JPWO2021061922A5 - - Google Patents
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Description
開示及び請求される対象がある具体性の程度で説明及び例示されたが、その開示は、例示のためにのみされたものであると理解され、条件及び工程の順序における多くの変更が、開示及び請求される対象の趣旨及び範囲から逸脱することなく、当業者によって構築され得ると理解される。
本発明の実施形態としては、以下の実施形態を挙げることができる。
（付記１）
マイクロエレクトロニクス装置又は半導体基材を洗浄するための組成物であって、
（ｉ）少なくとも１つのアルカノールアミン；
（ｉｉ）少なくとも１つのヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミンの誘導体又はそれらの混合物；
（ｉｉｉ）少なくとも２つのカルボン酸基を有する、少なくとも１つの多官能基有機酸；及び
（ｉｖ）水
を含む、組成物。
（付記２）
マイクロエレクトロニクス装置又は半導体基材を洗浄するための組成物であって、
（ｉ）少なくとも１つのアルカノールアミン；
（ｉｉ）少なくとも１つのヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミンの誘導体又はそれらの混合物；
（ｉｉｉ）少なくとも２つのカルボン酸基を有する、少なくとも１つの多官能基有機酸；及び
（ｉｖ）水
から本質的になる、組成物。
（付記３）
マイクロエレクトロニクス装置又は半導体基材を洗浄するための組成物であって、
（ｉ）少なくとも１つのアルカノールアミン；
（ｉｉ）少なくとも１つのヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミンの誘導体又はそれらの混合物；
（ｉｉｉ）少なくとも２つのカルボン酸基を有する、少なくとも１つの多官能基有機酸；及び
（ｉｖ）水
からなる、組成物。
（付記４）
前記少なくとも１つのアルカノールアミンが、少なくとも２つのアルカノールアミンを含む、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記５）
前記少なくとも１つのアルカノールアミンが、少なくとも３つのアルカノールアミンを含む、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記６）
前記少なくとも１つのアルカノールアミンが、２つのアルカノールアミンからなる、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記７）
前記少なくとも１つのアルカノールアミンが、３つのアルカノールアミンからなる、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記８）
前記少なくとも１つのアルカノールアミンが、以下の構造：
（ａ）水素、
（ｂ１）Ｃ
1
～Ｃ
20
の直鎖のアルキル基、
（ｂ２）Ｃ
4
～Ｃ
20
の分岐鎖のアルキル基、
（ｂ３）Ｃ
3
～Ｃ
20
の環状のアルキル基、
（ｃ）置換されていないＣ
2
～Ｃ
20
のアルキルエーテル基、
（ｄ）Ｃ
1
～Ｃ
20
のアルカノール基
（ｅ）－ＯＨ基で置換されたＣ
2
～Ｃ
20
のアルキルエーテル基
からそれぞれ独立に選択され、Ｒ
1
、Ｒ
2
及びＲ
3
のうち少なくとも１つが（ｄ）又は（ｅ）でなければならない）を有する、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記９）
前記少なくとも１つのアルカノールアミンが、（ｃ）又は（ｅ）を含む、付記８に記載の組成物。
（付記１０）
前記少なくとも１つのアルカノールアミンが、モノエタノールアミン（ＭＥＡ）、アミノエトキシエタノール、メタノールアミン、Ｎ－メチルエタノールアミン、Ｎ－エチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ－ジエチルエタノールアミン、Ｎ－メチルジエタノールアミン、Ｎ－エチルジエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン（ＴＥＡ）、ターシャリーブチルジエタノールアミン、イソプロパノールアミン、２－アミノ－１－プロパノール、３－アミノ－１－プロパノール、２－アミノ－１－ブタノール、イソブタノールアミン、２－アミノ－２－エトキシプロパノール、２－アミノ－２－エトキシエタノール及びそれらの混合物から選択される、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記１１）
前記少なくとも１つのアルカノールアミンが、アミノエトキシエタノール、２－アミノ－２－エトキシプロパノール、２－アミノ－２－エトキシエタノール及びそれらの混合物から選択される、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記１２）
前記少なくとも１つのアルカノールアミンが、モノエタノールアミン、イソプロパノールアミン、２－（２－アミノエトキシ）エタノールを含む、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記１３）
