KR0135553B1 - Semiconductor type acceleration detecting device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 제조공정을 단순화하면서도 측정하고자 하는 가속도방향이외의 방향에 대한 감도를 감소시킬 수 있도록 한 반도체식 가속도 검출장치에 관한 것이다. 본 발명의 반도체식 가속도 검출장치는 반도체기판(10), 가속도를 힘으로 변환하기 위한 사각형상의 질량부(20), 질량부(20)의 각각의 모서리를 지지하는 빔(30), 각 빔(30)의 가장자리에 형성되어 각 빔(30)에 인가되는 응력을 저항값으로 변환하는 압저항체(R13-R16) 및 반도체기판(10)의 적소에 형성되며 소정의 저항값을 가지는 두개의 고정저항기를 구비하며, 대각선으로 대향하는 압저항체(R13,R16;R14,R15)를 직렬로 연결한 후에 대각선으로 대향하게 하고 각 고정저항기(2R;2R)를 대각선으로 대향하도록 각 직렬연결된 압저항체쌍(R13,R16;R14,R15)에 연결하여 하프브릿지(Half Bridge)회로를 구성하고 각 압저항제쌍(R13,R16;R14,R15) 및 각 고정저항기(2R;2R)의 접속점에서 출력(V1,V2)을 인출하도록 한 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a semiconductor acceleration detection apparatus which can reduce the sensitivity to a direction other than the acceleration direction to be measured while simplifying the manufacturing process. The semiconductor acceleration device of the present invention includes a semiconductor substrate 10, a rectangular mass portion 20 for converting acceleration into a force, a beam 30 supporting each corner of the mass portion 20, and each beam ( Piezoresistors R13-R16 formed at the edges of 30 and converting the stress applied to the respective beams 30 into resistance values, and two fixed resistors having a predetermined resistance value in place of the semiconductor substrate 10. Each of the series connected piezoresistors having diagonally opposed piezores (R13, R16; R14, R15) connected in series and facing each other diagonally and facing each of the fixed resistors (2R; 2R) diagonally; It is connected to R13, R16; R14, R15 to form a half bridge circuit, and the output (V1, R1, R16; R14, R15) and the output at the connection point of each of the fixed resistors (2R; 2R) It is characterized by drawing out V2).
Description
제1도는 종래의 반도체식 가속도 검출장치의 일실시예에 따른 평면도1 is a plan view according to an embodiment of a conventional semiconductor acceleration detection apparatus
제2도는 제1도에 도시한 반도체식 가속도 검출장치의 등가회로도2 is an equivalent circuit diagram of the semiconductor acceleration detection device shown in FIG.
제3도는 종래의 반도체식 가속도 검출장치의 다른 실시예에 따른 평면도3 is a plan view according to another embodiment of the conventional semiconductor acceleration detection apparatus
제4도는 제3도에 도시한 반도체식 가속도 검출장치의 등가회로도4 is an equivalent circuit diagram of the semiconductor acceleration detection device shown in FIG.
제5도는 본 발명에 따른 반도체식 가속도 검출장치의 평면도5 is a plan view of a semiconductor acceleration detection apparatus according to the present invention.
제6도는 제1도에서 I-I선을 취하여 본 단면도6 is a cross-sectional view taken along line I-I in FIG.
제7도는 제5도에 도시한 반도체식 가속도 검출장치의 등가회로도이다.FIG. 7 is an equivalent circuit diagram of the semiconductor acceleration detection device shown in FIG.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *
1,1',10...실리콘기판2,2',20...질량부1,1 ', 10 ... silicone substrate 2,2', 20 ... mass part
3,3',30...빔2R...고정저항3,3 ', 30 ... beam 2R ... fixed resistance
R1,R4...수직압저항체R2,R3,R5-R16...수평압저항체R1, R4 ... Vertical voltage resistorsR2, R3, R5-R16 ... Horizontal voltage resistors
본 발명은 반도체식 가속도 검출장치에 관한 것으로, 특히 제조공정을 단순화하면서도 측정하고자 하는 가속도방향이외의 방향에 대한 감도를 감소시킬 수 있도록 한 반도체식 가속도 검출장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor acceleration detection device, and more particularly, to a semiconductor acceleration detection device capable of reducing a sensitivity to a direction other than the acceleration direction to be measured while simplifying a manufacturing process.
