KR100269407B1 - 주파수를가변할수있는동축형유전체공진기 - Google Patents

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Abstract

주파수를 가변할 수 있는 동축형 유전체 공진기를 개시한다. 본 발명은, 관통홀을 가지는 유전체 부재와, 유전체 부재의 종방향 길이 보다 짧은 길이로 형성되는 내측 도전 부재와, 유전체 부재의 외측에 형성되는 외측 도전 부재 및 관통홀에 삽입되며, 관통홀에 삽입되는 길이를 변화시킬 수 있어, 삽입되는 길이에 의해서 공진 주파수를 변화시킬 수 있는 도전 축 부재를 포함하는 유전체 공진기를 제공한다.

Description

주파수를 가변할 수 있는 동축형 유전체 공진기{Frequency adjustable coaxial dielectric resonator}
본 발명은 유전체 공진기(dielectric resonator)에 관한 것으로, 특히 소형화 및 작은 유전 손실을 구현하며, VHF 및 UHF 대역에서 주파수를 가변할 수 있는 동축형 유전체 공진기에 관한 것이다.
TEM mode를 이용한 동축형 유전체 공진기는 VHF 및 UHF 대역에서 사용되는 유전체 필터 및 공진기의 소형화 목적으로 주로 사용된다. 이와 같은 유전체 공진기는, 상기 주파수 대역의 신호 파장이 유전체에서 1/root epsilon sub r로 감소하는 특성을 이용한 것이다. 상기 유전체 공진기는 내측 도전 부재, 외측 도전 부재 및 이들 사이에 위치하는 유전체 부재의 구조로 이루어진다. 이러한 구조에서 공진 주파수를 조절하기 위해서는 특별한 방법으로 상기 구조를 변형시켜야 한다.
도 1 및 도 2를 참조하여 종래의 주파수 가변 유전체 공진기를 설명한다.
도 1은 종래의 주파수 가변 유전체 공진기의 단면을 개략적으로 나타내며, 도 2는 종래의 주파수 가변 유전체 공진기의 등가 회로를 나타낸다.
구체적으로, 종래의 주파수 가변 유전체 공진기는 유전체 부재(10), 외측 도전 부재(20), 내측 도전 부재(23), 리드부(lid;31)를 가지는 케이스(case;30) 및 수나사(40)를 포함하여 이루어진다. 유전체 부재(10)는 중심선(15)을 따라 양 단부에까지 이르도록 형성된 관통홀을 가진다. 상기 관통홀은 상기 유전체 부재(10)의 두께가 얇은 두께 부분과 두꺼운 두께 부분을 가지게 계단지게 형성된다. 또한, 상기 얇은 두께 부분의 상기 유전체 부재(10)의 단부에는 암나사를 가지는 플랜지(flange;45)가 상기 관통홀에 끼워져 부착된다. 더하여, 상기 플랜지(45)에 상기 수나사(40)가 끼워진다. 이때, 상기 플랜지(45) 및 수나사(40)는 도전체로 형성된다.
관통홀에 의해서 유전체 부재(10)는 내측 표면과 외측 표면을 가지게 되며, 상기 내측 표면에는 내측 도전 부재(23)가 금속막 등으로 형성된다. 또한, 상기 외측 표면에는 금속막 등으로 외측 도전 부재(20)가 형성된다. 이때, 상기 유전체 부재(10)의 두꺼운 두께 부분의 일단부에는, 상기 외측 도전 부재(20)와 상기 내측 도전 부재(23)를 전기적으로 연결시키는 단락 도전 부재(25)가 금속막 등으로 형성된다.
