KR100248371B1 - 금속 스카핑 장치용 가스 분배 매니폴드 - Google Patents

Abstract

고온의 소재의 폭에 걸쳐 분리된 장소에서 커트의 스카핑 깊이를 제어하기 위한 설비를 가지고, 그에 의해 온도 및/또는 질 차이를 보상하는 금속 스카핑 장치. 상기 장치는 내부 가스 분배 보어를 갖는 가스 분배 매니폴드를 갖는 것으로서, 상기 보어는 복수의 스카핑 유닛들의 각각이 평행한 배열로 매니폴드에 장착되어 복수의 방사상 드릴링들에 의해 통해 있다. 상기 매니폴드에 있는 상기 보어는 별도로 제어 가능한 가스 전달 시스템을 가지는 세 챔버로 분할되어, 세 보어 챔버에 해당하는 소재의 각각의 폭 세그먼트에서 커트의 깊이를 독립적으로 제어할 수 있게 한다. 또한, 상기 보어의 중심 챔버는 가변적인 폭의 소재를 수용하도록 길이를 조정할 수 있다.

Description

금속 스카핑 장치용 가스 분배 매니폴드

고온의 스틸 슬랩(steel slabs)은 일반적으로 크랙, 시임, 슬래그의 침입과 같은 표면 결점을 제거하기 위하여 진행하는 슬랩의 상, 하, 측면을 따라 스카핑 유닛(unit)들을 위치시키는 것에 의해 조정된다. 종래의 스카핑 장치는 지지체의 폭(width)과 단부들에 걸쳐 장착된 상, 하, 반대측 스카핑 유닛들을 가지며, 슬랩이 그 사이를 통과할 때 슬랩의 모든 면이 동시에 스카핑되게 된다.

상기 상, 측, 하부 스카핑 유닛들은 각각 가스 분배 매니폴드를 가지며, 이는 산소, 연료 가스, 냉각수를 받아 매니폴드의 전면을 따라 평행하게 위치된 많은 스카핑 유닛들에 분배시킨다. 예를 들면, 미합중국 특허 제4,115,154호와 제5,234,658호에 기술된 바와 같이, 각 스카핑 유닛은 서로로부터 이격된 상, 하 예열(preheat) 블록(block)을 가지며, 두 블록 사이에 산소 스카핑 슬롯(slot)이 형성되고 그를 통하여 일정량의 산소가 슬랩 표면상으로 방출되어 스카핑이 가능하게 된다.

진행하는 소재(workpiece)의 전체 폭에 걸쳐 균일한 깊이의 커트(cut)를 얻는 것이 보통 바람직한 바, 이 목적은 상기 소재가 그의 폭에 걸쳐 온도 차이, 또는 야금 질 차이를 가지는 경우 흔히 이루어지지 않는다. 더욱 상세하게는, 진행하는 소재의 일 또는 양 가장자리 부근의 온도가 소재의 중앙부의 온도 보다 흔히 더 낮고, 이 경우 금속 제거가 저온의 가장자리 부근에서 감소된다. 그러한 결과는 소재의 측면 가장자리에 인접한 야금 질의 차이가 있는 곳에서도 역시 가능하다.

따라서 본 발명의 목적은 소재의 폭에 걸쳐 온도 또는 야금 질 차이의 영향을 극복하기 위한 설비를 가지는 금속 스카핑 장치를 제공하고 그에 의해 그러한 조건하에서 폭에 걸쳐 커트의 균일한 금속 제거 깊이(metal removal depth)를 얻도록 하는 것이다.

본 발명의 더욱 특기할 목적은 진행하는 소재의 양 측 가장자리 부근에서 커트의 금속 제거 깊이를 분리하여 제어할 수 있는 금속 스카핑 장치를 제공하여, 불균일한 온도와 질의 영향을 극복하고, 그러한 조건하에서 폭에 걸쳐 균일한 제거가 이루어지도록 하는 것이다.

본 발명은 금속 소재(素材)를 열화학적으로 스카핑(scarfing)하기 위한 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 불균일한 온도 및/또는 야금 질(質)을 가지는 금속 소재상에 균일하게 스카핑된 표면을 얻을 수 있게 하는 스카핑 장치용 가스 분배 매니폴드(manifold)에 관한 것이다.

