JPWO2020131620A5 - - Google Patents

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Claims (16)

浮動式テーブルであって、基板を前記浮動式テーブルの上方で浮動させ、前記基板を搬送方向に搬送可能とするガスを流すための複数の孔を備え、前記搬送方向に配置された第1の領域、第2の領域、および第3の領域を有し、前記第3の領域は前記第1の領域と前記第2の領域との間に位置する、浮動式テーブルと、
前記浮動式テーブルの前記複数の孔にガスを供給する流体ネットワークと、
中央ゾーンおよび端縁ゾーンの各々に位置する前記第1の領域にある前記複数の孔に含まれる孔を通るガスの流れを独立して制御するように、前記流体ネットワークを制御するように構成された制御部とを備え、
前記端縁ゾーンは前記基板の端縁に対応し、前記中央ゾーンは前記基板の中央領域に対応し、前記基板の端縁の浮上高さは、前記基板の中央領域の浮上高さより高い、システム。
A floating table having a plurality of holes arranged in the transport direction for flowing a gas that floats the substrate above the floating table and allows the substrate to be transported in the transport direction. a floating table having a region, a second region, and a third region, the third region being located between the first region and the second region;
a fluid network that supplies gas to the plurality of holes of the floating table;
configured to control the fluid network to independently control gas flow through holes included in the plurality of holes in the first region located in each of a central zone and an edge zone; a control unit ,
The system, wherein the edge zone corresponds to an edge of the substrate, the central zone corresponds to a central region of the substrate, and the flying height of the edge of the substrate is higher than the flying height of the central region of the substrate. .
前記浮動式テーブルの前記第3の領域の上方に取り付けられたプリントヘッドアセンブリをさらに備える、請求項1に記載のシステム。 2. The system of claim 1, further comprising a printhead assembly mounted above said third region of said floating table. 前記端縁ゾーンは第1の端縁ゾーンであり、前記制御部は、前記基板の端縁に対応する第2の端縁ゾーンに位置する前記第1の領域にある前記複数の孔に含まれる孔を通るガスの流れを独立して制御するように、前記流体ネットワークを制御するようにさらに構成され、前記中央ゾーンは前記第1の端縁ゾーンと前記第2の端縁ゾーンとの間にある、請求項2に記載のシステム。 The edge zone is a first edge zone and the controls are included in the plurality of holes in the first region located in a second edge zone corresponding to an edge of the substrate. further configured to control the fluid network to independently control gas flow through the holes, the central zone between the first edge zone and the second edge zone; 3. The system of claim 2, wherein: 浮動式テーブルであって、基板を前記浮動式テーブルの上方で浮動させ、前記基板を搬送方向に搬送可能とするガスを流すための複数の孔を備え、前記搬送方向に配置された第1の領域、第2の領域、および第3の領域を有し、前記第3の領域は前記第1の領域と前記第2の領域との間に位置する、浮動式テーブルと、
前記浮動式テーブルの前記第3の領域の上方に取り付けられたプリントヘッドアセンブリと、
前記浮動式テーブルの前記複数の孔にガスを供給する流体ネットワークと、
前記流体ネットワークに動作可能に結合された制御部と
を備え、前記制御部は、
中央ゾーン、第1の端縁ゾーン、および第2の端縁ゾーンの各々に位置する前記第1の領域にある前記複数の孔に含まれる孔を通るガスの流れを独立して制御するように構成され、前記第1の端縁ゾーンおよび前記第2の端縁ゾーンは前記基板の両側の端縁に対応し、前記中央ゾーンは前記基板の中央領域に対応し、かつ前記第1の端縁ゾーンと前記第2の端縁ゾーンとの間に位置し、前記基板の端縁の浮上高さを独立して制御する、システム。
A floating table having a plurality of holes arranged in the transport direction for flowing a gas that floats the substrate above the floating table and allows the substrate to be transported in the transport direction. a floating table having a region, a second region, and a third region, the third region being located between the first region and the second region;
a printhead assembly mounted above the third region of the floating table;
a fluid network that supplies gas to the plurality of holes of the floating table;
a controller operably coupled to the fluid network, the controller comprising:
to independently control gas flow through holes included in said plurality of holes in said first region located in each of a central zone, a first edge zone and a second edge zone; wherein said first edge zone and said second edge zone correspond to opposite edges of said substrate, said central zone corresponds to a central region of said substrate, and said first edge zone A system located between a zone and said second edge zone for independently controlling the flying height of the edge of said substrate .