이와 같은 구조를, 상기 두꺼운 두께 부분의 관통홀을 드러내는 비아 홀(via hole)을 가지는 케이스(30)가 감싼다. 이때, 상기 케이스(30)는 상기 수나사(40)의 단부에 대향하는 리드부(31)를 포함하고 있다. 따라서, 수나사(40)에 연결되어 수나사(40)를 이동시키는 이동 수단, 예컨대 상기 수나사(40)의 배면에 연결되는 드라이버(driver)는 상기 비아 홀을 통해서 상기 관통홀 내로 인입된다. 더하여, 상기 플랜지(45)는 상기 케이스(30)에 부착되는 커넥터(connector;50)에 의해서, 외부 회로에 전기적으로 연결된다.
상기한 바와 같은 구조로 이루어지는 종래의 주파수 가변 유전체 공진기는 도 2에 도시한 바와 같은 등가 회로로 설명된다. 상기 등가 회로에 의하면, 고정된 커패시턴스(capacitance)를 가지는 제1커패시터(first capacitor;61), 상기 제1커패시터(61)에 병렬로 연결되는 가변되는 제2커패시터(63) 및 인덕터(inductor;65)로 종래의 주파수 가변 유전체 공진기가 이루어진다.
이때, 상기 제1커패시터(61)는 도 1에 도시한 바와 같이 내부 도전 부재(23), 외부 도전 부재(20) 및 유전체 부재(10)에 의해서 형성된다. 상기 유전체 부재(10)의 길이는 고정되어 있고, 따라서 커패시턴스 또한 고정된다. 또한, 상기 제2커패시터(63)는 상기 케이스(30)의 리드부(31) 및 상기 수나사(40)의 단면 사이의 공간에 형성되어 있다. 따라서, 상기 수나사(40)의 이동에 따른 상기 수나사(40)의 단부와 상기 케이스(30)의 리드부(31)간의 거리의 변화에 의해서 커패시턴스가 변화될 수 있다.
상술한 바와 같이 도 2에 도시한 등가 회로에 의하면, 상기 수나사(40)의 단부와 상기 리드부(31)간의 거리가 변화함에 따라, 커패시턴스의 변화를 구현할 수 있다. 따라서, 상기 변화하는 커패시턴스에 의해서 공진기의 주파수는 변화하게 된다. 즉, 상기 수나사(30)가 회전하여 상기 리드부(31)에 근접하면, 상기 리드부(31)와 수나사(30)의 단부의 거리가 감소하여, 커패시턴스가 증가하게 된다. 이에 따라 공진기의 공진 주파수는 감소하게 된다. 반대로, 상기 수나사(30)가 반대로 회전하여, 상기 거리가 증가하게 되면, 커패시턴스가 감소하게 되어, 공진기의 공진 주파수는 증가하게 된다.
그러나, 상기한 공진기는 공진 주파수를 변화시키는 데 한계를 가진다. 특히, 제2커패시터(63)에 의해서 발현되는 커패시턴스의 변화 폭은 그리 크기 않아, 전체 커패시턴스의 증가에 있어서 한계를 가진다. 따라서, 공진 주파수를 감소시키는 데에 있어서 한계를 가진다. 즉, 상기 유전체 부재(10) 길이가 설정되면, 상기 길이를 늘려 상기 제1커패시터(61)가 발현하는 커패시턴스를 증가시킬 수 없다. 따라서, 상기 제1커패시터(61)가 구현하는 커패시턴스보다 상당히 큰 값으로 전체 커패시턴스를 증가시키는 것은 불가능하다. 따라서, 상기 유전체 공진기가 공진 주파수를 낮추는 데에는 한계를 가지게 된다.
또한, 공진 주파수를 증가시킬 때, 상기 커패시턴스의 변화 폭을 일정 수준 이상으로 구현하기 위해서는 상기 수나사(40)의 지름의 극대화가 요구된다. 따라서, 상기 관통홀의 형상이 복잡해진다. 즉, 상기 얇은 두께 부분의 관통홀의 지름은 보다 넓어져야 하며, 상기 두꺼운 부분의 관통홀의 지름은 상기 유전체 부재의 부피 증가를 보상하기 위해서 상대적으로 작아져야 한다. 이에 따라 그 제조 방법에 있어서, 상기한 바와 같이 계단진 관통홀을 가지는 유전체 부재(10)를 형성해야 하는 어려움을 가진다. 즉, 일반적인 일축 프레스(uniaxial press) 성형 방법 등과 같은 용이한 성형 방법을 적용하기가 어렵다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 공진 주파수를 보다 넓은 폭으로 증가 또는 감소시킬 수 있어 공진 주파수의 가변 한계를 극복할 수 있으며, 보다 용이하게 제조할 수 있는 유전체 공진기를 제공하는데 있다.