가속도 검출장치는 차량의 전자제어 현가시스템(Electronic Control Suspension System)에서 필요한 제어를 수행하거나 또는 에어백(Air-Bag)의 작동시기를 결정하는데 활발하게 사용되고 있다.Acceleration detection device is actively used to perform the necessary control in the electronic control suspension system (Electronic Control Suspension System) of the vehicle or to determine the operation time of the air-bag (Air-Bag).
이러한 가속도 검출장치는 크게 기계식과 반도체식으로 대별되며, 반도체식은 다시 캔틸레버형(Cantilever Type)과 브릿지형(Bridge Type)으로 구별된다. 잘 알려진 바와 같이, 단결정반도체에 불순물을 확산하여 저항체를 형성하고 이렇게 형성된 저항체에 응력변형을 가하면 자항값이 변하는 현상이 발생하는데 이러한 현상을 압저항 효과(Piezo-Resistive Effect)라고 하며, 상기한 반도체식 가속도 검출장치는 모두 이러한 압저항효과를 응용하여 제조된다.Such acceleration detection apparatuses are roughly classified into mechanical and semiconductor types, and semiconductor types are classified into cantilever types and bridge types. As is well known, when a resistor is formed by diffusing impurities into a single crystal semiconductor and stress deformation is applied to the resistor thus formed, the magnetic resistance value changes. This phenomenon is referred to as a piezo-resistive effect. All types of acceleration sensors are manufactured by applying such piezoresistive effect.
제1도는 종래의 반도체식 가속도 검출장치의 일실시예에 따른 평면도이고, 제2도는 제1도에 도시한 반도체식 가속도 검출장치의 등가회로도이고, 제3도는 종래의 반도체식 가속도 검출장치의 다른 실시예에 따른 평면도이고, 제4도는 제3도에 도시한 반도체식 가속도 검출장치의 등가회로도이다.1 is a plan view according to an embodiment of a conventional semiconductor acceleration detection device, FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of the semiconductor acceleration detection device shown in FIG. 1, and FIG. 3 is another diagram of a conventional semiconductor acceleration detection device. 4 is an equivalent circuit diagram of the semiconductor acceleration detection apparatus shown in FIG.
제1도 및 제2도에 도시한 바와 같이, 종래의 반도체식 가속도 검출장치의 구조는 실리콘기판(1)과, 가속도를 힘으로 변환하기 위한 질량부(2)와, 상기 질량부(2)에 인가된 힘에 의해 변형이 일어나는 빔(beam;3) 및 상기 빔(3)의 가장자리에 위치하여 응력을 저항값으로 변환하는 압저항체(R1-R4)로 이루어진다. 상기 압저항체(R1-R4)중에서 대각선으로 마주보는 두개(R1,R4)는 인장응력에 대하여 저항값이 감소하는 수직압저항체이고 나머지 두개는 인장응력에 대하여 저항값이 증가하는 수평압저항체(R2,R3)이다. 상기한 구조를 가지는 종래의 반도체 검출장치에서, 외부의 가속도가 질량부(2)에 인가되면 이에 비례하여 힘이 발생하고 이렇게 발생된 힘이 빔(3)을 경유하여 그 가장자리에 형성된 압저항체(R1-R4)에 응력으로 작용함으로써 압저항체(R1-R4)의 저항값이 변경된다. 한편, 가속도 검출장치는 일방향, 예를 들어 Z축방향의 가속도만을 검출해야 하는데, 질량부(2)의 구조상 타축방향, 즉 X축방향 및 Y축방향의 가속도에도 응력이 발생하여 압저항체(R1-R4)의 저항값을 변경시킨다. 이를 제2도를 참조하여 좀 더 상세하게 설명하면, Z축방향의 가속도에 대해서는 수평압저항체(R2-R3)의 저항값은 증가하고, 수직압저항체(R1,R4)의 저항값은 감소하여 출력단자(V1,V2)간의 전위차가 유발되고, 이러한 전위차에 의거하여 가속도를 검출할 수가 있다. X축방향의 가속도에 대해서는 좌측의 압저항체(R1,R3)에는 인장응력이 가해지고 우측의 압저항체(R2,R4)에는 압축응력이 가해지는데, 이에 따라 상측의 압저항체(R1,R2)의 저항값은 감소하고 하측의 압저항체(R3,R4)의 저항값은 증가한다. 결과적으로, 출력단자(V1,V2)사이의 전위차가 존재하지 않게 되어 X축방향에 대한 가속도 성분은 자동으로 상쇄된다. Y축방행의 가속도에 대해서는 하측의 압저항체(R3,R4)에는 인장응력이 가해지고 상측의 압저항체(R1,R2)에는 압축응력이 가해지는데, 이에 따라 좌측의 압저항체(R1,R3)의 저항값은 증가하고, 우측의 압저항체(R2,R4)의 저항값은 감소한다. 결과적으로, 출력단자(V1,V2)사이의 전위차가 존재하지 않게 되어 Y축방향에 대한 가속도성분도 자동으로 상쇄된다.As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the structure of the conventional semiconductor acceleration detection device has a silicon substrate 1, a mass part 2 for converting the acceleration into a force, and the mass part 2 It consists of a beam (3) where deformation occurs by a force applied to it and piezo resistors (R1-R4) located at the edge of the beam (3) to convert stress into a resistance value. Two of the piezo resistors R1-R4 facing diagonally (R1, R4) is a vertical pressure resistor that the resistance value decreases with respect to the tensile stress and the other two horizontal pressure resistor (R2) the resistance value increases with respect to the tensile stress , R3). In the conventional semiconductor detection apparatus having