KR100196953B1 - Cleaning method of parts - Google Patents

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KR100196953B1
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도루 시이노
겐이치 노부타
노부오 소노다
다케시 가와노
시게루 기가사와
도시카즈 나베시마
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모리시따 요오이 찌
마쓰시따 덴끼 상교 가부시끼가이샤
스기야마 도모오
다이이치 고교 세이야쿠 가부시키가이샤
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    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22Organic compounds
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Abstract

본 발명은 납땜 용제 및 고온 용융 접착제로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 제거 대상물을 피세정물로부터 제거하기 위한 세정방법을 제공하는 것을 목적으로 하며, 이 세정방법은, 소정의 글리콜 에테르 성분 및 소정의 파라핀계 탄화수소 성분으로 이루어진 세정액을 사용하여 상기 피세정물을 세정하는 공정을 포함하는 것을 구성으로 한다.An object of the present invention is to provide a cleaning method for removing an object to be removed from the object to be removed, selected from the group consisting of a braze solvent and a hot melt adhesive, the cleaning method comprising a predetermined glycol ether component and a predetermined paraffinic system. It comprises a process of washing the said to-be-cleaned object using the washing | cleaning liquid which consists of a hydrocarbon component.

Description

부품의 세정 방법How to Clean Parts

본 발명은 각종 기기 및 부품에 부착되어 있는 납땜 융제 및 연마 연삭 가공 등에 있어서 사용되는 고온 용융 접착제를 세정 제거하는 세정 방법에 관한 것이다. 납땜을 행한 각종 기기 및 부품(예를 들면 프린트 기판)에는 납땜용 융제(납땜 융제)가 부착되어 있다. 이 부착된 납땜 융제 납땜후에 제거하지 않으면 안된다. 또한, 각종 부품에 연마 가공 또는 연삭 가공을 할 때에는 부품을 접착제에 의해서 치구에 고정하고 가공후에 접착제를 제거함으로써 부품을 치구로부터 분리시키는 방법이 행해지고 있다. 부품의 고정에 사용되는 접착제로서는 로진에스테르 수지 또는 페르펜페놀수지 등을 주성분으로 하는 연화점이 약 70℃인 고온 용융 접착제가 일반적이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning method for cleaning and removing hot melt adhesive used in solder flux, abrasive grinding, and the like attached to various devices and components. Soldering fluxes (solder fluxes) are attached to various devices and components (for example, printed circuit boards) that have been soldered. This attached solder flux must be removed after soldering. In addition, when grinding or grinding a variety of parts, a method of separating the part from the jig by fixing the part to the jig with an adhesive and removing the adhesive after processing has been performed. As the adhesive used for fixing the component, a high temperature hot melt adhesive having a softening point of about 70 ° C. containing rosin ester resin or a perphenphenol resin as a main component is common.

종래에는, 상기한 바와 같이 납땜후의 융제 및 연마·연삭 가공후의 고온 용융 접착제를 제거하는데 통상 프레온이라고 알려져 있는 염소화불소화 탄화수소, 1,1,1-트리클로로에탄, 트리클로로에틸렌 및 디클로로메탄과 같은 염소계 용제가 주로 이용되어 왔다.Conventionally, as described above, chlorinated hydrocarbons such as chlorinated fluorofluorocarbons, 1,1,1-trichloroethane, trichloroethylene and dichloromethane, commonly known as freons, are used to remove flux after soldering and hot melt adhesives after polishing and grinding processing. Solvents have been mainly used.

그러나, 상기와 같은 염소계 용제는 오존층 파괴, 지하수 오염 등의 환경 문제를 일으키는 것이 명백하게 되었다. 그러므로, 최근에는 이러한 염소계 용제의 사용을 줄이는 경향이다. 따라서, 이러한 염소계 용제를 대체할 수 있는 세정제에 대한 요구가 높아지고 있다. 이러한 대체 세정 액으로서 알콜계 , 탄화수소계 , 글리콜에 테르계 , 계면활성제계 등의 많은 세정제가 개발되어 있다.However, it has become apparent that such chlorine-based solvents cause environmental problems such as ozone layer destruction and groundwater contamination. Therefore, in recent years, there is a tendency to reduce the use of such chlorine solvents. Therefore, the demand for a cleaning agent that can replace such a chlorine-based solvent is increasing. As such alternative cleaning solutions, many cleaning agents such as alcohols, hydrocarbons, glycol ethers, and surfactants have been developed.

그러나, 상기와 같은 대체 세정제는 납땜 융제 및/또는 고온 용융 접착제의 세정에 있어서 세정 능력 이 불충분하다. 그러므로 이러한 대체 세정제를 납땜 융제 및/또는 고온 용융 접착제의 세정제로서 이용하는 것은 곤란하다. 또한, 이들 대체 세정제는 염소계 용제와 달리 휘발성이 그다지 높지 않으므로, 세정후에 피세정물에 부착되어 있는 세정제를 간편하게 제거하기 곤란하다고 하는 과제를 지닌다. 또한, 이러한 대체 세정제의 대부분은 세정 처리후의 폐액 처리시에 산업 폐기물로서의 처리를 필요로 한다. 그 결과, 새로운 환경 문제가 발생하고, 게다가, 염소계 용제와 비교하여 세정에 드는 비용이 커지는 등의 과제를 지니고 있다. 종래의 대체 세정제 중에서, 알콜계 및 탄화수소계 세정제는 증류 재생을 행할 수 있으므로, 비교적 간편하게 산업 폐기물의 발생을 억제할 수 있다. 그러나, 이러한 세정제는 납점 융제 및 고온 용융 접착제에 대한 세정성이 불충분하다고 하는 과제를 지니고 있다.However, such alternative cleaners have insufficient cleaning ability in cleaning solder fluxes and / or hot melt adhesives. It is therefore difficult to use such alternative cleaners as cleaners for braze fluxes and / or hot melt adhesives. Furthermore, unlike these chlorine solvents, these alternative cleaners have a high volatility, and thus have a problem that it is difficult to easily remove the cleaner attached to the object to be cleaned after washing. In addition, most of these alternative cleaners require treatment as industrial waste in the waste liquid treatment after the cleaning treatment. As a result, new environmental problems arise, and in addition, the cost of washing becomes larger compared with the chlorine-based solvent. Among the conventional alternative cleaners, the alcohol-based and hydrocarbon-based cleaners can perform distillation regeneration, so that generation of industrial waste can be suppressed relatively easily. However, such a cleaner has the problem that the cleaning property with respect to a lead point flux and a hot melt adhesive is inadequate.

염소계 용제의 대체물로서 글리콜에테르계 화합물과 탄화수소를 포함하는 세정제를 사용하는 것이 종래에 알려져 있었다. 예를 들면 일본국 공개특허공보 제(평 )3-146597호에는 탄소수 8 내지 12의 지방족 탄화수소와 극성 기를 가지는 유기 화합물을 포함하는 세정용 조성물이 기재되어 있다. 일본국 공개특허공보 제(평)4-341592호 및 일본국 공개특허공보 제(평)5-148499호에는 글리콜에테르계 화합물과 탄화수소를 포함하는 세정제가 기재되어 있으나, 이들 세정제에는 필수 성분으로서 계면활성제 및 물이 소정량 포함되어 있다. 일본국 공개특허공보 제(평)5-239495호에는 소정의 비점의 탄화수소와 소정의 글리콜에테르계 화합물을 포함하는 페이스트용 세정제가 기재되어 있다 일본국 공개특허공보 제(평)5-306482호에는 탄소수 10 내지 18의 탄화수소와 폴리알킬렌글콜이 C1내지 C3 알킬에테르 및 C4 및 C8 알킬에테르의 조합을 포함하는. 세정제 조성물이 기재되어 있다. 일본국 공개특허공보 제(평 )6-49493호에는 탄소수 4 내지 7의 지방족글리콜 모노저 급알킬에테르와 탄소수 6 내지 12와 탄화수소를 포함하는 세정제 조성물이 기재되어 있다. 그러나, 이 러한 세정제를 특히 고온 용융 접착제에 대하여 사용하는 것에 대해서는 상기 공보에 개시도 시사도 되어 있지 않다. 또한 상기 공보 모두는 이들 세정제를 증류 재생에 의해서 회수 및 재사용하는 것을 개시도 시사도하고 있지 않다.It is known in the art to use the cleaning agent containing a glycol ether type compound and a hydrocarbon as a substitute of a chlorine solvent. For example, JP-A-3-146597 discloses a cleaning composition containing an aliphatic hydrocarbon having 8 to 12 carbon atoms and an organic compound having a polar group. Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 4-341592 and Japanese Unexamined Patent Application Publication No. Hei 5-148499 disclose a cleaning agent containing a glycol ether compound and a hydrocarbon, but these cleaning agents have an interface as an essential component. A predetermined amount is included in the activator and water. Japanese Unexamined Patent Application Publication No. Hei 5-239495 describes a cleaning agent for paste containing a hydrocarbon having a predetermined boiling point and a predetermined glycol ether compound. Hydrocarbons having 10 to 18 carbon atoms and polyalkyleneglycols comprise a combination of C1 to C3 alkylethers and C4 and C8 alkylethers. Detergent compositions are described. Japanese Patent Laid-Open No. Hei 6-49493 discloses a cleaning composition comprising a C4-7 aliphatic glycol monolower alkyl ether, a C6-12 hydrocarbon and a hydrocarbon. However, the use of such a cleaner, in particular for hot melt adhesives, is neither disclosed nor suggested in the publication. Neither of these publications discloses or suggests that these cleaners are recovered and reused by distillation regeneration.

본 발명의 제1세정 방법은 납땜 융제 및 고온 용융 접착제로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 제거 대상물을 피세정물로부터 제거하기 위한 세정 방법으로서, 실질적으로 글리콜에테르 성분(A) 및 파라핀계 탄화수소 성분(B)로 이루어 진 세정 액을 사용하여 상기 피세정물을 세정 하는 공정을 포함하며, 여기에서 상기 성분(A)는 일반식(I)및 (II)의 수용성 글리콜에테르계 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 글리콜에테르계 화합물이며, 상기 성분(B)은 탄소수 10 내지 13의 n-파라핀계 탄화수소 및 이소파라핀계 탄화수소로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 파라핀계 탄화수소이다.The first cleaning method of the present invention is a cleaning method for removing an object to be removed from the object to be removed, selected from the group consisting of a solder flux and a hot melt adhesive, substantially a glycol ether component (A) and a paraffinic hydrocarbon component (B). Washing the object to be cleaned using a cleaning liquid consisting of: wherein component (A) is selected from the group consisting of water-soluble glycol ether compounds of general formula (I) and (II) At least one glycol ether-based compound, wherein component (B) is at least one paraffinic hydrocarbon selected from the group consisting of n-paraffinic hydrocarbons and isoparaffinic hydrocarbons having 10 to 13 carbon atoms.

상기식에서,In the above formula,

R1및 R2는 각각 독립적으로 메틸기 또는 에틸기이고 R3및 R4는 메틸기이다.R 1 and R 2 are each independently a methyl group or an ethyl group and R 3 and R 4 are methyl groups.

바람직한 실시양태에 있어서, 상기 성분(A)과 상기 성분(B)와의 혼합비율은 중량비로 A:B=50:50 내지 90:10이다.In a preferred embodiment, the mixing ratio of component (A) to component (B) is A: B = 50: 50 to 90:10 by weight.

다른 바람직한 실시양태에 있어서, 상기 성분(A)은 디에틸렌글리콜 디메틸에테르 디에틸 렌글리콜에 틸메틸에테르 및 디에틸렌글리콜 디에틸에테르로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 글리콜에테르계 화합물이며. 그리고 상기 성분(B)는 n-운데칸, n-도데칸 및 이소도데칸으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 파라핀계 탄화수소이다.In another preferred embodiment, said component (A) is at least one glycol ether type compound selected from the group consisting of diethylene glycol dimethyl ether diethylene glycol ether methyl methyl ether and diethylene glycol diethyl ether. And component (B) is at least one paraffinic hydrocarbon selected from the group consisting of n-undecane, n-dodecane and isododecane.

또다른 바람직한 실시 양태에 있어서 상기 성분(A)은 디에틸렌글리콜 디메틸에테르 및 디프로필렌글리콜 디메틸에테르로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 글리콜에테르계 화합물이 며, 상기 성분(B)은 n-데칸이다.In another preferred embodiment said component (A) is at least one glycol ether compound selected from the group consisting of diethylene glycol dimethyl ether and dipropylene glycol dimethyl ether, said component (B) being n-decane .

다른 바람직한 실시 양태에 있어서, 본 발명의 제1방법은 피세정물에 부착되어 있는 세정액을 물로서 제거하는 공정을 또한 포함한다.In another preferred embodiment, the first method of the present invention also includes a step of removing as a water the cleaning liquid attached to the object to be cleaned.

또다른 바람직한 실시 양태에 있어서, 본 발명의 제1방법은 피세정물에 부착된 세정액을 건조때 의해 제거하는 방법을 또한 포함한다.In another preferred embodiment, the first method of the present invention also includes a method of removing, by drying, the cleaning liquid attached to the object to be cleaned.

또다른 바람직한 실시 양태에 있어서, 본 발명의 제1방법은 제거 대상물을 용해하고 있는 세정후의 세정액으로부터 증류에 의해서 세정액을 회수하는 공정 및 회수된 세정액을 재사용하여 피 세정물을 세정하는 공정을 또한 포함한다.In another preferred embodiment, the first method of the present invention further includes a step of recovering the cleaning liquid by distillation from the cleaning liquid after washing in which the object to be removed is dissolved, and a process of washing the cleaning object by reusing the recovered cleaning liquid. do.

바람직한 실시 양태에 있어서, 제거 대상물은 고온 용융 접착제이다.In a preferred embodiment, the object to be removed is a hot melt adhesive.

