KR100252067B1 - 음극선관의 패널과 음극선관 패널의 코팅층 형성방법 - Google Patents

Abstract

개선된 코팅층을 갖는 음극선의 패널과, 음극선관의 패널에 코팅층을 형성하는 방법에 관해 개시된다. 개시된 음극선관의 패널은 그 내면에 형광체층이 형성되는 소정 두께의 화상형성부와, 화상형성부의 가장자리를 따라 소정 높이로 형성되는 스커트부를 구비하며, 상기 화상형성부의 외측 표면은 소정 에칭액에 의해 에칭되어 미세한 요철부를 가지고, 상기 요철부의 위에는 도전막과 SiO₂층이 순차적으로 형성된 것을 특징으로 한다. 개시된 음극선관 패널의 코팅층 형성방법은 음극선관의 패널의 외측면을 불산으로 에칭하여 상기 외측면에 미세한 요철부를 형성하는 단계와, 상기 에칭처리된 상기 패널의 외측면에 도전막을 형성하는 단계와, 상기 도전막위에 SiO₂막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이로써, 패널 내측의 형광막으로부터 패널 외측으로 방출되는 빛의 퍼짐량이 줄어들어 패널 외측으로 재현되는 색번짐이 감소되기 때문에 해상도가 향상되는 이점이 있다.

Description

음극선관의 패널과 음극선관 패널의 코팅층 형성 방법

본 발명은 음극선관에 관한 것으로서, 더 상세하게는 개선된 코팅막을 갖는 음극선관의 패널과 음극선관의 패널에 코팅층을 형성하는 방법에 관한 것이다.

통상적으로, 음극선관은 도 1에 도시된 바와 같이, 그 내면에 형광체층(11)이 형성된 패널(10)과, 상기 패널(10)과 봉착되는 펀넬(30)을 구비한다.

상기 패널(10)의 내측에는 상기 형광체층(11)과 소정간격을 둔 새도우 마스크 조립체(20)가 위치하고 새도우 마스크 조립체(20)의 후측에는 상기 펀넬(30)의 내측에 위치하는 인너실드(23)가 고정되어 있다. 그리고, 상기 펀넬(30)의 네크부(31)와 콘부(32)에는 전자총(33)과 편향요오크(34)가 각각 설치되어 있다.

여기에서, 상기 패널(10)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 화상형성부(12)를 구비한다. 상기 화상형성부(12)의 내측면에는 형광체층(11)과, 알루미늄층(13)이 순차적으로 적층되어 있고, 그 외측면에는 도전막(14)과, SiO₂층(15)과, 난반사막(16)이 순차적으로 코팅되어 있다.

전자총(33)으로부터 방출된 전자빔이 형광체층(11)의 주사 위치에 따라 선택적으로 편향요오크(34)에 의해 편향된 후 프레임(21)에 지지된 새도우 마스크(1)의 전자빔 통과공을 통과하여 형광체층(11)에 랜딩됨으로써 화상을 형성하게 된다. 이때, 형광체층(11)을 통과한 빛은 화상형성부(12) 외측에 도포된 도전막(14)과 SiO₂층(15)을 거쳐 난반사막(16)을 통해 밖으로 비춰진다.

상기 도전막(14)은 화상형성부의 외측면에 대전되는 것을 방지하여 먼지등의 이물질이 부착되는 것을 방지하며, 상기 SiO₂층(15)은 상기 도전막(14)이 손상되는 것을 방지하고, 상기 난반사막(16)은 외부로부터 화상형성부 표면에 입사된 빛을 난반사시킴으로써 외부의 빛이 화상형성부 표면에 형성되는 것을 방지하는 역할을 한다.

그러나, 상기 난반사막(16)의 표면은 볼록한 요철부를 가지며 불규칙하게 굴곡이 심하기 때문에 상기 난반사막(16)에서의 빛의 퍼짐(17)이 커지고, 이에 따라 색번짐이 커져 해상도가 감소되는 문제점이 있다.

