KR0149313B1 - Method for fabrication of lcd wafer - Google Patents

Method for fabrication of lcd wafer

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KR0149313B1 KR1019950021917A KR19950021917A KR0149313B1 KR 0149313 B1 KR0149313 B1 KR 0149313B1 KR 1019950021917 A KR1019950021917 A KR 1019950021917A KR 19950021917 A KR19950021917 A KR 19950021917A KR 0149313 B1 KR0149313 B1 KR 0149313B1
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Abstract

본 발명은 액정 디스플레이 기판의 게이트 라인의 리페어를 쉽게 하기 위하여 게이트 배선 금속과 데이타 배선 금속을 이용하여 리페어 라인을 형성한 액정 디스플레이 기판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display substrate in which a repair line is formed using a gate wiring metal and a data wiring metal in order to easily repair a gate line of a liquid crystal display substrate, and a method of manufacturing the same.

데이타 라인에 단선 발생시 단선된 데이타 라인을 상기 데이타 라인 하부에 수직 방향으로 형성되어 있는 리페어 라인과 전기적으로 연결되도록 레이저로 단락시킨 후 상기 리페어 라인과 전기적으로 연결시켜 준 지점의 근처에서 한쪽의 리페어 라인을 단선시키고, 리페어 라인 또는 보조 리페어 라인을 통하여 단선된 데이타 라인을 쉽게 리페어 할 수 있다.When a disconnection occurs in the data line, the repaired data line is shorted with a laser to be electrically connected to the repair line formed in the vertical direction below the data line, and then one repair line near the point that is electrically connected to the repair line. It is possible to easily disconnect a data line through a repair line or a repair line or a repair line.

Description

액정 디스플레이 기판 및 그 제조 방법Liquid crystal display substrate and its manufacturing method

제1도의 (a)-(b)는 종래의 액정 디스플레이 기판의 리페어 라인 형성 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.(A)-(b) of FIG. 1 is a top view of the repair line forming step of the conventional liquid crystal display substrate, and sectional drawing of A-A 'part.

제2도의 (a)-(b)는 종래의 액정 디스플레이 기판의 양극 산화 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.(A)-(b) of FIG. 2 is a plan view and a sectional view of A-A 'portion of the conventional liquid crystal display substrate.

제3도의 (a)-(b)는 종래의 액정 디스플레이 기판의 게이트 라인 분리 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.(A)-(b) of FIG. 3 is a plan view and a sectional view of A-A 'part of the gate line isolation | separation step of the conventional liquid crystal display substrate.

제4도의 (a)-(b)는 본 발명의 제 1실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 게이트 라인, 리페어 라인, 보조 리페어 라인 하단 그리고 쇼팅바를 형성하는 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.(A)-(b) of FIG. 4 are a plan view and a cross-sectional view of part A-A 'of a gate line, a repair line, a bottom of an auxiliary repair line, and a shorting bar of the liquid crystal display substrate according to the first embodiment of the present invention. to be.

제5도의 (a)-(b)는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 양극 산화 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.5A to 5B are a plan view and a cross-sectional view of A-A 'part of the anodizing step of the liquid crystal display substrate according to the first embodiment of the present invention.

제6도의 (a)-(b)는 본 발명의 제 1실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 게이트 절연막의 패터닝 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.6A to 6B are a plan view and a cross-sectional view of part A-A 'of a patterning step of a gate insulating film of a liquid crystal display substrate according to a first embodiment of the present invention.

제7도의 (a)-(b)는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 게이트 패드 및 데이타 패드 형성 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.7A to 7B are a plan view and a cross-sectional view of part A-A 'of a gate pad and data pad forming step of a liquid crystal display substrate according to a first embodiment of the present invention.

제8도의 (a)-(b)는 본 발명의 제1실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 게이트 라인과 보조 리페어 라인을 분리시키는 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.8A and 8B are a plan view and a cross-sectional view taken along the line A-A 'of a step of separating the gate line and the auxiliary repair line of the liquid crystal display substrate according to the first embodiment of the present invention.

제9도의 (a)-(b)는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.9A to 9B are a plan view and a cross sectional view taken along the line A-A 'of the liquid crystal display substrate according to the first embodiment of the present invention.

제10도의 (a)-(b)는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 게이트 라인, 리페어 라인 그리고 보조 리페어 라인 하단. 쇼팅바를 형성하는 단계의 평면도 및 A-A'부분의 평면도이다.(A)-(b) of FIG. 10 are bottom lines of a gate line, a repair line, and an auxiliary repair line of the liquid crystal display substrate according to the second embodiment of the present invention. A plan view of the step of forming the shorting bar and a plan view of A-A 'part.

