KR0155204B1 - Zetting type of plating solution for plating equipment - Google Patents

Zetting type of plating solution for plating equipment

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KR0155204B1
KR0155204B1 KR1019950015753A KR19950015753A KR0155204B1 KR 0155204 B1 KR0155204 B1 KR 0155204B1 KR 1019950015753 A KR1019950015753 A KR 1019950015753A KR 19950015753 A KR19950015753 A KR 19950015753A KR 0155204 B1 KR0155204 B1 KR 0155204B1
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채창근
박용순
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채창근
한국도금재료공업주식회사
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Abstract

본 발명은 복수의 블록(block) 형상의 치구(治具) (대체로 괴상의 피도금물)를 한개의 치구군으로하여 전처리, 도금, 후처리 공정을 일관 공정으로 수행토록 하는 도금 처리 장치에 관한 것으로, 특히 복수의 도금액 분사 노즐로부터 도금액을 피도금물에 분사하면서 전기 도금 처리를 행하도록 함에 있어서, 피도금물 또는 노즐을 상하로 요동시킴으로서 균일한 도금이 이루어지도록 한 도금액 분사식 도금 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a plating treatment apparatus for performing a pretreatment, plating, and post-treatment process in a uniform process by using a plurality of block-shaped jig (generally, a large plated object) as one jig group. In particular, the electroplating treatment is performed while spraying the plating liquid onto the plated object from a plurality of plating liquid injection nozzles, and the plating liquid spraying plating apparatus which makes uniform plating be performed by swinging the plated object or the nozzle up and down. will be.

종래의 도금액 분사식 도금 장치들은 복수의 블록(block)상 피도금물[대체로 괴상(塊狀)임]을 1개의 피도금물군으로 하여 각도 및 위치가 고정된 도금액 분사 노즐(Nozzle)에서 도금액을 피도금물에 분사시켜 주는 방법으로 전기 도금을 행하므로써 비교적 고속도금(高速鍍金)이 가능한 것은 사실이나 요철 형상의 피도금물을 도금시 도금층의 두께 관리가 어려운 문제가 있다.Conventional plating liquid jet plating apparatuses use a plurality of block-like plated materials (usually bulky) as one to-be-plated object group to deposit the plating liquid at a plating liquid nozzle which has a fixed angle and position. It is a fact that relatively high-speed plating is possible by electroplating by spraying the object to be plated, but there is a problem in that the thickness of the plated layer is difficult to be managed when plating the plate-shaped object.

본 발명은 도금 처리조 내에 복수의 블럭(block)상 피도금물을 1개의 치구군(治具群)으로 배치하고 이 치구군을 상하로 요동(搖動)되도록 하여 피도금물과 노즐의 위치 관계가 변화되도록 하므로써 도금액류(鍍金液流)가 피도금물에 균일하게 분사되도록 하여 도금층의 형성이 어려운 부분까지도 도금액과 쉽게 접촉되도록 하므로써 도금층의 두께가 균일하게 형성되도록 한 것이다.In the present invention, a plurality of block-like plated objects are arranged in one jig group in a plating treatment tank, and the jig group is swinged up and down to position the relationship between the plated object and the nozzle. The plating liquid stream is uniformly sprayed on the plated object by changing the thickness of the plating layer so that even the part where the plating layer is difficult to be easily contacted with the plating solution so that the thickness of the plating layer is uniformly formed.

Description

도금액 분사식 도금 장치Plating solution spray plating device

제1도는 종래 장치의 종단면 개략도.1 is a longitudinal cross-sectional schematic diagram of a conventional device.

제2도는 제1도의 I-I' 선에 대한 단면 개략도.FIG. 2 is a schematic cross sectional view taken along line II ′ of FIG. 1.

제3도는 본 발명의 종단면 개략도.3 is a longitudinal cross-sectional schematic diagram of the present invention.

제4도는 본 발명의 측면 작용도로서, (a)는 수직바가 상승한 상태를 나타낸 것이고, (b)는 수직바가 하강한 상태를 나타낸 것이다.4 is a side action diagram of the present invention, (a) shows a state in which the vertical bar is raised, (b) shows a state in which the vertical bar is lowered.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 기초 2 : 도금 처리조1: foundation 2: plating treatment tank