도 1은 종래의 주파수 가변 유전체 공진기를 설명하기 위해서 도시한 단면도이다.
도 2는 종래의 주파수 가변 유전체 공진기의 등가 회로를 설명하기 위해서 도시한 회로도이다.
도 3은 본 발명의 제1실시예에 의한 동축형 유전체 공진기를 설명하기 위해서 도시한 단면도이다.
도 4는 본 발명의 제1실시예에 의한 동축형 유전체 공진기의 등가 회로를 설명하기 위해서 도시한 회로도이다.
도 5는 본 발명의 제1실시예에 의한 동축형 유전체 공진기의 각각의 부품을 설명하기 위해서 도시한 사시도이다.
도 6은 본 발명의 제2실시예에 의한 동축형 유전체 공진기를 설명하기 위해서 도시한 단면도이다.
도 7은 본 발명에 따르는 동축형 유전체 공진기를 적용한 유전체 필터를 설명하기 위해서 도시한 단면도이다.
상기의 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명은, 외측 도전 부재 및 내측 도전 부재가 형성된 관통홀을 가지는 유전체 부재와, 상기 관통홀에 삽입되는 도전 축 부재를 포함하는 동축형 유전체 공진기를 제공한다.
유전체 부재는 하단부 및 상단부를 가지며, 상기 하단부에서 상단부로 이어지는 중심선을 따라 형성되는 종방향의 관통홀을 가진다. 이에 따라, 상기 하단부에서부터 상기 상단부에까지 이르는 외측 표면 및 상기 관통홀에 의해 형성되는 내측 표면을 가진다. 상기 외측 도전 부재는 상기 유전체 부재의 외측 표면에 형성되고, 상기 유전체 부재의 상기 하단부의 표면에는 상기 외측 도전 부재에 연결되어 단락 단부를 형성하는 바닥 도전 부재가 더 형성된다. 더하여, 상기 외측 도전 부재에는 상기 상단부와 이격되는 평탄한 리드부를 포함하는 캡이 더 연결된다.
또한, 상기 내측 도전 부재는 상기 바닥 도전 부재와 연결되며 상기 내측 표면의 상부 일부를 노출시키도록 유전체 부재의 내측 표면의 일부에만 형성된다. 따라서, 상기 내측 표면을 뒤덮는 부분의 길이가 상기 유전체 부재의 내측 표면의 길이 보다 짧은 길이로 형성된다.
도전 축 부재는 상기 관통홀에 상기 바닥 부재가 형성된 하단부 쪽으로부터 상기 내측 도전 부재에 접촉되게 삽입되며 상기 관통홀에 삽입되는 길이를 변화시킬 수 있다. 따라서, 최소한 상기 내측 도전 부재가 형성된 범위에서 벗어나는 정도로 삽입될 수 있는 길이를 가지며, 삽입되는 길이에 의해서 공진 주파수가 변화된다. 이때, 상기 도전 축 부재로는 금속봉을 이용한다. 또한, 상기 도전 축 부재의 상기 관통홀에 삽입되는 길이는 상기 금속봉에 형성되는 수나사와 상기 수나사에 끼워지는 암나사를 가지는 플랜지로 이루어지는 이동 수단에 의해서 변화된다.
본 발명에 따르면, 공진 주파수를 보다 넓은 폭으로 증가 또는 감소시킬 수 있어 공진 주파수의 가변 한계를 극복할 수 있으며, 보다 용이하게 제조할 수 있는 유전체 공진기를 제공할 수 있다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도 3 내지 도 5는 본 발명의 제1실시예에 의한 동축형 유전체 공진기를 설명하기 위하여 도시한 도면들이다.