the above-described structure, when an external acceleration is applied to the mass portion 2, a force is generated in proportion thereto, and the generated force is a piezoresistor formed at its edge via the beam 3 ( By acting as a stress on R1-R4), the resistance value of the piezoresistor R1-R4 is changed. On the other hand, the acceleration detection device should detect only the acceleration in one direction, for example, Z-axis direction, the stress is also generated in the acceleration in the other axis direction, that is, the X-axis direction and Y-axis direction in the structure of the mass portion 2, the piezoresistor R1 Change the resistance of R4). In more detail with reference to FIG. 2, for the acceleration in the Z-axis direction, the resistance values of the horizontal pressure resistors R2-R3 increase, and the resistance values of the vertical pressure resistors R1, R4 decrease. The potential difference between the output terminals V1 and V2 is induced, and the acceleration can be detected based on this potential difference. As for the acceleration in the X-axis direction, tensile stress is applied to the piezoelectric resistors R1 and R3 on the left side, and compressive stress is applied to the piezoelectric resistors R2 and R4 on the right side. The resistance value decreases and the resistance values of the lower piezoresistors R3 and R4 increase. As a result, there is no potential difference between the output terminals V1 and V2, and the acceleration component in the X-axis direction is automatically canceled out. As for the acceleration in the Y-axis direction, tensile stress is applied to the piezoelectric resistors R3 and R4 on the lower side, and compressive stress is applied to the piezoelectric resistors R1 and R2 on the upper side. The resistance value increases, and the resistance values of the piezo resistors R2 and R4 on the right side decrease. As a result, there is no potential difference between the output terminals V1 and V2, and the acceleration component in the Y-axis direction is also automatically canceled.
그러나, 상기한 구조의 가속도 검출장치에 따르면 수직압저항체(R1,R4)를 형성하기 위하여 빔의 폭을 증가시켜야 하기 때문에 감도가 떨어지는 단점이 있으며, 수직압저항체(R1,R4) 및 수평압저항체(R2,R3)간의 압저항계수의 차이때문에 출력특성이 비선형적으로 되는 이외에 오프셋(Offset)현상이 유발되는 문제점이 있었다. 이를 개선하기 위하여, 제3도에 도시한 바와 같이 각 빔(3')에 대하여 질량부(2')측으로 4개의 수평압저항체(R6,R7,R10,R11)를 형성시키고, 기판(1')측으로 4개의 또다른 수평압저항체(R5,R8,R9,R12)를 형성시킨 구조가 제안되어 있다. 상기한 구조의 가속도 검출장치는 Z축방향의 가속도에 대해서는 질량부(2')측의 수평압저항체(R6,R7,R10,R11)만으로 브릿지회로를 구성하여 가속도를 검출하고, 타축방향, 즉 X축방향 및 Y축방향에 대해서는 하측의 4개의 수평압저항체(R9-R12)만으로 제4도에 도시한 바와 같은 브릿지회로를 만들어 가속도를 검출하고 있다. 이에 의하면, 빔의 폭이 줄어 들고 타축방향의 가속도에 대하여 보상이 양호한 잇점이 있지만, 질량부측에 있는 압저항체에서 반도체기판에 형성된 패드(미도시)까지 인출되는 금속도선에도 응력이 주어지기 때문에 단선의 우려가 상존하며, 도선의 폭만큼의 빔폭이 요구되는 문제점이 있었다. 나아가, 기판측과 질량부측의 압저항체에 각각 주어지는 응력이 정확하게 반대가 되도록 위치를 선정하기가 까다로워서 비선형적인 출력특성 및 오프셋현상이 발생하는 문제점이 있었다.However, the acceleration detection device of the above structure has a disadvantage in that the sensitivity is inferior because the width of the beam must be increased in order to form the vertical resistance resistors R1 and R4, and the vertical resistance resistors R1 and R4 and the horizontal resistance resistor are reduced. Due to the difference in piezoelectric resistance coefficient between (R2, R3), the output characteristic is nonlinear, and there is a problem that an offset phenomenon is caused. To improve this, as shown in FIG. 3, four horizontal piezoresistors R6, R7, R10, and R11 are formed on the mass portion 2 'with respect to each beam 3', and the substrate 1 'is formed. A structure in which four other horizontal pressure resistors R5, R8, R9, and R12 are