제11도의 (a)-(b)는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 양극 산화 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.11A to 11B are a plan view and a cross-sectional view of part A-A 'of an anodizing step of a liquid crystal display substrate according to a second embodiment of the present invention.

제12도의 (a)-(b)는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 게이트 절연막의 패터닝 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.12A to 12B are a plan view and a cross-sectional view of part A-A 'of a patterning step of a gate insulating film of a liquid crystal display substrate according to a second embodiment of the present invention.

제13도의 (a)-(b)는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 게이트 패드 및 데이타 패드를 형성하고 보조 리페어 라인 상단을 형성하는 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.13A to 13B are a plan view and a cross-sectional view of part A-A 'of forming a gate pad and a data pad and forming an upper part of an auxiliary repair line of a liquid crystal display substrate according to a second exemplary embodiment of the present invention. to be.

제14도의 (a)-(b)는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 게이트 라인과 보조 리페어 라인을 분리시키는 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.(A)-(b) of FIG. 14 are a plan view and a cross-sectional view of part A-A 'of a step of separating the gate line and the auxiliary repair line of the liquid crystal display substrate according to the second embodiment of the present invention.

제15도의 (a)-(b)는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.(A)-(b) of FIG. 15 are a plan view and a cross-sectional view of part A-A 'of a liquid crystal display substrate according to a second embodiment of the present invention.

본 발명은 액정 디스플레이 기판 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 더욱 상세히 말하자면, 액정 디스플레이 기판의 게이트 라인의 리페어를 쉽게 하기 위하여 게이트 배선 금속과 데이타 배선 금속을 이용하여 리페어 라인을 형성한 액정 디스플레이 기판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display substrate and a method of manufacturing the same. More specifically, the present invention relates to a liquid crystal display substrate in which a repair line is formed using a gate wiring metal and a data wiring metal in order to easily repair the gate line of the liquid crystal display substrate, and a method of manufacturing the same.

이하, 첨부된 도면을 참고로 하여 리페어 라인이 형성되어 있는 종래의 액정 표시 장치에 대해 설명한다.Hereinafter, a conventional liquid crystal display in which a repair line is formed will be described with reference to the accompanying drawings.

제1도의 (a)-(b)는 종래의 액정 디스플레이 기판의 리페어 라인 형성 단계의 평면도 및 A-A`부분의 단면도이다.(A)-(b) of FIG. 1 is a plan view and a sectional view of A-A 'part of the conventional repair line formation step of a liquid crystal display substrate.

제2도의 (a)-(b)는 종래의 액정 디스플레이 기판의 양극 산화 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.(A)-(b) of FIG. 2 is a plan view and a sectional view of A-A 'portion of the conventional liquid crystal display substrate.

제3도의 (a)-(b)는 종래의 액정 디스플레이 기판의 게이트 라인 분리 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.(A)-(b) of FIG. 3 is a plan view and a sectional view of A-A 'part of the gate line isolation | separation step of the conventional liquid crystal display substrate.

제1도 및 제3도에 도시한 바와 같이, 종래의 리페어 라인이 형성되어 있는 액정 디스플레이 기판은 다음과 같은 공정 단계를 포함한다.As shown in Figs. 1 and 3, the liquid crystal display substrate on which the conventional repair line is formed includes the following process steps.

먼저, 제1도에 도시한 바와 같이 게이트 금속으로 게이트 라인(4) 배선시 리페어 라인(L1)을 'ㅁ'자 형상으로 형성한다.First, as shown in FIG. 1, the repair line L1 is formed in a '?' Shape when the gate line 4 is wired with the gate metal.

다음, 제2도에 도시한 바와 같이 게이트 배선을 선택적으로 양극 산화하여 양극 산화막(6)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 2, the gate wiring is selectively anodized to form an anodic oxide film 6.

다음, 제3도에 도시한 바와 같이 상기 리페어 라인(L1)과 상기 게이트 라인(4)을 선택적으로 분리시킨다.Next, as illustrated in FIG. 3, the repair line L1 and the gate line 4 are selectively separated.

상기와 같이 리페어 라인(L1)을 'ㅁ'자 형상으로 형성할 경우에는 후속 공정에서 상기 리페어 라인(L1)과 상기 게이트 라인(4)을 분리시키기 위한 별도의 사진 식각 공정이 추가되므로 비용 증가 및 수율 저하를 가져오는 단점이 있다.As described above, when the repair line L1 is formed in a 'ㅁ' shape, a separate photolithography process for separating the repair line L1 and the gate line 4 is added in a subsequent process, thereby increasing the cost and There is a disadvantage that yields a decrease.