도 3은 본 발명의 제1실시예에 의한 동축형 유전체 공진기를 나타내는 단면도이고, 도 4는 도 3의 동축형 유전체 공진기의 등가 회로를 나타내며, 도 5는 도 3의 동축형 유전체 공진기의 각 부품 및 연결 관계를 나타내는 사시도이다.
구체적으로, 본 발명의 제1실시예에 따르는 동축형 유전체 공진기는 관통홀을 가져, 내측 표면과 외측 표면을 가지는 유전체 부재(100)를 포함한다. 또한, 상기 유전체 부재(100)의 내측 표면 길이 보다 짧은 길이로 형성된 내측 도전 부재(230)와 외측 도전 부재(200)를 포함한다. 더하여, 상기 관통홀에 삽입되며 상기 관통홀에 삽입되는 길이를 변화시킬 수 있어, 삽입되는 길이에 의해서 공진 주파수를 변화시킬 수 있는 도전 축 부재(400)를 포함한다.
이때, 상기 유전체 부재(100)는 설정된 두 단부를 가지며 설정된 소정의 종단 길이를 가진다. 여기서, 상세한 설명의 편의상 상기 두 단부 중 어느 하나를 하단부라 하고, 나머지를 상단부라 명칭한다. 이때, 상기 유전체 부재(100)의 길이 방향으로, 즉, 상기 하단부에서 상단부로 이어지는 중심선을 따라 관통홀이 형성된다. 상기 관통홀은 여러 형태로 형성될 수 있으나, 실린더형(cylinder type) 등과 같이 일축 프레스 등과 같은 성형 방법을 적용할 수 있는 간단한 형태로 형성되는 것이 바람직하다.
유전체 부재(100)는 상기 하단부에서부터 상기 상단부에까지 이르는 외측 표면 및 상기 관통홀에 의해 형성되는 내측 표면을 가진다. 이와 같이 형성되는 표면에 전극으로 이용되는 도전 부재를 형성한다. 예컨대, 상기 외측 도전 부재(200)는 상기 유전체 부재(100)의 외측 표면에 형성된다. 더하여, 상기 유전체 부재(100)의 상기 하단부의 표면에는 상기 외측 도전 부재(100)에 연결되어 단락 단부를 형성하는 바닥 도전 부재(250)가 더 형성된다.
더하여, 상기 내측 도전 부재(230)는, 상기 바닥 도전 부재(250)와 연결되며, 상기 유전체 부재(100)의 내측 표면의 일부에만 형성된다. 즉, 상기 내측 표면의 일부만 뒤덮어 상기 내측 표면의 상부 일부를 노출시킨다. 예를 들어, 상기 하단부의 표면에 접하는 내측 표면에서부터 상기 상단부의 표면에 접하지 않도록 상기 내측 도전 부재(230)가 형성한다. 이에 따라, 상기 내측 표면의 상기 상단부의 표면의 상부 일부분은 상기 내측 도전 부재(230)에 의해서 차폐되지 않고 노출된다. 이에 따라, 상기 내측 표면을 뒤덮는 내측 도전 부재(230)는, 상기 중심선을 따르는 길이가 상기 유전체 부재(100)의 소정의 종단 길이 보다 짧은 길이로 형성된다.
도전 축 부재(400)는, 상기 관통홀에, 상기 바닥 도전 부재(250)가 형성된 하단부로 쪽으로부터 삽입된다. 이때, 상기 도전 축 부재(400)는, 상기 관통홀 내에서 자유롭게 슬라이딩(sliding)되며 이동될 수 있어, 삽입되는 길이를 변화시킬 수 있다. 또한, 최소한 내측 도전 부재(230)가 형성된 범위에서 벗어나게 삽입될 수 있는 길이를 가진다. 즉, 상기 도전 축 부재(400)는, 참조 부호 A로 도시된 내측 도전 부재(230)가 형성된 범위 이상으로 상기 관통홀에 삽입될 수 있는 길이를 가진다. 이에 관하여서는 이후에 상세히 설명한다.