본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로서, 높은 해상도를 구현하기 위해 상기 화상 형성부의 표면에 개선된 코팅층을 갖는 음극선관의 패널과 음극선관 패널에 코팅층을 형성하는 방법을 제공함에 그 목적이 있다.

도 1은 종래의 음극선관을 도시한 개략적인 입단면도이다.

도 2는 도 1의 'A' 부위를 확대하여 도시한 도면이다.

도 3은 본 발명에 따른 패널을 채용한 음극선관을 도시한 입단면도이다.

도 4는 도 3의 'B' 부위를 확대하여 도시한 도면이다.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명 >

1, 71...새도우 마스크 10, 50...패널

11, 51...형광체층 12, 52...화상형성부

13, 53...알루미늄층 20, 40...새도우 마스크 조립체

14, 54...도전막 15, 55...SiO₂층

16, 56...난반사막 21, 41...프레임

22, 42...스터드핀 23, 43...이너쉴드

24, 44...스터드핀 30, 60...펀넬

31, 61...네크부 32, 62...콘부

33, 63...전자총 34, 64...편향요오크

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 그 내면에 형광체층이 형성되는 소정 두께의 화상형성부와, 화상형성부의 가장자리를 따라 소정 높이로 형성되는 스커트부를 갖는 음극선관의 패널에 있어서, 상기 화상형성부의 외측 표면은 소정 에칭액에 의해 에칭되어 미세한 요철부를 가지며, 상기 요철부 위에는 도전막과 SiO₂층이 순차적으로 적층되어 있는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명은 음극선관 패널의 외측면을 불산으로 에칭하여 상기 외측면에 미세한 요철부를 형성하는 단계와, 상기 에칭처리된 상기 패널의 외측면에 도전막을 형성하는 단계와, 상기 도전막 위에 SiO₂층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 음극선관의 패널과 음극선관 패널의 코팅층 형성 방법을 상세히 설명한다. 도 3은 본 발명에 따른 패널이 채용된 음극선관을 도시한 도면이다.

도 3을 참조하면, 음극선관은 내면에 형광체층(51)이 형성된 패널(50)을 구비한다. 상기 패널(50)의 내측으로 펀넬(60)의 내측면에 새도우 마스크 조립체(40)가 상기 형광체층(51)과 소정간격 이격되도록 고정된다. 상기 패널(50)에는 펀넬(60)이 봉착되는데, 상기 펀넬(60)은 네크부(61)과 콘부(62)로 이루어진다. 상기 네크부(61)의 내부에는 전자총(63)이 장착되며, 상기 콘부(62)의 외주면에는 편향요오크(64)가 다수개 부착된다. 상기 새도우 마스크 조립체(40)는 새도우 마스크(71)를 패널(50)의 내측에 형광체층(51)과 일정간격을 유지하면서 고정하기 위한 것으로, 새도우 마스크(71)를 지지하는 프레임(41)을 구비한다. 프레임(41)의 일면에는 스프링(42)의 펀넬(60) 방향으로 용접결합되며 스프링(42) 내에 스터드핀홀이 형성된다. 스퍼드핀홀에 삽입되는 스터드핀(44)은 펀넬(60)의 내측에 결합된다. 상기 펀넬(60)의 내부에는 상기 전자총에서 발사되어 형광체층을 랜딩하여 형광체를 여기시키고 남은 열전자를 애노우드(미도시)로 접지하기 위한 접지 경로 마련 수단으로 전도체로 된 내장 흑연막이 도포된다.

도 4는 도 3의 'B' 를 확대한 패널의 단면도이다.

도면을 참조하면, 음극선관의 패널(50)은 내측면에 형광체층(51)이 도포된 화상형성부(52)를 구비한다. 상기 형광체층(51)의 상면에는 알루미늄층(53)이 적층된다. 그리고, 상기 화상형성부(52)의 외측면에는 불규칙한 곡면을 가진 난반사막(56)과, 도전막(54)과, SiO₂층(55)이 순차적으로 적층된다. 상기 도전막(54)은 In₂O₃이 사용되며, 상기 난반사막(56)은 그 표면이 올록볼록한 요철부가 형성된다.

