KR0177302B1 - 전자사진용 정대전성 자성 토너 - Google Patents

전자사진용 정대전성 자성 토너 Download PDF

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Abstract

수지, 자성체, 정대전성 하전제어제, 이형제 및 -500 내지 -1μC/g의 단위하전량을 갖는 부대전성 실리카를 포함하는 정대전성 토너는 장기간 고화상농도 및 고해상도를 유지하고 정착 특성이 우수하며 고온 옵셋 현상 및 비산 현상이 개선되어 전자사진 공정에 유용하게 사용될 수 있다.

Description

전자사진용 정대전성 자성 토너
본 발명은 전자사진용 1성분계 정대전성 토너에 관한 것으로, 보다 상세하게는 특정 저장강도 및 손실강도 값을 갖는 수지에 부대전성 실리카를 외첨함으로써 장기 복사시 화상 농도 저하 및 화상의 불균일화 현상을 개선한 1성분계 정대전성 토너에 관한 것이다.
전자사진 방식을 사용하는 복사기 또는 프린터는 다음과 같은 과정을 거친다. 즉, 10㎛ 정도의 크기를 갖는 미세 토너 입자들을 슬리브(sleeve ; 1성분계 토너) 또는 캐리어(carrier : 2성분계 토너)와의 접촉 또는 마찰을 통하여 대전시킨 후, 대전된 토너 입자들을 적절한 바이어스(bias)를 사용하여 광전도성 물질로 구성되는 드럼에 형성된 정전잠상에 정전기적 힘으로 이동시켜 토너상을 형성하고, 이 토너상을 더 높은 양으로 대전된 종이 등의 매개체로 이동시킨 후, 열과 압력에 의하여 매개체에 정착시킴으로써 최종 화상을 얻는다. 이러한 일련의 과정 중 최종 화상의 화질에 가장 중요하게 작용하는 것은 대전된 토너 입자들이 정전 잠상 위로 이동하는 현상 과정이다. 정전 잠상은 이온으로 구성되기 때문에 반대 극성의 적전 하전량을 갖는 토너 입자들만을 선택적으로 취한다. 따라서 최종 화질은 거의 토너 입자들의 하전 분포도에 의해 결정된다. 극성이 다르거나, 즉 역극성이거나 하전량이 낮은 토너 입자들이 다량 존재할 경우 배경부(background)의 오염, 비산 및 화상 농도 저하 등의 문제점이 발생한다. 반면, 하전량이 너무 높은 입자들이 다량 존재할 경우에는 토너 입자들이 대전 장치인 슬리브(sleeve) 표면에 잔류하여 유입되는 토너의 마찰 대전을 방해하기 때문에 장기 복사시 화상 농도의 점차적인 저하 및 배경 오염 등의 문제를 야기한다. 따라서, 고성능 토너의 제조시 고려해야 할 중요한 인자로서 토너 입자들의 적정 하전량 및 좁은 하전 분포도를 들 수 있다.
토너의 대전 특성은 토너의 표면 구성 물질에 따라 달라진다. 1성분계 자성 토너는 기본적으로 수지, 자성체, 하전제어제 및 이형제인 왁스로 구성되며, 대전 특성에 따라 크게 부대전성 토너와 정대전성 토너로 구분된다. 토너의 구성 물질중 주요 부분을 차지하는 수지는 수로 스티렌/아크릴계 공중합체를 사용하는데, 이들은 일반 대전 물질과의 접촉시 부대전성을 띠기 때문에 역극성 토너의 생성이 억제되는 부대전성 토너의 제조는 비교적 용이하다. 그러나 정대전성 토너의 경우는 부대전성을 띠는 수지를 정대전성 하전제어제를 사용하여 입자당 순수 하전량을 유지하여야 하기 때문에 역극성 토너의 생성을 방지하는 것이 용이하지 않다. 따라서 정대전성 토너에 있어서는 하전제어제 자체의 대전 특성, 분산 정도 및 제트 밀링 시의 파괴 특성에 따라 대전 특성에 크게 달라진다.