본 발명의 목적들과 장점의 일부가 상술되었으며, 다른 것들은, 첨부한 도면들과 함께, 설명이 진행됨에 따라 나타나게 될 것이다. 상기 도면 중,

제1도는 본 발명의 특징을 구현하도록 개조된 스카핑 장치의 부분 단면 및 개략적인 사시도로, 상기 장치는 스카핑 작업 시작 전에 스틸 슬랩을 예열하기 위한 위치에 있고;

제2도는 종래 기술에 따른 스카핑 장치와 스틸 슬랩의 개략적인 측면도로, 비교적 단폭의 슬랩을 스카핑하도록 개조된 장치에 관한 것이고;

제3도는 제2도와 유사한 도면으로, 장폭의 슬랩을 가공하도록 개조된 장치에 관한 것이고;

제4도는 본 발명에 따른 스카핑 장치와 스틸 슬랩의 개략적인 측면도로, 비교적 단폭의 슬랩을 가공하도록 개조된 장치에 관한 것이고;

제5도는 제2도와 유사한 도면으로, 장폭의 슬랩을 가공하도록 개조된 장치에 관한 것이다.

본 발명의 상기한 그리고 다른 목적들과 장점들은 금속 물질의 블록으로서 종방향을 정하고 그것의 한면 위에 형성된 긴 장착면을 갖는 스카핑 장치용 기체분배 매니폴드의 제공에 의해, 여기에 상술되는 실시예에서 성취된다. 적어도 하나의 가스 분배 보어가 상기 블록에 형성되어 상기 종방향에 평행하게 연장되고 제1말단과 대향하는 제2말단, 상기 보어로부터 상기 장착면까지 방사상으로 연장된 다수의 종방향으로 이격된 드릴링들을 형성한다.

파티션은 상기 제1말단과 인접하지만 이격된 위치에서 상기 보어에 고정되어 상기 제1말단과 파티션 사이의 상기 보어에 제1챔버를 형성한다. 피스톤은 상기 파티션과 상기 제2말단 사이의 위치에서 상기 보어에 미끄러질 수 있도록 장착되어 상기 파티션과 상기 피스톤 사이의 상기 보어에 제2챔버를 형성한다. 상기 피스톤은 한쌍의 종방향으로 이격된 피스톤 헤드를 가지며 상기 피스톤 헤드 사이의 상기 보어에 제3챔버를 형성한다. 제1가스 입구는 상기 제1챔버와 통해 있고, 제2가스 입구는 상기 제2챔버와 통해 있고, 제3가스 입구는 상기 제3챔버와 통해 있다. 바람직하게, 상기 제3가스 입구는 상기 피스톤 헤드들에 연결된 관형 피스톤 로드와, 상기 피스톤 헤드들 사이 상기 관형 피스톤 로드에 다수의 개구부를 갖는다. 상기 배열에 의해, 상기 제2챔버의 축방향 연장이 상기 피스톤을 종방향으로 이동시킴으로써 가변될 수 있고 그에 의해 상기 세 챔버들 중 하나에 대해 열려 있는 드릴링들의 수를 변화시킬 수 있다.

본 발명의 금속 스카핑 장치는 상기 가스 입구에 전달되는 가스의 압력이 별도로 제어되도록 하기 위해 상기 세 가스 입구들의 각각에 작동 가능하도록 연결된 제어 수단을 더욱 포함한다. 따라서 매니폴드에 있는 보어의 세 챔버의 길이에 각각 해당하는 진행하는 소재의 폭의 종방향 세그먼트들에 대한 스카핑 컷트의 깊이는 별도로 제어될 수 있다.

본 발명의 장치는 매니폴드의 장착면을 따라 평행하게 배열되어 장착된 복수의 스카핑 유닛들을 더욱 가지며, 상기 스카핑 유닛들 각각은 장착면에 접촉하는 후면과 전방으로 면하고 있는 전면을 갖는다. 또한, 다수의 덕트(duct)들이 각 스카핑 유닛들을 통하여 그들의 후면으로부터 전면까지 연장되고, 그 덕트들은 장착면과 후면의 경계에서 드릴링들의 각각의 것들과 통해 있다. 따라서 피스톤의 종방향 위치의 제어에 의해 가변적인 종 길이 치수에 따라 가스는 보어의 세 챔버들로부터 스카핑 유닛의 덕트들까지 전달되어 그것의 전면으로부터 방출될 수 있다.