본 발명의 제2세정 방법은 납땜 융제 및 고온 용융 접착제로 이루어진 그룹으로부터 선택 되는 제거 대상물을 피세정물로부터 제거하기 위한 세정 방법으로서, 실질적으로 글리콜에테르 성분(A) 및 파라핀계 탄화수소 성분(B)로 이루어지며, 760mmHg에서 상기 성분(A)의 평균 비점과 상기 성분(B)의 평균 비점의 차가 10℃ 이내인 세정액을 사용하여 상기 피 세정물을 세정하는 공정 및 상기 제거 대상물을 용해하고 있는 세정후의 세정액으로부터 증류에 의해서 세정액을 회수하는 공정을 포함하며, 여기에서 상기 성분(A)은 일반식(III) 및 (IV)의 수용성 글리콜에테르계 화합물로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 글리 콜에 테르계 화합물이며, 상기 성분(B)는 탄소수 10 내지 13의 n-파라핀계 탄화수소 및 이소파라핀계 탄화수소로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 파라핀계 탄화수소이다.The second cleaning method of the present invention is a cleaning method for removing an object to be removed from the object to be removed selected from the group consisting of a solder flux and a hot melt adhesive, substantially a glycol ether component (A) and a paraffinic hydrocarbon component (B). Washing the object to be cleaned using a cleaning liquid having a difference between the average boiling point of the component (A) and the average boiling point of the component (B) within 10 ° C. at 760 mmHg, and washing the dissolved object to be removed. Recovering the cleaning liquid by distillation from the subsequent cleaning liquid, wherein the component (A) is added to at least one glycol selected from the group consisting of water-soluble glycol ether compounds of the general formulas (III) and (IV). It is a tere type | system | group compound, The said component (B) is a group which consists of n-paraffinic hydrocarbon and isoparaffinic hydrocarbon of 10-13 carbon atoms. 1 is at least one paraffinic hydrocarbon selected from.

상기식에서, R5은 탄소수 1내 지 4의 지방족기 이고, R6은 수소 이고, R7은 메틸기 또는 에틸기이고, R8은 수소이다.Wherein R 5 is an aliphatic group having 1 to 4 carbon atoms, R 6 is hydrogen, R 7 is a methyl group or an ethyl group, and R 8 is hydrogen.

바람직한 실시 양태에 있어서, 상기 성분(A)과 상기 성분(B)의 혼합 비율은 중량비로 A:B=50:50 내 지 90:10이다.In a preferred embodiment, the mixing ratio of component (A) and component (B) is A: B = 50: 50 to 90:10 by weight.

다른 바람직한 실시 양태에 있어서, 상기 성분(A)은 디에틸렌글리콜, 모노에틸에테르, 디에 틸렌글리콜 모노이소프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노이소부틸에테르 및 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 글리콜에테르계 화합물이며, 그리고 상기 성분(B)은 n-도데칸, n-트리데칸 및 이소트리데칸으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 파라핀계 탄화수소이다.In another preferred embodiment, the component (A) is diethylene glycol, monoethyl ether, dietylene glycol monoisopropyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monoisobutyl ether and dipropylene glycol monoethyl At least one glycol ether compound selected from the group consisting of ethers, and the component (B) is at least one paraffinic hydrocarbon selected from the group consisting of n-dodecane, n-tridecane and isotridecane.

또다른 바람직한 실시 양태에 있어서, 본 발명의 제2방법은 피세정물에 부착되어 있는 상기 세정액을 물로서 제거하는 공정을 또한 포함한다.In another preferred embodiment, the second method of the present invention also includes a step of removing, as water, the cleaning liquid attached to the object to be cleaned.

또다른 바람직한 실시 양태에 있어서, 본 발명의 제2방법은 증류에 의해 회수된 세정 액을 재사용하여 피세정물을 세정 하는 공정을 또한 포함한다.In another preferred embodiment, the second method of the present invention also includes a step of washing the object to be cleaned by reusing the cleaning liquid recovered by distillation.

따라서, 본 발명은 이하의 이점을 제공할 수 있다.Therefore, the present invention can provide the following advantages.

(1) 납땜 융제 및/또는 고온 용융 접착제에 대한 세정성이 높은 세정 방법을 제공하고, (2) 납땜 융제 및/또는 고온 용융 접착제를 용해하고 있는 세정후의 세정액으로부터 증류에 의해서 세정액을 회수하는 재이용이 가능한 세정 방법을 제공하고, (3) 피세정물에 부착된 세정 액을 물로서 용이하게 제거할 수 있는 세정 방법을 제공하고, (4) 피세정물에 부착된 세정액을 건조에 의해서 용이하게 제거하는 것이 가능한 세정 방법을 제공한다.(1) providing a cleaning method having high detergency to the solder flux and / or the hot melt adhesive, and (2) recycling to recover the cleaning liquid by distillation from the cleaning liquid after the dissolution of the solder flux and / or the hot melt adhesive. It is possible to provide this cleaning method, (3) to provide a cleaning method capable of easily removing the cleaning liquid attached to the object to be cleaned, and (4) to easily clean the cleaning liquid attached to the object to be cleaned by drying. It provides a cleaning method that can be removed.

본 발명의 이러한 이점 및 다른 이점은 이하의 상세한 설명에 따라 당업자에게 분명하게 된다.These and other advantages of the present invention will be apparent to those skilled in the art according to the following detailed description.

본 발명의 세정 방법은 납땜 융제 및 고온 용융 접착제로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 제거 대상물을 피세정물로부터 제거하기 위한 세정방법으로서, 소정의 글리콜 에테르 성분(A) 및 소정의 파라핀계 탄화수소 성분(B)으로 이루어진 세정액을 사용하여 피세정물을 세정하는 공정을 포함한다. 이하 이 공정을 세정 공정이라 한다. 실질적으로 성분(A) 및 성분(B)로부터 이루어진다는 것은 이 세정액이 성분(A) 및 성분(B) 이외에, 이 세정액의 성질에 영향을 주지 않는 성질 및 양의 불순물을 포함할 수 있다는 것을 의미한다.The cleaning method of the present invention is a cleaning method for removing a removal object selected from the group consisting of a solder flux and a hot melt adhesive, from a to-be-cleaned object, and includes a predetermined glycol ether component (A) and a predetermined paraffinic hydrocarbon component (B). The process of washing | cleaning a to-be-cleaned object using the cleaning liquid which consists of these is included. Hereinafter, this process is called washing process. Substantially made from components (A) and (B) means that this cleaning liquid may contain, in addition to components (A) and (B), impurities of a nature and an amount that do not affect the properties of the cleaning liquid. do.

본 발명의 세정 방법은 프린트 기판 등에 사용되는 납땜 융제의 제거에 이용되는 것이 가능하다. 또는 본 발명의 세정 방법은, 예를 들면, 자기 기록기기 등에 사용되는 페라이트제 헤드의 연마 공정 또는 초음파 지연 소자 등에 이용되는 유리 블록의 연삭 공정에 있어서, 치구와 연마·연삭 되는부품을 고정하기 위해서 사용되는 고온 용융 접착제의 제거에 사용하는 것이 가능하다. 그러나. 본 발명의 세정 방법의 사용 목적은 상기의 경우에 한정되지 않고, 납땜 융제 및/또는 고온 용융 접착제의 제거를 필요로 하는 임의의 목적에 사용된다.The cleaning method of the present invention can be used to remove a solder flux used for a printed board or the like. Alternatively, in the cleaning method of the present invention, in order to fix a jig and a part to be polished and ground in a polishing step of a ferrite head used in a magnetic recording device or the like or a glass block grinding step used in an ultrasonic delay element or the like, for example. It is possible to use for the removal of the hot melt adhesive used. But. The purpose of use of the cleaning method of the present invention is not limited to the above cases, but is used for any purpose requiring removal of a solder flux and / or a hot melt adhesive.

본 발명의 세정 방법에 의해서 제거되는 납땜 융제 성분은 일반적으로 로진 수지 및 활성제로 이루어지고, 활성제의 종류로서는 할로겐화 수소산염 및 디카본산 등의 유기산을 들 수 있다. 본 발명의 세정 방법에 의해서 제거되는 용융 접착제로서는 주성분이 로진 수지, 테르펜 수지, 테르펜페놀 수지 , 폴리에스테르계 수지 , 파라핀 등을 들 수 있다.The brazing flux component removed by the washing method of the present invention generally consists of a rosin resin and an activator, and examples of the activator include organic acids such as hydrohalide and dicarboxylic acid. Examples of the molten adhesive removed by the washing method of the present invention include rosin resins, terpene resins, terpene phenol resins, polyester resins, paraffins, and the like.

상기 세정 공정은 제거 대상물이 부착된 피세정물을 소정의 세정액에 침지하고, 필요에 따라서 초음파를 조사하거나, 혹은 요동시킴으로써 행해진다. 통상, 이 세정 공정은 상온 내지 801℃, 바람직하게는 40 내지 601℃에서 행해진다. 세정 공정은 1회, 또는 세정액을 바꿔서, 수회 반복하여 행하는것도 가능하다 또는, 세정 공정은 세정액으로 적신 직물등으로서 피세정물을 닦는 것도 가능하다.The said washing process is performed by immersing the to-be-cleaned object with the removal object in a predetermined | prescribed washing | cleaning liquid, irradiating an ultrasonic wave, or oscillating as needed. Usually, this washing | cleaning process is performed at normal temperature-801 degreeC, Preferably it is 40-601 degreeC. The cleaning step may be performed once or by changing the cleaning solution several times, or the cleaning step may be performed by wiping the object to be cleaned with a cloth or the like moistened with the cleaning solution.

세정 공정후, 필요한 경우, 세정액이 부착된 피 세정물을 물로 세척하여 남은 세정액을 제거할 수 있다. 이 공정을 이하 헹굼 공정이라고도 한다. 헹굼 공정은 세정액이 부착된 피세정물을 물에 침지시켜 수행한다. 이 헹굼 공정도 세정 공정와 마찬가지로 수회 반복하여 행할 수 있다.After the washing step, if necessary, the to-be-cleaned object to which the washing liquid is attached may be washed with water to remove the remaining washing liquid. This process is also called rinsing process. The rinsing process is performed by immersing the object to be cleaned with the cleaning solution in water. This rinsing step can also be repeated several times in the same manner as the washing step.

상기 세정 공정후 노는 상기 헹굼 공정후, 피세 정물에 부착되어 있는 물 혹은 세정액을 건조 제거 할 수 있다. 이 공정을 이하 건조 공정이라고도 한다. 제거 건조는 풍건, 온풍 건조, 및 감압 건조 등의 임의의 수단으로 행할 수 있다 본 발명의 방법에 의하면, 세정물에 따라서는, 헹굼 공정을 행하지 않고, 세정 공정 종료후 건조 공정만을 행하는 것도 가능하다.After the washing step, the furnace can dry remove the water or the washing liquid attached to the object to be cleaned after the rinsing step. This process is also referred to as a drying process below. The removal drying can be performed by any means such as air drying, warm air drying, and reduced pressure drying. According to the method of the present invention, depending on the cleaning product, it is also possible to perform only the drying step after the completion of the cleaning step without performing a rinsing step. .

본 발명에 의하면, 제거 대상물을 용해하고 있는 세정 공정후의 세정액을 증류에 의해서 용이하게 제거 대상물과 분리하고, 재생 회수할 수 있다. 증류에 의해서 얻어지는 액은 세정 공정에 사용하기 전의 세정액과 동등하고, 다시 세정 공정에 사용하는 것이 가능하다 여기에서 사용전의 세정액과 동등이라는 것은 성분(A)과 성분(B)의 혼합 비율이 실질적으로 변화하지 않고(변화가 5중량% 이하, 바람직하게는 2중량% 이 하), 제거 대상물의 혼입이 실질적으로 인지되지 않는(혼입 5중량%, 이하, 바람직 하게는 2중량% 이하 )것 을 의미한다.According to this invention, the washing | cleaning liquid after the washing | cleaning process which melt | dissolves the removal object can be easily isolate | separated from the removal object by distillation, and it can recover regeneration. The liquid obtained by distillation is equivalent to the cleaning liquid before being used for the washing process, and can be used again for the washing process. Here, the equivalent of the cleaning liquid before use is that the mixing ratio of component (A) and component (B) is substantially Meaning no change (5% by weight or less, preferably 2% or less), and substantially no incorporation of the object to be removed (5% by weight or less, preferably 2% or less). do.

또한, 본 발명에 의하면, 세정액을 용해하고 있는 헹굼 공정후의 물을 증류에 의해 용이 하게 세정액과 분리하고, 재생 회수할 수 있다. 증류에 의해 얻어지는 액은 실질상 세정액을 용해하고 있지 않은 물이며 (혼입 5중량%이하, 바람직하게는 2중량%, 이하), 재차 헹굼 공정에 사용하는 것이 가능하다. 또한 증류후의 잔사는 세정백과 동등하며, 재차 세정 공정에 사용하는것이 가능하다.Moreover, according to this invention, the water after the rinsing process in which the washing liquid is dissolved can be easily separated from the washing liquid by distillation, and regeneration and recovery can be performed. The liquid obtained by distillation is water which does not melt | dissolve the washing | cleaning liquid substantially (mixing 5 weight% or less, Preferably it is 2 weight% or less), and can use it again for a rinsing process. Moreover, the residue after distillation is equivalent to a washing bag, and can be used again for a washing | cleaning process.

이하 본 발명의 바람직한 실시 양태에 대해 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described.

(1) 본 발명의 제1세정 방법에 있어서 이용되는 글리콜에테르 성분 (A)는 일반식(I) 및 (II)의 수용성 글리콜 에테르계 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상이다.(1) The glycol ether component (A) used in the 1st washing | cleaning method of this invention is 1 or more types chosen from the group which consists of water-soluble glycol ether type compounds of general formula (I) and (II).