정대전성 토너의 제조에 가장 널리 사용되는 정대전성 하전제어제로는 니그로신계 화합물과 4급 암모늄염 화합물이다. 그러나 니그로신은 하전량을 높일 수 있다는 장점을 가지나 토너 표면에서 이탈되어 슬리브 등의 현상 장치를 오염시키는 단점이 있으며, 4급 암모늄염의 경우에는 그 자체가 색조를 띠지 않기 때문에 칼라 토너에 적용이 가능하다는 장점이 있으나 하전량이 불충분하다는 단점이 있다. 일본 특허 제61-172155호 및 미국 특허 제5,213,933호에서는 니그로신의 단점을 보완하기 위하여 니그로신과 4급 암모늄염을 병용하는 방법을 제시하였으나, 이 방법은 하전 균일성이 저하되는 단점이 있다.
일본 특허 평1-222268 및 평 1-2375558호에서는 하전제어제를 사용하지 않고 수지의 하전 특성을 바꾸어 정대전성 토너를 제조하는 방법으로, 정대전성 특성을 갖는 아민을 함유하는 단량체를 첨가하여 정대전성 수지를 제조하여 이를 토너에 이용하는 방법을 제시하고 있다. 또한, 일본 특허 평5-323662, 평5-323663 및 평5-323670호에서는 에스테르, 예를들면 2-에톡시에틸 메타크릴레이트를 첨가한 수지를 이용하여 정대전성 수지를 제조하였다. 미국 특허 제5,214,208호에는 니그로신이나 4급 암모늄염 화합물과 같이 불용성 하전제어제 대신 디아릴 구아니딘 유형의 이량체를 하전제어제로 사용하는 방법이 제시되어 있다. 이와 같이 토너에 사용되는 수지의 대전 특성을 교정하는 방법을 이용하면 하전 균일성은 향상되나 악취 발생과 내습성 및 하전량 저하등의 문제점이 야기될 수 있다.
토너의 대전 특성은 기본적으로 구성 물질들의 대전 특성에 의해 결정되지만, 토너 입자의 표면에 부착되는 외첨제들에 의하여 특히 큰 영향을 받는다. 외첨제는 거의 모든 건식 토너에 분말 흐름성 향상을 목적으로 사용되지만 이러한 본래의 목적 이외에 토너 입자들의 대전 특성을 크게 좌우한다. 즉, 외첨제들은 제2의 하전제어제 역할을 한다. 상기 외첨제로는 주로 실리카가 사용되며 목적에 따라 적절한 대전 특성을 갖도록 표면처리되기도 한다. 정대전성 토너의 경우에는 아민 함유 실리콘 오일 등과 같은 정대전성 유기물을 사용하여 표면처리한 실리카를 주로 사용한다(미국 특허 제4,957,840; 4,820,603 및 4,568,625호). 그러나 하전 균일성 향상을 목적으로 정대전성 실리카를 사용할 경우 토너 입자당 하전량이 너무 높아져서 화상 농도가 저하되며 연속 복사시 화상 농도의 저하 문제가 발생할 뿐 아니라 토너 입자간의 응집 현상을 야기할 수 있다. 또한 실리카가 토너 표면으로부터 이탈되어 하전 안정성의 문제 및 현상 장치의 오염을 유발할 수 있다.
이에, 본 발명자들은 상기한 문제점을 해결하고 장기간 고화상 농도를 유지하고 배경 오염, 실리카 이탈, 비산 등의 문제를 배제할 수 있는 토너를 개발하기 위해 거듭연구한 결과, 정대전성 실리카 대신 부대전성 실리카를 외첨함으로써 정대전성 실리카 사용으로 인한 문제점이 개선되는 동시에, 특정한 유변학적 물성을 갖는 수지를 사용함으로써 토너 구성물들의 분산이 향상되어 상기한 특성을 갖는 토너가 얻어짐을 알아 내어 본 발명을 완성하게 되었다.
