JPWO2021001566A5

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Publication number: JPWO2021001566A5
Application number: JP2021577538A
Authority: JP
Publication date: 2023-07-11

Claims

エアロゾル発生システムを制御する方法であって、前記システムが、
エアロゾル発生装置であって、
エアロゾル形成基体を受容するように構成された装置空洞であって、近位端と、前記近位端の反対側の遠位端とを有し、前記近位端が、前記エアロゾル形成基体を受容するために実質的に開放している、装置空洞と、
エアロゾル形成基体を加熱するように構成された誘導加熱配設であって、
前記エアロゾル形成基体を加熱するために変動する磁界の透過によって加熱可能な少なくとも一つのサセプタを含む、誘導発熱体、
前記装置空洞の前記近位端に向かって配設される第一のインダクタコイル、および、
前記装置空洞の前記遠位端に向かって配設される第二のインダクタコイル、を含む、誘導加熱配設と、
前記誘導加熱配設に電力を供給するように構成された電源と、を備えるエアロゾル発生装置、を含み、
前記方法が、
前記エアロゾル形成基体が前記装置空洞の中に受容されたときに、前記第一のインダクタコイルが前記誘導発熱体の第一の部分を加熱する第一の変動する磁界を発生するように、前記第一のインダクタコイル内に第一の変動する電流を駆動することによって、前記エアロゾル形成基体の加熱を開始し、第一の動作温度プロファイルに従って、前記誘導発熱体の前記第一の部分の温度を初期温度から上昇させるように、前記第一の変動する電流を制御することと、
その後に、前記第二のインダクタコイルが前記誘導発熱体の第二の部分を加熱する第二の変動する磁界を発生するように、前記第二のインダクタコイル内に第二の変動する電流を駆動し、第二の動作温度プロファイルに従って、前記誘導発熱体の前記第二の部分の温度を初期温度から上昇させるように、前記第二の変動する電流を制御することと、を含み、
前記第二の動作温度プロファイルが、前記第一の動作温度プロファイルとは異なり、
前記第一の変動する電流および前記第二の変動する電流が、
第一の段階で、前記第一の変動する電流が前記第一のインダクタコイルに供給され、
第二の段階で、前記第二の変動する電流が前記第二のコイルに供給され、
前記第一の段階の少なくとも一部分では、前記第一の動作温度プロファイルが、前記第二の動作温度プロファイルよりも大きく、
前記第二の段階の少なくとも一部分では、前記第二の動作温度プロファイルが、前記第一の動作温度プロファイルよりも大きく、前記第二の動作温度プロファイルが、前記第一の動作温度プロファイルよりも摂氏約５０度以下だけ大きいように、制御される、方法。
前記第一の動作温度プロファイルが、時間と共に変化する、請求項１に記載の方法。
前記第二の動作温度プロファイルが、時間と共に変化する、請求項１または２に記載の方法。
前記第一の段階の少なくとも一部分では、前記第一の動作温度プロファイルが、前記第二の動作温度プロファイルよりも少なくとも摂氏約５０度だけ大きい、請求項１、２、または３に記載の方法。
前記第一の動作温度プロファイルが、前記第一の段階全体を通して、前記第二の動作温度プロファイルよりも大きい、請求項１～４のいずれか一項に記載の方法。
前記第一の段階が、所定の持続時間を有する、請求項１～５のいずれか一項に記載の方法。
前記第二の段階が、所定の持続時間を有する、請求項１～６に記載の方法。
前記第二の段階の前記持続時間が、前記第一の段階の前記持続時間より短い、請求項１～７のいずれか一項に記載の方法。
前記第二の段階の前記持続時間が、前記第一の段階の前記持続時間より長い、請求項１～７のいずれか一項に記載の方法。
