KR100212414B1 - 액정 장치와 구동 방법 - Google Patents

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야스아끼 다께다
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유끼오 하니우
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미따라이 하지메
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Abstract

액정 장치는 매트릭스 형태로 배열된 주사 전극과 데이타 전극을 각각이 갖고 있는 한쌍의 기판 및, 이들 기판 사이에 배치되어 있으며 액정에 인가된 외부 전계의 변화에 따라서 누적 병진 운동을 발생하는 액정을 구비하는 액정 소자와, 액정의 병진 운동의 방향이 반대 방향으로 전환되는 반전 주파수를 나타내는 제2주파수(f0)가 제1주파수(f)의 가변 범위내에 있게 되도록 액정에 인가된 구동 데이타 신호 펄스의 유효 주파수를 나타내는 가변 저항의 제1주파수를 제어하는 구동 수단으로 구성된다.
액정 장치에 사용된 상기 구동 수단은 긴 시간동안 액정 분자의 누적 병진운동을 억제하는데 효과적이다.

Description

액정 장치와 구동 방법
제1(a)도 및 제1(b)도는 치럴(chiral) 스메틱(smectic ; 강유전) 액정 분자에 대한 운동 방향과 하나의 안정 상태(U1, U2) 사이의 관계의 실시예를 각각 나타내는 개략도.
제2(aa)-2(ad)도 및 제2(ba)-2(bd)도는 U1 상태 또는 U2 상태를 제공하는 동안 하나의 선 기록 기간에서 데이타 신호의 구동 파형의 실시예를 각각 나타내는 도면.
제3도는 본 발명에 이용된 액정 소자의 실시예를 나타내는 개략 단면도.
제4(a)도 및 제4(b)도는 액정 분자의 운동율을 측정하기 위한 액정 셀의 실시예를 각각 나타내는 개략 평면도.
제5도는 액정 운동 현상의 실시예를 나타내는 개략 평면도.
제6도는 액정 운동율의 주파수 의존도와 액정 운동율의 전압 의존도를 나타내는 그래프.
제7도는 내구성 시험에서 셀 두께 변화를 평가하기 위한 디스플레이 패턴을 나타내는 개략 단면도.
제8도는 제7도에 도시한 영역(74)에서 시간에 대한 주사선수의 변화를 나타내는 그래프.
제9도는 이하의 제1실험예에서 구동 데이타 신호 주파수와 액정 운동율 사이의 관계를 나타내는 그래프.
[발명의 목적]
[발명이 속하는 기술분야 및 그 분야의 종래기술]
본 발명은 예를 들어 텔레비전 수신기와, 비디오 카메라용 뷰 파인더, 컴퓨터용 터미널 모니터, 액정 프린터용 광 밸브 및 프로젝터 등에 사용되는 액정 소자를 포함하는 액정 장치와 그와 같은 액정 소자의 구동 방법에 관한 것이다.
TN(비틀림 네마틱) 액정을 사용하는 수동 매트릭스 구동형의 액정 디스플레이 소자는 상대적으로 적은 비용으로 제조될 수 있는 소자로서 알려져 있다. 그러나, TN 액정을 사용하는 수동 매트릭스 구동형 액정 소자는 구동선 수의 증가에 따라 콘트라스트의 저하 또는 누화의 발생에 기인하는 일정한 관계를 갖기 때문에, 예를 들어 액정 텔레비젼 패널과 같이 다수의 구동선과 높은 리솔루션(resolution)을 요구하는 디스플레이로서 적당하다고 말할 수 없었다.
종래 TN 액정 소자의 그런 기본적인 문제를 해결한 액정 소자의 형태로서, 클라크와 라거월(미국 특허 제4,367,924호에 대응하는 일본 공개 특허 출원(JP-A) 56-107216)이 개발한 표면 안정화 강유전 액정 소자(SSFLD)가 제안되고 있다. 표면 안정화 강유전 액정 소자에서, 그 동작 상태에서 치럴 스메틱(C ; SmC*) 위상 또는 치럴 스메틱(H ; SmH*)과 같이 치럴 스메틱 위상을 나타내는 액정은 강유전 물질에 대한 편광 영역 특이성을 나타내기 위해 작은 셀 갭을 갖는 한쌍의 기판 사이에 끼워져 있어 고속 응답과 쌍안정성을 실현한다. 다시 말해, SSFLCD는 치럴 스메틱 액정 소자중 하나다. SSFLCD에서, 치럴 스메틱 액정 분자는 자신에 인가된 전계에 응답하여 2개의 안정 상태중 한 상태를 취하고, 충분한 전계가 부재한 경우에는 쌍안정 메모리 특성이라고 하는 그런 상태를 유지하는 특성을 나타내며, 또한 전계 변화에 대한 빠른 응답성을 갖는다.
그런 쌍안정 상태(2개의 안정한 상태) 사이에 액정 분자의 스위칭을 이용하는 액정 소자를 제공함으로써, 종래의 비틀림 네마틱(TN) 액정을 사용하는 액정 소자가 갖고 있었던 근본적인 문제점이 해결되었다. 또한, 편광자와 함께 SSFLCD를 사용함으로써, SSFLCD는 고속 응답과 메모리 특성을 나타내는 디스플레이 소자로서 널리 사용되리라 기대되고 있다.
또한 최근, 3개의 안정 상태를 취하는 치럴 스메틱 반유전 액정 소자(잔다니, 다께조에 등 ; 일본 응용 물리학 잡지 27권 L729 페이지(1988))가 제의되어 왔다.
상술된 SSFLCD의 구동 방법으로서, 메모리 특성을 이용하는 단순 매트릭스-어드레스 구동 체계가 일반적으로 사용된다. 이 체계에 따르면, SSFLCD에서 다수의 주사 전극들과 다수의 데이타 전극들은 치럴 스메틱 액정에 대한 다중 구동을 실현하기 위하여 매트릭스 형태로 배열되어 있다. 특히, 주사 신호는 관련된 데이타 전극들에 데이타 신호가 제공됨과 동기하여 주사 전극들에 연속적으로 제공된다.
