KR100192567B1 - Method of manufacturing semiconductor memory device - Google Patents

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Abstract

1. 청구 범위에 기재된 발명이 속한 기술분야 :1. The technical field to which the invention described in the claims belongs:

불휘발성 반도에 메모리의 프로그램전압 발생장치에 관한 것이다.A program voltage generator for a memory in a nonvolatile peninsula.

2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제 :2. The technical problem to be solved by the invention:

공정의 변화에 무관하게 프로그램을 수행할 수 있는 불휘발성 반도체 메모리의 프로그램전압 발생장치와 프로그램전압 발생방법 및 소거전압 발생회로를 제공함에 있다.The present invention provides a program voltage generator, a program voltage generator method, and an erase voltage generator circuit of a nonvolatile semiconductor memory capable of performing a program regardless of a process change.

3. 발명의 해결방법의 요지 :3. Summary of the solution of the invention:

불휘발성 반도체 메모리의 프로그램전압 발생장치에 있어서, 프로그램후 선택된 메모리 쎌들의 프로그램전압을 검출하는 트리밍 회로와, 상기 트리밍회로의 프로그램 전압레벨의 변화폭을 임의대로 제어하는 트리밍제어회로와, 상기 검출된 레벨과 기준전압발생기에서 출력된 기준전압을 비교하여 비교신호를 발생하는 비교회로와, 상기 프로그램전압레벨의 승압된 레벨을 제공하기 위한 펌핑회로와, 상기 프리밍회로와 트리밍제어회로사이에 접속된 퓨즈회로부를 가짐을 요지로 한다.A program voltage generator for a nonvolatile semiconductor memory, comprising: a trimming circuit for detecting program voltages of selected memory chips after a program, a trimming control circuit for arbitrarily controlling a change in a program voltage level of the trimming circuit, and the detected level. A comparison circuit for generating a comparison signal by comparing a reference voltage output from a reference voltage generator with a reference voltage generator, a pumping circuit for providing a boosted level of the program voltage level, and a fuse connected between the priming circuit and the trimming control circuit. It has a summary that it has a circuit part.

4. 발명의 중요한 용도 :4. Important uses of the invention:

불휘발성 반도체 메모리 장치에 적합하게 사용된다.It is suitably used for a nonvolatile semiconductor memory device.

Description

불휘발성 반도체 메모리 장치의 프로그램전압 발생장치 및 소거전압 발생장치Program voltage generator and erase voltage generator of a nonvolatile semiconductor memory device

제1도는 종래의 기술에 따른 프로그램 전압 발생회로를 나타낸 도면.1 is a diagram showing a program voltage generation circuit according to the prior art.

제2도는 본 발명에 따른 프로그램 전압 발생회로를 나타낸 도면.2 is a diagram showing a program voltage generation circuit according to the present invention.

제3a도와 제3b도는 프로그램 전압을 제어하는 트리밍신호의 타이밍관계를 나타낸 타이밍도.3A and 3B are timing diagrams showing timing relationships of trimming signals for controlling program voltages.

본 발명은 불휘발성 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 특히 불휘발성 반도체 메모리의 프로그램 발생장치에 관한 것이다.The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device, and more particularly, to a program generating device of a nonvolatile semiconductor memory.

낸드구조로된 메모리 쎌들을 가지는 불휘발성 반도체 메모리(EEPROM)의 메모리 쎌 어레이는 행과 열의 매트릭스형으로 배열된 다수의 낸드쎌 유닐을 가지고 있다.A memory array of nonvolatile semiconductor memory (EEPROM) having NAND-structured memory arrays has multiple NAND arrays arranged in a matrix of rows and columns.

상기 메모리 쎌들의 소거는 메모리 쎌들의 피형 웰영역으로 소거전압, 예컨데 약 20볼트의 전압을 인가하고 워드라인로 기준전압, 예컨데 접지전압을 인가하는 것에 의해 이루어진다. 그러므로 플로팅 게이트들에 저장된 전자들은 턴넬 산화악들을 통하여 상기 피형 웰 영역으로 빠져나오면서 메모리 쎌들은 디플리션 모우드의 트랜지스터들로 변경된다. 소거된 메모리 쎌들은 데이터 1을 저장하고 있다고 가정한다.The erasing of the memory cells is accomplished by applying an erase voltage, such as a voltage of about 20 volts to the shaped well region of the memory cells, and applying a reference voltage, such as a ground voltage, to the word line. Therefore, the electrons stored in the floating gates exit through the tunnel wells into the type well region and the memory chips are changed into transistors in the depletion mode. Assume that erased memory cells are storing data one.

선택된 워드라인과 접속된 메모리 쎌들의 프로그램 즉 데이터 0의 기입은 상기 선택된 워드라인상에 프로그램전압, 예컨데 18볼트의 전압을 인가하고 데이터 0이 기입되는 메모리 쎌들의 소오스들과 드레인들을 기준전압, 예컨데 접지전압을 인가하는 것에 의해 행해진다. 그러면 프로그램되는 메모리 쎌들의 플로팅 게이트는 턴넬 산화막들을 통하여 전자들을 축적하고 이들 메모리 쎌들은 인헨스먼트 모우드의 트랜지스터들로 변경된다.The writing of a program of memory cells connected to the selected word line, i.e., writing data 0, applies a program voltage, for example a voltage of 18 volts, on the selected word line and the sources and drains of the memory cells into which data 0 is written to a reference voltage, eg This is done by applying a ground voltage. The floating gate of the memory chips being programmed then accumulates electrons through the turnnel oxide films and these memory chips are converted to transistors in the enhancement mode.

상기와 같은 프로그램후, 선택된 메모리 쎌들이 설계된 일정 문턱전압 값을 갖도록 성공적으로 프로그램되었는지를 검사하는 프로그램 검증동작이 행해진다. 그러한 소거, 프로그램 및 프로그램검증 기술은 본원 출원인에게 양도되고 1994년 8월 19일자로 공개된 한국공개특허번호 94-18870호에 개시되어 있다.After such a program, a program verifying operation is performed to check whether the selected memory cells were successfully programmed to have a predetermined constant threshold value. Such erasure, program and program verification techniques are disclosed in Korean Patent Application Publication No. 94-18870, assigned to the applicant and published on August 19, 1994.