前記第一の段階で、前記第一の変動する電流および前記第二の変動する電流が交互に駆動されて、前記第一のインダクタコイル内に前記第一の変動する電流を駆動し、前記第二のインダクタコイル内に前記第二の変動する電流を駆動する、請求項１～９のいずれか一項に記載の方法。
前記第二の段階で、前記第一の変動する電流および前記第二の変動する電流が交互に駆動されて、前記第一のインダクタコイル内に前記第一の変動する電流を駆動し、前記第二のインダクタコイル内に前記第二の変動する電流を駆動する、請求項１～１０のいずれか一項に記載の方法。
前記第一の変動する電流が駆動されているときには前記第二の変動する電流は駆動されず、
前記第二の変動する電流が駆動されているときには前記第一の変動する電流は駆動されない、請求項１～１１のいずれか一項に記載の方法。
前記第一の変動する電流が、複数のパルスで駆動され、前記第一の変動する電流が、パルス幅変調によって制御される、請求項１～１２のいずれか一項に記載の方法。
前記第二の変動する電流が、複数のパルスで駆動され、前記第二の変動する電流が、パルス幅変調によって制御される、請求項１～１３のいずれか一項に記載の方法。
エアロゾル発生装置であって、
エアロゾル形成基体を受容するように構成された装置空洞であって、近位端と、前記近位端の反対側の遠位端とを有し、前記近位端が、前記エアロゾル形成基体を受容するために実質的に開放している、装置空洞と、
前記エアロゾル形成基体を加熱するように構成された誘導加熱配設であって、
前記エアロゾル形成基体を加熱するために変動する磁界の透過によって加熱可能な少なくとも一つのサセプタを含む、誘導発熱体、
前記装置空洞の前記近位端に向かって配設される第一のインダクタコイル、および、
前記装置空洞の前記遠位端に向かって配設される第二のインダクタコイル、を含む、誘導加熱配設と、
前記誘導加熱配設に電力を供給するように構成された電源と、
請求項１～１４のいずれか一項に記載の方法工程を実施するように構成されたコントローラと、を備える、エアロゾル発生装置。
エアロゾル発生装置であって、
エアロゾル形成基体を受容するように構成された装置空洞であって、近位端と、前記近位端の反対側の遠位端とを有し、前記近位端が、前記エアロゾル形成基体を受容するために実質的に開放している、装置空洞と、
前記エアロゾル形成基体を加熱するように構成された誘導加熱配設であって、
前記エアロゾル形成基体を加熱するために変動する磁界の透過によって加熱可能な少なくとも一つのサセプタを含む、誘導発熱体、
前記装置空洞の前記近位端に向かって配設される第一のインダクタコイル、および、
前記装置空洞の前記遠位端に向かって配設される第二のインダクタコイル、を含む、誘導加熱配設と、
前記誘導加熱配設に電力を供給するように構成された電源と、
コントローラであって、
前記エアロゾル形成基体が前記装置空洞の中に受容されたときに、前記誘導発熱体の第一の部分を加熱するための第一の変動する磁界を発生するように、前記第一のインダクタコイル内に第一の変動する電流を駆動することによって、前記エアロゾル形成基体の加熱を開始し、第一の動作温度プロファイルに従って、前記誘導発熱体の前記第一の部分の温度を初期温度から上昇させるように、前記第一の変動する電流を制御し、
その後に、前記誘導発熱体の第二の部分を加熱するための第二の変動する磁界を発生するように、前記第二のインダクタコイル内に第二の変動する電流を駆動し、第二の動作温度プロファイルに従って、前記誘導発熱体の前記第二の部分の温度を初期温度から上昇させるように、前記第二の変動する電流を制御するように構成された、コントローラと、を備え、
前記第二の動作温度プロファイルが、前記第一の動作温度プロファイルとは異なり、
前記第一の変動する電流および前記第二の変動する電流が、
第一の段階で、前記第一の変動する電流が前記第一のインダクタコイルに供給され、
第二の段階で、前記第二の変動する電流が前記第二のコイルに供給され、