이때, 상기 도전 축 부재(400)로는 금속봉을 이용하며, 삽입되는 상기 금속봉의 하단부 쪽의 일부에 수나사(430)를 형성한다. 또한, 금속봉은 상기 수나사(430)에 끼워지며, 암나사를 가지는 플랜지(450)가 상기 하단부에 더 부착된다. 플랜지(450)에 대해 상기 수나사(430)가 회전함으로써 상기 금속봉이 슬라이딩되며 이동된다. 이와 같이 수나사(430)와 암나사를 가지는 플랜지(450)로 이루어진 이동 수단에 의해서 상기 금속봉의 관통홀에 삽입된 길이가 변화한다. 이에 따라, 공진 주파수를 변화시킬 수 있다. 이에 관하여 하기에 상세히 설명한다.
동축형 유전체 공진기의 공진 주파수는 유전체 부재(100)의 종단 길이에 따라 변화한다. 즉, 일반적으로 공진 주파수는 다음의 수학식 1에 따른 변수로 변화한다.
Figure pat00001
상기 수학식 1에서 εr은 유전체 부재(100)의 유전율을 나타내며, l은 공진기의 길이, 즉, 유전체 부재(100)의 유효 길이를 나타낸다. 이때, 유전율은 고유 상수이며, 유전체 부재(100)의 길이는 커패시턴스를 발현하는 유효 길이를 의미한다. 즉, 유전체 부재(100)에서 전극으로 작용되는 유효 전극의 길이에 의해서 결정되는 유효 길이를 의미한다.
예를 들어, 도 3에 도시된 본 발명의 제1실시예에 따르는 유전체 공진기는 참조 부호 A로 표시되는 부분까지만 내측 도전 부재(230)가 형성되어 있다. 따라서, 내측 도전 부재(230)의 길이가 L0으로 표시된다면, 유전체 부재(100)의 실질적인 유효 길이는 L0이 된다. 그러나, 상기 관통홀에 삽입되는 도전 축 부재(400)의 삽입되는 길이에 따라, 상기 유효 길이는 변화될 수 있다. 예컨대, 상기 도전 축 부재(400)가, 즉, 금속봉이 참조 부호 A의 위치에까지만 삽입될 때의 유전체 부재(100)의 유효 길이는 L0이다. 그러나, 참조 부호 B의 위치에까지 삽입될 때는 내측 도전 부재(230)의 길이 L0에 상기 내측 도전 부재(230)를 벗어나는 금속봉의 길이를 더한 길이 L1이 유효 길이가 된다.
이와 같이 본 발명에 따르는 유전체 공진기의 유효 길이는 변화될 수 있어 발현되는 공진 주파수는 큰 폭으로 변화하게 된다. 예를 들어, 수학식 1에 따르면, 상기 금속봉이 참조 부호 B의 위치에 가까워질수록, 유효 길이는 L1에 근접하여 유효 길이가 증가된다. 따라서, 공진 주파수는 감소하게 된다. 반대로, 금속봉이 참조 부호 A에 가까워질수록, 유효 길이 L0에 근접하여, 유효 길이가 감소하는 효과를 구현함으로 공진 주파수는 증가하게 된다. 이에 따라, 유전체 부재(100)의 길이가 고정됨에도 불구하고, 실질적으로는 유전체 부재(100)의 길이를 변화시키는 효과를 구현할 수 있다.
