KR100227569B1 - 고반응성의 바닥재 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물 - Google Patents

고반응성의 바닥재 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명은 고반응성의 바닥재 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 물 100중량부에 대하여 불산염 화합물 0.5 내지 6중량부, 분자량이 3,000 내지 500,000인 산성형 고분자 2 내지 12중량부, 분자 내에 카르복실기를 함유하는 C2-18유기산 1 내지 8중량부 또는 무기산 0.5 내지 6중량부로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고반응성의 바닥재 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물인 것이다.
본 발명에 따라 제조되는 바닥재의 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물은 고반응성으로 고경질의 표면을 가지는 타일 등의 무기계 바닥재에도 작용하여 변색이나 얼룩 등을 발생시키지 않고 균일하게 요철을 형성하므로 외관이 미려하고 논슬립성이 보강된 무기계 바닥재를 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 바닥재의 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물은 고반응성인 반면, HF에 의한 독성이 강력하게 억제되어 작업성이 우수하고 환경에 대한 유해성이 거의 없다.

Description

고반응성의 바닥재 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물
본 발명은 고반응성의 바닥재 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 가정, 산업 및 상업시설에서 광범위하게 사용되는 타일이나 석재 등의 고경질의 무기계 바닥재 표면에 작용하여 미세한 요철을 형성하므로써 무기계 바닥재에 논슬립성을 제공할 수 있는 반응성이 우수한 바닥재의 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물에 관한 것이다.
타일이나 석재 등의 무기계 바닥재들은 외관이 미려하고 내마모성, 내구성, 내변색성 등이 우수하여 지금까지 우리 생활주변에서 널리 사용되고 있고, 향후에도 그 사용량은 점점 늘어날 전망이다.
무기계 바닥재는 제품 특성상 대부분 고광택 및 고평활 표면을 유지한다. 예를들면, 타일은 유약 코팅에 의해서, 대리석은 세밀한 표면 그라인딩에 의해서 고광택 및 고평활 표면을 유지한다. 그러나, 이러한 표면 특성 때문에 사람들의 보행시 미끄러지기 쉽고, 특히 물이나 비눗물 등이 표면에 묻어 있는 경우에는 수막현상으로 인하여 미끄러짐 현상이 안전사고로까지 이어지기도 한다. 이와 같이 미끄럼에 의한 안전사고가 발생할 가능성이 많은 장소는 무기 바닥재를 사용하는 욕실, 베란다, 공중목욕탕, 수영장 등 물과의 접촉이 빈번한 우리 생활주변에 산재한다.
따라서, 이러한 무기 바닥재의 미끄럼 문제를 해결하기 위한 방법이 강구되었는데, 그중 하나가 타일 표면에 요철을 형성시킨 논슬립(non-slip)형 타일이다. 그러나, 논슬립형 타일은 요철 사이가 쉽게 오염되고 오염제거 또한 용이하지 않아서 미관면이나 위생면에서 바람직하지 않고 맨발에 닿는 보행 촉감도 만족스럽지 못하였다. 뿐만 아니라 발바닥면이나 신발면과의 밀착성도 부족하기 때문에 미끄럼 방지 효과도 기대에 미치지 못하였다.
다른 방법으로, 최근에 개발된 방법으로서 SiO2, Al2O3, CaO 등의 무기계 바닥재의 표면성분과 반응할 수 있는 화학처리제를 바닥재 표면에 도포하여 눈에 보이지 않을 정도의 미세한 요철을 형성시키므로써 미끄럼 발생의 근본 원인인 수막현상을 최소화하는 방법이 있다. 이 방법에 있어서 화학처리제는 HF 등의 불산 수용액을 주성분으로 하고 여기에 계면활성제가 첨가된 형태이다. 이러한 종류의 화학처리제로는 예를들면, 일본 공개특허 제279748/1994호에는 HF, 계면활성제 및 물로 이루어진 화학처리제 조성물이 기재되어 있고, 미국 특허 제5,223,168호에는 HF, H3PO4, 계면활성제 및 물로 이루어진 화학처리제 조성물이 기재되어 있으며 일본 공개특허 제159278/1988호에는 HF, 메틸셀룰로스, 알칼리 및 물로 이루어진 화학처리제 조성물이 기재되어 있다. 이외에도 상업화된 다양한 종류의 바닥재용 화학처리제가 시판되고 있다.