따라서, 본 발명의 목적은 장기간 고화상농도 및 고해상도를 유지하고 배경 오염, 실리카 이탈, 비산 현상이 개선된 토너를 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에서는 수지, 자성체, 정대전성 하전제어제, 이형제 및 -500 내지 -1μC/g의 단위 하전량을 갖는 부대전성 실리카를 포함하는 정대전성 토너를 제공한다.
이하, 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명에서는 수지, 자성분말, 정대전성 하전제어제 및 이형제인 왁스를 용융혼련한 후 분쇄, 분급되어 얻어진 토너 입자에 부대전성 실리카를 외첨함으로써 종래에 정대전성 실리카 사용시 야기되던 화상농도의 점차적인 저하, 실리카 이탈로 인한 하전 안정성의 저하, 현상 장치의 오염 및 토너 응집 현상 등을 개선하였으며, 부대전성 실리카의 사용에 따른 화상농도의 저하 문제는 특정 유변학 물성을 갖는 수지를 사용하여 토너 구성 물질들의 분산성을 향상시킴으로써 해결하였다.
본 발명의 토너에 외첨되는 실리카는 혐기성 물질로 표면처리되어 내습성이 우수하여 습도 변화에 따라 대전 특성이 민감하게 변화되지 않는 부대전성 실리카이다. 토너의 분말 흐름성 향상을 위해서는 BET 면적이 50 내지 300㎡/g이고, 단위 하전량(Q/m)이 -500 내지 -1μC/g, 바람직하게는 -40 내지 -10μC/g인 것이 바람직하다. 단위 하전량이 -500μC/g 미만이면 충분한 화상 농도를 얻을 수 없고 해상도가 저하되며 배경 오염 및 비산 등의 문제가 발생하며, -1 보다 크면 실리카 이탈로 인한 비산 등의 문제가 발생하며 화상 농도가 저하된다. 외첨 부대전성 실리카는 토너 중량에 대해 0.05 내지 2%의 양으로 사용되는데, 실리카 함량이 0.05% 미만이면 토너의 분말 흐름성이 저하되어 회상이 균일하지 않고 2% 보다 많으면 화상 농도가 저하되며 배경 오염이 발생한다. 상기 부대전성 실리카는 일반 분말 혼합기를 사용하여 5 내지 100m/s의 선속도로 0.1 내지 30분간 외첨된다. 상기 실리카 첨가 속도가 5m/s 미만이거나 혼합 시간이 0.1분 미만이면 실리카가 토너의 표면에 균일하고 안정되게 부착되지 않고, 100m/s 보다 빠르거나 혼합시간이 30분 보다 길면 토너를 추가 분쇄해야 하거나 실리카가 토너 표면으로 융착되는 현상이 발생한다.
본 발명의 토너에는 상기 실리카 외에 외첨제로 드럼 마모방지 목적의 미세 유기 고분자 분말과 하전 안정성 향상 목적의 금속 분말을 소량 첨가할 수 있다. 유기 고분자로는 플루오라이드 함유 물질, 예를들면 테플론, 폴리비닐리덴 플루오라이드 및 그의 유도체가 포함되며, 금속 분말로는 알루미늄, 티타늄, 마그네슘, 아연 등의 산화 금속 분말을 사용할 수 있다.
상기와 같이 부대전성 실리카가 외첨된 본 발명의 토너는 +2 내지 +6μC/g의 단위 하전량을 갖는다. 종래의 정대전성 실리카를 이용한 토너의 하전량이 +8μC/g인 것을 고려할 때, 본 발명의 토너가 낮은 하전량에 의해 초기 및 연속 복사시의 화상 농도가 높으며 하전 분포도가 좁기 때문에 고해상도를 얻을 수 있는 것이다. 토너의 단위 하전량은 대전 물질로 유리구슬을 사용하여 블로우-오프(blow-off) 방법으로 측정한다.
