KR0169158B1 - Apparatus for analyzing optical beam induced current of sample - Google Patents

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KR0169158B1
KR0169158B1 KR1019950005493A KR19950005493A KR0169158B1 KR 0169158 B1 KR0169158 B1 KR 0169158B1 KR 1019950005493 A KR1019950005493 A KR 1019950005493A KR 19950005493 A KR19950005493 A KR 19950005493A KR 0169158 B1 KR0169158 B1 KR 0169158B1
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토오루 코야마
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기다오까 다까시
미쓰비시 뎅끼 가부시끼가이샤
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Abstract

누락omission

Description

논바이어스 상태의 시료의 광유기전류를 검출가능한 주사형 광유기전류 해석장치Scanning photoorganic current analysis device capable of detecting the photoorganic current of a sample in a non-biased state

제1도는 본 발명의 제1실시예에 의한 주사형 광유기전류 해석장치의 개략 블록도.1 is a schematic block diagram of a scanning type photoorganic current analyzing apparatus according to a first embodiment of the present invention.

제2도는 피측정물을 포함하는 본 발명의 제1실시예의 주요부분 개략도.2 is a schematic diagram of the main parts of the first embodiment of the present invention, including the measurement object.

제3도는 본 발명의 제1실시예의 동작을 나타낸 개략도.3 is a schematic diagram showing the operation of the first embodiment of the present invention.

(a)는 레이저의 주사영역에 대한 피측정물의 단면도.(a) is sectional drawing of a to-be-tested object with respect to the scanning area of a laser.

(b)는 레이저 광을 주사했을 때의 전류값의 변화를 나타낸 파형도.(b) is a waveform diagram which shows the change of the electric current value when scanning laser light.

(c)는 (b)의 파형도에 기초하여 출력되는 화상 이미지를 도시한 도면.(c) is a figure which shows the image image output based on the waveform diagram of (b).

제4도는 본 발명의 제2실시예에 의한 주사형 광유기전류 해석장치의 개략 블록도.4 is a schematic block diagram of a scanning photoorganic current analyzing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

제5도는 피측정물을 포함하는 본 발명의 제3실시예의 주요부분 개략도.5 is a schematic diagram of the main parts of a third embodiment of the present invention including a measurement object.

제6도는 피측정물을 포함하는 본 발명의 제4실시예의 주요부분 개략도6 is a schematic diagram of the main parts of a fourth embodiment of the present invention including a measurement object

제7도는 본 발명의 제5실시예에 의한 주사형 광유기전류 해석장치의 개략 블록도.7 is a schematic block diagram of a scanning type photoorganic current analyzing apparatus according to a fifth embodiment of the present invention.

제8도는 피측정물을 포함하는 본 발명의 제5실시예의 주요부분 개략도8 is a schematic view of the main parts of a fifth embodiment of the present invention including a measurement object

제9도는 피측정물을 포함하는 본 발명의 제6실시예의 주요부분 개략도9 is a schematic diagram of the main parts of a sixth embodiment of the present invention including a measurement object

제10도는 피측정물을 포함하는 본 발명의 제7실시예의 주요부분 개략도10 is a schematic diagram of the main parts of a seventh embodiment of the present invention including an object to be measured.

제11도는 본 발명의 제8실시예에 의한 주사형 광유기전류 해석장치의 개략블록도.11 is a schematic block diagram of a scanning type photoorganic current analyzing apparatus according to an eighth embodiment of the present invention.

제12도는 본 발명의 제9실시예에 의한 주사형 광유기전류 해석장치의 개략블록도.12 is a schematic block diagram of a scanning optical organic current analysis device according to a ninth embodiment of the present invention.

제13도는 본 발명의 제9실시예의 동작을 나타낸 개략도.13 is a schematic diagram showing the operation of the ninth embodiment of the present invention.

(a)는 레이저의 주사영역에 대한 피측정물의 단면도.(a) is sectional drawing of a to-be-tested object with respect to the scanning area of a laser.

(b)는 저속도로 레이저 광을 주사했을 때의 A1 배선중의 온도 분포도.(b) is a temperature distribution diagram in A1 wiring at the time of scanning laser light at low speed.

(c)는 고속도로 레이저 광을 주사했을 때의 A1 배선중의 온도 분포도.(c) is a temperature distribution diagram in A1 wiring at the time of scanning the highway laser light.

제14도는 본 발명의 제10실시예에 의한 주사형 광유기전류 해석장치의 개략블록도.14 is a schematic block diagram of a scanning optical organic current analysis device according to a tenth embodiment of the present invention.

제15도는 본 발명의 제11실시예에 의한 레이저 주사현미경의 개략 블록도.15 is a schematic block diagram of a laser scanning microscope according to an eleventh embodiment of the present invention.

제16도는 본 발명의 제12실시예에 의한 주사형 광유기전류 해석장치의 개략블록도.16 is a schematic block diagram of a scanning optical organic current analysis device according to a twelfth embodiment of the present invention.

제17도는 본 발명의 제12실시예에서 레이저 광의 주사영역을 지정하는 화상의 예를 도시한 이미지 도면.FIG. 17 is an image diagram showing an example of an image designating a scanning region of laser light in the twelfth embodiment of the present invention. FIG.

제18도는 본 발명의 제13실시예에 의한 주사형 광유기전류 해석장치의 개략블록도.18 is a schematic block diagram of a scanning type photoorganic current analyzing apparatus according to a thirteenth embodiment of the present invention.

제19도는 본 발명의 제13실시예의 화상출력의 이미지를 도시한 도면.Fig. 19 shows an image of image output in a thirteenth embodiment of the present invention.

(a)는 본 발명의 제13실시예에서 전류검출 영역을 지정하는 화상의 예를 도시한 이미지 도면.(a) is an image diagram showing an example of an image designating a current detection region in a thirteenth embodiment of the present invention.

(b)는 지정영역으로부터의 출력전류의 이미지 도면.(b) is an image diagram of an output current from a designated area.

제20도는 종래의 주사형 광유기전류 해석장치의 개략 블록도.20 is a schematic block diagram of a conventional scanning photoorganic current analysis device.

제21도는 피측정물을 포함하는 종래예의 주요부분 개략도이다.21 is a schematic view of the main parts of a conventional example including a measurement object.

제22도는 종래의 레이저 주사 현미경의 구성을 도시한 개략 블록도.Fig. 22 is a schematic block diagram showing the structure of a conventional laser scanning microscope.

제23도는 종래의 광유기전류 해석장치의 동작원리를 도시한 걔략도.23 is a schematic diagram showing the operation principle of a conventional photoorganic current analysis device.

[발명의 분야][Field of Invention]

본 발명은, 광유기전류 해석장치에 관한 것으로서, 특히,측정대상에 정상적인 전류를 흘리지 않은 상태에서 광유기전류를 검출하는 주사형 광유기전류 해석장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photoorganic current analysis device, and more particularly, to a scan type photoorganic current analysis device for detecting a photoorganic current in a state in which a normal current does not flow to a measurement object.

[배경기술의 설명]Description of Background Art

반도체 집적회로 상에서, 트랜지스터와 저항 등의 소자를 접속하는 배선은, 현재 일반적으로 그 저항률의 낮음과 가공의 용이암에서, 알루미늄(Al)을 주 재료로 하는 배선이 사용되고 있다. 반도체 집적회로의 미세화, 및 구조의 다층화에 동반해서 이 Al 배선의 신뢰성의 저하는 심각한 문제가 되어 있다. 이것은, Al 배선에 관련된 전류 스트레스 및 기계적 스트레스의 증대에 기인한다. 즉, 이 Al 배선은, 치수가 서브마이크론 오더임에도 불구하고, 그곳을 흐르는 전류는 수백 ㎂ 정도이고, 전류밀도는 105A/㎠ 대에 달하고 있다. 또한, 배선에는 LSI 제조공정에 있어서 가열처리 등을 위해서, 100MPa 오더의 기계적 스트레스가 덧붙여져 있다. 배선에 이러한 스트레스가 덧붙여지면, 소위 일렉트로마이그레이션과 스트레스마이그레이션 등에 따라 Al 원자의 이동성이 생기고, 배선 가운데에 보이드가 발생한다. 이 보이드의 성장에 동반해 배선의 저항이 증대하여 바로 단선에 이른다.In the semiconductor integrated circuit, the wiring which connects elements, such as a transistor and a resistor, currently uses the wiring which mainly uses aluminum (Al) for the low resistivity and the easy arm of a process. Along with the miniaturization of semiconductor integrated circuits and the multilayering of structures, the degradation of the reliability of this Al wiring is a serious problem. This is due to the increase in current stress and mechanical stress associated with Al wiring. In other words, the Al wiring has a few hundred microwatts of current flowing therein, and its current density reaches 10 5 A / cm 2 despite the submicron order. Moreover, the mechanical stress of a 100 MPa order is added to wiring for heat processing etc. in a LSI manufacturing process. When such stress is added to the wiring, Al mobility is generated due to so-called electromigration, stress migration, and the like, and voids are generated in the wiring. With the growth of the voids, the resistance of the wiring increases, leading to disconnection.

따라서, 배선중의 보이드의 밀도와 위치의 검출과 관찰은, Al 배선의 신뢰성의 향상에 있어서, 필수적인 기술이다. Al 배선 가눙데의 보이드를 검출하는 방법으로서는, SEM(Scanning Electron Microscope)와 FIB(Focused Ion Beam)장치를 이용한 표면전위 콘트라스트 법이 알려져 있다. 그러나, 진공 중에서의 해석인 것과, 표면에 노출한 배선밖에 해석할 수 없는 것, 완전히 단선된 장소밖에 검출할 수 없는 것 등의 제약이 있었다.Therefore, detection and observation of the density and position of the voids in the wiring are essential techniques for improving the reliability of the Al wiring. As a method of detecting the voids of the Al wiring Ganode, a surface potential contrast method using a scanning electron microscope (SEM) and a focused ion beam (FIB) device is known. However, there are limitations such as the analysis in vacuum, the analysis of only the wiring exposed on the surface, and the detection of only the disconnected place.

