KR100193123B1 - 강유전성 액정 디스플레이의 스멕틱 층의 공간 정렬을 안정화하는 방법 및 장치 - Google Patents

강유전성 액정 디스플레이의 스멕틱 층의 공간 정렬을 안정화하는 방법 및 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 작동되지 않는 동안 및/또는 작동 온도범위를 포함하는 예정된 온도 위의 특정한 온도를 초과하는 경우 및/또는 작동 온도 범위를 포함하는 예정된 온도범위 미만의 특정한 온도 미만인 경우에 소자를 교호적으로 스위칭시킴을 포함하는, 스멕틱 층의 원래의 형태가 전기장처리에 의해 변형된 FLC 변환 및/또는 디스플레이 소자에서의 스멕틱 층의 공간 정렬을 안정화시키는 방법에 관한 것이다.
본 발명에 따르는 방법을 사용하면 의사 북 쉘프 형태의 반복된 재생의 경우에도 스위칭 및 디스플레이 장치를 장기간 기능을 발휘하도록 하며, 콘트라스트 및 휘도의 감소 및 고스트 영상의 발생을 방지한다.

Description

강유전성 액정 디스플레이의 스멕틱 층의 공간 정렬을 안정화하는 방법 및 장치
강유전성 액정 혼합물을 함유하는 스위칭(switching) 및 디스플레이 장치(display device)는, 예를 들면, EP-B 제0 032 362호(미합중국 특허 제4,367,924호에 상응함)에 기술되어 있다. 액정 광 밸브는, 예를 들면 전기적 스위칭으로 인하여 입사광(및 가능하게는 재반사광)이 강도 변조(indensity-modulation) 또는 상변조되도록 하는 방식으로 이들의 광 전송 특성을 변화시키는 장치이다. 이러한 광 밸브 다수를 조합하여 액정 디스플레이(LCD)를 형성할 수 있다. 이의 예는 공지된 시계 및 계산기 디스플레이 또는 OA(사무자동화) 및 TV 분야에서의 액정 디스플레이이다. 그러나, 이들은 또한 사진 복사지(photocopier), 인쇄기 등에 사용되는 광셔터(light shutter)를 포함한다. 소위 공간 광 변조기도 액정 광 밸브의 적용 분야에 포함된다[참조 : Liquid Crystal Device Handbook, Nikkan Kogyo Shimbun, Tohyo, 1989; ISBN 4-526-02590-9C 3054 및 이 문헌에 인용된 논문].
전기 광학 스위칭 및 디스플레이 장치는, FLC 층이 당해 층에서 시작하여 하나 이상의 정렬층, 전극 및 한정 판[예 : 유리로 제조된 판]의 순서로 일반적으로 존재하는 층들에 의해 양쪽면에 포함되도록 하는 방법으로 구성된다. 또한, 이러한 장치는 게스트-호스트 모드(guesr-host mode) 또는 반사 모드로 작동되는 경우에는 하나의 편광자를 포함하거나 투과 복굴절 모드가 사용되는 경우에는 2개의 편광자를 포함한다. 스위칭 및 디스플레이 소자는, 필요한 경우, 추가의 보조층[예: 확산 차단층 또는 절연층]을 포함할 수 있다.
이러한 정렬층은 충분히 짧도록 선택된 산정 판들 사이의 거리와 함께, FLC 혼합물의 FLC 분자가, 분자들의 장축이 서로 평행하고 스멕틱 면이 정렬층과 수직으로 배열되거나 정렬층에 대해 경사지게 배열되도록 한다. 이러한 배열에서, 분자들은 2개의 동등한 정렬층을 가지며, 당해 정렬층들 사이에 펄스화된 방식으로 전기장을 적용시킴으로써 스위칭시킬 수 있다. 즉, FLC 디스플레이는 쌍안정성 스위칭(bistable switching)시킬 수 있다. 응답 시간은 FLC 혼합물의 자발분극에 반비례하여 마이크로초(microsecond)의 범위내에 존재한다.
여전히 산업적 실시에서 통상적으로 사용되는 LC 디스플레이에 대한 FLC 디스플레이의 중요한 이점은 성취가능한 다중비, 즉 통상적인 LC 디스플레이와 대조적으로, FLC 디스플레이에서 사실상 제한되지 않는, 시간 순차적 방법(다중 방법)으로 어드레싱(addressing)될 수 있는 최대 라인(line) 수인 것으로 간주된다.