상기 전자총(63)으로부터 조사된 전자빔은 상기 형광체층(51)의 주사 위치에 따라 선택적으로 편향요오크(64)에 의해 편향된 후 프레임(41)에 의해 지지된 새도우 마스크(71)의 전자빔 통과공을 통과하여 형광체층(51)에 랜딩됨으로써 화상형성부(52)에 화상을 형성하게 된다. 화상형성부(52)에 형성된 화상은 난반사막(56)과 도전막(54) 및 SiO₂막(55)을 순차적으로 거쳐 화상형성부(52)의 외측면에 비춰진다. 이때, 상기 난반사막(56)은 외부로부터 유입된 빛을 난반사시킴으로써 상기 화상형성부(52)에 외부 물체의 그림자가 투영되지 않도록 하는 역할을 하며, 상기 도전막(54)은 상기 화상형성부(52)의 대전을 방지하여 먼지등의 이물질이 달라붙는 것을 방지하는 역할을 한다. 그리고, 상기 SiO₂막(55)은 상기 도전막(54)의 손상을 방지하는 역할을 하게 된다.

이전에, 상기 난반사막(56)을 통과하는 빛은 소정 반경으로 전방에 퍼지게 되는데, 상기 난반사막(56)의 상면에 도전막(54)과 SiO₂막(55)이 적층되어 있어 빛이 퍼지는 거리가 짧아지게 되어 색번짐이 작게 되고 결과적으로 화상형성부(52)에 형성되는 화상의 해상도가 향상된다.

상기 음극선관의 패널에 코팅층을 형성하는 방법은 다음과 같다.

먼저, 패널의 화상형성부(52) 내측면에 형광체를 도포하고 그 상면에 알루미늄을 진공증착하여 순차적으로 형광체층(51)과 알루미늄막(53)을 형성시킨다. 상기 화상형성부(52) 외측면에는 불산을 스프레이(spray)함으로써 그 표면을 에칭시켜 미세한 요철부를 가진 난반사막(56)을 형성시킨다. 그리고, 상기 에칭처리된 상기 화상형성부(52)의 외측면에 도전재료와 SiO₂를 순차적으로 도포하여 도전막(54)과 SiO₂막(55)을 형성시킨다.

상기 음극선관의 패널은 다음과 같은 효과가 수반된다.

첫째, 빛의 퍼짐 효과가 감소된다.

본 발명에 따른 음극선관의 패널은 화상형성부의 상면이 불산으로 에칭된 후, 그 상면에 도전막과 SiO₂층이 도포되기 때문에, 불산 에칭으로 만들어진 난반사막에 전자빔이 통과되더라도 도전막과 SiO₂막으로 인해 전자빔의 퍼지는 거리가 좁아지게 된다.

둘째, 종래에 비해 해상도가 향상된다.

상기한 이유로 난반사막에서 외부로의 빛의 퍼짐 효과가 감소되기 때문에, 그에 따른 색번짐효과가 적어지게 되므로 화상형성부의 표면에 형성되는 화상의 해상도가 향상되는 이점이 있다.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상적 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허 청구범위에 한해서 정해져야 할 것이다.

Claims (2)

1. 그 내면에 형광체층이 형성되는 소정 두께의 화상형성부와,

   화상형성부의 가장자리를 따라 소정 높이로 형성되는 스커트부를 갖는 음극선관의 패널에 있어서,

   상기 화상형성부의 외측 표면은 소정 에칭액에 의해 에칭되어 미세한 요철부를 가지며, 상기 요철부 위에는 도전막과 SiO₂층이 순차적으로 적층되어 있는 것을 특징으로 하는 음극선관의 패널.
2. 음극선관 패널의 외측면을 불산으로 에칭하여 상기 외측면에 미세한 요철부를 형성하는 단계와,

   상기 에칭처리된 상기 패널의 외측면에 도전막을 형성하는 단계와,

   상기 도전막 위에 SiO₂층을 형성하는 단계를 포함하는 음극선관 패널의 코팅층 형성방법.

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