상술된 액정 소자(SSFLCD)가 단순 매트릭스-어드레스 구동 체계를 이용하므로써 구동되는 경우에, 디스플레이 상태를 결정하는 데이타 신호는 데이타 전극들에 제공되고, 사용된 데이타 신호 펄스에 대해 충격 계수에 의해 결정된 기간(시간 사이클)으로 기록 시간(기록 시간)을 지정하는 주사 신호는 주사 전극들에 연속적으로 제공된다. 선택 기간에서 각 픽셀의 디스플레이 상태는 주사 신호와 데이타 신호의 결합(합성) 신호에 따라 결정된다. 다른 한편, 선택기간과 비선택 기간에 상관없이, 각 픽셀은 데이타 신호 인가에 의한 전계 변화의 영향을 항상 받는다.
일정하게 변하는 전계와 액정 분자의 자연 발생 분극간의 상호 작용에 의한 반전을 일으키지 않을 정도로 액정 분자가 콘(cone ; 액정 분자가 배치될 수 있는 콘 형상의 평면)상에서 미세하게 진동함으로써, 액정 분자의 중력 중간의 병진 운동(하나의 선 또는 방향으로의 일정한 움직임 불규칙 운동)이 생긴다는 것이 분명해졌다. 보다 상세하게는, 제1(a)도 및 제1(b)도에 도시된 바와 같이, 액정 분자의 각각은 2개의 안정한 상태중 하나, 즉 U1 상태(제1(a)도) 도는 U2 상태(제1(b)도)를 취한다. 제1(a)도에 도시된 U1상태에서 액정 분자는 12a 방향 또는 12b 방향으로 움직이고, 제1(b)도에 도시된 U2 상태에서 액정 분자는 13a 방향 또는 13b 방향으로 움직인다. 이들 방향(12a, 12b, 13a, 13b)은 단축 얼라이닝(uniaxial aligning) 처리(예를 들어, 러빙(rubbing))축의 방향(11)에 대해 수직이다. 본 발명에서, 방향(12a, 13a)은 U1 상태에서, 포지티브 방향으로, U2 상태에서는 포지티브 방향으로 각각 주어진다.
상술된 누적 병진 운동(cumulative translational movement)에 기인하여, 기판들 사이에 끼워진 액정은 소자의 주변부 또는 기록 영역의 끝부분에서 누적되어 셀 두께(액정층의 두께)가 증가된다. 감속(복굴절성을 기초로 한 위상차 ;nd)이 증가된 결과로서, 전송된 광의 파장 분포가 옐로우(yellow ; 옐로우잉(현상)이라 함)를 취하는 파형 길이 범위로 시프트된다. 전송된 광 스펙트럼의 변화 결과로 생기는 이 옐로우 현상에 기인해 디스플레이 질은 저하된다. 상술된 셀 두께의 증가량이 클 경우에, 액정에 공급되는 유효 전계는 낮아져서 디스플레이 패널 내에 디스플레이 요철(display unevenness)이 발생한다.
상술된 액정 운동을 최소화하거나 억제시키기 위해, 다음과 같은 몇몇 방법을 포함하는 것이 제안되어 있다 : 액정 운동의 셀 두께 의존성을 이용하는 방법(JP-A 7-56176), 요철 표면 기판을 기초한 표면 모양 의존성을 이용하는 방법(JP-A 5-273537), 액정의 얼라인먼트 상태가 영역에 의존해 대응적으로 변화하는 방법(일본 특허 출원 제7-102221호).
이들 방법에서, 액정 셀의 구조적 부재 또는 구조적 요소는 액정 운동의 문제를 해결하기 위해 변형 또는 조정되고 있어 왔다.
그러나 연구에 따르면, 액정의 운동 방향은 구조적 부재(요소)뿐만 아니라, 구동 온도, 구동 주파수 및 구동 전압 등과 같은 액정 소자의 구동 조건 또는 액정재료에 의해 변화된다는 것이 밝혀졌다.
또한, 데이타 전극들에 제공된 데이타 신호는 파형 패턴과 주파수가 액정 소자의 디스플레이 상태에 대응되게 바뀐다. 상술된 바와 같이, 액정 운동은 공급된 데이타 신호의 전계의 변화에 의해 생기고, 액정 운동량과 액정의 운동 방향은 디스플레이 상태 또는 디스플레이 패턴의 변화에 대응해 변화된다.
따라서, 액정 운동 현상의 제어 목적을 위해 셀 구조를 설계할 경우에, 디스플레이 패턴과 구동 파형을 고려하면서 액정 셀(소자)의 최적화 구성을 효과적으로 하는 것이 필요하다.
[발명이 이루고자 하는 기술적 과제]
본 발명의 목적은 액정 소자, 특히 디스플레이 질을 저하시키는 옐로우 현상을 막고, 감소된 디스플레이 요철을 제공하기 위해 액정 운동 현상이 억제되거나 최소화되는 치럴 스메틱 액정 소자를 포함하는 액정 장치를 제공하는데 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 디스플레이 패턴과 구동 파형 사이의 관계를 고려해 액정 운동량이 억제되거나 최소화되는 액정 소자를 포함하는 액정 장치를 제공하는데 있다.
또한, 본 발명의 목적은 상술된 액정 소자를 위한 구동 방법을 제공하는데 있다.
[발명의 구성 및 작용]
본 발명에 따른 액정 장치는, 매트릭스 형태로 배열된 데이타 전극과 주사 전극을 각각이 갖는 한쌍의 기판과, 이들 기판 사이에 배치되어 액정에 공급된 외부 전계의 변화에 따라 누적 병진 운동을 일으킬 수 있는 액정을 포함하는 액정 소자, 및 액정의 병진 운동 방향이 반대 방향으로 바뀌는 반전 주파수를 나타내는 제2주파수(f0)가 제1주파수(f)의 가변 범위에 있도록 액정에 공급된 구동 데이타 신호 펄스의 유효 주파수를 나타내며, 가변 범위를 가지는 제1주파수(f)를 제어하기 위한 구동 수단을 구비한다.
또한 본 발명에 따르면, 매트릭스 형태로 배열된 주사 전극과 데이타 전극을 각각이 갖고 있는 한쌍의 기판과, 이들 기판 사이에 배치되어 액정에 공급된 외부 전계의 변화에 따라 누적 병진 운동을 일으킬 수 있는 액정을 포함하는 형태의 액정 소자를 위한 구동 방법이 제공되는데, 상기 구동 방법은
액정의 병진 운동 방향이 반대 방향으로 바뀌는 반전 주파수를 나타내는 제2주파수(f0)가 제1주파수(f)의 가변 범위에 있도록 액정에 공급된 구동 데이타 신호펄스의 유효 주파수를 나타내며, 가변 범위를 가지는 제1주파수(f)를 제어하는 방법을 포함한다.
