KR0165128B1 - 아래 완전표면 진공압형과 위 링 압형을 활용하는 유리판 형성 - Google Patents

Abstract

가열 평유리판을 상측 이송장치(44)의 하향으로 면하는 표면(46)에 이송하는 가열 컨베이어(42), 적어도 한부분이 상향으로 볼록한 꼴로 되어 상측 이송장치로부터 가열 유리판을 받는 상향으로 면하는 완전표면(50)을 가지고 있는 아래 압형(48), 및 진공압형 표면(50)에 대해 가열 유리판의 주변을 형성하여 밀봉하며 유리판의 밀봉된 주변 내에 진공이 공급되어 진공압형표면의 모양에 유리판의 전체 범위를 형성하게 되는 위 링 압형(52)를 활용하는 평유리판 형성의 장치(38)과 방법의 발명이다. 그 때 위 링 압형(52)의 진공 체임버(122) 내에 진공이 마련되어 형성 유리판을, 위 링 압형에 의해 지지하기 위해 아래 진공압형으로부터 받게 된다. 형성 유리판의 어닐링이나 또는 불리기나를 하기 위하여 어닐링 링(132a)이어도 또는 퀀치 링(132b)이어도 좋은 냉각틀(132)가 또한 바람직하게 마련되어 냉각을 위해 위 링 압형(52)로부터 형성 유리판을 받게 되는 것이다.

Description

[발명의 명칭]

아래 완전표면 진공압형과 위 링 압형을 활용하는 유리판 형성

[도면의 간단한 설명]

제1도는, 본 발명에 따른 평유리판 형성장치를 포함하는 유리 형성장치의 측면 개략도.

제2도는, 가열 컨베이어가, 가스의 얇은 필름 상에서 가열되는 유리판을 지지하는 가스 노상 형의 것인, 유리판 형성장치의 가열 컨베이어의 일 실시양태의 단면도.

제3도는, 가열 컨베이어가, 유리판을 가열하는 동안 지지하는 롤러를 포함하고 있는 롤러 형의 것인, 유리판 형성장치의 가열 컨베이어의 일 실시양태의 단면도.

제4도는, 직접적인 맞닿음 없이 평유리판을 지지하는 가스 현가 압반을 포함하고 있는 상측 이송장치의 일 실시양태를 보이는, 유리판 형성장치의 부분도.

제5도는, 직접적인 맞닿음으로 가열 컨베이어로부터 받은 가열 평유리판을 지지하는 진공압반을 포함하고 있는 상측 이송장치의 또 하나의 실시양태를 보이는, 유리판 형성장치의 부분도.

제6도는, 유리판을 형성하는 진공이 꾀어 들여지는 구멍들을 포함하여 완전표면 형상의 상향으로 면하는 볼록꼴을 가진 아래 진공압형을 포함하고 있고, 또 유리판 형성에 아래 압형과 협력하는 링 형식의 위 압형도 포함하고 있는, 형성장치의 또 하나의 부분도.

제7도는, 제6도의 7-7선의 방향에 따라 그린, 완전 표면 아래 진공압형의 구멍 양상을 보이는 그림.

제8도는, 양측의 아래 진공압형과 위 링 압형의 제7도의 8-8선의 방향에 따라 그린 단면도.

제9도는 아래 진공압형에 진공을 꾀어 들이는 진공장치의 개략도.

제10도는 형성장치로도서, 유리판이 상측 이송장치로부터 형성을 위해 아래 진공압형 상에 놓여지기 바로 전을 보이는 그림.

제11도는 아래 진공압형이 상측 이송장치 아래의 제10도의 위치로부터 위 링 압형 아래의 위치로 이동한 후의, 더 진행한 단계에 있는 형성장치의 그림.

제12도는 압형들이 상호를 향해, 바람직하게 위 링 압형의 하향 이동에 의해 이동되어, 유리판의 주변을 아래 압형의 완전표면에 밀봉하게 된 후의, 좀더 진행한 단계에 있는 형성장치의 그림.

제13도는 위 링 압형이 아래 진공압형의 완전표면으로부터 약간 떨어져 이동되어 아래 진공압형의 완전표면의 유리판의 더 복잡한 형사의 진공형성을 하게 하는, 더 진행한 단계의 설명도.

제14a도는 제12도의 14a-14a선의 방향에 따라 그린 단면도로서, 유리판과의 계속되는 압착관계의 상태에서 압형들과 실행해지는 때의 진공형성을 설명하는 그림.

제14b도는 제13도의 14b-14b선의 방향에 따라 그린 단면도로서, 압형들이 유리판과의 압착관계의 상태에서 옮겨져 역굴곡을 가진 모양에 형성되게 되는 후의 실행시의 진공형성을 설명하는 그림.

제14c도는 제14b도와 같은 방향에서 그린 단면도로서, 압형들이 유리판과의 압착관계의 상태에서 옮겨져 횡단굴곡을 가진 모양에 형성되게 되는 후의 실행시의 진공형성을 설명하는 그림.

제15도는 아래 진공압형으로부터 떨어져 위 링 압형에 상향으로 이동한 후의 형성 유리판을 보이는 그림.

제16도는 아래 진공압형이 상측 이송장치 아래에 되옮겨지고 냉각틀이 위 링 압형상의 형성 유리판 아래에 옮겨진, 형성의 진행단계를 보이는 그림.

제17도는 위 링 압형이 하향 이동하여 형성 유리판을 냉각틀에 송달하는, 더 진행한 단계를 보이는 그림.

제18도는 위 링 압형이 아래 냉각틀로부터 떨어져 상향으로 이동한, 좀 더 진행한 단계를 보이는 그림.

제19도는 어닐링 링이어서, 어닐링한 형성 유리판을 마련하게 되는, 아래 냉각틀의 일 실시양태를 보이는 그림.

제20도는 재순환 컨베이어에 의해 설치된 복수의 어닐링 링들을 가지고 있는 변경의 경우의 그림.

제21도는 냉각틀이 퀀치 링이고, 장치가, 유리판을 불리는 급랭을 위해 형성 유리판을 사이에 이동시키는, 위 및 아래 송풍두들을 가지는 퀀치장소를 또한 포함하고 있는, 다른 실시양태를 보이는 그림.

제22도는, 위 링 압형이 개방중앙을 가지고 있어 그 안으로 유리판이 조정 크기에 형성돼 중앙 처짐(center sag) 보상을 마련하게 되는, 변경을 예증하는 제6도와 같은 그림; 그리고,

제23도는 아래 진공압형과 어닐링 링에 의해 구체화된 냉각틀이 공통 작동기에 의해 이동시켜지는, 또 하나의 변경의 그림이다.

[발명의 상세한 설명]

[기술분야]

본 발명은 평유리판를 형성하는 장치와 방법에 관한 것이다.