이들 제약을 없앤 방법으로서, 예를 들면, Proceedings of The 19th International Symposium for Testing Failure Analysis, pp 303~310(1993)에개시되어 있는 OBIRCH법(Optical Beam Induced Resistance Change method)이 있다.As a method of removing these limitations, for example, there is an OBIRCH method (Optical Beam Induced Resistance Change method) disclosed in Proceedings of The 19th International Symposium for Testing Failure Analysis, pp 303 to 310 (1993).

제20도에, OBIRCH법을 실시하기 위한 장치 구성의 개략 블록도면을 나타낸다.20 shows a schematic block diagram of an apparatus configuration for implementing the OBIRCH method.

우선, 그 동작에 대해서 설명한다.First, the operation will be described.

피측정 시료(6)에는, 직류전원(8)에 의해 전류가 흐르게 되고, 그 전류값은 전류업(10)에 의해 모니터되고 있다.In the sample 6 to be measured, a current flows by the DC power supply 8, and the current value is monitored by the current up 10.

장치 제어부(20)로부터의 신호 r에 의해 지정된 영역 내에서, 레이저 주사 현미경은, 레이저 광을 피측정 시료(6)상에 집속하고, 동시에 주사한다.In the region designated by the signal r from the device control unit 20, the laser scanning microscope focuses the laser light on the sample 6 to be measured and simultaneously scans it.

예를 들면, 상기 레이저 광원으로서, HeNe 레이저(파장 633㎚)를 이용한 경우, 피측정 시료(6) 상에서 레이저 광은 0.5㎛ 정도의 빔 지름으로 좁혀진다.For example, when a HeNe laser (wavelength 633 nm) is used as the laser light source, the laser light is narrowed down to a beam diameter of about 0.5 mu m on the sample 6 to be measured.

화상정보 변환장치(12)는, 장치 제어부(20)로부터의 레이저 광 주사위치신호(1) 및 전류업(10)으로부터의 시료 가운데를 흐르는 전류값에 따른 신호 i를 받아들인다.The image information converting device 12 receives the laser light dice signal 1 from the device control unit 20 and the signal i corresponding to the current value flowing through the sample from the current up 10.

화상정보 변환장치(12)는 주사위치마다의 신호 i에 따른 화상정보, 예를 들면, 신호 i의 크기를 휘도록 변환한 신호 b를 출력한다. 화상출력 장치(14)는, 신호 b에 대응한 화상을 출력한다.The image information converting apparatus 12 outputs image information corresponding to the signal i for each dice, for example, a signal b converted to bend the magnitude of the signal i. The image output device 14 outputs an image corresponding to the signal b.

제21도는, 피측정 시료(6)의 구성의 한 예를 나타낸 개략도이다. 상기 서술했듯이 OBIRCH법에서는, 피측정 시료(6)에 전류를 인가할 필요가 있기 때문에, 피측정 배선은, 배선패턴(16) 및 전원패드(18)로 측정용인 전용 패턴인 것이 필요하다.21 is a schematic view showing an example of the configuration of the sample 6 to be measured. As described above, in the OBIRCH method, it is necessary to apply a current to the sample 6 to be measured, and therefore the wiring to be measured needs to be a dedicated pattern for measurement by the wiring pattern 16 and the power supply pad 18.

제22도는 레이저 주사 현미경(2)의 구성의 한 예를 나타낸 개략 블록도이다. 레이저 광원(100)에서 나온 레이저 빔(4)은 광편향 소자(102)에 입사한다. 광편향 소자(102)는 장치 제어부(20)의 제어신호 r에 대응하는 각도에 레이저 빔(4)을 편향한다. 레이저 빔(4)은 또한 집속장치(106)를 통해서 피측정 시료(6)상에 집속된다.22 is a schematic block diagram showing an example of the configuration of the laser scanning microscope 2. The laser beam 4 from the laser light source 100 enters the light deflecting element 102. The optical deflecting element 102 deflects the laser beam 4 at an angle corresponding to the control signal r of the device control unit 20. The laser beam 4 is also focused on the sample 6 to be measured through the focusing device 106.

피측정 시료(6) 상에 레이저 빔이 집속되는 위치는, 편향각도에 따라 변화하기 때문에, 집속된 레이저 빔이 신호 r에 따라 주사된다. 제22도에 있어서는 집속장치(106)는 반사거울(58) 및 대물렌즈(56)로 구성되어 있다.Since the position where the laser beam is focused on the sample 6 to be measured varies depending on the deflection angle, the focused laser beam is scanned in accordance with the signal r. In FIG. 22, the focusing device 106 is composed of a reflecting mirror 58 and an objective lens 56. As shown in FIG.

또한, 레이저 빔(4)의 광로 상에, 결상수단(104)을 설치하는 것으로, 피측정 시료(6)로부터의 반사광을 결상시켜, 결상정보신호 v로서 뽑아내는 것이 가능하다. 이 예에서는, 빔 스플리터(50)에 따라 반사광이 뽑아내어지고, 결상렌즈(52)에 의해 광검출기(54) 상에 결상되어 있다. 광검출기(54)로서는, 예를 들면, 1차원 CCD(Charge Coupled Device) 등을 이용할 수 있고, 반사광 강도에 따른 전기신호 v가 출력된다.Moreover, by providing the imaging means 104 on the optical path of the laser beam 4, it is possible to image the reflected light from the sample under test 6 and extract it as an imaging information signal v. In this example, the reflected light is extracted by the beam splitter 50 and formed on the photodetector 54 by the imaging lens 52. As the photodetector 54, for example, a one-dimensional CCD (Charge Coupled Device) or the like can be used, and the electric signal v corresponding to the reflected light intensity is output.

결상정보신호 v도, 화상정보 변환장치(12)에 입력된다. 화상정보 변환장치 (12)는 장치 제어부(20)로부터의 제어신호(1)에 따라 출력신호로서 화상정보 신호b를 출력할지, 결상정보신호 v를 출력할지를 스위칭한다.The imaging information signal v is also input to the image information converting apparatus 12. The image information conversion device 12 switches whether to output the image information signal b or the image formation information signal v as an output signal in accordance with the control signal 1 from the device control unit 20.

다음으로, 제23도를 참조해서, 이 장치구성에 따라 배선(16), 예를 들면, Al 배선 가운데에 발생하고 있는 보이드의 위치를 검출하는 원링 대해서 설명한다.Next, with reference to FIG. 23, the one-ring which detects the position of the void which generate | occur | produces in the wiring 16, for example, Al wiring according to this apparatus structure is demonstrated.

레이저 광선이, Al 배선의 보이드가 없는 영역 P에 조사되어 있는 경우를 기준으로 해서 생각하면, 보이드가 있는 영역 Q에 조사되어 있을 때는, 열전도가 열화된다. 따라서, 영역 P에 레이저 광이 조사되어 있을 때의 그 영역의 온도 상승 △TP에 비해서, 영역 Q에 조사되어 있을 때의 그 영역의 온도 상승 △TQ의 쪽이 더 크다. 그 때문에, 영역 Q에 레이저 광이 조사되어 있을 때 쪽이, 저항변화도 커진다. 따라서, 배선 가운데를 흐르는 전류 I를 모니터하면, 보이드가 있는 영역과 없는 영역에 레이저 광이 조사될 때의 전류값의 변화△I가 다르기 때문에, △I를 주사위치에 대해서 휘도정보로 변환해서 화상정보로 한 것을 화상출력 수단(14), 예를 들면, CRT에 출력하면, 보이드 위치를 특별히 정할 수 있는 이미지 출력을 얻을 수 있다.Considering the case where the laser beam is irradiated to the voidless area P of the Al wiring, the thermal conductivity deteriorates when the laser beam is irradiated to the voided area Q. Therefore, compared with the temperature rise (DELTA) T P of the area | region when the laser beam is irradiated to the area | region P , the temperature rise (DELTA) T Q of the area | region when it irradiates to the area | region Q is larger. Therefore, when laser light is irradiated to the area | region Q, resistance change also becomes large. Therefore, when the current I flowing in the middle of the wiring is monitored, the change? I of the current value when the laser light is irradiated to the voided and the non-voided regions differs, so that? I is converted into luminance information with respect to the dice. When the information is output to the image output means 14, for example, the CRT, it is possible to obtain an image output in which the void position can be specifically determined.

이 경우, 레이저 주사 현미경(2)으로부터 결상정보에 의한 이미지 출력과 비교하는 것으로, Al 배선(16)에 있어서 보이드의 위치가 특별히 정해진다.In this case, the position of the void in the Al wiring 16 is specifically determined by comparing with the image output by the imaging information from the laser scanning microscope 2.

그러나, 이 방법으로는, 레이저 조사 때의 보이드 부분의 발열에 의한 저항변화(저항상승)를 피측정 시료(6) 가운데를 흐르는 전류의 변화(전류감소)로 받아들여 형상으로 하기 때문에, 배선에 전압을 인가해 mA 레벨의 전류를 흘린 상태에서 해석할 필요가 있었다. 그 때문에, 고저항 시료(약 10kΩ 이상)의 해석은 불가능하고, 시료의 저항값에 제한이 있었다. 또한, LSI 등의 디바이스 가운데의 임의의 배선부분에 전압을 인가하고, 전류를 흘리는 것은 곤란하기 때문에, 실제 디바이스의 해석에 이 방법을 적용하는 것은 거의 불가능하였다.However, in this method, since the resistance change (resistance increase) caused by the heat generation of the void portion at the time of laser irradiation is taken as the change (current reduction) of the current flowing in the center of the sample under test 6, the shape is changed. It was necessary to analyze with the voltage applied and the mA level current flowing. Therefore, analysis of a high resistance sample (about 10 kPa or more) was impossible, and the resistance value of the sample was limited. In addition, since it is difficult to apply a voltage to an arbitrary wiring portion in a device such as an LSI and flow a current, it is almost impossible to apply this method to the analysis of an actual device.