강유전성 액정(FLC)에서, 디스플레이[참조: N. A. Clark, S. T. Lagerwall, Appl. Phys. Lett. 36(1980); K. Kondo et al. Jpn. J. Appl. Phys. 27(1988) 464; HOE 89/F 157]를 실제 사용함에 있어서는 스멕틱 층의 균일한 정렬, 특히 변하지 않는 정렬을 필요로 한다. 수직 배열 층들은 디스플레이 평면과 거의 평행하다. 즉, 이들의 평균 방향은 디스플레이 영역에 걸쳐 동일해야 한다. 따라서, 사용된 편광자는 전체 디스플레이에 걸쳐 최대 콘트라스트 및/또는 최대 휘도(brightness)가 성취될 수 있도록 액정에 대하여 배열될 수 있다.
스위칭 공정 동안, 분자는 이에 대하여 수직인 수직 배열 층에서의 변화없이 디스플레이 평면에서 이방성 굴절물의 우선 방향(preferential direction)을 변화시키는 상태로 스위칭된다. 본 발명에서 이상적인 물리적 특성은 복굴절 효과가 사용되는 경우의 45°의 각도 변화 및 게스트-호스트 모드가 사용되는 경우의 90°의 각도 변화이다.
디스플레이를 제조하는 동안의 정렬 공정에서, 액정은 대개 가열시킨 다음 실온으로 재냉각시킨다. 냉각시키는 동안, 특히 스멕틱 A 상에서 스메틱 C 상으로의 전이에서, 일반적으로 스멕틱 층의 두께가 얇아져서 소위 쉐브론 구조(chevron structure)[참조: 정의 - T. P. Rieker et al., Phys. Rev. Lett. 59, 2658]가 형성되며, 이는 다시 디스플레이에서의 스위칭 동안에 이방성 굴절률의 우선 방향의 각도 변화를 현저하게 감소시킴으로써, 예를 들면, 최대 가능한 휘도를 제한한다.
그럼에도 불구하고, 최대 스위칭 각을 성취하는 한 가지 방법은, 쉐브론 구조에서 각이 진 스멕틱 층이 의사 북쉘프 기하형태(quasi-bookshelf geometry)[참조: 정의-R. Dubal, C. Escher, D. Ohlendorf, Proc. of the 6th Int. Symp. Electrets, Oxford, UK, p 344; Sato et al., Jap. J. Appl. Phys. 28, L 483(1988)]를 제공하도록 정렬된 교류(alternating field)을 사용하는 소위 텍스쳐 변형법(texture modification)이며, 이는 예를 들면, 실온 또는 고온[예: 최대 작업온도]에서 수행할 수 있다.
디스플레이가 가열되고 장 처리(field treatment) 온도 이상의 임계온도를 초과하는 경우, 그때까지 디스플레이 평면에서 변화하지 않은 수직 배열 층은 경사질 수 있다[참조: Z. Zhuang, N. A. Clark, M. R. Meadows, Phys. Rev. A, 45(10), 1992]. 디스플레이를 냉각시키는 경우에는, 쉐브론 기하형태가 다시 형성된다. 디스플레이를 장 처리하지 않고 재가열하는 경우에는, 원래의 장 처리 후에 Sc *상에서 그때까지 도달된 최대 온도가 초과하는 경우에만 추가의 경사가 발생한다. 그러나, 추가로 장 처리하는 경우에는, 추가의 가열 및 냉각에 의한 영향이 누적되며 증가한다. 이에 의해 디스플레이가 장기간 작동하면, 콘트라스트 및 휘도의 악화와 고스트 영상(ghost image)의 출현으로 인하여 사실상 상당히 위험하게 되어, 장 처리 기술 전부를 의심스럽게 만든다. 장 처리하지 않는 경우에는, 충의 경사현상을 관찰하는 것이 지금까지는 불가능하였다.
놀랍게도 본 발명에 이르러 기입된 스위칭 상태(written-in-switchingstate)가 위에서 기술한 사이클 동안 임계온도를 초과하여 변하는 경우, 위에서 기술한 누적적인 영향이 감소되는 것을 발견하였다.
임계온도는 층 경사에 의한 누적적인 영향이 특정한 허용치(tolerance value)에 도달하는 각각의 한정된 수의 가열 사이클 동안에 수득된 온도로서 정의한다.