[배경기술]

형성 유리판은 차량의 윈드실드, 옆창, 및 뒤창에 널리 씌인다. 형성 유리판은 또한 관례대로 불리어서(tempered) 유리의 기계적 강도를 향상시켜 유리로 하여금 비교적 작고 상대적으로 길며 예리한 조각으로보다 오히려 무딘 조각으로 깨어지게 한다. 미국에서는 불린 형성 유리판을 차량의 옆창과 뒤창에 사용하는 한편 어닐링하여(annealed) 폴리비닐부티랄로 서로 겹친 형성 유리판은 차량의 윈드실드에 사용하고 있다. 다른 나라들에서는, 불린 형성 유리판을 차량의 옆창과 뒤창 뿐아니라 윈드실드에도 사용하고 있다.

포웰 및 그 외의 미국특허 3,782,916에 의해 개시된 한 선행기술의 유리판 형성장치는, 회전가능의 압형 운반부재 상의 상향으로 면하는 볼록꼴 압형표면의 롤러들에 의해 가열 유리판이 받아지는 굴곡장소로 운반하기에 앞서, 유리판이 그 위에서 가열되는, 가열 컨베이어를 포함하고 있다. 압형 운반부재의 회전에 앞선 압형표면 내로의 롤러들의 하방향의 철회와, 후속의, 상향으로 면하는 표면과 위 압형의 하향으로 면하는 표면 간에서의 가열 평유리판의 압착으로 유리판을 형성하여, 유리판을 강화하거나 불리는 오일 바스에 의한 냉각을 위해, 형성 유리판을 놓아주는 것이다.

네델렉 및 그 외의 미국특허 3,778,244에 의해 개시된 또 하나의 성행기술의 형성장치는, 가열 컨베이어를 포함하고 있어 그것이 평유리판을 가열중 운반하고 가열된 유리를 굴곡장소로 송달하며, 굴곡장소는 만곡형의 하향으로 면하는 표면을 가진 수직이동가능의 위 압형을 포함하여, 가열 유리는 그에 기대어 공기적 형성을 하기 위해 가열 컨베이어로부터 접수된다. 이 때 위 압형의 상방향 이동이, 만곡표면을 가진 아래 압형을 위 압형 아래에 이동하게 한다. 일 실시양태에서, 위 압형은 하향으로 오목한 꼴을 가지어 그것이, 앞서 형성된 유리판을 위 압형으로 받고 그 다음 형성 유리판을 위 압형 아래로부터 냉각 및 조절실로 운송한다. 또 하나의 실시양태에서는, 위 압형은 하향으로 볼록한 꼴을 가지며, 아래 압형은 가열된 유리판을 위 압형으로부터 받기 위해 상향으로 오목한 꼴을 가지고 있는 것이다.

미국특허 맥매스터 및 그 외의 4,204,854; 맥매스터 및 그 외의 4,282,026; 세이모워의 4,233,049; 맥매스터의 4,575,390; 및 맥매스터의 4,609,391 등이 유리판 형성장치를 개시하고 있는데, 홀더(holder)는 하향으로 면하는 표면을 가지고 있어 그것이 가열 유리판을 컨베이어로부터 받고, 다음 형성을 위해 가열 유리판을 중력에 의해 상향으로 볼록한 꼴의 아래 압형에 이송하는 것이다.

위에 언급한 선행기술들과 미국특허 니치케 및 그 외의 4,661,141; 프랭크 및 그 외의 4,711,653; 프랭크 및 그 외의 4,746,348; 및 구스터 및 그 외의 4,859,225 등은 위와 아래의 압형 간에서의 유리판의 압착 및 진공 형성을 개시하고 있다.

패클먼의 미국특허 4,578,103 및 4,615,724는 각각, 가열 유리판을 어떠한 직접적인 맞닿음 없이 지지하기 위하여, 제1세트의 구멍들을 통해 진공이 꾀어 들여지고 또 제2세트의 구멍들을 통해 가압 가스가 공급되는, 하향으로 면하는 평표면의 융해 실리카 블록을 포함하는 상측 이전장치를 포함하고 있는 유리판 형성장치를 개시하고 있다. 상측 이전장치는 가열 컨베이어로부터 가열 유리판을 받고 이어서, 특히 상향으로 오목한 꼴을 가진 것으로 개시돼 있는 아래 압형에 가열 유리판을 놓아준다. 또 하나의 실험적 유리판 상측 지지장치가 미슨의 미국특허 3,223,443으로 개시되고 있고, 그것은 상호 일정한 간격을 둔 도립 컵 형 부재를 포함하고 있으며, 가압 가스와 진공의 양자를 마련하게 하여, 유리판을 어떠한 맞닿음 없이 협동적으로 지지하는 것이다.

[발명의 개시]

본 발명의 목적은 정확하게 형성된 유리판의 마련이 가능한 방법으로 평유리판을 형성하는, 개량된 장치 및 방법을 마련함에 있다.

본 발명의 상기 및 타의 목적을 성취함에 있어서, 본 발명의 장치는 유리판을 형성하게 하는 충분히 높은 온도에 평유리판을 가열하는 가열 컨베이어를 포함하는 것으로 돼 있다. 본 발명의 장치의 위 상측 지지장치는 가열 유리판을 가열 컨베이어로부터 받는다. 본 발명의 장치의 아래 진공압형은, 상측 이전장치의 하향으로 면하는 표면으로부터 가열 평유리판을 받는, 상향으로 볼록한 꼴의 적어도 한 부분을 가진, 상향으로 면하는 그의 완전표면을 가지고 있다. 본 발명의 장치의 위 링 압형은 아래 진공압형의 표면에 대해 가열 유리판을 형성 주변을 밀봉하여 유리판의 밀봉된 주변 내에 진공이 꾀어 들여져 유리판을 진공압형 표면의 모양에 완전히 형성하게 돼 있다. 위 링 압형은 진공이 꾀어 들여지는 체임버를 구성하는 요위몰(enclosure)을 포함하여, 진공 작동의 형성후 위 링 압형이 형성 유리판을 아래 진공압형으로부터 상향으로 들어 올리게 하고 있다.

개시의 우선의 구성에서, 가열 컨베이어는 가열 중 가스의 얇은 필름에 평유리판을 지지하는 가스 노상(gas hearth) 컨베이어이거나 또는 가열 중 회전하여 평유리판을 이송 운반하는 롤러들을 포함하는 롤러 컨베이어이거나의 것이다.

본 발명의 장치의 우선의 구성은 가열 컨베이어로부터 그와 어떠한 맞닿음 없이 받은 가열 평유리판을 지지하는 가스 현가 압반(gas suspension)이거나 또는 유리판과 직접 맞닿아 컨베이어로부터 받은 평유리판을 지지하는 진공압반이거나로 마련된 상측 이전장치를 가지고 있다.