[화학식 1][Formula 1]

[화학식 2][Formula 2]

상기식에서, R1및 R2는 각각 독립적으로 메틸기 또는 에틸기 이고, R3및 R4는 메틸기이다.In the above formula, R 1 and R 2 are each independently a methyl group or an ethyl group, and R 3 and R 4 are methyl groups.

상기식에서 나타내듯이, 일반식 (1)의 화합물은 옥시에틸렌 부가 몰수가 2인 디에틸 렌글리콜 디알킬에테르이며, R1및 R2로 표시되는 알킬기는 탄소수 1또는 2의 알킬기 (즉 메틸기 또는 에틸기 )이다. 일반식 (1)의 수용성 글리콜에테르계 화합물로서는 디에틸렌글리콜 디메틸에 테르, 디 에틸렌글리콜 에틸메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르를 들 수 있다. 일반식(I)에 있어서 R1또는 R2탄소수 3 이상의 알킬기인 글리콜 에테르계 화합물을 이용한 경우 얻어지는 세정액은 제거 대상물의 용해성 및 물에 의한 헹굼성이 떨어진다. 옥시에틸렌 부가 몰수가 1인 경우(즉 에틸렌글리콜 디알킬에테르의 경우), 인화점이 세정 온도에 가깝게 되기 때문에, 안전성이 떨어진다. 옥시에틸렌 부가 몰수가 3 이상인 경우 , 제거 대상물의 용해성이 떨어진다. 옥시에틸렌 부가 몰수가 1인 경우(즉 에틸렌글리콜 디알킬에테르의 경우), 인화점이 세정 온도에 가깝게 되기 때문에, 안전성이 떨어진다. 옥시에틸렌 부가 몰수가 3 이상인 경우, 제거 대상물의 용해성이 떨어진다. R1또는 R2가 수소원자인 화합물, 즉 디알킬렌글리콜 모노알킬에테르도 후술하는 바와 같이 본 발명의 세정 방법에 이용할 수 있으나, 특히 고온 용융접착제를 제거하기 위해서는 디알킬에테르가 보다 바람직하다.As shown in the above formula, the compound of the general formula (1) is diethylene glycol dialkyl ether having an oxyethylene addition mole number of 2, and the alkyl group represented by R 1 and R 2 is an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms (ie, a methyl group or an ethyl group). )to be. Diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, and diethylene glycol diethyl ether are mentioned as a water-soluble glycol ether type compound of General formula (1). In general formula (I), when the glycol ether type compound which is an R <1> or R <2> C3 or more alkyl group is used, the washing | cleaning liquid obtained is inferior to the solubility of the removal object and the rinse property by water. When the number of moles of oxyethylene addition is 1 (that is, in case of ethylene glycol dialkyl ether), the flash point is close to the washing temperature, and thus the safety is inferior. When the number of oxyethylene addition moles is 3 or more, the solubility of the object to be removed is inferior. When the number of moles of oxyethylene addition is 1 (that is, in case of ethylene glycol dialkyl ether), the flash point is close to the washing temperature, and thus the safety is inferior. When the number of oxyethylene addition moles is 3 or more, the solubility of the object to be removed is inferior. Compounds in which R 1 or R 2 is a hydrogen atom, i.e., dialkylene glycol monoalkyl ether, may also be used in the washing method of the present invention as described below, but in particular, in order to remove the hot melt adhesive, dialkyl ether is more preferable.

일반식(II)의 화합물은 디프로필렌글리콜 디메틸에테르이며, 일반식중R3및 R4로 표시 되는 알킬기는 탄소수 1의 알킬기(즉 메틸기 )이다. 일반식(II)에 있어서 R3또는 R4가 탄소수 2이상의 알킬기인 글리콜 에테르계 화합물은 수용성이 아니므로, 얻어지는 세정액의 물에 의한 헹굼성 이 극단으로 떨어진다. 옥시프로필렌 부가 몰수가 1인 경우, 인화성이 세정 온도에 가깝게 되기 때문에, 안전성이 떨어진다. 옥시프로필렌 부가 몰수가 3 이상인 경우, 제거 대상물의 용해성이 떨어 진다. R3또는 R4가 수소원자인 화합물, 즉 디알킬렌글리콜 모노알킬레테르도, 후술과 같이 본 발명의 세정 방법에 이용할 수가 있으나, 특히 고온 용융 접착제를 제거하기 위해서는 디알킬에테르가 보다 바람직하다.The compound of the general formula (II) is dipropylene glycol dimethyl ether, and the alkyl group represented by R 3 and R 4 in the general formula is an alkyl group having 1 carbon atom (ie, a methyl group). In general formula (II), since the glycol ether type compound in which R <3> or R <4> is a C2 or more alkyl group is not water-soluble, the rinse property by the water of the washing | cleaning liquid obtained falls to the extreme. When the number of moles of oxypropylene addition is 1, the flammability is close to the washing temperature, so the safety is inferior. When the number of moles of oxypropylene addition is 3 or more, the solubility of the object to be removed is inferior. Although the compound in which R <3> or R <4> is a hydrogen atom, ie, a dialkylene glycol monoalkyl ether, can also be used for the washing | cleaning method of this invention as mentioned later, in particular, in order to remove a hot melt adhesive agent, dialkyl ether is more preferable.

본 발명의 제1세정 방법에 있어서 이용되는 파라핀계 탄화수소(B)는 탄소수 10 내지 13의 n-파라핀계 탄화수소 또는 이소파라핀계 탄화수소로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상이다. 본 발명에 사용되는 탄화수소로서, n-데칸, 이소데칸, n-운데칸, 이소운데칸, n-도데칸, 이소도데칸, n-트리데칸, 이소트리데칸을 들 수 있다. 탄소수 10 미만의 파라핀계 탄화수소는 인화점이 세정 온도 이하가 되기 때문에, 안전성을 고려하면 대량으로 사용하는 것은 바람직하지 않다. 탄소수가 14 이상의 파라핀계 탄화수소는 제거 대상물의 용해성이 떨어진다.The paraffinic hydrocarbon (B) used in the first washing method of the present invention is one or more selected from the group consisting of n-paraffinic hydrocarbons or isoparaffinic hydrocarbons having 10 to 13 carbon atoms. Examples of hydrocarbons used in the present invention include n-decane, isodecane, n-undecane, isodecane, n-dodecane, isododecane, n-tridecane and isotridecane. Paraffinic hydrocarbons having less than 10 carbon atoms have a flash point lower than the washing temperature, so in consideration of safety, it is not preferable to use them in large quantities. Paraffinic hydrocarbons having 14 or more carbon atoms are insoluble in the object to be removed.

성분(A)와 성분(B)는 임의의 혼합 비율로 이용할 수 있으나, 성분(A)또는 성분(B)의 어느 하나만으로 이루어진 세정액을 이용하면, 제거 대상물의 세정성이 떨어진다. 제거 대상물의 세정성 및 물에 의한 세척성의 양쪽 성능이 우수한 세정액을 얻기 위해서 성분(A)와 성분(B)는 바람직하게는 중량비로, A:B=30,70 내지 90:10, 보다 바람직 하게는 A:B=50:50 내지 90:10, 더욱 바람직하게는, A:B=50:,50 내 지 70:30으로 이용된다. 일반적으로, 성분(A)가 너무 많으면 제거 대상물의 용해성이 저하되고 성분(B)가 너무 많으면 물에 의한 세척성이 저하되는 경향이 있다.Although component (A) and component (B) can be used in arbitrary mixing ratios, when the washing | cleaning liquid which consists only of a component (A) or a component (B) is used, the washing | cleaning property of a removal object will be inferior. Component (A) and component (B) are preferably in a weight ratio of A: B = 30,70 to 90:10, more preferably in order to obtain a cleaning liquid having excellent performance in both the cleaning property of the object to be removed and the cleaning property by water. Is used as A: B = 50: 50 to 90:10, more preferably, A: B = 50:, 50 to 70:30. Generally, when there are too many component (A), the solubility of a removal object will fall, and when there are too many component (B), there exists a tendency for the washability by water to fall.

성분(A)가 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 에틸메틸에테르 및 디에틸렌글리 콜 디애틸레테르로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 글리콜에테르계 화합물이며 성분(B)가 n-운데칸, n-도데칸 및 이소도데칸으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 파라핀계 탄화수소인 세정 액은, 특히 피제거물의 용해성이 높기 때문에 바람직하다. 이 경우, 성분(A)와 성분(B)의 바람직한 혼합 비율은 A:B=50:50 내지 90:10이다.Component (A) is at least one glycol ether compound selected from the group consisting of diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, and diethylene glycol colletyl ether, and component (B) is n-undecane, n Cleaning liquid which is at least one paraffinic hydrocarbon selected from the group consisting of dodecane and isododecane is particularly preferable because of high solubility of the substance to be removed. In this case, the preferable mixing ratio of component (A) and component (B) is A: B = 50: 50-90: 10.

성분(A)가 디에틸렌글리콜 디메틸에테르 및 디프로필렌글리콜 디메틸에테르로 이루어진 그룹으로부터 선택되 는 1종 이상의 글리콜에테르계 화합물이며 성분(B)가 n-데칸인 세정액은 특히 세정성 및 휘발성 에 우수하기 때문에 바람직하다. 이 경우, 성분(A)와 성분(B)의 바람직한 혼합 비율은 A:B=30:70 내 지 90: 10이다 이 세정액을 이용하면, 세정 공정 후, 물에 의한 헹굼 공정을 행하지 않고, 직접 건조 공정을 행할 수 있다. 또한 이 세정액은 프레스, 절삭 가공 등에 이용되는 가공유와 각종 기기, 부품에 부착해 있는 지문 등의 제거도 가능하며, 휘발성이 높기 때문에, 수건용 세정액으로 이용할 수도 있다. 또한, 이 세정액은 세정성이 높기 때문에, 이 세정액을 이용해 납땜 융제를 제거 하면, 세정후의 피세 정물에 잔류하는 이온양을 매우 적게할 수 있다. 예를 들면 프린트 기판의 경우 이온이 잔류하면 절연 신뢰성에 악영향을 주므로, 이 세정액은 특히 프린트 기판 등을 세정 하는데 적당하다.Component (A) is at least one glycol ether compound selected from the group consisting of diethylene glycol dimethyl ether and dipropylene glycol dimethyl ether, and the cleaning liquid in which component (B) is n-decane is particularly excellent in cleaning and volatility. It is preferable because of that. In this case, the preferable mixing ratio of component (A) and component (B) is A: B = 30: 70 to 90:10. When using this washing | cleaning liquid, after a washing | cleaning process, it does not perform the rinse process with water, but directly A drying process can be performed. In addition, this cleaning liquid can also remove processing oils used in presses, cutting operations, and the like, and fingerprints attached to various devices and components, and can be used as a cleaning liquid for towels because of its high volatility. Moreover, since this washing | cleaning liquid has high washing | cleaning property, when a solder flux is removed using this washing | cleaning liquid, the amount of ions which remain in the to-be-cleaned object after washing | cleaning can be made very small. For example, in the case of a printed board, residual ions adversely affect insulation reliability, so this cleaning solution is particularly suitable for cleaning a printed board or the like.

본 발명의 제1세정 방법에 있어서 성분(A)로서 디알킬에테르를 선택하면, 특히 고온 용융 접착제에 대한 용해성이 우수한 세정제가 얻어진다. 따라서, 본 발명의 제1세정 방법은 납땜 융제 또는 고온 용융 접착제를 제거하기 위해 이용되지만, 특히 고온 용융 접착제를 제거하는데 적당하다.When a dialkyl ether is selected as a component (A) in the 1st washing | cleaning method of this invention, the washing | cleaning agent which is especially excellent in the solubility to hot melt adhesive is obtained. Thus, the first cleaning method of the present invention is used to remove solder flux or hot melt adhesive, but is particularly suitable for removing hot melt adhesive.

상술과 같이, 본 발명에 의하면 세정 공정으로 사용후의 세정액으로부터, 제거 대상물을 포함하지 않은 세정액을 증류에 의해 분리할 수 있다. 본 발명의 제1세정 방법에 있어서, 세정 액의 분리에 필요한 온도는, 세정 액의 종류에 따라 다르나. 상압인 경우, 1601℃ 내지 2501℃ 정도이며 , 감압하에서 더욱 낮은 온도로 분리할 수 있다. 예를 들면 , 20mmHg의 압력하에서는, 증류 온도는 601℃ 내지 110℃ 정도이다. 또한 헹굼 공정으로 사용후의 물을 증류에 따라 세정액과 분리 하는 경우, 물의 분리에 필요한 온도는, 상압에서는 물의 비점인 100℃ 정도이며, 감압하에서는 더욱 낮은 온도로 증류가 가능해진다. 예를 들면 20mmHg의 압력하에서는 증류에 필요한 온도는 35℃ 정도로 된다.As mentioned above, according to this invention, the washing | cleaning liquid which does not contain the removal object can be isolate | separated from the washing | cleaning liquid after use in a washing | cleaning process by distillation. In the first cleaning method of the present invention, the temperature required for separation of the cleaning liquid depends on the type of the cleaning liquid. In the case of normal pressure, it is about 1601 degreeC-2501 degreeC, and can isolate | separate at lower temperature under reduced pressure. For example, under a pressure of 20 mmHg, the distillation temperature is about 601 ° C to 110 ° C. In addition, when the used water is separated from the washing liquid by distillation in the rinsing step, the temperature required for separation of the water is about 100 ° C., which is the boiling point of water at normal pressure, and distillation is possible at a lower temperature under reduced pressure. For example, under a pressure of 20 mmHg, the temperature required for distillation is about 35 ° C.