도면들에 대해 더욱 상세히 언급하면, 제1도는 본 발명의 특징들을 구현하도록 개조된 스카핑 장치(10)로서, 소재의 상부 표면을 스카핑하도록 위치된다. 소재는 전형적으로 스틸 슬랩(S)을 갖는다. 전체 스카핑 시스템은 전형적으로 스카핑될 스틸 슬랩(S)의 평면 상하에 위치된 유사한 스카핑 장치들을 포함하며, 상하 스카핑 장치들이 슬랩(S)의 전체 폭에 걸치는 것을 알 수 있다. 또한, 유사한 디자인의 측면 스카핑 장치들은 슬랩(S)의 측면들을 스카핑하도록 위치된다. 슬랩(S)은 보통 이동가능한 롤 테이블(roll table)(도시되지 않음)상에 위치되며, 수개의 스카핑 장치들에 의해 형성되는 직사각형을 통하여 화살표(11)의 방향으로 공급된다.

제1도에 나타낸 바와 같이, 상기 장치(10)는 전형적으로 한 블록의 청동 또는 구리 물질로 형성된 가스 분배 매니폴드(12)를 포함하고, 그 블록은 일반적으로 평면인 전방의 장착면을 형성하고 상기 장착면(13)은 제1도의 평면에 수직인 종방향으로 형성된다. 다수의 스카핑 유닛들(14)은 제2도 내지 제5도에 나타낸 장착면(13)의 종방향을 따라 평행하게 배열되어 장착된다. 각 스카핑 유닛(14)은 상부 예열 블록어셈블리(15)와 하부 예열 블록 어셈블리(16)를 갖는다. 매니폴드(12) 블록은 또한 한쌍의 내부 연료 가스 라인(18)(19), 한쌍의 산소 라인(20)(21), 각각 상부 블록 어셈블리에 이르는 입수와 출수(inlet and outlet water) 라인(22)(23)으로, 각각 하부 블록 어셈블리에 이르는 입수와 출수 라인(22′)(23′)을 갖는다. 모든 이 라인들은 하기하는 목적을 위하여 전방 표면(13)과 통해 있다.

라이딩 슈우(riding shoe)(30)가 매니폴드와 헤드 어셈블리(12)는 하부 예열블록(16)의 하부를 따라 장착된다. 라이딩 슈유(30)는 슬랩과 맞물리는 스키드들(skids)(32)을 가지는 하부 표면(31)을 가지며 슬랩과 접촉하도록 조정되어 하기하는 바와 같이 스틸 슬랩으로부터 정해진 거리에 스카핑 장치(10)를 위치시키도록 한다. 제1도에 나타낸 바와 같이, 스카핑 장치(10)는 슬랩(S)위에 위치하고, 유사한 장치들이 슬랩(S)의 하부와 그 대향 측면들에 배열된다는 것을 알 수 있다.

상부 예열 블록 어셈블리(15)와 하부 예열 블록 어셈블리(16)는 서로 이격되어 정해진 크기의 산소 슬롯(34)과 방출 오리피스(orifice)(35)를 형성하여 스카핑 작업 중 매니폴드와 헤드 어셈블리의 산소 라인(20)으로부터 스카핑 산소의 흐름을 받아들이고 상기 방출 오리피스(35)를 통하여 스틸 슬랩(S)에 스카핑 산소를 방출한다.

상부 예열 블록 어셈블리(15)는 베이스 멤버(base member)(40)와 연장부(41)를 가지며, 상기 연장부(41)는 볼트들(42)에 의해 베이스 멤버에 체결되고 그로부터 전방으로 연장되어 있다. 베이스 멤버(40)는 금속 물질의 블록, 바람직하게는 구리를 가지며, 베이스 멤버의 후면은 볼트들(43)에 의해 매니폴드(12)의 전방 표면(13)에 풀릴 수 있도록 체결된다.

상부 예열 블록 어셈블리의 연장부(41)는 또한 금속 물질의 블록, 바람직하게는 구리를 갖고, 이는 전면을 따라 종렬로 서로 인접하여 위치하고 후방으로 블록까지 연장된 다수의 방출 개구부들(45)을 포함한다. 또한, 방출 출구(46)의 종방향으로 연장된 열은 개구부(45)의 열과 평행하게 그리고 그 위에서 연장된 출구(46)의 열과 함께 연장부의 전면에 제공된다. 일반적으로(47)로 기재된, 다수의 덕트들은 장착면(13)에서 각각의 가스와 물 공급 라인(19),(21-23)들과 통해 있고, 어셈블리의 전면에서 개구부(45)와 출구(46)까지 블록 어셈블리(15)를 통하여 연장되어 있다.