또한 리페어 라인이 형성되어 있는 종래의 또다른 액정 표시 장치는 다음과 같다. 미국 특허 제 4,807,975호(특허일자 : 서기 1989년 2월 28일)의 기술은 리페어 라인으로 게이트 배선 금속 또는 데이타 배선 금속을 사용할 수 있으며, 그 모양이 폐곡선 형태이며, 양극 산화막이 없는 특징이 있다.In addition, another conventional liquid crystal display device in which a repair line is formed is as follows. The technique of U.S. Patent No. 4,807,975 (Patent Date: February 28, 1989) may use a gate wiring metal or a data wiring metal as a repair line, which is shaped like a closed curve, and has no anodic oxide film.

그러나, 상기한 리페어 라인을 고저항인 데이타 배선 금속으로 형성할 경우에는 리페어 라인의 저항이 높기 때문에 저항 딜레이 시간(RC-Delay Time)이 늦어지므로 화질의 저하를 가져온다.However, in the case where the repair line is formed of a high resistance data wiring metal, since the resistance of the repair line is high, the resistance delay time (RC-Delay Time) is delayed, resulting in deterioration of image quality.

그러므로 본 발명은 상기한 단점을 해결하기 위한 수단으로 액정 디스플레이 기판의 게이트 라인의 리페어를 쉽게 하기 위하여 게이트 배선 금속과 데이타 배선 금속을 이용하여 리페어 라인을 형성한 액정 디스플레이 기판 및 그 제조 방법을 제공하기 위한 것이다.Therefore, the present invention provides a liquid crystal display substrate having a repair line formed by using a gate wiring metal and a data wiring metal in order to easily repair the gate line of the liquid crystal display substrate as a means for solving the above disadvantages, and a method of manufacturing the same. It is for.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명은,The present invention for achieving the above object,

기판,Board,

구동 신호를 발생시키는 게이트 드라이버,A gate driver for generating a drive signal,

데이타 정보를 발생시키는 데이타 드라이버,A data driver that generates data information,

상기 게이트 드라이버에 연결되어 있으며 상기 기판 위에 행 방향으로 형성되어 있는 게이트 라인,A gate line connected to the gate driver and formed in a row direction on the substrate;

상기 기판 위에 형성되어 있고 상기 기판 둘레에 ㄷ자 모양으로 형성되어 있는 리페어 라인,A repair line formed on the substrate and formed in a U shape around the substrate;

상기 데이타 드라이브에 연결되어 있으며 상기 기판 위에 열 방향으로 형성되어 있는 데이타 라인,A data line connected to the data drive and formed in a column direction on the substrate;

상기 데이타 라인과 평행하게 형성되어 있으며 상기 게이트 라인과 수직으로 교차하게 형성되어 있고 상기 게이트 라인과 전기적으로 분리되어 있고 상기 리페어 라인과 전기적으로 연결되어 있으며, 기판 위에 게이트 라인막과 데이타 라인막이 연속하여 차례로 형성되어 있는 보조 리페어 라인을 포함한다.The gate line layer and the data line layer are formed to be parallel to the data line, perpendicular to the gate line, electrically separated from the gate line, and electrically connected to the repair line. And an auxiliary repair line formed in sequence.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 제조 방법은,The production method of the present invention for achieving the above object,

기판 위에 게이트 라인, 리페어 라인 그리고 보조 리페어 라인의 하단, 쇼팅바를 동시에 형성하는 제1단계,A first step of simultaneously forming a bottom bar and a shorting bar of a gate line, a repair line, and an auxiliary repair line on the substrate;

상기 게이트 라인의 일부분을 제외하고 선택적으로 양극 산화시키는 제2단계, 상기 기판 위를 전면적으로 절연막을 도포한 후 패터닝하는 제3단계,A second step of selectively anodizing except a portion of the gate line, a third step of applying an insulating film over the substrate and patterning the entire surface,

상기 절연막 위에 도전 물질을 도포한 후 패터닝하여 게이트 패드 및 데이타 패드 형성하고, 상기 게이트 패드 및 데이타 패드 형성시 동시에 보조 리페어 라인 상단을 형성하는 제 4단계,A fourth step of forming a gate pad and a data pad by coating a conductive material on the insulating layer and patterning the same, and simultaneously forming an upper part of an auxiliary repair line when the gate pad and the data pad are formed;