상기와 같이 세정액과 제거 대상물을 분리 하기도 하고, 물을 세정액으로부터 분리하기 위해 이용되는 감압 증류 장치는 방폭 사용으로, 50℃ 이상, 바람직하게는 100℃ 이상의 가온 능력을 갖고, 공급 밸브, 탱크, 증발 캔, 감압기 및 냉각 콘덴서 부로 구성된 배치 모양의 것, 또는 세정 라인 및 서비스 탱크와 연결된 것이 바람직하다.The vacuum distillation apparatus used to separate the cleaning liquid and the object to be removed as described above, and to separate the water from the cleaning liquid, has a heating capacity of 50 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or higher by explosion-proof use. It is preferably in the form of a batch consisting of cans, pressure reducers and cooling condenser sections, or connected to a cleaning line and a service tank.

(2) 발명의 제2세정 방법에 있어서 이용되는 글리콜 에테르 성분(A)는 일반식(III) 및 (IV)의 수용성 글리콜에테르계 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상이다.(2) The glycol ether component (A) used in the 2nd washing | cleaning method of this invention is 1 or more types chosen from the group which consists of water-soluble glycol ether type compounds of general formula (III) and (IV).

[화학식 3][Formula 3]

[화학식 4][Formula 4]

상기식에서, R5는 탄소수 1내지 4의 지방족기이고, R6은 수소이고, R7은 메틸기 또는 에틸기이고, R8은 수소이다.In the above formula, R 5 is an aliphatic group having 1 to 4 carbon atoms, R 6 is hydrogen, R 7 is a methyl group or an ethyl group, and R 8 is hydrogen.

상기식에서 나타나듯이, 일반식(III)의 화합물은 옥시에틸렌 부가 몰수가 2인 디에틸렌글리 콜 모노지방족 에테르이다. 일반식 (III)중, R5로 표시 되는 지방족기는 바람직 하게는 탄소수 1내지 4의 알킬기이며, 예를 들면, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸이다. 따라서, 바람직하게는 일반식(111)의 화합물은 디에틸렌글리콜 모노알킬에테르이다. 일반식(III)에 있어서 R5가 탄소수 5 이상의 지방족기인 경우, 얻어지는 세정액은 제거 대상물의 용해성 및 물에 의한 세척성이 떨어진다. 옥시에틸렌 부가 몰수가 1인 경우(즉 에틸렌글리콜 모노지방족에테르의 경우), 인화점이 세정 온도에 가깝게 되기 때문에, 안전성이 떨어진다. 옥시에틸렌 부가 몰수가 3 이상인 경 우, 제거 대상물의 용해성 이 떨어 진다.As shown in the above formula, the compound of general formula (III) is diethyleneglycol monoaliphatic ether having 2 moles of oxyethylene addition. In the general formula (III), the aliphatic group represented by R 5 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl. Thus, preferably, the compound of formula (111) is diethylene glycol monoalkyl ether. In general formula (III), when R <5> is a C5 or more aliphatic group, the wash liquid obtained is inferior to the solubility of the removal object and washability by water. When the number of moles of oxyethylene addition is 1 (that is, in case of ethylene glycol monoaliphatic ether), the flash point is close to the washing temperature, so the safety is inferior. If the number of moles of oxyethylene addition is 3 or more, the solubility of the object to be removed becomes poor.

일반식 (IV)의 화합물은 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르 또는 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르이며, 일반식중 R7로 표시되는 알킬기는 탄소수 1또는 2의 알킬기(즉 메틸기 또는 에틸기)이다. 일반식(IV)에 있어서 R7이 탄소수 3 이상의 화합물인 경우, 수용성이 떨어지기 때문에 얻어 지는 세정액의 물에 의한 헹굼성이 떨어지고, 제거 대상물의 용해성이 떨어진다. 옥시프로필렌부가 몰수가 1인 경우, 인화점이 세정 온도에 가깝게 되므로, 안전성이 떨어 진다 옥시프로필렌부가 몰수가 3 이상인 경우, 제거 대상물의 용해성이 떨어진다.The compound of the general formula (IV) is dipropylene glycol monomethyl ether or dipropylene glycol monoethyl ether, and the alkyl group represented by R 7 in the general formula is an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms (ie, methyl group or ethyl group). In general formula (IV), when R <7> is a C3 or more compound, since water solubility falls, the rinse property of the wash liquid obtained by water is inferior, and the solubility of a removal object is inferior. If the number of moles of oxypropylene moiety is 1, the flash point is close to the washing temperature, so the safety is poor. If the number of moles of oxypropylene moiety is 3 or more, the solubility of the object to be removed is inferior.

본 발명의 제2세정 방법에 있어서, 이용되는 파라핀계 탄화수소(B)는 탄소수 10내지 13의 n-파라핀계 탄화수소 및 이소파라핀계 탄화수소로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1종 이상이다. 본 발명에 사용되는 탄화수소로서는 n-데칸, 이소데칸, n-운데칸, 이소운데칸, n-도데칸, 이소도데칸, n-트리데칸, 이소트리데칸을 들 수 있다. 탄소수 10 미만의 파라핀계 탄화수소는 인화점 이 세정 온도 이하가 되기 때문에, 안전성이 떨어 진다. 탄소수가 14 이상의 파라핀계 탄화수소는 제거 대상물의 용해성 떨어진다.In the second cleaning method of the present invention, the paraffinic hydrocarbon (B) to be used is at least one selected from the group consisting of n-paraffinic hydrocarbons having 10 to 13 carbon atoms and isoparaffinic hydrocarbons. Hydrocarbons used in the present invention include n-decane, isodecane, n-undecane, isoundecan, n-dodecane, isododecane, n-tridecane and isotridecane. Paraffinic hydrocarbons having less than 10 carbon atoms have a lower flash point below the washing temperature, thus degrading safety. Paraffinic hydrocarbons having 14 or more carbon atoms are insoluble in the object to be removed.

본 발명에 제2세정 방법에 있어서는 글리콜에테르 성분(A)의 760mmHg에서 평균 비점과 파라핀계 탄화수소 성분(B)의 평균 비점의 차는 101℃ 이내이다. 평균 비점이란 각 성분의 실질적 비점으로, 예를 들면, 가스크로마그래프 법으로 승온하면서 각 성분의 측정을 행한 경우, 최대 피크를 나타낼 때의 온도를 나타낸다. 평균비점 차가 760mmHg에 있어서 10℃를 넘으면, 세정 공정 후에 증류에 의해 회수한 세정액에서 성분 A와 성분 B의 혼합 비율이 초기 혼합 비율과 어긋날 가능성이 있기 때문에 바람직 하지 않다. 탄소수가 14 이상인 파라핀계 탄화수소는 상기와 같이 제거 대상물의 용해성이 떨어지며, 글리콜 에테르계 성분(A)와의 평균 비점 차가 10℃를 넘으므로 바람 직하지 않다.In the second washing method of the present invention, the difference between the average boiling point and the paraffinic hydrocarbon component (B) at 760 mmHg of the glycol ether component (A) is within 101 ° C. An average boiling point is the substantial boiling point of each component, and shows the temperature at the time of showing a maximum peak, when each component is measured, heating up by the gas chromatograph method, for example. If the average boiling point difference is more than 10 ° C at 760 mmHg, the mixing ratio of component A and component B in the washing liquid recovered by distillation after the washing step may be inconsistent with the initial mixing ratio. The paraffinic hydrocarbon having 14 or more carbon atoms is inferior in solubility of the object to be removed as described above, and the average boiling point difference with the glycol ether component (A) exceeds 10 ° C.

성분(A)와 성분(B)는 임의의 혼합 비율로 이용할 수 있으나, 성분(A) 또는 성분(B) 어느 하나만으로 이루어진 세정액을 이용하면 제거 대상물의 세정성이 떨어진다. 제거 대상물의 세정성 및 물에 의한 헹굼성 의 성능 모두에서 우수한 세정액을 얻기 위해서는 성분(A)와 성분(B)는 바람직하게는 중량비로 A:B=50:50 내지 90:10이다. 혼합 비율이 A:B=50:50 내지 70:30이면, 제거 대상물의 용해성 및 물에 의한 헹굼성이 더욱 좋아지므로, 보다 바람직하다. 일반적으로, 성분(A)가 너무 많으면 제거 대상물의 용해성이 저하되고, 성분(B)가 너무 많으면 물에 의한 헹굼성이 저하되는 경향이 있다.Although component (A) and component (B) can be used in arbitrary mixing ratios, when the washing | cleaning liquid which consists only of component (A) or component (B) is used, the washing | cleaning property of a removal object will be inferior. Component (A) and component (B) are preferably A: B = 50: 50 to 90:10 in weight ratio in order to obtain a cleaning liquid excellent in both the cleaning property of the object to be removed and the performance of rinsing with water. When the mixing ratio is A: B = 50: 50 to 70:30, the solubility of the object to be removed and rinsing with water are further improved, which is more preferable. Generally, when there are too many components (A), the solubility of a removal object will fall, and when there are too many components (B), there exists a tendency for the rinse property by water to fall.

본 발명의 제2세정 방법으로 얻어지는 세정액의 성분 조합예를 이하에 나타낸다 각 성분(B)에 대해서, 평균 비점의 차가 10℃ 이내인 성분(A)의 예를 기재하였다. 각 화합물명 뒤에 평균 비점을 기재하였다.The example of the component combination of the washing | cleaning liquid obtained by the 2nd washing | cleaning method of this invention is shown below. About each component (B), the example of the component (A) whose difference of average boiling point is 10 degrees C or less was described. The average boiling point is described after each compound name.

[예 1][Example 1]

성분 B : n-운데칸(1921℃ )Component B: n-undecane (1921 degreeC)

성분 A : 디 에틸렌글리콜모노메틸에테르(194℃ ), 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르(202℃ ), 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르(188C), 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르(202℃).Component A: diethylene glycol monomethyl ether (194 degreeC), diethylene glycol monoethyl ether (202 degreeC), dipropylene glycol monomethyl ether (188C), dipropylene glycol monoethyl ether (202 degreeC).

[예 2][Example 2]

성분 B : 이 소도데칸(197℃)Component B: Isododecane (197 ° C)

성분 A : 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르(194℃),Component A: diethylene glycol monomethyl ether (194 ° C.),

디에틸렌글리콜 모노에틸에테르(202℃), 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르(202℃ ).Diethylene glycol monoethyl ether (202 degreeC) and dipropylene glycol monomethyl ether (202 degreeC).

[예 3]Example 3

성분 B : n-도데칸(210C )Component B: n-dodecane (210C)

성분 A : 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르(202℃),디에틸렌글리콜 모노이 소프로필에테르(207℃ ), 디에틸렌글리콜 모노프로필에테르(216℃ ), 디프로필렌글리콜 모노이소부틸 에테르(220℃), 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르 (202℃ ).Component A: diethylene glycol monoethyl ether (202 degreeC), diethylene glycol monoisopropyl ether (207 degreeC), diethylene glycol monopropyl ether (216 degreeC), dipropylene glycol monoisobutyl ether (220 degreeC), di Propylene glycol monoethyl ether (202 ° C.).

[예 4]Example 4

성분 B : n-트리 데칸(227℃ )Component B: n-tridecane (227 ° C)

성분 A : 디에틸렌글리콜 모노이소부틸에 테르(220℃ ), 디에틸렌글리콜모노부틸에테르(231℃ ).Component A: diethylene glycol monoisobutyl ether (220 degreeC) and diethylene glycol monobutyl ether (231 degreeC).

본 발명의 제2세정 방법에 있어서, 바람직 한 성분(A)와 성분(B)와의 조합은. 성분(A)가, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노이소프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노이소부틸에테르 및 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 글리콜에테르이며, 성분(B)가 n-도데칸, n-트리 데칸 및 이소트리 데칸으로 이루어지는 그룹에서 선택되는 1종 이상의 파라핀계 탄화수소의 조합이다. 더욱 바람직한 조합은 상기 예 3에 표시된 조합, 즉 성분(A)가 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노이소부틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노에틸에 테르로 이루어지는 그룹에서 선택되는 1종 이상의 글리콜에테르이고, 성분(B)가 n-도데칸인 것의 조합이다. 이러한 조합의 경우, 제거 대상물인 납땜 융제 및 고온 용융 접착제의 용해성이 높고 인화점 이 701℃ 이상이므로 세정시의 안정성이 뛰어나다.In the second cleaning method of the present invention, the combination of the preferred component (A) and the component (B). Component (A) is one selected from the group consisting of diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoisopropyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monoisobutyl ether, and dipropylene glycol monoethyl ether. It is the above-mentioned glycol ether, and component (B) is a combination of 1 or more types of paraffinic hydrocarbon chosen from the group which consists of n-dodecane, n-tridecane, and isotridecane. Further preferred combinations are those shown in Example 3, i.e., component (A) is diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoisopropyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monoisobutyl ether, dipropylene glycol It is a combination of one or more glycol ethers selected from the group consisting of monoethyl ether, and component (B) being n-dodecane. In such a combination, the solubility of the solder flux and the hot melt adhesive to be removed is high and the flash point is 701 ° C. or higher, so the cleaning stability is excellent.