부연하자면, 종래의 낸드형 불휘발성 반도체 메모리 장치에서는 셀을 파울러-노드하임(Fowler-Nordheim : 이하 F-N이라 함) 터널링에 의해 쎌의 V소를 네거티브 값으로 낮추는 동작을 말한다. 즉, 논리 데이터 1을 셀에 기입(Write)하는 것을 말함) 및 프로그램하게 되는데 프로그래이란 플로팅 게이트층과 제어 게이트층으로 구성된 EEPROM 쎌의 제어 게이트에 고전압을 인가하여 종래의 이론인 F-N터널링을 통해 쎌의 Vth를 포지티브 값으로 만드는 것이다. 즉, 쎌에 데이터 0를 기입하는 동작을 말한다. 이때 제어 게이트에 인가되는 고전압의 레벨에 따라 F-N 터널링되는 정도가 바뀌어 결국 쎌의 Vth가 변하게 되는게 가급적이면 이러한 논리 데이터 0이 저장된 쎌의 Vth를 가능한한 특정 범위 안에서 동작하도록 함으로써 독출시 필요한 여러 가지 마짖(Margin)을 얻고자 하는 여려가지 방법이 시도되고 있다.In other words, the conventional NAND type nonvolatile semiconductor memory device refers to an operation of lowering a V element to a negative value by Fowler-Nordheim (F-N) tunneling of a cell. That is, the logic data 1 is written into a cell) and programmed. A program is applied through a conventional FN tunneling by applying a high voltage to the control gate of the EEPROM 구성된 consisting of a floating gate layer and a control gate layer. To make the Vth of 으로 a positive value. That is, the operation of writing data 0 into 쎌 is referred to. At this time, the degree of FN tunneling changes according to the level of the high voltage applied to the control gate, so that the Vth of the power is changed as much as possible. Therefore, the logic data 0 stores the Vth of the stored power within the specific range as much as possible. There are several ways to get Margin.

종래 프로그램시 쎌의 Vth를 한레벨에서 동작시키기 위한 방법으로는 프로그램 전압 레벨을 점차로 일정 간걱으로 증가시켜주는 프로그램전압 단계별 출력장치를 사용하고 있으며, 그 구현방법은 제1도에 예시되고 있다.Conventionally, a method for operating Vth at one level during programming uses a program voltage output device for gradually increasing a program voltage level with a constant spatula, and an implementation thereof is illustrated in FIG.

제1도는 종래의 낸드형 EEPROM에서의 프로그램 전압 레벨을 형성하는 방법에 관한 회로도를 나타낸 것이다.1 shows a circuit diagram of a method of forming a program voltage level in a conventional NAND type EEPROM.

제1도를 참조하여 구성을 살펴보면, 프로그램 동작중 프로그램전압 Vpgm을 순차적으로 증가하기 위한 트리밍회로(20)는 접속노드 N2와 노드 B사이에 저항들 R1∼R10과 저항 R0이 직렬로 연결되어 있고, 상기 저항 R0과 저항 R10 사이의 접속노드 N1과 저항 R1과 엔모오스 트랜지스터 T16사이의 접속노드 N2는 엔형 트랜지스터 T14의 채널을 통새 연결되고 있다. 저항들 R10∼R1사이의 접속노드들과 상기 접속노드 N2사이에는 트랜지스터들 T5∼T14의 채널들을 통해 각각 연결되어 있다. 상기 트랜지스터들 T5∼T14의 게이트들은 트리밍신호들 TRM1∼TRM10이 각각 접속되어 있다. 상기 트랜지스터들 T5∼T14은 상기 저항들 R1∼R10을 순차로 바이패스하기 위한 바이패스수단들이다.Referring to FIG. 1, a trimming circuit 20 for sequentially increasing a program voltage Vpgm during a program operation has resistors R1 to R10 and resistor R0 connected in series between a connecting node N2 and a node B. The connection node N1 between the resistor R0 and the resistor R10 and the connection node N2 between the resistor R1 and the NMOS transistor T16 are generally connected to the channel of the N-type transistor T14. The connection nodes between the resistors R10 to R1 and the connection node N2 are connected through the channels of the transistors T5 to T14, respectively. Trimming signals TRM1 to TRM10 are connected to the gates of the transistors T5 to T14, respectively. The transistors T5 to T14 are bypass means for sequentially bypassing the resistors R1 to R10.

상기 프로그램 회로는 상기 트리밍회로(20)와, 상기 노드 B와 노드 A의 전압레벨을 비교하고 출력단자 OUT로 출력전압인 비교전압을 출력하기 위한 비교회로와, 상기 비교회로의 노드 A로 기준전압을 제공하기 위한 기준전압 발생기(10)와, 일정한 발진주기로 발진신호를 발생시키는 발진기(11)와, 입력신호가 발진할 때 출력 프로그램전압이 상승하는 펌핑회로(13)와, 상기 프로그램 전압 Vpgm 레벨을 제어하는 트리밍신호들 TRMP1∼TRMP15을 제공하는 디코더회로(12)로 구성되어 진다. 그리고 상기 비교회로는 트랜지스터들 T1∼T4과 T15로 구성되어 진다.The program circuit comprises a comparison circuit for comparing the trimming circuit 20, the voltage levels of the node B and the node A, and outputting a comparison voltage which is an output voltage to an output terminal OUT, and a reference voltage to the node A of the comparison circuit. A reference voltage generator 10 for providing an oscillator, an oscillator 11 for generating an oscillation signal at a constant oscillation cycle, a pumping circuit 13 for raising an output program voltage when an input signal oscillates, and the program voltage Vpgm level the trimming signal to control the providing TRM 1~TRM P P 15 is composed of a decoder circuit 12. The comparison circuit is composed of transistors T1 to T4 and T15.