토너에 첨가되는 첨가제중 이형제로 사용되는 왁스는 수지와의 상용성이 낮기 때문에 용융혼련시 분산상을 형성하고 분쇄시 토너 표면에 돌출하는 경향이 강하다. 토너 표면에 돌출한 왁스의 입경이 과도하게 클 경우 토너 표면에 존재하는 정대전성 하전제어제와 슬리브의 접촉 기회가 감소하기 때문에 역극성 토너의 생성이 증가하게 되는데, 왁스의 입경은 용융 혼련 과정에서 결정되며 동일한 전단력하에서 왁스의 분자량에 비례한다. 이러한 관점에서 본 발명의 토너에 적용 가능한 왁스는 500 내지 30,000g/물의 분자량을 갖는 것이어야 한다. 분자량이 500 미만일 경우 이형제로서의 역할이 저하되며, 분자량이 30,000 보다 크면 왁스 영역의 크기가 증가하여 역극성 토너의 생성이 촉진되고 결과적으로 배경 오염 및 연속 복사시 화상 농도의 저하를 초래한다.
본 발명에 사용되는 왁스는 저분자량의 폴리올레핀 계통이 바람직하며 토너 전체 중량에 대해 0.2 내지 8%의 양으로 첨가된다. 왁스 함량이 0.2% 미만일 경우 고온 옵셋 현상이 발생하고 8% 보다 많으면 배경 오염을 유발하고 연속 복사시 화상 농도가 저하된다. 상기 왁스 중 대표적인 것으로는 저분자량의 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 및 그의 유도체들이 포함된다.
본 발명의 토너는 토너 입자에 정대전성을 부여하기 위하여 정대전성 하전제어제를 토너 전체 중량에 대해 0.1 내지 2% 함유한다. 상기 함량이 0.1% 미만이면 토너 입자 당 하전량이 부족하여 화상 농도의 저하와 함께 배경 오염이 발생하며, 2%를 초과하면 하전제어제의 분산성이 저하되어 하전 분포도가 넓어진다. 본 발명에 적용가능한 하전제어제로는 예를 들면 니그로신계 화합물, 4급 암모늄 염 및 그 유도체들이 포함된다.
본 발명의 토너에는 자성체가 토너 전체 중량에 대해 10내지 69.7%의 양으로 포함된다. 상기 함량이 10% 미만이면 슬리브를 통한 토너 공급이 충분하게 이루어지지 않으며 69.7% 보다 많이 첨가되면 정착도가 불량해지고 화상 농도가 저하된다. 자성체의 평균 입경은 0.05 내지 1.0㎛인 것이 바람직하다. 자성체 크기가 0.05㎛ 미만이면 응집(agglomeration)이 발생하고 1.0㎛ 보다 크면 균일한 분산 상태를 이루기가 어려워 화질의 저하를 가져온다. 본 발명에 적용가능한 자성체는 당 분야에서 통상적인 것으로, 상기 범위내의 입경을 갖는 다면체 또는 구형 분말이 바람직하다.
본 발명의 토너에 사용되는 왁스, 하전제어제 및 자성분말의 분산 정도는 수지의 유변학 특성에 따라 크게 달라지는데, 특히 왁스의 분산상 입경은 수지의 손실강도(G'')에 의하여 결정된다. 본 발명에 사용되는 수지는 160℃ 및 0.1㎐에서의 G'' 값이 2.0×102이상 3.0×104dyne/㎠ 이하의 범위에 있어야 한다. G''가 2.0×102dyne/㎠ 미만일 경우에는 수지의 분산력이 부족하기 때문에 왁스 분산상의 입경이 증가하고 하전제어제 등의 분산이 불충분하여 토너의 질을 저하시킨다. G'' 값이 3.0×104dyne/㎠ 보다 크면 용융혼련시 에너지 소비가 증가함은 물론 조분쇄 및 분쇄 속도가 저하되며, 정착성이 저하 및 저온 옵셋 현상을 발생시킨다.