상기와 같은 본 발명의 목적, 특징 및 장점은 도면을 참조하여 이하 설명되는 본 발명의 양호한 실시예로부터 보다 명확하게 이해할 수 있을 것이다.
본 발명은, 액정 분자가 2개의 안정한 상태(제1도에 도시된 U1과 U2 상태)중 어느 한 상태에 있다 할지라도, 액정 분자의 누적 병진 운동 방향이 구동 데이타 신호 펄스(이후, 가끔 반전 주파수로 언급됨)의 어떤(제2) 주파수(f0)에서 반대 방향으로 바뀌었다는 사실에 근거하고 있다.
상기 지식을 기초로, 액정 소자가 반전 주파수(f0)가 존재하는 가변 범위를 가지는 구동 데이타 신호의 유효(제1) 주파수(f)를 사용하여 구동될 때, 액정 운동을 효과적으로 막을 수 있다는 것이 발견되었다.
본 발명의 양호한 실시예에서, 사용된 액정 소자에는 상술된 바와 같이 액정 운동을 막기 위한 종래의 방법(예를 들어, 셀 갭 제어, 요철 기판 표면의 사용, 적당한 액정 재료의 사용)을 채용할 수 있다.
본 발명에 있어서, 제3주파수(f1)가 방정식 f1=yx1/(1H)을 만족할 때 여기서, y는 z/2y(z+1)/2(여기서, z은 1H 기간에서 데이타 신호 포텐셜의 부호(+ 또는 -)의 변화수를 나타냄)의 관계를 만족하는 자연수를 나타내고, 1H는 1개 선 기록을 위한 선택 기간(1개 선 기록을 위해 요구된 시간)을 나타낸다), 제3주파수(f1)와 제2주파수(반전 주파수 ; f0)는 양호하게 다음의 관계를 만족한다. :
이 관계는, 플리커 현상을 최소화하기 위해, 원하는 바대로 상술된 바와 같이 제2aa-2ad도에 도시된 바와 같은 짝수 함수 파형이 되는 1H 기간에서의 데이타 신호의 구동 파형 단위와 제2(ba-2(bd)도에 도시된 바와 같은 홀수 함수 파형이 되는 1H기간에서의 데이타 신호의 구동 파형 단위가 적당하게 선택된 다중 구동 체계(multiplexing driving scheme)에 의해 액정 소자가 구동되는 경우에 양호하게 채용된다.
또한, 제3주파수(f1)는 방정식 f1=yx(프레임 주파수)/(충격 계수)를 만족한다. 다른 한편, 제2(반전) 주파수(f0)는 이후가 서술되는 방법으로 완전한 액정 소자 또는 액정 소자의 일부분을 사용하여 구동 시험을 실행함으로써 결정될 수 있다.
또, 1H 기간의 데이타 신호의 구동 파형 단위가 제2(aa)-2(ad)도에 도시된 바와 같은 짝수 함수 파형인 다중 구동 체계에 의해 액정 소자가 구동된 경우에, 제2와 제3주파수(f0, f1)는 다음의 관계를 양호하게 만족한다 :
또한, 1H 기간의 데이타 신호의 구동 파형 단위가 제2(ba)-2(bd)도에 도시된 바와 같은 홀수 함수 파형인 다중 구동 체계에 의해 액정 소자가 구동된 경우에, 제2와 제3주파수(f0, f1)는 다음의 관계를 양호하게 만족한다 :
여기서, 짝수 함수 파형은 제2(aa)-2(ad)도에 도시된 바와 같이 z짝수(z : 상기 정의된 바와 같이 1H 기간에서 데이타 신호 포텐셜의 부호가 변한 횟수)를 의미하고, 홀수 함수 파형은 제2(ba)-(bd)도에 도시된 바와 같이 z홀수를 갖는 구동 신호 파형을 의미한다. 예를 들어, 제2(a)도(짝수 함수 파형)에 도시된 U1 상태를 제공하기 위한 데이타 신호 파형은 데이타 신호 포텐셜의 부호의 변화를 포함한다 : (+)(-)(+)를 포함하므로 부호의 변화수는 2(짝수)로 된다.
상술된 제2와 제3 주파수들(f0과 f1) 사이, 그리고 제1과 제2 주파수들(f와 f0)사이의 관계를 만족하도록 데이타 신호 펄스의 주파수들을 제어할 수 있는 구동 수단을 사용함으로써, 디스플레이 패턴이 변화되었다 할지라도 패널에서의 셀 두께 증가에 수반되는 최소화된 디스플레이 불규칙성과 높은 신뢰성을 갖는 치럴 스메틱 액정 소자를 사용하여 액정 장치를 제공하는 것이 가능하다.
연구 결과, 액정 운동이 주파수, 전압, 및 구동 파형의 바이어스 율과 같은 다양한 인자들에 의해 영향 받지만, 액정 운동의 방향은 사용된 구동 파형의 주파수에 의해 크게 영향을 받는다는 것을 확인하였다. 또한, 반전 주파수(f0)가 셀 두께, 기판의 표면 모양(예를 들어, 요철 모양), 프리틸트(pretilt) 각, 얼라인먼트 제어막용 재료, 액정 재료, 온도 등에 의해 변화되기 쉽다는 것을 발견했다. 따라서, 셀 두께 변화(증가)를 일으키지 않도록 액정의 운동율을 제어하기 위해, 상기 구조적 부재(또는 구조적 요소)가 최적으로 선택되었다 할지라도 구동 주파수에 대한 온도 제어를 실행하는 것이 필요하다.
그러나, 기록 상태가 단순 매트릭스 어드레스형 구동 체계에 의해 제어되는 경우에, 구동 주파수는 온도에 관해서 고정되고, 데이타 신호의 주파수는 데이타 전극의 기록 패턴의 영향을 받아 변화된다. 이런 점에서 볼 때 구동 주파수를 결정하는 것은 중요하다.