따라서, 본 발명은 작동하지 않은 동안 및/또는 작동 온도 범위를 포함하는 예정된 임계온도 범위 이상의 특정한 온도에 도달하는 경우 액정 소자들을 교호적으로 스위칭시킴을 포함하여, 스멕틱 층의 원래의 위치가 전기장 처리에 의해 변화되는, FLC 스위칭 소자, 디스플레이 소자 또는 이들 둘 다에서 스멕틱 층의 공간정렬을 안정화시키는 방법에 관한 것이다.
따라서, 스위칭 상태는 예를 들면, 임계온도를 초과할때마다 기껏해야 1회, 즉 변하지 않거나 1회 변할 수 있다. 또한, 이와 같은 효과가 이러한 작동 동안에 도달된 더 높은 최대온도에서 더욱 현저하다는 사실은, 앞선 가열 단계 동안에 어떠한 스위칭 상태에서 어떠한 최대 온도가 성취되는가에 따라, 임계온도를 종종 초과하는 경우에 형성된 스위칭 상태를 부가(weighting)함으로써 바람직하게 고려할 수 있다.
유리한 부가 과정은 예를 들면, 스멕틱 층의 경사각의 온도변화를 나타내는 보정 곡선을 참조로 하여 수행할 수 있다. 이러한 보정 곡선은 미리 작성해야 하며 광 밸브의 어드레싱을 전기적으로 제어하는 동안 당해 분야의 숙련가들에게 공지된 적합한 방법으로 수행하여야 한다.
본 발명의 추가로 바람직한 양태에 따라, 층 경사 현상은, 임계온도를 초과하는 경우 전기적 어드레싱을 이용하여 스위칭 상태를 항상 변화시킴으로써 방지한다. 이는 전기장 처리, 텍스쳐 변형 및/또는 단 스위칭 펄스(short switching pulse)에 의해 성취할 수 있으며, 후자는 에너지 절약적인 방법이다. 스위칭 변화 사이의 시간은 특히 온도 변화 및 예상하는 효과의 정도에 좌우될 수 있다. 스위칭 변화 주기가 더 크게 선택될수록 목적하는 더 완벽하고 신뢰할만하다. 반면, 에너지 절약 측면에서는 스위칭 변화 주기가 더 작은 것이 바람직하다. 이러한 이유 때문에, 냉각 공정 동안, 일정한 온도에서 및 Sc *상 이상의 온도에 도달하는 경우에는 추가의 스위칭이 생략될 수 있다. 바람직한 주기 범위는 하루 한번의 스위칭 변화와 액정의 최대 스위칭 주기 사이의 변화이다. 온도 사이클 후에, 텍스쳐 변형은 목적하는 온도에 도달하는 경우 다시 이루어질 수 있으며, 이에 따라 단 1회의 사이클 후에 원래의 상태가 회복된다. 이러한 방법의 추가의 이점은, 각각의 화소(pixel)가 화소들 사이의 온도 차이와 무관하게 자동적으로 올바르게 보정되기 때문에, 온도 변화 동안에 경사되는 층에 관한 정밀한 사전 지식도 이 경우에는 불필요하다는 점이다.
스위칭 변화를 위한 적합한 신호 형태는 연속적인 전기적 어드레싱[예: 정방형 신호 및 사인파형(sinusoidal) 신호] 및/또는 펄스화된 전기적 어드레싱이다. 광 밸브의 정상 작동에 사용되는 어드레싱 체계를 사용할 수 있다. 또한, 반대 극성의 펄스들 사이에 휴지 기간(pause period)을 갖는 신호가 휴지 기간을 갖지 않는 것보다 종종 더 효과적인 것으로 밝혀졌다.
위에서 기술한 스위칭 전진(forth) 및 후진(back)은 원칙적으로 어떠한 스크린 패턴에 대해서도 수행할 수 있다. 최종적으로 나타난 영상의 반전(inversion)은, 영상 정보가 보유되기 때문에 특히 양질이다. 또한, 적어도 규칙적인 작동에서의 영상 반전의 작동은 사용자에게 고온 상황임을 알려준다.
이 공정은 또한 전단(shearing)에 의해 북쉘프 기하형태가 생성되는 디스플레이에 사용될 수 있다.