제1도를 참조하여 동작을 설명하면, 종래의 기술에 따라 프로그램 전압 레벨을 형성하는 방법에 의하면 프로그램 전압이 레벨이 제3B도의 Vpgm초기레벨에서부터 프로그램을 수행하게 된다. 프로그램 수행후 쎌의 V소가 어느정도로 원하는 범위내에 위치하고 있는지를 간접적으로 확인하는 프로그램 검증(일반적인 독출과 동일함)이라는 과정을 거치게 되는데, 이 과정을 통해서 프로그램의 성공 유, 무를 알게 된다. 이때 프로그램이 성공하는 경우에는 프로그램 동작을 중단하지만 실패(Fail)할 경우에는 프로그램 전압레멜이 Vpgm초기레벨에서 증가분 △Vpgm만큼 증가하여 프로그램 작업을 재 수행하게 된다.Referring to FIG. 1, the operation of forming a program voltage level according to the conventional art causes the program voltage to be programmed from the Vpgm initial level of FIG. 3B. After the program is executed, it goes through a process called program verification (same as general reading) that indirectly checks how small the minimum number is located within the desired range. At this time, if the program succeeds, the program operation is stopped, but if the program fails, the program voltage level increases by the increment ΔVpgm at the initial level of Vpgm, and the program is executed again.

상기 프로그램 작업이 계속 실패할 경우 프로그램 전압 Vpgm은 계속 증가하여 최대 프로그램 전압 레벨에 도달하게 되는데 여기서도 실패할 경우 이때부터는 프로그램 전압 레벨의 증가없이 최대 프로그램 횟수가 도달할때까지만 프로그램 작업을 계속하게 되어 있다. 예를 들면, 만약 초기 프로그램 전압 레벨이 15V, 최대 프로그램 반복 횟수가 20회, 프로그램 실패시 증가하는 증가분 △Vpgm이 증가분 Vpgm이 0.5 V로 프로그램 전압 레벨은 프로그램 실패시 마다 15V, 15.5V, 16V,....,20V까지 증가하게 되고 그후 10번은 프로그램 전압 레벨을 20로 유지하면서 프로그램 작업을 반복하여 계속하게 된다. 물론, 20볼트는 메모리 쎌들의 게이트 산화막과 정선의 파괴를 방지하는 레벨에서 유지되는 레벨이다. 종래 기술에서는 위와 같은 방법으로 단계별 간격을 일정하게 유지시킴으로써 단계기능을 사용하지 않는 경우보다 쎌의 Vth 분포폭을 적게 한정시킬 수 있었다.If the program operation continues to fail, the program voltage Vpgm continues to increase to reach the maximum program voltage level. If this fails, the program operation continues until the maximum program number is reached without increasing the program voltage level. . For example, if the initial program voltage level is 15V, the maximum number of program repetitions is 20, and the increment △ Vpgm is increased when the program fails, the increment Vpgm is 0.5V and the program voltage level is 15V, 15.5V, 16V, It will increase to 20V and then repeat the program operation while keeping the program voltage level 20. Of course, 20 volts is maintained at a level that prevents destruction of the gate oxide and the gate line of the memory cells. In the prior art, by maintaining the step-by-step spacing in the same manner as above, it was possible to limit the Vth distribution width of 쎌 less than without the step function.

그러나 메모리 쎌 어레이의 프로그램된 쎌 틀성이 공정 진행과정에서 조금씩 달라질 수 있으므로 항상 일정한 간격으로 프로그램 전압 레벨을 증가시키는 종전의 단계로 제어방법에서 과도한 프로그램과 프로그램 실패가 발생할 여지가 있어 단계별 간격을 줄여 많은 단계별 레벨을 가져가야 하는 문제가 있다.However, since the programmed behavior of the memory array can vary slightly during the process, it is a conventional step that always increases the program voltage level at regular intervals. There is a problem that requires taking levels.

또한, 종래의 낸드형 불휘발성 발도체 메모리 장치에서 프로그램시 사용자가 데이터를 쎌 어레이에 프로그램 하고자 할 때 종래의 프로그램전압 Vpgm의 단계별 간격은 프로그램시 높을수도 낮을 수도 있어 과도한 프로그램 및 프로그램 실패를 초래할 수 있다. 즉 예를 들자면, 어느 프로그램전압 Vpgm에서 프로그램 동작을 수행하고 프로그램 검증을 시행한 결과 프로그램 실패가 발생할 경우 종래의 단계별 프로그램전압 발생회로에 의해서 증가된 다음 프로그램전압 Vpgm (= Vpgm초기레벨 + △Vpgm)에서 프로그램 동작을 시행할 경우 프로그램 검증에서는 프로그램 패스로 나타났지만 실제 프로그램된 쎌의 Vth가 종래에 원하는 분포 범위를 벗어날 우려가 있다. 또한 이를 우려하여 단계별 간격을 적게할 경우, 반복되는 프로그램 동작에도 불구하고 프로그램 실패가 발생하는 경우도 있어 단계별 횟수를 많이 가져가야 하는 단점이 있다.In addition, when programming a NAND type nonvolatile semiconductor memory device in a conventional NAND type nonvolatile semiconductor memory device, when the user wants to program data into the array, the stepped interval of the conventional program voltage Vpgm may be high or low during programming, resulting in excessive program and program failure. have. That is, for example, if a program failure occurs as a result of performing a program operation at a program voltage Vpgm and performing program verification, the next program voltage Vpgm (= Vpgm initial level + ΔVpgm) is increased by a conventional step-by-step program voltage generation circuit. When the program operation is executed in the program verification, the program pass is shown as a program pass, but there is a fear that the actual programmed Vth is out of the desired distribution range. In addition, if there is a concern that this step is to reduce the step-by-step interval, there is a disadvantage in that the program failure occurs in spite of repeated program operation to take a number of step times.