[발명의 개요][Overview of invention]

본 발명의 목적은, 피측정물에 전류 바이어스를 인가하는 일없이, 피측정물에 생기는 광유기전류를 화상정보로서 얻을 수 있는 주사형 광유기전류 해석장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a scanning type photoorganic current analyzing apparatus which can obtain, as image information, a photoorganic current generated in a measured object without applying a current bias to the measured object.

본 발명의 다른 목적은, 피측정물의 저항값에 제한되지 않고, 피측정물중의 빈 구멍과 결함의 위치를 검출 가능한 주사형 광유기전류 해석장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a scanning type photoorganic current analysis device which is not limited to the resistance value of the object to be measured and can detect the positions of the holes and defects in the object to be measured.

또한, 본 발명의 다른 목적은, 측정 가능한 피측정물의 형상의 제한, 측히, 폐회로를 구성할 수 있어야만 하는 제한에 구속되지 않는 주사형 광유기전류 해석장치를 제공하는 것이다.Further, another object of the present invention is to provide a scanning type photoorganic current analyzing apparatus which is not limited to the limitation of the shape of the measurable object to be measured, or the limitation that the closed circuit must be able to be configured.

본 발명은 요약한면, 집속한 레이저 광을 주사하면서 조사함에 따라 피측정물에 유기되는 광유기전류를 검출하는 주사형 광유기전류 해석장치이고, 레이저 광원과 광속주사 소자와 광집속 소자와 제어부와 전류 증폭기와 화상 변환장치와 화상출력 장치를 갖춘다.Summary of the Invention The present invention is a scanning type photoorganic current analyzing apparatus which detects photoorganic current induced in an object under measurement by scanning while irradiating focused laser light, comprising: a laser light source, a beam scanning element, a light concentrating element, a control unit; It is equipped with current amplifier, image converter and image output device.

레이저 광원은 측정용 레이저 광을 발생시킨다. 광속주사 소자는 제1제어신호에 따른 영역 내에서 레이저 광을 주사한다. 광집속 소자는 레이저 광을 피측정 시료 상에 집속시킨다. 제어부는 제1제어신호를 출력한다. 전류 증폭기는, 피측정 시료를 흐르는 전류를 증폭하고, 증폭된 전류에 대응하는 출력신호를 출력한다. 화상 변환장치는, 레이저 광의 주사에 동기하여 전류 증폭기의 출력신호에 대응하는 화상정보로 변환해서 출력한다. 화상출력 장치는 화상정보에 따른 화상을 출력한다.The laser light source generates laser light for measurement. The luminous flux scanning element scans the laser light in the region according to the first control signal. The light converging element focuses the laser light on the sample under measurement. The controller outputs a first control signal. The current amplifier amplifies the current flowing through the sample under test, and outputs an output signal corresponding to the amplified current. The image conversion device converts and outputs the image information corresponding to the output signal of the current amplifier in synchronization with the scanning of the laser light. The image output device outputs an image according to the image information.

본 발명의 다른 국면에 따르면, 주사형 광유기전류 해석장치는 레이저 광원과 광속주사 소자와 광집속 소자와 제어부와 전류 증폭기와 결상장치와 화상변환 장치와 화상출력 장치를 갖추고 있다. 레이저 광원은 레이저 광을 발생시킨다. 광속주사 소자는 제1제어신호에 따른 영역 내에서 레이저 광을 주사한다. 광집속 소자는 레이저 광을 피측정 시료 상에 집속시킨다. 전류 증폭기는 피측정 시료의 양끝과 접속되고, 피측정 시료를 흐르는 전류를 증폭하고, 그 증폭된 전류에 대응하는 출력신호를 출력한다. 결상장치는 피측정 시료로부터 반사광을 결상시켜 결상정보를 출력한다. 화상변환 장치는, 레이저 광의 주사에 동기하여 전류 증폭기의 출력신호에 대응하는 화상정보에 변환해 출력하는 장치와, 제2제어신호에 따라 화상정보를 출력하는 제1상태와 결상정보를 출력하는 제2상태를 스위칭하는 스위칭 수단을 구비한다. 제어수단은 제1, 2 제어신호를 출력한다.According to another aspect of the present invention, a scanning photoorganic current analyzing apparatus includes a laser light source, a beam scanning element, a light converging element, a control unit, a current amplifier, an imaging device, an image conversion device, and an image output device. The laser light source generates laser light. The luminous flux scanning element scans the laser light in the region according to the first control signal. The light converging element focuses the laser light on the sample under measurement. The current amplifier is connected to both ends of the sample under test, amplifies the current flowing through the sample under test, and outputs an output signal corresponding to the amplified current. The imaging apparatus forms reflected light from the sample under test and outputs imaging information. The image converting apparatus includes an apparatus for converting and outputting image information corresponding to an output signal of a current amplifier in synchronization with scanning of laser light, and a first state for outputting image information in accordance with a second control signal and outputting image formation information. And switching means for switching two states. The control means outputs the first and second control signals.

또한, 본 발명의 다른 국면에 따르면, 주사형 광유기전류 해석장치는 레이저 광원과 광속주사 소자와 광집속 소자와 제어부와 제1전원과 전류 증폭기와 화상변환 장치와 화상출력 장치를 갖추고 있다. 레이저 광원은 레이저 광을 발생시킨다. 광속주사 소자는 제1제어신호에 따른 영역 내에서 레이저 광을 주사한다. 광집속 소자는 레이저 광을 피측정 시료 상에 집속시킨다. 제어부는 제1 제어신호를 출력한다. 전류 증폭기는 한쪽 끝이 전기적으로 개방상태인 피측정 시료의 다른 쪽 끝과 제1전원 사이에 접속하고, 피측정 시료에 흐르는 전류를 증폭하고, 대응하는 신호를 출력한다. 화상 변환장치는 레이저 광의 주사에 동기하여 전류 증폭기의 출력신호에 대응하는 화상정보로 변환해서 출력한다. 화상출력 장치는 화상정보에 따른 화상을 출력한다.In addition, according to another aspect of the present invention, a scanning photoorganic current analyzing apparatus includes a laser light source, a beam scanning element, a light focusing element, a control unit, a first power supply, a current amplifier, an image conversion device, and an image output device. The laser light source generates laser light. The luminous flux scanning element scans the laser light in the region according to the first control signal. The light converging element focuses the laser light on the sample under measurement. The controller outputs a first control signal. The current amplifier is connected between the other end of the sample under test, the one end of which is electrically open, and the first power supply, amplifies the current flowing through the sample under test, and outputs a corresponding signal. The image conversion device converts and outputs the image information corresponding to the output signal of the current amplifier in synchronization with the scanning of the laser light. The image output device outputs an image according to the image information.

따라서, 본 발명의 주요한 이점은, 피측정 시료에 전류 바이어스를 인가하지 않고, 피측정 시료의 빈 구멍 등의 위치를 검출할 수 있고, 그 때문에, 고저항의 피측정 시료, 예를 들면, 빈 구멍이 생성되어 단선 바로 앞의 반도체 집적회로의 배선 등에 있어서 보이드의 위치의 검출에 적용 가능한 것이다.Therefore, the main advantage of the present invention is that the position of the hole or the like of the sample under measurement can be detected without applying a current bias to the sample under measurement, and therefore, a sample having a high resistance, for example, a bin A hole is formed and applicable to the detection of the position of the void in the wiring of the semiconductor integrated circuit immediately before the disconnection.

본 발명의 다른 이점은, 측정에 있어서 피측정 시료가 폐회로를 구성할 필요가 없기 때문에, 피측정 시료의 형상이 특정한 전용패턴으로 한정되지 않고, 예를 들면, 실제의 디바이스에 대해서도 측정이 가능한 것이다.Another advantage of the present invention is that the sample to be measured does not need to form a closed circuit in the measurement, so that the shape of the sample to be measured is not limited to a specific dedicated pattern. .

[바람직한 실시예의 설명][Description of Preferred Embodiment]

제1도는, 본 발명의 제1실시예의 주사형 광유기전류 해석장치를 나타낸 개략 블록도이다.FIG. 1 is a schematic block diagram showing a scanning type photoorganic current analyzing apparatus of a first embodiment of the present invention.

제1도에 나타낸 실시예는, 제20도의 종래예와는, 직류전원(8)을 제외하고, 피측정 시료(6)의 한끝은 직접 접지되고, 다른 쪽 끝은 전류업(10)을 끼워서 접지되어 있는 점에서 다르다.In the embodiment shown in FIG. 1, except for the DC power source 8, one end of the sample 6 to be measured is directly grounded, and the other end is fitted with the current-up 10, except for the DC power source 8. It is different in that it is grounded.

제2도는, 피측정 시료(6)와 접지전위 및 전류업(10)과의 접속관계를 보다 자세하게 나타낸 개략도이다.2 is a schematic diagram showing the connection relationship between the sample 6 under test, the ground potential, and the current up 10 in more detail.

이 예에서도, 종래예와 같이, 피측정 배선은 배선 패턴(16) 및 전원패드(18)로 된 측정용의 전용패턴이다.Also in this example, the wiring under measurement is a dedicated pattern for measurement composed of the wiring pattern 16 and the power supply pad 18 as in the conventional example.

전극패드(18)의 한쪽은 직접 접지되고, 다른 쪽은 전류업(10)에 접속되어 있다.One of the electrode pads 18 is directly grounded, and the other is connected to the current up 10.