일 실시양태에서, 위 링 압형의 형상 보존 패드가 진공 체임버 내에 위치되어 요위물에 꾀어 들여진 진공에 의한, 유리판의 지나친 상방향 형성을 방지하고 있다. 또 하나의 실시양태에서는, 위 링 압형은 위 링 압형의 요위물에 의해 구성된 체임버 내에 꾀어 들여진 진공에 의해, 조정된 범위에 상향으로 유리판이 안에 형성되는 개방 중앙을 가지고 있다. 형성되게 될 유리판의 실제 형상이 가장 효과적으로 가능하게 될 실시양태를 조절하는 것이다. 이들 양자의 실시양태에서, 보상은 위 링 압형에 공급된 진공에 의해 유리판의 상향 형성의 범위에 의해 마련되기 때문에, 아래 진공압형은 유리판의 후속의 중앙 처짐(center sagging)이 보상되어야 하는 것이 아님을 알아야 한다.

그의 우선의 구성에서, 장치는 또한, 위 링 압형과 아래 진공압형 간의 상호의 상대적 이동을, 바람직하게 위 링 압형을 아래 진공 수직의 압형을 향해 그리고 아래 진공압으로부터 멀어지는 이동에 의해 마련하는, 작동기를 포함한다. 이 작동기는 처음 위 링 압형과 아래 진공압형을 서로에 향해 이동하여 완전표면 아래 진공압형으로 유리판의 주변을 밀봉하게 된다. 원통형 및 원추형 형상 등과 같은, 직선요소만을 가지는 보다 단순한 형상에 대한 유리판의 진공형성은 서로에 대해 압착되는 압형으로 행할 수 있다. 보다 복잡한 형상에 대해서는 작동기가 위 링 압형과 아래 진공압형을 서로로부터 멀어지게 하여 위 링 압형을 유리판의 밀봉된 주변으로부터 멀어지게 이동하게 됨으로써, 진공 작동의 형성 중 아래 진공압형의 완전표면의 범위를 따라 유리판의 이동을 허용하도록 하고 있다.

본 발명의 장치는 또한 냉각을 위해 형성 유리판을 받는 냉각틀(cooling mold)을 가지고 있다. 일 실시양태에서, 이 냉각틀은 형성 유리판을 받아 충분히 느린 속도로 대기온도에 냉각하여 냉각시의 유리판의 과도한 응력을 방지하는 어닐링 링으로 돼 있다. 어닐링 실시양태의 일 변경에서는, 형성장치는, 위 링 압형 아래의 교호의 위치결정을 위해, 아래 진공압형과 어닐링 링을 수평으로 이동하는 공통의 작동기를 포함하고 있다. 어닐링 실시양태의 또 하나의 변경에서는, 복수의 어닐링 링이 마련돼 있어 장치가 주기적 작동을 하는 동안 재순환 컨베이어가 어닐링 링을 주기적으로 위 압형에 이동하여 그로부터 각 형성유리를 받게 돼 있다. 또 하나의 실시양태에서, 냉각틀은 퀀치 링(quench ring)이며 장치는 퀀칭 가스 흐름에 의한 급속 냉각을 위해, 퀀치 링이 형성 유리판을 그들 사이에 이동하여 형성 유리판을 불리는, 위 및 아래 송풍두(blastheads)를 포함하는, 냉각장소를 더 포함하고 있는 것이다.

본 발명의 또 하나의 목적은, 형성하기에 충분히 높은 온도로 가열한 다음, 가열 유리판을 상측 이송장치의, 하향으로 면하는 표면에 이송하고 그로부터 그 것이, 상향으로 볼록한 꼴의 적어도 한 부분을 가지는 아래 압형의 완전표면에 놓여지는, 개량된 유리판 형성장치를 마련하려는 것이다. 유리판은 그다음 아래 압형과 위 링 압형의 사이에 압착되어 형성되고 아래 진공압형에 대해 유리판의 주변을 밀봉하게 되는 것이다. 진공이 유리판의 밀봉된 주변 내의 진공압형 표면에 꾀어 들여져 유리판의 전범위를 진공압형 표면의 꼴로 형성하게 되며, 이 때 위 링 압형의 요위물에 진공이 꾀어 들여져서 위 링 압형이 진공압형으로부터 형성 유리판을 받아 냉각을 위해 송출하는 것이다.

유리판 형성방법을 실행하는 데는, 유리판 형성장치와 관련하여 앞에서 설명한 바와 같이, 둘의 상이한 작동방식이 가능하다. 원통형 및 원추형 형상 등과 같은 직선요소를 포함하는 보다 용이하게 형성되는 형태에 대해서는, 압형들은 아래 진공압형 표면에 진공이 꾀어 들여지는 때 유리판과 압착관계를 유지하여 유리판을 진공압형 표면의 모양에 완전히 형성하게 하여도 좋다. 유리가 서로 직각방향으로 만곡되는 교차굴곡, 유리판의 양측면에 굴곡의 중심을 가지는 역만곡, 및 돌연히 만곡된 꼴을 포함하여 보다 복잡하게 된 형상에 대해서는, 아래 진공압형 표면에 진공이 꾀어 들여지는 때 압형들이 서로로부터 떨어져 이동하여 유리판을 진공압형 표면의 모양에 완전히 형성하게 된다.

방법의 우선의 실행에 있어서, 위 링 압형은 하향으로 이동되어 압형 간의 유리판을 압착하게 된다. 진공압형 상의 유리판의 진공형성에 이어 진공이 위 링 압형에 꾀어 들여져 형성 유리판을 지지하게 되며, 위 링 압형은 아래 진공압형으로부터 떨어져 상향으로 이동되고, 냉각을 위해 형성 유리판은 위 링 압형으로부터 냉각틀 위로 놓여지게 된다. 유리판의 이 해방은 어닐링 링이거나 불림 링(tempering ring)이거나에 의해 구체화된 냉각틀 위에 하여도 좋다.

본 발명의 목적, 특징 및 잇점은 발명을 성취하기 위한 최량의 방법의 이하의 상세한 설명에서 첨부의 도면과 함께 고찰될 때 명확해진다.

[발명을 성취하기 위한 최량의 방식]

도면의 제1도를 보면, 유리판 형성장치는 일반적으로 (30)으로 가리켜져 있고, 가열장소(32), 형성장소(34), 및 냉각장소(36)으로 돼 있다. 이 장치는 이하에 충분히 설명되는 바와 같이, 특정의 실용성을 갖게 정밀히 형성 어닐링한 유리판을 마련하게 구성될 수 있으나, 그 장치가, 이하에 역시 더 충분히 설명되는 바와 같이, 불린 유리판을 형성하는 데에 또한 사용될 수 있는 것임을 알아야 한다.

