KR100228525B1 - Method for sensing bit-line using dummy cell - Google Patents

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Abstract

고집적 구조의 메모리에서 개선된 비트라인 센싱방법을 제공하기 위해 개시된 방법은, 데이타를 저장하는 메모리셀과 동일한 구조를 가지는 더미셀을 다수의 메모리셀마다 배치하되, 상기 더미셀의 워드라인에는 전원전압이 제공되게 하고 상기 더미셀내의 구동 트랜지스터들의 공통접지단이 스위칭부를 통해 연결되게 하여, 센스앰프가 센싱동작을 수행하기 직전에 선택된 메모리셀의 전류에 의해 나타나는 비트라인 쌍간의 전압 차를 증폭하기 위하여 상기 스위칭부에 스위칭신호를 인가하여 상기 더미셀을 구동하는 것을 특징으로 한다.A method for providing an improved bit line sensing method in a highly integrated memory includes disposing a plurality of memory cells each having a structure identical to that of a memory cell storing data, And the common ground terminal of the driving transistors in the dummy micelles are connected through the switching unit so that the voltage difference between the bit line pairs indicated by the current of the selected memory cell immediately before the sense amplifier performs the sensing operation is amplified And a switching signal is applied to the switching unit to drive the dummy micelles.

Description

더미셀을 이용한 비트라인 센싱방법{METHOD FOR SENSING BIT-LINE USING DUMMY CELL}METHOD FOR SENSING BIT-LINE USING DUMMY CELL [0002]

본 발명은 휘발성 반도체 메모리에 관한 것으로, 특히 고속 에스램(SRAM)등과 같은 메모리에서 더미셀을 이용한 비트라인 센싱방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a volatile semiconductor memory, and more particularly, to a bit line sensing method using a micelle in a memory such as a high-speed scrambler (SRAM).

일반적으로, 스태이틱 램등과 같은 휘발성 반도체 메모리에서 메모리 셀에 저장된 데이타를 리드하기 위한 비트라인 센싱스킴은 도 1과 같은 구조를 취하고 있다. 도 1에 있어서, 참조번호 2, 3은 프리차아지 회로를 나타내고, 참조번호 4는 비트라인쌍 BL 및 /BL을 등화하기 위한 등화회로를 나타낸다. 또한, 참조번호 5, 6, 7은 메모리 셀들 MC1, MC2,...MCn을 가리킨다. 참조번호 8, 9는 칼럼 디코딩 신호에 응답하여 상기 비트라인쌍 BL 및 /BL에 각기 나타나는 데이타의 레벨을 전송하기 위한 전송 게이트(혹은 컬럼선택게이트)들이다. 블럭 센스앰프 10는 워드라인들중 SWL1-SWLn에서 특정한 워드라인이 선택된 이후에, 상기 비트라인쌍 BL 및 /BL에 각기 나타나는 데이타의 레벨을 상기 전송 게이트들 8, 9를 통해 입력 신호들로서 수신하고, 이를 감지증폭하여 출력신호 SASP 및 /SASP들을 생성한다.Generally, a bit line sensing scheme for reading data stored in a memory cell in a volatile semiconductor memory, such as a static RAM, has a structure as shown in FIG. In Fig. 1, reference numerals 2 and 3 denote a precharging circuit, and reference numeral 4 denotes an equalizing circuit for equalizing the bit line pair BL and / BL. Reference numerals 5, 6 and 7 denote memory cells MC1, MC2, ... MCn. Reference numerals 8 and 9 denote transfer gates (or column select gates) for transferring the level of data appearing respectively in the bit line pair BL and / BL in response to the column decode signal. The block sense amplifier 10 receives the level of data appearing on the bit line pair BL and / BL as input signals through the transmission gates 8 and 9 after a specific word line is selected in SWL1-SWLn among the word lines , And sense amplifies it to generate output signals SASP and / SASP.