그러나, 상기한 화학처리제들은 고경질의 타일 표면에 대하여는 논슬립성을 제공할 수 있는 정도의 충분한 에칭반응을 나타내지 못하는 등 피처리제의 종류에 따라 미끄럼 방지효과의 편차가 심하고, 때때로 반응성이 너무 높아서 피처리제의 고유색상을 해치거나 또는 도포후 쉽게 증발하여 불균일한 표면반응을 유발하여 얼룩과 백화현상 등이 발생하게 되어 원래 제품의 미관을 크게 손상하는 단점이 있다. 또한, 상기한 화학처리제들은 에칭 효과를 높이기 위하여 고반응성이며 독성이 강한 HF를 과량 첨가하므로 밀폐된 공간에서 도포 작업할 경우 각별히 주의하여야 할 뿐만 아니라, 처리 후 염기성 액체로 중성화시키지 않고 그대로 세척하는 경우 환경오염을 유발할 수 있다.
본 발명자들은 상기한 바와 같은 종래 미끄럼 방지용 바닥 처리제의 단점을 보완하기 위하여 예의 연구한 결과, 처리후 변색이 거의 없고 미끄럼 방지효과가 우수한 물, 암모늄플루오라이드, 음이온성 고분자 및 계면활성제로 이루어진 바닥재의 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물을 개발한 바 있다. 그러나, 이러한 논슬립제는 고경질의 표면을 가지는 바닥재에 대하여는 강력한 에칭반응을 일으키지 못하여 미끄럼 방지효과가 충분하지 못하였다.
본 발명의 목적은 바닥재 표면과의 에칭반응이 미흡하여 미끄럼 방지효과가 저조하거나, 처리 후 변색 및 얼룩 등이 발생하여 바닥재로서의 미관을 손상하거나 또는 환경오염 등을 유발하는 종래의 바닥재의 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물의 단점을 해결하므로써 고경질의 타일에 대하여도 강력한 에칭반응을 나타낼 수 있고 간단한 방법으로도 목적하는 정도의 미끄럼 방지효과를 얻을 수 있는 반응성이 우수한 바닥재의 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명은 물 100중량부에 대하여 불산염 화합물 0.5 내지 6중량부, 분자량이 3,000 내지 500,000인 산성형 고분자 2 내지 12중량부, 분자 내에 카르복실기를 함유하는 C2-18유기산 1 내지 8중량부 또는 무기산 0.5 내지 6중량부로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고반응성의 바닥재 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물인 것이다.
이하, 본 발명을 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명의 바닥재의 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물은 용매로서 물을 사용하는데, 바람직하기로는 순수 증류수 또는 이온제거수를 사용한다.
본 발명에 있어서, 불산염 화합물은 에칭반응제로서 사용된다. 본 발명에서 사용할 수 있는 불산염 화합물로는 예를들면 암모늄 플루오라이드, 소듐 플루오라이드 및 포타슘 플루오라이드 등이 있다. 불산염 화합물은 100％ 순수 고체로써 첨가하거나 불산염 화합물의 수용액 형태로 사용할 수 있으나, 취급상의 안전성 측면에서 수용액 형태가 더 바람직하다. 불산염 화합물의 수용액은 40 내지 60％의 농도 범위가 바람직하다.
본 발명에서는 또한 카르복실기 및/또는 술폰산기 등의 작용기를 가지는 산성형 고분자가 사용된다. 상기 산성형 고분자의 작용기들은 불산염 화합물과 반응하여 에칭반응의 활성성분인 HF를 생성한다. 또한, 산성형 고분자는 무기계 바닥재의 표면성분, 예를들면 SiO2, Al2O3, CaO 등과 수소결합 상태를 이루어 활성성분인 HF와 바닥재 표면성분과의 반응의 촉매로서도 작용할 수 있으며, 증점작용에 의해 용매의 증발을 억제하여 반응을 지속적으로 유지하여 충분한 표면반응을 일으키는 역할을 한다.