계속 제1도를 참조하면, 그 장치의 형성장치는 본 발명에 따라 구성돼 있으며, 집단적으로 (38)로 가리켜져 있다. 이 형성장치(38)는 이하에 충분히 설명되는 바와 같이, 본 발명의 유리판 형성방법을 마련하는 데 활용된다. 형성장치(30)은 노(furnace)(40)이 마련돼 있는 그의 가열장소(32)을 가지고 있고 일반적으로 둘러싸인 내부의 가열 체임버는 평유리판 G를 충분히 높은 온도에 가열하여 유리판의 형성을 하게 하는 가열 컨베이어(42)를 포함하고 있다. 장치의 위상측 이송장치(44)는 하향으로 면하는 평표면(46)을 가지고 있어 유리판의 형성을 위한 준비로, 가열된 유리판을 가열 컨베이어로부터 받게 된다. 형성장치의 아래 진공압형은 형성을 위해 가열된 유리판을 상측 이송장치로부터 받는 하향으로 면하는 완전표면(50)을 가지고 있다. 아래 진공압형의 완전표면(50)은 적어도 상향으로 볼록한 모양을 가진 한 부분을 가지고 있어 그의 모양에 유리판이 형성되는 것이다. 형성장치(38)은 또한, 진공압형의 표면(50)에 대해 가열 유리판의 주변을 형성 밀봉하는 위 링 압형(52)을 가지고 있어 유리판의 밀봉된 주변 내에 진공이 꾀어 들여져 이하에 더 충분히 설명되는 바와 같이, 진공압형의 모양에 유리판을 형성하게 된다.

제2도 및 제3도를 참조하면, 제1도에 예증한 가열 컨베이어(42)의 둘의 상이한 실시양태를 특별이 보이고 있다. 제2도에 보인 바와 같이, 일 실시양태의 가열 컨베이어(42a)는, 바람직하게 융해시 실리카로 되고, 한 세트의 구멍(55)들을 가진 상향으로 면하는 평표면(54)을 가진 가스 노상(爐床:hearth)을 포함하고 있고, 그 구멍들은 화살표로 보인 바와 같이, 아래 충만공간으로부터 가압 가스를 공급하여 선(57)들로 개략적으로 보인 얇은 가스 필름을 형성한다. 상기 가스 노상 컨베이어는, 관례적으로 운송의 방향에 약간 경사져 가로질러 있고, 또, 아래 경가 가장자리에, 가열하기 위해 유리판을 컨베이어를 따라 이동시키기는, 적당한 프레임을 가지고 있다. 제3도에 보인 바와 같이, 또 하나의 실시양태의 가열 컨베이어는, 가열하는 동안 회전하여 유리판 G를 이송하고 운반하는 롤러(61)을 포함하는 롤러 컨베이어(42b)이다. 이들 롤러(61)은 열소결에 잘 견디도록, 소결 접착의 융해 실리카입자로 바람직하게 만들어진다.

제4도 및 제5도에는 제1도에 예증한 상측 이송장치(44)의 두 상이한 실시양태를 보이고 있다. 특히, 제4도의 실시양태의 상측 이송장치(44)는 가열 컨베이어(42)로부터 받은 가열 평유리판을, 이하에 더 충분히 설명되는 바와 같이 어떠한 직접적인 맞닿음 없이, 진공과 가압 가스에 의해 지지하는 가스 현가 충만공간(44a)이다. 제5도의 실시양태에 있어서는, 상측 이송장치는 이하에 충분히 설명되는 바와 같이, 직접적인 맞닿음의 가열 컨베이어(42)로부터 받은 가열 평유리판을 지지하는 진공 충만공간(44b)에 의해 구체화 돼 있다. 제3도에 보인 바와 같은 롤러 실시양태의 가열 컨베이어가, 제4도나 제5도나의 실시양태의 상측 이송장치와 활용되는 경우, 롤러들 간의 상향 가스 흐름은, 압반(platen)에 의한 지지를 위해 가열 컨베이어로부터 유리판 G를 들어 올리는 진공을 보조하는 데 사용될 수 있다.

특히 제4도를 보면, 가스 현가 압반(44a)는, 정압(positive pressure) 가스가 통해 공급되는 제1세트의 구멍(66)들을 포함하는 아래 평표면(46a)를 가진, 구멍낸 아래 판(62)를 포함하고 있다. 도시된 바와 같이, 구멍(66)들에서 상향으로 돌출하는 롤 핀들에 의해 구체화되어 좋은 튜브(67)들은 그를 통해 가압 가스가 분무로서 공급되는 것이다. 아래 판(62)의 제2세트의 구멍(68)들은 표면과 어떠한 맞닿음 없이 떨어져 있는 관계의 아래 유리판을 지지함에 있어 가압 가스와 협력하도록 아래 표면에 진공을 공급한다. 가스 현가 압반(44a)의 하우징 부재(70), 구멍낸 중간 판(72), 및 옆 하우징 판(74) 등이 충만공간(76)을 형성하고 있어 그에 압력 가스가 공급되어 아래 판(62)의 제1세트의 구멍(66)들을 통해 가압 가스를 공급하며, 또한 협력하여 진공 체임버(78)을 형성하고 있어 그에 진공이 꾀어 들여져 중간 판(72)의 한 세트의 구멍(80)들을 통해 그리고 사이 띄어 있는 튜브(82)들을 통해 아래 판(62)의 제2세트의 구멍(68)들에 공급된다. 가스 현가 압반(44a)의 하향으로 면하는 평표면에 공급된 가압 가스와 진공은 이런 식으로 협력하여 어떠한 직접적인 맞닿음 없이 가열 유리판을 지지하는 것이다. 굴곡 작동을 준비하고 있는 아래 진공압형과의 적절한 정렬 상태에 있도록 압반 표면(46a) 상에 유리판 G를 위치시키는 데에는, 도시와 같이, 압반 표면(46a) 상의 적당한 위치결정장치(84) 또는 아래 진공압형(48)에 의해 장착된 위치결정장치가 활용되어도 좋다. 아래 표면(46a)는, 가열 컨베이어로부터 상측 이송장치 상에의 형성 준비의 필요위치에의 유리판 운반이 편하게 오른쪽을 향해 하류방향에 하향으로 경사되어도 좋다.

제5도를 보면, 상측 이송장치의 진공압반 실시양태(44b)는, 진공압반을 실선으로 나타내 보인 것처럼의 가열 컨베이어의 송달단(delivery end) 바로 위로부터 가상선으로 보인 것처럼의 아래 압형(48) 위로 옮기는, 작동기(88)에의 접속(86)을 가지고 있다. 진공압반(44b) 상의 가스 분무 펌프(90)은, 가열 유리판 G를 가열 컨베이어로부터 들어 올리기 위해, 진공압반의 하향으로 면하는 평표면(46b)의 사이 띄인 구멍들에 진공을 유발한다. 가스 분무 펌프(90)은, 진공압반의 하향으로 면하는 표면(46b)의 사이 띄인 구멍들에 가열 유리판을 변형시키지 않도록 처음의 들어올림 작동 후, 유발된 진공의 정도를 감소시키도록 또한 작동될 수 있다. 들어 올림 작동 후, 작동기(88)은 진공압반(44b)를 가열 컨베이어 위로부터 가상선 표시로 보인 것처럼 아래 압형(48) 위로 이동시킨다. 가스 분무 펌프에 의해 유발된 진공은 그때 유리판을 놓아주기 위해 종료되며, 그리고 유리판을 진공압반으로부터 떨어져 아래 진공압형(48) 위로 하향으로 밀기 위해, 정압 가스가 가장 바람직하게, 진공압반의 그의 하향으로 면하는 표면(46b)의 사이 띄인 구멍들에 마련된다.

