KR100217337B1 - Supplying apparatus of wafer stage oil in semiconductor exposer - Google Patents
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Abstract
노광공정을 위해서 웨이퍼가 놓이는 스테이지의 X-스테이지 및 Y-스테이지가 교차되는 부분에 일정한 주기로 오일을 공급하는 반도체 노광설비의 웨이퍼 스테이지 오일 공급장치에 관한 것이다.The present invention relates to a wafer stage oil supply apparatus of a semiconductor exposure apparatus for supplying oil at regular intervals to a portion where an X-stage and a Y-stage of a stage on which a wafer is placed intersect for an exposure process.
본 발명은, 일정량의 오일이 담긴 오일공급원, 상기 오일공급원과 연결되는 전자밸브, 상기 전자밸브의 개폐동작을 제어하는 제어수단 및 상기 전자밸브와 연결되는 주유기를 구비하여 이루어진다.The present invention comprises an oil supply source containing a certain amount of oil, an electromagnetic valve connected to the oil supply source, control means for controlling the opening and closing operation of the solenoid valve, and a lubricator connected to the solenoid valve.
따라서, 가이드 레일의 오일부족에 의해서 니들베어링이 잘 회전되지 못하는 문제점을 해결할 수 있고, 작업자가 직접 오일을 공급하여야 하는 번거로움을 해결할 수 있는 효과가 있다.Therefore, it is possible to solve the problem that the needle bearing is not rotated well due to the oil shortage of the guide rail, it is possible to solve the trouble of having to supply the oil directly.
Description
본 발명은 반도체 노광설비의 웨이퍼 스테이지 오일 공급장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 노광공정을 위해서 웨이퍼가 놓이는 스테이지의 X-스테이지 및 Y-스테이지가 교차되는 부분에 일정한 주기로 오일을 공급하는 반도체 노광설비의 웨이퍼 스테이지 오일 공급장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer stage oil supply apparatus for a semiconductor exposure apparatus, and more particularly to a semiconductor exposure apparatus for supplying oil at regular intervals to a portion where an X-stage and a Y-stage of a stage on which a wafer is placed intersect for an exposure process. Relates to a wafer stage oil supply device.
통상적으로, 스테퍼(Stepper)는 광원에서 투사되는 광에너지가 렌즈를 통과한 후, 다시 마스크(Mask) 또는 레티클(Reticle)을 통과하여 웨이퍼 스테이지 위에 놓인 웨이퍼 상에 도포된 포토레지스트를 감광시켜 포토레지스트 패턴을 형성하는 것이다.In general, a stepper is a photoresist obtained by exposing the photoresist applied on a wafer placed on a wafer stage after the light energy projected from the light source passes through the lens, and then passes through a mask or a reticle. To form a pattern.
도1은 일반적인 반도체 노광설비 웨이퍼 스테이지의 사시도이다.1 is a perspective view of a typical semiconductor exposure apparatus wafer stage.
도1을 참조하면, 일측은 X-모터(10)와 연결되고 다른 일측은 Y-모터(14)와 연결되며, 중앙에 포토레지스트가 도포된 웨이퍼가 위치하는 웨이퍼 홀더(12)가 형성된 스테이지 상층부(15)가 형성되어 있다.Referring to FIG. 1, one side is connected to an X-motor 10 and the other side is connected to a Y-motor 14, and a stage upper layer part in which a wafer holder 12 is formed on which a wafer coated with a photoresist is located. (15) is formed.
상기 스테이지 상층부(15) 하부에는 표면에 복수개의 니들베어링이 삽입된 가이드 레일이 형성되어 있는 X-스테이지(16)가 설치되어 있으며, 상기 X-스테이지(16) 하부에는 표면에 복수개의 니들베어링이 삽입된 가이드 레일이 형성되어 있는 Y-스테이지(18)가 설치되어 있다.An X-stage 16 having a guide rail having a plurality of needle bearings inserted therein is provided below the upper stage 15 of the stage, and a plurality of needle bearings are provided below the X-stage 16. The Y-stage 18 in which the inserted guide rail is formed is provided.
따라서, 웨이퍼 홀더(12)에 포토레지스트가 도포된 웨이퍼가 위치하게 되면, X-모터(10)의 구동에 의해서 X-스테이지(16)는 이동하게 되고, Y-모터(14)의 구동에 의해서 Y-스테이지(18)도 이동하게 된다.Therefore, when the wafer coated with the photoresist is placed on the wafer holder 12, the X-stage 16 is moved by the driving of the X-motor 10, and the driving of the Y-motor 14 is performed. Y-stage 18 is also moved.
이에 따라서 웨이퍼는, 웨이퍼 스테이지 상부에 위치한 렌즈와 수직으로 정렬된다.The wafer is thus aligned perpendicular to the lens located above the wafer stage.