즉, 피측정 시료(6)에는 전압이 인가되지 않고, 전류를 흘리지 않은 상태에서 시료 상에 레이저 빔을 조사하여 주사하고, 전류상을 얻는 구성으로 한 것이다. 이 실시예의 경우, 광유기전류 해석장치로서, 시료 상에서의 출력이 약 0.7mW인 레이저 빔(4) 및 검출한계전류가 40pA의 전류업(10)을 갖는 장치를 사용했다. 또한, 동출력의 레이저 빔을 사용한 경우, 검추한계전류가 1nA 이하의 전류업(10)의 감도에 있어서, 이러한 논바이어스 아래에서의 보이드의 검출이 가능했다.That is, it is set as the structure which irradiates a laser beam on a sample, scans, and obtains a current phase, without a voltage being applied to the to-be-measured sample 6, and a current does not flow. In this embodiment, as the photoorganic current analyzing apparatus, a device having a laser beam 4 having an output of about 0.7 mW on a sample and a current up 10 having a detection limit current of 40 pA was used. Moreover, when the laser beam of the same power was used, the detection of the void under such a non-bias was possible in the sensitivity of the current up 10 whose detection limit current is 1nA or less.

제3도에, 본 실시예에 따라 보이드 부분에서 검출된 전류 이미지의 모식도를 나타낸다. 제3도의 (a)는 Al 배선 시료의 단면구조, 제3도의 (b)는, 제3도의 (a)에 나타낸 Al 배선(22) 위를 레이저 빔(4)이 주사했을 때, 조사 위치에 대응해서 전류업(10)으로 검출된 전류값의 변화, 제3도의 (c)는 제3도의 (b)의 전류값의 변화를 반영해서 제1도 중의 화상출력 장치(14)에 얻어지는 전류상의 모식도를 나타낸다.3 shows a schematic diagram of the current image detected in the void portion according to the present embodiment. (A) of FIG. 3 shows the cross-sectional structure of the Al wiring sample, and (b) of FIG. 3 shows the irradiation position when the laser beam 4 scans the Al wiring 22 shown in (a) of FIG. Correspondingly, the change in the current value detected by the current up 10, (c) in FIG. 3 reflects the change in the current value in (b) in FIG. 3, and the current image obtained in the image output device 14 in FIG. A schematic is shown.

도면 중 Al 배선(22)은 Al 단체 혹은, Si, Cu 등을 함유한 재료로 단층구조, 또는 TiN, W 등의 층을 상하 혹은 어딘가에 형성한 적층구조를 갖는다. 패시 베이션막(24) 또는 층간절연막(26)은 SiN, SiO2등의 재료로 이루어져 있다.In the drawing, the Al wiring 22 has a single layer structure or a single layer structure made of a material containing Si, Cu or the like, or a laminated structure in which a layer such as TiN or W is formed above or below. The passivation film 24 or the interlayer insulating film 26 is made of a material such as SiN or SiO 2 .

제3도 (b)에서 가리키듯이, 실리콘 기판(28) 상에 형성된 알루미늄 배선(30)위를 레이저 광(4)이 주사되어 알루미늄 배선(32)중에 존재하는 보이드(30)위를 통과하면, 논바이어스 상태에서는 보이드(30)의 양쪽에서 역방향의 전류가 발생하고, 보이드에 접근할수록 커진다. 이것에 따라, 보이드 부분에서의 전류상은 제3도의 (c)에서 나타내듯이, 보이드(30)를 경계로 1쌍의 명암부분을 갖는 특징적인 상으로서 얻을 수 있다. 또한, 제3도의 (c)에 전류 이미지 상에 있어서 알루미늄 배선의 영역(32)을 점선에 따라 나타내었다. 상기 전류 이미지 상은, 레이저 조사에 동반해서 보이드 부분에서의 제에베크(Seebeck) 효과에 따라 자기 발생적으로 생기는 열 기전력에 따른 것으로 생각할 수 있고 종래 법에 따른 원리와는 전혀 다른 것이다.As shown in FIG. 3B, when the laser light 4 is scanned on the aluminum wiring 30 formed on the silicon substrate 28 and passes through the void 30 existing in the aluminum wiring 32. In the non-biased state, reverse current occurs in both of the voids 30, and becomes larger as the void approaches. Accordingly, the current phase in the void portion can be obtained as a characteristic phase having a pair of light and dark portions around the void 30 as shown in Fig. 3C. In addition, in FIG. 3C, the region 32 of the aluminum wiring in the current image is shown along the dotted line. The current image image can be considered to be due to the self-generating thermal electromotive force due to Seebeck effect in the void portion accompanying laser irradiation, and is completely different from the principle according to the conventional method.

여기서, 제20도의 종래예와 비교해서 피측정 시료(6)의 한 끝은 접지한 본 실시예의 쪽이 일반적으로는 측정계에서 직류전원(8)을 제거하게 되고, 전원에서의 노이즈의 영향이 없어지기 때문에, 전류상이 보다 선명하게 됨과 동시에 보이드의 검출감도가 향상하는 이점도 있다.Here, compared to the conventional example of FIG. 20, one end of the sample to be measured 6 is grounded to remove the DC power source 8 from the measurement system. As a result, the current phase becomes clearer and the detection sensitivity of the void is also improved.

제4도는 본 발명의 제2실시예를 나타낸 개략 블록도이다. 즉, 제1실시 예처럼 편측전극을 고정적으로 접지하는 것이 아니고, 접지할지 직류전원(8)에 연결할지를 바꾸는 기구를 갖는 구성으로 한 것이다. 도면에 있어서 부호2~20은, 제1도와 같은 구성요소이고, 교환기구(34)는 직류전원(8)과 접지 전위의 교환을 행한다. 이처럼 장치를 구성하는 것에 따라, 바이어스 인가상태에서의 해석도 가능해진다.4 is a schematic block diagram showing a second embodiment of the present invention. In other words, instead of fixedly grounding the one-side electrode as in the first embodiment, the structure has a mechanism for changing whether to ground or connect to the DC power source 8. In the figure, reference numerals 2 to 20 denote the same components as those in FIG. 1, and the exchange mechanism 34 exchanges the DC power supply 8 with the ground potential. By constructing the device in this manner, the analysis in the bias applied state can also be performed.

또한, 제1실시예에서는, 시료의 편측전극을 직접 접지했지만, 제5, 6도에 나타냈듯이 패드(18)에 저항체(36) 또는 커패시터(38) 등의 부하를 설치해도좋다. 제5도는 저항체(36)를 전극패드(18)와 접지노드 사이에 설치한 제3실시예를 나타내고, 제6도는 커패시터(38)를 설치한 제4실시예를 나타낸다. 양 도면에 있어서, 부호 6~18은 제2도와 같은 구성요소를 나타낸다. 이처럼, 부하를 설치하는 것에 따라, 노이즈는 또한 저감되고 보이드 부분에 있어서 보다 선명한 상을 얻을 수 있고, 검출감도가 향상하는 효과가 확인되었다. 또한, 저항체와 커패시터의 양쪽을 부착해도 같은 노이즈의 저감효과를 얻을 수 있다.In the first embodiment, the one-side electrode of the sample is directly grounded. However, as shown in FIGS. 5 and 6, a load such as the resistor 36 or the capacitor 38 may be provided on the pad 18. FIG. 5 shows a third embodiment in which the resistor 36 is provided between the electrode pad 18 and the ground node, and FIG. 6 shows a fourth embodiment in which the capacitor 38 is provided. In both drawings, 6-18 represent the same component as FIG. In this way, by providing the load, noise was further reduced, a clearer image was obtained in the void portion, and the effect of improving the detection sensitivity was confirmed. In addition, the same noise reduction effect can be obtained by attaching both the resistor and the capacitor.

이것은, 예를 들면, 측정공간 가운데를 저주파의 전자파가 전송해서 전류업(10)의 출력신호에 노이즈를 주고 있는 경우 등에 있어서는, 저항체(36)에서는 줄(Joul) 열 그리고, 커패시터(38)에서는 유전손으로서, 저주파 전자파가 흡수되는 것에 따라, 노이즈의 저감에 유효한 가능성이 있다.For example, in the case where a low frequency electromagnetic wave is transmitted to the center of the measurement space to give noise to the output signal of the current up 10, this is the case of the joule column in the resistor 36 and the capacitor 38. As the dielectric loss, low-frequency electromagnetic waves are absorbed, which may be effective for reducing noise.

또한, 커패시터(38)를 접속한 경우는, 고주파 측의 노이즈를 제거하는 데에도 유효하다.In addition, when the capacitor 38 is connected, it is also effective for removing noise on the high frequency side.

또한, 이상의 실시예에서는 시료의 편측전극을 OV(접지)로 고정했지만, 개방상태로 해도 좋다. 즉, 측정계를 폐회로로 하지 않아도 좋다. 제7도에, 이상의 구성으로 한 제5실시예에 따른 광유기전류 해석장치의 구성을 나타낸다. 도면에 있어서, 부호 2~20은 제1도와 같은 구성요소를 나타낸다. 개방상태에서 해석이 가능한 것은, 레이저 조사 때의 보이드에 대응해서 발생하는 번류가 자기 발생적인 열 기전력에 의한 비평형 전류에 기인하기 때문이다. 상기 제1실시예와 같은 직류전원(8)으로부터의 노이즈의 영향을 받지 않기 때문에, 전류층이 보다 선명하게 됨과 동시에 보이드의 검출감도가 향상하는 것을 확인했다.In the above embodiment, the one-side electrode of the sample is fixed by OV (grounding), but may be in an open state. In other words, the measuring system does not have to be a closed circuit. 7 shows the configuration of the photoorganic current analyzing apparatus according to the fifth embodiment having the above configuration. In the drawings, reference numerals 2 to 20 denote the same components as those in FIG. The analysis in the open state is possible because the current generated in response to the void during laser irradiation is caused by the unbalanced current caused by the self-generated thermal electromotive force. Since it was not affected by the noise from the DC power supply 8 as in the first embodiment, it was confirmed that the current layer became clearer and the detection sensitivity of the voids was improved.