하부 예열 블록 어셈블리(16)는 베이스 멤버(50)와 베이스 멤버(50)에 체결되고 그로부터 전방으로 연장된 연장부(52)를 포함한다. 베이스 멤버(50)는 다수의 평행 덕트들(54)을 포함하고, 이는 연장부(52)의 전면에 걸쳐 종방향으로 연장된 슬롯(56)과 통해 있다. 상기 덕트들(54)은 또한 가스 분배 매니폴드(12)에서 연료 가스 공급 라인(18)과 통해 있다. 또한, 다수의 덕트들(58)은 어셈블리(16)를 통하여 연장되어 있고 어셈블리을 통하여 냉각수를 순환시키도록 수(水)라인(22′)(23′)과 통해 있다.

상부 블록 어셈블리(15)와 하부 블록 어셈블리(16)의 구조적 그리고 기능적 특징들은 미합중국 특허 제5,358,221호와 미합중국 특허 제5,333,841호에 더욱 기재되어 있으며, 그 개시물들은 여기에 참조물로 명백히 삽입된다.

본 발명의 스카핑 장치의 최초 시작과 작동에 관련된 단계들은 상기한 미합중국 특허 제5,333,841호에서 더욱 상세히 기재되어 있다. 간략하게 요약하면, 스틸 슬랩(S)이 위치한 테이블(도시하지 않음)은 스카핑 장치(10)가 슬랩의 단부의 상부 및 인접하는 위치로 이동된다. 그리고 스카핑 장치 예열 연료 가스는 낮은 유속으로 점화되고, 또 예열 산소는 낮은 유속으로 방출된다. 그리고 예열 연료 가스 유속은 증가되고, 예열 연료 가스 유속이 증가된 직후, 산소 예열 흐름은 증가되고, 이 흐름은 방출 출구로부터 발산되는 예열 가스 흐름 위에 안정화 산소 흐름을 포함한다.

일단 스틸 슬랩이 예열되면, 예열된 산소 흐름은 실질적으로 감소되고 스카핑 산소의 흐름이 슬롯(34)을 통하여 발생된다. 스카핑 산소가 정점의 압력과 유속에 도달하였을 때, 예열 연료 가스는 감소되고, 스틸 슬랩을 지지하는 테이블은 스카핑 장치쪽으로 이동한다. 상기 테이블은 처음에는 비교적 저속으로, 전형적으로는 약 분당 3 내지 4 미터로, 전방으로 이동하고, 이의 속도는 정해된 기간 후에, 처음 속도의 약 4배인 정상 스카핑 속도까지 증가된다. 산소의 유속은 테이블 속도가 정상 스카핑 속도에 도달할 시간경에 약간 감소된다. 그러면 스카핑은 계속되고, 바람직하게는 연료 가스의 흐름이 하부 블록 어셈블리(16)의 슬롯(56)으로 부터 동시에 방출되어, 산화 반응의 유지를 용이하게 한다. 또한, 매니폴드(12)와 그와 연결된 상부 블록 어셈블리(15), 하부 예열 블록(16)과 슈우(30)는 이동되어 스키드(32)가 이동하는 슬랩(S)과 접촉하도록 하고, 전체 장치(10)는 이동하는 슬랩과 접촉하고 있는 라이딩 스키드(32)와 함께“부유(浮遊)”하게 된다.

제2,3도는 상기한 바와 같은 스카핑 유닛(14)의 작동을 제어하기 위한 종래 기술의 시스템을 나타내며, 가변적인 폭의 소재를 수용한다. 상기한 실시예가 스카핑 유닛으로 가스들 중 하나만의 전달에 관한 것이지만, 유사한 배열들이 제2가스와 물에 공급될 수 있다는 것을 알 수 있다.