前記少なくとも１つのアルカノールアミンが、モノエタノールアミン、イソプロパノールアミン、２－（２－アミノエトキシ）エタノールから本質的になる、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記１４）
前記少なくとも１つのアルカノールアミンが、モノエタノールアミン、イソプロパノールアミン、２－（２－アミノエトキシ）エタノールからなる、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記１５）
前記少なくとも１つのヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミンの誘導体又はそれらの混合物が、Ｎ－イソプロピルヒドロキシルアミン、Ｎ－メチルヒドロキシルアミン、ジメチルヒドロキシルアミン、Ｎ－エチルヒドロキシルアミン、ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ－プロピルヒドロキシルアミン、ジプロピルヒドロキシルアミン、Ｎ－ｔｅｒｔ－ブチル－ヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｏ－ジメチルヒドロキシルアミン、Ｏ－メチルヒドロキシルアミン、Ｏ－エチルヒドロキシルアミン、Ｏ－プロピルヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミン硫酸塩、ヒドロキシルアミン硝酸塩、ヒドロキシルアミン塩酸塩、Ｎ－ｔｅｒｔ－ブチルヒドロキシルアミン塩酸塩、ヒドロキシルアミンリン酸塩、ヒドロキシルアミン酢酸塩、Ｎ－（ｔｅｒｔ－ブチル）ヒドロキシルアミン酢酸塩、ヒドロキシルアミンクエン酸塩、ヒドロキシルアミン、過塩素酸塩及びＮ－メチルヒドロキシルアミン塩酸塩のうち１つ又は複数を含む、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記１６）
前記少なくとも１つのヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミンの誘導体又はそれらの混合物が、ヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミン硫酸塩及びヒドロキシルアミンリン酸塩のうち１つ又は複数を含む、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記１７）
前記少なくとも１つのヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミンの誘導体又はそれらの混合物が、ヒドロキシルアミンを含む、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記１８）
前記少なくとも１つのヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミンの誘導体又はそれらの混合物が、ヒドロキシルアミンから本質的になる、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記１９）
前記少なくとも１つのヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミンの誘導体又はそれらの混合物が、ヒドロキシルアミンからなる、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記２０）
前記少なくとも１つのヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミンの誘導体又はそれらの混合物が、ヒドロキシルアミン硫酸塩を含む、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記２１）
前記少なくとも１つのヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミンの誘導体又はそれらの混合物が、ヒドロキシルアミン硫酸塩から本質的になる、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記２２）
前記少なくとも１つのヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミンの誘導体又はそれらの混合物が、ヒドロキシルアミン硫酸塩からなる、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記２３）
前記少なくとも１つの多官能基有機酸が、シュウ酸、マロン酸、リンゴ酸、酒石酸、コハク酸、クエン酸、（エチレンジニトリロ）テトラ酢酸（ＥＤＴＡ）、ブチレンジアミンテトラ酢酸、（１，２－シクロヘキシレンジニトリロ－）テトラ酢酸 （ＣｙＤＴＡ）、ジエチレントリアミンペンタ酢酸（ＤＥＴＰＡ）、エチレンジアミンテトラプロピオン酸、（ヒドロキシエチル）エチレンジアミントリ酢酸（ＨＥＤＴＡ）、トリエチレンテトラアミンヘキサ酢酸（ＴＴＨＡ）、１，３－ジアミノ－２－ヒドロキシプロパン－Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラ酢酸（ＤＨＰＴＡ）、メチルイミノジ酢酸、プロピレンジアミンテトラ酢酸、ニトリロトリ酢酸（ＮＴＡ）及びフタル酸のうち１つ又は複数である、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記２４）