제8도는, 제7도의 제5실시예에 있어서 피측정 시료(6)와 전류업(10) 및 접지전위의 접속을 보다 자세하게 나타낸 개략도이다. 이같은 장치구성에서도, 보이드가 검출가능한 것에 따라, 피측정물(6)은 전용 측정패턴일 필요는 없고, 적어도 그 한쪽 끝에 전류탐침을 접속할 수 있는 형상이면 충분하다. 즉, 실세의 반도체 집적회로 디바이스에도 적용이 가능하다.FIG. 8 is a schematic diagram showing in more detail the connection between the sample under test 6, the current up 10, and the ground potential in the fifth embodiment of FIG. Even in such an apparatus configuration, as the void can be detected, the object to be measured 6 does not need to be a dedicated measurement pattern, and a shape capable of connecting a current probe to at least one end thereof is sufficient. That is, the present invention can also be applied to real semiconductor integrated circuit devices.

또한, 상기 제5실시예에서는, 피측정물(6)의 편측전극을 단지 개방상태로 했지만, 제9, 10도에서 가리키듯이 저항체(36)와 커패시터(38) 등의 부하를 부착해도 좋다. 제9도는 저항체(36)를 부착한 제6실시예의 경우를 나타내고, 제10도는 커패시터를 부착한 제7실시예의 경우를 나타낸다. 양 도면에 있어서, 부호 6~18은 제2도와 같은 구성요소이다. 이처럼, 부하를 부착하는 것에 따라, 제3,4 실시예와 같은 공간전장, 부유전계의 변동의 영향이 경감되고 노이즈가 저감된다. 이것에 따라, 보다 선명한 전류상을 얻을 수 있고, 검출감도가 향상하는 효과가 확인되었다. 또한, 저항체(36)와 커패시터(38)의 양쪽을 부착해도 같은 노이즈 저감효과를 얻을 수 있다.In the fifth embodiment, the one-side electrode of the object to be measured 6 is only opened, but as shown in FIGS. 9 and 10, a load such as the resistor 36 and the capacitor 38 may be attached. . 9 shows the case of the sixth embodiment with the resistor 36 attached, and FIG. 10 shows the case of the seventh embodiment with the capacitor attached. In both drawings, reference numerals 6 to 18 are the same components as those in FIG. Thus, by attaching a load, the influence of the fluctuations of the space electric field and the floating electric field as in the third and fourth embodiments is reduced and the noise is reduced. As a result, a more clear current phase can be obtained, and the effect of improving the detection sensitivity was confirmed. In addition, the same noise reduction effect can be obtained by attaching both the resistor 36 and the capacitor 38.

또한, 상기 실시예에서는, 피측정물(6)의 편측전극부의 처리에 따라 노이즈의 저감을 행했지만, 피측정물(6)을 전자 차폐체로 에워싸는 것에 의해서도 노이즈의 경감이 가능하다. 제11도에 그 한 예를 나타낸다. 제11도는 제8실시예의 한 예를 나타낸 광유기전류 해석장치의 개략 블록도이다. 도면에 있어서, 부호 2~20은 제1도와 같은 구성요소이고, 레이저 주사 현미경(2) 및 피측정물(6)은 퍼멀로이(permalloy) 등의 합금 또는 통상의 금속 등의 전자 차폐체(40)로 완성한 케이스에 의해 뒤덮여 있다. 이처럼, 피측정물(6)을 전자 차폐체(40)로 뒤덮은 것에 따라 공간천장, 부유전계의 변동의 영향이 경감되고, 노이즈가 저감되는 것에 따라 제6, 7실시예와 같은 효과가 확인되었다.In addition, although the noise was reduced in accordance with the treatment of the one-side electrode portion of the measurement object 6 in the above embodiment, the noise can also be reduced by surrounding the measurement object 6 with the electromagnetic shielding body. An example is shown in FIG. 11 is a schematic block diagram of a photoorganic current analyzing apparatus showing an example of the eighth embodiment. In the figure, reference numerals 2 to 20 denote components as shown in FIG. 1, and the laser scanning microscope 2 and the object to be measured 6 are made of an alloy such as a permalloy or an electron shield 40 such as a common metal. It is covered by the finished case. As described above, by covering the object to be measured 6 with the electromagnetic shielding body 40, the effects of variations in the space ceiling and the floating electric field were alleviated, and noise was reduced, and the same effects as in the sixth and seventh embodiments were confirmed.

또한, 본 실시예에서는 피측정물(6)의 편측전극이 단지 개방상태로 되어 있지만, 제1실시예와 같고, 접지전위에 접속되어 있는 경우에도 제6, 7의 실시예처럼 저항체(36)와 커패시터(38)가 접속되어 있는 경우에도, 물론 노이즈의 저감효과가 있다.In addition, in this embodiment, the one-side electrode of the object under test 6 is only in an open state, but the same as in the first embodiment, and even when connected to the ground potential, the resistor 36 is similar to the sixth and seventh embodiments. Even when the capacitor 38 and the capacitor 38 are connected, of course, there is an effect of reducing noise.

상기 제1~8실시예서는, 노이즈의 저감을 행하는 것에 따라 S/N 비(signal/noise)를 개선하고, 보다 선명한 전류상을 얻는 것으로 보이드의 검출감도를 향상시키는 예를 나타내었다. 그러나, 레이저 조사 때, 보이드에 대응해서 발생하는 전류 자체를 증대시키는 것에 따라서도 같은 S/N 비가 개선되고, H이드의 검출감도가 향상한다. 이하에 그 실시예를 나타낸다.In the first to eighth embodiments, an example in which the detection sensitivity of the void is improved by improving the S / N ratio (signal / noise) and obtaining a clearer current phase as the noise is reduced. However, at the time of laser irradiation, the same S / N ratio is improved and the detection sensitivity of Hide is improved by increasing the current itself generated corresponding to the void. The example is shown below.

제12도는, 본 발명 제9실시예의 주사형 광유기전류 해석장치의 구성을 나타낸 개략 블록도이다.12 is a schematic block diagram showing the structure of a scanning type photoorganic current analyzing apparatus of a ninth embodiment of the present invention.

제1도의 제1실시예의 구성이란, 레이저 광의 주사속도 제어부(42)에 장치 제어부(20)로부터 주사속도 제어신호 ss가 보내어지고, 이 신호 ss에 기초해서 레이저 광의 주사속도를 바꿀 수 있는 구성으로 한 점과, 장치 제어부(20)로부터의 신호 si에 따라 전류업(10)의 샘플링 속도를 바꿀 수 있는 구성으로 한 점에서 다르다.The configuration of the first embodiment of FIG. 1 is a configuration in which the scanning speed control signal ss is sent from the apparatus control section 20 to the scanning speed control section 42 of the laser light, and the scanning speed of the laser light can be changed based on this signal ss. One point differs from one point in that the sampling rate of the current up 10 can be changed in accordance with the signal si from the device control unit 20.

예를 들면, 제22도의 레이저 주사 현미경의 구성에 있어서, 레이저 광 주사장치(102)가 음향 광학 편향 소자인 경우는, 이 음향 광학 편향 소자의 입력인 고주파 제한 신호의 주파수를 변화시키는 속도가, 신호 ss에 기초해서 변화 가능한 구성으로 하면, 편광각이 변화하는 속도를 바꿀 수 있기 때문에, 레이저 광의 주사속도를 바꿀 수 있다.For example, in the structure of the laser scanning microscope of FIG. 22, when the laser optical scanning device 102 is an acoustooptical deflection element, the speed which changes the frequency of the high frequency limit signal which is an input of this acoustooptic deflection element, If the structure which can be changed based on the signal ss can change the speed which a polarization angle changes, the scanning speed of a laser beam can be changed.

본 실시예에서는, 광유기전류 해석장치에 있어서 레이저 빔의 주사속도를 종래 장치의 한 화면당, 예를 들면, 33밀리초 이하(30 프레임/초)로 하는 기능 및 주사속도에 따라서, 전류의 샘플링 속도를 올리는 기능, 즉, 전류상의 표시분해 능력을 변화시키지 않고 레이저 빔의 주사속도를 한 화면당 33밀리초 이하로 빠르게 하는 기능을 부가하는 것이다. 보이드 부분에서의 기전력을 이용하는 본 발명에서는, 레이저 빔의 주사속도를 빠르게 하는 것에 따라 보이드 부분에 대응해서 전류를 증대시킬 수 있다. 이것은, 레이저 조사 때 보이드에 대응해서 발생하는 전류가 보이드 부분에서의 열저항에 기인하기 때문이다.In this embodiment, in the photoorganic current analyzing apparatus, the scanning speed of the laser beam is set to 33 milliseconds or less (for example, 30 frames / sec) per screen of the conventional apparatus, and according to the scanning speed. The function is to increase the sampling rate, that is, increase the scanning speed of the laser beam to 33 milliseconds or less per screen without changing the display resolution capability of the current. In the present invention using the electromotive force in the void portion, the current can be increased corresponding to the void portion by increasing the scanning speed of the laser beam. This is because the current generated corresponding to the voids during laser irradiation is due to the thermal resistance at the void portion.

