KR100268945B1 - Semiconductor memory device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 특히 로우 디코더의 출력 신호(GWLB,SWLE)를 이용하여 다수개의 서브 워드 라인 드라이버를 구동할 수 있도록한 반도체 메모리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a semiconductor memory device capable of driving a plurality of sub word line drivers by using output signals GWLB and SWLE of a row decoder.
이하, 첨부된 도면을 참고하여 종래 기술의 반도체 메모리 장치에 관하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a semiconductor memory device according to the related art will be described with reference to the accompanying drawings.
도 1은 종래 기술의 반도체 메모리 장치의 구성도이고,도 2는 종래 기술의 SWD 블록의 상세 구성도이다. 그리고 도 3은 종래 기술의 반도체 메모리 장치의 구동에 따른 동작 타이밍도이다.1 is a configuration diagram of a conventional semiconductor memory device, and FIG. 2 is a detailed configuration diagram of a SWD block of the prior art. 3 is an operation timing diagram according to the driving of the semiconductor memory device of the prior art.
도 1에서와 같이, 다수개의 SWD(Sub Word Line Driver)블록(3)과, 상기 SWD 블록(3)에 MSB(Most Significant Bit) 어드레스로 디코딩된 다수개의 GWLb(Global Word Line bar)와 GWL(Global Word Line)신호를 발생하는 로우 디코더(2)와, LSB(Least Significant Bit)어드레스로 디코딩된 서브 워드 라인 인에이블(Sub Word Line Enable : SWLE)선택 신호를 출력하는 서브 워드 라인 인에이블부(1)를 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 1, a plurality of sub word line driver (SWD) blocks 3 and a plurality of global word line bars (GWLb) and GWL (decoded with MSB (most significant bit) addresses are decoded in the SWD block 3). A row decoder 2 for generating a global word line signal, and a sub word line enable unit for outputting a sub word line enable (SWLE) selection signal decoded with a LSB (Least Significant Bit) address; It is configured to include 1).
SWD 블록의 상세 구성은 도 2에서와 같다.Detailed configuration of the SWD block is the same as in FIG.
게이트에 로우 디코더(2)의 GWLb 신호가 인가되는 PMOS 트랜지스터(P20),NMOS 트랜지스터(N22)와, 서브 워드 라인(SWL)에 소오스 단자가 연결되는 NMOS 트랜지스터(N21)로 구성된다.A PMOS transistor P20 to which the GWLb signal of the row decoder 2 is applied to the gate, an NMOS transistor N22, and an NMOS transistor N21 connected to a source terminal of the sub word line SWL are configured.
상기 PMOS 트랜지스터(P20)의 드레인과 NMOS 트랜지스터(N22)의 드레인은 서브 워드 라인에 연결된다.The drain of the PMOS transistor P20 and the drain of the NMOS transistor N22 are connected to a sub word line.
그리고 PMOS 트랜지스터(P20)의 소오스와 NMOS 트랜지스터(N21)의 드레인에는 서부 워드 라인 인에이블부(1)의 SWLE 신호가 인가되고 NMOS 트랜지스터(N21)의 게이트에는 로우 디코더(2)의 GWL 신호가 인가된다.The SWLE signal of the western word line enable unit 1 is applied to the source of the PMOS transistor P20 and the drain of the NMOS transistor N21, and the GWL signal of the row decoder 2 is applied to the gate of the NMOS transistor N21. do.
상기 NMOS 트랜지스터(N22)의 소오스는 Vss와 연결된다.The source of the NMOS transistor N22 is connected to Vss.
이와 같이 구성된 종래 기술의 반도체 메모리 장치의 동작은 도 3에서와 같다.The operation of the conventional semiconductor memory device configured as described above is the same as in FIG. 3.
t1 구간에서는 모든 GWL 신호 그리고 SWLE 신호는 Low Voltage로 공급된다.In the t1 section, all GWL signals and SWLE signals are supplied with low voltage.