도 4를 참조하면, 상기한 바와 같은 유전체 부재(100)의 길이가 실질적으로 변화하는 듯한 효과는 다음과 같이 형성되는 커패시터(610)의 변화하는 커패시턴스로 설명된다. 즉, 상기 유전체 부재(100)와 외측 도전 부재(200) 및 내측 도전 부재(230)간, 또는 유전체 부재(100)와 외측 도전 부재(200) 및 도전 축 부재(400)간에 형성되는 커패시터(610)의 커패시턴스의 변화로 설명되어진다. 부언하면, 상기 금속봉이 삽입되는 정도에 따라서, 유전체 부재(100)에서 전극으로 작용되는 유효 전극의 길이가 변화하는 효과를 얻을 수 있다. 이에 따라 상기 커패시터(610)는 커패시턴스가 변화하는 가변형 커패시터(610)가 된다.
또한, 상기 금속봉, 즉, 도전 축 부재(400)의 삽입되는 길이가 변화함에 따라, 인덕터(650)의 인덕턴스(inductance)는 가변하게 된다. 이에 따라, 본 발명에 따르는 동축형 유전체 공진기의 주파수 가변 폭은 더욱 증가하게 된다. 또한, 도 5에 나타나듯이 본 발명을 따르는 동축형 유전체 공진기의 각각의 부품은 간단한 외형을 가진다. 예를 들어 유전체 부재(100)의 제조 방법에 있어서, 관통홀이 종래에서와는 달리 계단지거나 폭의 변화가 있는 복잡한 형태가 아니므로, 일축 프레스 성형 방법을 적용할 수 있다. 이에 따라, 유전체 부재(100)의 성형이 용이해진다. 따라서, 유전체 공진기의 생산 공정에 있어서 생산성 증대를 구현할 수 있다.
도 6은 본 발명의 제2실시예에 의한 동축형 유전체 공진기의 단면을 나타낸다.
제2실시예에서 상기 제1 실시예와 동일한 참조번호는 동일한 부재를 나타낸다. 제2실시예는 제1실시예에 추가의 커패시턴스의 변화를 도입함으로써, 공진 주파수의 가변 폭을 보다 더 넓게 구현하는 점이 제1실시예와 다르다.
구체적으로, 제1실시예에서 설명한 바와 같은 구조의 외측 도전 부재(200)에 상단부와 이격되는 평탄한 리드부(310)를 포함하는 캡(cab;300)을 더 부착하여 연결한다. 이때, 상기 도전 축 부재(400)는 상기 삽입되는 관통홀에서 상기 상단부로부터 벗어나 상기 캡(300)의 평탄한 리드부(310)에 접촉하지 않을 정도로 근접할 수 있는 길이를 가진다. 이에 따라, 상기 도전 축 부재(400)의 단부와 상기 리드부(310)의 사이에는 공기를 유전 매질로 추가의 커패시터가 형성된다.
이와 같은 커패시터는 상기 도전 축 부재(400)가 상기 리드부(310)에 접근함에 따라 보다 높은 커패시턴스를 발현하고, 상기 도전 축 부재(400)가 상기 리드부(310)에서 이격됨에 따라, 보다 낮은 커패시턴스를 발현한다. 이에 따라, 상기 유전체 부재(100)와 상기 도전 축 부재(400)에 의해서 변화되는 커패시턴스에 추가의 커패시턴스의 변화가 부가된다. 이에 따라, 상기 커패시턴스의 변화에 의해서 변화되는 공진 주파수의 변화 폭을 보다 더 확장시킬 수 있다.
도 7은 본 발명의 제3실시예에 따르는 유전체 필터의 단면을 나타낸다.
제3실시예에서 상기 제1 실시예 및 제2실시예와 동일한 참조번호는 동일한 부재를 나타낸다. 제3실시예는 제1실시예 또는 제2실시예에서 설명한 동축형 유전체 공진기를 이용한 유전체 필터(dielectric filter)를 나타낸다.