여러 가지 공정상의 문제로 메모리 쎌 어레이 특성상 쎌에 대한 프로그램 전압은 높을수도 낮을 수도 있게 된다. 이러한 여러 가지 상황에 대처하기 위해 단계별 간격을 옵션(option) 처리하여 바꿔줄 수 있게 하는 방법과 단계별 구분되는 레벨변화가 매번마다 가변적이게 하여 점차로 증가하게 하던지 아니면 점차로 감소하게 하던지 하는 방법으로 보다 프로그램 동작시 프로그램되는 시간을 줄일 수도 있고 프로그램의 쎌의 Vth 분포 폭을 최소화하여 쎌의 센싱 특성을 향상시킬수도 있는 회로가 요구되고 있다.Due to a number of process issues, the program voltage for V may be high or low due to the nature of the memory V array. In order to cope with these various situations, the program operation can be performed by changing the step by step option and changing the level change by step each time to increase or decrease gradually. There is a need for a circuit that can reduce the time programmed and improve the sensing characteristics of the fin by minimizing the Vth distribution width of the fin.

따라서, 본 발명의 목적은, 단계별 레벨의 폭을 다양화하여 주면 공정 진행과정에 무관하게 프로그램을 수행할 수 있는 불휘발성 반도체 메모리의 프로그램전압 발생장치와 프로그램 전압 발생방법 및 소거전압발생장치를 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a program voltage generator, a program voltage generator, and an erase voltage generator of a nonvolatile semiconductor memory capable of performing a program regardless of a process progress by varying the width of each level. Is in.

본 발명의 다른 목적은, 주변 공정상의 변화에 관계없이 프로그램을 수행할 수 있는 불휘발성 반도체 메모리의 프로그램전압 발생장치와 프로그램 전압 발생장법 및 소거전압발생장치를 제공함에 있다.Another object of the present invention is to provide a program voltage generator, a program voltage generator method and an erase voltage generator of a nonvolatile semiconductor memory capable of executing a program regardless of changes in peripheral processes.

본 발명의 또 다른 목적은, 프로그램시간을 단축시킬 수 있는 불휘발성 반도체 메모리의 프로그램전압 발생장치와 프로그램 전압 발생방법 및 소거전압 발생장치를 제공함에 있다.It is still another object of the present invention to provide a program voltage generator, a program voltage generator, and an erase voltage generator of a nonvolatile semiconductor memory capable of shortening a program time.

상기한 목적들을 달성하기 위한 본 발명의 기술적 사상에 따르면, 다수의 플로팅게이트형의 메모리쎌들과, 선택된 복수개의 메모리쎌들을 프로그램하기 위한 프로그램수단과, 삼시 선택된 복수개의 메모리쎌들이 성공적으로 프로그램되었는지를 판단하기 위한 프로그램 검증수단을 가지는 불휘발성 반도체 메모리의 프로그램 전압 발생장치에 있어서, 프로그램후 상기 선택된 메모리 쎌들이 성공적으로 프로그램되지 아니하였을때마다 프로그램 전압이 소정 전압의 범위내에서 순차적으로 증가하도록 상기 프로그램 전압의 레벨을 검출하거나 상기 프로그램 전압 레벨의 변화폭을 가변적으로 변경하여 증가하도록 상기 프로그램 전압의 레벨을 검출하기 위한 트리밍 회로와, 상기 트리밍회로의 프로그램 전압레벨의 변화폭을 임의대로 제어하기 위해 상기 트리밍 회로의 저항분배 비율을 조정하는 트리밍제어회로와, 상기 검출된 레벨과 기준전압 발생기로 부터의 비교하고 비교신호를 발생하기 위한 비교회로와, 상기 비교회로로부터의 비교신호에 응답하여 상기 트리밍 회로와 상기 트리밍제어회로를 제어하기 위한 상기 프로그램전압레벨의 승압된 레벨을 제공하기 위한 펌핑회로와, 상기 프로그램전압의 순차적인 증가나 가변적인 증가 두 방법중 하나를 선택하기위해 상기 트리밍회로와 상기 트리밍제어회로사이에 접속된 퓨즈회로부를 가짐을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리의 프로그램 전압 발생장치를 제공한다.According to the technical idea of the present invention to achieve the above objects, a plurality of floating gate type memory cells, program means for programming a plurality of selected memory cells, and a plurality of memory cells selected at three times have been programmed successfully. A program voltage generating device of a nonvolatile semiconductor memory having program verifying means for determining a function, the program voltage being sequentially increased within a range of a predetermined voltage each time the selected memory cells are not successfully programmed after programming. A trimming circuit for detecting the level of the program voltage so as to detect the level of the program voltage or variably changing the change in the program voltage level, and to arbitrarily control the change in the program voltage level of the trimming circuit. A trimming control circuit for adjusting a resistance distribution ratio of the trimming circuit, a comparison circuit for comparing the detected level with a reference voltage generator and generating a comparison signal, and the trimming in response to the comparison signal from the comparison circuit. A pumping circuit for providing a boosted level of the program voltage level for controlling the circuit and the trimming control circuit, and the trimming circuit and the circuit for selecting one of sequential increase or variable increase of the program voltage. A program voltage generator for a nonvolatile semiconductor memory characterized by having a fuse circuit portion connected between trimming control circuits.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예들의 상세한 설명이 첨부된 도면들을 참조하여 설명된다.Hereinafter, the detailed description of the preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도면들 중 동일한 구성요소 및 부분들은 가능한한 어느곳에서든지 동일한 부호들을 나타내고 있음을 유의하여야 한다.It should be noted that like elements and parts in the drawings represent like reference numerals wherever possible.

제2도는 본 발명에 따라 프로그램전압을 증가시키기 위한 프로그램전압 발생회로를 도시한 도면이다.2 is a diagram illustrating a program voltage generation circuit for increasing a program voltage according to the present invention.