상기 게이트 라인과 상기 보조 리페어 라인을 완전히 분리시키기 위하여 상기 보조 리페어 라인 상단을 마스크로하여 상기 보조 리페어 라인의 부근에 형성되어 있는 게이트 라인의 일부를 사진 식각하여 상기 보조 리페어 라인과 상기 게이트 라인과 분리시키는 제5단계를 포함한다.In order to completely separate the gate line and the auxiliary repair line, a portion of the gate line formed in the vicinity of the auxiliary repair line is photographed and separated from the auxiliary repair line and the gate line by using the upper part of the auxiliary repair line as a mask. It includes a fifth step.

상기한 목적을 달성하기 위한 다른 발명은,Another invention for achieving the above object,

기판,Board,

구동 신호를 방생시키는 게이트 드라이버,Gate driver for generating a drive signal,

데이타 정보를 발생시키는 데이타 드라이버,A data driver that generates data information,

상기 게이트 드라이버에 연결되어 있으며 상기 기판 위에 행 방향으로 형성되어 있는 게이트 라인, 상기 기판 위에 형성되어 있고, 상기 기판 둘레에 ㄷ자 모양으로 형성되어 있는 리페어 라인,A gate line connected to the gate driver and formed in a row direction on the substrate, a repair line formed on the substrate and having a U shape around the substrate;

상기 데이타 드라이브에 연결되어 있으며 상기 기판 위에 열 방향으로 형성되어 있는 데이타 라인,A data line connected to the data drive and formed in a column direction on the substrate;

상기 데이타 라인과 평행하게 형성되어 있으면 상기 게이트 라인과 수직으로 교차하게 형성되어 있고 상기 게이트 라인과 전기적으로 분리되어 있고 상기 리페어 라인과 전기적으로 연결되어 있으며, 기판 위에 게이트 라인막, 절연막이 연속하여 차례로 형성되어 있는 보조 리페어 라인을 포함한다.When formed in parallel with the data line is formed to cross the gate line perpendicularly and electrically separated from the gate line and electrically connected to the repair line, the gate line film, the insulating film on the substrate in sequence And an auxiliary repair line formed.

상기한 목적을 달성하기 위한 다른 발명의 제조 방법은,The production method of another invention for achieving the above object,

기판 위에 게이트 라인, 리페어 라인 그리고 보조 리페어 라인의 하단 쇼팅바를 동시에 형성하는 제1단계,A first step of simultaneously forming a bottom shorting bar of the gate line, the repair line, and the auxiliary repair line on the substrate;

상기 게이트 라인의 일부분을 제외하고 선택적으로 양극 산화시키는 제2단계, 상기 기판 위를 전면적으로 절연막을 도포한 후 패터닝하여 보조 리페어 라인 상단을 형성하는 제3단계,A second step of selectively anodizing except for a portion of the gate line, a third step of forming an upper surface of an auxiliary repair line by applying an insulating film over the substrate and patterning the entire surface;

상기 절연막 위에 도전 물질을 도포한 후 패터닝하여 게이트 패드 및 데이타 패드 형성하는 제 4단계,A fourth step of forming a gate pad and a data pad by coating a conductive material on the insulating layer and then patterning the conductive material;

상기 절연막을 마스트로하여 상기 게이트 라인과 상기 보조 리페어 라인의 하단을 완전히 분리시키기 위하여 상기 보조 리페어 라인 상단을 마스크로하여 상기 보조 리페어 라인의 부근에 형성되어 있는 데이타 라인의 일부를 사진 식각하는 제5단계를 포함한다.A fifth photo-etched portion of the data line formed in the vicinity of the auxiliary repair line using the upper part of the auxiliary repair line as a mask to completely separate the lower ends of the gate line and the auxiliary repair line by using the insulating layer as a mask; Steps.

그러면 첨부한 도면을 참고로 하여, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 제1 실시예를 상세하게 설명한다.Next, a first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention.

제4도의 (a)-(b)는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 게이트 라인, 리페어 라인 그리고 쇼팅바를 형성하는 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.(A)-(b) of FIG. 4 are a plan view and a cross-sectional view of part A-A 'of a step of forming a gate line, a repair line and a shorting bar of the liquid crystal display substrate according to the first embodiment of the present invention.

제5도의 (a)-(b)는 본 발명의 제1실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 양극 산화 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.5A to 5B are a plan view and a cross-sectional view of part A-A 'of an anodizing step of a liquid crystal display substrate according to a first embodiment of the present invention.