그리고 GWLb 신호는 Boosted Voltage로 공급된다.The GWLb signal is then supplied at the boosted voltage.
따라서 GWLb 라인에 연결된 PMOS 트랜지스터(P20)은 턴 오프되고 NMOS 트랜지스터(N22)는 턴 온되어 SWL을 Low Voltage 상태로 유지시킨다. 이때, NMOS 트랜지스터(N21)은 턴 오프 상태로 되어 있다.Therefore, the PMOS transistor P20 connected to the GWLb line is turned off and the NMOS transistor N22 is turned on to maintain the SWL in a low voltage state. At this time, the NMOS transistor N21 is turned off.
이어, t2 구간에서는 LSB 어드레스에 의해 디코딩된 SWLE 신호는 Boosted Voltage를 공급한다.Subsequently, in the period t2, the SWLE signal decoded by the LSB address supplies the boosted voltage.
그리고 MSB 어드레스에 의해 디코딩된 GWLb 신호는 Low Voltage를 공급하고 GWL 신호는 High Voltage로 공급한다.The GWLb signal decoded by the MSB address supplies a low voltage and the GWLb signal supplies a high voltage.
따라서, PMOS 트랜지스터(P20)과 NMOS 트랜지스터(N21)은 턴 온되고 NMOS 트랜지스터(N22)는 턴 오프되어 SWLE 신호의 Boosted Voltage를 SWL에 전달하여 SWL신호를 발생시킨다.Accordingly, the PMOS transistor P20 and the NMOS transistor N21 are turned on and the NMOS transistor N22 is turned off to transfer the boosted voltage of the SWLE signal to the SWL to generate the SWL signal.
이와 같은 종래 기술의 반도체 메모리 장치는 다음과 같은 문제점이 있다.The semiconductor memory device of the prior art has the following problems.
다수의 서브 워드 라인을 컨트롤하는 GWL 신호와 GWLb 신호가 로우 디코더로 부터 각각 출력되어 4개의 SWD과 연결되는데, 이것은 4개의 폴리 실리콘 워드라인마다 2개의 메탈 라인인 GWLb,GWL 신호 라인이 존재한다는 것을 의미한다.The GWL and GWLb signals that control the multiple sub word lines are output from the row decoder, respectively, and are connected to four SWDs. This means that there are two metal lines, GWLb and GWL signal lines, for every four polysilicon word lines. it means.
따라서, 제조 공정시에 디자인 룰 마진의 부족으로 인한 워드 라인 결함을 발생시켜 수율을 저하시키는 문제점이 있다.Accordingly, there is a problem in that the yield is reduced by generating word line defects due to a lack of design rule margin in the manufacturing process.
또한, 이와 같은 반도체 메모리 장치에서는 워드 라인과 워드 라인 사이, 워드 라인과 비트 라인 사이에 커플링 노이즈 등을 발생시켜 칩의 성능을 저하시키게 된다.In addition, in such a semiconductor memory device, coupling noise or the like is generated between the word line and the word line and between the word line and the bit line, thereby degrading chip performance.
본 발명은 이와 같은 종래 기술의 반도체 메모리 장치의 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 로우 디코더의 출력 신호(GWLB,SWLE)를 이용하여 다수개의 서브 워드 라인 드라이버를 구동할 수 있도록한 반도체 메모리 장치를 제공하는데그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the problems of the conventional semiconductor memory device, and a semiconductor memory device capable of driving a plurality of sub word line drivers using output signals (GWLB, SWLE) of a row decoder. Its purpose is to provide.
도 1은 종래 기술의 반도체 메모리 장치의 구성도1 is a configuration diagram of a conventional semiconductor memory device
도 2는 종래 기술의 SWD 블록의 상세 구성도Figure 2 is a detailed block diagram of a SWD block of the prior art
도 3은 종래 기술의 반도체 메모리 장치의 구동에 따른 동작 타이밍도3 is an operation timing diagram according to driving of a semiconductor memory device of the related art.