이어서, 광원에서 투사되는 광에너지가 마스크 또는 레티클을 통과하여 웨이퍼 상에 도포된 포토레지스트를 감광시키게 된다.The light energy projected from the light source then passes through the mask or reticle to expose the photoresist applied onto the wafer.
이때, X-스테이지(16) 및 Y-스테이지(18) 표면에 형성된 가이드 레일 상에 삽입된 니들베어링은 공정이 오랫동안 연속됨에 따라 잘 회전되지 않게 된다.At this time, the needle bearings inserted on the guide rails formed on the surfaces of the X-stage 16 and the Y-stage 18 do not rotate well as the process continues for a long time.
그러므로, 약 600시간 정도의 공정시간이 경과되면, 작업자는 바늘이 달린 주유기를 이용하여 각 스테이지 상에 형성된 가이드 레일에 오일을 주유한 후 다시 공정을 진행한다.Therefore, when the processing time of about 600 hours has elapsed, the operator uses a needle oiler to supply oil to guide rails formed on each stage, and then proceeds with the process again.
그러나, 약 600시간이 경과되기 이전에도 가이드 레일 상부는 오일이 부족하여 니들베어링이 잘 회전되지 않는 경우가 많고 또한 작업자가 직접 주유기를 이용하여 오일을 주유하므로 작업이 번거로운 문제점이 있었다.However, even before about 600 hours, the upper part of the guide rail often lacks oil so that the needle bearing is not rotated well, and the operator directly oils the oil by using an oil dispenser.
또한, 작업자가 실수로 가이드 레일에 스크래치(Scratch)를 발생시키면, 이로 인하여 가이드 레일 상에 스테이지가 잘 이동되지 못하는 문제점이 있었다.In addition, if the operator accidentally generates a scratch (Scratch) on the guide rail, there was a problem that the stage is not moved well on the guide rail.
본 발명의 목적은, 일정시간이 경과되면 자동적으로 스테이지 상에 형성된 가이드 레일 상에 오일이 공급될 수 있는 반도체 노광설비의 웨이퍼 스테이지 오일 공급장치를 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a wafer stage oil supply apparatus of a semiconductor exposure apparatus, in which oil can be supplied on a guide rail formed on a stage automatically after a predetermined time has elapsed.
도1은 일반적인 반도체 노광설비 웨이퍼 스테이지의 사시도이다.1 is a perspective view of a typical semiconductor exposure apparatus wafer stage.
도2는 본 발명에 따른 반도체 노광설비의 웨이퍼 스테이지 오일 공급장치의 일 실시예를 설명하기 위한 구성도이다.2 is a block diagram illustrating an embodiment of a wafer stage oil supply apparatus of a semiconductor exposure apparatus according to the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
10 : X-모터 12 : 웨이퍼 홀더10: X-motor 12: wafer holder
14 : Y-모터 15 : 스테이지 상층부14: Y-motor 15: upper stage stage
16 : X-스테이지 18 : Y-스테이지16: X-stage 18: Y-stage
20 : 오일공급원 22 : 센서20: oil supply source 22: sensor
24 : 오일필터 26 : 전자밸브24: oil filter 26: solenoid valve
28 : 전자타이머 30 : 주유기28: electronic timer 30: lubricator
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 노광설비의 웨이퍼 스테이지 오일 공급장치는, 일정량의 오일이 담긴 오일공급원, 상기 오일공급원과 연결되는 전자밸브, 상기 전자밸브의 개폐동작을 제어하는 제어수단 및 상기 전자밸브와 연결되는 주유기를 구비하여 이루어진다.The wafer stage oil supply apparatus of the semiconductor exposure apparatus according to the present invention for achieving the above object, the oil supply source containing a certain amount of oil, the solenoid valve connected to the oil supply source, the control means for controlling the opening and closing operation of the solenoid valve and It is provided with a lubricator connected to the solenoid valve.
상기 오일공급원과 상기 전자밸브 사이에 필터가 더 설치되고, 상기 오일필터와 전자밸브 사이에 펌프가 더 구비됨이 바람직하다.A filter is further installed between the oil supply source and the solenoid valve, and a pump is further provided between the oil filter and the solenoid valve.
또한, 상기 오일공급원 일측에는 센서가 더 설치됨이 바람직하다.In addition, it is preferable that a sensor is further installed at one side of the oil supply source.
또한, 상기 제어수단은 일정시간이 경과되면 전기적 신호를 상기 전자밸브에 인가하여 상기 전자밸브를 개폐시키도록 구성됨이 바람직하다.In addition, the control means is preferably configured to open and close the solenoid valve by applying an electrical signal to the solenoid valve when a predetermined time elapses.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도2는 본 발명에 따른 반도체 노광설비의 웨이퍼 스테이지 오일 공급장치의 일 실시예를 설명하기 위한 구성도이다.2 is a block diagram illustrating an embodiment of a wafer stage oil supply apparatus of a semiconductor exposure apparatus according to the present invention.