본 발명에 따르는 방법에 있어서는, 디스플레이가 사용되지 않는 경우에도 [스위칭-오프 상태(switched-off state)에서도] 전기적 어드레싱을 수행할 수 있도록 하기 위해, 예를 들면, 재충전 전지(rechargeable battery) 또는 표준 전지를 사용하여 연속적인 전력을 공급하는 것이 필요하다. 연속적인 전력 공급은 또한 기타의 기능[예: 시계, 메모리 등]을 위해서도 사용할 수 있다. 또한, 본 발명에 따르는 방법을 제어하기 위하여, 디스플레이의 온도 및/또는 온도 변화는 센서/센서들을 사용하여 측정하고/하거나 저장할 수 있다. 전자적 제어의 경우, 사용된 공정은 디스플레이의 신규한 어드레싱이 일어날 수 있도록 수행하여야 한다.
저온으로 냉각시키는 경우 층의 가능한 경사를 위해 상응하는 과정을 채택할 수 있다.
이 공정은 또한 고스트 효과(표면 기억 효과)와 같은 기타의 바람직하지 않은 효과를 제거하는데 사용할 수 있다. 따라서, 온도를 제한하지 않고 스위칭-오프 상태에서 디스플레이의 신규한 어드레싱을 수행하는 것이 유리할 수 있다.
스위칭 변화를 적합하게 선택함으로써, 필요에 따라, 특별한 층 경사를 수득할 수도 있다.
본 발명은 또한, 연속 전력 공급장치(a), 드라이버 IC(b), 하나 이상의 온도 센서(c), 온도, 디스플레이 스위칭 상태의 작동/비작동 또는 이들 둘 이상 및 스멕틱 층의 경사 각의 온도변화와 디스플레이의 선행 이력(history)을 나타내는 보정곡선의 특정한 저장값에 대한 정보를 상응하는 스위칭 변화 상태로 전환시키기는 하나 이상의 제어 소자(d) 및 필요에 따라, 기억장치(e)를 포함하는, 스멕틱 층의 원래의 기하형태가 전기장 처리에 의해 변형된 FLC 스위칭 소자, 디스플레이 소자 또는 이들 둘 다에서 스멕틱 층의 공간 정렬(spatial alignment)을 안정화하는 장치에 관한 것이다.
본 발명에 따르는 방법을 사용하면 의사 북쉘프 기하형태의 반복된 재생의 경우에도 스위칭 및 디스플레이 장치가 장기간 동안 기능을 발휘하도록 보장하며 콘트라스트와 휘도의 악화 및 고스트 영상의 발생을 방지한다.
본 발명에 따르는 방법은, 예를 들면, SSFLC(표면 안정화된 강유전성 액정), SBF(단복굴절 강유전성) 또는 DGT(변형된 나선형 강유전성) 디스플레이에서 강유전성 액정을 포함하거나 전기분석적 스위칭(electroclinic switching)[전기분석적 스위칭의 정의 참조: S. Garoff et al., Phys. Rev. Lett. 38(1977) 848]을 가능하게 하는 모든 형태의 광학 스위칭 및/또는 디스플레이 장치에 사용될 수 있으며, 이들 모두는 게스트-호스트 모드(guest-host mode) 또는 복굴절 모드로 작동될 수 있다.
본 발명은 하기 실시예를 통하여 보다 상세히 설명된다:
실시예에서는 하기 FLC 혼합물을 사용한다: (수치는 mol%를 나타낸다).
혼합물의 상 서열은 다음과 같다: Sc *62.5 SA69 N*83 I.
[실시예 1]
위에서 언급한 FLC 혼합물 중의 하나를 ITO 전극 및 표면 개질된 말레이미드-스티렌 공중합체의 정렬층내로 도입시킨다. 표면 개질은 화합물(ZI)을 사용하여 수행한다.
이러한 형태의 전지는 독일연방공화국 특허원 제P 42 12 893.5호에 기술되어 있다. 다음과 같은 가열 사이클을 수행한다:
제1 사이클: 25℃에서의 텍스쳐 변형(10Hz, 정방형 15V/㎛, 3min), 2개의 화소는 모두 암(暗) 상태로 스위칭시킴. 우측 화소는 어드레싱 체계[200ms 펄스 분리/50㎲ 펄스 너비(교호하는 2극성 정방형 펄스)]를 사용하여 스위칭시킴. 1분간 63.5℃(1K 이상 Sc *-SA)로 가열, 층 경사(LT)의 측정, 25℃로 냉각, 텍스쳐 변형, 층 경사(LT)의 측정.