상기한 산성형 고분자들은 분자적으로 주사슬의 소수성 부분과, 친수성 부분이 적절히 배합되어 있고 작용기들이 고분자의 표면에 주로 존재한다. 그러므로, 산성형 고분자를 함유하는 용액으로 바닥재를 코팅할 경우 바닥재 표면과의 밀착성 및 접착성이 우수하여 코팅이 균일하게 되고, 바닥재 표면과 아주 근거리에 카르복실기 또는 술폰산기 등의 반응촉매기 과량이 존재하므로 불산염 화합물을 소량만 사용하여도 반응이 효율적으로 일어날 수 있다. 또한, 이들 산성형 고분자들은 분자 내에 카르복실기와 술폰산기가 일정한 간격으로 위치하므로 에칭반응도 균일하게 일어날 수 있다. 따라서, 점도 및 용해도를 고려할 때 산성형 고분자들의 분자량은 3,000 내지 500,000의 범위가 바람직하다.
본 발명에서 사용가능한 산성형 고분자의 예로서 분자 내에 카르복실기를 함유하는 고분자로는 폴리아크릴산(PAA), 폴리메타크릴산(PMAA), 폴리아크릴산-코-말레산(PAA-co-MA), 폴리메틸비닐에테르-코-말레산(PMVE-co-MA), 폴리아크릴산-코-N-비닐피롤리돈(PAA-co-NVP), 폴리아크릴산-코-아크릴아미드(PAA-co-AM), 폴리아크릴산-코-히드록시에틸아크릴레이트(PAA-co-HEA), 폴리메타크릴산-코-히드록시에틸아크릴레이트(PMAA-co-HEA), 폴리메타크릴산-코-히드록시에틸메타크릴레이트(PMAA-co -HEMA) 및/또는 이들의 염이 있고, 분자 내에 술폰산기를 함유하는 고분자로는 폴리나프탈렌술폰산(PNaSA), 폴리벤젠술폰산(PBSA), 및/또는 이들의 염이 있다. 또한, 분자 내에 카르복실기와 술폰산기를 동시에 함유하는 고분자의 예로는 폴리벤젠술폰산-코-말레산(PBSA-co-MA), 폴리나프탈렌술폰산-코-말레산(PNaSA-co-MA) 및/또는 이들의 카르복실산염 또는 술폰산염 등이 있다. 상기한 고분자를 이들의 카르복실산염 또는 술폰산염의 형태로 사용할 경우 진한 염산 수용액을 첨가하여 상기 염을 산의 형태로 치환하여 사용할 수 있다.
한편, 본 발명에 있어서는, 고경질의 바닥재 표면에 대하여도 에칭반응을 일으킬 수 있도록 하기 위하여 1 이상의 카르복실기를 함유하는 저분자량의, 예를들면 탄소원자수가 2 내지 18인 유기산 및/또는 무기산을 사용한다. 본 발명에서 사용가능한 저분자량의 유기산으로는 분자 내에 1 이상의 카르복실기를 가지는 탄소원자수 2 내지 18의 유기산은 모두 사용할 수 있는데, 예를들면 아세트산, 옥살산, 시트르산, 글루콘산, 글리콜산, 타르타르산, 말레산, 퓨마르산, 카프릴산, 카프르산, 라우르산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산 등이 있다.
본 발명에서는 저분자량의 유기산 이외에 염산, 인산, 황산 등의 소량의 무기산도 사용할 수 있는데, 바람직하기로는 인산을 사용한다.
상기한 저분자량의 유기산은 기본적으로 산성형 고분자와 유사한 분자구조를 가지므로 본 발명의 조성물에 있어서 서로 유사한 역할을 수행하게 된다. 산성형 고분자는 증점으로 인한 엉김현상 때문에 반응성이 첨가량에 비례하여 증가하지 않는 반면, 저분자량의 유기산을 첨가하면 엉김현상 없이 반응성을 대폭 증가시키는 상승효과를 나타낼 수 있다.