토너에 사용되는 수지는 또한 토너의 고온 옵셋 방지 특성을 위해 적절한 탄성을 지녀야 한다. 수지의 탄성은 저장 강도(G')에 의하여 측정된다. 본 발명의 토너에서는 160℃ 및 0.1㎐에서 G'가 1.2×10 이상 3.0×104dyne/㎠ 이하인 수지를 사용한다. 상기 G' 값이 1.2×10dyne/㎠ 미만이면 보관상의 문제 및 고온 옵셋 현상이 발생하며 3.0×104dyne/㎠ 보다 크면 분쇄 효율의 저하 및 저온 옵셋 현상이 발생한다. 본 발명의 토너에 포함되는 수지는 당 분야에 공지되어 있는 모든 수지들을 사용할 수 있으며, 토너중 수지가 차지하는 비율은 30 내지 80중량%인 것이 바람직하다. 수지의 함량이 80중량% 보다 많으면 비화상부에 오염이 발생하고 화상 농도가 저하되며 30중량% 미만이 되면 정착불량 현상이 발생한다.
상기 수지중 대표적인 것으로는 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리우레탄, 에폭시 및 비닐 수지를 들 수 있다. 비닐 수지로는 폴리스티렌, 폴리-α-메틸스티렌, 폴리클로로스티렌, 비닐나프탈렌, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 이소부틸렌, 폴리염화비닐 폴리불화비닐, 폴리비닐아세테이트, 폴리메틸아크릴레이트, 폴리에틸아크릴레이트, 폴리부틸아크릴레이트, 폴리이소부틸아크릴레이트, 폴리도데실아크릴레이트, 폴리옥틸아크릴레이트, 폴리페닐아크릴레이트, 폴리비닐에틸에테르, 스티렌-부타디엔 공중합체, 스티렌부틸아크릴레이트, 스티렌에틸헥실아크릴레이트, 스티렌부틸메타크릴레이트 등이 포함된다. 공중합체 중의 스티렌 함량은 60 내지 95중량% 인 것이 바람직한데, 스티렌 함량이 95중량% 보다 많으면 정착 온도가 상승하고 60중량% 미만이면 토너 보관상의 문제 뿐 아니라 슬리브 및 드럼 표면의 오염 등을 야기한다.
본 발명의 토너는 전술한 수지 30 내지 80중량%, 폴리올레핀 왁스 0.2 내지 8중량%, 정대전성 하전제어제 0.1 내지 2중량% 및 자성체 10 내지 69.7중량%를 혼합하고, 용융 혼련한 후, 냉각, 조분쇄 및 미분쇄, 분급 및 부대전성 실리카의 외첨 과정을 거쳐 제조된다. 최종 입도 분포도는 토너의 대전 특성에 의하여 결정되며 이 분포도에 따라 화상이 달라진다. 고해상도의 화상을 재현하기 위하여 본 발명 토너의 입도 분포도는 4.5㎛ 이하의 입자가 10중량% 이하, 18.1㎛ 이상의 입자가 5중량% 이하, 그리고 부피 평균 입경이 6 내지 11㎛인 것이 바람직하다. 입경이 4.5㎛ 이하인 입자들의 중량비가 10% 보다 크면 배경 오염 현상이 발생하고 슬리브 표면에 토너 반점들이 형성되어 효과적인 대전이 이루어지지 않으며, 입경이 18.1㎛ 이상인 입자들의 중량비가 5% 보다 크면 화상 농도가 낮으며 특히 연속 복사시 화상 농도가 저하되는 문제가 발생한다. 또한, 부피 평균 입경이 6㎛ 보다 작으면 배경 오염 및 토너가 슬리브에 융착되는 현상이 발생하고, 11㎛ 보다 크면 화상 농도가 저하된다.