상기한 구조를 가지는 도 1은, 반도체 메모리의 전형적인 비트라인 센싱스킴의 회로도로서 주로 1메가비트 이하의 동기 에스램등에 채용되어왔다. 최근에, 메모리 칩의 고집적화 및 고속화의 요구에 따라 고속 에스램등에 탑재되는 씨모오스 소자의 사이즈는 점점 더 줄어드는 실정이고, 주변회로의 동작 스피드도 점점 빨라지는 추세이다. 그러나, 상기한 바와 같은 비트라인 센싱회로의 센싱속도는 메모리 셀들의 로딩 및 비트라인과 섹션 데이타 라인간의 캐패시턴스에 의해 결정될 뿐 상기 씨모오스 소자의 스케일 다운과는 무관함을 알 수 있다. 즉, 비트라인 센싱회로의 센싱속도를 보다 고속으로 하기 위해서는 메모리 셀로부터 비트라인으로 흐르는 셀 전류를 높여야 하는 것이다. 고속 에스램 등에 탑재되는 씨모오스 소자의 사이즈가 점점 더 줄어들면, 상기 셀 전류는 오히려 낮아지므로 센싱의 속도는 저하된다. 본 분야에서 이러한 센싱 속도의 저하문제는 1메가비트 에스램에서 4메가 비트 에스램으로 가면서 더욱 심각하게 초래된다. 이러한 문제점은 메모리 셀의 집적도가 높아짐에 따라 메모리 셀들의 로딩이 증가하는 현상에 근본적으로 기인된다.1 having the above-described structure is a circuit diagram of a typical bit line sensing scheme of a semiconductor memory, and has been mainly employed in synchronous esters of less than 1 megabit. Recently, with the demand for high integration and speeding up of memory chips, the size of a CMOS device mounted on a high-speed ESRAM is gradually decreasing, and the operating speed of a peripheral circuit is gradually increasing. However, the sensing speed of the bit line sensing circuit as described above is determined by the loading of the memory cells and the capacitance between the bit line and the section data line, and is independent of the scale-down of the CMOS sensor. That is, in order to increase the sensing speed of the bit line sensing circuit, the cell current flowing from the memory cell to the bit line must be increased. If the size of a CMOS sensor mounted on a high-speed ESRAM or the like is gradually reduced, the cell current is lowered, and the sensing speed is lowered. The problem of slowing down the sensing speed in this field is caused more severely by going from 1 megabit sram to 4 megabit sram. This problem is fundamentally caused by an increase in the loading of the memory cells as the degree of integration of the memory cells increases.

따라서, 본 발명의 목적은 상기한 종래의 문제점을 해소할 수 있는 휘발성 반도체 메모리의 개선된 비트라인 센싱방법을 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide an improved bit line sensing method of a volatile semiconductor memory capable of overcoming the above-described problems of the related art.

본 발명의 다른 목적은 반도체 메모리 장치의 센싱동작의 속도를 향상시킬 수 있는 더미셀을 이용한 비트라인 센싱방법을 제공함에 있다.It is another object of the present invention to provide a bit line sensing method using a dummy cell which can improve the speed of a sensing operation of a semiconductor memory device.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 방법에 따르면, 데이타를 저장하는 메모리셀과 동일한 구조를 가지는 더미셀을 다수의 메모리셀마다 배치하되, 상기 더미셀의 워드라인에는 전원전압이 제공되게 하고 상기 더미셀내의 구동 트랜지스터들의 공통접지단이 스위칭부를 통해 연결되게 하여, 센스앰프가 센싱동작을 수행하기 직전에 선택된 메모리셀의 전류에 의해 나타나는 비트라인 쌍간의 전압 차를 증폭하기 위하여 상기 스위칭부에 스위칭신호를 인가하여 상기 더미셀을 구동하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a memory cell array including a plurality of memory cells, each memory cell including a plurality of memory cells, The common ground terminal of the driving transistors in the dummy micelles is connected through the switching unit to switch the switching unit to amplify the voltage difference between the bit line pairs indicated by the current of the selected memory cell immediately before the sense amplifier performs the sensing operation And a signal is applied to drive the dummy micelles.

상기한 방법에 따르면, 센스앰프는 상기 더미셀에 의해 일차적으로 센싱증폭된 비트라인 쌍의 전압을 수신하므로, 센싱동작의 속도가 종래에 비해 빠르게 된다.According to the above-described method, since the sense amplifier receives the voltage of the bit line pair that is primarily sensed and amplified by the dummy micelles, the speed of the sensing operation is faster than that of the conventional art.

도 1은 종래 기술에 적용되는 반도체 메모리의 회로도.1 is a circuit diagram of a semiconductor memory applied to the prior art;

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 반도체 메모리의 회로도.2 is a circuit diagram of a semiconductor memory according to an embodiment of the present invention;

도 3은 도 2의 일실시예에 따른 더미셀의 구체회로도.FIG. 3 is a specific circuit diagram of a dummy micelle according to an embodiment of FIG. 2. FIG.

도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 비트라인 센싱의 효과를 보여주는 파형도.FIG. 4 is a waveform diagram showing the effect of bit line sensing according to an embodiment of the present invention; FIG.