도 4는 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 구성도4 is a configuration diagram of a semiconductor memory device according to the present invention.
도 5는 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 상세 구성도5 is a detailed configuration diagram of a semiconductor memory device according to the present invention.
도 6은 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 구동에 따른 동작 타이밍도6 is an operation timing diagram according to driving of a semiconductor memory device according to the present invention.
도면의 주요부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for main parts of the drawings
40. 서브 워드라인 인에이블부 41. 로우 디코더40. Sub word line enable section 41. Row decoder
42. SWD 블록 43. 로우 디코딩 프리차지 신호 발생부42. SWD block 43. Low decoding precharge signal generator
로우 디코더의 출력 신호(GWLB,SWLE)를 이용하여 다수개의 서브 워드 라인 드라이버를 구동할 수 있도록한 본 발명의 반도체 메모리 장치는 다수개의 SWD(Sub Word Line Driver)블록과,상기 SWD 블록에 MSB(Most Significant Bit) 어드레스로 디코딩된 다수개의 GWLb(Global Word Line bar)신호를 인가하는 로우 디코더와, LSB(Least Significant Bit)어드레스로 디코딩된 서브 워드 라인 인에이블(Sub Word Line Enable : SWLE)선택 신호를 출력하는 서브 워드 라인 인에이블부와,MSB 어드레스(PXb)를 갖고 로우 디코더(41)의 프리차지 신호와 GWLb 신호에 Vbb 전압을 가하는 로우 디코딩 프리차지 신호 발생부(RDPRi/VBFi)를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.The semiconductor memory device of the present invention, which can drive a plurality of sub word line drivers using output signals GWLB and SWLE of a row decoder, includes a plurality of sub word line driver (SWD) blocks, and an MSB A row decoder that applies a plurality of global word line bar (GWLb) signals decoded to a Most Significant Bit (Address) address, and a sub word line enable (SWLE) selection signal decoded to a LSB (Least Significant Bit) address. And a low decoding precharge signal generator RDPRi / VBFi having an MSB address PXb and applying a Vbb voltage to the precharge signal of the row decoder 41 and the GWLb signal. It is characterized in that the configuration.
이하, 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 반도체 메모리 장치에 관하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a semiconductor memory device of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 4는 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 구성도이고,도 5는 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 상세 구성도이다. 그리고 도 6은 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 구동에 따른 동작 타이밍도이다.4 is a configuration diagram of a semiconductor memory device according to the present invention, and FIG. 5 is a detailed configuration diagram of the semiconductor memory device according to the present invention. 6 is an operation timing diagram according to the driving of the semiconductor memory device according to the present invention.
본 발명의 반도체 메모리 장치는 크게 다음과 같이 구성된다.The semiconductor memory device of the present invention is largely configured as follows.
도 4에서와 같이, 다수개의 SWD(Sub Word Line Driver)블록(42)과, 상기 SWD 블록(42)에 MSB(Most Significant Bit) 어드레스로 디코딩된 다수개의 GWLb(Global Word Line bar)신호를 인가하는 로우 디코더(41)와, LSB(Least Significant Bit)어드레스로 디코딩된 서브 워드 라인 인에이블(Sub Word Line Enable : SWLE)선택 신호를 출력하는 서브 워드 라인 인에이블부(40)와, MSB 어드레스(PXb)를 갖고 로우 디코더(41)의 프리차지 신호와 GWLb 신호에 Vbb 전압을 가하는 로우 디코딩 프리차지 신호 발생부(RDPRi/VBFi)(43)를 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 4, a plurality of sub word line driver (SWD) blocks 42 and a plurality of global word line bar (GWLb) signals decoded to MSB (most significant bit) addresses are applied to the SWD block 42. A row decoder 41, a sub word line enable unit 40 for outputting a sub word line enable (SWLE) selection signal decoded with a LSB (Least Significant Bit) address, and an MSB address ( And a row decoding precharge signal generator (RDPRi / VBFi) 43 having PXb) and applying a Vbb voltage to the precharge signal of the row decoder 41 and the GWLb signal.