formed on the side of the circuit is proposed. The acceleration detection device having the above-described structure constitutes a bridge circuit using only the horizontal pressure resistors R6, R7, R10, and R11 on the mass portion 2 'side for acceleration in the Z-axis direction, and detects the acceleration. In the X-axis direction and the Y-axis direction, acceleration is detected by making a bridge circuit as shown in FIG. 4 using only four horizontal pressure resistors R9-R12 on the lower side. This reduces the width of the beam and provides good compensation for acceleration in the other axis. However, since the stress is applied to the metal lead drawn from the piezoresistive element on the mass side to the pad (not shown) formed on the semiconductor substrate, the disconnection is caused. There is a concern that there is a problem that the beam width as much as the width of the conductor is required. Furthermore, it is difficult to select a position such that the stresses applied to the piezoresistors on the substrate side and the mass portion side are exactly opposite, thereby causing nonlinear output characteristics and offset phenomenon.
본 발명은 전술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 제조공정을 단순화시키면서도 측정하고자 하는 가속도방향이외의 방향에 대한 감도를 감소시킬 수 있도록 한 반도체 가속도 검출장치를 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object thereof is to provide a semiconductor acceleration detection device capable of reducing the sensitivity to a direction other than the acceleration direction to be measured while simplifying the manufacturing process.
전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체식 가속도 검출장치는 반도체기판, 가속도를 힘으로 변환하기 위한 사각형상의 질량부, 상기 질량부의 각각의 모서리를 지지하는 빔, 상기 각 빔의 가장자리에 형성되어 상기 각 빔에 인가되는 응력을 저항값으로 변환하는 압저항체 및 상기 반도체기판의 적소에 형성되며 소정의 저항값을 가지는 고정저항기를 구비하며, 대각선으로 대향하는 압저항체를 직렬로 연결한 후에 대각선으로 대향하게 하고 상기 각 고정저항기를 대각선으로 대향하도록 상기 각 직렬연결된 압저항체에 연결하여 하프브릿지회로를 구성하고 상기 압저항체와 고정저항기의 접속점에서 출력을 인출하도록 한 것을 특징으로 한다.The semiconductor acceleration detection device of the present invention for achieving the above object is formed on a semiconductor substrate, a rectangular mass portion for converting the acceleration into a force, a beam supporting each corner of the mass portion, the edge of each beam A piezo resistor for converting the stress applied to each beam into a resistance value and a fixed resistor formed in place of the semiconductor substrate and having a predetermined resistance value, the diagonally opposite piezo resistors connected in series and then diagonally Opposed and connected to each of the series connected piezoresistors so as to face each of the fixed resistors diagonally to form a half-bridge circuit and to draw the output at the connection point of the piezoresistor and the fixed resistors.
전술한 구조를 가지는 본 발명의 반도체식 가속도 검출장치에서 상기 각 압저항체는 인장응력에 대하여 저항값이 증가하는 수평압저항체로 형성하는 것이 양호하다.In the semiconductor type acceleration detection apparatus of the present invention having the above-described structure, it is preferable that each piezoresistor is formed of a horizontal piezoresistor whose resistance value increases with respect to tensile stress.
이하에는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 반도체식 가속도 검출장치의 양호한 실시예에 따른 구성을 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the configuration according to a preferred embodiment of the semiconductor acceleration detection apparatus of the present invention.
제5도는 본 발명에 따른 반도체식 가속도 검출장치의 평면도이고, 제6도는 제1도에서 I-I선을 취하여 본 단면도이다.FIG. 5 is a plan view of a semiconductor acceleration detection apparatus according to the present invention, and FIG. 6 is a sectional view taken along line I-I in FIG.