제2,3도에 나타낸 바와 같이, 가스 분배 매니폴드(12)는 장착면(13)에 의해 형성된 종방향으로 평행하게 연장된 매니폴드(12)에 있는 가스 분배 보어(60)를 포함한다. 다수의 종방향으로 이격된 드릴링들(62)은 보어(60)로부터 장착면(13)까지 방사상으로 연장되어 있다. 또한, 가스 입구(64)는 나타낸 바와 같이 그것의 좌측단에 인접한 보어(60)에 연결되고, 보어(60)로 가스를 도입하기 위하여, 종방향으로 이동 가능한 피스톤(66)이 보어(60)에 장착되어 보어의 좌측 말단과 피스톤(66) 사이에 가변적인 종 길이의 분배 챔버(68)를 형성한다.

상기한 바와 같은 다수의 스카핑 유닛들(14)은 장착면(13)을 따라 평행한 배열로 장착되고, 스카핑 유닛들(14)은 각각 장착면과 전방으로 면하여 전면에 접촉하고 있는 후면을 갖는다. 상기한 덕트들(34,47,58)은 각 스카핑 유닛을 통하여 후면으로부터 그것의 전면까지 연장되어 있고, 이들 덕트들은 장착면(13)과 스카핑 유닛 후면의 경계에서 각각의 드릴링들(62)과 통해 있다. 이와 같은 배열들에 의해, 가스는 보어(60)의 분배 챔버(68)로부터 스카핑 유닛(14)의 덕트들까지 전달될 수 있고 피스톤(66)의 종방향 위치에 의해 제어되는 가변적인 종방향 크기에 따라 그것의 전면으로부터 방출된다. 이 제어는 제3도에 나타나 있고, 보어(60)의 분배 챔버(68)에 부가적인 드릴링(62)들을 개방하여, 그에 의해 더 장폭의 소재를 수용할 수 있게 하는 피스톤(66)의 후퇴에 의해 많은 부가적인 스카핑 유닛들(14)이 작동될 수 있다.

제4,5도는 각각 제2,3도와 유사하지만, 본 발명에 의해 제공되는 변형을 나타낸다. 특히, 제4,5도에 나타낸 바와 같이, 분배 보어(60)는 고정된 파티션(70)을 가져, 좌측 말단과 파티션 사이의 제1분배 챔버(71)로 분할하며, 상기 챔버(71)는 고정된 크기를 갖는 소재의 제1측 가장자리부 즉 밴드(A)에 배열된다. 또한, 제2 즉 주(主) 분배 챔버(72)는 파티션(70)과 피스톤(66′)사이에 형성되고, 조정가능한 크기를 갖는 소재의 중심폭부 즉 밴드(B)에 배열된다. 또, 피스톤(66′)은 한쌍의 종방향으로 이격된 피스톤 헤드(74,75)를 갖고 그 사이에 제3분배 챔버(76)를 형성하며, 고정된 크기를 갖는 소재의 반대측 가장자리부 즉 밴드(C)에 배열된다.

제1가스 입구(78)는 상기 제1분배 챔버(71)와 통하고, 제2가스 입구(79)는 상기 주 분배 챔버(72)와 통하고, 제3가스 입구는 피스톤 헤드(74,75)사이에 정해진 제3분배 챔버(76)에 제공되며, 이는 피스톤 헤드에 연결된 관형 피스톤 로드(80)와 피스톤 헤드(74,75) 사이에 위치된 관형 피스톤 로드에 다수의 개구부들(81)을 포함한다.

설비는 또한 가스를 제어된 조건하에서 각각의 세 분배 챔버(71,72,76)로 공급하도록 만들어진다. 특히, 가스 공급 시스템은 가스 공급(90)을 가지며, 이는 가스 유속 제어(92)에 이르고 그 다음 제1가스 입구(78)에 이르는 제1라인(91)을 갖는다. 제2라인(94)은 상기 공급(90)으로부터 제2의 분리된 제어(95)까지 이르고, 그 다음 제2가스 입구(79)에 이른다. 최종적으로, 제3라인(97)은 제3의 분리된 제어(98)에 이르고, 그 다음 관형 피스톤 막대(80)에 그리고 그 다음 제3분배 챔버(76)에 이르게 된다.

본 발명에 따라, 소재 표면상으로의 더 높은 가스 유속이 더 깊은 스카핑 커트를 만든다는 것을 알 수 있으며, 스카핑 커트의 깊이가 세 분배 챔버(71,72,76)에 대응하는 세 폭의 각각의 세그먼트에 대하여 분리되어 조절될 수 있다. 특히, 각 폭 세그먼트의 커트의 깊이는 작동에 의해 결정되고 유속 제어를 적당히 조절함으로써 설정될 수 있다. 전형적으로, 제어의 설정은 스틸의 그레이드, 그 온도와 야금 질에 기초한다. 또한 그 설정은 장치의 작동을 육안으로 또는 기타 방법으로 모니터링한 후 조정되어, 공정의 전체 작동을 조절하여 사용자의 최종 제품의 질요구에 부합하여 원하는 표면 조건을 얻을 수 있다.