제6도의 (a)-(b)는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 게이트 절연막의 패터닝 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.6A to 6B are a plan view and a cross-sectional view of a portion A-A 'of a patterning step of a gate insulating film of a liquid crystal display substrate according to a first embodiment of the present invention.

제7도의 (a)-(b)는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 게이트 패드 및 데이타 패드 형성 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.7A to 7B are a plan view and a cross-sectional view of part A-A 'of a gate pad and data pad forming step of a liquid crystal display substrate according to a first embodiment of the present invention.

제8도의 (a)-(b)는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 게이트 라인과 리페어 라인을 분리시키는 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.8A to 8B are a plan view and a cross-sectional view taken along the line A-A 'of a step of separating the gate line and the repair line of the liquid crystal display substrate according to the first embodiment of the present invention.

제9도의 (a)-(b)는 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.9A to 9B are a plan view and a cross sectional view taken along the line A-A 'of the liquid crystal display substrate according to the first embodiment of the present invention.

제 4도 내지 제 9도에 도시한 바와 같이 이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 제1 실시예는 다음과 같다.As shown in FIGS. 4 to 9, the first embodiment of the present invention for achieving this object is as follows.

먼저, 제4도의 (a)-(b)에 도시한 바와 같이, 기판(2) 위에 게이트 라인(4), 리페어 라인(L1) 그리고 보조 리페어 라인 하단(4-1), 쇼팅바(18)를 알루미늄으로 동시에 형성한다.First, as shown in FIGS. 4A and 4B, the gate line 4, the repair line L1, the auxiliary repair line lower end 4-1, and the shorting bar 18 are disposed on the substrate 2. Are simultaneously formed of aluminum.

다음, 제5도의 (a)-(b)에 도시한 바와 같이, 상기 게이트 라인(4)의 일부분(5)을 제외하고 선택적으로 양극 산화(6)시킨다.Next, as shown in (a)-(b) of FIG. 5, anodic oxidation (6) is selectively performed except for a portion (5) of the gate line (4).

그러나 상기 일부분(5)의 중심부는 양극 산화할 수 있다.However, the central portion of the portion 5 can be anodized.

다음, 제6도의 (a)-(b)에 도시한 바와 같이 상기 기판(2) 위를 전면적으로 절연막(8)을 도포한 후 패터닝한다.Next, as shown in (a)-(b) of FIG. 6, the insulating film 8 is applied to the entire surface of the substrate 2 and then patterned.

다음, 제7도의 (a)-(b)에 도시한 바와 같이 게이트 패드(10) 및 데이타 패드(12) 형성하고 상기 게이트 패드(10) 및 데이타 패드(12) 형성시 동시에 보조 리페어 라인 상단(10-1)을 형성하여 보조 리페어 라인(L2)을 완성한다. 상기 보조 리페어 라인(L2)는 상기 보조 리페어 라인 상단(10-1)과 상기 보조 리페어 라인 하단(4-1) 사이에 양극 산화막(6) 또는 절연막(8)이 삽입될 수 있다.Next, as shown in FIGS. 7A and 7B, when the gate pad 10 and the data pad 12 are formed and the gate pad 10 and the data pad 12 are simultaneously formed, the upper part of the auxiliary repair line ( 10-1) to complete the auxiliary repair line L2. In the auxiliary repair line L2, an anode oxide film 6 or an insulating film 8 may be inserted between the upper part of the auxiliary repair line 10-1 and the lower part of the auxiliary repair line 4-1.

다음, 제8도의 (a)-(b)에 도시한 바와 같이 액정 디스플레이 기판(2)의 게이트 라인(4)과 보조 리페어 라인(L2)을 완전히 분리시키기 위하여 사진 식각한다.Next, as shown in FIGS. 8A to 8B, photolithography is performed to completely separate the gate line 4 and the auxiliary repair line L2 of the liquid crystal display substrate 2.

다음, 첨부한 도면을 참고로 하여, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 제2 실시예를 상세하게 설명한다.Next, a second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention.

제 10도의 (a)-(b)는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 게이트 라인, 리페어 라인 그리고 보조 리페어 라인 하단, 쇼팅바를 형성하는 단계의 평면도 및 A-A'분의 단면도이다.(A)-(b) of FIG. 10 are a plan view of a gate line, a repair line, and an auxiliary repair line under the liquid crystal display substrate according to the second embodiment of the present invention, and a shorting bar, and a cross-sectional view taken along line A-A '. to be.