상술한 바와 같이 본 발명에 의하면 세정 공정후의 세정액에서 증류에 의해 제거 대상물을 포함하지 않은 세정액을 분류할 수 있다. 본 발명의 제2세정 방법 에 있어서, 세정액의 분리에 필요한 온도는 세정액의 종류에 따라 다르지만, 예를 들면, 디에틸렌글리콜모노이소부틸에테르와 n-트리 데칸과의 혼합물인 경우, 상압의 경우 230℃ 정도이며, 감압하에서는 120℃ 정도로 분리 할 수 있다. 더우기 헹굼후의 물을 증류에 의해 세정액과 분리하는 경우, 본 발명의 제2세정 방법에 있어서 물의 분리에 필요한 온도는 상압에서는 물의 비점인 1001℃ 정도이며, 감압하에서는 더 낮은 온도에서 증류가 가능하다. 예를 들면 20mmHg의 압력하에서는 증류에 필요한 온도는 35℃ 정도가 된다.As mentioned above, according to this invention, the washing | cleaning liquid which does not contain the removal object by distillation can be classified in the washing | cleaning liquid after a washing | cleaning process. In the second cleaning method of the present invention, the temperature required for separation of the cleaning liquid varies depending on the type of the cleaning liquid, but, for example, in the case of a mixture of diethylene glycol monoisobutyl ether and n-tridecane, at a normal pressure of 230 It can be separated about 120 degreeC under reduced pressure. Furthermore, when water after rinsing is separated from the washing liquid by distillation, the temperature required for water separation in the second washing method of the present invention is about 1001 ° C., which is the boiling point of water at normal pressure, and distillation is possible at a lower temperature under reduced pressure. For example, under the pressure of 20 mmHg, the temperature required for distillation is about 35 ° C.

상기와 같이 세정 액과 제거 대상물을 분리 하거나 물을 세정액에서 분리하기 위해서 사용되는 감압 증류 장치는 상기한 본 발명의 제1의 세정 공정에서 사용되는 것과 같은 것이 바람직하다.As described above, the vacuum distillation apparatus used to separate the cleaning liquid and the object to be removed or to separate the water from the cleaning liquid is preferably the same as that used in the first cleaning process of the present invention described above.

본 발명 의 제2세정 방법에 있어서는, 특히 성분(A)와 성분(B)의 평균 비점차를 소정값 이내로 함으로써 사용후의 세정 액을 증류하여 회수할 때 회수된 세정제와 초기 세정제의 조성 변화를 최소한으로 한정시킬 수 있다. 따라서 본 발명의 제2세정 방법은 사용후의 세정액을 증류에 의해 회수하는데 특히 적당하다.In the second cleaning method of the present invention, in particular, by changing the average boiling point of the component (A) and the component (B) within a predetermined value, the compositional change of the recovered detergent and the initial detergent is minimized when distilling and using the cleaning liquid after use. It can be limited to. Therefore, the second washing method of the present invention is particularly suitable for recovering the used washing liquid by distillation.

[실시예]EXAMPLE

이하, 본 발명을 실시예에 기초하여 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시 예로 한정되는 것은 아니다. 이 하의 실시 예 표중, 숫자는 특히 표시가 없는 경우에는 중량부를 나타낸다.Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely based on an Example, this invention is not limited to these Examples. In the following Examples, numerals indicate parts by weight unless otherwise indicated.

이하의 실시예 1 내지 7 및 비교예 1 및 2는 본 발명의 제1세정 방법의 실시예 및 비교예이다.Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2 below are examples and comparative examples of the first cleaning method of the present invention.

[실시예 1 및 비교예 1]Example 1 and Comparative Example 1

이하 표 1에 나타난 조성의 세정액을 사용하며 이하의 실험 I 내지 III를 수행한다.The following experiments I to III were carried out using the cleaning liquid of the composition shown in Table 1 below.

표 1중 글리콜에테르계 화합물 A 내지 G 및 탄화수소 a 내지 e는 각각이하의 화합물을 나타낸다.In Table 1, glycol ether type compounds A-G and hydrocarbons a-e represent the following compounds, respectively.

글리콜 에테르계 화합물:Glycol Ether Compounds:

A : 디에틸렌글리콜 디메틸에테르A: diethylene glycol dimethyl ether

B : 디에틸렌글리콜 에틸메틸에테B: diethylene glycol ethyl methyl ether

C : 디에틸렌글리콜 디에틸에테르C: diethylene glycol diethyl ether

D : 디프로필렌글리콜 디메틸에테르D: dipropylene glycol dimethyl ether

E . 디에틸렌글리콜 디부틸에테르E. Diethylene glycol dibutyl ether

F : 트리에틸렌글리콜 디에틸에테르F: triethylene glycol diethyl ether

G : 디프로필렌글리콜 에틸메틸에테르G: dipropylene glycol ethyl methyl ether

파라핀 계 탄화수소 :Paraffinic Hydrocarbons:

a : n-운데칸a: n-undecan

b : 이소도데칸b: isododecane

c : n-도데칸c: n-dodecane

d : n-트리데칸d: n-tridecane

e : n-테트라데칸e: n-tetradecane

[실험 I(실시예 1 및 비교예 1)]Experiment I (Example 1 and Comparative Example 1)

비디오 헤드 등에 사용되는 페라이트제 자기 헤드(20×5mm, 두께 1mm)10개를 고온 용융 접착제(주성분 로진 수지, 종전자 공업 주식회사제, 상품명 일렉트론 왁스)를 사용해 스테인레스 스틸제 치구(150×30mm, 두께 2mm)1장에 접착한다. 이것을 표 1에 표시한 각 세정액에 60℃로 침지하고, 초음파(47kHz, 120W)를 조사하고, 자기 헤드가 치구에서 모두 박리되는 시간을 측정한다. 결과를 표 2에 나타낸다. 표중의 결과에 대한 평가 기준을 하기에 표시한다.Stainless steel jig (150 × 30mm, thickness) of 10 ferrite magnetic heads (20 × 5mm, thickness 1mm) used for video heads, etc., using high temperature melt adhesive (main component rosin resin, manufactured by Jong-E Industries Co., Ltd., brand name Electron Wax) 2mm) to one sheet. This was immersed in each of the cleaning liquids shown in Table 1 at 60 ° C, ultrasonic waves (47 kHz, 120 W) were irradiated, and the time when the magnetic heads were all peeled off the jig was measured. The results are shown in Table 2. Evaluation criteria for the results in the table are shown below.

평가 기준:Evaluation standard:

◎ : 박리 시간 3분 미만◎: peeling time less than 3 minutes

● : 박리 시간 3분 이상 5분 미만●: Peeling time 3 minutes or more and less than 5 minutes

△ : 박리 시간 5분 이상 10분 미만△: peeling time 5 minutes or more and less than 10 minutes

× : 박리 시 간 10분 이상X: Peeling time 10 minutes or more

[실험 II(실시예 1 및 비교예 1)]Experiment II (Example 1 and Comparative Example 1)

초음파 자연. 소자 등에 사용되는 유리 블록(세로 100mm, 가로 20mm,높이 30mm)을 고온 용융 접착제(주성분 폴리에스테르계 수지, 일화정공 주식 회사 제품, 상품명 아도픽스)를 사용하여 스테인레스 스틸제 치구(세로150mm, 가로 100mm, 두께 2mm) 1장에 접착한다 유리를 1mm 두께로 절단하는 연삭 공정 종료후, 표 1에 나타내는 각 세정액에 60℃로 침지하고, 초음파(47kHz, 120W)를 조사하며, 절단된 유리가 치구에서 모두 박리하는 시간을 측정한다. 결과를 표 2에 표시한다. 표중의 결과에 대한 평가 기준을 하기에 표시한다.Ultrasonic nature. Glass blocks (100 mm long, 20 mm wide, 30 mm high) used for devices are made of stainless steel fixtures (150 mm long, 100 mm wide) using a high-temperature melt adhesive (main component polyester resin, Ilhwa Precision Co., Ltd. product, Adopix). , 2 mm thick). After completion of the grinding process of cutting the glass to 1 mm, each cleaning solution shown in Table 1 is immersed at 60 ° C., and ultrasonic waves (47 kHz, 120 W) are irradiated. The time to peel all is measured. The results are shown in Table 2. Evaluation criteria for the results in the table are shown below.

평가 기중:Rating lift:

◎ : 박리 시간 5분 미만◎: peeling time less than 5 minutes

○ : 박리 시간 5분 이상 10분 미만(Circle): Peeling time 5 minutes or more and less than 10 minutes

△ : 박리 시간 10분 이상 15분 미만△: peeling time 10 minutes or more and less than 15 minutes

× : 박리 시간 15분 이상X: Peeling time 15 minutes or more

[실험 III(실시예 1및 비교예 1)]Experiment III (Example 1 and Comparative Example 1)

실험 I에 사용한 것과 같은 페라이트제 자기 헤드 10개 및 스테인레스 스틸제 치구 1장을 표 1에서 나타낸 세정액에 601℃로 3분간 침지하고, 초음파(471KHz, 120W')를 조사하고 페라이트제 자기 헤드와 스테인레스 스틸제 치구를 완전히 박리한다. 그후 페라이트제 자기 헤드와 스테인레스 스틸제 치구를 상온의 이온 교환수에 30초 침지한다. 그후 100℃의 항온조에 이들 페라이트제 자기 헤드 및 스테인레스 스틸제 치구를 넣어 30분간 방치하고, 수분을 완전히 제거한 후에 페라이트제 자기 헤드 및 스테인레스 스틸제 치구에 잔존하는 액을 사염화탄소를 사용하여 추출한다. 이 추출액을 적외선 분광 광도법에 의해 분석하고, 세정백의 잔존 유무를 판정한다. 결과를 표 2에 표시한다 표중의 결과에 대한 평가기준을 이하에 나타낸다.Ten ferrite magnetic heads and one stainless steel jig as used in Experiment I were immersed in the cleaning solution shown in Table 1 at 601 ° C. for 3 minutes, irradiated with ultrasonic waves (471 KHz, 120 W '), and ferrite magnetic heads and stainless steels. Completely peel off the steel jig. Thereafter, a ferrite magnetic head and a stainless steel jig are immersed in ion-exchanged water at room temperature for 30 seconds. Thereafter, these ferrite magnetic heads and stainless steel jig were placed in a thermostat at 100 ° C., and left for 30 minutes. After the moisture was completely removed, the liquid remaining in the ferrite magnetic head and stainless steel jig was extracted using carbon tetrachloride. This extract is analyzed by infrared spectrophotometry to determine the presence or absence of the remaining cleaning bag. The results are shown in Table 2. The evaluation criteria for the results in the table are shown below.

평가기준:Evaluation standard:

○ : 세정액이 잔존하지 않고, 헹굼성이 우수하다.(Circle): A washing | cleaning liquid does not remain and is excellent in rinsing property.

△ : 세정액이 조금 잔존하고, 헹굼성이 다소 떨어진다.(Triangle | delta): The washing | cleaning liquid remains a little and rinsing property is inferior.

X : 세정액이 많이 잔존하고, 헹굼성이 떨어진다.X: Many washing | cleaning liquids remain and rinse property is inferior.

이상 실시예 1에서 나타낸 바와 같이.본 발명의 세정 방법에서 사용되는 세정 액은 고온 용융 접착제의 제거성 및 물에 의한 헹굼성이 우수하다.As shown in Example 1 above. The cleaning liquid used in the cleaning method of the present invention is excellent in the removal property of the hot melt adhesive and the rinsing property by water.

한편 비교예 1의 세정액은 씨하에 설명하는 바와 같이 고온 용융 접착제의 제거에 부적당하다.On the other hand, the cleaning liquid of Comparative Example 1 is not suitable for the removal of the hot melt adhesive as described below.

세정액(5) : 탄화수소를 포함하지 않고 수용성 글리콜 에테르만으로 이루어지며 고온 용융 접착제의 제거성이 떨어진다.Washing liquid (5): It does not contain hydrocarbons and consists only of water-soluble glycol ethers, and is insoluble in hot melt adhesives.

세정액(6) : 수용성 글리콜에테르를 포함하지 않고 탄화수소만으로 이루어지며 고온 용융 접착제의 제거성이 떨어짐과 동시에 헹굼성도 우수하지 못하다.Washing liquid (6): It does not contain water-soluble glycol ether and consists only of hydrocarbons, and the removal of hot melt adhesive is poor, and the rinsing property is not excellent.

세정액(7) : 일반식 (I)에 있어서 R 또는 R 가 탄소수 3 이상의 글리콜에테르계 화합물을 사용하고 있고, 고온 용융 접 착제의 제거성 및 헹굼성이 우수하지 못하다.Washing liquid (7): R in general formula (I) Or R Glycol ether compounds having 3 or more carbon atoms are used, and the hot melt adhesive is not excellent in the removal and rinsing properties of the hot melt adhesive.

세정액(8) : 일반식 (I)에 있어서 옥시에틸렌의 부가 몰수가 3 이상의 글리콜에테르계 화합물을 사용하고 있고, 고온 용융 접착제의 제거성이 떨어진다.Washing liquid (8): In general formula (I), 3 or more glycol ether type compound of oxyethylene is used, and the removal property of a high temperature melt adhesive is inferior.

세정액(9) : 탄소수 14 이상의 탄화수소를 사용하고 있고, 고온 용융 접착제의 제거성이 떨어진다.Washing liquid (9): The hydrocarbon of 14 or more carbon atoms is used, and the hot melt adhesive is inferior in removability.

세정액(10) : 일반식 (II)에 있어서 R 가 탄소수 2(에틸기)의 글리콜에테르계 화합물을 사용하고 있고, 헹굼성이 떨어진다.Washing liquid (10): R in general formula (II) The glycol ether type compound of C2 (ethyl group) is used, and rinsing property is inferior.

[실시예 2]Example 2

디에틸렌글리콜 에틸메틸에테르 60중량%와 n-도데칸 40중량%를 혼합한 세정액 90중량부에 고온 용융 접착제(일화 전공 주시회 사 제품, 상품명 아도픽스) 10중량부를 용해한다. 이 용액 16ℓ를 30mimHg의 감압하에서 110℃로 가온하여 증류한다. 증류는 60분간 수행한다.10 parts by weight of a high-temperature melt adhesive (manufactured by Nihon Electric Co., Ltd., product name Adopix) is dissolved in 90 parts by weight of a washing solution obtained by mixing 60% by weight of diethylene glycol ethylmethyl ether and 40% by weight of n-dodecane. 16 L of this solution is distilled off by heating to 110 DEG C under a reduced pressure of 30 mimHg. Distillation is carried out for 60 minutes.