제13도는 빔 주사속도의 증가가 전류 증대를 일으키는 이유를 나타낸 모식도이다. 제13도의 (a)는 Al 배선시료의 단면구조이고, 제13도의 (b)와 (c)는 제13도의 (a)의 포인트 A에 레이저 빔(4)이 조사되었을 때 Al 배선(22)에 있어서 조사점 양측의 온도경사를 나타낸다. 빔(4)의 주사속도가 늦은 경우의 상태가 제13도의 (b)이고, 빠른 경우의 상태를 나타낸 것이 제13도의 (c)이다. 도면에 있어서, 부호 4~30은 제3도와 같은 구성요소를 나타내고, 포인트 A에 레이저 빔(4)이 조사되었을 때의 온도분포의 변화(44)를 해칭밀도로 표현하고 있다. 결국, 도면 중 해칭밀도가 높을수록 높은 온도인 것을 나타낸다. 조사점의 오른쪽 및 왼쪽의 온도경사 kr, kl의 차에 따라, 빔(4)이 조사되어 있는 포인트 A에 열 기전력에 따른 전류 IA가 발생한다.FIG. 13 is a schematic diagram showing why an increase in beam scanning speed causes an increase in current. (A) of FIG. 13 is a cross-sectional structure of the Al wiring sample, and (b) and (c) of FIG. 13 show the Al wiring 22 when the laser beam 4 is irradiated to point A of (a) of FIG. In Fig. 1, temperature gradients on both sides of the irradiation point are shown. The state when the scanning speed of the beam 4 is slow is (b) of FIG. 13, and (c) is FIG. 13 which shows the state when it is fast. In the drawing, reference numerals 4 to 30 denote the same components as those in FIG. 3, and express the change 44 of the temperature distribution when the laser beam 4 is irradiated to the point A by hatching density. As a result, the higher the hatching density in the drawings, the higher the temperature. According to the difference between the temperature gradients kr and kl on the right and left sides of the irradiation point, the current I A according to the thermal electromotive force is generated at the point A where the beam 4 is irradiated.

보이드 부분(30) 및 그 주변에서는 Al 배선(22)중의 다른 정상장소와 비교해서 열전도가 저하하고 있고, 열저항이 높다. 그 때문에, 제13도에서 나타내듯이, 보이드 근방에 빔이 조사되었을 때, 조사점에 대해서 보이드 측의 온도 경사 kl이 반대쪽 kr에 비교해서 커진다. 이것에 따라, 왼쪽방향의 전자류가 발생하고, 전류 IA가 발생하게 된다. 발생하는 전류의크기는, 조사점 양측의 온도경사의 차에 의존하고, 차가 클수록 전류는 커진다. 또한 이 온도경사의 차는 조사점 양쪽의 열전도 속도의 차에 기인하기 때문에, 제13도의 (c)에서 보듯이, 열원이 되는 레이저 빔의 통과속도 즉, 주사속도가 빠를수록, 온도경사 kl의 증가가 온도경사 kr의 증가보다 크기 때문에, kr과 kl의 차는 증대하고 전류 IA도 증대한다.In the void portion 30 and its periphery, the thermal conductivity is lowered and the thermal resistance is high as compared with other normal places in the Al wiring 22. Therefore, as shown in FIG. 13, when a beam is irradiated in the vicinity of a void, the temperature gradient kl of a void side with respect to a irradiation point becomes large compared with the opposite kr. As a result, an electromagnetic flow in the left direction is generated, and a current I A is generated. The magnitude of the generated current depends on the difference of the temperature gradients on both sides of the irradiation point, and the larger the difference, the larger the current. In addition, since the temperature gradient is caused by the difference in the thermal conduction speeds at both the irradiation points, as shown in FIG. Since is greater than the increase in the temperature gradient kr, the difference between kr and kl increases and the current I A also increases.

따라서, 주사속도를 올리는 것에 따라 전류업(10)의 출력신호인 S/N이 개선되고, 보다 선명한 전류상을 얻을 수 있다.Therefore, as the scanning speed is increased, S / N, which is an output signal of the current up 10, is improved, and a clearer current phase can be obtained.

상기 제9실시예에서는, 레이저 빔의 주사속도를 빠르게 하고, 조사점 양쪽의 열경사의 차를 증가시키는 것에 따라서, 보이드에 대응해서 발생하는 전류를 증대시키도록 했지만, 피측정물(6)을 냉각하는 것에 따라서도, 열 기전력이 온도저하에 동반해서 커지기 때문에, 상기 전류를 증대시킬 수 있다.In the ninth embodiment, the current generated in response to the void is increased by increasing the scanning speed of the laser beam and increasing the difference between the thermal inclinations of both irradiation points. Also in cooling, since the thermal electromotive force increases with temperature decrease, the current can be increased.

제14도는, 제10실시예를 나타낸 광유기전류 해석장치의 개략 블록도이다. 도면에 있어서, 부호 2~20은 제1도와 같은 구성요소이고, 본 장치에서는 또한 시료를 냉각하는 냉각장치(46)를 갖추고 있다. 냉각장치(46)로서는 질소, 헬륨 등의 액화가스를 이용한 냉각장치, 또는 펠티에(Peltier)효과 등을 이용한 전자 냉각장치를 이용할 수 있다. 냉각장치(46)에 따라, 시료온도를 실온 이하로 하는 것에 따라 보이드에 대응한 전류가 증대하고, 보이드의 검출감도가 향상하는 것을 확인했다. 이것은 제13도의 (b)에 나타낸 조사점에서의 온도변화 △t의 증대에 따른다.FIG. 14 is a schematic block diagram of the photoorganic current analyzing apparatus of the tenth embodiment. In the figure, reference numerals 2 to 20 denote the same components as those in FIG. 1, and the apparatus further includes a cooling device 46 for cooling the sample. As the cooling device 46, a cooling device using liquefied gas such as nitrogen or helium, or an electronic cooling device using a Peltier effect or the like can be used. According to the cooling device 46, it was confirmed that as the sample temperature is lower than room temperature, the current corresponding to the void increases and the detection sensitivity of the void improves. This is accompanied by an increase in the temperature change Δt at the irradiation point shown in FIG. 13B.

상기 제2~9실시예에서는, 제1실시예에 나타낸 논바이어스 하에서의 해석에 있어서 보이드의 검출감도를 향상시키기 위한 공통의 실시예를 나타냈지만, 이하에 본 해석방법을 LSI 등의 실시예 디바이스 상의 Al 배선, 관통구명(via hole) 등의 해석에 응용하는 데에 유용한 실시예를 나타낸다.In the second to ninth embodiments, a common embodiment for improving the detection sensitivity of the voids in the analysis under the non-bias shown in the first embodiment is shown. However, the present analysis method is described on an example device such as LSI. Embodiments useful for applications in the analysis of Al wirings, via holes, and the like are shown.

제15도는, 제11실시예에 있어서 레이저 주사 현미경의 개략 블록도를 나타낸다.FIG. 15 shows a schematic block diagram of a laser scanning microscope in the eleventh embodiment.

본 실시예에서는, 제22도에 있어서 레이저 광원(100)의 출력파장을 예를 들면, 1.2㎛ 이상으로 했다. 이것에 따라, Si 기판 부분에서의 광유기전류의 발생이 없어지고, Al 배선 가운데의 보이드의 검출이 논바이어스 상태로 가능하게 된다. LSI 등의 실재 디바이스에서는 Al 배선의 테스트용 시료와는 달리 Al 배선이 반드시 어딘가에서 Si 기판과 접촉하고 있다. 종래 장치에서는, 광빔(4)으로서 파장 633㎜(HeNe 레이저)와 488㎜(Ar 레이저) 등의 Si의 밴드 갭에너지 (1.19V; 빛의 파장 1.2㎛에 대응)보다도 고 에너지의 레이저 빔을 사용하고 있었다. 그 때문에, 빔이 Si 기판에 조사되었을 때, Si 기판 중에 전자-정공대가 발생하고, 이 전자 또는 정공이 접촉점에서 Al 배선 가운데로 이끌리어져 전류로서 검출된다. 이 Si 기판에서 발생하는 광유기전류(㎂ 오더)는, 같은 조건으로 Al 배선중의 보이드에 대응해서 발생하는 전류(㎁ 오더)에 비해서 극단적으로 크다. 이 Si 기판부에서는 광유기전류의 영향에 따라, 종래 장치로 LSI 등의 실재 디바이스를 본 방법으로 해석하는 것은 곤란하다. 본 실시예에서는 광 빔(4)의 파장을 Si 의 밴드 갭 에너지 이하의 1.2㎛ 이상으로 하는 것에 의해 실리콘 기판 중에서의 전자-정공대의 발생을 억제하고, Si 기판 부분에서의 광유기전류의 영향을 없앨 수 있다.In this embodiment, the output wavelength of the laser light source 100 is made 1.2 m or more, for example in FIG. This eliminates the generation of the photoorganic current in the Si substrate, and enables the detection of voids in the Al wiring in a non-biased state. In a real device such as an LSI, unlike the Al wiring test sample, the Al wiring is always in contact with the Si substrate somewhere. In the conventional apparatus, as the light beam 4, a laser beam having a higher energy than the band gap energy (1.19 V; corresponding to the wavelength of 1.2 m of light) of Si, such as wavelength 633 mm (HeNe laser) and 488 mm (Ar laser), is used. Was doing. Therefore, when the beam is irradiated to the Si substrate, an electron-hole band is generated in the Si substrate, and this electron or hole is attracted to the center of the Al wiring at the contact point and detected as a current. The photoorganic current generated in this Si substrate is extremely large compared to the current generated in response to the voids in the Al wiring under the same conditions. In this Si substrate part, it is difficult to analyze actual devices, such as LSI, by this method with a conventional apparatus by the influence of a photoorganic current. In the present embodiment, the wavelength of the light beam 4 is set to 1.2 mu m or more below the band gap energy of Si to suppress the generation of electron-hole bands in the silicon substrate, thereby suppressing the influence of the photoorganic current in the Si substrate portion. I can eliminate it.

파장 1.2㎛ 이상의 레이저 광원으로서는, 예를 들면, MgF2에 Co, Ni 등을 도핑한 결정을 이용한 고체 레이저를 이용할 수 있다.As more 1.2㎛ wavelength laser light source, for example, it is possible to use a solid state laser using a crystal doped with Co, Ni, etc. to MgF 2.

또한, 본 실시예에서는 기판이 Si인 경우를 설명했지만, 다른 반도체 기판인 경우에도, 그 기판 재료의 밴드갭보다도 저 에너지의 레이저 광원을 이용하는 것에 따라 상기 실시예와 같은 효과를 얻을 수 있다.In this embodiment, the case where the substrate is Si has been described, but in the case of other semiconductor substrates, the same effect as in the above embodiment can be obtained by using a laser light source having a lower energy than the band gap of the substrate material.