前記少なくとも１つの多官能基有機酸が、クエン酸、ＥＤＴＡ及びＣｙＤＴＡのうち１つ又は複数である、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記２５）
前記少なくとも１つの多官能基有機酸が、クエン酸を含む、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記２６）
前記少なくとも１つの多官能基有機酸が、クエン酸から本質的になる、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記２７）
前記少なくとも１つの多官能基有機酸が、クエン酸からなる、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記２８）
前記少なくとも１つの多官能基有機酸が、ＥＤＴＡを含む、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記２９）
前記少なくとも１つの多官能基有機酸が、ＥＤＴＡから本質的になる、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記３０）
前記少なくとも１つの多官能基有機酸が、ＥＤＴＡからなる、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記３１）
（ｖ）少なくとも１つの腐食抑制剤をさらに含む、付記１～３のいずれか１項に記載の組成物。
（付記３２）
前記少なくとも１つの腐食抑制剤が、フェノール、フェノールの誘導体若しくはそれらの混合物、トリアゾール若しくはトリアゾールの混合物、フェノールの混合物、又はフェノールとトリアゾールとの誘導体から選択される１つ又は複数である、付記３１に記載の組成物。
（付記３３）
前記少なくとも１つの腐食抑制剤が、カテコール及び没食子酸のうち１つ又は両方を含む、付記３１に記載の組成物。
（付記３４）
前記少なくとも１つの腐食抑制剤が、カテコール及び没食子酸のうち１つ又は両方から本質的になる、付記３１に記載の組成物。
（付記３５）
前記少なくとも１つの腐食抑制剤が、カテコール及び没食子酸のうち１つ又は両方からなる、付記３１に記載の組成物。
（付記３６）
前記少なくとも１つの腐食抑制剤が、カテコール及び没食子酸を含む、付記３１に記載の組成物。
（付記３７）
前記少なくとも１つの腐食抑制剤が、カテコール及び没食子酸から本質的になる、付記３１に記載の組成物。
（付記３８）
前記少なくとも１つの腐食抑制剤が、カテコール及び没食子酸からなる、付記３１に記載の組成物。
（付記３９）
前記少なくとも１つの腐食抑制剤が、カテコールを含む、付記３１に記載の組成物。
（付記４０）
前記少なくとも１つの腐食抑制剤が、カテコールから本質的になる、付記３１に記載の組成物。
（付記４１）
前記少なくとも１つの腐食抑制剤が、カテコールからなる、付記３１に記載の組成物。
（付記４２）
前記少なくとも１つの腐食抑制剤が、没食子酸を含む、付記３１に記載の組成物。
（付記４３）
前記少なくとも１つの腐食抑制剤が、没食子酸から本質的になる、付記３１に記載の組成物。
（付記４４）
前記少なくとも１つの腐食抑制剤が、没食子酸からなる、付記３１に記載の組成物。
（付記４５）
（ａ）（ｉ）前記少なくとも３つのアルカノールアミンが、モノエタノールアミン、イソプロパノールアミン及び２－（２－アミノエトキシ）エタノールを含み；
（ｂ）（ｉｉ）前記少なくとも１つのヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミンの誘導体又はそれらの混合物が、ヒドロキシルアミン及びヒドロキシルアミン硫酸塩のうち１つを含み；
（ｃ）（ｉｉｉ）前記少なくとも２つのカルボン酸基を有する、少なくとも１つの多官能基有機酸が、クエン酸を含み；かつ
（ｄ）（ｖ）前記少なくとも１つの腐食抑制剤が、カテコール及び没食子酸のうち少なくとも１つを含む、付記３１に記載の組成物。
（付記４６）
おおよそ９．５～おおよそ１０．６のｐＨを有する、付記４５に記載の組成物。
（付記４７）
おおよそ１０のｐＨを有する、付記４５に記載の組成物。
（付記４８）
半導体基材を洗浄する方法であって、
（ｉ）前記基材を、付記１～４７のいずれか１項に記載の組成物と接触させる工程；及び
（ｉｉ）前記基材をリンスする工程
を含む、方法。
Although the disclosed and claimed subject matter has been described and illustrated with a certain degree of specificity, it is understood that the disclosure has been made by way of example only, and that many changes in terms and order of steps may be incorporated into the disclosure. and can be constructed by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the claimed subject matter.
Embodiments of the present invention include the following embodiments.