증류에서 얻어진 액을 적외선 분광 광도법에 의해 분석한 결과, 고온 용융 접착제의 혼입 은 확인되지 않았다. 또한, 가스 크로마토그래프법에 의해 상기의 증류액을 분석한 바, 초기 배합 상태와 같은 세정액이라는 것이 확인되었다. 이 증류액을 사용하여 실시예 1의 실험 1과 같은 방법으로 페라이트 헤드와 치구의 박리 실험을 행한 바, 3분 이내에 모든 페라이트 헤드가 치구에서 박리되었다. 즉, 초기 배합 상태의 세정제와 동등한 고온 용융접 착제의 제거성을 얻었다.As a result of analyzing the liquid obtained by distillation by infrared spectrophotometry, mixing of the hot melt adhesive was not confirmed. Moreover, when the said distillate was analyzed by the gas chromatograph method, it was confirmed that it was the wash | cleaning liquid like the initial compounding state. Using this distillate, the ferrite head and the jig peeling test were carried out in the same manner as in Experiment 1 of Example 1, and all the ferrite heads were peeled off the jig within 3 minutes. That is, the removal property of the high temperature melt adhesive equivalent to the detergent of the initial compounding state was obtained.

[실시예 3]Example 3

비디오 헤드 등에 사용되는 페라이트에 자기 헤드(20×5mm, 두께 1mm)10개를 고온 용융 접착제(종전자 공업 주식회사제. 상품명 일렉트론 왁스)를 사용해 스테인레스 스틸제 치구(150×30mm, 두께 2mm) 1장에 접착한다. 표 3에 나타낸 공정 에 의해 자기 헤드를 치구에서 박리한다. 사용한 세정액은 디에틸렌글리콜디메틸에테르 70중량%와 이소도데칸 30중량%의 혼합물이다.10 pieces of magnetic heads (20 x 5 mm, thickness 1 mm) are made of stainless steel jig (150 x 30 mm, thickness 2 mm) using hot melt adhesive (trade name Electron Wax Co., Ltd.). To adhere to. The magnetic head is peeled off from the jig by the process shown in Table 3. The used washing | cleaning liquid is a mixture of 70 weight% of diethylene glycol dimethyl ether, and 30 weight% of isododecane.

표 3중 세정 공정 1및 세정 공정 2는 세정액을 바꾸어 2회 세정한 것을 표시한다. 헹굼 공정 1및 헹굼 공정 2는 각각 수돗물 및 이온 교환수로 헹굼한 것을 표시한다.In Table 3, the washing | cleaning process 1 and the washing | cleaning process 2 show that wash | cleaned twice by changing a washing | cleaning liquid. Rinse step 1 and rinse step 2 indicate that the rinse with tap water and ion exchange water, respectively.

표 3에 나타낸 공정에 의해 페라이트 헤드는 치구에서 박리하고 또 고온 용융 접착제도 충분히 제거되었다. 또한 헹굼 공정 1에서 발생하는 세정액과 수돗물이 혼합된 용액에 대해서 20mm1Hg의 감압하에서 35℃로 가온하여 감압 증류를 수행한 결과 얻어진 증류액은 대부분이 물이 며 혼합된 세정 액은 5중량%이하였다. 이 증류액은 헹굼 공정 1에서 재사용하는 것이 가능했다.By the process shown in Table 3, the ferrite head was peeled off the jig and the hot melt adhesive was also sufficiently removed. In addition, the distillate obtained as a result of distillation under reduced pressure was heated to 35 ℃ under a reduced pressure of 20mm1Hg for the solution mixed in the rinsing step 1 and the tap water was water, the mixed solution was less than 5% by weight . This distillate could be reused in rinsing step 1.

증류 잔사는 대부분이 세정액이며, 수분의 혼입은 5중량% 이하였다. 또한 증류 잔사중의 디에틸렌글리콜디메틸에테르와 이소도데칸의 비율은 초기 상태에서 거의 변하지 않았다. 따라서 이 증류 잔사를 세정 액으로 재사용하는 것이 가능했다.Most of the distillation residues were washing liquids, and the water content was 5% by weight or less. In addition, the ratio of diethylene glycol dimethyl ether and isododecane in the distillation residue was hardly changed in the initial state. Therefore, it was possible to reuse this distillation residue as a washing | cleaning liquid.

[실시예 4 내지 비교예 2][Example 4 to Comparative Example 2]

아래의 표 4에서 도시하는 조성의 세정액을 이용하여 아래의 실험 I 및 II를 수행한다.Experiments I and II below were performed using the cleaning solution of the composition shown in Table 4 below.

DEGDM : 디에틸렌글리콜 디메틸에테르DEGDM: Diethylene Glycol Dimethyl Ether

DPGDM : 디프로필렌글리콜 디메틸에테르DPGDM: Dipropylene Glycol Dimethyl Ether

[실험 I(실시예 4 및 비교예2)]Experiment I (Example 4 and Comparative Example 2)

콘덴서 및 고정 저항기를 장착하고 납땜 처리를 실시한 프린트 기판(기판 표면적 5cm )을 시험 조각으로 한다. 납땜 처리는 로진계 납땜 융제(납땜 융제: AGF-200-J3, 아사히화학 주식회사 제품)를 이용하여 수행한다. 이시험 조작을 표 4에서 도시하는 각 세정제에 의해서 세정한다. 세정은 아래의 표 5에서 도시하는 공정으로 수행한다. 표 5에서, 세정 공정 1및 세정 공정 2는 세정액을 바꾸고 2회 세정한 것을 도시한다. 각 세정 공정은 1000ml 비이커내의 1000m1의 세정액을 넣고 세정액에 시험 조각을 침지하여 수행한다. 세정 공정 1에서 사용한 초음파의 주파수는 47kHz이고 출력은 120W이다.Printed boards soldered with capacitors and fixed resistors (5 cm surface area) ) As a test piece. The soldering process is performed using a rosin-based solder flux (solder flux: AGF-200-J3, manufactured by Asahi Chemical Co., Ltd.). This test operation is washed with each detergent shown in Table 4. Washing is performed by the process shown in Table 5 below. In Table 5, cleaning step 1 and cleaning step 2 show that the cleaning solution was changed and washed twice. Each cleaning process is carried out by placing 1000 ml of cleaning liquid in a 1000 ml beaker and dipping the test pieces in the cleaning liquid. The frequency of the ultrasonic wave used in the cleaning process 1 is 47 kHz, and the output is 120W.

표 5에서 도시하는 공정에 의해서 세정·건조한후 각 시험 조각에 잔존하는 이온량과 로진 등의 수지분을 측정함에 따라 각 세정액의 납땜 융제 제거성을 평가한다. 이온량의 측정에 이용한 장치는 이온성 잔사물량 측정 장치(오메가메터, 모델 600S, 알파 메탈즈 주식회사 제품)이다. 잔존하는 수지분은 실체 현미경을 이용하여 육안으로 평가한다. 결과를 표 6에서 도시한다. 표중의 결과에 대한 평가 기준을 다음에서 도시한다.After washing and drying by the process shown in Table 5, the amount of ions remaining in each test piece and the resin content such as rosin are measured to evaluate the solder flux removal ability of each cleaning liquid. An apparatus used for measuring the amount of ions is an ionic residue amount measuring device (omegameter, model 600S, manufactured by Alpha Metals, Inc.). Remaining resin powder is visually evaluated using a stereo microscope. The results are shown in Table 6. Evaluation criteria for the results in the table are shown below.

평가기준 :Evaluation standard :

[실험 II( 실시예 4 및 비교예 2)]Experiment II (Example 4 and Comparative Example 2)

비디오 헤드 등에서 이용되는 페라이트제 자기 헤드(20×5mm, 두께1mm) 10개를 고온용융 접착제(종전자공업 주식회사 제품, 상품명 엘렉트론 왁스)를 이용하여 스테인레스 스틸제 치구(150×30mm, 두께 2mm) 1장에 접착한다. 이 것을 1000ml 비이커에 넣은 표 4의 각 세정 액(1000m1)에 401℃에서 침지하고, 초음파(47KHz, 120W)를 조사하고, 자기 헤드가 치구로부터 모두 박리하는 시간을 측정한다. 결과를 표 6에 나타냈다. 표중의 결과에 대한 평가 기준을 아래에서 도시한다.Stainless steel jig (150 × 30mm, thickness 2mm) using 10 ferrite magnetic heads (20 × 5mm, thickness 1mm) used in video heads, etc. Bond to one piece. This was immersed in each cleaning liquid (1000 ml) of Table 4 put in a 1000 ml beaker at 401 ° C, irradiated with ultrasonic waves (47 KHz, 120 W), and the time taken for the magnetic head to peel off from the jig was measured. The results are shown in Table 6. The evaluation criteria for the results in the table are shown below.

평가기준 :Evaluation standard :

◎ : 박리시간 3분 미만◎: less than 3 minutes of peeling time

○ : 박리시간 3분 이상 5분 미만○: Peeling time 3 minutes or more but less than 5 minutes

△ : 박리시간 5분 이상 10분 미만△: peeling time 5 minutes or more and less than 10 minutes

× : 박리시간 10분 이상X: Peeling time 10 minutes or more

이상, 실시예 4에서 도시하는 바와 같이 본 발명의 세정 방법에 이용되는 세정액은 납땜 융제 제거성 및 고온 용융 접착제 제거성에 우수하다. 다른 한편, 비교예 2의 세정액은 글리콜에틸계 화합물과 탄화수소중 조성이 어느 하나로만 이루어지므로 납땜 융제 제거성 및 고온 용융 접착제 제거성에 떨어진다.As mentioned above, as shown in Example 4, the washing | cleaning liquid used for the washing | cleaning method of this invention is excellent in soldering flux removal property and hot melt adhesive removal property. On the other hand, the cleaning solution of Comparative Example 2 is composed of only one of the glycol ethyl compound and the hydrocarbon, so that it is inferior in solder flux removal property and hot melt adhesive removal property.

[실시예 5]Example 5

콘덴서 및 고정저항기를 장착하고 납땜 처리를 실시한 프린트 기판(기판 표면적 5cm )을 시험 조각으로 한다. 납땜 처리는 로진계 납땜 융제 (납땜 융제 : AGF-200-J3, 아사히 화학 주식회사 제품)를 이용하여 수행한다. 이 시험 조각을 디프로필렌 글리콜 디메틸에테르 50중량%와 n-데칸 50중량%과의 혼.합물을 이용하여 세정한다 세 정은 아래의 표 7에서 도시하는 공정으로 수행한다. 표 7중, 세정공정 1및 세정공정 2는 세정액을 바꾸고 2회 세정한 것을 도시한다. 각 세정 공정은 1000ml 비이커에 1000ml의 세정액 또는 물을 넣고, 그중에 시험 조각을 침지하여 수행한다. 세정공정 1에서 사용한 초음파의 주파수는 47KHz이고, 출력은 120W이다.Printed boards soldered with capacitors and fixed resistors (5 cm surface area) ) As a test piece. Soldering treatment is performed using a rosin-based solder flux (solder flux: AGF-200-J3, manufactured by Asahi Chemical Co., Ltd.). This test piece is washed with a mixture of 50% by weight of dipropylene glycol dimethyl ether and 50% by weight of n-decane. Cleaning is performed by the process shown in Table 7 below. In Table 7, washing step 1 and washing step 2 show that the washing solution was changed and washed twice. Each cleaning process is performed by placing 1000 ml of washing liquid or water in a 1000 ml beaker and immersing test pieces therein. The frequency of the ultrasonic wave used in the washing | cleaning process 1 is 47KHz, and an output is 120W.

표 7에서 도시하는 세정공정 종료후에 시험조각을세정액으로부터 꺼내고 601℃로 유지시킨 건조통에 방치한후 시험조각상에서 세정액이 잔존하지 않을때까지의 시간을 측정한다 시험조각상의 세정액 유무는 적외선 분광분석법에 의해서 세정액으로부터의 특정 파장의 적외선 피크 유무를 관찰함으로써 확인된다. 이 결과, 건조통에서의 방치시간 30초에서 잔존하는 세정액이 없고 세정액이 충분히 휘발되고 건조되었음이 확인되었다.After completion of the cleaning process shown in Table 7, remove the test pieces from the cleaning solution, leave them in a drying container maintained at 601 ° C, and measure the time until the cleaning solution does not remain on the test pieces. It confirms by observing the presence or absence of the infrared peak of the specific wavelength from washing liquid. As a result, it was confirmed that no washing liquid remained in the drying time of 30 seconds in the drying container, and the washing liquid was sufficiently volatilized and dried.

[실시예 6]Example 6

디프로필렌글리콜디메틸에테르 30중량%와 n-데칸 70중량%와의 혼합물로 이루어지는 세정액을 직물에 스며들게 한다. 스테인레스 스틸제 시험조각(150×30mm, 두께 2mm)에 지문을 찍고 이것을 상기의 직물에 의해 지운 결과 지문은 완전히 없어졌다. 또한 지운뒤에 상온에서 시험조각을 방치한바 세정액은 1분이내에 시험조각으로부터 휘발되고 잔존하지 않았다.A cleaning solution consisting of a mixture of 30% by weight of dipropylene glycol dimethyl ether and 70% by weight of n-decane is allowed to soak into the fabric. Fingerprints were printed on stainless steel test pieces (150 x 30 mm, thickness 2 mm) and erased by the above fabrics. In addition, after the test pieces were left at room temperature after being removed, the cleaning solution was volatilized from the test pieces within 1 minute and did not remain.