前記流体ネットワークは、
前記中央ゾーンの前記孔に流体結合された第1のガス供給マニホールドと、
前記第1のガス供給マニホールドに動作可能に結合された第1のガス制御弁と、
前記第1の端縁ゾーンおよび前記第2の端縁ゾーンの前記孔に流体結合された第2のガス供給マニホールドと、
前記第2のガス供給マニホールドに動作可能に結合された第2のガス制御弁と
を備え、
前記制御部は、前記中央ゾーン、前記第1の端縁ゾーン、および前記第2の端縁ゾーンの前記孔に流れる前記ガスの圧力または流量のうちの少なくとも一方を調節するように、前記第1のガス制御弁および前記第2のガス制御弁に動作可能に結合されている、請求項4に記載のシステム。
The fluid network comprises:
a first gas supply manifold fluidly coupled to the holes of the central zone;
a first gas control valve operably coupled to the first gas supply manifold;
a second gas supply manifold fluidly coupled to the holes in the first edge zone and the second edge zone;
a second gas control valve operably coupled to the second gas supply manifold;
The controller adjusts at least one of a pressure or a flow rate of the gas flowing through the holes of the central zone, the first edge zone, and the second edge zone. 5. The system of claim 4, wherein the system is operably coupled to a gas control valve of and said second gas control valve.
前記流体ネットワークを介して前記複数の孔に流体結合されたガス源および真空源をさらに備え、前記制御部は、前記第3の領域の前記孔の一部分を前記真空源から真空に引くように、前記流体ネットワークを制御するようにさらに構成されている、請求項3に記載のシステム。 further comprising a gas source and a vacuum source fluidly coupled to the plurality of holes via the fluid network, wherein the controller causes a portion of the holes in the third region to be evacuated from the vacuum source; 4. The system of claim 3, further configured to control the fluid network. 前記制御部は、前記第1の端縁ゾーンと前記第2の端縁ゾーンとの間の非中央ゾーンに位置する前記第1の領域にある前記複数の孔に含まれる孔を通るガスの流れを独立して制御するように、前記流体ネットワークを制御するようにさらに構成されている、請求項3に記載のシステム。 The controller controls the flow of gas through holes included in the plurality of holes in the first region located in a non-central zone between the first edge zone and the second edge zone. 4. The system of claim 3, further configured to control the fluid network to independently control the . 前記非中央ゾーンは第1の非中央ゾーンであり、前記制御部は、前記第1の端縁ゾーンと前記第2の端縁ゾーンとの間の第2の非中央ゾーンに位置する前記第1の領域にある前記複数の孔に含まれる孔を通るガスの流れを独立して制御するように、前記流体ネットワークを制御するようにさらに構成され、前記中央ゾーンは前記第1の非中央ゾーンと前記第2の非中央ゾーンとの間にある、請求項7に記載のシステム。 The non-central zone is a first non-central zone, and the control is located in a second non-central zone between the first edge zone and the second edge zone. further configured to control the fluid network to independently control the flow of gas through the pores included in the plurality of pores in the region of the central zone and the first non-central zone; 8. The system of claim 7, between said second non-central zone. 前記流体ネットワークを介して前記複数の孔に流体結合されたガス源および真空源をさらに備え、前記制御部は、前記第3の領域の前記孔の中央部分を前記真空源から真空に引くように、前記流体ネットワークを制御するようにさらに構成されている、請求項8に記載のシステム。 Further comprising a gas source and a vacuum source fluidly coupled to the plurality of holes via the fluid network, wherein the controller causes a central portion of the holes in the third region to be evacuated from the vacuum source. 9. The system of claim 8, further configured to control the fluid network. 前記流体ネットワークを介して前記複数の孔に流体結合されたガス源および真空源をさらに備え、前記制御部は、前記第3の領域の中央領域に位置する前記孔の第1の部分を前記真空源から真空に引き、前記第3の領域に分散配置された前記孔の第2の部分に圧力を加えるように、前記流体ネットワークを制御するようにさらに構成されている、請求項4に記載のシステム。 