(Additional note 1)
A composition for cleaning microelectronic devices or semiconductor substrates, the composition comprising:
(i) at least one alkanolamine;
(ii) at least one hydroxylamine, a derivative of hydroxylamine or a mixture thereof;
(iii) at least one polyfunctional organic acid having at least two carboxylic acid groups; and
(iv) water
A composition comprising.
(Additional note 2)
A composition for cleaning microelectronic devices or semiconductor substrates, the composition comprising:
(i) at least one alkanolamine;
(ii) at least one hydroxylamine, a derivative of hydroxylamine or a mixture thereof;
(iii) at least one polyfunctional organic acid having at least two carboxylic acid groups; and
(iv) water
The composition consists essentially of:
(Additional note 3)
A composition for cleaning microelectronic devices or semiconductor substrates, the composition comprising:
(i) at least one alkanolamine;
(ii) at least one hydroxylamine, a derivative of hydroxylamine or a mixture thereof;
(iii) at least one polyfunctional organic acid having at least two carboxylic acid groups; and
(iv) water
A composition consisting of.
(Additional note 4)
The composition according to any one of clauses 1 to 3, wherein the at least one alkanolamine comprises at least two alkanolamines.
(Appendix 5)
The composition according to any one of clauses 1 to 3, wherein the at least one alkanolamine comprises at least three alkanolamines.
(Appendix 6)
The composition according to any one of appendices 1 to 3, wherein the at least one alkanolamine consists of two alkanolamines.
(Appendix 7)
Composition according to any one of appendices 1 to 3, wherein the at least one alkanolamine consists of three alkanolamines.
(Appendix 8)
The at least one alkanolamine has the following structure:
(a) Hydrogen,
(b1) C 1 to C 20 straight chain alkyl group,
(b2) C 4 to C 20 branched alkyl group,
(b3) a C 3 to C 20 cyclic alkyl group,
(c) an unsubstituted C 2 -C 20 alkyl ether group;
(d) C 1 to C 20 alkanol group
(e) C 2 to C 20 alkyl ether group substituted with -OH group
and at least one of R 1 , R 2 and R 3 must be (d) or (e).
(Appendix 9)
8. The composition of clause 8, wherein the at least one alkanolamine comprises (c) or (e).
(Appendix 10)
The at least one alkanolamine is monoethanolamine (MEA), aminoethoxyethanol, methanolamine, N-methylethanolamine, N-ethylethanolamine, N,N-dimethylethanolamine, N,N-diethylethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, diethanolamine, triethanolamine (TEA), tertiary-butyldiethanolamine, isopropanolamine, 2-amino-1-propanol, 3-amino-1-propanol, 2-amino-1-butanol , isobutanolamine, 2-amino-2-ethoxypropanol, 2-amino-2-ethoxyethanol and mixtures thereof.
(Appendix 11)
According to any one of appendices 1 to 3, the at least one alkanolamine is selected from aminoethoxyethanol, 2-amino-2-ethoxypropanol, 2-amino-2-ethoxyethanol and mixtures thereof. Composition.
(Appendix 12)
The composition according to any one of appendices 1 to 3, wherein the at least one alkanolamine comprises monoethanolamine, isopropanolamine, 2-(2-aminoethoxy)ethanol.
(Appendix 13)
Composition according to any one of appendices 1 to 3, wherein the at least one alkanolamine consists essentially of monoethanolamine, isopropanolamine, 2-(2-aminoethoxy)ethanol.
(Appendix 14)
The composition according to any one of appendices 1 to 3, wherein the at least one alkanolamine consists of monoethanolamine, isopropanolamine, 2-(2-aminoethoxy)ethanol.
(Appendix 15)
The at least one hydroxylamine, a derivative of hydroxylamine or a mixture thereof is N-isopropylhydroxylamine, N-methylhydroxylamine, dimethylhydroxylamine, N-ethylhydroxylamine, diethylhydroxylamine, N-propylhydroxylamine, dimethylhydroxylamine, Propylhydroxylamine, N-tert-butyl-hydroxylamine, N,O-dimethylhydroxylamine, O-methylhydroxylamine, O-ethylhydroxylamine, O-propylhydroxylamine, hydroxylamine sulfate, hydroxylamine nitrate, hydroxylamine hydrochloride, N-tert-butylhydroxylamine hydrochloride, hydroxylamine phosphate, hydroxylamine acetate, N-(tert-butyl)hydroxylamine acetate, hydroxylamine citrate, hydroxylamine, perchlorate and The composition according to any one of appendices 1 to 3, comprising one or more of N-methylhydroxylamine hydrochloride.