상기한 산성형 고분자나 저분자량의 유기산은 불산염 화합물과 다음 반응식 1과 2에 의해 생성되는 소량의 불산이 에칭반응을 유발할 수 있다.
반응식 1과 2에 의해서 생성된 소량의 불산은 타일의 표면성분과 반응하여 전부 소모되므로 안전성 및 환경오염 문제를 전혀 유발하지 않는다.
산성형 고분자(고분자-COOH)+MF→산성형 고분자(고분자-COOM)+HF
상기 식에서 M은 Na+, K+, 또는 NH4 +이다.
유기산(R-COOH) + MF → 유기산염(R-COOM) + HF
상기 식에서 M은 Na+, K+, 또는 NH4 +이다.
본 발명에 따른 바람직한 구현예에 있어서, 바닥재의 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물은 물 100중량부에 대하여 불산염 화합물 0.5 내지 6중량부, 산성형 고분자 2 내지 12중량부, 유기산 1 내지 8중량부 또는 무기산 0.5 내지 6중량부로 이루어진다.
상기한 조성에 있어서, 불산염 화합물의 사용량이 0.5중량부 이하일 경우에는 충분한 에칭반응이 일어나지 않으며, 6중량부 이상일 경우에는 에칭반응이 너무 강하여 타일 및 석재 고유의 색상을 해칠 수 있다.
반응촉매제인 산성형 고분자의 사용량이 2중량부 이하이거나 유기산 또는 무기산을 각각 1중량부와 0.5중량부 이하로 사용할 경우 수소 이온의 농도가 너무 낮아 반응촉매효과가 매우 미약하여 에칭반응을 일으킬 수 없고, 산성형 고분자의 사용량이 12중량부 이상이거나 유기산을 8중량부 또는 무기산을 6중량부 이상 사용할 경우에는 촉매작용이 너무 강하여 논슬립성은 우수하지만 과도한 반응성에 의해 변색이 발생하고 산도 또한 너무 높아 취급이 어렵게 된다.
산성형 고분자의 분자량은 3,000 내지 500,000이 바람직한데, 분자량이 3,000 이하일 경우에는 산성형 고분자의 상기한 바와 같은 고분자로서의 효과를 기대할 수 없으며, 분자량이 500,000 이상일 경우에는 증점작용이 필요 이상으로 증가하고, 고분자에 따른 용해도 문제가 발생하여 오히려 분산력을 방해하게 된다.
본 발명에서는 또한 상기한 성분 이외에 계면활성제를 사용할 수 있다. 계면활성제는 도포시 처리제의 분산성을 향상시켜 얼룩의 생성을 억제하며, 바닥재에 오염이 있을 경우 이를 제거하여 반응성을 증대시키는 작용을 할 수 있다. 계면활성제로는 바람직하게는 음이온 계면활성제와 중성 계면활성제를 사용할 수 있다.
본 발명에서 사용가능한 음이온 계면활성제의 예로는 소듐 라우릴 에테르 설페이트[LES(Na+)], 소듐 도데실벤젠술포네이트[DDBSA(Na+)] 등이 있으며, 중성 계면활성제의 예로는 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르계 및 모노라우레이트, 모노팔미테이트, 모노스테아레이트, 모노올리에이트, 트리올리에이트 등의 폴리옥시에틸렌 소르비탄류 등이 있다. 상기한 종류 이외의 계면활성제를 본 발명에 따른 조성물에 사용하면 용액 중에 용해되지 않거나 분리되어 계면활성제로서의 작용을 나타낼 수 없다.
계면활성제는 0.2 내지 6중량부의 범위로 사용하는 것이 바람직하다. 계면활성제를 상기한 범위 이상으로 사용하면 거품이 과도하게 발생하여 바닥재 표면에 얼룩을 남기게 되어 바닥재의 미관을 해칠 수 있다.