이와 같이 구성된 본 발명의 반도체 메모리 장치의 상세 구성은 다음과 같다.The detailed configuration of the semiconductor memory device of the present invention configured as described above is as follows.
먼저, 로우 디코더(41)는 Vpp 전압이 소오스에 인가되는 제 1,2,3 PMOS 트랜지스터(P40)(P41)(P42)와, 상기 제 1,2 PMOS 트랜지스터(P40)(P41)의 드레인에 최초 트랜지스터의 소오스가 연결되고 게이트에 로우 디코딩 프리차지 신호 발생부(43)에서 출력되는 MSB 어드레스에 의한 디코딩 신호가 인가되어 각각 직렬 연결되는 제 1,2,3,4 NMOS 트랜지스터(N40)(N41)(N42)(N43)와, 상기 제 1,2 PMOS 트랜지스터(P40)(P41)의 드레인에 연결되는 인버터(I40)와,상기 제 3 PMOS 트랜지스터(P42)의 드레인과 GWLb 신호를 출력하는 출력단에 최초 트랜지스터가 연결되고 각각 직렬 연결되는 제 5,6 NMOS 트랜지스터(N44)(N45)와,상기 인버터(I40)의 출력단에 게이트가 연결되고 소오스가 GWLb 신호를 출력하는 출력단에 연결되는 제 7 NMOS 트랜지스터(N46)와, 소오스는 접지 단자에 연결되고 드레인이 상기 제 7 NMOS 트랜지스터(N46)에 연결되어 게이트에 VBF 신호가 인가되는 제 8 NMOS 트랜지스터(N47)를 포함하여 구성된다.First, the row decoder 41 is connected to drains of the first, second, and third PMOS transistors P40, P41, and P42 to which the Vpp voltage is applied to the source, and the drains of the first and second PMOS transistors P40 and P41. First, second, third, and fourth NMOS transistors N40 and N41 connected to the source of the first transistor and connected in series with a decoded signal by the MSB address output from the row decoding precharge signal generator 43 to the gate, respectively. N42 and N43, an inverter I40 connected to the drains of the first and second PMOS transistors P40 and P41, and an output terminal outputting a drain and a GWLb signal of the third PMOS transistor P42. Fifth and sixth NMOS transistors N44 and N45 each having a first transistor connected to each other and connected in series, and a seventh NMOS having a gate connected to an output terminal of the inverter I40 and a source connected to an output terminal for outputting a GWLb signal. A transistor N46, a source is connected to a ground terminal, and a drain thereof is in the seventh NMOS; And an eighth NMOS transistor N47 connected to the transistor N46 to which a VBF signal is applied to a gate.
상기 제 2 PMOS 트랜지스터(P41)의 게이트는 상기 인버터(I40)의 출력단에 연결되고 제 1 PMOS 트랜지스터(P40)의 게이트에는 로우 디코딩 프리차지 신호가 인가된다.The gate of the second PMOS transistor P41 is connected to the output terminal of the inverter I40, and a low decoding precharge signal is applied to the gate of the first PMOS transistor P40.
그리고 제 5 NMOS 트랜지스터(N44)의 게이트에는 VBFB 신호가 인가된다.The VBFB signal is applied to the gate of the fifth NMOS transistor N44.
그리고 상기 로우 디코딩 프리차지 신호 발생부(43)의 상세 구성은 다음과 같다.A detailed configuration of the row decoding precharge signal generator 43 is as follows.