(Appendix 16)
According to any one of appendices 1 to 3, wherein the at least one hydroxylamine, a derivative of hydroxylamine, or a mixture thereof comprises one or more of hydroxylamine, hydroxylamine sulfate, and hydroxylamine phosphate. Composition of.
(Appendix 17)
Composition according to any one of clauses 1 to 3, wherein the at least one hydroxylamine, derivative of hydroxylamine or mixture thereof comprises hydroxylamine.
(Appendix 18)
Composition according to any one of appendices 1 to 3, wherein the at least one hydroxylamine, derivative of hydroxylamine or mixture thereof consists essentially of hydroxylamine.
(Appendix 19)
Composition according to any one of appendices 1 to 3, wherein the at least one hydroxylamine, derivative of hydroxylamine or mixture thereof consists of hydroxylamine.
(Additional note 20)
Composition according to any one of clauses 1 to 3, wherein the at least one hydroxylamine, derivative of hydroxylamine or mixture thereof comprises hydroxylamine sulfate.
(Additional note 21)
Composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the at least one hydroxylamine, derivative of hydroxylamine or mixture thereof consists essentially of hydroxylamine sulfate.
(Additional note 22)
Composition according to any one of appendices 1 to 3, wherein the at least one hydroxylamine, derivative of hydroxylamine or mixture thereof consists of hydroxylamine sulfate.
(Additional note 23)
The at least one polyfunctional organic acid may include oxalic acid, malonic acid, malic acid, tartaric acid, succinic acid, citric acid, (ethylenedinitrilo)tetraacetic acid (EDTA), butylene diaminetetraacetic acid, (1,2-cyclohexyl acid), silenedinitrilo-)tetraacetic acid (CyDTA), diethylenetriaminepentaacetic acid (DETPA), ethylenediaminetetrapropionic acid, (hydroxyethyl)ethylenediaminetriacetic acid (HEDTA), triethylenetetraaminehexaacetic acid (TTHA), 1,3-diamino- Supplementary notes 1 to 3, which are one or more of 2-hydroxypropane-N,N,N',N'-tetraacetic acid (DHPTA), methyliminodiacetic acid, propylenediaminetetraacetic acid, nitrilotriacetic acid (NTA), and phthalic acid The composition according to any one of the above.
(Additional note 24)
The composition according to any one of appendices 1 to 3, wherein the at least one polyfunctional organic acid is one or more of citric acid, EDTA, and CyDTA.
(Additional note 25)
The composition according to any one of appendices 1 to 3, wherein the at least one polyfunctional organic acid comprises citric acid.
(Additional note 26)
Composition according to any one of appendices 1 to 3, wherein the at least one polyfunctional organic acid consists essentially of citric acid.
(Additional note 27)
The composition according to any one of appendices 1 to 3, wherein the at least one polyfunctional organic acid consists of citric acid.
(Additional note 28)
The composition according to any one of appendices 1 to 3, wherein the at least one polyfunctional organic acid comprises EDTA.
(Additional note 29)
Composition according to any one of appendices 1 to 3, wherein the at least one polyfunctional organic acid consists essentially of EDTA.
(Additional note 30)
The composition according to any one of appendices 1 to 3, wherein the at least one polyfunctional organic acid consists of EDTA.
(Appendix 31)
(v) The composition according to any one of appendices 1 to 3, further comprising at least one corrosion inhibitor.
(Appendix 32)
According to appendix 31, the at least one corrosion inhibitor is one or more selected from phenol, a derivative of phenol or a mixture thereof, a triazole or a mixture of triazoles, a mixture of phenols, or a derivative of phenol and triazole. Compositions as described.
(Appendix 33)
32. The composition of clause 31, wherein the at least one corrosion inhibitor comprises one or both of catechol and gallic acid.