도2를 참조하면, 일정량의 오일이 담기고, 일측에 센서(22)가 설치된 오일공급원(20)과 오일필터(24)가 수직적으로 연결되어 있다.Referring to Figure 2, a certain amount of oil is contained, the oil supply source 20 and the oil filter 24 is installed vertically connected to the sensor 22 on one side.
상기 센서(22)는 레벨센서로서 오일공급원(20)에 일정량 이하의 오일이 남게 되면 센싱신호를 제어부(도시되지 않음)에 인가하여 제어부의 제어에 의해서 알람(Alarm)신호가 인가되도록 되어 있다.The sensor 22 is a level sensor, when oil below a predetermined amount is left in the oil supply source 20, a sensing signal is applied to a controller (not shown), so that an alarm signal is applied by the control of the controller.
또한, 오일필터(22)와 전자밸브(26) 그리고 주유기(30)가 수직적으로 연결되어 있다.In addition, the oil filter 22, the solenoid valve 26 and the lubricator 30 are vertically connected.
그리고, 전자밸브(26)와 전자타이머(28)가 연결되어 있다.The solenoid valve 26 and the solenoid timer 28 are connected.
상기 전자타이머(28)는 액정표시장치(Liquid Crystal Display Device)로 되어 있으며, 250 시간 내지 350 시간, 바람직하게는 300시간이 경과되면 전자밸브(26)에 3초동안 3번의 개폐신호를 인가하도록 되어 있다.The electronic timer 28 is a liquid crystal display device. When the 250 to 350 hours, and preferably 300 hours, the electronic timer 28 is applied to the solenoid valve 26 three times for three seconds. It is.
따라서, 전자타이머(28)에 설정된 300시간이 경과되면, 전자타이머는 전기적신호를 전자밸브(26)에 인가한다.Therefore, when 300 hours set in the electronic timer 28 elapses, the electronic timer applies an electrical signal to the solenoid valve 26.
이에 따라서 전자밸브(26)는 3초동안에 3번의 개폐동작을 수행한다.Accordingly, the solenoid valve 26 performs three opening and closing operations in three seconds.
따라서, 오일공급원(20)에서 공급되는 오일은 중력에 의해서 오일필터(24)를 통과하면서 필터링되어 전자밸브(26)를 통과하게 된다.Therefore, the oil supplied from the oil source 20 is filtered while passing through the oil filter 24 by gravity and passes through the solenoid valve 26.
전자밸브(26)를 통과한 오일은 주유기(30)를 통해서 노광설비의 스테이지 상부에 형성된 가이드 레일 표면에 삽입된 복수개의 니들베어링에 충분히 공급된다.The oil passing through the solenoid valve 26 is sufficiently supplied to the plurality of needle bearings inserted into the guide rail surface formed on the stage of the exposure apparatus through the lubricator 30.
만일, 오일공급원(20)에 담긴 오일이 감소되어 일정량 이하가 되면, 오일공급원(20) 일측에 설치된 센서(22)는 센싱신호를 제어부에 인가하게 되고, 이에 따라서 제어부에서는 알람을 울리게 된다.If the oil contained in the oil supply source 20 is reduced to a predetermined amount or less, the sensor 22 installed at one side of the oil supply source 20 applies a sensing signal to the control unit, and accordingly, the control unit sounds an alarm.
다른 실시예로서, 오일공급원(20)과 필터(24), 전자밸브(26) 그리고 주유기(30)가 수평적으로 위치하게 되면, 필터(24)와 전자밸브(26) 사이에 펌프를 추가로 설치하여 높은 압력으로 주유기(30)를 통해서 오일을 방출할 수 있다.In another embodiment, when the oil source 20 and the filter 24, the solenoid valve 26 and the lubricator 30 are positioned horizontally, a pump may be further added between the filter 24 and the solenoid valve 26. It can be installed to discharge the oil through the lubricator 30 at a high pressure.
따라서, 본 발명에 의하면 공정시간이 약 300시간이 경과되면, 자동적으로 오일이 스테이지 상부에 형성된 가이드 레일 상에 공급되므로 가이드 레일의 오일부족에 의해서 니들베어링이 잘 회전되지 못하는 문제점을 해결할 수 있으며, 자동적으로 오일이 공급됨에 따라서 작업자가 직접 오일을 공급하여야 하는 번거로움을 해결할 수 있고, 작업자의 실수로 가이드 레일이 스크래치되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.Therefore, according to the present invention, when the process time is about 300 hours, the oil is automatically supplied on the guide rail formed on the upper stage, it is possible to solve the problem that the needle bearing is not rotated well due to lack of oil of the guide rail, As the oil is automatically supplied, it is possible to solve the trouble of having to supply the oil directly, and to prevent the operator from accidentally scratching the guide rail.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the present invention has been described in detail only with respect to the described embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the technical scope of the present invention, and such modifications and modifications are within the scope of the appended claims.
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