제1도에 도시된 바와 같이, U1 상태(또는 U2 상태)에서 포지티브 운동 방향(12a ; 또는 13a)은 단축 방향으로 배향된 액정층의 방향과 평행하고, 이들 포지티브 운동 방향(12a ; U1 상태에서, 13a ; U2 상태에서)은 서로 반대이다. 또한, 2개의 안정한 상태(U1 과 U2 상태)중 하나가 구동 파형을 적당하게 선택하므로써 층 방향으로 연속해서 제공될 경우에, 각 액정 분자의 운동 방향은 액정 패널(디스플레이 영역)내에서 서로 상쇄되지 않는다. 결과적으로, 많은 액정 분자는 액정층의 끝부분에 집중 즉 축적되므로 셀 두께가 현저하게 증가한다. 이 현상은 단축 얼라인먼트 처리를 실행하는 경우에 두드러지므로 액정층은 층 방향으로의 기록 길이가 최대로 되기 때문에 직각의 디스플레이 패널의 대각선 방향에 형성된다.
연구에 따르면, 액정 운동 현상의 발생은, 이 현상이 안정한 상태를 반전시키지 않은 미세 가변 전계에 의해 나타나기 때문에, 하나의 안정한 상태로부터 다른 안정한 상태로의 액정 분자의 반전을 필수적으로 요구하지 않는다. 따라서, 액정 운동 현상은 주사 신호의 비선택 기간에 픽셀내의 액정 분자들에 가해지는 데이타 신호 진폭의 원인이 될 수 있다. 이런 이유 때문에, 액정층의 어떤 장소에서, 하나의 선 기록 기간이 고정되어 있을지라도 데이타 신호가 공급되는 전극(즉, 데이타 전극)의 연장 방향으로의 디스플레이 패턴의 변화에 의해 대응되게 변화되므로, 주파수가 변하게 된다. 결과적으로, 이 때 액정 운동 특성이 또한 변화된다.
데이타 전극 방향에서 주파수 변화의 경향은 다음과 같이 데이타 신호 파형 단위의 2 형태 사이에서 다르다.
앞쪽의 H/2 기간 동안의 제1 성분 파형과 뒤쪽의 H/2기간 동안의 제2 성분파형이 앞쪽의 H/2 기간의 경과를 나타내는 점을 가로지르도록 취해진 수직선에 대해 실질적으로 대칭되어 있는, 제2(aa)-2(ad)도에 도시된 바와 같이 1H 기간의 데이타 신호의 구동 파형 단위가 짝수 함수(또는 거의 짝수 함수) 파형일 경우에, 데이타 신호의 주파수는 U1 과 U2 상태 사이의 경계가 데이타 전극의 방향으로의 기록 패턴으로 증가될 때 증가된다.
이 경우에, 주파수는 그 최저값의 최대 1.5배로 변화된다. 다시 말해, 제1주파수(데이타 신호 펄스의 유효 주파수 ; f)는 데이타 전극 방향으로의 기록 펄스의 변화에 따라서 f1내지 1.5f1(f1: 제3주파수)의 범위내에서 변화된다.
앞쪽의 H/2 기간 동안의 제1 성분 파형과 뒷쪽의 H/2 기간 동안의 제2 성분파형이 앞쪽의 H/2기간의 경과를 나타내는 점에 대해 실질적으로 대칭으로 되어 있는 제2(ba)-2(bd)도에 도시된 바와 같이 1H 기간의 데이타 신호의 구동 파형 단위가 홀수 함수(또는 거의 홀수 함수) 파형일 경우에, 데이타 신호의 주파수는 U1 과 U2 상태 사이에 경계가 데이타 전극의 방향으로의 기록 패턴으로 증가될 때 감소된다. 이 경우, 주파수는 그 최고값의 최대 0.5배로 변화된다. 다시 말해, 제1주파수(데이타 신호 펄스의 유효 주파수 ; f)는 데이타 전극 방향으로의 기록 펄스의 변화에 따라서 0.5f1내지 f1(f1: 제3주파수)의 범위내에서 변화된다.
상술된 바와 같이, 플리커링(flickering)을 억제하기 위해 홀수 함수 파형과 짝수 함수 파형을 조합하여 사용하는 것이 가능하다. 이 경우에, 제1주파수(f)는 0.5f1내지 1.5f1의 범위내에서 변화된다.
상기 특성, 즉 제1주파수(f)의 데이타 전극 방향으로의 기록 패턴 의존성은 데이타 전극 방향으로의 픽셀수(즉, 데이타 전극 방향에서 디스플레이 영역의 분할수)의 증가와 함께 커진다. 따라서, 이런 경향은 데이타 전극과 액정층의 법선 방향이 서로 밀접한 경우에 더 나타난다.
하기에, 제3도를 참조하여 본 발명에 사용된 액정 소자의 실시예를 보다 상세하게 설명할 것이다.
제3도는 치럴 스메틱 액정 소자의 실시예를 나타내는 개략 단면도를 도시한다.
제3도를 보면, 한쌍의 기판(31a, 31b)은 예를 들어, 주석 산화물, 인듐 산화물, 및 인듐 주석 산화물(ITO)과 같은 산화물을 포함하는 ca. 40-300nm 두께의 투명 전극(32a, 32b)으로 코팅된다. 투명 전극(32a, 32b)상에서, 기판 사이의 단락 회로를 막기 위해 ca. 10-300nm 두께의 절연막(33a, 33b)이 형성된다. 절연막(33a, 33b)은 ZnO, ZrO, TaOx와 같은 산화물을 포함하고, 요구에 따라 이들 중 하나 또는 둘을 빼도 된다. 절연막(33a, 33b)의 각각은, 예를 들어, 습식 코팅과, 열경화에 의해 형성된 단일층내에 또는 상위층이 스퍼터링에 의해 하위층상에 형성된 복합층내에 형성될 수 있다. 절연막(33a, 33b ; 또는 투명 전극(32a, 32b))상에, 얼라인먼트 제어막(34a, 34b)이 ca. 5-100nm의 두께로 형성된다. 적어도 얼라인먼트 제어막(34a, 34b)중 하나는 나일론 또는 폴리이미드와 같은 유기 폴리머의 막을 양호하게 포함할 수 있으며, 이는 러빙(rubbing)과 같은 단축 얼라인먼트 처리된 것이다. 얼라인먼트 제어막(34a, 34b)중 하나는 예를 들어 단축 얼라인먼트 처리로 되지 않은 폴리실록산의 막일 수 있다. 안정한 요철 표면을 갖는 얼라인먼트 제어막을 제공하기 위해, 미세 입자가 절연막 및/또는 얼라인먼트 제어막내로 혼합된다. 이렇게 처리된 기판(31a, 31b)은 요구된 바와 같이 스페이서 비이드(36 ; spacer beads), 접착 비이드(도시하지 않음), 밀폐제(도시하지 않음)을 사용함으로써 규정된 스페이스를 두고 서로에게 대향 배치된다. 상기 스페이스내에, 치럴 스매틱 액정(35)은, 양호하게는 3쌍 안정 상태를 띠는 강유전 액정 또는 삼안정 상태를 띠는 반강유전 액정이 채워져서 액정 셀이 형성된다. 액정 셀 바깥쪽에는, 한쌍의 편광자(37a, 37b)가 배치된다.