MSB에 의한 디코딩 신호(PXb)가 입력되어 로우 디코딩 프리차지 신호를 출력하는 로우 디코딩 프리차지 신호 발생부(RDPRi)와,로우 디코딩 프리차지 신호를 지연하는 지연부(Delay)와, 지연된 로우 디코딩 프리차지 신호와 지연되지 않은 로우 디코딩 프리차지 신호를 NAND 연산하여 출력하는 NAND 연산부와, 상기 NAND 연산부의 출력 신호를 반전하는 인버터(I41)와, 소오스에 Vcc가 인가되고 각각 게이트에 인버터(I41)의 출력 신호와 NAND 연산부의 출력 신호가 인가되는 제 1,2 PMOS 트랜지스터(P42-1)(P42-2)와, 소오스에 Vbb가 인가되고 상기 제 1 PMOS 트랜지스터(P42-1)의 드레인에 드레인이 연결되는 제 1 NMOS 트랜지스터(N49-1)와,소오스에 Vbb가 인가되고 상기 제 2 PMOS 트랜지스터(P42-2)의 드레인과 VBF 신호를 출력하는 출력단에 공통으로 드레인이 연결되는 제 2 NMOS 트랜지스터(N49-2)를 포함하여 구성된다.A low decoding precharge signal generator RDPRi for inputting a decoding signal PXb by the MSB to output a low decoding precharge signal, a delay for delaying the low decoding precharge signal, and a delayed low decoding pre A NAND calculator for NAND operation of the charge signal and the non-delayed low decoding precharge signal, an inverter I41 for inverting the output signal of the NAND calculator, and Vcc applied to a source, and a gate of the inverter I41 is respectively applied to the gate. The first and second PMOS transistors P42-1 and P42-2 to which an output signal and an output signal of the NAND calculator are applied, Vbb is applied to a source, and a drain is applied to a drain of the first PMOS transistor P42-1. The first NMOS transistor N49-1 to be connected and the second NMOS transistor having a drain connected to the output terminal for outputting a VBF signal and a drain of the second PMOS transistor P42-2 applied with Vbb to the source. It is configured to include the (N49-2).
그리고 각각의 SWD 블록은 로우 디코더(41)에서 출력되는 GWLb 신호가 각각 게이트에 인가되는 PMOS,NMOS 트랜지스터(P43)(P48)의 인버터로 구성된다.Each SWD block includes an inverter of PMOS and NMOS transistors P43 and P48 to which a GWLb signal output from the row decoder 41 is applied to a gate, respectively.
상기 PMOS 트랜지스터(P43)의 소오스에는 SWLE(서브 워드 라인 인에이블 신호)가 인가되어 인버터의 출력단에는 서브 워드 라인을 구동하기 위한 SWL신호가 출력된다.A SWLE (sub word line enable signal) is applied to the source of the PMOS transistor P43, and an SWL signal for driving a sub word line is output to an output terminal of the inverter.
이와 같은 본 발명의 반도체 메모리 장치의 구동 방법을 설명하면 다음과 같다.The driving method of the semiconductor memory device of the present invention will be described as follows.
도 6에서와 같이,t1 구간에서는 MSB 어드레스(PXij,PXkl,PXmn)가 Low Voltage를 공급함에 따라 로우 디코더 (41)의 제 1,2,3 NMOS 트랜지스터 (N40)(N41)(N42)가 턴오프되고 MSB 어드레스(PXb)도 Low Voltage를 공급함에 따라 RDPRi블럭의 출력신호 Low Voltage를 공급한다.As shown in FIG. 6, as the MSB addresses PXij, PXkl, and PXmn supply a low voltage, the first, second, and third NMOS transistors N40, N41, N42 of the low decoder 41 are turned on in the period t1. As it is turned off, the MSB address (PXb) also supplies the Low Voltage, which supplies the output signal Low Voltage of the RDPRi block.