이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 센싱방법이 첨부된 도면과 함께 설명될 것이다. 첨부된 도면들 내에서 서로 동일한 구성요소는 이해의 편의를 위해 동일 내지 유사한 참조부호 또는 명칭으로 표기된다. 다음의 설명에서는 본 발명의 보다 철저한 이해를 제공하기 위해 특정한 상세들이 예를 들어 한정되고 자세하게 설명된다. 그러나, 당해 기술분야에 통상의 지식을 가진 자들에게 있어서는 본 발명이 이러한 상세한 항목들이 없이도 상기한 설명에 의해서도 실시될 수 있을 것이다. 또한, 본 분야에 너무나 잘 알려진 반도체 제조공정, 그리고 각 소자의 기본적인 동작들은 본 발명의 요지를 모호하지 않게 하기 위해 상세히 설명되지 않는다.Hereinafter, a sensing method according to a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The accompanying drawings, which are incorporated in and constitute a part of this specification, illustrate embodiments of the invention and, together with the description, serve to explain the principles of the invention. In the following description, specific details are set forth, by way of example only, to provide a more thorough understanding of the present invention. However, it will be apparent to those skilled in the art that the present invention may be practiced without these specific details. In addition, the semiconductor manufacturing processes well known in the art, and the basic operations of each element, are not described in detail in order to avoid obscuring the gist of the present invention.

이하의 설명에서는 본 발명의 바람직한 일 실시예가 예를 들어 한정되고 첨부된 도면을 위주로 설명될 것이다.In the following description, a preferred embodiment of the present invention will be described by way of example only and with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 바람직한 실시예의 반도체 메모리의 회로도이며, 도 3은 도 2의 일실시예에 따른 더미셀의 구체회로도이다. 또한, 도 4에는 본 발명의 일실시예에 따른 비트라인 센싱의 효과를 보여주는 파형도가 도시된다.FIG. 2 is a circuit diagram of a semiconductor memory according to a preferred embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a specific circuit diagram of a dummy cell according to an embodiment of FIG. FIG. 4 is a waveform diagram illustrating the effect of bit line sensing according to an embodiment of the present invention.

먼저, 도 2를 참조하면, 참조번호 2, 3은 프리차아지 회로를 나타내고, 참조번호 4는 비트라인쌍 BL 및 /BL을 등화하기 위한 등화회로를 나타낸다. 또한, 참조번호 5, 7은 메모리 셀들 MC1,...MCn을 가리킨다. 참조번호 8, 9는 칼럼 디코딩 신호에 응답하여 상기 비트라인쌍 BL 및 /BL에 각기 나타나는 데이타의 레벨을 전송하기 위한 전송 게이트들이다. 블럭 센스 앰프 10는 워드라인들중 SWL1-SWLn 및 더미 워드라인들 DSWL1-DSWLn에서 특정한 워드라인이 선택된 이후에, 상기 비트라인쌍 BL 및 /BL에 각기 나타나는 데이타의 레벨을 상기 전송 게이트들 8, 9을 통해 입력신호들로서 수신하고, 이를 감지증폭하여 출력신호 SASP 및 /SASP를 생성한다. 여기서, 상기한 구성요소들은 도 1의 구성요소들과 동일한 구조 및 기능을 가지고 있다.2, reference numerals 2 and 3 denote a precharging circuit, and reference numeral 4 denotes an equalizing circuit for equalizing bit line pairs BL and / BL. Reference numerals 5 and 7 denote memory cells MC1, ..., MCn. Reference numerals 8 and 9 are transmission gates for transmitting the level of data appearing respectively in the bit line pair BL and / BL in response to a column decoding signal. The block sense amplifier 10 outputs the level of data appearing respectively in the bit line pair BL and / BL to the transfer gates 8 and 9 after the word line is selected from SWL1 to SWLn and dummy word lines DSWL1 to DSWLn among the word lines, 9, and senses and amplifies the signals to generate output signals SASP and / SASP. Here, the above-described components have the same structure and function as the components of Fig.