계면활성제를 추가로 함유하는 본 발명에 따른 화학처리제 조성물은 사용시 거품이 발생할 수 있다. 본 발명에 따른 화학처리제 조성물에는 사용할 때 과량의 거품이 발생하는 것을 방지하기 위하여 임의로 소포제를 첨가할 수 있다. 사용가능한 소포제로는 지방산 에스테르계, 인산 에스테르계, 실리콘계 등이 있으며, 바람직하기로는 실리콘계의 소포제를 0.05 내지 2중량부의 범위로 사용한다.
상기한 바와 같은 조성으로 제조되는 본 발명에 따른 바닥재의 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물은 고경질의 바닥재 표면과도 작용할 수 있는 강력한 반응성을 가지며 바닥재 표면과 반응한 후에도 바닥재 본래의 미관을 유지하는 특성을 가진다.
이하, 본 발명을 실시예에 의하여 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.
실시예 1 내지 20
다음 표 1에 따라 바닥재의 미끄럼 방지용 화학처리제를 제조하여 각각을 실시예 1 내지 20으로 하였다.
각각의 실시예로부터 얻어진 화학처리제에 대하여 ASTM E303 규격에 따라 습윤상태에서의 미끄럼 저항치를 측정하였고, 얼룩 및 백화가 발생하는 외관상태를 육안으로 관찰하였다.
평가를 위한 바닥타일로는 시판되는 바닥타일중 표면경도가 가장 큰 200 x 200 ㎜ 크기의 적색타일((주)대림통산)을 사용하였다.
준비된 타일 위에 150g/㎡정도의 화학처리제를 도포하고 15분 동안 방치한후 즉시 물로 세척하였다. 이 실험은 모두 20℃에서 실시되었다.
각각의 실시예에서 사용된 산성형 고분자들의 분자량은 다음과 같다: PAA 250,000, PAA-co-MA 4,000, PAA-co-NVP 400,000, PBSA 5,000, PBSA-co-MA 60,000.
각각의 실시예에 대한 결과를 표 1에 기재하였다.
조성 (중량부) 결 과
물 NH4F*1 산성형 고분자 유기산 또는 무기산 N/S값*2 외관*3
실시예1 100 3 5(PAA) 3(옥살산) 10 ○
실시예2 100 3 5(PAA) 3(시트르산) 10 ○
실시예3 100 3 5(PAA) 3(글리콜산) 9 ○
실시예4 100 3 5(PAA) 3(H3PO4) 10 ○
실시예5 100 3 5(PAA-co-MA) 3(옥살산) 11 ○
실시예6 100 3 5(PAA-co-MA) 3(시트르산) 11 ○
실시예7 100 3 5(PAA-co-MA) 3(글리콜산) 9 ○
실시예8 100 3 5(PAA-co-MA) 3(H3PO4) 11 ○
실시예9 100 3 8(PAA-co-NVP) 3(옥살산) 9 ○
실시예10 100 3 8(PAA-co-NVP) 3(시트르산) 9 ○
실시예11 100 3 8(PAA-co-NVP) 3(글리콜산) 8 ○
실시예12 100 3 8(PAA-co-NVP) 3(H3PO4) 9 ○
실시예13 100 3 6(PBSA) 3(옥살산) 10 ○
실시예14 100 3 6(PBSA) 3(시트르산) 10 ○
실시예15 100 3 6(PBSA) 3(글리콜산) 9 ○
실시예16 100 3 6(PBSA) 3(H3PO4) 10 ○
실시예17 100 3 6(PBSA-co-MA) 3(옥살산) 10 ○
실시예18 100 3 6(PBSA-co-MA) 3(시트르산) 10 ○
실시예19 100 3 6(PBSA-co-MA) 3(글리콜산) 9 ○
실시예20 100 3 6(PBSA-co-MA) 3(H3PO4) ○
*1 : 40％의 NH4F 수용액
*2 : 논슬립값
*3 : ◎ 매우 양호, ○ 양호, △ 보통, × 불량
비교예 1 내지 6
다음 표 2에 따른 성분과 조성을 사용한 것을 제외하고, 상기 실시예와 동일한 방법으로 바닥재의 미끄럼 방지용 화학처리제를 제조하였다.