2' : 저벽 2 : 주벽2 ': bottom wall 2: main wall

3 : 회수 용기 4 : 연통관(連通管)3: recovery container 4: communication tube

5 : 펌프 6a,6b : 파이프5: pump 6a, 6b: pipe

7a,7b : 라이저 파이프(Riser pipe)7a, 7b: Riser pipe

8 : 노즐(Nozzle) 9 : 지그(Jig)8: Nozzle 9: Jig

10,10',10 : 피도금물 11a,11b : 양극10,10 ', 10: plated material 11a, 11b: anode

12a,12b : 수직바 13a,13b : 로울러12a, 12b: Vertical bar 13a, 13b: Roller

14a,14b : 편심캠 15 : 모우터14a, 14b: eccentric cam 15: motor

16 : 축 17 : 승강 프레임16: axis 17: lifting frame

PS : 도금액 T : 치구 설치 영역PS: Plating solution T: Jig mounting area

본 발명은 복수의 블록(block) 형상의 치구(治具) [대체로 괴상(壞狀)의 피도금물]를 한개의 치구군(治具群)으로하여 전처리, 도금, 후처리 공정을 일관 공정으로 수행토록 하는 도금 처리 장치에 관한 것으로, 특히 복수의 도금액 분사 노즐로부터 도금액을 피도금물에 분사하면서 전기 도금 처리를 행하도록 함에 있어서, 피도금물 또는 노즐을 상하로 요동시킴으로서 균일한 도금이 이루어지도록 한 도금액 분사식 도금 처리 장치에 관한 것이다.In the present invention, a plurality of block-shaped jig (usually a massive plated object) is used as one jig group to perform a pretreatment, plating, and post-treatment process in an integrated process. The present invention relates to a plating treatment apparatus to be carried out by a plurality of plating liquids. In particular, in the electroplating process while spraying a plating liquid onto a plated object from a plurality of plating liquid injection nozzles, uniform plating is achieved by swinging the plated object or the nozzle up and down. The present invention relates to a plating liquid jet plating apparatus.

지금까지 도금액 분사식 도금 장치로서 알려져 있는 것은 다음과 같은 것들이 있다. 그들 중 어떤 장치에서는 도금 처리조 내에 매달린 한장의 판상 피도금물 양측에 복수의 도금액 분사 노즐을 배치하고, 이들 노즐로부터 도금액을 피도금물로 향하여 분사하면서 도금을 행하도록 하고 있다.What is known as a plating liquid injection plating apparatus so far is as follows. In some of these apparatuses, a plurality of plating liquid injection nozzles are arranged on both sides of a sheet-like plated object suspended in a plating treatment tank, and plating is performed while spraying the plating liquid toward the plating object from these nozzles.

또다른 분사식 처리 장치에서는 도금액(plating solution)을 도금 처리조의 하측에 설치된 별도의 저장조로부터 펌프에 의해 노즐에 공급토록 하여, 도금 처리조 내에 분사된 도금액이 상기 저장조로 흘러 내려가도록 되어 있다. (일본 특개소 59-166697호 참조) 그 밖에 판상 피도금물의 도금처리에만 사용되고 있던 상기의 도금액 분사식 처리장치를 블록 형상의 피도금물에 이용하는 장치도 이미 알려져 있다. (일본 특공평 4-59400호 참조)In another spray processing apparatus, a plating solution is supplied to a nozzle by a pump from a separate storage tank provided below the plating processing tank so that the plating liquid injected in the plating processing flow flows down into the storage tank. (See Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-166697.) In addition, an apparatus using the above-described plating liquid jet processing apparatus, which is used only for plating treatment of a plate-like plated object, for a block-shaped plated object is already known. (See Japan Patent Publication No. 4-59400)

그러나 이와 같은 종래의 도금액 분사식 도금 장치들은 도면의 제1도 및 제2도에 나타낸 바와 같이 복수의 괴상 피도금물(10)(10')(10)을 1개의 피도금물군으로 하여 각도 및 위치가 고정된 도금액 분사 노즐(8)에서 도금액(PS)을 피도금물(10)(10')(10)에 분사시켜 주는 방법으로 전기 도금을 행하므로써 비교적 고속도금(高速鍍金)이 가능한 것은 사실이나 요철 형상의 피도금물을 도금시 도금층의 두께 관리가 어려운 문제가 있다.However, such conventional plating liquid jet plating apparatus has a plurality of plated objects 10, 10 ', 10 as one group of plated objects as shown in FIGS. 1 and 2 of the drawings. In the plating liquid spray nozzle 8 having a fixed position, electroplating is performed by spraying the plating liquid PS onto the plating targets 10, 10 'and 10, so that relatively high speed plating is possible. In fact, there is a problem that the thickness management of the plating layer is difficult when plating the plated object of concave-convex shape.