前記第一の段階の少なくとも一部分では、前記第一の動作温度プロファイルが、前記第二の動作温度プロファイルよりも大きく、
前記第二の段階の少なくとも一部分では、前記第二の動作温度プロファイルが、前記第一の動作温度プロファイルよりも大きく、前記第二の動作温度プロファイルが、前記第一の動作温度プロファイルよりも摂氏約５０度以下だけ大きいように、制御される、エアロゾル発生装置。
前記第二のコイルが、前記第一のコイルとは異なる方向に巻かれる、請求項１５または１６に記載のエアロゾル発生装置。
前記第二のコイルが、前記第一のコイルとは異なる巻数を有する、請求項１５、１６、または１７に記載のエアロゾル発生装置。
前記第二のコイルが、前記第一のコイルとは異なる長さを有する、請求項１５～１８に記載のエアロゾル発生装置。
前記第一のインダクタコイルが、前記装置空洞の周りに配置され、前記第二のインダクタコイルが、前記装置空洞の周りに配置され、前記誘導発熱体の前記第一の部分が、前記第一のインダクタコイルと前記装置空洞との間に配置され、前記誘導発熱体の前記第二の部分が、前記第二のインダクタコイルと前記装置空洞との間に配置される、請求項１５～１９のいずれか一項に記載のエアロゾル発生装置。
前記誘導発熱体が、内部空洞を画定する管状誘導発熱体であり、前記装置空洞が、前記誘導発熱体内部空洞内に配置される、請求項２０に記載のエアロゾル発生装置。
前記コントローラが、複数のパルスで前記第一の変動する電流を駆動するように構成され、前記コントローラが、パルス幅変調によって前記第一の変動する電流を制御するように構成される、請求項１５～２１のいずれか一項に記載のエアロゾル発生装置。
前記コントローラが、複数のパルスで前記第二の変動する電流を駆動するように構成され、前記コントローラが、パルス幅変調によって前記第二の変動する電流を制御するように構成される、請求項１５～２２のいずれか一項に記載のエアロゾル発生装置。
前記エアロゾル発生装置が、前記電源と前記第一のインダクタコイルとの間に第一のスイッチ、および前記電源と前記第二のインダクタコイルとの間に第二のスイッチをさらに備え、前記コントローラが、前記第二のスイッチがオフのままであるときに、第一の切替速度で前記第一のスイッチをオンオフして、前記第一のインダクタコイル内に前記第一の変動する電流を駆動するように構成され、前記コントローラが、前記第一のスイッチがオフのままであるときに、第二の切替速度で前記第二のスイッチをオンオフして、前記第二のインダクタコイル内に前記第二の変動する電流を駆動するように構成される、請求項１５～２３のいずれか一項に記載のエアロゾル発生装置。
エアロゾル形成基体を備えるエアロゾル発生物品と、
請求項１５～２４のいずれか一項に記載のエアロゾル発生装置であって、前記エアロゾル発生装置が、前記エアロゾル発生物品を受容するように構成されている、エアロゾル発生装置と、を備える、エアロゾル発生システム。
エアロゾル発生システムであって、前記エアロゾル発生システムが、
エアロゾル形成基体を備えるエアロゾル発生物品と、
エアロゾル発生装置であって、
前記エアロゾル発生物品を受容するように構成された装置空洞であって、近位端と、前記近位端の反対側の遠位端とを有し、前記近位端が、前記エアロゾル発生物品を受容するために実質的に開放している、装置空洞と、
前記エアロゾル形成基体を加熱するように構成された誘導加熱配設であって、
前記エアロゾル形成基体を加熱するために変動する磁界の透過によって加熱可能な少なくとも一つのサセプタを含む、誘導発熱体、
前記装置空洞の前記近位端に向かって配設される第一のインダクタコイル、および、
前記装置空洞の前記遠位端に向かって配設される第二のインダクタコイル、を含む、誘導加熱配設と、
前記誘導加熱配設に電力を供給するように構成された電源と、
請求項１～１４のいずれか一項に記載の方法工程を実施するように構成されたコントローラと、を備えるエアロゾル発生装置と、を備える、エアロゾル発生システム。