구체적으로, 제1실시예 및 제2실시예에서 설명한 유전체 공진기가 다수 연결되어 유전체 필터를 이룬다. 이때, 캡 블록(cab block;305) 및 리드 블록(315)은 제2실시예에서 설명한 캡(300) 및 리드부(310)의 역할을 한다. 또한, 유전체 공진기간에 형성되는 외측 도전 부재(205)는 이웃하는 유전체 공진기에 공동으로 이용된다. 이와 같은 다수의 유전체 공진기에서 가변되는 신호는 커넥터(500)에 의해서 외부 회로에 전송된다. 더욱이 필요에 따라 몇 가지 부품이 더 부가될 수 있다. 상술한 바와 같이 형성되는 유전체 필터는 고출력 소형화를 구현할 수 있다.
상술한 도면 및 이에 대한 설명에서 특정한 형태 또는 특정 용어를 인용하였으나, 이는 단지 본 발명을 보다 명확히 상술하기 위한 목적으로 사용된 것이지, 본 발명의 의미를 한정하거나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위해서 사용된 것은 아니다. 예를 들어, 각재의 형상을 가진 유전체 부재를 도시하여 설명하였으나, 그 형태에 본 발명이 한정되는 것은 아니다.
상술한 본 발명에 따르면, 공진 주파수를 보다 넓은 폭으로 증가 또는 감소시킬 수 있어 공진 주파수의 가변 한계를 극복할 수 있으며, 보다 용이하게 제조할 수 있는 유전체 공진기를 제공할 수 있다. 또한, 이와 같은 유전체 공진기를 적용하는 고출력 소형 유전체 필터를 제공할 수 있다.

Claims (4)

  1. 하단부 및 상단부를 가지며, 상기 하단부에서 상단부로 이어지는 중심선을 따라 형성되는 관통홀을 가지며, 상기 하단부에서부터 상기 상단부에까지 이르는 외측 표면 및 상기 관통홀에 의해 형성되는 내측 표면을 가지는 종방향의 유전체 부재;
    상기 유전체 부재의 외측 표면에 형성되는 외측 도전 부재;
    상기 유전체 부재의 상기 하단부의 표면에 형성되며 상기 외측 도전 부재에 연결되어 단락 단부를 형성하는 바닥 도전 부재;
    상기 바닥 도전 부재와 연결되며 상기 내측 표면의 상측 일부를 노출시키도록 유전체 부재의 내측 표면의 일부에만 형성되며, 상기 내측 표면을 뒤덮는 부분의 길이가 상기 유전체 부재의 내측 표면의 길이 보다 짧은 길이로 형성되어, 상기 외측 도전 부재에 비해 짧은 길이로 형성되는 내측 도전 부재; 및
    상기 관통홀에 상기 바닥 부재가 형성된 하단부 쪽으로부터 상기 내측 도전 부재에 접촉되게 삽입되며 상기 관통홀에 삽입되는 길이를 변화시킬 수 있으며 적어도 상기 내측 도전 부재가 형성된 범위에서 벗어나는 정도로 삽입될 수 있는 길이를 가지는 도전 축 부재를 포함하며, 상기 도전 축 부재의 삽입되는 길이에 의해서 공진 주파수가 변화되는 것을 특징으로 하는 동축형 유전체 공진기.
  2. 제1항에 있어서, 상기 도전 축 부재는 금속봉인 것을 특징으로 하는 동축형 유전체 공진기.
  3. 제2항에 있어서, 상기 도전 축 부재의 상기 관통홀에 삽입되는 길이는 상기 금속봉에 형성되는 수나사와 상기 수나사에 끼워지는 암나사를 가지는 플랜지로 이루어지는 이동 수단에 의해서 변화되는 것을 특징으로 하는 유전체 공진기.
  4. 제1항에 있어서, 상기 외측 도전 부재에 상기 상단부와 이격되는 평탄한 리드부를 포함하는 캡을 더 연결하는 것을 특징으로 하는 유전체 공진기.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS61176801A (ja) * 1985-01-31 1986-08-08 Kenichi Usuda ２点間分割具
JPH0488103A (ja) * 1990-07-30 1992-03-23 Natl Inst For Res In Inorg Mater 耐チッピング性にすぐれた複合焼結切削工具材およびその製造法

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