액정 소자의 유효 광학 변조 영역(또는 디스플레이 영역)에서, 액정 분자는 적어도 10도 또는 기껏해야 5도의 프리틸트 각을 제공할 수 있다.
치럴 스매틱 액정(35)은 양호하게는 패닐피리미딘 염기 액정 재료와 치럴 포던트의 적어도 한 종류로 구성되는 치럴 스매틱 액정 조성물로서 규정될 수 있다. 치럴 스매틱 액정(35)은 양호하게는 치럴 스매틱 C(SmC*)위상, 치럴 스매틱 H(SmH*)위상, 치럴 스매틱 I(SmI*)위상, 치럴 스매틱 K(SmK*) 위상 또는 치럴 스매틱 G(SmG*)위상과 같은 치럴 스매틱 상태를 취할 수 있으나, 그중에서도 그의 동작 상태에서는 SmC*위상을 취할 수 있다.
본 발명의 특히 양호한 실시예에서, 치럴 스매틱 액정(35)은 SmC*위상의 더 높은 온도측에서 콜레스터리(Ch) 위상과 스매틱 A(SmA) 위상을 갖는다. 그런 액정에서, 액정이 등방성 위상(Iso.)으로부터 점진적으로 냉각될 때, 액정 분자의 방향(긴축 방향)은 Ch 위상과 SmA 위상에서 한 방향으로 균일하게 방향지어지고, 액정 분자 방향에 대해 수직인 방향으로 연장하는 층 구조가 형성되고 나서, SmC*위상에서 액정 분자 방향이 그 본래 방향에 대해 기울거나 또는 굽혀지며, 그 결과 액정 분자에 대한 다수의 순서가 연속적인 형태로 되어 있기 때문에 얼라인먼트 상태가 균일하게 된다. 이런 이유로, 다음과 같은 일련의 위상 천이와 물리적 특성을 갖는 파리미딘 염기 액정 혼합물A(이 다음에 설명될 제1 내지 제7실험예에서 사용될 수 있다.
본 발명에서, 치럴 스매틱 액정(35)은 예를 들어 Ch 위상이 결여된 또 다른 천이열을 갖을 수 있다. Ch 위상이 결여된 액정 재료의 부족 Ch 위상의 예로는 미국 특허 제 5,082,587,WO-A 93/22396 등에 기재되어 있는 바와 같이 플루오린-함유 액정 조성물(fluorine-containing liquid crystal)의 적어도 한 종류를 포함하는 액정 조성물을 포함한다.
상술된 액정 소자는 디스플레이 소자(본 발명의 액정 장치의 매체, 이에 대한 한 실시예가 이하 설명된)에 이용된다.
일반적으로 액정 장치는 그래픽 제어기, 디스플레이 패널로서 상술된 액정소자, 주사 신호를 제공하는 주사선구성 수단(회로), 데이타 신호를 공급하기 위한 데이타선 구동 수단(회로), 디코더, 주사 신호 발생기, 시프트 레지스터, 선 메모리, 데이타 신호 발생기, 구동 제어 회로, 그래픽 중앙 처리 장치(GCPU), 호스트 처리장치(host CPU) 및 이미지 데이타 저장 메모리(VRAM)를 포함한다.
이미지 데이타는 장치 몸체에 있는 그래픽 제어기에서 발생되어 신호 전달 수단에 의해 디스플레이 패널로 전송된다.
그래픽 제어기는 주로 GCPU와 VRAM을 구비하며, 호스트 CPU와 액정 디스플레이 장치 사이에서 이미지 데이타를 관리하고 통신하는 역할을 한다. 디스플레이 장치의 제어는 주로 그래픽 제어기에 의해 실행된다. 광 소스는 디스플레이 패널 뒤에 배치된다.
본 발명의 액정 장치가 디스플레이 패널(매체)로서 치럴 스매틱 액정 소자를 사용할 때, 액정 장치는 뛰어난 구동 특성과 신뢰성을 나타내고, 고속으로 광역 디스플레이 이미지와 높은 명료도를 제공한다.
하기에, 실험예를 참조하여 본 발명이 보다 명료하게 설명될 것이다.
다음의 실험예들에서, 액정 분자의 운동율과 셀 두께 증가에 대한 평가는 다음의 방법으로 실행된다.
[액정 운동율]
제4도는 상위 기판(41)이 데이타선(전극 ; 43)에 접속되고, 하위 기판(42)이 주사 선(전극 ; 44, 45)에 접속된 액정 분자의 운동율을 측정하기 위한 액정 셀을 도시한다. 다수의 길다란 액정층은 미리 단축 얼라인닝 축에 의해 결정된 층 법선 방향(46)에 대해 수직이다.
상기 셀에서, 밀폐제는 액정 재료의 직사각형 실링 영역의 4측면의 층 법선에 수직한 평행한 두 측면에 배치된다. 실링 영역으로, 치럴 스매틱 액정은 채워지고, 실링 영역의 두 끝부분의 각 개구부에서 약 1mg의 네마틱 액정(51) Merck 컴패니에 의해 제조된 ZLI-1132은 제4(a)도와 제5도에 도시된 바와 같이, 샘플 액정 셀을 준비하기 위해 공급된다.
이후에, 샘플 액정 셀은 온도, 구동 파형, 구동 전압 및, 구동 주파수와 같은 요구된 구동 조건하에서 구동된다. 액정 셀의 구동 동안, 치럴 스매틱 액정의 액정운동 현상이 관찰된다. 보다 상세하게, 제5도에 도시된 바와 같이 끝 부분에 배치된 네마틱 액정(51)은 SmA 위상 부분(53)과 네마틱(N) 위상 부분(52)이 제공되도록 실링 영역(그의 중앙쪽으로)의 안쪽으로 들어가게 된다. 예정된 시간(예를 들어, 10Hr)의 경과 후, 제5도에 도시된 바와 같이 대응하는 개구 엣지로부터 SmC*위상 부분(54 또는 55)과 SmA 위상 부분(53) 사이(또는 SmA 위상 부분(53)과 N 위상 부분(52)사이)의 대응하는 경계까지의 각 거리(a, b, c, d)는 다음의 식(1)과 식(2)에 따라 U1 상태에서의 액정의 운동율(X1)과 U2 상태에서의 액정의 운동율(X2)을 각각 결정하기 위해 측정된다.