따라서 제 4 NMOS 트랜지스터 (N43)은 턴오프되고 제 1 PMOS 트랜지스터(P40)은 턴온되어 노드(N40-1)은 Boosted Voltage로 됨에 따라 인버터(140)을 거쳐 제 3 PMOS 트랜지스터(P42)에 저전압을 공급함에 따라 턴온되어 GWLb에 Boosted Voltage를 공급한다.Accordingly, as the fourth NMOS transistor N43 is turned off and the first PMOS transistor P40 is turned on so that the node N40-1 becomes a boosted voltage, a low voltage is applied to the third PMOS transistor P42 through the inverter 140. As it is turned on, it supplies a boosted voltage to GWLb.
이때 SWLE신호는 저전압을 공급하고 있는 상태에서 SWD블럭의 PMOS 트랜지스터(P43)은 턴오프되고 SWD 블록(42)의 NMOS 트랜지스터(N48)이 턴온되어 SWL 라인에 VSS를 공급한다.At this time, while the SWLE signal is being supplied with a low voltage, the PMOS transistor P43 of the SWD block is turned off and the NMOS transistor N48 of the SWD block 42 is turned on to supply VSS to the SWL line.
t2구간에서는 MSB 어드레스(PXij,PXkl,PXmn)가 고전압을 공급함에 따라 Row 디코더(41)의 제 1,2,3 NMOS 트랜지스터(N40)(N41)(N42)가 턴온되고 MSB 어드레스(PXb)도 고전압을 공급함에 따라 RDPRi블럭의 출력신호는 Boosted 전압을 공급한다.In the section t2, as the MSB addresses PXij, PXkl, and PXmn supply high voltages, the first, second, and third NMOS transistors N40, N41, and N42 of the row decoder 41 are turned on, and the MSB address PXb is also turned on. As the high voltage is supplied, the output signal of the RDPRi block supplies the boosted voltage.
따라서 제 1 PMOS 트랜지스터(P40)은 턴오프되고 제 4 NMOS 트랜지스터(N43)는 턴온되어 노드(N40-1)는 저전압으로 됨에 따라 인버터(I40)을 거쳐 제 6,7 NMOS 트랜지스터(N45)(N46)에 Boosted 전압을 공급함에 따라 턴온되고 RDPR신호를 가지고 지연부(Delay)와 NAND 연산부(ND40)을 거쳐 VBFB가 Boosted 전압을 갖는다.Accordingly, as the first PMOS transistor P40 is turned off and the fourth NMOS transistor N43 is turned on so that the node N40-1 becomes low voltage, the sixth and seventh NMOS transistors N45 and N46 pass through the inverter I40. As the boosted voltage is supplied to the VBFB, the VBFB has the boosted voltage through the delay unit and the NAND calculator unit ND40 with the RDPR signal.
그리고 레벨 쉬프터를 거친 VBF가 (-)Vbb 전압 상태이므로 제 5,6,7 NMOS 트랜지스터(N44)(N45)(N46)이 턴온된 상태이므로 따라서 GWLb에 저전압을 공급한다. 이때 선택된 SWLE신호는 이미 Boosted 전압을 공급하고 있는 상태이므로 SWD 블록의 PMOS 트랜지스터(P43)는 턴온되고 SWD 블록(42)의 NMOS 트랜지스터(N48)이 턴오프되어 SWL 라인에 Boosted 전압을 공급한다.Since the VBF passing through the level shifter is in the negative Vbb voltage state, the fifth, sixth and seventh NMOS transistors N44, N45, and N46 are turned on, thus supplying a low voltage to the GWLb. At this time, since the selected SWLE signal is already supplying the boosted voltage, the PMOS transistor P43 of the SWD block is turned on and the NMOS transistor N48 of the SWD block 42 is turned off to supply the boosted voltage to the SWL line.
이때 데이터 t1시간 이후에 VBFB신호가 저전압을 공급하고 VFB신호가 고전압을 공급함에 따라 제 5 NMOS 트랜지스터(N44)가 턴오프되고 제 8 NMOS 트랜지스터(N47)가 턴온됨에 따라 GWLb신호에 Vbb신호를 공급한다.At this time, as the VBFB signal supplies the low voltage and the VFB signal supplies the high voltage after the data t1 time, the Vbb signal is supplied to the GWLb signal as the fifth NMOS transistor N44 is turned off and the eighth NMOS transistor N47 is turned on. do.