제5도 및 제6도에 도시한 바와 같이, 본 발명의 반도체식 가속도 검출장치의 구조는 실리콘기판(10)과, 가속도를 힘으로 변환하기 위한 사각형상의 질량부(20)와, 질량부(20)의 각 모서리를 지지하며 질량부(20)에 인가된 힘에 의해 변형이 일어나는 빔(30)과, 빔(30)의 가장자리에 위치하여 각 빔(30)에 인가된 응력을 저항값으로 변환하는 압저항체(R13-R16) 및 반도체기판(10)의 적소에 형성되며 일정한 저항값을 가지는 2개의 고압저항기(미도시)로 이루어진다. 도시하지는 않았지만, 반도체기판(10)상에는 상기 각 압저항체 및 고정저항기를 후술하는 바와 같이 연결하기 위한 회로 배선들이 형성된다.As shown in FIGS. 5 and 6, the structure of the semiconductor type acceleration detection apparatus of the present invention is a silicon substrate 10, a rectangular mass portion 20 for converting the acceleration into a force, and a mass portion ( 20 to support each corner of the beam 30 is deformed by the force applied to the mass portion 20, and the stress applied to each beam 30 is located at the edge of the beam 30 to the resistance value It consists of two high-voltage resistors (not shown) formed in place of the piezo resistors R13-R16 and the semiconductor substrate 10 to be converted. Although not shown, circuit wirings are formed on the semiconductor substrate 10 to connect the respective piezoresistors and the fixed resistors as will be described later.
제7도는 제5도에 도시한 반도체식 가속도 검출장치의 등가회로도이다. 제7도에 도시한 바와 같이, 본 발명의 반도체식 가속도 검출장치의 등가회로는 대각선으로 대향하는 상기 각 압저항체(R13,R16;R14,R15)를 직렬로 연결하고, 각 고정저항기(2R;2R)도 대각선으로 대향하도록 직렬연결된 압저항체쌍(R13,R16;R14,R15)에 연결하여 전체적으로 하프브릿지(Half Bridge)형태를 이루도록 결합한다. 나아가, 출력단자(V1,V2)는 각 압저항체쌍(R13,R16;R14,R15)과 각 고정저항기(2R;2R)의 접속점에서 인출할 수 있게 한다. 상기한 구성에서, 각 압저항체(R13-R16)는 인장응력에 대하여 저항값이 증가하는 수평압저항체로 구현하며, 또한 응력이 인가되지 않은 상태에서는 동일한 값을 가지도록 형성한다. 나아가, 상기 각 고정저항기(2R;2R)는 응력이 인가되지 않은 상태에서의 각 압저항체(R13-R16)가 가지는 저항값의 두배의 값을 가지도록 형성한다.FIG. 7 is an equivalent circuit diagram of the semiconductor acceleration detection device shown in FIG. As shown in FIG. 7, the equivalent circuit of the semiconductor acceleration detection apparatus of the present invention connects the piezoresistors R13, R16, R14, and R15 that are diagonally opposed in series, and each of the fixed resistors 2R; 2R) is also connected to the piezo resistor pairs R13, R16; R14, and R15 connected in series to face diagonally, so as to form a half bridge as a whole. Furthermore, the output terminals V1 and V2 can be drawn out at the connection point of each piezoresistor pair R13, R16; R14, R15 and each fixed resistor 2R; 2R. In the above configuration, each piezoresistor R13-R16 is implemented as a horizontal piezoresistor whose resistance value increases with respect to the tensile stress, and is formed to have the same value in a state where no stress is applied. Furthermore, each of the fixed resistors 2R and 2R is formed to have a value twice the resistance of each piezoresistor R13 to R16 in a state where no stress is applied.
이하에는 본 발명의 반도체식 가속도 검출장치의 동작을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the operation of the semiconductor acceleration detection apparatus of the present invention will be described in detail.
먼저 Z축방향의 가속도성분에 대해서 살펴보면, 모든 수평압저항체(R13-R16)에 대하여 압축응력이 작용하게 되어 저항값이 동일한 크기 만큼 감소되고, 이에 따라 출력단자(V1,V2)사이에는 가속도에 비례하는 전위차가 발생된다.First, the acceleration component in the Z-axis direction, the compressive stress is applied to all the horizontal pressure resistor (R13-R16) to reduce the resistance value by the same magnitude, accordingly the acceleration between the output terminals (V1, V2) A proportional potential difference is generated.