그런데, 도 2에는 데이타를 저장하는 상기 메모리셀과 동일한 구조를 가지는 더미셀들 5, 7이 다수의 메모리셀마다 배치됨을 주목하여야 한다. 상기 더미셀들 5, 7중 각각의 더미 워드라인 DSWL1, DSWLn에는 전원전압 Vcc가 제공되며, 상기 더미셀 5, 7내의 구동 트랜지스터들의 공통 접지단 A가 스위칭부 100을 통해 그라운드와 연결된다. 이러한 구성을 갖는 반도체 메모리를 제조하여 두고, 상기 블럭 센스 앰프 10이 센싱동작을 수행하기 직전 즉, 센스앰프 인에이블 신호가 제공되기 바로전에, 상기 스위칭부 100에 스위칭신호를 인가하여 상기 더미셀을 구동하면, 선택된 메모리셀의 전류에 의해 나타나는 비트라인 쌍간의 전압 차는 원래의 전압차보다 증폭된다. 즉, 상기 블럭 센스앰프 10은 상기 메모리셀로부터 디벨롭된 비트라인 쌍의 전압레벨보다 높은 전압레벨을 수신하여 감지증폭을 수행할 수 있게 되는 것이다.It should be noted that in FIG. 2, the micelles 5 and 7 having the same structure as that of the memory cell storing data are arranged for a plurality of memory cells. The dummy word lines DSWL1 and DSWLn of the dummy micelles 5 and 7 are provided with a power supply voltage Vcc and the common ground terminal A of the driving transistors in the dummy cells 5 and 7 is connected to the ground through the switching unit 100. [ A semiconductor memory having such a configuration is manufactured and a switching signal is applied to the switching unit 100 immediately before the block sense amplifier 10 performs a sensing operation, that is, immediately before a sense amplifier enable signal is provided, When driven, the voltage difference between the bit line pairs represented by the current of the selected memory cell is amplified rather than the original voltage difference. That is, the block sense amplifier 10 receives the voltage level higher than the voltage level of the bit line pair developed from the memory cell, and performs the sensing amplification.

여기서, 상기 스위칭부 100을 엔형 모오스 트랜지스터로 구현하는 것이 바람직하며, 그의 게이트 단자에는 펄스신호 Yi+K를 상기 스위칭신호로서 인가한다. 또한, 상기 펄스신호 Yi+K는 칼럼 디코딩 신호를 발생하는 주변회로부에서 생성토록 한다. 상기 게이트 단자에 펄스를 제공하는 이유는 상기 더미셀 5, 7로부터 출력되는 데이타 신호의 증폭동작이 종료시 상기 비트라인쌍 BL 및 /BL을 프리차아지 레벨로 빨리 복귀시키기 위한 것이다.Here, it is preferable that the switching unit 100 is implemented as a mono-transistor of a round shape, and a pulse signal Yi + K is applied to the gate terminal thereof as the switching signal. In addition, the pulse signal Yi + K is generated in a peripheral circuit section for generating a column decoding signal. The reason for providing a pulse to the gate terminal is to return the pair of bit lines BL and / BL to the free charge level at the end of the amplification operation of the data signal output from the dummy cells 5 and 7. [

한편, 상기 공통접지단 A는 콘택을 통해 별도의 메탈층과 접속되게 함이 좋은데, 이러한 경우에 상기 반도체 메모리 소자의 메탈층은 3개의 층이 된다. 즉, 상기 비트라인쌍 BL 및 /BL을 제1메탈층, 상기 메모리셀의 워드라인을 제2메탈층으로 구현시, 상기 공통접지단 A는 제3메탈층이 된다.Meanwhile, the common ground terminal A may be connected to a separate metal layer through a contact. In this case, the metal layer of the semiconductor memory device becomes three layers. That is, when the bit line pair BL and / BL are implemented as the first metal layer and the word line of the memory cell as the second metal layer, the common ground terminal A becomes the third metal layer.

도 3을 참조하면, 상기 더미셀의 구체회로가 보여진다. 상기 더미셀의 구조는 일반적인 메모리 셀의 그것과 동일함을 알 수 있다. 다만, 메모리셀의 워드라인이 연결되는 부분에 전원전압이 인가되고, 공통접지단 A가 콘택을 통해 별도의 메탈층과 접속되는 것이 다르다.Referring to FIG. 3, a specific circuit of the dummy micelle is shown. It can be seen that the structure of the dummy cell is the same as that of a general memory cell. However, the power supply voltage is applied to the portion of the memory cell where the word line is connected, and the common ground terminal A is connected to a separate metal layer through the contact.

도 4를 참조하면, 본 실시예에 따른 비트라인 센싱의 효과가 종래의 그것과 대비되어 도시된다. 도 4는 도 2의 블럭 센스앰프 10 하나가 256개의 메모리셀과 연결되는 경우에 2개의 더미셀을 분할 배치한 결과로써 나타나는 시간 대 전압의 그래프도이다. 도 4에서, 참조부호 P1, P2 는 종래의 일반적인 센스앰프의 입출력 파형을 가리키고 있으며, T1, T2는 본 발명의 실시예에 대한 입출력 파형이다. 이와 같이, 센스앰프는 상기 더미셀에 의해 일차적으로 센싱증폭된 비트라인 쌍의 전압을 받아 출력을 생성하므로, 센싱동작의 에벨루에이션 속도가 종래에 비해 보다 빠르게 된다.Referring to FIG. 4, the effect of the bit line sensing according to the present embodiment is shown in comparison with the conventional one. 4 is a graph of time vs. voltage as a result of dividing and arranging two dummy cells when one block sense amplifier 10 of FIG. 2 is connected to 256 memory cells. In FIG. 4, reference symbols P1 and P2 indicate input / output waveforms of a conventional sense amplifier, and T1 and T2 are input / output waveforms according to the embodiment of the present invention. As described above, the sense amplifier receives the voltage of the bit line pair sensed and amplified first by the dummy micelles and generates an output, so that the emulation speed of the sensing operation is faster than that of the prior art.