제11도의 (a)-(b)는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 양극 산화 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.11A to 11B are a plan view and a cross-sectional view of part A-A 'of an anodizing step of a liquid crystal display substrate according to a second embodiment of the present invention.

제12도의 (a)-(b)는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 게이트 절연막의 패터닝 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.12A to 12B are a plan view and a cross-sectional view of part A-A 'of a patterning step of a gate insulating film of a liquid crystal display substrate according to a second embodiment of the present invention.

제13도의 (a)-(b)는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 게이트 패드 및 데이타 패드를 형성하고 보조 리페어 라인 상단을 형성하는 단계의 평면도 및 A-A부분의 단면도이다.13A to 13B are a plan view and a cross-sectional view of part A-A of forming a gate pad and a data pad and forming an upper part of an auxiliary repair line of a liquid crystal display substrate according to a second embodiment of the present invention.

제14도의 (a)-(b)는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 게이트 라인과 보조 리페어 라인을 분리시키는 단계의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.(A)-(b) of FIG. 14 are a plan view and a cross-sectional view of part A-A 'of a step of separating the gate line and the auxiliary repair line of the liquid crystal display substrate according to the second embodiment of the present invention.

제15도의 (a)-(b)는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 디스플레이 기판의 평면도 및 A-A'부분의 단면도이다.(A)-(b) of FIG. 15 are a plan view and a cross-sectional view of part A-A 'of a liquid crystal display substrate according to a second embodiment of the present invention.

먼저, 제 10도의 (a)-(b)에 도시한 바와 같이, 기판(2) 위에 게이트 라인(4), 리페어 라인(L1) 그리고 보조 리페어 라인 하단, 쇼팅바(18)를 알루미늄으로 동시에 형성한다.First, as shown in FIGS. 10A to 10B, the gate line 4, the repair line L1, the lower side of the auxiliary repair line, and the shorting bar 18 are simultaneously formed of aluminum on the substrate 2. do.

다음, 제11도의 (a)-(b)의 도시한 바와 같이, 상기 게이트 라인(4)의 일부분을 제외하고 선택적으로 양극 산화(6)시킨다.Next, as shown in (a)-(b) of FIG. 11, anodic oxidation (6) is selectively performed except for a portion of the gate line (4).

다음, 제12도의 (a)-(b)의 도시한 바와 같이, 상기 기판(2) 위롤 전면적으로 절연막(8)을 도포한 후 상기 게이트 라인(4)이 상기 데이타 라인(16)과 분리되고 상기 게이트 라인(4)이 상기 쇼팅바(18)와 분리되게 패터닝한다.Next, as shown in FIGS. 12A and 12B, after the insulating film 8 is applied to the entire surface of the substrate 2, the gate line 4 is separated from the data line 16. The gate line 4 is patterned to be separated from the shorting bar 18.

다음, 제13도의 (a)-(b)의 도시한 바와 같이, 게이트 패드(10) 및 데이타 패드(12)를 형성하고 상기 게이트 패드(10) 및 데이타 패드(12) 형성시 동시에 보조 리페어 라인을 형성하기 이해 상기 절연막(8)을 패터닝하여 보조 리페어 라인 상단(8)을 형성한다.Next, as shown in FIGS. 13A and 13B, the auxiliary repair line is simultaneously formed when the gate pad 10 and the data pad 12 are formed and the gate pad 10 and the data pad 12 are formed. The insulating film 8 is patterned to form an auxiliary repair line top 8.

다음, 제14도 (a)-(b)의 도시한 바와 같이, 액정 디스플레이 기판(2)이 게이트 라인(4)과 보조 리페어 라인(L3)을 상기 완전히 분리시키기 위하여 상기 절연막(16)을 마스크하여 상기 보조 리페어 라인(L3)을 상기 게이트 라인(4)과 분리시킨다.Next, as shown in FIGS. 14A and 14B, the liquid crystal display substrate 2 masks the insulating film 16 to completely separate the gate line 4 and the auxiliary repair line L3. The auxiliary repair line L3 is separated from the gate line 4.

상기한 본 발명의 제 1내지 제 2실시 예에서와 같이, 데이타 라인에 단선 발생시 단선된 데이타 라인(16)을 상기 데이타 라인(16) 하부에 수직 방향으로 형성되어 있는 리페어 라인(L1)과 전기적으로 연결되도록 레이저로 단락시킨다.As in the first to second embodiments of the present invention, when the disconnection occurs in the data line, the disconnected data line 16 is electrically connected to the repair line L1 formed in the vertical direction under the data line 16. Short-circuit with a laser to be connected.