즉, 도금 두께에 대한 도금 시간의 관리는 피도금물(10)(10')(10) 전면(전면全面) 중에서 최소 도금 두께 부분이 관리 기준에 도달하는 시점을 도금 시간의 완료로 하고 있다. 이 최소 도금 두께 부분은 도금액(PS)의 접촉과 도금 처리조(2) 양극(anode)(11a)(11b)의 위치 관계에서 결정되므로써 도금층을 이루는 금속이 석출(析出)하기 어려운 부분이 있으며, 이러한 부분의 도금층 두께를 관리 기준에 도달시키기까지의 도금 시간 동안 또 다른 석출하기 쉬운 부분에서는 최소 도금 두께의 무려 2~5배에 달하는 도금 두께가 형성되므로써 도금이 완료된 피도금물(10)(10')(10)이 전체적으로 매우 불균일한 도금 두께를 갖게 되는 문제점이 있었던 것이다.That is, the management of the plating time with respect to the plating thickness is the completion of the plating time at the time when the minimum plating thickness portion reaches the management standard among the entire surfaces (front surface of the plated objects 10, 10 ', 10). This minimum plating thickness portion is determined by the positional relationship between the contact of the plating liquid PS and the anodes 11a and 11b of the plating treatment tank 2, so that the metal constituting the plating layer is difficult to deposit. In another easy-to-precipitate portion during the plating time until the plated layer thickness of this portion is reached to the management standard, a plating thickness of as much as 2 to 5 times the minimum plating thickness is formed, so that plating is completed. There was a problem in that ') 10 had a very non-uniform plating thickness as a whole.

본 발명은 도금 처리조 내에 복수의 괴상 피도금물을 1개의 치구군으로 배치하고 이 치구군을 상하로 요동(搖動)되도록 하여 피도금물과 노즐의 위치 관계가 변화되도록 하므로써 도금액류(鍍金液流)가 피도금물에 균일하게 분사되도록 하여 도금층의 형성이 어려운 부분까지도 도금액과 쉽게 접촉되도록 하므로써 도금층의 두께가 균일하게 형성되도록 한 것으로, 이를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.In the present invention, a plurality of massive plated objects are arranged in one jig group within the plating treatment tank, and the jig group is swinged up and down so that the positional relationship between the plated object and the nozzle is changed so as to change the plating liquid. The flow is uniformly sprayed on the plated object so that even the difficult part of the plating layer is easily contacted with the plating solution so that the thickness of the plating layer is uniformly formed. This will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제3도는 본 발명의 종단면 개략도이고, 제4도는 본 발명의 측면 작용도로서, 도금 처리조(2)는 상부가 개방된 저벽(2')과 주벽(2)으로 구성되어, 기초(1) 위에 설치되고, 주벽(2) 상부의 외측에는 도금액 회수 용기(3)(오버 플로우조 : overflow tank)가 형성되며, 도금 처리조(2)와 회수 용기(3)에는 도금액(PS)이 수용되어 있다. 회수 용기(3)는 도금 처리조(2) 내부에 설치된 한쌍의 파이프(6a)(6b)와 연통관(4)으로 연통 배관되며, 연통관(4)의 중간에 펌프(5)가 설치된다.3 is a longitudinal cross-sectional schematic diagram of the present invention, and FIG. 4 is a side action diagram of the present invention, wherein the plating treatment tank 2 is composed of a bottom wall 2 'and a main wall 2 having an open top, and the foundation 1 A plating solution recovery container 3 (overflow tank) is formed outside the upper part of the circumferential wall 2, and the plating solution PS is accommodated in the plating treatment tank 2 and the recovery container 3. have. The recovery container 3 is communicated with a pair of pipes 6a and 6b and the communication tube 4 provided in the plating treatment tank 2, and a pump 5 is provided in the middle of the communication tube 4.

각 파이프(6a)(6b)에는 일정 간격을 두고 수직 방향으로 다수의 라이저 파이프(7a)(7b)가 연통 설치되고, 양측 라이저 파이프(7a)(7b)의 수직 방향 중심에는 치구 설치 영역(T)을 확보하여 음전극이 접속되는 프레임 형상의 지그(9)에 피도금물(10)(10')(10)이 설치되도록 하며, 라이저 파이프(7a)(7b)의 외방에는 양극(11a)(11b)이 배치되고, 각 라이저 파이프(7a)(7b)에는 분사 방향이 치구 설치 영역(T)을 향하도록 다수의 노즐(8)이 대향 설치된다.Each of the pipes 6a and 6b is provided with a plurality of riser pipes 7a and 7b communicating in the vertical direction at regular intervals, and a jig mounting area T in the vertical center of both riser pipes 7a and 7b. ) To be plated 10, 10 'and 10 to be installed in a frame-shaped jig 9 to which a negative electrode is connected, and an anode 11a (outside the riser pipes 7a and 7b). 11b) is arrange | positioned, and each riser pipe 7a and 7b is provided with the some nozzle 8 so that the injection direction may face the jig | tool mounting area T. As shown in FIG.