네마틱 액정의 자연 확산의 영향을 방지하기 위해 연관된 두 거리(a와 b 또는 d와 c) 사이의 차가 본 발명에서 채용된다.
상기 방법에 따르면, 상술된 프리미딘 염기 액정 혼합물 A의 운동율은 전압(Vop 변환 전압에 대응하는 기록 펄스 피크값)을 적절하게 바꾸는 동안 측정된다. 그 결과는 제6도에 도시했다. 제6도으로부터 알 수 있듯이, 액정 운동의 방향은 공급된 전압에 의해 쉽게 영향을 받지 않지만 구동 주파수에 의해서는 상당한 영향을 받는다. 이런 측정에서, 샘플 셀은 25mm(층 연장 방향에서)20mm(층 법선 방향)의 크기를 갖고 있으며, 측정 온도는 40이다.
측정을 위한 상술된 샘플 셀 대신에, 제4(b)도에 도시된 액정을 포함하는 액정 셀(47)의 B부분은 제4(a)도에 도시된 샘플 셀에서와 비슷하게 B부분을 잘라내고 B부분에 개구부와 전극 터미널을 제공함으로써 사용될 수 있다.
[셀 두께 증가]
제7도는 내구성 시험(지속적인 구동)에서 셀 두께의 증가를 측정하기 위한 샘플 액정 셀의 개략 평면도를 도시한다.
제7도를 참조하여 보면, 블랙(B1) 상태를 디스플레이하는 20mm 폭의 길다란 영역(U1 상태)(72)와 화이트(W) 상태를 디스플레이하는 20mm 폭의 길다란 영역(U2상태)(73)에는 직각으로 데이타 전극을 가로지르는 주사 전극이 평행하게 설치되어 있다. 이 경우, 데이타 전극은 층 법선 방향(71)과 평행하고, 주사 전극은 층 연장 방향(층 법선 방향(71)에 수직)과 평행하다. 다른 영역(74)에서는 제8도에 도시된 바와 같이 화이트(W)-및-블랙(BL) 스트라이프 패턴이 소정 디스플레이 시간 사이클로 연속 디스플레이되는데, 여기에서 640 주사선은 시간(1 디스플레이 시간 사이클 = 4h)에 따라서 그 수가 각각 선형으로 변하는 (증가 또는 감소) U1(BL) 상태를 디스플레이하는 것들과 U2(W) 상태를 디스플레이하는 것들로 나뉘어져 있다.
예를 들어, 데이타 전극 방향으로의 200mm의 길이와 800 주사선(전극)을 가지고 있는 샘플 액정셀은 제8도에 도시된 디스플레이 시간 사이클과 비 비월 구동 체계로 12.5Hz의 프레임 주파수에서 구동된다. 이 경우에, BL(U1) 상태로 제공하는 주사 선의 수가 320 선에 이를 때, BL(U1)과 W(U2) 상태(디스플레이 영역) 사이의 경계수는 최대로 된다. 이때, 데이타 신호(펄스)의 주파수(유효 주파수(f))는 제2(aa0도에서 도시된 구동 데이타 신호 파형을 사용하는 경우에 10kHz에서 14kHz로 바뀌고, 제2(ba)도에 도시된 구동 데이타 신호 파형을 사용하는 경우에는 10kHz에서 6kHz로 바뀐다.
상술된 방법으로 샘플 액정 셀을 구동하는 동안, 시간에 따른 셀 두께 변화는 구동의 시작으로부터 0.05의 셀 두께 증가가 확인될 때까지의 지속 시간(T ; 0.05, hours)를 얻기 위해 영역(72, 73)의 4개 단부에 대응하는 4개의 측정점에서 측정된다.
셀 두께 증가는 0.05의 셀 두께 증가가 상술된 4개의 단부중에서 먼저 확인된 단부에서 T(0.05)라는 용어로 평가된다.
상기 평가에서, 층 연장 방향과 주사 전극 방향은 서로 평행하지만, 2 방향이 서로 수직이 아닌 한 서로 교차할 수 있다. 이 경우, 길다란 영역(72, 73)의 폭(20mm)은 데이타 전극 방향으로 측정된 것이고, 셀의 데이타 전극에서의 길이(200mm)는 층 법선 방향에서의 길이와 일치하지 않는다.
[제1실험예]
2개의 1.1mm 두께 유리 기판은 스퍼터링에 의해 ca. 150nm 두께 ITO 막으로 코팅되고, 포토리소그래피 공정에 의해 픽셀 피치에서 ca. 250의 스트라이프 전극(투명 전극)으로 패턴화되었다. 각 스트라이프 전극은 거칠기가 5인 확장된 플레이트를 사용해 내부에 분산된 평균 직경이 ca. 30nm인 실리카 미립자를 포함하는 절연 재료(Ti:Si=1:1를 포함)의 6 wt. %용액으로 코팅되고, 뒤이어 a. 10 min. 동안 100에서 UV 방사선으로 먼저 베이킹되고, 300에서 ca. 1시간동안 베이킹되어 ca. 20nm 두께의 절연막이 형성되었다.
이후에, 각 얼라인먼트 제어막은 20초 동안 2000rpm의 스피터 속도하에서 스핀 코팅에 의해 NMP(N-메틸피로라이든)/nBC(n-부틸 셀로솔브 =1/1) 혼합율내에 폴리아미드산(LQ 1802, 히다찌 카세이 가부시키가이샤로부터 구입 가능)의 1.5 wt. %를 제공함으로서 연관된 절연막상에 형성되었고, 이후에 1시간동안 270에서 베이킹되어 ca. 20nm 두께의 얼라인먼트 제어막이 형성되었다.
이후에, 각 기판은 30 mm/sec의 롤러 피드율과 1000rpm의 롤러 회전 속도, 0.35mm의 압축 깊이()의 조건하에서 나일론 섬유 설비 천으로 한 방향에서 러빙된다.