제2도를 참조하여 구성을 살펴보면, 상기 트리밍회로(20)의 미리 설정된 프로그램전압의 증가분을 가변적으로 변경하기 위한 트리밍제어회로(21)는 제1도의 상기 노드 B와 접지전원사이에 저항들 r1∼r15과 저항 r0이 직렬로 연결되어 있고, 상기 저항 r0와 저항 r15 사이의 접속노드 N3과 저항 r1과 엔모오스 트랜지스터 T36사이의 접속노드 N4는 엔형 트랜지스터 T31의 채널을 통해 연결되어 있다. 저항들 r15∼r! 사이의 접속노드들과 상기 접속노드 N4사이에는 트랜지스터들 T17∼T31의 채널들을 통해 각각 연결되어 있다. 상기 트랜지스터들 T17∼T31의 게이트들은 트리밍신호들 TRMP1∼TRMP15이 각각 접속되어 있다. 상기 트랜지스터들 T17∼T31은 상기 저항들 r1∼r15을 순차로 바이패스하기 위한 바이패스수단들이다.Referring to FIG. 2, the trimming control circuit 21 for variably changing the increase in the preset program voltage of the trimming circuit 20 may include resistors r1 between the node B and the ground power supply of FIG. R15 and a resistor r0 are connected in series, and a connection node N3 between the resistor r0 and a resistor r15 and a connection node N4 between the resistor r1 and the enMOS transistor T36 are connected through a channel of the N-type transistor T31. Resistors r15-r! The connection nodes between the connection nodes and the connection node N4 are connected through the channels of the transistors T17 to T31, respectively. Trimming signals TRM P 1 to TRM P 15 are connected to the gates of the transistors T17 to T31, respectively. The transistors T17 to T31 are bypass means for sequentially bypassing the resistors r1 to r15.

상기 순차적인 프로그램전압의 증가를 수행하는 트리밍회로(20)와, 상기 가변적인 프로그램전압의 증가를 수행하기 위한 트리밍제어회로(21)의 선택은 퓨즈회로부(23)에 의해 이루어 진다. 상기 퓨즈회로부(23)은 퓨우즈 F1와 트랜지스터들 T32, T33과 인버어터 G5로 구성된다.Selection of the trimming circuit 20 to perform the sequential increase of the program voltage and the trimming control circuit 21 to perform the variable increase of the program voltage are made by the fuse circuit unit 23. The fuse circuit unit 23 includes a fuse F1, transistors T32 and T33, and an inverter G5.

제2도를 통하여 본 발명의 핵심인 프로그램전압의 단계별 생성과정에 대해서 살펴보면 다음과 같다.Looking at the step-by-step generation of the program voltage, which is the core of the present invention through FIG. 2 as follows.

차동증폭기인 상기 비교회로는 트랜지스터 T15가 온 상태일 때 즉 입력신호 IN이 하이레벨상태일 때 동작하게 된다. 이때 차동증폭기의 특성상상기 노드 A의 입력전압 레벨 VA가 노드 B의 레벨 VB보다 클때에는 출력노드 OUT가 하이 레벨을 유지하려고 한다. 이때 논리게이트들 G1∼G4에 의해 발진기 (11)의 출력 전압은 발진신호로 출력되게 하고 이 발진 신호를 입력으로 고전압 발생회로 즉 펌핑회로(13)에서 펌핑작용을 통해 프로그램 전압 Vpgm을 승압시키게 된다. 반대로 상기 VB가 VA보다 클때에는 노드 OUT가 로우레벨을 유지하려고 한다. 이 노드 레벨에 의해 발진기 (11)의 출력 전압은 더 이상 고전압 발생회로인 펌핑회로(13)의 입력으로 전달하지 못하고 결과적으로 프로그램 전압 Vpgm은 더 이상 증가하지 못하고 머물러 있게 한다. 즉, 상기 펌핑회로(13)는 상기 발진신호 φR, 가 발진하는 동안만 승압되게 된다. 여기서 비교회로의 두입력 전압 중 VB는 저항 R0∼R10에 의해서 결정되는데 여기서 연결된 트랜지스터들 T5∼T14이 모두 오프상태라면, 즉 트리밍신호 TRMP1∼TRMP10 모두가 로직 로우레벨 상태라면 VB 전압은 전압 분배 분배원리에 의해 아래 식과 같이 나타낼 수 있다.The comparison circuit, which is a differential amplifier, operates when the transistor T15 is on, that is, when the input signal IN is at a high level. At this time, when the input voltage level VA of the node A is greater than the level VB of the node B due to the characteristics of the differential amplifier, the output node OUT tries to maintain the high level. At this time, the output voltage of the oscillator 11 is controlled by the logic gates G1 to G4. Outputs this signal By boosting the program voltage Vpgm through the pumping action in the high voltage generation circuit, that is, the pumping circuit 13 as an input. In contrast, when the VB is greater than VA, the node OUT tries to maintain the low level. By this node level, the output voltage of the oscillator 11 can no longer be transferred to the input of the pumping circuit 13, which is a high voltage generating circuit, and as a result, the program voltage Vpgm no longer increases and stays. That is, the pumping circuit 13 is boosted only while the oscillation signal φR, is oscillated. Here, VB of the two input voltages of the comparison circuit is determined by the resistors R0 to R10, where the connected transistors T5 to T14 are all off, that is, if the trimming signals TRM P 1 to TRM P 10 are all at the logic low level, the voltage VB Can be expressed as below by the voltage distribution distribution principle.