도금 처리조(2)의 외측에는 한쌍의 수직바(12a)(12b)가 설치되고, 하단에 로울러(13a)(13b)가 회전되도록 설치되어 있으며, 모우터(15)의 축(16)에 편심되게 설치된 한쌍의 편심캠(14a)(14b)이 로울러(13a)(13b)와 접촉 회동되도록 설치되어 있고, 수직바(12a)(12b)의 상단에는 승강 프레임(17)이 고정 설치되며, 승강 프레임(17)에는 지그(9)가 고정 설치된다.A pair of vertical bars 12a and 12b are provided on the outside of the plating treatment tank 2, and rollers 13a and 13b are rotated at the lower end of the plating treatment tank 2 to the shaft 16 of the motor 15. A pair of eccentrically installed eccentric cams 14a and 14b are installed to rotate in contact with the rollers 13a and 13b, and a lifting frame 17 is fixedly installed on the upper ends of the vertical bars 12a and 12b. The jig 9 is fixed to the lifting frame 17.

도면 중 미설명 부호 18은 수직바(12a)(12b)를 승강 안내 하기 위한 브라켓이다.In the figure, reference numeral 18 is a bracket for guiding the lifting and lowering of the vertical bars 12a and 12b.

이와 같은 본 발명은 별도의 전원을 이용하여 펌프(5)와 모우터(15)를 구동시키게 되면 회수 용기(3) 내의 도금액(PS)이 펌프(5)의 작동으로 배관(4)을 통해 압송되어 파이프(6a)(6b)와 라이저 파이프(7a)(7b)를 통해 노즐(8)로 분사되므로써 치구 설치 영역(T) 내의 피도금물(10)(10')(10) 표면에 충돌하거나 피도금물(10)(10')(10)의 주위로 분사되어 도금 처리조(2)내의 도금액(PS)을 교반하게 되고, 모우터(15)의 작동으로 축(16)에 설치된 한쌍의 편심캠(14a)(14b)이 회전되면서, 이에 접촉 회동되는 로울러(13a)(13b)에 의해 수직바(12a)(12b)가 승강하게 됨과 동시에 상측에 설치된 승강 프레임(17)이 승강하게 되며, 승강 프에임(17)에 고정된 지그(9)가 승강하게 되므로써 지그(9)에 고정된 피도금물(10)(10')(10) 또한 동일한 승강 작동을 하게 되어 노즐(8)로부터 분출되는 도금액(PS)이 요철 형상의 표면에 고르게 충돌하게 되어 최소 도금층과 최대 도금층의 도금 두께 편차를 극소화시키게 됨은 물론, 종래의 도금 장치에 비하여 도금 두께 관리 기준에 도달하게 되는 시간을 20~50% 정도 단축시켜 줄 수 있으며, 최대 도금층의 과대한 도금층 형성을 억제하므로써 도금 석출의 균일성을 최소 50% 이상 향상시켜 전체 도금 처리 시간을 15~20% 정도 단축시킬 수 있다.In the present invention, when the pump 5 and the motor 15 are driven by using a separate power source, the plating liquid PS in the recovery container 3 is pumped through the pipe 4 by the operation of the pump 5. By spraying the nozzles 8 through the pipes 6a and 6b and the riser pipes 7a and 7b so as to collide with the surface of the plated objects 10, 10 'and 10 in the fixture mounting region T. It is sprayed around the to-be-plated object 10, 10 ', 10, and it stirs the plating liquid PS in the plating process tank 2, and a pair of pairs provided in the shaft 16 by operation of the motor 15 are carried out. As the eccentric cams 14a and 14b are rotated, the vertical bars 12a and 12b are raised and lowered by the rollers 13a and 13b contacted and rotated, and the lifting frame 17 installed at the upper side is raised and lowered. Since the jig 9 fixed to the lifting frame 17 is lifted up and down, the plated objects 10, 10 'and 10 fixed to the jig 9 also perform the same lifting operation so that the nozzle 8 The plating liquid PS ejected from It collides evenly with the surface of the iron shape to minimize the plating thickness variation between the minimum plating layer and the maximum plating layer, as well as to reduce the time to reach the plating thickness management standard by 20 to 50% compared to the conventional plating apparatus. In addition, by suppressing excessive plating layer formation of the maximum plating layer, the uniformity of plating deposition can be improved by at least 50% or more, thereby reducing the overall plating treatment time by 15 to 20%.