[실시예 7]Example 7

디프로필렌글리콜 디메틸에테르 60중량%와 n-데칸 40중량%의 혼합물로 이루어지는 세정액 90중량부에 고온 용융 접착제(일화정공 주식회사 제품, 상품명 어드 픽스) 10중량부를 용해한다. 이 용액 16ℓ를 20mmHg의 감압하에서 601℃로 가온하고 60분간 증류한다.10 parts by weight of a high-temperature melt adhesive (manufactured by Ilhwa Precision Co., Ltd., trade name advance fix) is dissolved in 90 parts by weight of a cleaning liquid composed of a mixture of 60% by weight of dipropylene glycol dimethyl ether and 40% by weight of n-decane. 16 liters of this solution was warmed to 601 ° C. under reduced pressure of 20 mmHg and distilled for 60 minutes.

증류액을 자외선분광광도법에 의해 분석한 바, 고온 용융 접착제의 혼입은 확인되지 않았다. 또한 가스 크로마토그래피 법에 의해 상기의 증류액을 분석한바, 초기 배합 상태와 같은 세정액임이 확인되었다. 이어서 증류에서 얻어 진 액을 이용하여 실시예 4의 실험 II와 같은 방법으로 페라이트 헤드와 침구의 박리 실험을 수행한 바, 5분이내에 모든 페라이트 헤드가 침구로부터 박리되었다. 즉, 초기 배합 상태의 세정제와 동등한 고온 용융 접착제의 제거성을 얻었다.When the distillate was analyzed by ultraviolet spectrophotometry, the incorporation of the hot melt adhesive was not confirmed. Moreover, when the said distillate was analyzed by the gas chromatography method, it was confirmed that it is the washing | cleaning liquid like the initial compounding state. Subsequently, the ferrite head and bedding peeling experiments were carried out in the same manner as in Experiment II of Example 4 using the liquid obtained by distillation, and all ferrite heads were peeled from the bedding within 5 minutes. That is, the removal property of the high temperature melt adhesive equivalent to the detergent of the initial compounding state was obtained.

아래의 실험예 8 및 9 및 비교에 3 및 4는 본 발명의 제2의 세정방법의 실시 예 및 비교예이다.Experimental Examples 8 and 9 and 3 and 4 below are examples and comparative examples of the second cleaning method of the present invention.

[실시예 3 및 비교예 3]Example 3 and Comparative Example 3

아래의 표 8에서 도시하는 조성의 세정액을 이용하여, 아래의 실험 I 내지 III을 수행한다.Experiments I to III below were carried out using the cleaning liquid of the composition shown in Table 8 below.

표 8중에서 글리콜 에테르계 화합물 H 내지 O 및 탄화수소 f 내지 j는 각각 아래의 화합물을 도시한다.In Table 8, glycol ether type compounds H-O and hydrocarbons f-j show the following compounds, respectively.

글리콜에테르계 화합물:Glycol Ether Compounds:

H : 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르H: diethylene glycol monomethyl ether

I : 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르I: diethylene glycol monoethyl ether

J : 디에틸레글리콜 모노이소프로필에테르J: diethyl glycol monoisopropyl ether

K : 디 에틸 렌글리콜 모노이소부틸에 테르K: diethylene glycol monoisobutyl ether

L : 디 에틸 렌글리 콜 모노부틸에테르L: diethyl anglycol monobutyl ether

M : 디프로필렌글리콜 모노에 틸에 테르M: Dipropylene Glycol Monoethyl Ether

N : 트리에 틸렌글리 콜 모노에틸에 테르N: triethylene glycol monoethyl ether

O : 디프로필렌글리콜 모노프로필에테르O: dipropylene glycol monopropyl ether

파라핀계 탄화수소 :Paraffinic Hydrocarbons:

f: n-데칸f: n-decane

g : 이소도데칸g: isododecane

h : n-도데칸h: n-dodecane

i : n-트리데칸i: n-tridecane

j : n-테트라데칸j: n-tetradecane

[실험 I(실시예 8 및 비교예 8)]Experiment I (Example 8 and Comparative Example 8)

콘덴서 및 고정 저항기를 장착하고 납땜 처 리를 실시한 프린트 기판(기판 표면적 5cm )을 시험조각으로 한다. 납땜 처리는 로진계 납땜 융제(납땜 융제 : AGF-200-J3, 아사히 화학 주식회사 제품)를 이용하여 수행한다. 이 시험조각을 표 8에서 도시하는 각 세정제에 의해서 세정한다. 세정은 아래의 표 9에서 도시하는 공정으로 수행한다. 세정공정 및 헹굼 공정은 1000ml 비이커에 1000m1의 세정액 또는 물을 넣고 그중에 시험조각을 침지하여 수행한다. 세정 공정에서 사용한 초음파의 주파수는 47KHz이고, 출력은 120W이다.Printed boards with capacitors and fixed resistors and soldered (5 cm surface area) ) As a test piece. The soldering process is performed using a rosin-based solder flux (solder flux: AGF-200-J3, manufactured by Asahi Chemical Co., Ltd.). This test piece is washed with each detergent shown in Table 8. Washing is performed by the process shown in Table 9 below. The washing process and the rinsing process are performed by immersing the test pieces in 1000 ml of cleaning liquid or water in a 1000 ml beaker. The frequency of the ultrasonic wave used in the washing | cleaning process is 47KHz, and the output is 120W.

[실험 II(실시예 8 및 비교예 3)]Experiment II (Example 8 and Comparative Example 3)

표 9에서 도시하는 공정에 의해서 세정·건조를 한 후 각 시험 조각에 잔존하는 이온량과 로진 등의 수지분을 측정하여 각 세정액의 납땜 융제의 제거성을 평가한다. 이온량의 측정에 이용한 장치는 이온성 잔사물량 측정 장치(오메가 메터, 모델 600SC, 알파메탈즈 주식회사 제품)이다. 잔존하는 수지분은 실체 현미경을 이용하여 육안으로 평가한다. 결과를 표 10에서 도시한다. 표중의 결과에 대한 평가기준을 아래에서 도시한다.After washing and drying by the process shown in Table 9, the amount of ions remaining in each test piece and the resin powder such as rosin are measured to evaluate the removability of the solder flux of each cleaning liquid. The device used for the measurement of the amount of ions is an ionic residue amount measuring device (omega meter, model 600SC, manufactured by Alpha Metals Co., Ltd.). Remaining resin powder is visually evaluated using a stereo microscope. The results are shown in Table 10. The evaluation criteria for the results in the table are shown below.

[실험 II(실시예 8 및 비교예3)]Experiment II (Example 8 and Comparative Example 3)

비디오 헤드 등에 사유되는 페라이트제 자기 헤드(20×5mm, 두께 1mm)10개를 고온용융 접착제(슈덴시고교 가부시키가이샤 제품, 상품명 엘렉트론왁스)를 이용하여 스텐레스 스틸제 치구(150×30mm, 두께 2mm) 1장에 접착한다. 이것을 1000ml 비이커에 넣은 표 8의 각 세정 액(1000m1)에 40℃에서 침지하고, 초음파(47KHz, 120W)를 조사하고, 자기 헤드가 치 구로부터 모두 박리하는 시간을 측정한다. 결과를 표 10에 나타낸다. 표중의 결과에 대한 평가 기준을 이하에 나타낸다.Stainless steel jig (150 × 30mm, thickness) using 10 ferrite magnetic heads (20 × 5mm, thickness 1mm) used for video heads using high-temperature melting adhesive (Sheden High School Co., Ltd., product name: Electron Wax) 2mm) adhere to 1 sheet. This was immersed in each cleaning liquid (1000 ml) of Table 8 put in a 1000 ml beaker at 40 ° C, irradiated with ultrasonic waves (47 KHz, 120 W), and the time taken for the magnetic head to peel off from the jig was measured. The results are shown in Table 10. The evaluation criteria for the results in the table are shown below.

평가기준:Evaluation standard:

㉧ : 박리시간 7분 미만㉧: less than 7 minutes

○ : ◎리시간 7분 이상 10분 미만○: ◎ It is less than ten minutes more than seven hours

△ : 박리시간 10분 이상 15분 미만△: peeling time 10 minutes or more and less than 15 minutes

× : 박리시간 15분 이상X: Peeling time 15 minutes or more

[실험 III(실시예 8 및 비교예 3)]Experiment III (Example 8 and Comparative Example 3)

실험 II에 사용한 것과 동일의 페라이트 제품 자기 헤드 10개 및 스테인레스 스틸제 치구 1장을 표 8에 나타낸 각 세정액에 40℃에서 1분간 침지하고, 이어서 상온의 이온 교환수에 30초간 침지한다. 그 다음 100℃의 항온조에 이들 페라이트 제품 자기 헤드 및 스테인레스 스틸제 치구를 넣고 30 분간 방치하고, 수분을 완전하게 제거한 후에 페라이트제 자기 헤드 및 스테인레스 스틸제 치구에 잔존하는 액을 사염화탄소를 사용하여 추출한다. 이 추출액을 적외선분광 광도법에 의하여 분석하여, 세정액의 잔존의 유무를 평가한다. 결과를 표 10에 나타낸다. 표중의 결과에 대한 평가기준을 이하에 나타낸다.Ten magnetic ferrite heads and one stainless steel fixture same as those used in Experiment II were immersed in each of the cleaning liquids shown in Table 8 for 1 minute at 40 ° C, followed by immersion in ion exchanged water at room temperature for 30 seconds. Then, the ferrite magnetic head and the stainless steel jig are placed in a thermostat at 100 ° C. and left for 30 minutes. After the water is completely removed, the remaining liquid in the ferrite magnetic head and the stainless steel jig is extracted using carbon tetrachloride. . The extract is analyzed by infrared spectrophotometry to evaluate the presence or absence of the remaining liquid. The results are shown in Table 10. The evaluation criteria for the results in the table are shown below.

평가기준:Evaluation standard:

O : 세정 액이 잔존하지 않고, 헹굼성 이 우수하다.O: No cleaning liquid remains and the rinsing property is excellent.

△ : 세정액이 약간 잔존하고, 헹굼성이 다소 떨어진다.(Triangle | delta): The washing | cleaning liquid remains a little and rinsing property is inferior.

X : 세정 액이 많이 잔존하고, 헹굼성 이 떨어진다.X: Many washing | cleaning liquids remain and its rinse property is inferior.

이상, 실시예 8에서 나타낸 것 같이, 본 발명의 세정 방법에서 사용되는 세정액은, 납땜 융제의 제거성 , 고온 용융 접 착제의 제거성 및 물에 의한 헹굼성 이 우수하다. 한편, 비교예 3의 세정액은, 이하에 설명 한 것 같이, 납땜 융제 및 고온 용융 접착제의 제거에는 부적당하다.As mentioned above, as shown in Example 8, the washing | cleaning liquid used by the washing | cleaning method of this invention is excellent in the removal property of a soldering flux, the removal property of a high temperature melt adhesive, and the rinsing property by water. On the other hand, the cleaning liquid of Comparative Example 3 is not suitable for the removal of the solder flux and the hot melt adhesive as described below.

세정액(28) : 탄화수소만으로 이루어 지고, 납땜 융제 제거 성 및 헹굼성이 떨어짐.Washing liquid 28: It consists only of hydrocarbon, and it is inferior to solder flux removal property and rinseability.

세정액(29) : 수용성 글리콜에테르계 화합물만으로 이루어지고, 고온 용융 접착제의 제거성이 떨어짐.Washing liquid 29: It consists only of a water-soluble glycol ether type compound, and is inferior to the removal property of a high temperature melt adhesive.

세정액(30) : 옥시에틸렌 부가 몰수가 3이상인 글리콜 에테르계 화합물을 사용하고, 납땜 융제 제거성, 고온 용융 접착제 제거성 및 헹굼성이 떨어짐.Washing liquid 30: It uses the glycol ether type compound of 3 or more oxyethylene addition mole number, and is inferior to solder flux removal property, high temperature melt adhesive removal property, and rinsing property.

세정액(31) : 탄소수 14 이상의 탄화수소를 사용하고, 납땜 융제 제거성 , 고온 용융 접착제 및 헹굼성이 떨어짐.Washing liquid 31: Hydrocarbon 14 or more hydrocarbons are used, and solder flux removal property, high temperature melt adhesive, and rinse property are inferior.

세 정 액(32) : 일반식 (VI)에 있어서 R 이 탄소수 3 이상의 지방족기 인글리롤에테르계 화합물을 사용하고 , 납땜 융제 제거성 및 헹굼성이 떨어짐.Washing liquid (32): R in general formula (VI) Using this C3 or more aliphatic inglirol ether type compound, solder flux removal property and rinse property are inferior.

[실시예 9]Example 9

디에틸렌글리콜 모노이소부틸에 테르 70중량%와 n-트리데칸 30중량%를 혼합한 세정 액 90중량부에 고온 용융 접 착제(닛가 세이코 가부시키가이샤 제품, 상품명 아도픽스) 10중량부를 용해한다. 이 용액 6ℓ를 30mmHg의 감압하에서 110℃로 가온하고. 60분간 증류한다.10 parts by weight of a high-temperature melt adhesive (Niiga Seiko Co., Ltd., trade name Adopix) is dissolved in 90 parts by weight of a cleaning liquid obtained by mixing 70% by weight of diethylene glycol monoisobutyl ether and 30% by weight of n-tridecane. 6 L of this solution were warmed to 110 ° C. under reduced pressure of 30 mmHg. Distill for 60 minutes.