(Appendix 34)
32. The composition of clause 31, wherein the at least one corrosion inhibitor consists essentially of one or both of catechol and gallic acid.
(Appendix 35)
32. The composition of clause 31, wherein the at least one corrosion inhibitor consists of one or both of catechol and gallic acid.
(Appendix 36)
32. The composition of clause 31, wherein the at least one corrosion inhibitor comprises catechol and gallic acid.
(Additional note 37)
32. The composition of clause 31, wherein the at least one corrosion inhibitor consists essentially of catechol and gallic acid.
(Appendix 38)
32. The composition of clause 31, wherein the at least one corrosion inhibitor consists of catechol and gallic acid.
(Appendix 39)
32. The composition of clause 31, wherein the at least one corrosion inhibitor comprises catechol.
(Additional note 40)
32. The composition of clause 31, wherein the at least one corrosion inhibitor consists essentially of catechol.
(Appendix 41)
32. The composition of clause 31, wherein the at least one corrosion inhibitor consists of catechol.
(Additional note 42)
32. The composition of clause 31, wherein the at least one corrosion inhibitor comprises gallic acid.
(Appendix 43)
32. The composition of clause 31, wherein the at least one corrosion inhibitor consists essentially of gallic acid.
(Appendix 44)
32. The composition of clause 31, wherein the at least one corrosion inhibitor consists of gallic acid.
(Additional note 45)
(a) (i) the at least three alkanolamines include monoethanolamine, isopropanolamine and 2-(2-aminoethoxy)ethanol;
(b)(ii) said at least one hydroxylamine, derivative of hydroxylamine, or mixture thereof comprises one of hydroxylamine and hydroxylamine sulfate;
(c)(iii) the at least one polyfunctional organic acid having at least two carboxylic acid groups comprises citric acid; and
(d)(v) The composition of Clause 31, wherein the at least one corrosion inhibitor comprises at least one of catechol and gallic acid.
(Appendix 46)
46. The composition of claim 45, having a pH of approximately 9.5 to approximately 10.6.
(Additional note 47)
46. The composition of claim 45, having a pH of approximately 10.
(Additional note 48)
A method of cleaning a semiconductor substrate, the method comprising:
(i) contacting the substrate with the composition according to any one of appendices 1 to 47; and
(ii) Rinsing the base material
including methods.
Claims (21)
（ｉ）少なくとも１つのアルカノールアミン；
（ｉｉ）少なくとも１つのヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミンの誘導体又はそれらの混合物；
（ｉｉｉ）少なくとも２つのカルボン酸基を有する、少なくとも１つの多官能基有機酸；及び
（ｉｖ）水
を含む、組成物。 A composition for cleaning microelectronic devices or semiconductor substrates, the composition comprising:
(i) at least one alkanolamine;
(ii) at least one hydroxylamine, a derivative of hydroxylamine or a mixture thereof;
(iii) at least one polyfunctional organic acid having at least two carboxylic acid groups; and (iv) water.
（ｂ）（ｉｉ）前記少なくとも１つのヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミンの誘導体又はそれらの混合物が、ヒドロキシルアミン及びヒドロキシルアミン硫酸塩のうち１つを含み；
（ｃ）（ｉｉｉ）前記少なくとも２つのカルボン酸基を有する、少なくとも１つの多官能基有機酸が、クエン酸を含み；かつ
（ｄ）（ｖ）前記少なくとも１つの腐食抑制剤が、カテコール及び没食子酸のうち少なくとも１つを含む、請求項１５に記載の組成物。 (a)(i) the at least three alkanolamines include monoethanolamine, isopropanolamine and 2-(2-aminoethoxy)ethanol;
(b)(ii) said at least one hydroxylamine, derivative of hydroxylamine, or mixture thereof comprises one of hydroxylamine and hydroxylamine sulfate;
(c) (iii) said at least one polyfunctional organic acid having at least two carboxylic acid groups comprises citric acid; and (d) (v) said at least one corrosion inhibitor comprises catechol and gallic acid. 16. The composition of claim 15 , comprising at least one of acids.
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