제6도에 보인 바와 같이, 아래 진공압형(48)의 완전표면(50)은 (92)로 확인되는 그의, 상향으로 볼록한 부분을 가지고 있고, 아래 진공압형은 또한 구멍(96)들에 의해 표면(50)과 연통되어 진공형성을 실행하게 되는 진공 체임버(94)를 가지고 있다. 구멍(96)들은, 제7도의 도시처럼, 링 압형(52)로부터 바로 안쪽의, 형성 유리판의 모양의 주변 둘레에 일반적으로 연장하고 있다. 압형 구멍(96)들을 통한 진공의 유발은 제9도에 예증한 진공장치(98)에 의해 가장 바람직하게 행해진다. 제8도에 보인 S형 따위에 굽혀지게 되는 몇몇 형상들은, 아래 압형 표면(50)의 일반적으로 상향으로 볼록한 형상에도 불구하고 상향의 방향에 약간 오목한 역만곡부(100)을 가진다. 더구나, 제8도에 보인 역만곡부(100)의 오른 쪽으로, 압형 표면(50)은 상향으로 볼록한 부분(102)을 가지고 있는 것으로 도시돼 있으며 그것은 제6도에 보인 표면(50)의 상향으로 볼록한 만곡에 관하여 횡단 만곡을 표현하고 있다. 그러한 복잡한 유리판 형성은 지금까지 가능하지 않았던 방법의, 여기에 개시되는 굴곡장치로 성취될 수 있다.

제1도를 보면, 위 링 압형(52)는 하향으로 오목한 꼴(106)과, 또 작동기(110)에의 접속(108)을 가지고 있다. 작동기(110)은, 작동하여 위 링 압형을 수직 이동시키는 것이다. 또한, 제1도에 보인 바와 같이, 아래 진공압형(48)은 작동기(114)와 접속되어 있어, 유리판을 받는 상측 이송장치(44) 아래의 대시 선 표시로 보인 제1의 위치로부터, 위 링 압형 아래의, 가상선 표시로 보인 제2의 위치로 그를 이동시키게 하고 있다. 위 압형 작동기(110)의 작동은, 아래 및 위 압형(48) 및 (52)간의 상대적 수직이동을 마련하기 위해, 위 링 압형(52)의 수직 이동을 마련한다.

제6도에 보인 위 링 압형(52)는, 하향으로 오목한 꼴로 되고 또 형성되게 될 유리판의 주변에 부합하는 링(116)을 포함하고 있다. 제7도에 보인 압형 링(116)은 개방중앙(118)을 가지고 있어 초기의 형성 중 유리판의 주변에 접촉하기만 한다. 위 링 압형(52)는, 원격 위치의 팬(fan)이나 또는 장치된 가스 분무 펌프(123)에 의하는 따위로 진공이 꾀어 들여지는 체임버(122)을 형성하는, 요위체(120)를 또한 포함하고 있다. 이의 진공은, 위 링 압형(52)가, 이하에 더 충분히 설명되는 진공형성 후, 형성 유리판을 아래 진공압형으로부터 상향으로 들어 올리게 하는 것이다.

위 링 압형의 상이한 실시양태가 활용될 수 있다. 제6도 내지 제8도에 예증한 위 링 압형(52)의 실시양태를 보면, 형상 유지 패드(124)가 진공 체임버(122) 내에 위치되어 있어, 진공이 바람직하지 않은 유리판의 지나친 상향 형성을 못하게, 막고 있다. 이 형상 유지 패드(124)는, 오목한 압형 형상(106)에 관하여 조정할 수 있도록, 제6도에 보인 바와 같이, 조정가능 지지(125)들에 의해 위 링 압형(52)에 장착돼 있다. 제22도에 예증한 또 하나의 실시양태에서, 위 링 압형(52')는, 유발되는 진공의 정도와 유리판이 위 링 압형에 의해 지지되는 동안의 시간에 의해 결정되는, 조정된 범위에 상향으로 형성될 수 있을 정도로, 어떠한 형상 유지 패드도 없이, 개방중앙을 가지고 있다. 어떤 유리형상은 제6도 내지 제8도의 실시양태를 활용하여 용이하게 형성될 수 있는 한편 타의 형태는 제22도의 개방중앙 식을 활용하여 용이하게 형성될 수 있음을 알았다. 그렇지만, 이들 양 실시양태로, 아래 진공압형(48)은 형성장치에 요구되는 찍기(tooling)를 손쉽게 하는 후속의 중앙 처짐이 보상되어야 하는 것은 아니다.

제10도를 참조하면, 유리형성 사이클은, 상측 이송장치(44)가 가열된 유리판 G를 그의 하향으로 면하는 표면(46)으로부터 아래 진공압형 위에 놓는 것으로 진행한다. 물론, 이 상측 이송장치(44)는, 앞서 설명한 바와 같이, 제4도에 예증한 공기 현가식이의 것이어도 좋고 제5도에 예증한 진공압반식의 것이어도 좋다. 아래 진공압형에 의해 받아진 후, 유리판 G는 예를 들어 중력에 따라 그의 단들이 하향으로 굴곡하여 압형의 모양에 형성하기 시작한다. 아래 진공압형은 그 다음, 상측 이송장치(44) 아래의 제10도의 위리초부터 위 진공압형(52) 아래의 제11도의 위치로 작동기(114)에 의해서, 접속(112)를 통해 이동된다. 작동기(110)은 그의 접속(108)을 통해 위 링 압형(52)를 하향으로 이동시킴으로써 위 및 아래 압형을, 아래 진공압형의 표면(50)과 유리판 G의 주변을 밀봉하기 위하여 이동시킨다. 원통형 또는 원추형 굴곡 따위의 직선요소만을 포함하는 어떤 단순한 유리 모양에 관해서는, 아래 진공압형 상에의 진공형성은 제14a도에 보인 바와 같이, 아래 및 위 압형간에 유리판을 압착하여 진행할 수 있다. 그렇지만, 제14b도 및 제14c도에 각기 예증된 바와 같은 역만곡과 횡단만곡을 포함하는 보다 복잡하게 된 꼴에 대해서는, 제13도에 예증한 것처럼 위 및 아래 압형을 약간 사이 띄게 하기 위하여, 작동기(110)이 위 링 압형을 약간량 상향으로 이동시키게 하는 것이 바람직하다. 이 사이 띄임이 유리판을 진공작동 형성 중 압형 표면의 범위를 따라 이동하게 한다.