도면과 명세서에는, 본 발명의 바람직한 실시예를 개시하였으며, 특정한 용어가 사용되었더라도, 그들은 일반적인 그리고 기술적인(descriptive) 의미로서만 사용된 것이고 한정의 목적은 아니다.

Claims (8)

1. 종방향을 정하는 긴 장착면(13)을 형성하는 가스 분배 매니폴드(12), 상기 종방향으로 평행하게 연장된 상기 매니폴드(12)에 있는 적어도 하나의 가스 보어(60), 상기 보어(60)로부터 상기 장착면(13)까지 방사상으로 연장된 다수의 종방향으로 이격된 드릴링들(62), 상기 보어(60)로 가스를 도입하기 위한 그것의 일단에 인접하여 상기 보어(60)와 연결된 가스 입구(78,79), 상기 보어(60)에 장착된 종방향으로 이동가능한 피스톤(66′)으로서 그것의 대향하는 말단을 막고 상기 일단과 상기 피스톤(66′) 사이에 가변적인 종방향 길이를 갖는 분배 챔버(71,72,76)를 형성하는 피스톤(66′), 상기 장착면(13)을 따라 평행한 배열로 장착된 다수의 스카핑 유닛들(14)로서, 상기 스카핑 유닛들(14) 각각은 상기 장착면(13)에 접촉하는 후면과 전방으로 면하고 있는 전면을 포함하는 스카핑 유닛들(14), 상기 스카핑 유닛들(14)의 각각을 통하여 상기 후면으로부터 그것의 상기 전면까지 연장된 다수의 덕트들(34,47,58)로서, 상기 덕트들(34,47,58)은 상기 장착면(13)과 상기 후면의 경계에서 상기 드릴링(62)들의 각각의 것들과 통해 있는 덕트들(34,47,58)을 포함하는 장치로서, 가스가 상기 피스톤(66′)의 종방향 위치의 제어에 의해 가변적인 종방향 길이 크기에 따라 상기 보어(60)의 상기 분배 챔버(71,72,76)로부터 상기 스카핑유닛들(14)의 덕트들(34,47,58)까지 전달되어 그것의 상기 전면으로부터 방출될 수 있는 스카핑 작업 중 이동하는 금속 소재의 폭에 걸쳐 가스 흐름을 유도하기 위한 장치에 있어서, 상기 분배 보어(60)는 다수의 분리된 분배 챔버(71,72,76)로 분할된 것으로서, 상기 챔버들(71,72,76) 각각이 별도의 가스 입구(78,79)를 가지고, 상기 챔버들(71,72,76)의 적어도 하나의 종방향 길이가 피스톤(66′)의 종방향 위치에 의존하여, 가스가 가변적인 조건하에서 분리된 챔버(71,72,76)로 전달됨으로써 그에 따라 상기 스카핑 유닛(14)들에 전달되는 가스의 양이 종방향을 따라 그리고 소재의 폭에 걸쳐 선택된 위치에서 변화되는 것을 허용하고, 상기 분배 보어(60)는 고정된 파티션(70)을 장착하여 상기의 것을 상기 일말단과 상기 파티션(70) 사이의 제1 측 가장자리 분배 챔버(71)와 상기 파티션(70)과 상기 피스톤(66′) 사이의 주 분배 챔버(72)로 분할하고, 상기 제1 측 가장자리 분배 챔버(71)와 통해 있는 제1가스 입구(78)와 상기 주 분배 챔버(72)와 통해 있는 제2가스 입구(79)를 더욱 포함하는 상기 분배 보어(60)와, 한쌍의 종방향으로 이격된 피스톤 헤드들(74,75)로서 그들 사이에서 대향측 가장자리 분배 챔버(76)를 형성하는 피스톤 헤드들(74,75)을 포함하는 상기 피스톤(66′)과, 상기 대향측 가장자리 분배 챔버(76)와 통해 있는 제3가스 입구를 포함하는 것을 특징으로 하는 스카핑 작업 중 이동하는 금속 소재의 폭에 걸쳐 가스 흐름을 유도하기 위한 장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 제3가스 입구는 상기 피스톤 헤드(74,75)에 연결된 관형 피스톤 로드(80)와, 상기 피스톤 헤드(74,75) 사이의 상기 관형 피스톤 로드(80)에 다수의 개구부(81)를 포함하는 장치.