그러므로 윗식에서 VB를 유지하면서 프로그램전압 Vpgm 레벨을 증가시켜주려면 저항 R값을 감소시키면 된다. 즉, 위와 같이 저항 R값의 감소를 위한 회로가 바로 트리밍회로(20)이며 직렬연결된 저항 R0∼R10과 여기에 연결된 트랜지스터의 입력신호인 트리밍신호들 TRMP1∼TRMP10로 구성되어 있다. 저항 R1∼R10는 프로그램 전압 Vpgm 레벨의 단계별 조정을 목적으로 한 저항으로써 여기에 연결돈 입력신호인 트리밍신호들 TRMP1∼TRMP10에 의해서 윗식에서의 저항 r값을 변하게 할 수 있는데 예를 들어 디코더(12)에서 출력된 트리밍신호 TRMP1의 레벨이 로우레벨에서 하이레벨로 바뀌게 되면 (나머지 입력 신호인 TRMP2∼TRMP10은 로우레벨 상태로 유지)윗식에서의 저항 R의 값은 R에서 R-R1으로 바뀌게 되며 그결과로 검출되는 프로그램전압 Vpgm 레벨은 Vpgm 초기레벨부터 Vpgm 초기레벨+△Vpgm로 증가하게 된다. 즉, 단계 조정저항과 이들에 연결된 트리밍신호들 TRMP1∼TRMP10에 의해서 프로그램전압 Vpgm 레벨을 일정 간격으로 바꿀 수 있다. 만약에 이들 입력 신호인 트리밍신호들 TRMP1∼TRMP10을 하나씩 하이레벨로 전환시켜 여기에 연결된 트랜지스터들 T5∼T14을 단계적으로 일정하게 증가하는 것이다. 이에 대한 타이밍도는 제3B도에 함께 도시되어 있다.Therefore, to increase the program voltage Vpgm level while maintaining VB in the above equation, the resistance R value can be reduced. That is, as described above, the circuit for reducing the resistance R is the trimming circuit 20 and is composed of the resistors R0 to R10 connected in series and the trimming signals TRM P 1 to TRM P 10 which are input signals of the transistor connected thereto. The resistors R1 to R10 are resistors for the step-by-step adjustment of the program voltage Vpgm level so that the resistance r value in the above equation can be changed by the trimming signals TRM P 1 to TRM P 10 which are input signals connected thereto. For example, when the level of the trimming signal TRM P 1 output from the decoder 12 changes from a low level to a high level (the remaining input signals TRM P 2 to TRM P 10 remain low), the value of the resistance R in the above formula Is changed from R to R-R1, and as a result, the detected program voltage Vpgm level increases from the initial Vpgm level to the initial Vpgm level + DELTA Vpgm. That is, the program voltage Vpgm level can be changed at regular intervals by the step adjustment resistors and the trimming signals TRM P 1 to TRM P 10 connected thereto. If these inputs by converting the signal of the trimming signal TRM 1~TRM P P 10 to high level one by one to increase the constant T5~T14 transistors connected to it in a stepwise manner. A timing diagram for this is shown in FIG. 3B.

즉, 상기 트리밍회로(20)를 통해 프로그램 수행시 프로그램 전압을 증가하게 할 수 있다. 그러나 이미 앞에서도 언급한 바와 같이 메모리 쎌 어레이의 프로그램된 쎌 특성이 공정 진행과정에서 조금씩 달라질 수 있으므로 항상 일정한 간격으로 프로그램 전압 레벨을 증가하는 종전의 단계별 조정방법으로는 과도한 프로그램과 프로그램 페일이 발생할 소지가 있어 단계별 간격을 줄여 많은 단계별 레벨을 가져가야 하는 문제가 있다. 즉 많은 수의 직렬 연결된 저항과 여기에 연결된 트랜지스터들이 필요하며 프로그램 시간이 길어지는 단점이 있다. 이를 개선하고자 하는 노력의 일환으로 종전에는 다만 비교기의 입력전압인 VA의 레벨을 기준 정전압 발생기에서 옵션처리하여 조정함으로써 프로그램전압 초기레벨과 간격을 바꿔줌으로써 위와 같은 문제에 소극적으로 대처해 왔었다. 따라서 보다 개선된 방법이 필요하게 되는데 본 발명에서는 단계별 간격을 옵션처리하여 다수개로 해주는 방법과 단계별 간격을 번하게 하여(단계 변화 폭을 점차로 증가시키던지 점차로 감소시키던지 하여)이를 해결하고자 한다.That is, the program voltage may be increased when the program is executed through the trimming circuit 20. However, as previously mentioned, the programmed pulse characteristics of the memory array can vary slightly during the process, so conventional stepwise adjustments that always increase the program voltage level at regular intervals can cause excessive program and program failure. There is a problem that should take many step levels by reducing the step interval. That is, a large number of series-connected resistors and transistors connected thereto are required, and the program time is long. As part of the effort to improve this problem, it has been passively coped with the above problem by changing the initial level of the program voltage by changing the level of the input voltage of the comparator with the optional constant voltage generator in the reference constant voltage generator. Therefore, an improved method is needed. In the present invention, a method of processing a plurality of step by step options and a step-by-step step (by gradually increasing or decreasing the step change width) are solved.

본 발명에서는 이러한 문제점을 해결하고자 하는 방법으로 제2도에서와 같이 단계조정을 위한 직렬연결된 저항들 r0∼r15을 병렬로 달아주고(이들이 프로그램 전압 Vpgm 레벨 단계를 위한 저항비는 서로 다름) 이를 퓨즈 하나로써 두가지 경우 중 하나를 선택하여 사용하게 함으로써 위에서 언급한 바와 같은 문제에 대처하고자 한다. 이의 실현은 직렬연결된 저항연결 부위에 엔모오스 트랜지스터들 T34, T36을 연결시켜 퓨즈 F1가 끊이지 않을 경우 트랜지스터 T34가 턴-온되어 트리밍회로(20)을 단계조정회로로 사용하고 퓨즈 F1를 끊어줄 경우 트랜지스터 T36가 턴-온되어 트리밍제어회로(21)를 단계조정회로로 사용할 수 있게 된다.In the present invention, in order to solve this problem, as shown in FIG. 2, the series-connected resistors r0 to r15 for step adjustment are connected in parallel (these resistance ratios for the program voltage Vpgm level step are different). As an example, one of the two cases can be selected and used to cope with the above-mentioned problems. When the fuse F1 is not blown by connecting the EnMOS transistors T34 and T36 to a series connected resistance connection, the transistor T34 is turned on to use the trimming circuit 20 as a step adjustment circuit and to blow the fuse F1. The transistor T36 is turned on so that the trimming control circuit 21 can be used as the step adjustment circuit.