형성 사이클은, 제13도에 예증한 위치로부터, 둘의 상이한 방도로 진행하여도 좋다. 한 방식에서는, 형성 유리판은, 이하에 설명되는 바와 같이, 상향으로 불러 보내지고, 위 링 압형(52)의 진공 체임버(122) 내에 꾀어 들여진 진공이 그 다음, 형성 유리판을 지지한다. 또 하나의 방식에서는, 위 링 압형(52)는 진공형성 중 유리판의 주변과의 맞닿음을 유지하거나 또는 작동기(110)에 의해 하향으로 이동되어 형성 유리판의 주변에 맞닿게 된다. 어느 경우에도, 아래 진공압형에의 진공의 종결 및 진공 체임버(122) 내에의 진공의 마련으로, 형성 유리판을 아래 진공압형으로부터 위 링 압형으로 이송한다. 그런 다음, 각각의 방식에서는 위 링 압형(52)가 작동기(110)에 의해 상향으로 이동되므로 아래 진공압형은, 제1도에 대시 선 표시로 보인 바와 같이, 위 링 압형(52) 아래로부터 자유로이 상측 이송장치(44) 아래의 위치로 되옮겨지는 것이다.

제1도를 계속하여 참조하면, 형성장치(38)은 또한, 냉각을 위해 형성 유리판을 위 링 압형으로부터 받는, 냉각틀(132)를 포함하고 있는 것이다. 이 냉각틀(132)는, 제1도에 보인 바와 같은 냉각장소(36)으로부터 제16도에 보인 바와 같이 굴곡장소(34)의 위 링 압형(52) 아래에 불어 그를 이동시키는 작동기(136)에의 접속(134)를 가지고 있다. 형성 유리판 G를 그에 지닌 위 링 압형(52)의 제16도의 위치로부터 제17도의 위치로 하방향 이동하여, 위 링 압형(52)는 유리판을 냉각틀 위에 맡기게 된다. 위 링 압형(52)에 유발된 진공의 방출과 제18도에 예증한 처럼의 위 링 압형의 후속의 상방향 이동으로 형성 유리판을 냉각틀(132) 위에 맡기고, 작동기(136)은 다음, 제1도에 보인 냉각장소(36)으로 냉각틀을 되돌려 보내는 것이다.

위 링 압형(52)에 의해 형성 유리판을 지지하는 전체 동안, 제6-8도의 실시양태의 형상 유지 패드(124)나 또는 제22도의 실시양태의 압형 링(116)의 개방 중앙 내에 유발되는 진공의 조절이, 진공 체임버(122) 내에 꾀어 들여진 진공에 의한 유리판의 중앙의 초과 상향 형성을 방지한다. 형성 유리판의 중앙이 특정량 하향으로 처질 수 있기 때문에, 냉각틀(132)가 이하에 설명하는 링 형식의 것일 경우, 형상 유지 패드(124)는 바라는 최종 유리판 중심 위치로부터 약간 위쪽에 위치되도록 위치결정장치(125)(제6도)에 의해 조정되며, 따라서, 바라는 형상을 가진 최종 형성 유리판을 마련하기 위해, 후속의 중앙 처짐을 조절할 수 있다. 마찬가지로, 유발된 진공의 정도와 제2도의 위 링 압형(52')의 개방 중앙 실시양태에 의해 유리판이 지지되는 동안의 시간이 또한 조절될 수 있어, 바라는 모양을 가진 최종 형성 유리판을 마련하기 위해, 후속의 중앙 처짐을 조절하게 되는 것이다. 앞서 설명한 바와 같이, 최종의 형상을 조절하는 이들 두 방도는 최종 유리 형상을 한 그의 표면(92)를 가지고 있는 아래 진공압형으로, 찍기 제조를 손쉽게 하기 위한 어떠한 중앙 처짐의 보상없이 성취된다.

제19도를 참조하면, 냉각틀은, 주변 링(138)이 그의 아래 표면의 주변에만 형성 유리판 G가 접촉될 정도로 개방 중앙을 가지고 있는, 어닐링에 의해 구체화 되어도 좋다. 이 어닐링 링(132a)는, 어닐링한 유리의 두 형성 판으로의 차량의 윈드실드 제조에 필요한 따위, 형성 유리판의 냉각에 있어 과도한 응력을 방지하도록 충분히 느린 속도로 대기온도에 냉각하게 한다. 어닐링 링(132a)에 의해 구체화된 냉각틀에 관해서는, 제23도에 보인 형성장치(38')의 변경된 구성을 또한 활용할 수가 있다. 이 변경의 구성은 아래 진공압형(48)에의 접속(112)와 어닐링 링(132a)에의 접속(134)을 가지고 있는 셔틀(133)을 이동시키는 공동 작동기(115)를 가지고 있다. 이 공동 작동기(115)는, 이렇게 아래 진공압형(48)과 어닐링 링(132a)의 양쪽을, 위 링 압형 아래의 그의 교호의 위치결정을 위해 수평으로 이동시키는 것이다. 아래 진공압형(48)이 위 링 압형(52) 아래에 위치되는 경우, 전술한 바와 같이 유리판 G가 그 사이에서 형성되고 다음 위 링 압형으로 이송된다. 어닐링 링(132a)가 설명과 같이 위 링 압형(52) 아래에 위치되는 때, 유리판 G는 어닐링 링이 그로부터 수평으로 이동하기에 앞서, 냉각을 위해 어닐링 링으로 이송되는 것이다.

제20도를 보면, 굴곡장치는 개방 중앙 링 형식의 복수의 어닐링 링(132a')들과, 장치의 주기적 작용 중 어닐링 링(132a')를 위 압형에 주기적으로 이동시키어 그로부터 형성 유리판을 받는, 재순환 컨베이어(142)를 또한 포함하여도 좋다.

제21도를 보면, 냉각틀은, 주변 링(144)를 포함하는 퀀치 링(132b)에 의해 구체화되어도 좋으며 냉각장소 이 때, 송풍두들(148)과 (150)을 가지는 냉각장소에 의해 구체화되는 것이고, 작동기(136)의 조절 하의 퀀치 링이 송풍두들로부터의 퀀칭 가스 흐름에 의해 급속 냉각하기 위해 그들 간에 형성 유리판 G를 위치시켜 유리판을 불리게 된다.

상기의 설명에 유의하면, 본 발명에 따라 유리판을 형성하는 방법은, 충분히 높은 온도에 가열한 평유리판을 하향으로 면하는 표면(46)이 있는 위 상측 이송장치(44) 아래의 위치에의 시초의 반송을 포함한다. 이 방법은 가열 평유리판을 그의 평탄 상태로 상측 이송장치의 평표면(46)의 상측 이송장치(44)에 이송함에 의해 진행한다. 상향으로 볼록한 형상의 적어도 한 부분을 가지는 상향으로 면하는 완전표면의 아래 진공압형(48)이, 가열 평유리판이 지지되는 상측 이송장치 아래의 위치에의 이동하고 다음, 상측 이송장치로부터 가열된 평유리판이 아래 진공압형(48) 상에 놓여짐에 의해 이어진다. 이 때 위 링 압형(52)는 아래 진공압형(48)의 표면(50)에 대해 유리판의 주변을 압착하고, 유리판의 밀봉된 주변 내의 아래 진공압형 표면에 꾀어 들여진 진공은 형성작동을 실행한다.