기판들중 한 기판상에는, ca. 1.5의 평균 직경을 갖는 실리카 비드(slica beads)가 분산되어 있다.
다른 기판은 이들 기판의 러빙 방향(러빙축들)이 동일 방향으로 서로에게 평행하며, 기판들상의 스트라이프 전극들이 200mm(데이타선 연장 방향에서)250mm(주사선 연장 방향)의 크기를 가지는 블랭크 셀 A0와 8001000의 픽셀들이 형성되도록 매트릭스 형태로 배열되게 상기 한 기판상에 중첩되게 배치되어 있다.
상술된 방법과 비슷하게, 15mm25mm의 크기를 가지는 미세한 블랭크 셀(A1, A2, A3, A4)를 형성하고 뚜개의 개구를 설치하기 위해 또 다른 블랭크 셀을 만든 다음 절단하였다.
이렇게 만들어진 각각의 블랭크 셀 A0과 A1내지 A5내로 상술된 피리미딘 염기 액정 혼합물 A를 감소된 압력(또는 진공 조건)하에서 등방성 액체 상태로 주입한 다음, 0.5/min. 의 비율로 실온으로 단계적으로 냉각시켜 단축 얼라인먼트 액정 분자가 치럴 스매틱 C(SmC*) 위상으로 제공되게 하였다.
(액정 운동율의 측정을 위한)상기 액정 셀(소자) A1내지 A5는 동시에 4mm 폭 스트라이프 영역(제1과 제2영역)을 구동(또는 동작)시키기 위해 전기적으로 접속한 다음 메모리 상태로서 제1 영역에는 화이트 상태를 제공하기 위해(또는 제2영역에 블랙상태를 제공하기 위해) 100msec의 주기로 제1영역에는 +5V의 단일 펄스를(또는 제2영역에는 -5V의 단일펄스)를 인가시켰다. 상술된 방식으로 액정 분자의 운동율을 측정하기 위해선(셀(A1(8kHz) 내지 A5(25kHz)에 대한) 8-25kHz의 주파수(제3 주파수(f1: 고정))를 갖는 데이타 신호 (펄스)를 액정 셀 A1내지 A5에 40에서 구동 수단으로 인가하였다.
그 결과, 15kHz의 반전 주파수(제2 주파수 f0)가 얻어졌다.
이 실험예에서의 액정 운동 특성(구동 데이타 신호 파형과 운동율 사이의 관계)은 제9도에 도시하였다.
다른 한편, 액정 셀 A0(T(0.05)의 측정을 위한)은 온도 제어 챔버(40)에서 비비월 구동 체계에 따라 17.5Hz의 프레임 주파수로 구동되었다. 보다 상세하게는, 액정 셀 A0은 상술된 방법으로 그리고, 제7도에 도시된 디스플레이 시간 사이클로 제2(aa)도(1H = 71sec)에 도시된 짝수 함수 파형으로 연속 기록되었다. 그 결과가, 2497 시간의 내구성 시간(T(0.05))이 얻어졌다. 또한, 완전한 화이트(또는 블랙)상태를 기록하는 시간에 주파수(제3주파수(f1))는 14kHz였다.
[제2실험예]
6개 액정 셀 B0및 B1내지 B5은, 프레임 주파수(17.5Hz)가 20.0Hz로 바뀌고, 짝수 함수 파형(제2(aa)도)이 제2(ba)도에 도시된 홀수 함수 파형으로 바뀐 것을 제외하고, 제1실험예와 같은 방법으로 준비되고 평가되었다.
그 결과, 15kHz의 제2주파수, 16kHz에 대한 제3주파수(f1) 및 2143시간의 T(0.05)와 가 얻어졌다.
[제3실험예]
6개 액정 셀 C0및 C1내지 C5은, 짝수 함수 파형(제2(aa)도)이 제2(ad)도에 도시된 짝수 함수 파형으로 바뀐 것을 제외하고, 제1실험예와 같은 방법으로 준비되고 평가되었다.
그 결과, 15kHz의 제2주파수(f0), 14kHz에 대한 제3주파수(f1) 및 2310시간의 T(0.05)가 얻어졌다.
[제4실험예]
6개 액정 셀 D0및 D1내지 D5은, 프레임 주파수(17.5Hz)가 20.0Hz로 바뀐 것을 제외하고, 제1실험예와 같은 방법으로 준비되고 평가되었다.
그 결과, 15kHz의 제2주파수, 16kHz에 대한 제3주파수(f1) 및 814시간의 T(0.05)가 얻어졌다.
[제5실험예]
6개 액정 셀 E0및 E1내지 E5은, 프레임 주파수(17.5Hz)가 21.3Hz로 바뀌고, 짝수 함수 파형(제2(aa)도)이 제2(ad)도에 도시된 짝수 함수 파형으로 바뀐 것을 제외하고 제1실험예와 같은 방법으로 준비되고, 평가되었다.
그 결과, 15kHz의 제2주파수(f0), 17kHz에 대한 제3주파수(f1) 및 485시간의 T(0.05)가 얻어졌다.
[제6실험예]
6개 액정 셀 F0및 F1내지 F5은 짝수 함수 파형(제2(aa)도)이 제2)ba)도에 도시된 홀수 함수 파형으로 바뀐 것을 제외하고, 제1실험예와 같은 방법으로 준비되고 평가되었다.
그 결과, 15kHz의 제2주파수(f0), 14kHz에 대한 제3주파수(f1) 및 310시간의 T(0.05)가 얻어졌다.
[제7실험예]
6개 액정 셀 G0및 G1내지 G5은, 프레임 주파수(17.5Hz)가 28.8Hz로 바뀌고, 짝수 함수 파형(제2(aa)도)이 제2(ba)도에 도시된 짝수 함수 파형으로 바뀐 것을 제외하고, 제1실험예와 같은 방법으로 준비되고 평가되었다.
그 결과, 15kHz의 제2주파수(f0), 23kHz에 대한 제3주파수(f1) 및 132시간의 T(0.05)가 얻어졌다.
또한, 제1 내지 제7실험예의 결과는 하기에 도시된 표 1로 요약된다.
상기 결과로부터 나타난 바와 같이, 데이타 신호 파형과 데이타 신호 주파수의 조합을 적절하게 제어함으로써, 오랜 시간 동안 셀 두께 증가를 효과적으로 막는 것이 가능하므로, 결과적으로 액정 소자(장치)의 내구성이 향상된다.
