numeral 51 denotes a conveying roller for moving the iron plate 11, 52 is disposed so as to be in contact with the upper and lower sides of the iron plate 11 conveyed from the stripping liquid tank 41, the photosensitive film PR and UV resin Denotes a sponge roller for crimping, and reference numeral 53 denotes a peeling liquid spray which is disposed on the upper portion of the peeling liquid tank 41 and sprays the peeling liquid at a high pressure toward the iron plate 11.
또한, 참조번호 54는 상기 제1 수세조(42)에서 이송되는 철판(11)의 상하측에 접촉되도록 배치되어 감광막(PR) 및 UV수지를 압착하는 스폰지 롤러를 나타내고, 55는 상기 제1 수세조(42)의 상부에 배치되어 철판(11)을 향하여 초음파를 실은 순수를 분사하는 아쿠아 나이프(aqua knife)를 나타내고, 56은 상기 제2 수세조(43)에 배치되어 10 내지 100kgf/㎠의 물을 분사하는 제1 수세 스프레이를 나타내고, 57은 상기 제3 수세조(45)에 배치되어 세정액을 분사하는 제2 수세 스프레이를 나타내고, 58은 상기 제3 수세조(45)에 배치되어 공기를 분사하여 철판(11) 표면의 이물질 및 수분을 제거하는 에어 나이프(air knife)를 나타낸다.In addition, reference numeral 54 denotes a sponge roller which is arranged to contact the upper and lower sides of the iron plate 11 conveyed from the first washing tank 42 to compress the photosensitive film PR and the UV resin, and 55 denotes the first water. An aqua knife disposed on the upper side of the tub 42 and spraying pure water loaded with ultrasonic waves toward the iron plate 11, and 56 is disposed in the second washing tub 43 to be 10 to 100 kgf / cm 2. A first flush spray for spraying water is shown, 57 is a second flush spray for dispensing a cleaning liquid disposed in the third flush tank 45, and a 58 is disposed in the third flush tank 45 for air. An air knife which sprays to remove foreign substances and water from the surface of the iron plate 11 is shown.
상기에서, 아쿠아 나이프(55)에는 도 6에 도시된 바와 같이 초음파 발진기(59)가 결합되어 분사되는 순수에 초음파를 실어준다.In the above, as shown in Figure 6, the aqua knife 55, the ultrasonic oscillator 59 is coupled to the ultrasonic wave to the sprayed pure water.
상기와 같은 본 발명의 동작을 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the present invention as described above are as follows.
먼저, 철판(11)이 박리액조(41) 내부에서 박리액에 침적된 상태에서 진행하면 감광막(PR) 및 UV수지가 팽윤되어 철판(11)과의 부착력을 저하된다. 이때, 상기 스폰지 롤러(52)에 의해 부착력 저하가 가속화된다. 그후, 박리액으로부터 나오면 상기 박리액 스프레이(53)에서 60 내지 90℃의 박리액을 10 내지 100kgf/㎠의 압력으로 분사시켜 감광막(12,13) 및 UV수지의 대부분을 박리시킨다.First, when the iron plate 11 proceeds in the state of being deposited on the peeling liquid in the peeling liquid tank 41, the photoresist film PR and the UV resin swell to lower the adhesive force with the iron plate 11. At this time, the adhesion decreases by the sponge roller 52 is accelerated. Then, when it comes out from the peeling liquid, the peeling liquid of 60-90 degreeC is sprayed by the said peeling liquid spray 53 at the pressure of 10-100 kgf / cm <2>, and most of the photosensitive films 12 and 13 and UV resin are peeled off.
그후, 철판(11)이 제1 수세조(42)로 진행하면 세정액에서 소정시간 침적되고, 스폰지롤러(54)에 의해 부착력의 저하가 이루어진 후 상기 아쿠아 나이프(55)에서 초음파를 실은 순수를 분사하여 철판(11)의 구멍 등에 존재하는 미세한 잔사를 박리시킨다.Subsequently, when the iron plate 11 proceeds to the first washing tank 42, it is immersed in the cleaning liquid for a predetermined time, and after the adhesion is lowered by the sponge roller 54, the pure water loaded with the ultrasonic waves is sprayed from the aqua knife 55. The fine residue present in the hole of the iron plate 11 is peeled off.
그후, 제2 수세조(43)에서는 상기 제1 수세 스프레이(56)를 통해 고압의 물을 경사지도록 뿌려주어 철판(11) 표면에서 박리된 상태로 존재하는 잔사 및 이물질 들을 제거한다.Thereafter, the second washing tank 43 is sprayed to incline the high pressure water through the first washing spray 56 to remove residues and foreign substances present in the peeled state from the surface of the iron plate 11.
그후, 철판(11)이 방청액조(44)를 거쳐 제3 수세조(45)로 진행하면 세정이 완료된 철판(11)에 에어 나이프(58)를 이용하여 공기를 분사시킴으로써 방청액조(44) 및 제3 수세조(45)에서 발생될 수 있는 이물질을 수분과 동시에 제거시킨다.Thereafter, when the iron plate 11 proceeds to the third water washing tank 45 through the rustproof liquid tank 44, the rustproof liquid tank 44 and the rustproof liquid tank 44 are sprayed with an air knife 58 using the air knife 58. The foreign substances that may be generated in the third washing tank 45 are simultaneously removed with water.
이상에서 설명한 바와 같은 본 발명의 섀도우 마스크 제조장비의 감광막 제거방법은 박리액조 내에 스폰지 롤러 및 박리액 스프레이를 구비시켜 박리효율을 향상시키고, 아쿠아 나이프(aqua knife)를 이용하여 수세조에서 초음파를 실은 순수를 분사시켜 철판의 표면에 존재하는 미세한 잔사의 박리를 수행할 수 있기 때문에 제품의 수율 및 품질을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.As described above, the method of removing the photosensitive film of the shadow mask manufacturing equipment of the present invention includes a sponge roller and a spray solution spray in the stripping solution tank to improve the stripping efficiency, and the ultrasonic wave is loaded in the washing tank using an aqua knife. Since the fine residue can be peeled off by spraying pure water, the yield and quality of the product can be improved.
또한, 세정이 완료된 철판에 에어 나이프(air knife)를 이용하여 공기를 분사시킴으로써 방정액조 및 수세조에서 발생될 수 있는 이물질을 수분과 동시에 제거시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, by spraying the air using the air knife (air knife) to the cleaning is completed, there is an effect that can remove the foreign substances that can be generated in the liquid bath and the washing tank at the same time with water.
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