본 발명에서 토너 입자의 입도 분포도는 쿨터 카운터(Coulter Counter) TAII 입도 분석기를 사용하여 측정하였으며 외첨은 헨셀(Henschel) 믹서를 사용하여 수행하였다. 수지의 G' 및 G'' 값은 레오메트릭스 메카니컬 스펙트로미터(rheometrics mechanical spectrometer)를 사용하여 160℃에서 측정하였다.
이하, 본 발명을 하기 실시예에 의거하여 보다 상세히 설명한다. 단, 이들 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐, 본 발명이 이들 만으로 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1]
하기 표에 나타낸 구성 성분들을 부스 니더 용융 혼련기를 사용하여 160℃에서 용융 혼합한 후 분쇄/분급 과정을 거쳐 토너를 제조하였다.
토너의 입도 분포는 4.5㎛ 이하가 6중량%, 18.1㎛ 이상이 2중량%, 그리고 평균 입경이 8.5㎛가 되도록 조절하였다. 단위 하전량이 -100μC/g인 실리카(BET=150㎡/g)를 토너에 대해 0.6중량%의 양으로 30m/s의 선속도로 첨가하고 5분간 교반하였다. 제조된 토너를 NP2020 복사기에 적용하여 50,000매의 복사 시험을 하였다. Macbeth RD918 화상 농도계를 사용하여 화상 농도를 측정한 결과, 초기 화상 농도는 1.35 였고 화상 농도 및 고해상도가 50,000매 복사 후까지 유지되었으며, 배경오염 및 비산이 관찰되지 않았다. 테이프를 적용하여 정착도를 시험한 결과도 우수하였으며 고온 옵셋 및 저온 옵셋 현상은 전혀 관찰되지 않았다. 상기 시험 결과들은 하기 표 I에 나타내었다.
[실시예 2]
단위 하전량이 -220μC/g인 실리카를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 토너를 제조하였다. 토너의 단위하전량은 +4.5μC/g인 것으로 측정되었다. 장기 복사시험 결과 실시예 1의 토너와 같은 정도로 우수하게 화상을 재현하였다. 시험 결과는 하기 표 I에 나타내었다.
[실시예 3]
단위 하전량이 -60μC/g인 실리카를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 토너를 제조하였다. 토너의 단위 하전량은 +5.2μC/g인 것으로 측정되었다. 장기 복사시험 결과 실시예 1의 토너와 같은 정도로 우수하게 화상을 재현하였다. 시험 결과는 하기 표 I에 나타내었다.
[비교예 1]
단위 하전량이 +130μC/g인 실리카를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 토너를 제조하였다. 토너의 단위 하전량은 +9.1μC/g인 것으로 측정되었다. 장기 복사시험 결과 초기의 화상농도는 1.44로 매우 높고 해상도도 우수하였으나 연속 복사후 화상농도가 저하되어 5,000매 복사후 12.1이 되었으며 배경 오염이 증가하였다. 또한 초기에는 관찰되지 않았으나 복사를 진행함에 따라 실리카가 토너로부터 이탈되어 현상 장치 오염이 발생되었다. 시험 결과는 하기 표 I에 나타내었다.
[비교예 2]
단위 하전량이 +220μC/g인 실리카를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 토너를 제조하였다. 토너의 단위 하전량은 +9.8μC/g인 것으로 측정되었다. 장기 복사시험 결과 초기의 화상 농도는 1.45로 매우 높고 해상도도 우수하였으나 연속 복사후 화상 농도가 저하되어 5,000매 복사후 1.15로 저하되었으며 복사를 진행함에 따라 실리카가 토너로부터 이탈되어 현상 장치 오염이 발생되었다. 시험 결과는 하기 표 I에 나타내었다.