제조된 화학처리제 각각에 대하여 습윤상태에서의 미끄럼 저항치와 외관을 측정하고 그 결과를 표 2에 기재하였다.
비교예 7 내지 9
화학처리제로 처리되지 않은 대조용 타일을 비교예 7로 하였고, "T-STEP"(상표명, 미국 TRUSTY사 제품)을 비교예 8로 하였으며, "SKIDLESS"(상표명, 일본 NEEDSINTERNATIONAL사 제품)를 비교예 9로 하였다.
각각의 화학처리제에 대하여 습윤상태에서의 미끄럼 저항치와 외관을 측정하고 그 결과를 표 2에 기재하였다.
조성 (중량부) 결 과
물 NH4F*1 산성형 고분자 유기산 또는 무기산 N/S값*2 외관*3
비교예1 100 3 5(PAA) - 5 ○
비교예2 100 3 5(PMAA) - 5 ○
비교예3 100 3 5(PAA-co-MA) - 5 ○
비교예4 100 3 8(PAA-co-NVP) - 5 ○
비교예5 100 3 6(PBSA) - 4 ○
비교예6 100 3 6(PBSA-co-MA) - 4 ○
비교예7 대조 타일 2 ◎
비교예8 T-STEP 3 △
비교예9 SKIDLESS 4 ×
*1 : 40％의 NH4F 수용액
*2 : 논슬립값
*3 : ◎ 매우 양호, ○ 양호, △ 보통, × 불량
실시예 21 내지 41
다음 표 3의 조성에 따른 바닥재의 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물을 상기 실시예와 동일한 방법으로 제조하여 각각을 실시예 21 내지 41로 하였다.
제조된 화학처리제에 대하여 습윤상태에서의 미끄럼 저항치와 외관을 측정하고 그 결과를 표 3에 기재하였다.
조성 (중량부) 결 과
물 불산염화합물*1 산성형고분자 유기산 또는 무기산 N/S값*2 외관*3
실시예21 100 1(NH4F) 3(PAA) 1(시트르산) 8 ○
실시예22 100 2(NH4F) 3(PAA) 3(시트르산) 10 ○
실시예23 100 2(NH4F) 4(PAA) 3(시트르산) 12 ○
실시예24 100 2(NH4F) 6(PAA) 3(시트르산) 10 ○
실시예25 100 5(NH4F) 6(PAA) 3(시트르산) 12 ○
실시예26 100 5(NH4F) 8(PAA) 4(시트르산) 12 ○
실시예27 100 5(NH4F) 8(PAA) 2(시트르산) 14 ○
실시예28 100 1(NH4F) 3(PAA) 2(시트르산) 8 ○
실시예29 100 2(NaF) 3(PAA) 4(시트르산) 9 ○
실시예30 100 2(NaF) 4(PAA) 4(시트르산) 9 ○
실시예31 100 2(NaF) 6(PAA) 5(시트르산) 10 ○
실시예32 100 5(NaF) 6(PAA) 3(시트르산) 10 ○
실시예33 100 5(NaF) 8(PAA) 4(시트르산) 10 ○
실시예34 100 5(NaF) 8(PAA) 5(시트르산) 12 ○
실시예35 100 1(KF) 3(PAA) 4(시트르산) 8 ○
실시예36 100 2(KF) 5(PAA) 3(시트르산) 8 ○
실시예37 100 2(KF) 4(PAA) 4(시트르산) 9 ○
실시예38 100 2(KF) 6(PAA) 5(시트르산) 9 ○
실시예39 100 5(KF) 6(PAA) 3(시트르산) 9 ○
실시예40 100 5(KF) 10(PAA) 4(시트르산) 10 ○
실시예41 100 5(KF) 12(PAA) 5(시트르산) 10 ○
*1 : 각각의 불산염 화합물 40％ 수용액
*2 : 논슬립값
*3 : ◎ 매우 양호, ○ 양호, △ 보통, × 불량
비교예 10 내지 15
다음 표 4에 따른 성분과 조성을 사용한 것을 제외하고, 상기 실시예와 동일한 방법으로 바닥재의 미끄럼 방지용 화학처리제를 제조하였다.