상기한 본 발명은 도면을 중심으로 예를 들어 설명되고 한정되었지만, 그 동일한 것은 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 여러가지 변화와 변형이 가능함이 본 분야의 숙련된 자에게 있어 명백할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is evident that many alternatives, modifications, and variations will be apparent to those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the invention.

상기한 바와 같은 본 발명에 따르면, 비트라인 센싱속도를 개선할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention as described above, the bit line sensing speed can be improved.

Claims (6)

반도체 메모리 장치의 비트라인 센싱 및 증폭 방법에 있어서,A bit line sensing and amplifying method for a semiconductor memory device, 데이타를 저장하는 메모리셀과 동일한 구조를 가지는 더미셀을 다수의 메모리셀마다 배치하되, 상기 더미셀의 워드라인에는 전원전압이 제공되게 하고 상기 더미셀내의 구동 트랜지스터들의 공통접지단이 스위칭부를 통해 연결되게 하여, 센스앰프가 센싱동작을 수행하기 직전에 선택된 메모리셀의 전류에 의해 나타나는 비트라인 쌍간의 전압 차를 증폭하기 위하여 상기 스위칭부에 스위칭신호를 인가하여 상기 더미셀을 구동하는 것을 특징으로 하는 방법.Wherein a dummy cell having the same structure as a memory cell storing data is disposed for each of a plurality of memory cells, a power supply voltage is provided to the word line of the dummy cell, and a common ground terminal of the driving transistors in the dummy cell is connected And a switching signal is applied to the switching unit to amplify the voltage difference between the pair of bit lines represented by the current of the memory cell selected immediately before the sense amplifier performs the sensing operation to drive the the micelles Way. 동기 에스램의 데이타 감지증폭방법에 있어서,In a synchronous ESRAM data detection amplification method, 이진 데이타를 저장하는 메모리셀과 동일한 구조를 가지는 더미셀을 다수의 메모리셀마다 배치하되, 상기 더미셀의 워드라인에는 전원전압이 제공되게 하고 상기 더미셀내의 구동 트랜지스터들의 공통접지단이 스위칭부를 통해 연결되게 하여, 센스앰프가 센싱동작을 시작할시 상기 스위칭부에 스위칭신호를 인가하여 상기 더미셀을 구동함으로써 상기 센스앰프가 상기 메모리셀로부터 디벨롭된 비트라인 쌍의 전압레벨보다 높은 전압레벨을 수신하여 감지증폭을 수행케 하는 것을 특징으로 하는 방법.Wherein a source voltage is provided to the word line of the dummy cell and a common ground terminal of the driving transistors in the dummy cell is connected to the drain of the memory cell through the switching unit When the sense amplifier starts a sensing operation, a switching signal is applied to the switching unit to drive the dummy cell so that the sense amplifier receives a voltage level higher than the voltage level of the bit line pair developed from the memory cell To perform the detection amplification. 제1항에 있어서, 상기 스위칭부를 모오스 트랜지스터로 구현시 그의 게이트 단자에는 펄스신호를 상기 스위칭신호로서 인가함을 특징으로 하는 방법.The method of claim 1, wherein when the switching unit is implemented as a MOSFET, a pulse signal is applied to the gate terminal thereof as the switching signal. 제1항에 있어서, 상기 펄스신호는 칼럼 디코딩 신호를 발생하는 주변회로부에서 생성토록 함을 특징으로 하는 방법.2. The method of claim 1, wherein the pulse signal is generated in a peripheral circuit portion generating a column decoding signal. 제3항에 있어서, 상기 모오스 트랜지스터는 엔형 모오스 트랜지스터임을 특징으로 하는 방법.4. The method of claim 3, wherein the morse transistor is a mono type transistor. 제1항에 있어서, 상기 공통접지단은 콘택을 통해 별도의 메탈층과 접속되게 함을 특징으로 하는 방법.2. The method of claim 1, wherein the common ground terminal is connected to a separate metal layer through a contact.
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