앞서 언급한 것처럼, 방법의 우선의 실시는, 아래 진공압형(48)을 향한 위 링 압형의 하향으로의 이동에 의해 유리판의 주변의 압착을 실행한다. 게다가, 그 방법은, 유리판을 진공압형 표면의 모양에 완전히 형성되게 아래 진공압형에 진공이 꾀어 들여지는 때 유리판과의 압착 관계를 유지하는 압형들(48)과 (52)로나 또는 유리판을 진공압형 표면의 모양에 충분히 형성하게 아래 진공압형 표면(50)에 진공이 꾀어 들여지는 때 서로로부터 떨어져 이동한 압형들(48)과 (52)로나로 실행되어도 좋다. 더구나, 위 링 압형은 아래 압형 상에의 유리판의 형성에 후속하여:(a) 진공을 꾀어 들여 형성 유리판을 지지하고; (b) 아래 진공압형(48)로부터 떨어져 상향으로 이동하며; 그리고 (c) 이어서 냉각을 위해 형성 유리판을 냉각틀(132) 상으로 놓아주는 것이다. 유리판의 이 놓아줌은, 제19 및 20도와 관련하여 설명한 바와 같은, 어닐링 링인 냉각틀 상에나 또는 제21도와 관련하여 설명한 바와 같은 퀀치 링인 냉각틀 상에 하여도 좋다.

유리판 형성 작동에 활용되는 진공을 발생시키는, 앞서 설명한 가스 분무 펌프(90) 및 (123)의 각각은 가장 바람직하게 미국특허 4,222,763에 의해 개시된 형식의 것인 데, 일차 가스 흐름이 분무 구멍을 통해 통로에 이끌어 들여지고, 분무 구멍은 축방향 및 통로의 내면에 사실상 접선의 원주방향의 구성요소를 가지고 있어, 일차 가스 흐름은 연합의 진공 체임버와의 적당한 연통을 통하여 진공을 발생시키는 이차 가스 흐름을 유발하는 것이다. 제3도에 보인 것처럼의 가열 컨베이어(42b)의 롤러 실시양태에서, 맥매스터 및 그 외의 미국특허 4,204,854로 개시된 바와 같이, 가열 컨베이어로부터의 가열 유리판의 상측 이송장치에의 이송의 보조를 위하여, 롤러들 간에 상향의 가스 흐름을 마련하는 것이 가능한 것이다. 위 링 압형에 의해 유리판을 지지하는 필수진공은 그리 크지 않은, 물기둥 높이가 단지 유리판의 두께의 약 3배이면 충분하다.

제9도를 참조하면, 주변 링 압형(52)와의 연합의 완전표면 아래 진공압형 내에 진공을 유발하는 데 활용되는 진공장치(98)은, 유리판의 밀봉된 주변 내의 진공압형 표면(52)를 진공탱크(154)와 연통하는 수단이 되는 도관(152)를 포함하고 있어 유리판을 압형의 모양에 형성하는 진공충격을 마련하게 된다. 이 도관(152)는 접속되고 분리되는 접속을 포함하여도 좋고 또는 앞서 설명한 바와 같이, 진공압형(48)의 이동을 용납하게 가뇨성이어도 좋으며, 또 도관을 통해 진공압형(48)과 진공탱크(154)의 연통을 조절하는, 도시의 밸브장치(155)를 포함하고 있다. 도시의 밸브장치(155)는 도관(152)를 통해 진공압형(48)과 진공탱크(154)의 연통을 조절하는 제1의 제어밸브(156)을 포함하고 있고 또 도관을 통해 진공압형(48)과 진공탱크(154) 간의 연통의 영역을 조절하는 제2의 제어밸브도 포함하고 있어 그에 의해 진공충격을 조절하게 된다. 더 정확히는, 제1의 밸브(156)은, 시초에 닫혀 있어 도관을 막아 진공압형을 진공탱크로부터 격리시킨다. 그 다음, 밸브(156)이 열려 진공압형(48)을 진공탱크(154)와 연통시키게 되고 연통을 한정하는 제한된 위치에 있는 제2의 밸브(158)로 진공충격이 시초에 공급되는 율을 제한한다. 그 뒤, 제2의 밸브(158)이 완전히 열려 보다 큰 영역의 연통과 진공충격을 진공압형에 가하게 된다. 더 정확하게는, 진공장치는 약 0.1∼0.3 기압의 진공 약 0.5∼2초간의 시초의 진공과, 약 0.25∼0.7 기압의 진공 약 0.5∼6초간의 둘째의 큰 진공으로 성공적으로 작동되었다.

진공형성 사이클의 완료에서, 밸브(156)은 작동되어 진공압형(48)의 진공탱크(154)와의 연통을 종결하게 되고 도관(162)를 통해 진공압형과 가압 가스원(160)을 연통시키어, 밸브(156)의 압형측 상의 도관(152)를 통해 진공압형과 통하게 된다. 이 가압 가스원(160)은 압형 표면(50)에 가압 가스를 공급하여, 앞서의 설명과 같이, 형성 유리판의 이송과 냉각틀에의 종국의 송달 준비상태의 형성 유리판을 지지하기 위해 진공이 공급되는 위 링 압형(52)에 대해 형성 유리판을 상향으로 불게 된다. 도관(166)을 통해 진공탱크(154)와 연통된 진공펌프(164)는 그 때 다음 사이클을 위한 준비로 진공탱크(154) 내에 진공을 꾀어 들인다. 물론, 진공충격의 정도는:진공 압형 체임버(94)의 크기, 생기는 누설, 진공탱크(154)의 크기에 의해 조절되며, 진공탱크(154) 내에 유발되는 진공의 정도는 진공펌프(164)에 의해 조절된다.

아래 진공압형(48)에 적용되는 두 단계의 진공은 적당한 제어밸브의 사용을 통해 진공압형에 교호적으로 연통되는 둘의 상이한 진공탱크로도 또한 성취될 수 있음을 알아야 한다. 제2의 진공탱크에 의해 제2단계의 진공이 완료된 다음, 아래 압형에 가압 가스가 공급되어 그로부터 유리판을 놓아주게 되고 위 링 압형(52)에 대해 유리판을 상향으로 불게 되는 것이다.

이상, 발명을 실시하기 위한 최량의 방식을 상세히 설명하였으나, 다음의 청구의 범위에 의해 규정지어진 거처럼, 발명의 실시의 타의 방법들이 가능한 것이다.