상기 제11실시예에서는, 광 빔의 파장을 대신해서 실리콘 기판으로부터의 영향을 없앤 예를 나타냈지만, 레이저 빔을 Al 배선만으로 조사하는 것에 따라서도 기판의 영향을 없앨 수 있다.In the eleventh embodiment, an example in which the influence from the silicon substrate is removed in place of the wavelength of the light beam is shown. However, the influence of the substrate can also be eliminated by irradiating the laser beam only with Al wiring.

제16도는, 본 발명의 제12실시예를 나타내는 광유기전류 해석장치의 개략 블록도이다. 제1도의 제1실시예와는, 주사영역 입력장치(48)를 갖고 있는 점에서 다르다.FIG. 16 is a schematic block diagram of an optical organic current analysis device showing a twelfth embodiment of the present invention. This embodiment differs from the first embodiment in FIG. 1 in that it has a scanning area input device 48.

이 주사영역 입력장치(48)로부터의 입력신호에 기초해서, 장치 제어부(20)로 부터의 레이저 광 주사영역 지정신호 r이 출력되어, 신호 r에 따라서 레이저 주사 현미경(2)의 레이저 광을 주사하는 영역이 제한된다.On the basis of the input signal from the scanning area input device 48, the laser light scanning area designation signal r from the device control unit 20 is output, and the laser light of the laser scanning microscope 2 is scanned in accordance with the signal r. The area to be limited is limited.

제17도는, 광유기전류 해석장치에 의한 결상정보를 나타낸 모식도이다. Si 기판(62)상에, Al 배선(60)이 형성되어 있는 피측정물에 있어서, Al 배선(60)중에 보이드(64)가 존재하고 있다. 이 경우, Al 배선(60)상의 일정 영역(66)만으로 레이저 광(4)을 주사한다. 본 실시예에서는, 주사형 광유기전류 해석장치에 빔 주사위치, 범위를 모니터 화면상에서 임으로 설정할수 있는 주사영역 입력장치(48)를 부가하고, Al 배선 위에만 레이저 빔을 조사하도록 했기 때문에, Si 기판부에 발생하는 광유기전류로의 영향을 없앨 수 있게 되고, LSI 등의 실재 디바이스이어도 Al 배선 중의 보이드를 광 감도로 검출할 수 있는 것을 확인했다.17 is a schematic diagram showing the imaging information by the photoorganic current analysis device. In the object under test in which the Al wiring 60 is formed on the Si substrate 62, the void 64 is present in the Al wiring 60. In this case, the laser light 4 is scanned only in the predetermined region 66 on the Al wiring 60. In this embodiment, since the scanning area input device 48 which can set the beam dice and the range on the monitor screen is added to the scanning photoorganic current analyzer, the laser beam is irradiated only on the Al wiring. It was confirmed that the influence of the photoorganic current generated in the substrate portion can be eliminated, and even the actual device such as the LSI can detect the void in the Al wiring with the light sensitivity.

상기 제11실시예서는, 레이저 빔(4)의 조사위치, 범위를 제어해서 Al 배선의 정보만을 뽑아내도록 했지만, 전류검출을 행하는 위치, 영역을 설정할 수 있도록 해도 같은 효과를 얻을 수 있다.In the eleventh embodiment, the irradiation position and the range of the laser beam 4 are controlled to extract only the Al wiring information. However, the same effect can be obtained even if the position and area for detecting current can be set.

제18도는, 본 발명의 제13실시예를 나타낸 주사형 광유기전류검출장치의 개략 블록도이다.18 is a schematic block diagram of a scanning optical organic current detection device showing a thirteenth embodiment of the present invention.

제1도의 제1실시예와는, 전류검출영역 입력장치(49)를 갖고 있는 점에서 다르다.This embodiment differs from the first embodiment in FIG. 1 in that the current detection area input device 49 is provided.

이 전류검출영역 입력장치(49)로부터의 입력신호에 기초해서, 장치 제어부(20)로부터 전류검출 영역 지정신호 ri가 출력되고, 신호 ri에 따라서 전류업(10)이 전류를 검출하는 영역이 제한된다.Based on the input signal from the current detection area input device 49, the current detection area designation signal ri is output from the device control unit 20, and the area where the current up 10 detects the current is limited in accordance with the signal ri. do.

제19도는, 본 실시예의 한 예를 나타내는 전류상이다. 제19도의 (a)는 LSI 등의 실재 디바이스에 있어서 전류검출을 행하는 위치, 영역을 지정하기 전의 종래의 전류상을 나타내고, 제19도의 (b)는 본 실시예의 기능을 사용해서 Al 배선상의 지정한 영역만을 재표시한 전류상을 나타낸다. Si 기판(62)상에 Al 배선(60)이 형성되어 있는 피측정물(6)에 있어서, Al 배선(60) 중에 보이드(64)가 존재하고 있다. 이 경우, Al 배선(60)상의 일정 영역(68)을 레이저 광(4)이 주사하고 있는 기간만, 전류업(10)이 광유기전류를 검출한다.19 is a current phase showing an example of the present embodiment. FIG. 19 (a) shows a conventional current image before designating a position and region for performing current detection in a real device such as an LSI, and FIG. 19 (b) designates on an Al wiring using the function of this embodiment. The current phase redisplays only the area. In the measurement object 6 in which the Al wiring 60 is formed on the Si substrate 62, a void 64 is present in the Al wiring 60. In this case, only during the period in which the laser light 4 scans the constant region 68 on the Al wiring 60, the current up 10 detects the photoorganic current.

재표시된 전류상(68)에 있어서, 지정 영역 중에 보이드의 이미지(70)가 나타내진다.In the re-displayed current phase 68, an image 70 of the void is shown in the designated area.

종래의 광유기전류 해석장치에서는, 빔의 주사 영역내의 평균 전류값을 기준으로 해서, 각 포인트의 기준으로부터의 변위를 휘도 변환하고, 예를 들면, 통상 256계조의 전류상으로서 출력한다. 따라서, 종래의 광유기전류 해석장치로 전류상을 표시하면, 도면 19(a)에서 보듯이 Al 배선의 영역은 새까맣게, Si 기판부의 영역은 새하얗게 표시되고, Al 배선의 정보는 나타나지 않는다. 그 때문에, 전류업의 감도를 올려서, 검출분해 능력을 올리면, 표현 가능한 전류변위의 범위가 좁아진다. Al 배선 중의 보이드의 검출을 위해서는, 통상 InA 이하의 전류변위를 붙잡을 필요가 있지만, 예를 들면, 검출하한(검출분해능력) 40pA의 전류업을 사용한 경우, 표현 가능한 전류 범위는 10nA 정도로 매우 적어진다. 제19도처럼 주사영역 내에 Si 기판부가 있으면, 영역 내의 평균 전류값은 ㎂ 레벨이 되고, 그것을 기준으로 10nA의 범위밖에 휘도 변환을 하지 않는 것으로 하면, 제19도의 (a)에서 보듯이, Si 기판부/Al 배선부가 각각 휘도 계조의 상/하로 포화한 이미지, 즉, 새하얀 색/새까만 색으로 되어 버린다.In the conventional photoorganic current analyzing apparatus, the displacement from the reference of each point is converted to luminance on the basis of the average current value in the scanning area of the beam, and is output as, for example, a current of 256 gradations in general. Therefore, when the current phase is displayed by the conventional photoorganic current analyzing apparatus, as shown in Fig. 19 (a), the area of the Al wiring is black and the area of the Si substrate is white and the information of the Al wiring is not displayed. Therefore, when the sensitivity of the current up is raised to increase the detection resolution capability, the range of the current displacement that can be expressed is narrowed. In order to detect voids in the Al wiring, it is usually necessary to hold a current displacement of less than InA. However, for example, when a current detection limit of 40 pA or lower detection limit (detection resolution) is used, the current range that can be expressed is very small, about 10 nA. . As shown in Fig. 19, if there is a Si substrate portion in the scanning region, the average current value in the region is at the power level, and if it is assumed that the luminance conversion is made out of the range of 10 nA based on that, the Si substrate as shown in Fig. 19A is shown. Each of the negative / Al wiring portions becomes an image saturated at the top and bottom of the luminance gradation, that is, a white color / black color.

본 실시예에서는, 주사형 광유기전류 해석장치에 전류검출 또는 휘도 변환하는 영역을 임의로 설정할 수 있는 기능을 부가하는 것에 따라, Si 기판부에 발생하는 광유기전류의 영향을 없앨 수 있게 되고, LSI 등의 실시예 디바이스 이어도 Al 배선중의 보이드를 광감도로 검출할 수 있는 것을 확인했다.In this embodiment, by adding a function of arbitrarily setting a region for current detection or luminance conversion to the scanning photoorganic current analysis device, the influence of the photoorganic current generated in the Si substrate portion can be eliminated, and the LSI It was confirmed that the voids in the Al wiring can be detected with light sensitivity even in the case of devices such as the above.