상술된 바와 같이, 본 발명에 따라, 디스플레이 패턴이 바뀐다할지라도 액정의 병진 운동은 최소화될 수 있고, 그 결과 시간에 따른 셀 두께 증가가 억제되어 액정 소자에서 디스플레이 상태의 옐로우 또는 불규칙이 방지된다. 결과적으로, 액정 소자를 사용하여 액정 장치와 구동 방법을 실현할 수있다.
본 발명은 본 발명의 개념 또는 필수적인 특성들로부터 이탈하지 않고 여러가지 형태로 실시할 수 있다. 그러므로, 본 실시예와 실험예들은 한정의 의미가 아니라 모든 면에서 예시적인 것으로 고려되어야 하며, 본 발명의 범위는 앞서 설명한 내용이 아니라 첨부된 청구 범위에 의해 정의되며, 모든 변형은 특허 청구의 범위에 속하는 것으로 해석되야 한다.

Claims (9)

  1. 매트릭스 형태로 배열된 주사 전극과 데이타 전극을 각각이 갖는 한쌍의 기판과, 상기 한쌍의 기판 사이에 배치되어 자신에 인가된 외부 전계의 변화에 따라 누적 병진 운동을 일으킬 수 있는 액정을 포함하는 액정 소자, 및 액정의 병진 운동 방향이 반대 방향으로 바뀌는 반전 주파수를 나타내는 제2주파수(f0)가 제1주파수(f)의 가변 범위에 있도록 액정에 공급된 구동 데이타 신호 펄스의 유효 주파수를 나타내고, 가변 범위를 가지는 제1주파수(f)를 제어하기 위한 구동 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 액정 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 액정이 치럴 스메틱 위상(a chiral smetic phase)을 나타내는 것을 특징으로 하는 액정 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 구동 데이타 신호 펄스가 짝수 함수 파형을 구비한 1H 주기의 구동 파형을 포함하고, 상기 제2주파수(f0) 및 제3주파수(f1)가 다음 관계: f1 f0 1.5xf1를 만족하며, 여기서 f1은 식 f1=yx1/(1H)(여기서, y는 z가 1H주기에 데이타 신호 포텐셜의 부호(sign) 변화의 횟수를 나타내고 1H는 하나의 선기록동안 선택 주기를 나타낼 때 y는 z/2y(z+1)/2를 만족하는 자연수를 나타냄)로서 표현되는 것을 특징으로 하는 액정 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 구동 데이타 신호 펄스가 홀수 함수 파형을 구비한 1H 주기의 구동 파형을 포함하고, 상기 제2주파수(f0) 및 제3주파수(f1)가 다음 관계: 0.5f1 f0 f1를 만족하며, 여기서 f1은 식 f1=yx1/(1H)(여기서, y는 z가 1H주기에 데이타 신호 포텐셜의 부호 변화의 횟수를 나타내고 1H는 하나의 선 기록동안 선택 주기를 나타낼 때 y는 z/2y(z+1)/2를 만족하는 자연수를 나타냄)로서 표현되는 것을 특징으로 하는 액정 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제2주파수(f0) 및 제3주파수(f1)가 다음 관계: 0.5f1 f0 1.5xf1를 만족하며, 여기서 f1은 식 f1=yx1/(1H)(여기서, y는 z가 1H주기에 데이타 신호 포텐셜의 부호 변화의 횟수를 나타내고 1H는 하나의 선 기록동안 선택 주기를 나타낼 때 y는 z/2y(z+1)/2를 만족하는 자연수를 나타냄)로서 표현되는 것을 특징으로 하는 액정 장치.
  6. 매트릭스 형태로 배열된 데이타 전극과 주사 전극을 각각 갖고 있는 한쌍의 기판과, 이들 기판 사이에 배치되어 자신에 공급된 외부 전계의 변화에 따라 누적 병진운동을 일으키는 액정을 포함하는 형태의 액정 소자 구동 방법에 있어서, 액정의 병진운동방향이 반대 방향으로 바뀌는 반전 주파수를 나타내는 제2주파수(f0)가 제1주파수(f)의 가변 범위에 있도록 액정에 공급된 구동 데이타 신호펄스의 유효 주파수를 나타내고 가변 범위를 가지는 제1주파수(f)를 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 소자 구동 방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 구동 데이타 신호 펄스가 짝수 함수 파형을 구비한 1H 주기의 구동 파형을 포함하고, 상기 제2주파수(f0) 및 제3주파수(f1)가 다음 관계: f1 f0 1.5xf1를 만족하며, 여기서 f1은 식 f1=yx1/(1H)(여기서, y는 z가 1H주기에 데이타 신호 포텐셜의 부호 변화의 횟수를 나타내고 1H는 하나의 선 기록동안 선택 주기를 나타낼 때 y는 z/2y(z+1)/2를 만족하는 자연수를 나타냄)로서 표현되는 것을 특징으로 하는 액정 소자 구동 방법.
  8. 제6항에 있어서, 상기 구동 데이타 신호 펄스가 홀수 함수 파형을 구비한 1H 주기의 구동 파형을 포함하고, 상기 제2주파수(f0) 및 제3주파수(f1)가 다음 관계: 0.5xf1 f0 f1를 만족하며, 여기서 f1은 식 f1=yx1/(1H)(여기서, y는 z가 1H주기에 데이타 신호 포텐셜의 부호 변화의 횟수를 나타내고 1H는 하나의 선 기록동안 선택 주기를 나타낼 때 y는 z/2y(z+1)/2를 만족하는 자연수를 나타냄)로서 표현되는 것을 특징으로 하는 특징으로 하는 액정 소자 구동 방법.
  9. 제6항에 있어서, 상기 제2주파수(f0) 및 제3주파수(f1)가 다음 관계: 0.5xf1 f0 1.5xf1를 만족하며, 여기서 f1은 식 f1=yx1/(1H)(여기서, y는 z가 1H주기에 데이타 신호 포텐셜의 부호 변화의 횟수를 나타내고 1H는 하나의 선 기록동안 선택 주기를 나타낼 때 y는 z/2y(z+1)/2를 만족하는 자연수를 나타냄)로서 표현되는 것을 특징으로 하는 특징으로 하는 액정 소자 구동 방법.
KR1019960073948A 1995-12-27 1996-12-27 액정 장치와 구동 방법 KR100212414B1 (ko)

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