3. 제2항에 있어서, 상기 가스 입구(78)(79)의 각각에 전달되는 가스의 압력이 별도로 제어되는 것을 허용하기 위하여 상기 가스 입구(78)(79)의 각각에 작동 가능하게 연결된 제어 수단을 더욱 포함하는 장치.
4. 종방향을 정하고 한면위에 형성된 긴 장착면(13)을 포함하는 금속 물질의 블록으로서, 상기 종방향에 평행하게 연장되어 있는 제1말단과 대향하는 제2말단을 정하고 적어도 하나의 가스 분배 보어(60)와, 상기 보어(60)로부터 상기 장착면(13)까지 방사상으로 연장된 다수의 종방향으로 이격된 드릴링들(62), 상기 제1말단과 인접하지만 이격된 위치에서 상기 보어(60)에 고정되어 상기 제1말단과 파티션(70) 사이의 상기 보어(60)에 제1챔버(71)를 형성하는 파티션(70), 상기 파티션(70)과 상기 제2말단 사이의 위치에서 상기 보어(60)에 미끄러질 수 있도록 장착되어 상기 파티션(70)과 상기 피스톤(66′) 사이의 상기 보어(60)에 제2챔버(72)를 형성하는 피스톤(66′)으로서, 한쌍의 종방향으로 이격된 피스톤 헤드(74,75)를 포함하며 상기 피스톤 헤드(74,75) 사이의 상기 보어(60)에 제3챔버(76)를 형성하는 피스톤(66′), 상기 제1챔버(71)와 통해 있는 제1가스 입구(78), 상기 제2챔버(72)와 통해 있는 제2가스 입구(79)와, 상기 제3챔버(76)와 통해 있는 제3가스 입구,를 포함하는 금속 스카핑 장치용 가스 분배 매니폴드(12)로서 상기 제2챔버(72)의 축방향 연장이 상기 피스톤(66′)을 종방향으로 이동시킴으로써 가변될 수 있고 그에 의해 상기 챔버(71,72,76)들 중 하나에 대해 열려 있는 드릴링(62)의 종방향 길이를 변화시킬 수 있는 금속 스카핑 장치용 가스 분배 매니폴드.
5. 제4항에 있어서, 상기 제3가스 입구는 상기 피스톤 헤드(74,75)에 연결된 관형 피스톤 로드(80)와, 상기 피스톤 헤드(74,75) 사이의 상기 관형 피스톤 로드(80)에 있는 다수의 개구부(81)를 포함하는 장치.
6. 제5항에 있어서, 상기 가스 입구(78)(79)의 각각에 전달되는 가스의 압력이 별도로 제어되는 것을 허용하기 위하여 상기 가스 입구(78)(79)의 각각에 작동 가능하게 연결된 제어 수단을 더욱 포함하는 장치.
7. 제6항에 있어서, 상기 장착면(13)을 따라 평행하게 배열되어 장착된 다수의 스카핑 유닛들(14)을 더욱 포함하는 장치로서, 상기 스카핑 유닛들(14) 각각은 상기 장착면(13)에 접촉하는 후면과 전방 그리고 상기 후면으로부터 그것의 상기 전면까지 상기 스카핑 유닛(14)들의 각각을 통하여 연장되어 있는 다수의 덕트들(34,47,58)로서, 상기 덕트들(34,47,58)은 상기 장착면(13)과 상기 후면의 경계에서 상기 드릴링들(62)의 각각의 것들과 통해 있는, 이에 따라 가스가 상기 보어(60)의 상기 분배 챔버(71,72,76)로부터 상기 스카핑 유닛(14)의 덕트(34,47,58)까지 전달되고 상기 피스톤(66′)의 종방향 위치 제어에 의해 가변적인 종방향 길이 크기에 따라 그것의 상기 전면으로부터 방출될 수 있는 장치.
8. 제7항에 있어서, 상기 드릴링들(62)이 실질적으로 상기 보어(60)의 전체 종방향 길이를 따라 연장되어 있는 장치.

Images