제2 사이클: 제1 사이클에서와 동일.
제3 사이클: 55℃로만 가열시키고 이 온도에서 17시간 동안 컨디셔닝하는 것을 제외하고는 제1 사이클에서와 동일.
제4 사이클: 2초 펄스 분리 및 500ms 펄스 너비와 6K/min으로 가열시키는 것을 제외하고는 제1 사이클에서와 동일.
층 경사는 편광 현미경으로 관찰하여 측정한다.
결과를 표 1에 나타내었다.
수득된 값은, 본 발명에 따르는 방법을 사용하는 경우에는 층 경사가 방지됨을 확인해 준다.
[실시예 2]
위에서 언급한 FLC 혼합물 중의 하나를 ITO 전극 및 규소 함유 유기 물질의 정렬층을 지닌 1.5㎛ 전지 속으로 도입시킨다.
각종 장 형태를 사용하여 하기 가열 사이클을 수행한다:
25℃에서의 텍스쳐 변형(10Hz, 정방형 30V/1.5㎛, 10초),
제1 사이클: 1분내에 60℃로 가열, 25℃로 냉각, 텍스쳐 변형, 콘트라스트비 및 층 경사 측정.
제2 사이클 내지 제4 사이클: 제1 사이클에서와 동일.
다음과 같은 장 형태를 전지 1 내지 4에서 사용한다.
전지 1: 전기장 부재.
전지 2: 반대 극성의 펄스 사이에 400msec 휴지기를 갖는 2V 100msec 펄스.
전지 3: 3V 100msec 연속 정방형 펄스.
전지 4: 각각의 사이클 사이에 99msec 휴지기를 갖는 15V 1msec 펄스.
결과는 표 2에 나타내었다.
이러한 결과로부터, 반대 극성(전지 2)의 펄스들 사이에 휴지기를 갖는 장 형태가 이러한 조건하에서 가장 효과적인 것으로 밝혀졌다.

Claims (19)

  1. 예정된 임계온도 또는 임계온도들에 도달하는 경우 액정을 효과적으로 스위칭시킴을 포함하여, 스멕틱 층의 원래의 쉐브론 기하형태가 전기장 처리에 의해 의사 북쉘프 기하형태(quasi-bookshelf geometry)로 전환되는, FLC 스위칭 소자, 디스플레이 소자(디스플레이) 또는 이들 둘 다[여기서, 디스플레이에는 연속적인 전력 공급장치와 디스플레이의 온도를 측정하는 센서가 부착되어 있다]에서 디스플레이 평면의 스멕틱 층의 공간 정렬을 안정화하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 예정된 임계온도 또는 임계온도들에 도달하는 경우, 액정이 2회 이상 교호적으로 스위칭되는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 임계온도 또는 임계온도들에 도달할 때마다 액정이 다시 교호적으로 스위칭되는 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 스위칭 소자, 디스플레이 소자 또는 이둘 둘 다가, 임계온도에 도달하는 때 온도가 상승하는 경우에 교호적으로만 스위칭되고 Sc *상의 온도 범위에만 있는 방법.
  5. 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 스위칭 소자, 디스플레이 소자 또는 이둘 둘 다가 임계온도에 도달한 후에 온도가 상승하는 경우에 교호적으로만 스위칭되는 방법.
  6. 액정을 디스플레이[여기서, 당해 디스플레이에는 연속적인 전력공급장치가 구비되어 있다]의 스위칭-오프 상태(switched-off state)에서 1회 스위칭변화/일의 주기로 액정의 최대 스위칭 주기 이하로 교호적으로 스위칭시킴을 포함하여, 스멕틱 층의 원래의 쉐브론 기하형태가 전기장 처리에 의해 의사 북쉘프 기하형태로 전환되는, FLC 스위칭 소자, 디스플레이 소자(디스플레이) 또는 이들 둘다에서 디스플레이 평면의 스멕틱 층의 공간 정렬을 안정화하는 방법.
  7. 액정을 디스플레이[여기서, 당해 디스플레이에는 연속적인 전력 공급장치가 구비되어 있다]의 스위칭-온 상태(switched-on state)에서 1회 스위칭 변화/일의 주기로 액정의 최대 스위칭 주기 이하로 교호적으로 스위칭시킴을 포함하여, 스멕틱 층의 원래의 쉐브론 기하형태가 전기장 처리에 의해 의사 북쉘프 기하형태로 전환되는, FLC 스위칭 소자, 디스플레이 소자(디스플레이) 또는 이들 둘다에서 디스플레이 평면의 스멕틱 층의 공간 정렬을 안정화하는 방법.