한편, X축방향의 가속도성분에 대해서는 좌측의 압저항체(R13,R15)에는 인장응력이 가해지고 우측의 압저항체(R14,R16)에는 압축응력이 가해지는데, 이에 따라 좌측의 압저항체(R13,R15)의 저항값은 증가하고 우측의 압저항체(R14,R16)의 저항값은 감소한다. 결과적으로, 제7도의 하프브릿지회로에서는 직렬연결된 압저항체(R13,R16)의 저항값의 증감분이 상쇄되어 전체적인 저항값에는 변화가 없고, 나머지의 압저항체(R14,R15)의 저항값의 증감분도 상쇄되어 전체적인 저항값은 변하지 않게 된다. 결과적으로, 출력단자(V1,V2)간에는 전위차가 존재하지 않게 된다. Y축방향의 가속도성분에 대해서는 하측의 압저항체(R15,R16)에는 인장응력이 가해지고 상측의 압저항체(R13,R14)에는 압축응력이 가해지는데, 이에 따라 하측의 압저항체(R15,R16)의 저항값은 증가하고 상측의 압저항체(R13,R14)의 저항값은 감소한다. 결과적으로, 제7도의 하프브릿지회로에서는 직렬연결된 압저항체(R13,R16)의 저항값의 증감분이 상쇄되어 전체적인 저항값에는 변화가 없고, 나머지의 압저항체(R14,R15)의 저항값의 증감분도 상쇄되어 전체적인 저항값은 변하지 않게 된다. 결과적으로, 출력단자(V1,V2)간에는 전위차가 존재하지 않게 된다.On the other hand, with respect to the acceleration component in the X-axis direction, tensile stress is applied to the piezoelectric resistors R13 and R15 on the left side, and compressive stress is applied to the piezoelectric resistors R14 and R16 on the right side. The resistance value of R15) increases and the resistance values of the piezo resistors R14 and R16 on the right side decrease. As a result, in the half bridge circuit of FIG. 7, the increase / decrease of the resistance value of the piezo resistors R13 and R16 connected in series is canceled out, so that the overall resistance value does not change, and the increase / decrease of the resistance values of the remaining piezor resistors R14 and R15 is not changed. Offset the overall resistance value does not change. As a result, there is no potential difference between the output terminals V1 and V2. For the acceleration component in the Y-axis direction, tensile stress is applied to the piezoelectric resistors R15 and R16 on the lower side, and compressive stress is applied to the piezoelectric resistors R13 and R14 on the upper side. The resistance value of increases and the resistance values of the piezo resistors R13 and R14 on the upper side decrease. As a result, in the half bridge circuit of FIG. 7, the increase / decrease of the resistance value of the piezo resistors R13 and R16 connected in series is canceled out, so that the overall resistance value does not change, and the increase / decrease of the resistance values of the remaining piezor resistors R14 and R15 is not changed. Offset the overall resistance value does not change. As a result, there is no potential difference between the output terminals V1 and V2.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명의 반도체식 차량속도 검출장치에 따르면, 측정하고자 하는 방향이외의 방향에 대한 가속도성분을 효과적으로 감소시키는 효과가 있다. 나아가, 수평압저항체만을 사용하고 반도체기판쪽으로 압저항체를 위치시킴으로써 빔의 폭을 최소화하는 외에 금속도선을 간단하게 형성할 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the semiconductor vehicle speed detecting apparatus of the present invention, there is an effect of effectively reducing the acceleration component in a direction other than the direction to be measured. Furthermore, by using only the horizontal piezoresistor and placing the piezoresistors toward the semiconductor substrate, it is possible to minimize the width of the beam and to easily form the metal conductors.
Claims (2)
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KR1019950016943A KR0135553B1 (en) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | Semiconductor type acceleration detecting device |
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KR1019950016943A KR0135553B1 (en) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | Semiconductor type acceleration detecting device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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KR970002321A KR970002321A (en) | 1997-01-24 |
KR0135553B1 true KR0135553B1 (en) | 1998-05-15 |
Family
ID=19417928
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950016943A KR0135553B1 (en) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | Semiconductor type acceleration detecting device |
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KR (1) | KR0135553B1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160110747A (en) | 2015-03-11 | 2016-09-22 | 에이에이씨 어쿠스틱 테크놀로지스 (심천) 컴퍼니 리미티드 | Imaging Lens System |
-
1995
- 1995-06-22 KR KR1019950016943A patent/KR0135553B1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160110747A (en) | 2015-03-11 | 2016-09-22 | 에이에이씨 어쿠스틱 테크놀로지스 (심천) 컴퍼니 리미티드 | Imaging Lens System |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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KR970002321A (en) | 1997-01-24 |
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