또한, 새로운 단계조정 회로에서 상기 트리밍제어회고(21)를 일정한 간격으로 프로그램전압 Vpgm을 단계조정하는 방법이 아닌 가변적인 간격(변화 폭을 점차로 증가시키든지 아니면 점차로 감소시키는 방법)으로 단계조정을 한다면 종래의 단계조정 횟수를 줄일 수 있어 그만큼의 회로 감소 효과와 프로그램 시간을 줄일 수 있게 되는 커다란 잇점도 함께 기대할 수 있게 된다.In addition, if the trimming control retrospective 21 adjusts the program voltage Vpgm at regular intervals instead of stepwise adjusting the trimming control recall 21 at a variable interval (gradual increase or decrease). The large number of steps can be reduced, so that the circuit reduction effect and the program time can be reduced.

본 발명은 프로그램전압 발생회로를 중심으로 실시하였지만, 이들은 동일한 효과를 얻는 범위내에서 소거전압발생회로에도 실시되어질 수도 있다. 즉, 최근에 개발중인 다수상태 메모리에 더 적합하게 적용되어 질 수 있다.Although the present invention has been carried out mainly on the program voltage generation circuit, they may be also implemented on the erase voltage generation circuit within the range of obtaining the same effect. That is, it can be applied more suitably to the multi-state memory under development recently.

따라서, 상기한 바와 같이 본 발명은 프로그램시간의 감소 효과가 있다. 또한 본 발명은 공정변화에 무관하게 프로그램을 수행할 수 있는 효과가 있다.Therefore, as described above, the present invention has the effect of reducing the program time. In addition, the present invention has the effect that the program can be carried out irrespective of process changes.

상기한 본 발명은 도면을 중심으로 예를 들어 한정되었지만, 그 동일한 것을 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 여러 가지 변화와 변형이 가능함이 본 분야의 숙련된 자에게 있어 명백할 것이다.Although the present invention described above is limited to, for example, the drawings, it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention.

Claims (10)