따라서 비선택된 SWL에 불필요한 노이즈가 발생하더라도 SWD의 PMOS 트랜지스터(P43)을 통해 저전압을 갖고 있는 비선택된 SWLE 라인을 통해 흘러나간다.Therefore, even if unnecessary noise occurs in the unselected SWL, it flows through the unselected SWLE line having a low voltage through the PMOS transistor P43 of the SWD.
그리고 다음의 t1구간이 오기전에 VBFB가 Boosted 전압을 NMOS Tr.N44에 VFB가 Vbb를 제 8 NMOS 트랜지스터(N47)에 가함으로써 GWLb 라인에 델타 t2만큼 저전압을 가한다. 그이후 선택된 SWLE가 저전압을 공급함에 따라 SWL이 저전압으로 떨어지게 된다.Then, VBFB applies the boosted voltage to NMOS Tr.N44 and Vbb to the eighth NMOS transistor N47 before the next time interval t1 comes to the GWLb line by delta t2. The SWL then falls to a low voltage as the selected SWLE supplies a low voltage.
이때 MSB 어드레스(PXij,PXkl,PXmn)가 저전압을 공급함에 따라 로우 디코더(41)의 제 5,6 NMOS 트랜지스터(N40)(N41)가 턴오프되고 MSB 어드레스(PXb)도 저전압을 공급함에 따라 RDPRi블럭의 출력신호 저전압을 공급한다.In this case, as the MSB addresses PXij, PXkl, and PXmn supply low voltages, the fifth and sixth NMOS transistors N40 and N41 of the row decoder 41 are turned off, and the MSB addresses PXb also supply low voltages. Supply the output signal low voltage of the block.
따라서 제 4 NMOS 트랜지스터(N43)은 턴오프되고 제 1 PMOS 트랜지스터(P40)은 턴온되어 노드(N40-1)는 Boosted 전압으로 되고 제 6,7 NMOS 트랜지스터(N45)(N46)이 턴오프되어 GWLb에 Boosted 전압을 공급한다.Accordingly, the fourth NMOS transistor N43 is turned off, the first PMOS transistor P40 is turned on, and the node N40-1 is at the boosted voltage, and the sixth and seventh NMOS transistors N45 and N46 are turned off to GWLb. Supply boosted voltage.
이때, SWLE 신호는 Low voltage를 공급하고 있는 상태에서 SWD 블록(42)의 PMOS 트랜지스터(P43)는 턴오프되고 NMOS 트랜지스터(N48)이 턴온되어 SWL 라인에 VSS를 공급한다.At this time, the PMOS transistor P43 of the SWD block 42 is turned off and the NMOS transistor N48 is turned on to supply VSS to the SWL line while the SWLE signal is supplying a low voltage.
이와 같은 본 발명의 반도체 메모리 소자는 MSB 어드레스로 컨트롤하는 GWLb신호가 로우 디코더로부터 한 개의 신호만 나오므로 제조 공정시에 워드 라인의 오픈/쇼트의 발생을 줄여 수율을 높이는 효과가 있다.In the semiconductor memory device of the present invention, since only one signal is output from the row decoder, the GWLb signal controlled by the MSB address has an effect of increasing the yield by reducing the occurrence of open / short of the word line during the manufacturing process.
또한, 선택되어진 GWLb에 -Vbb의 전압을 가하므로써 PMOS 트랜지스터가 노이즈 캔슬 기능을 하므로써 일반적인 SWD 블록보다 트랜지스터를 줄일 수 있다. 이는 칩의 전체 면적을 줄이는 효과가 있다.In addition, by applying a voltage of -Vbb to the selected GWLb, the PMOS transistor functions as a noise canceling function, thereby reducing the transistor size than a general SWD block. This has the effect of reducing the total area of the chip.
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