다음, 상기 리페어 라인(L1)과 전기적으로 연결시켜 준 지점의 근처에서 한 쪽의 리페어라인(L1)을 단선시킨다.Next, one repair line L1 is disconnected near the point that is electrically connected to the repair line L1.

이때, 상기 리페어 라인(L1)의 단선 위치는 데이타 라인(16)과 리페어 라인(L1)을 전기적으로 연결시켜준 점으로부터 데이타 드라이브에서 발생한 데이타 정보가 최대한으로 빠르게 전달될 수 있도록 하는 지점으로 정한다.At this time, the disconnection position of the repair line (L1) is determined as a point that allows the data information generated in the data drive to be transferred as quickly as possible from the point of electrically connecting the data line 16 and the repair line (L1).

또한 상기 보조 리페어 라인을 이용하여 데이타 라인 리페어 하면서, 동시에 상기 리페어 라인을 통하여 리페어 할 수 있다.In addition, while the data line is repaired using the auxiliary repair line, the repair may be performed through the repair line at the same time.

이와 같이, 리페어 라인(L1)을 통하거나 보조 리페어 라인(L2),(L3)를 통하여 단선된 데이타 라인(16)을 쉽게 리페어 할 수 있다.In this manner, the disconnected data line 16 can be easily repaired through the repair line L1 or through the auxiliary repair lines L2 and L3.

그러므로 본 발명의 효과는 게이트 배선 금속 또는 데이타 배선 금속을 이용하여 리페어 라인을 형성하므로 공정 수가 간단하고 리페어 하기 용이하고 상기 리페어 공정시 인접한 리페어 라인에서 딜레이 시간(RC-Delay Time)이 늦어지지 않으며 화질의 저하되지 않게 한다.Therefore, the effect of the present invention is to form a repair line using a gate wiring metal or a data wiring metal, so the number of processes is simple and easy to repair, and the delay time (RC-Delay Time) is not delayed in adjacent repair lines during the repair process. Do not deteriorate.

Claims (8)