제조된 화학처리제 각각에 대하여 습윤상태에서의 미끄럼 저항치와 외관을 측정하고 그 결과를 표 4에 기재하였다.
조성 (중량부) 결 과
물 HF*1 산성형 고분자 유기산 또는 무기산 N/S값*2 외관*3
비교예10 100 2 - 3(옥살산) 8 ×
비교예11 100 2 - 3(H3PO4) 8 ×
비교예12 100 2 - 3(HCl) 7 ×
비교예13 100 4 - 2(시트르산) 10 ×
비교예14 100 4 - 3(H3PO4) 10 ×
비교예15 100 4 - 3(옥살산) 10 ×
*1 : 40％의 HF 수용액
*2 : 논슬립값
*3 : ◎ 매우 양호, ○ 양호, △ 보통, × 불량
실시예 42 내지 49
계면활성제를 추가하여 사용한 것을 제외하고, 다음 표 5의 조성에 따른 바닥재의 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물을 상기 실시예와 동일한 방법으로 제조하여 각각을 실시예 42 내지 49로 하였다.
제조된 화학처리제에 대하여 습윤상태에서의 미끄럼 저항치와 외관을 측정하고 그 결과를 표 5에 기재하였다.
조성 (중량부) 결 과
물 NH4F 산성형고분자 유기산 또는 무기산 계면활성제 N/S값*1 외관*2
실시예42 100 3 5(PAA) 3(옥살산) 1(LESNa+) 9 ○
실시예43 100 3 5(PAA) 3(옥살산) 1(DDBSANa+) 9 ○
실시예44 100 3 5(PAA) 3(옥살산) 1(Tween80) 11 ○
실시예45 100 3 5(PAA) 3(옥살산) 0.5/0.5(DDBSANA+/Tween80) 10 ○
실시예46 100 3 5(PAA) 3(H3PO4) 1(LESNa+) 10 ○
실시예47 100 3 5(PAA) 3(H3PO4) 1(DDBSANa+) 10 ○
실시예48 100 3 5(PAA) 3(H3PO4) 1(Tween80) 11 ○
실시예49 100 3 5(PAA) 3(H3PO4) 0.5/0.5(DDBSANA+/Tween80) 11 ○
*1 : 논슬립값
*2 : ◎ 매우 양호, ○ 양호, △ 보통, × 불량
실시예 50 내지 57
실리콘 고분자계 소포제(KM 72K, SHINETUS사 제품)를 사용한 것을 제외하고, 다음 표 6의 조성에 따른 화학처리제 조성물을 실시예와 동일한 방법으로 제조하였다.
제조된 화학처리제에 대하여 습윤상태에서의 미끄럼 저항치와 외관을 측정하고 그 결과를 표 6에 기재하였다.
실시예 조성 (중량부) 결 과
물 NH4F*1 산성형고분자 유기산 또는 무기산 계면활성제 소포제 N/S값*2 외관*3
50 100 3 5(PAA) 3(옥살산) 1(LESNa+) 0.1 9 ◎
51 100 3 5(PAA) 3(옥살산) 1(DDBSANa+) 0.1 9 ◎
52 100 3 5(PAA) 3(옥살산) 1(Tween80) 0.1 11 ◎
53 100 3 5(PAA) 3(옥살산) 0.5/0.5(DDBSANA+/Tween80) 0.1 10 ◎
54 100 3 5(PAA) 3(H3PO4) 1(LESNa+) 0.1 10 ◎
55 100 3 5(PAA) 3(H3PO4) 1(DDBSANa+) 0.1 10 ◎
56 100 3 5(PAA) 3(H3PO4) 1(Tween80) 0.1 11 ◎
57 100 3 5(PAA) 3(H3PO4) 0.5/0.5(DDBSANA+/Tween80) 0.1 11 ◎
*1 : 40％의 NH4F 수용액
*2 : 논슬립값
*3 : ◎ 매우 양호, ○ 양호, △ 보통, × 불량
비교예 16 내지 25
다음 표 7의 조성에 따라 화학처리제 조성물을 제조한 것을 제외하고, 실시예와 동일한 방법으로 바닥재의 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물을 제조하여 각각을 비교예 16 내지 29로 하였다. 각 비교예에서는 소포제로서 실리콘 고분자계 소포제(KM 72K, SHINETUS사 제품)를 사용하였다.