Claims (19)

1. 유리판 형성장치에 있어서, 평유리판을, 그의 형성을 하게 함에 충분히 높은 온도에 가열하는 가열 컨베이어; 가열 컨베이어로부터 가열 평유리판을 받는, 하향으로 면하는 평표면을 가지고 있는 상측 이송장치; 상측 이송장치의 하향으로 면하는 평표면으로부터 가열 유리판을 받는, 상향으로 볼록한 꼴을 가진 그의 적어도 한 부분이 있는, 상향으로 면하는 완전표면을 가진 아래 진공압형; 그리고 진공이 꾀어 들여져 진공압형 표면의 모양에 유리판을 완전히 형성하게 되는 아래 진공압형의 표면에 대해 가열 유리판의 주변을 형성 밀봉하며, 진공이 꾀어 들여져 진공 작동 형성 후 형성 유리판을 아래 진공압형으로부터 상향으로 들어 올리게 하는 체임버를 구성하는 요위체를 포함하는 위 링 압형, 으로 이루어지는, 평유리판 형성장치.
2. 제1항에 있어서, 가열 컨베이어가, (a.) 가열하는 동안 가스의 얇은 필름 상에 평유리판을 지지하는 가스 노상 컨베이어; 및 (b.) 가열하는 동안 회전하여 평유리판을 이송 및 운반하게 되는 롤러들을 포함하는 롤러 컨베이어, 로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는, 평유리판 형성장치.
3. 제2항에 있어서, 장치의 상측 이송장치가, (a.) 컨베이어로부터 받은 가열 유리판을, 진공과 가압 가스에 의해 직접적인 맞닿음 없이, 지지하는 가스 현가 압반; 및 (b.) 직접적인 맞닿음으로 컨베이어로부터 받은 가열 평유리판을 지지하는 진공압반, 으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는, 평유리판 형성장치.
4. 제1항에 있어서, 위 링 압형이, 진공에 의한 유리판의 과도의 상향의 형성을 방지하는, 진공 체임버 내에 위치된 형상 유지 패드를 포함하는, 평유리판 형성장치.
5. 제1항에 있어서, 위 링 압형은, 유리판이, 위 링 압형의 안으로 요위체에 의해 구성되는 체임버 내에 유발된 진공에 의해 조절된 정도 상향으로 형성되는, 개방 중앙을 가지고 있는, 평유리판 형성장치.
6. 제1항에 있어서, 장치는, 위 링 압형과 아래 진공압형을 상호에 향해 이동시켜 유리판의 주변을 진공압형 표면과의 밀봉을 마련하게 되는, 작동기를 더 포함하는, 평유리판 형성장치.
7. 제1항에 있어서, 장치는, (a) 유리판의 주변의 진공압형과의 밀봉을 마련하게 시초에 위 링 압형과 아래 진공압형을 서로에 향해 이동시키고, 그리고 (b) 이어서, 진공 작동의 형성 중 유리판이 진공압형 표면을 따라 이동하게 하기 위하여, 링 압형을 유리판의 밀봉된 주변으로부터 사이 띄이게 위 링 압형과 아래 진공압형을 서로로부터 떨어지게 이동시키는, 작동기를 포함하는, 평유리판 형성장치.
8. 제1항에 있어서, 장치는, (a) 유리판의 주변의 진공압형과의 밀봉을 마련하게 시초에 위 링 압형을 아래 진공압형에 향해 하향으로 이동시키고, (b) 그 다음 유리판을 아래 진공압형으로부터 위 링 압형에 그의 진공 체임버 내에 유발된 진공에 의해 지지하기 위해 이송하기에 앞서, 진공 작동의 형성 중 유리판이 아래 진공압형의 표면을 따라 이동하게 위 링 압형을 아래 진공압형 상의 밀봉된 유리판으로부터 떨어져 상향으로 이동시키며, 또 (c) 최종적으로는, 아래 진공압형 위의 높이로 위치시키도록, 위 링 압형을 그에 의해 지지된 형성 유리판과 함께 상향으로 이동시키는, 작동기를 더 포함하는, 평유리판 형성장치.
9. 선행 항 중의 어느 한 항에 있어서, 장치가, 냉각을 위해 형성 유리판을 받는 냉각틀을 더 포함하는, 평유리판 형성장치.
10. 제9항에 있어서, 냉각틀은, 형성 유리판을 충분히 느린 속도로 냉각하기 위해 받는 어닐링 링인, 평유리판 형성장치.
11. 제10항에 있어서, 장치가, 아래 진공압형과 어닐링 링을 위 링 압형 아래에의 교호의 위치결정을 위해 수평으로 이동시키는 공통 작동기를 포함하는, 평유리판 형성장치.
12. 제10항에 있어서, 장치가, 복수의 어닐링 링과 그리고 장치의 주기적 작동 중 어닐링 링을 주기적으로 이동시켜 각각의 형성 유리판을 받게 되는 재순환 컨베이어를 포함하는, 평유리판 형성장치.
13. 제9항에 있어서, 냉각틀이 퀀치 링이고 위와 아래 송풍두들을 떠 포함하고 있어 송풍두들로부터의 퀀칭 가스 흐름에 의한 급속냉각을 위해 그들 사이에 퀀치 링을 이동시켜 형성 유리판을 불리게 되는, 평유리판 형성장치.
14. 평유리판 형성 방법에 있어서, 형성을 위해 충분히 높은 온도에 평유리판을 가열하기; 상측 이송장치의 하향으로 면하는 표면에 가열 유리판을 이송하기; 상측 이송장치로부터, 상향으로 볼록한 꼴이 있는 적어도 한 부분을 가지고 있는 아래 진공압형의 완전표면 상에 가열 유리판을 놓아주기; 그 다음, 아래 진공압형과 위 링 압형 사이의 유리판을 아래 진압형 표면에 대해 유리판의 주변을 형성하여 밀봉하게 유리판을 압착하기; 진공압형 표면의 모양에 유리판의 전체 범위를 형성하게 유리판의 밀봉된 주변 내의 진공압형 표면에 진공을 유발하기; 그리고 최종적으로, 위 링 압형이 형성 유리판을 아래 진공압형으로부터 받아 냉각을 위해 송달할 정도로 위 링 압형의 요위체 내에 진공을 유발하기, 로 이루어지는, 평유리판 형성의 방법.
15. 제14항에 있어서, 위 링 압형이 하향으로 이동되어 압형들 간의 유리판을 압착하게 되는, 평유리판 형성의 방법.
16. 제14항에 있어서, 압형들이, 진공압형 표면의 모양에 유리판을 충분히 형성하게 아래 진공압형 표면에 진공이 유발되는 때, 유리판과의 압착관계를 유지하는, 평유리판 형성의 방법.
17. 제14항에 있어서, 압형들이, 진공압형 표면의 모양에 유리판을 충분히 형성하게 아래 진공압형 표면에 진공이 유발되는 때, 서로로부터 떨어져 이동되는, 평유리판 형성의 방법.
18. 제14항, 제15항, 제16항 또는 제17항에 있어서, 아래 진공압형 상의 유리판의 진공형성에 이어서, 위 링 압형이 아래 진공압형으로부터 떨어져 이동하고 계속하여 형성 유리판을 냉각을 위해 냉각틀 상으로 놓아주는, 평유리판 형성의 방법.
19. 제18항에 있어서, 형성 유리판이, 어닐링 링과 퀀치 링으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 냉각틀 상으로 놓아지는, 평유리판 형성의 방법.