  8. 제1항에 있어서, 펄스 극성이, 형성된 스위칭 상태의 주기를 기본으로 하여 부가되는 방법.
  9. 연속적인 전력 공급장치(a), 드라이버 IC(b), 디스플레이의 온도를 임계온도와 비교하는 하나 이상의 온도 센서(c) 및 온도, 디스플레이 스위칭 상태의 작동, 디스플레이 스위칭 상태의 비작동 또는 이들 둘 이상 및 스멕틱 층의 경사 각의 온도 변화와 디스플레이의 선행 이력을 나타내는 보정 곡선의 특정한 저장 값에 대한 정보를 상응하는 스위칭 변화 상태로 전환시키는 하나 이상의 제어 소자(d)를 포함하는, 스멕틱 층의 원래의 쉐브론 기하형태가 제1항에 따르는 방법에 의한 전기장 처리에 의해 의사 북쉘프 기하형태로 전환된 FLC 스위칭 소자, 디스플레이 소자(디스플레이) 또는 이들 둘 다에서 디스플레이 평면의 스멕틱 층의 공간 정렬을 안정화하는 장치.
  10. 제9항에 따르는 장치를 포함하는 FLC 스위칭 소자 또는 디스플레이 소자.
  11. 제9항에 있어서, 기억장치(e)를 추가로 포함하는 장치.
  12. 제1항에 있어서, 액정의 스위칭 변화가 반대 극성의 펄스들 사이에 휴지기간을 지닌 시그널을 갖는 방법.
  13. 제6항에 있어서, 펄스 극성이, 형성된 스위칭 상태의 주기를 기본으로 하여 부가되는 방법.
  14. 제7항에 있어서, 펄스 극성이, 형성된 스위칭 상태의 주기를 기본으로 하여 부가되는 방법.
  15. 연속적인 전력 공급장치(a), 드라이버 IC(b), 디스플레이의 온도를 임계온도와 비교하는 하나 이상의 온도 센서(c) 및 온도, 디스플레이 스위칭 상태의 작동, 디스플레이 스위칭 상태의 비작동 또는 이들 둘 이상 및 스멕틱 층의 경사 각의 온도 변화와 디스플레이의 선행 이력을 나타내는 보정 곡선의 특정한 저장값에 대한 정보를 상응하는 스위칭 변화 상태로 젼환시키는 하나 이상의 제어 소자(d)를 포함하는, 스멕틱 층의 원래의 쉐브론 기하형태가 제6항에 따르는 방법에 의한 전기장 처리에 의해 의사 북쉘프 기하형태로 전환된 FLC 스위칭 소자, 디스플레이 소자(디스플레이) 또는 이들 둘 다에서 디스플레이 평면의 스멕틱 층의 공간 정렬을 안정화하는 장치.
  16. 연속적인 전력 공급장치(a), 드라이버 IC(b), 디스플레이의 온도를 임계온도와 비교하는 하나 이상의 온도 센서(c) 및 온도, 디스플레이 스위칭 상태의 작동, 디스플레이 스위칭 상태의 비작동 또는 이들 둘 이상 및 스멕틱 층의 경사각의 온도 변화와 디스플레이의 선행 이력을 나타내는 보정 곡선의 특정한 저장값에 대한 정보를 상응하는 스위칭 변화 상태로 전환시키는 하나 이상의 제어 소자(d)를 포함하는, 스멕틱 층의 원래의 쉐브론 기하형태가 제7항에 따르는 방법에 의한 전기장 처리에 의해 의사 북쉘프 기하형태로 전환된 FLC 스위칭 소자, 디스플레이 소자(디스플레이) 또는 이들 둘 다에서 디스플레이 평면의 스멕틱 층의 공간 정렬을 안정화하는 장치.
  17. 제11항에 따르는 장치를 포함하는 FLC 스위칭 소자 또는 디스플레이 소자.
  18. 제6항에 있어서, 액정의 스위칭 변화가 반대 극성의 펄스들 사이에 휴지기간을 지닌 시그널을 갖는 방법.
  19. 제7항에 있어서, 액정의 스위칭 변화가 반대 극성의 펄스들 사이에 휴지기간을 지닌 시그널을 갖는 방법.
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