여기에서, 도금 처리가 완료될 때까지 회수 용기(3) 내의 도금액(PS)은 펌프(5)에 의해 도금 처리조(2)로 계속 공금되게 되는 바, 도금 처리조(2) 내에는 도금액(PS)이 초기 상태에서 완충(完充)된 상태이므로 도금 처리조(2)의 상부로 넘쳐 흘러 다시 회수 용기(3) 내로 회수되고 또 이는 다시 도금 처리조(2) 내로 공급되는 반복 작용이 이루어지게 된다.Here, the plating liquid PS in the recovery container 3 is continuously supplied to the plating treatment tank 2 by the pump 5 until the plating treatment is completed. Since the PS) is buffered in the initial state, it overflows to the upper portion of the plating vessel 2 and is recovered into the recovery vessel 3 again, and this is repeatedly performed to be supplied into the plating vessel 2. You lose.

한편, 도면상에는 지그(9)를 승강 프레임(17)에 고정시킴으로써 피도금물(10)(10')(10)이 승강되도록 하는 구조를 나타내었으나, 피도금물(10)(10')(10)의 구조적 특성상 승강이 어려울 때에는 지그(9)를 도금 처리조(2) 내에 고정시키고 라이저 파이프(7a)(7b)를 승강 프에임(17)에 고정시킴으로써 노즐(8)이 승강되도록 할 수도 있다.On the other hand, on the drawing, the jig 9 is fixed to the elevating frame 17, so that the plated objects 10, 10 ', 10 are lifted, but the plated objects 10, 10' ( When the elevating is difficult due to the structural characteristics of 10), the nozzle 8 may be lifted by fixing the jig 9 in the plating treatment tank 2 and fixing the riser pipes 7a and 7b to the lifting frame 17. have.

이상에서와 같이 본 발명은 피도금물의 요철 형상에 관계 없이 도금액이 표면에 균일하게 접촉되도록 하므로써 최소 도금층과 최대 도금층의 도금 두께 편차를 극소화시켜 도금층의 형성을 균일하게 함은 물론, 도금 두께 관리 기준에 도달하기까지의 도금 처리 시간을 단축하여 인력 및 작업 시간을 절감할 수 있으며, 양질의 도금 제품을 제공할 수 있다.As described above, the present invention minimizes the plating thickness variation between the minimum plating layer and the maximum plating layer by uniformly contacting the plating liquid regardless of the uneven shape of the plated material, thereby uniformly forming the plating layer, and plating thickness management. By shortening the plating time required to reach the standard, it saves manpower and work time, and can provide high quality plating products.

Claims (1)

상부 외측에 회수 용기(3)가 설치되고 내부에 도금액(PS)이 충전되는 도금 처리조(2)의 내부 중앙에 피도금물(10)(10')(10)을 지그(9)로 고정시켜서 양측에 설치된 노즐(8)이 도금액(PS)을 분사시킴으로써 피도금물(10)(10')(10)을 도금하는 도금액 분사식 도금 장치에 있어서, 도금 처리조(2)의 하방에는 모우터(15)의 축(16)에 설치되는 한쌍의 편심캠(14a)(14b)이 구비되고, 상기 편심캠(14a)(14b)의 상부에 로울러(13a)(13b)로 접동되는 수직바(12a)(12b)와 수직바(12a)(12b)의 상단에 지그(9)가 고정되는 승강 프레임(17)이 설치되어 모우터(15)의 작동에 따른 편심캠(14a)(14b)의 회전 운동으로 피도금물(10)(10')(10)이 상하로 요동되는 도금액 분사식 도금 장치.The plated object 10, 10 ′, 10 is fixed to the inner center of the plating treatment tank 2 in which the recovery container 3 is installed outside the upper portion and the plating solution PS is filled therein with the jig 9. In the plating liquid spraying plating apparatus in which the nozzles 8 provided on both sides of the sprayer spray the plating liquid PS, the plating liquid spraying plating apparatus for plating the object to be plated 10, 10 ', 10 is provided. A pair of eccentric cams (14a) and (14b) provided on the shaft (16) of the (15) is provided, and vertical bars (Sliding by rollers (13a) (13b) on top of the eccentric cams (14a) (14b) ( 12a) 12b and a lifting frame 17 on which the jig 9 is fixed to the upper ends of the vertical bars 12a and 12b are installed to provide the eccentric cams 14a and 14b according to the operation of the motor 15. Plating liquid injection plating apparatus in which the plated object (10, 10 ', 10) is swinging up and down by a rotational movement.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101137776B1 (en) * 2009-11-11 2012-04-25 주식회사 케이피엠테크 Substrate plating device havung structure of dust removal

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