다수의 플로팅게이트형의 메모리쎌들과, 선택된 복수개의 메모리쎌들을 프로그램하기 위한 프로그램수단과, 상기 선택된 복수개의 메모리쎌들이 성공적으로 프로그램되었는지를 판단하기 위한 프로그램 검증수단을 가지는 불휘발성 반도체 메모리의 프로그램전압 발생장치에 있어서, 프로그램 후 상기 선택된 메모리 쎌들이 성공적으로 프로그램되지 아니하였을 때마다 프로그램 전압이 소정 전압의 범위내에서 순차적으로 증가하도록 상기 프로그램 전압의 레벨을 검출하거나 상기 프로그램 전압 레벨의 변화폭을 가변적으로 변경하여 증가하도록 상기 프로그램 전압의 레벨을 검축하기 위한 트리밍 회로와, 상기 트리밍회로의 프로그램 전압레벨의 변화폭을 임의대호 제어하기 위해 상기 트리밍 회로의 저항분배 비율을 조정하는 트리밍제어회로와, 상기 검출된 레벨과 기준전압 발생기로 부터의 기준전압을 비교하고 비교신호를 발생하기 위한 비교회로와, 상기 비료회로로부터의 비교신호에 응답하여 상기 트리밍회로와 상기 트리밍제어회로를 제어하기 위한 상기 프로그램전압레벨의 승압된 레벨을 제공하기 위한 펌핑회로와, 상기 프로그램전압의 순차적인 증가나 가변적인 증가 두 방법중 하나를 선택하기 위해 상기 트리밍회로와 상기 트리밍제어회로사이에 접속된 퓨즈회로부를 가짐을 특징으로 하는 불휘발성 반도에 메모리의 프로그램 전압 발생장치.A program of a nonvolatile semiconductor memory having a plurality of floating gate type memory chips, program means for programming a plurality of selected memory chips, and program verifying means for determining whether the selected plurality of memory chips have been successfully programmed. In the voltage generator, the program voltage is detected or the change width of the program voltage level is changed so that the program voltage is sequentially increased within a range of a predetermined voltage whenever the selected memory chips are not successfully programmed after the program. A trimming circuit for detecting the level of the program voltage so as to increase by increasing the value of the program voltage, and a trimming control circuit for adjusting the resistance distribution ratio of the trimming circuit to arbitrarily control a change in the program voltage level of the trimming circuit. And a comparison circuit for comparing the detected level with a reference voltage from a reference voltage generator and generating a comparison signal, and for controlling the trimming circuit and the trimming control circuit in response to the comparison signal from the fertilizer circuit. A pumping circuit for providing a boosted level of the program voltage level, and a fuse circuit section connected between the trimming circuit and the trimming control circuit for selecting one of two methods of sequential increase or variable increase of the program voltage. Programmable generator of memory on a nonvolatile peninsula characterized by having a. 제1항에 있어서, 상기 트리밍회로는 프로그램 전압발생단자와 접지전압 사이에 직렬로 접속된 복수개의 저항과, 상기 프로그램 전압을 순차로 증가하기 위하여, 상기 복수개의 저항을 각각 바이패스하기 위한 복수개의 트랜지스터들로 구성됨을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리의 프로그램전압 발생장치.The trimming circuit of claim 1, wherein the trimming circuit comprises: a plurality of resistors connected in series between a program voltage generating terminal and a ground voltage; and a plurality of resistors for bypassing the plurality of resistors, respectively, in order to sequentially increase the program voltage. Program voltage generator of a nonvolatile semiconductor memory, characterized in that consisting of transistors. 제2항에 있어서, 상기 트리밍제어회로는 상기 트리밍회로의 검출레벨단자와 접지전압 사이에 직렬로 접속된 복수개의 저항과, 상기 프로그램 전압을 저항분배를 이용하여 가변적으로 증가하기 위하여, 상기 복수개의 저항을 각각 바이패스하기 위한 복수개의 트랜지스터들로 구성됨을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리의 프로그램전압 발생장치.3. The trimming control circuit according to claim 2, wherein the trimming control circuit comprises a plurality of resistors connected in series between a detection level terminal of the trimming circuit and a ground voltage, and the plurality of resistors for variably increasing the program voltage using resistance distribution. A program voltage generator of a nonvolatile semiconductor memory, characterized by comprising a plurality of transistors for bypassing resistors respectively. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 트리밍회로와 상기 트리밍제어회로는 상기 프로그램전압을 소정폭을 가진 전압으로 증가하도록 복수개의 바이패스 수단을 가짐을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리의 프로그램전압 발생장치.4. The program voltage generation of a nonvolatile semiconductor memory according to claim 2 or 3, wherein the trimming circuit and the trimming control circuit have a plurality of bypass means to increase the program voltage to a voltage having a predetermined width. Device. 제4항에 있어서, 상기 복수개의 바이패스 수단과 접속되고 상기 프로그램 전압을 순차로 증가하기 위한 트리밍신호 발생회로 가짐을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리 장치의 프로그램전압 발생장치.5. The program voltage generator of claim 4, further comprising a trimming signal generation circuit connected to the plurality of bypass means and sequentially increasing the program voltage. 다수의 플로팅게이트형의 메모리쎌들과, 선택된 복수개의 메모리쎌들을 소거하기 위한 소거수단과, 상기 선택된 복수개의 메모리쎌들이 성공적으로 소거되었는지를 판단하기 위한 소거 검증수단을 가지는 불휘발성 반도체 메모리의 소거전압 발생장치에 있어서, 소거후 상기 선택된 메모리 쎌들이 성공적으로 소거되지 아니하였을때마다 소거전압이 소정 전압의 범위내에서 손차적으로 증가하도록 상기 소거전압의 레벨을 검출하거나 상기 소거전압 레벨의 변화폭을 가변적으로 변경하여 증가하도록 상기 소거전압의 레벨을 검출하기 위한 트리밍회로와, 상기 트리밍회로의 소거전압레벨의 변화폭을 임의대로 제어하기 위해 상기 트리밍 회로의 저항분배 비율을 조정하는 트리밍제어회로와, 상기 검출된 레벨과 기준전압 발생기로 부터의 기준전압을 비교하고 비교신호를 발생하기 위한 비교회로와, 상기 비교회로로부터의 비교신호에 응답하여 상기 트리밍회로와 상기 트리밍제어회로를 제어하기 위한 상기 소거전압 레벨의 승압된 레벨을 제공하기 위한 펌핑회로와, 상기 소거전압의 순차적인 증가나 가변적인 증가 두 방법중 하나를 선택하기 위해 상기 트리밍회로와 상기 트리밍제어회로사이에 접속된 퓨즈회로부를 가짐을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리의 소거전압 발생장치.Erasing a nonvolatile semiconductor memory having a plurality of floating gate type memory chips, erasing means for erasing a plurality of selected memory cells, and erasing verification means for determining whether the selected plurality of memory cells have been successfully erased. In the voltage generator, the level of the erase voltage is detected or the change width of the erase voltage level is increased so that the erase voltage increases manually within a range of a predetermined voltage every time the selected memory cells are not successfully erased after the erase. A trimming circuit for detecting the level of the erase voltage so as to variably change and increasing; a trimming control circuit for adjusting a resistance distribution ratio of the trimming circuit to arbitrarily control a change width of the erase voltage level of the trimming circuit; Detected level and reference voltage from the reference voltage generator A comparison circuit for comparing and generating a comparison signal, and a pumping circuit for providing a boosted level of the erase voltage level for controlling the trimming circuit and the trimming control circuit in response to the comparison signal from the comparison circuit; And a fuse circuit portion connected between the trimming circuit and the trimming control circuit to select one of two methods of sequentially increasing or erasing the erase voltage. 제6항에 있어서, 상기 트리밍회로는 소거전압발생단자와 접지전압 사이에 직렬로 접속된 복수개의 저항과, 상기 소거전압을 순차로 증가하기 위하여, 상기 복수개의 저항을 각각 바이패스하기 위한 복수개의 트랜지스터들로 구성됨을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리의 소거전압 발생장치.7. The trimming circuit of claim 6, wherein the trimming circuit comprises a plurality of resistors connected in series between an erase voltage generation terminal and a ground voltage, and a plurality of resistors for bypassing the plurality of resistors, respectively, in order to sequentially increase the erase voltage. An erase voltage generator of a nonvolatile semiconductor memory, characterized by comprising transistors. 제7항에 있어서, 상기 트리밍제어회로는 상기 트리밍회로의 검출레벨단자와 접지전압 사이에 직렬로 접속된 복수개의 저항과, 상기 소거전압을 저항분배를 이용하여 가변적으로 증가하기 위하여, 상기 복수개의 저항을 각각 바이패스하기 위한 복수개의 트랜지스터들로 구성됨을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리의 소거전압 발생장치.8. The trimming control circuit according to claim 7, wherein the trimming control circuit comprises a plurality of resistors connected in series between a detection level terminal of the trimming circuit and a ground voltage, and the plurality of resistors for variably increasing the erase voltage using resistance distribution. An erase voltage generator of a nonvolatile semiconductor memory, characterized in that it comprises a plurality of transistors for bypassing resistors respectively. 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 트리밍회로와 상기 트리밍제어회로는 상기 소거전압을 소정폭을 가진 전압으로 증가하도록 복수개의 바이패스 수단을 가짐을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리의 소거전압 발생장치.9. The generation of an erase voltage of a nonvolatile semiconductor memory according to claim 7 or 8, wherein the trimming circuit and the trimming control circuit have a plurality of bypass means to increase the erase voltage to a voltage having a predetermined width. Device. 제9항에 있어서, 상기 복수개의 바이패스 수단과 접속되고 상기 소거전압을 순차적으로 증가하기 위한 트리밍신호 발생회로를 가짐을 특징으로 하는 불휘발성 반도체 메모리 장치의 소거전압 발생장치.10. The erase voltage generator of claim 9, further comprising a trimming signal generation circuit connected to the plurality of bypass means and sequentially increasing the erase voltage.
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