Claims (15)

접속한 레이저 광을 주사하면서 조사함으로써 피측정 시료(6)에 유기되는 광유기전류를 검출하는 주사형 광유기전류 해석장치에 있어서, 상기 레이저 광을 발생시키는 레이저 광원(100)과, 제1제어신호에 따른 영역 내에서 상기 레이저 광을 주사하는 광속주사 수단(102)과, 상기 레이저 광을 상기 피측정 시료 상에 집속시키는 광집속 수단(106)과, 그 제1제어신호를 출력하는 제어수단(20)과, 상기 피측정 시료를 흐르는 전류를 증폭하고, 그 증폭된 전류에 대응하는 출력신호를 출력하는 전류증폭 수단(10)과, 상기 레이저 광의 주사에 동기하여 그 전류증폭 수단의 출력신호에 대응하는 화상정보로 변환해서 출력하는 화상변환 수단(12)과, 그 화상정보에 따른 화상을 출력하는 화상출력 수단(14) 및 상기 피측정 시료에 전압이든 전류든 어느 것도 인가하지 않고, 상기 광유기전류 해석장치가 상기 피측정 시료에 흐르는 전류를 얻을 수 있도록 하는 시료상태 설정수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 광유기전류 해석장치.In the scanning type photoorganic current analysis device which detects the photoorganic current induced in the sample 6 to be measured by irradiating with scanning the connected laser light, the laser light source 100 which generate | occur | produces the said laser light, and 1st control Luminous flux scanning means 102 for scanning the laser light in an area corresponding to the signal, luminous focusing means 106 for focusing the laser light on the sample under test, and control means for outputting the first control signal. (20), current amplifying means (10) for amplifying a current flowing through the sample to be measured and outputting an output signal corresponding to the amplified current, and an output signal of the current amplifying means in synchronization with the scanning of the laser light The image converting means 12 converts and outputs the image information corresponding to the image information, the image output means 14 for outputting the image according to the image information, and neither the voltage nor the current is applied to the sample to be measured. And a sample state setting means for allowing the photoorganic current analysis device to obtain a current flowing through the sample to be measured. 제1항에 있어서, 상기 피측정 시료로부터의 반사광을 결상시켜, 결상정보를 상기 화상 변환 수단에 출력하는 결상수단(104)을 더 포함하며, 상기 화상변환 수단(12)이, 상기 제어수단으로부터 제2제어신호에 따라 상기 화상정보와 상기 결상정보를 선택적으로 화상출력 수단에 출력하는 것을 특징으로 하는 주사형 광유기전류 해석장치.2. An image forming means according to claim 1, further comprising image forming means (104) for forming reflected light from said sample under test and outputting image forming information to said image converting means, wherein said image converting means (12) is provided from said control means. And the image information and the image formation information are selectively output to the image output means in accordance with a second control signal. 제1항에 있어서, 제1전위를 공급하는 제1전원(8) 및 상기 피측정 시료(6)의 양끝과 상기 전류증폭 수단(10)이 접속되어 있는 제1상태와, 상기 피측정 시료(6)와 상기 제1전원(8)과 상기 전류증폭 수단(10)이 직렬로 접속되어 있는 제2상태를 스위칭하는 스위칭 수단(34)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 광유기전류 해석장치.2. A first state according to claim 1, wherein the first power source 8 that supplies the first potential, both ends of the sample under test 6, and the current amplifying means 10 are connected, and the sample under test ( 6) and a switching means 34 for switching a second state in which the first power source 8 and the current amplifying means 10 are connected in series. . 제1항에 있어서, 상기 피측정 시료는 양단에 접속단을 가지며, 상기 접속단 중의 한쪽은 상기 전류증폭 수단에 접속하며, 상기 시료상태 설정수단은 상기 접속단 중의 다른 쪽과 접지전위 사이에 결합된 저항체(36)를 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 광유기전류 해석장치.2. The sample to be measured has connection ends at both ends, one of the connection ends is connected to the current amplifying means, and the sample state setting means is coupled between the other of the connection ends and the ground potential. Scan type photoorganic current analysis device, characterized in that it comprises a resistor (36). 제1항에 있어서, 상기 피측정 시료는 양단에 접속단을 가지며, 상기 접속단 중의 한쪽은 상기 전류증폭 수단에 접속하며, 상기 시료상태 설정수단은 상기 접속단 중의 다른 쪽과 접지전위 사이에 결합된 커패시터(38)를 구비하는 것을 특징으로 하는 주사형 광유기전류 해석장치.2. The sample to be measured has connection ends at both ends, one of the connection ends is connected to the current amplifying means, and the sample state setting means is coupled between the other of the connection ends and the ground potential. Scanning photoorganic current analysis device, characterized in that it comprises a capacitor (38). 접속한 레이저 광을 주사하면서 조사함으로써 피측정 시료에 유기되는 광유기전류를 검출하는 주사형 광유기전류 해석장치에 있어서, 상기 레이저 광을 발생시키는 레이저 광원(100)과, 제1제어신호에 따른 영역 내에서 상기 레이저 광을 주사하는 광속주사 수단(102)과, 상기 레이저 광을 상기 피측정 시료 상에 집속시키는 광집속 수단(106)과, 그 제1제어신호를 출력하는 제어수단(20)과, 제1전위를 공급하는 제1전원(9)과, 한쪽 끝이 전기적으로 개방상태인 상기 피측정 시료의 다른 쪽 끝과 그 제1전원 사이에 접속되어, 상기 피측정 시료를 흐르는 전류를 증폭하고, 대응하는 신호를 출력하는 전류증폭 수단(10)과, 상기 레이저 광의 주사에 동기하여 그 전류증폭 수단의 출력신호에 대응하는 화상정보로 변환해서 출력하는 화상변환 수단(12) 및 그 화상정보에 따른 화상을 출력하는 화상출력 수단(14)을 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 광유기전류 해석장치.A scanning type photoorganic current analyzing apparatus for detecting a photoorganic current induced in a sample to be measured by irradiating while scanning the connected laser light, comprising: a laser light source 100 for generating the laser light and a first control signal Luminous flux scanning means 102 for scanning the laser light in an area, luminous focusing means 106 for focusing the laser light on the sample under test, and control means 20 for outputting the first control signal. And a first power source 9 for supplying a first potential, and the other end of the sample under test, the one end of which is electrically open, and the first power source to supply current flowing through the sample under test. Current amplifying means 10 for amplifying and outputting a corresponding signal, and image converting means 12 for converting and outputting image information corresponding to the output signal of the current amplifying means in synchronization with the scanning of the laser light and the image thereof. Information And an image output means (14) for outputting an image according to the present invention. 제6항에 있어서, 상기 피측정 시료로부터의 반사광을 결상시켜 결상정보를 상기 화상 변환 수단에 출력하는 결상수단(104)을 더 포함하며, 상기 화상변환 수단(12)은, 제2제어신호에 따라 상기 화상출력 수단에 상기 화상정보를 출력하는 제1상태와, 상기 결상정보를 출력하는 제2상태를 스위칭하는 스위칭 수단을 구비하고, 상기 제어수단은 상기 제2제어신호를 출력하는 것을 특징으로 하는 주사형 광유기전류 해석장치.The image converting means (12) according to claim 6, further comprising image forming means (104) for forming reflected light from the sample under test and outputting image forming information to the image converting means. And switching means for switching the first state for outputting the image information to the image output means and the second state for outputting the imaging information, wherein the control means outputs the second control signal. Scanning type photoorganic current analysis device. 제6항에 있어서, 상기 개방상태인 피측정 시료의 한쪽 끝에 접속하는 저항체(36)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 광유기전류 해석장치.7. The scan type photoorganic current analysis device according to claim 6, further comprising a resistor (36) connected to one end of the sample under test in the open state. 제6항에 있어서, 상기 개방상태인 피측정 시료의 한쪽 끝과 상기 제1전원 사이에 접속된 커패시터(38)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 과유기 전류 해석장치.7. The scan type superorganic current analysis device according to claim 6, further comprising a capacitor (38) connected between one end of the sample under test and the first power source. 제6항에 있어서, 적어도 상기 레이저 광원(100), 상기 광속주사 수단(102), 상기 광집속 수단(106) 및 상기 피측정 시료(6)를 덮는 전자(電磁) 차폐체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 광유기전류 해석장치.7. An electron shield according to claim 6, further comprising at least the laser light source 100, the beam scanning means 102, the light converging means 106, and the sample 6 to be measured. Scanning photoorganic current analysis device. 제6항에 있어서, 상기 광속 주사수단(102)이, 상기 레이저 광의 주사속도를 바꿀 수 있는 주사속도 가변수단(42)을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 주사형 광유기전류 해석장치.7. The scanning optical organic current analysis device according to claim 6, wherein the luminous flux scanning means (102) further comprises a scanning speed varying means (42) capable of changing the scanning speed of the laser light. 제6항에 있어서, 상기 피측정 시료를 냉각하여 환경온도 이하로 하는 냉각수단(46)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 광유기전류 해석장치.7. The scan type photoorganic current analyzing apparatus according to claim 6, further comprising cooling means (46) for cooling the sample under test to be below an environmental temperature. 제6항에 있어서, 상기 피측정 시료가 반도체를 포함하는 경우에 상기 레이저 광원이 발생시키는 레이저 광이, 상기 반도체의 밴드 갭 에너지에 해당하는 파장보다 긴 파장을 갖는 것을 특징으로 하는 주사형 광유기전류 해석장치.7. The scanning type photoorganic device according to claim 6, wherein the laser light generated by the laser light source when the sample to be measured contains a semiconductor has a wavelength longer than a wavelength corresponding to a band gap energy of the semiconductor. Current analyzer. 제7항에 있어서, 상기 제어수단이, 지정된 상기 결상정보의 일부에 해당하는 영역에서 상기 레이저 광을 주사하는 상기 제1제어신호를 발생시키는 제어신호 발생수단(48)을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 주사형 광유기전류 해석장치.8. The control apparatus according to claim 7, wherein said control means further comprises a control signal generating means (48) for generating said first control signal for scanning said laser light in a region corresponding to a part of said designated imaging information. Scanning type photoorganic current analysis device. 제7항에 있어서, 상기 제어수단은, 상기 결상정보의 일부에 해당하는 영역을 지정하는 영역지정신호를 출력하는 영역지정신호 출력수단(49)을 더 구비하며, 상기 화상변환 수단(12)은, 그 영역지정신호에 따른 영역에 해당하는 상기 화상정보를 출력하는 화상정보 출력수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 주사형 광유기전류 해석장치.8. The apparatus according to claim 7, wherein said control means further comprises region designation signal output means (49) for outputting region designation signals for designating an area corresponding to a part of said imaging information. And image information output means for outputting the image information corresponding to the area corresponding to the area designation signal.
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