제조된 화학처리제에 대하여 습윤상태에서의 미끄럼 저항치와 외관을 측정하고 그 결과를 표 7에 기재하였다.
비교예 조성 (중량부) 결 과
물 NH4F*1 산성형고분자 유기산 또는 무기산 계면활성제 소포제 N/S값*2 외관*3
16 100 0.2 5(PAA) 2(옥살산) 1(Tween80) 0.1 3 ○
17 100 8 5(PAA) 2(옥살산) 1(Tween80) 0.1 16 ×
18 100 2 5(PAA)MW=2000 2(옥살산) 1(Tween80) 0.1 ×
19 100 2 5(PAA)MW=1000000 2(옥살산) 1(Tween80) 0.1 10 ×
20 100 2 1(PAA) 2(옥살산) 1(Tween80) 0.1 6 ×
21 100 2 14(PAA) 2(옥살산) 1(Tween80) 0.1 10 ×
22 100 2 5(PAA) 0.5(옥살산) 1(Tween80) 0.1 6 ○
23 100 2 5(PAA) 10(옥살산) 1(Tween80) 0.1 12 ×
24 100 2 5(PAA) 0.2(H3PO4) 1(Tween80) 0.1 5 ○
25 100 2 5(PAA) 10(H3PO4) 1(Tween80) 0.1 12 ×
*1 : 40％의 NH4F 수용액
*2 : 논슬립값
*3 : ◎ 매우 양호, ○ 양호, △ 보통, × 불량
본 발명에 따라 제조되는 바닥재의 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물은 고반응성으로 고경질의 표면을 가지는 타일 등의 무기계 바닥재에도 작용하여 변색이나 얼룩 등을 발생시키지 않고 균일하게 요철을 형성하므로 외관이 미려하고 논슬립성이 보강된 무기계 바닥재를 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 바닥재의 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물은 고반응성인 반면, HF에 의한 독성이 강력하게 억제되어 작업성이 우수하고 환경에 대한 유해성이 거의 없다.

Claims (4)

  1. 물 100중량부에 대하여 불산염 화합물 0.5 내지 6중량부, 분자량이 3,000 내지 500,000인 산성형 고분자 2 내지 12중량부, 분자 내에 카르복실기를 함유하는 C2-18유기산 1 내지 8중량부 또는 무기산 0.5 내지 6중량부로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고반응성의 바닥재 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물.
  2. 제 1항에 있어서, 불산염 화합물이 암모늄플루오라이드, 소듐 플루오라이드, 및 포타슘플루오라이드로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 고반응성의 바닥재 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물.
  3. 제 1항에 있어서, 산성형 고분자가 폴리아크릴산, 폴리메타크릴산, 폴리아크릴산-코-말레산, 폴리메틸비닐에테르-코-말레산, 폴리아크릴산-코-N-비닐피롤리돈, 폴리아크릴산-코-아크릴아미드, 폴리아크릴산-코-히드록시 에틸아크릴레이트, 폴리메타크릴산-코-에틸메타크릴레이트, 폴리나프탈렌술폰산, 폴리벤젠술폰산, 및/또는 이들의 염으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 고반응성의 바닥재 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물.
  4. 제 1항에 있어서, 추가로 음이온 계면활성제 또는 중성 계면활성제 0.2 내지 6중량부를 함유하는 것을 특징으로 하는 고반응성의 바닥재 미끄럼 방지용 화학처리제 조성물.
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