증류로 수득된 액을 적외선분광 광도법에 의해 분석한 바, 고온 용융 접착제의 혼입은 확인되지 않았다. 또한, 가스 크로마토그래피법에 의해 상기의 증류액을 분석한바, 초기 배합 상태와 동일한 세정액인 것이 확인되었다. 또한, 이 증류액을사용하여 실시예 8의 실험 II와 동일한 방법으로 페라이트 헤드와 치구의 박리 실험을 수행한바, 7분 이내에 모든 페라이트 헤드가 치구로부터 박리되었다. 즉, 초기 배합 상태의 세정제와 동등한 고온용융 접 착제의 제거성이 얻어졌다.Analysis of the liquid obtained by distillation by infrared spectrophotometry showed no incorporation of the hot melt adhesive. Moreover, when the said distillate was analyzed by the gas chromatography method, it was confirmed that it is the washing | cleaning liquid same as an initial compounding state. Further, using this distillate, the ferrite head and the jig peeling experiment were carried out in the same manner as in Experiment II of Example 8, and all ferrite heads were peeled from the jig within 7 minutes. That is, the removal property of the hot melt adhesive equivalent to the detergent of the initial compounding state was obtained.

또한 표 9의 헹굼 공정 1에서 발생하는 세정액과 수돗물이 혼합된 용액(세정액 : 수돗물 = 15중량%: 85중량%,) 16ℓ에 대하여, 20mmHg에 감압하에서 35℃로 가온하여 60분간 감압 증류를 수행한바, 증류액 12mmHg가 수득되었다. 이 증류액의 대부분은 물이고, 혼입된 세정액은 2중량% 이하였다. 따라서, 수득된 증류액을 표 9에 나타낸 공정 1에서 재사용할 수 있다. 증류 잔사는 대부분이 세정액이며 혼입된 수분량은 2중량% 이하이다. 또한 증류 잔사 중의 디에틸렌글리콜 모노이소부틸 에테르와 n-트리 데칸의 비율은 초기 상태와 대부분 변화하지 않았다. 따라서, 이 증류 찬사를 세정액으로서 재사용하는 것이 가능하였다.In addition, to 16 l of the solution (washing water: tap water = 15% by weight: 85% by weight) mixed with the washing solution generated in the rinsing step 1 of Table 9, the mixture was heated at 35 ° C under reduced pressure at 20 mmHg for 60 minutes under reduced pressure. As a result, 12 mm Hg of distillate was obtained. Most of this distillate was water, and the mixed washing liquid was 2% by weight or less. Thus, the distillate obtained can be reused in Process 1 shown in Table 9. Distillation residues are mostly washing liquids and the amount of water incorporated is 2% by weight or less. In addition, the ratio of diethylene glycol monoisobutyl ether and n-tridecane in the distillation residue was largely unchanged from the initial state. Therefore, it was possible to reuse this distillation admiration as a washing liquid.

[비교예 4][Comparative Example 4]

760mmHg에 있어서의 평균 비점 차이가 약 25℃인 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르(760mmHg에 있어서의 평균 비점 202C ) 85중량%와 n-트리데칸(760mmHg에 있어서의 평균 비점 227℃) 15중량%와의 혼합물로 이루어진 세정액 16ℓ를 30mmHg의 감압하에서 1101℃에서 60분간 증류한다. 수득된 증류액의 조성을 가스 크로마토그래피 법에 의하여 분석한다. 그 결과, 초기 배합상태와는 달리, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르가 90중량%를 초과하는 조성이었다. 이 증류액을 사용하여 실시예 8의 실험 11에 나타나는 방법으로 페라이트 자기 헤드를 치구로부터 박리하는 실험을 수행한 바, 박리에 요하는 시간은 10분을 넘었다.A mixture of 85% by weight of diethylene glycol monoethyl ether (average boiling point 202C at 760mmHg) and 15% by weight of n-tridecane (average boiling point at 227mmH at 760mmHg) having an average boiling point difference of about 25 ° C at 760mmHg. 16 L of the washing liquid was distilled at 1101 DEG C for 60 minutes under reduced pressure of 30 mmHg. The composition of the obtained distillate is analyzed by gas chromatography. As a result, unlike the initial blended state, diethylene glycol monoethyl ether was a composition exceeding 90% by weight. Using this distillate, the experiment which peeled a ferrite magnetic head from the jig by the method shown in the experiment 11 of Example 8 carried out the time required for peeling more than 10 minutes.

상기와 같이, 본 발명에 의하면 납땜 융제 및/또는 고온 용융 접착제에 대한 세정성이 높은 세정 방법이 제공된다. 본 발명의 세정 방법 에 의하면 , 소정의 글리콜에테르계 화합물과 파라핀계 탄화수소를 조합하여 세정액으로 사용함으로써, 계면활성제를 사용하는일 없이 높은 세정성이 얻어지고, 동시에 제거 대상물을 용해하고 있는 세정후의 세정액으로부터 증류에 의하여 세정액을 회수하고, 재이용하는 것이 가능하게 된다. 따라서, 본 발명의 방법에 의하면, 산업 폐기물을 현저하게 줄이는 것이 가능하게 되고, 세정에 소요된 비용을 대폭적으로 절감할 수 있다.As described above, the present invention provides a cleaning method having high cleaning property against a solder flux and / or a hot melt adhesive. According to the washing | cleaning method of this invention, by using a predetermined | prescribed glycol ether compound and a paraffinic hydrocarbon in combination as a washing | cleaning liquid, high washing | cleaning property is obtained without using surfactant, and also the washing | cleaning liquid after washing which melt | dissolves the removal object at the same time. It is possible to recover and reuse the washing liquid by distillation. Therefore, according to the method of the present invention, it is possible to remarkably reduce industrial waste, and the cost required for cleaning can be greatly reduced.

또한 본 발명의 세정방법에 의하면, 피세정물에 부착한 세정 액을 물로 용이하게 제거하고 피 세정물에 부착한 세정액을 건조에 의하여 용이하게 제거하는 것이 가능하게 된다.Moreover, according to the washing | cleaning method of this invention, it becomes possible to remove the washing | cleaning liquid adhered to the to-be-cleaned object easily with water, and to remove the washing | cleaning liquid attached to the to-be-cleaned object easily by drying.

본 발명의 각종의 개량변경은, 본 발명의 범위 및 기술적 사상으로부터 이탈하는 일 없이, 당업자에 의하여 용이하게 이루어진다. 따라서, 첨부된 특허청구의 범위는 상기의 기재에 의하여 한정되는 것을 의도하지 않고, 차라리 넓게 해석되는 것이 의도된다.Various modifications and changes of the present invention can be easily made by those skilled in the art without departing from the scope and technical spirit of the present invention. Accordingly, the scope of the appended claims is not intended to be limited by the above description, but rather is to be construed broadly.

Claims (13)

납땜 융제 및 고온용융 접착제로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 제거 대상물을 피세정물로부터 제거하기 위한 세정 방법에 있어서, 실질적으로 글리콜 에테르 성분(A) 및 파라핀계 탄화수소 성분(B)로 이루어진 세정액을 사용하여 상기 피세정물을 세정하는 공정을 포함하고, 여기서 상기성분(A)가, 일반식 (I) 및 일반식(II)의 수용성 글리콜 에테르계 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 글리콜 에테르계 화합물이고, 상기 성분(B)가 탄소수 10내지 13의 n-파라핀계 탄화수소 및 이소파라핀계 탄화수소로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 파라핀계 탄화수소임을 특징으로 하는 세정방법.A cleaning method for removing an object to be removed from a cleansing object selected from the group consisting of a solder flux and a hot melt adhesive, wherein the cleaning liquid comprises substantially a cleaning liquid consisting of a glycol ether component (A) and a paraffinic hydrocarbon component (B). And a step of washing the object to be cleaned, wherein the component (A) is a glycol ether compound selected from the group consisting of water-soluble glycol ether compounds of the general formula (I) and the general formula (II), And (B) is a paraffinic hydrocarbon selected from the group consisting of n-paraffinic hydrocarbons and isoparaffinic hydrocarbons having 10 to 13 carbon atoms. 상기식에서, R1및 R2는 각각 독립적으로 메틸기 또는 에틸기이고, R3및 R4는 메틸기이다.In the above formula, R 1 and R 2 are each independently a methyl group or an ethyl group, and R 3 and R 4 are methyl groups. 제1항에 있어서, 성분(A)와 성분(B)의 혼합 비율이 중량비로 A:B=50:50 내지 90:10임을 특징으로 하는 세정 방법.The cleaning method according to claim 1, wherein the mixing ratio of component (A) and component (B) is A: B = 50: 50 to 90:10 in weight ratio. 제1항에 있어서, 성분(A)가 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 에틸메틸에테르 및 디에틸렌 글리콜 디에틸에테르로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 글리콜 에테르계 화합물이고, 성분(B)가 n-운데칸, n-도데칸 및 이소도데칸으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 파라핀계 탄화수소임을 특징으로 하는 세정방법.The compound (A) is a glycol ether compound selected from the group consisting of diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, and diethylene glycol diethyl ether, and component (B) is n-undone. And a paraffinic hydrocarbon selected from the group consisting of can, n-dodecane and isododecane. 제1항에 있어서, 성분(A)가 디에틸렌글리콜디메틸에테르 및 디프로필렌글리콜 디메틸에테르로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 글리콜 에테르계 화합물이고, 성분(B)가 n-데칸임을 특징으로 하는 세정방법.The cleaning method according to claim 1, wherein component (A) is a glycol ether compound selected from the group consisting of diethylene glycol dimethyl ether and dipropylene glycol dimethyl ether, and component (B) is n-decane. 제1항에 있어서, 피세정물에 부착되어 있는 세정액을 물로 제거하는 공정을 추가로 포함함을 특정으로 하는 세정방법.The cleaning method according to claim 1, further comprising the step of removing the cleaning liquid adhering to the object to be cleaned with water. 제4항에 있어서, 피세정물에 부착된 세정액을 건조에 의하여 제거하는 공정을 추가로 포함함을 특징으로 하는 세정방법.The cleaning method according to claim 4, further comprising a step of removing the cleaning liquid adhered to the object to be cleaned by drying. 제1항에 있어서, 제거 대상물을 용해하고 있는 세정후의 세정액으로부터 증류에 의하여 세정액을 회수하는 공정 및 회수된 세정 액을 재사용하여 피세정물을 세정하는 공정을 추가로 포함함을 특징으로 하는 세정방법.The cleaning method according to claim 1, further comprising a step of recovering the cleaning liquid by distillation from the cleaning liquid after washing in which the object to be removed is dissolved, and a step of reusing the recovered cleaning liquid to clean the object to be cleaned. . 제1항에 있어서, 제거대상물이 고온 용융 접착제임을 특징으로 하는 세정방법.The cleaning method according to claim 1, wherein the object to be removed is a hot melt adhesive. 납땜 융제 및 고온 용융 접착제로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 제거 대상물을 피세 정물로부터 제거하기 위한 세정방법에 있어서, 실질적으로 글리콜 에테르 성분(A) 및 파라핀계 탄화수소 성분(B)로 이루어지고, 760mmHg에서 상기 성분(A)이 평균 비점과 상기 성분(B)의 평균 비점의 차이가 10℃ 이내인 세정액을 사용하여 상기 피세정물을 세정하는 공정 및 상기 제거 대상물을 용해하고 있는 세정후의 세정액으로부터 증류에 의하여 상기 세정액을 회수하는 공정을 포함하고, 여기서 상기 성분(A)가 (III) 및 일반식 (IV)의 수용성 글리콜 에테르계 화합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 글리콜 에테르계 화합물이고, 상기 성분(B)가 탄소수 10 내지 13의 n-파라핀계 탄화수소 및 이소파라핀계 탄화수소로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 파라핀계 탄화수소임을 특징으로 하는 세정방법.A cleaning method for removing a removal object selected from the group consisting of a solder flux and a hot melt adhesive, substantially comprising a glycol ether component (A) and a paraffinic hydrocarbon component (B), the component at 760 mmHg. (A) the above-mentioned process is carried out by washing the object to be cleaned using a cleaning liquid having a difference between the average boiling point and the average boiling point of the component (B) within 10 ° C., and distilling from the cleaning liquid after washing to remove the object to be removed. Recovering the washing liquid, wherein the component (A) is a glycol ether compound selected from the group consisting of (III) and a water-soluble glycol ether compound of the general formula (IV), and the component (B) Paraffinic carbonization selected from the group consisting of 10-13 n-paraffinic hydrocarbons and isoparaffinic hydrocarbons The cleaning method characterized by the hydrogen. 상기식에서, R5는 탄소수 1내지 4의 지방족이고, R6는 수소이고, R7은 메틸기 또는 에틸기 이고, R8은 수소이다.In the above formula, R 5 is aliphatic having 1 to 4 carbon atoms, R 6 is hydrogen, R 7 is a methyl group or an ethyl group, and R 8 is hydrogen. 제9항에 있어서, 성분(A)와 성분(B)의 혼합비율이 중량비로 A:B=50:50 내지 90:10임을 특징으로 하는 세정방법.A method according to claim 9, wherein the mixing ratio of component (A) and component (B) is A: B = 50: 50 to 90:10 by weight. 제9항에 있어서, 성분(A)가 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노이소프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노이소부틸에테르 및 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 글리콜에테르계 화합물이고, 성분(B)가 n-도데칸, n-트리데칸 및 이소트리데칸으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 파라핀계 탄화수소임을 특징으로 하는 세정방법.A group according to claim 9, wherein component (A) is composed of diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoisopropyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monoisobutyl ether, and dipropylene glycol monoethyl ether. And a glycol ether compound selected from the group consisting of paraffinic hydrocarbons selected from the group consisting of n-dodecane, n-tridecane and isotridecane. 제9항에 있어서, 피세정물에 부착되어 있는 세정액을 물로 제거하는 공정을 추가로 포함함을 특징으로 하는 세정방법.10. The cleaning method according to claim 9, further comprising a step of removing the cleaning liquid attached to the object to be cleaned with water. 제9항에 있어서, 증류에 의해 회수된 세정액을 재사용하여 피세정물을 세정하는 공정을 추가로 포함함을 특징으로 하는 세정방법.The cleaning method according to claim 9, further comprising the step of reusing the cleaning liquid recovered by distillation to clean the object to be cleaned.
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