기판, 구동 신호를 발생시키는 게이트 드라이버, 데이타 정보를 발생시키는 데이타 드라이버, 상기 게이트 드라이버에 연결되어 있으며 상기 기판 위에 행 방향으로 형성되어 있는 게이트 라인, 상기 기판 위에 형성되어 있고, 상기 기판 둘레에 ㄷ자 모양으로 형성되어 있는 리페어 라인, 상기 데이타 드라이브에 연결되어 있으며 상기 기판 위에 열 방향으로 형성되어 있는 데이타 라인, 상기 데이타 라인과 평행하게 형성되어 있으며 상기 게이트 라인과 수직으로 교차하게 형성되어 있고 상기 게이트 라인과 전기적으로 분리되어 있고 상기 리페어 라인과 전기적으로 연결되어 있으며, 기판 위에 게이트 라인막과 데이타 라인막이 연속하여 차례로 형성되어 있는 보조 리페어 라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 기판.A substrate, a gate driver for generating a drive signal, a data driver for generating data information, a gate line connected to the gate driver and formed in a row direction on the substrate, formed on the substrate, and having a U-shape around the substrate. A repair line which is formed to be connected to the data drive and is connected to the data drive in a column direction on the substrate, and is formed to be parallel to the data line and perpendicularly crosses the gate line, And an auxiliary repair line electrically separated from each other and electrically connected to the repair line, the auxiliary repair line having a gate line layer and a data line layer sequentially formed on the substrate. 제1항에서, 상기 게이트 라인과 상기 리페어 라인은 동일한 도전 물질로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 기판.The liquid crystal display substrate of claim 1, wherein the gate line and the repair line are formed of the same conductive material. 제2항에서, 상기 게이트 라인과 상기 리페어 라인은 알루미늄으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 기판.The liquid crystal display substrate of claim 2, wherein the gate line and the repair line are formed of aluminum. 기판 위에 게이트 라인, 리페어 라인 그리고 보조 리페어 라인의 하단, 쇼팅바를 동시에 형성하는 제 1단계, 상기 게이트 라인의 일부분을 제외하고 선택적으로 양극 산화시키는 제2단계, 상기 기판 위를 전면적으로 절연막을 도포한 후 패터닝하는 제 3단계, 상기 절연막 위에 도전 물질을 도포한 후 패터닝하여 게이트 패드 및 데이타 패드 형성하고, 상기 게이트 패드 및 데이타 패드 형성시 동시에 보조 리페어 라인 상단을 형성하는 제4단계, 상기 게이트 라인과 상기 보조 리페어 라인을 완전히 분리시키기 위하여 상기 보조 리페어 라인 상단을 마스크로하여 상기 보조 리페어 라인의 부근에 형성되어 있는 게이트 라인의 일부를 사진 식각하여 상기 보조 리페어 라인과 상기 게이트 라인과 분리시키는 제5단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 기판의 제조 방법.A first step of simultaneously forming a lower end of the gate line, a repair line and an auxiliary repair line, and a shorting bar on the substrate, a second step of selectively anodizing except a portion of the gate line, and applying an insulating film over the substrate A third step of patterning, a fourth step of forming a gate pad and a data pad by coating a conductive material on the insulating layer and patterning the gate pad and the data pad, and simultaneously forming an upper part of an auxiliary repair line when the gate pad and the data pad are formed; A fifth step of photo-etching a portion of the gate line formed in the vicinity of the auxiliary repair line by using an upper end of the auxiliary repair line as a mask to completely separate the auxiliary repair line from the auxiliary repair line and the gate line Liquid crystal di, characterized in that it comprises a The method of playing board. 기판, 구동 신호를 발생시키는 게이트 드라이버, 데이타 정보를 발생시키는 데이타 드라이버, 상기 게이트 드라이버에 연결되어 있으며 상기 기판 위에 행 방향으로 형성되어 있는 게이트 라인, 상기 기판 위에 형성되어 있고, 상기 기판 둘레에 ㄷ자 모양으로 형성되어 있는 리페어 라인, 상기 데이타 드라이브에 연결되어 있으며 상기 기판 위에 열 방향으로 형성되어 있는 데이타 라인, 상기 데이타 라인과 평행하게 형성되어 있으며 상기 게이트 라인과 수직으로 교차하게 형성되어 있고 상기 게이트 라인과 전기적으로 분리되어 있고 상기 리페어 라인과 전기적으로 연결되어 있으며, 기판 위에 게이트 라인막과 데이타 라인막이 연속하여 차례로 형성되어 있는 보조 리페어 라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 기판.A substrate, a gate driver for generating a drive signal, a data driver for generating data information, a gate line connected to the gate driver and formed in a row direction on the substrate, formed on the substrate, and having a U-shape around the substrate. A repair line which is formed to be connected to the data drive and is connected to the data drive in a column direction on the substrate, and is formed to be parallel to the data line and perpendicularly crosses the gate line, And an auxiliary repair line electrically separated from each other and electrically connected to the repair line, the auxiliary repair line having a gate line layer and a data line layer sequentially formed on the substrate. 제5항에서, 상기 게이트 라인과 상기 리페어 라인은 동일한 도전 물질로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 기판.The liquid crystal display substrate of claim 5, wherein the gate line and the repair line are formed of the same conductive material. 제5항에서, 상기 게이트 라인과 상기 리페어 라인은 알루미늄으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 기판.The liquid crystal display substrate of claim 5, wherein the gate line and the repair line are formed of aluminum. 기판 위에 게이트 라인, 리페어 라인 그리고 보조 리페어 라인의 하단, 쇼팅바를 동시에 형성하는 제 1단계, 상기 게이트 라인을 일부분을 제외하고 선택적으로 양극 산화시키는 제2단계, 상기 기판 위를 전면적으로 절연막을 도포한 후 패터닝하여 보조 리페어 라인 상단을 형성하는 제3단계, 상기 절연막 위에 도전 물질을 도포한 후 패터닝하여 게이트 패드 및 데이타 패드 형성하는 제 4단계, 상기 절연막을 마스트로하여 상기 게이트 라인과 상기 보조 리페어 라인의 하단을 완전히 분리시키기 위하여 상기 보조 리페어 라인 상단을 마스크로하여 상기 보조 리페어 라인의 부근에 형성되어 있는 게이트 라인의 일부를 사진 식각하는 제5단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 기판의 제조 방법.A first step of simultaneously forming a gate line, a repair line and a bottom of an auxiliary repair line, and a shorting bar at the same time; a second step of selectively anodizing the gate line except for a part thereof; and applying an insulating film over the substrate A third step of forming a top of an auxiliary repair line by patterning the substrate, a fourth step of forming a gate pad and a data pad by coating a conductive material on the insulating layer, and patterning the gate pad and the data pad; And a fifth step of photo-etching a part of the gate line formed in the vicinity of the auxiliary repair line by using the upper part of the auxiliary repair line as a mask to completely separate the lower end of the substrate. .
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