[실시예 4]
분자량 3000의 폴리프로필렌 왁스 대신 분자량 1500의 폴리에틸렌을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 토너를 제조하고 복사시험을 실시하였다. 그 결과 실시예 1의 토너와 마찬가지로 우수한 화질을 나타내었다.
[실시예 5]
분자량 3000의 폴리프로필렌 왁스 대신 분자량 5000의 폴리프로필렌을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 토너를 제조하고 복사시험을 실시하였다. 그 결과 실시예 1의 토너와 마찬가지로 초기 및 장기복사시 화상 농도가 높았으며 비산이 발생하지 않았다.
[비교예 3]
분자량 3000의 폴리프로필렌 왁스 대신 분자량 35000의 폴리프로필렌을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 토너를 제조하고 복사시험을 실시하였다. 그 결과 초기 화상농도도 1.30으로 낮았으며 복사가 진행됨에 따라 화상 농도는 더욱 감소하였으며 배경 오염이 증가하였다.
[비교예 4]
G''가 1.5×10 dyne/㎠이고 G'가 2.0dyne/㎠인 스티렌/부틸 아크릴레이트 공중합체 수지를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 토너를 제조하고 복사시험을 실시하였다. 그 결과 초기 화상은 1.36으로 높았으나 배경 오염 및 고온 옵셋 현상이 발생하였으며 복사가 진행됨에 따라 화상 농도가 저하되었다.
이상에서와 같이, 수지, 자성체, 폴리올레틴 왁스 및 하전제어제로 이루어진 토너에 -500 내지 -1μC/g의 단위 하전량을 갖는 부대전성 실리카를 외첨하여 제조된 정대전성 토너는 장기간 고화상농도 및 고해상도를 유지하고 정착 특성이 우수하며 고온 옵셋 현상 및 비산 현상이 개선되어 전자사진 공정에 유용하게 사용될 수 있다.

Claims (6)

  1. 수지, 자성체, 정대전성 하전제어제, 이형제 및 -500 내지 -1μC/g의 단위 하전량을 갖는 부대전성 실리카를 포함하는 정대전성 토너.
  2. 제1항에 있어서, +2 내지 _6μC/g의 단위 하전량을 갖는 것을 특징으로 하는 토너.
  3. 제1항에 있어서, 상기 수지가 160℃ 및 0.1㎐에서의 저장강도(G')가 1.2×10 내지 3.0×104dyne/㎠이고 손실강도(G'')가 2.0×102내지 3.0×104dyne/㎠이며, 토너에 대해 30 내지 80중량%의 양으로 사용되는 것을 특징으로 하는 토너.
  4. 제1항에 있어서, 상기 이형제가 분자량 500 내지 30,000g/몰의 폴리올레핀 왁스이며, 토너에 대해 0.2 내지 8중량%의 양으로 사용되는 것을 특징으로 하는 토너.
  5. 제1항에 있어서, 상기 하전제어제와 자성체의 함량이 각각 토너에 대해 0.1 내지 중량% 및 10 내지 69.7%인 것을 특징으로 하는 토너.
  6. 제1항에 있어서, 입경 4.5㎛ 이하의 입자 함량이 10중량% 이하이고 입경 18.1㎛ 이상의 입자 함량이 5중량% 이하이며, 평균 입경이 7 내지 11㎛인 것을 특징으로 하는 토너.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100360989B1 (ko) * 2000-11-02 2002-11-23 주식회사 엘지화학 유동성과 대전능력이 우수한 비자성 일성분계 토너 조성물및 그 제조방법
KR100383100B1 (ko) * 2000-11-22 2003-05-12 주식회사 엘지화학 저온 클리닝 특성이 우수한 토너 조성물
KR100377858B1 (ko) * 1998-07-04 2003-09-19 주식회사 엘지화학 신이성분계현상법에사용되는자성토너
KR100383087B1 (ko) * 1998-07-27 2003-10-10 주식회사 엘지화학 토너융착방지를위한세라믹분말외첨토너

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