Further comprising a gas source and a vacuum source fluidly coupled to the plurality of holes via the fluid network, wherein the controller causes a first portion of the holes located in a central region of the third region to be controlled by the vacuum. 5. The fluidic network of claim 4, further configured to control the fluidic network to draw a vacuum from a source and apply pressure to a second portion of the pores distributed in the third region. system. 前記制御部は、前記中央ゾーン、前記第1の端縁ゾーン、および前記第2の端縁ゾーンの各々に位置する前記第2の領域にある前記複数の孔に含まれる孔を通るガスの流れを独立して制御するように、前記流体ネットワークを制御するようにさらに構成され、前記第1の端縁ゾーンおよび前記第2の端縁ゾーンは前記基板の両側の端縁に対応し、前記中央ゾーンは前記基板の中央領域に対応し、かつ前記第1の端縁ゾーンと前記第2の端縁ゾーンとの間に位置する、請求項4に記載のシステム。 The controller controls gas flow through holes included in the plurality of holes in the second region located in each of the central zone, the first edge zone and the second edge zone. wherein the first edge zone and the second edge zone correspond to opposite edges of the substrate and the central 5. The system of claim 4, wherein a zone corresponds to a central region of said substrate and is located between said first edge zone and said second edge zone. 前記制御部は、前記第1の端縁ゾーンと前記第2の端縁ゾーンとの間の非中央ゾーンに位置する前記第1の領域にある前記複数の孔に含まれる孔を通るガスの流れを独立して制御するように、前記流体ネットワークを制御するようにさらに構成されている、請求項4に記載のシステム。 The controller controls the flow of gas through holes included in the plurality of holes in the first region located in a non-central zone between the first edge zone and the second edge zone. 5. The system of claim 4, further configured to control the fluid network to independently control the . 前記非中央ゾーンは第1の非中央ゾーンであり、前記制御部は、前記第1の端縁ゾーンと前記第2の端縁ゾーンとの間の第2の非中央ゾーンに位置する前記第1の領域にある前記複数の孔に含まれる孔を通るガスの流れを独立して制御するように、前記流体ネットワークを制御するようにさらに構成され、前記中央ゾーンは前記第1の非中央ゾーンと前記第2の非中央ゾーンとの間にある、請求項12に記載のシステム。 The non-central zone is a first non-central zone, and the control is located in a second non-central zone between the first edge zone and the second edge zone. further configured to control the fluid network to independently control the flow of gas through the pores included in the plurality of pores in the region of the central zone and the first non-central zone; 13. The system of claim 12, between said second non-central zone. 浮動式テーブルであって、基板を前記浮動式テーブルの上方で浮動させ、前記基板を搬送方向に搬送可能とする気体軸受を構成するのに十分なガスを流すための複数の孔を備え、前記搬送方向に配置された第1の領域、第2の領域、および第3の領域を有し、前記第3の領域は前記第1の領域と前記第2の領域との間に位置する、浮動式テーブルと、
前記浮動式テーブルの前記第3の領域の上方に取り付けられたプリントヘッドアセンブリと、
前記浮動式テーブルの前記複数の孔にガスを供給するように結合された流体ネットワークと、
前記流体ネットワークを制御し、前記複数の孔に含まれる孔を通るガスの流れを独立して制御することにより、前記基板の端部の浮上高さを独立して制御するように構成された制御部とを備え、
前記複数の孔は、
中央ゾーン、非中央ゾーン、第1の端縁ゾーン、および第2の端縁ゾーンの各々に位置する前記第1の領域であって、前記第1の端縁ゾーンおよび前記第2の端縁ゾーンは前記基板の両側の端縁に対応し、前記中央ゾーンは前記基板の中央領域に対応し、かつ前記第1の端縁ゾーンと前記第2の端縁ゾーンとの間に位置し、前記非中央ゾーンは前記第1の端縁ゾーンと前記第2の端縁ゾーンとの間に位置する、前記第1の領域と、
中央ゾーン、非中央ゾーン、第1の端縁ゾーン、および第2の端縁ゾーンの各々に位置する前記第2の領域であって、前記第1の端縁ゾーンおよび前記第2の端縁ゾーンは前記基板の両側の端縁に対応し、前記中央ゾーンは前記基板の中央領域に対応し、かつ前記第1の端縁ゾーンと前記第2の端縁ゾーンとの間に位置し、前記非中央ゾーンは前記第1の端縁ゾーンと前記第2の端縁ゾーンとの間に位置する、前記第2の領域とに位置する、システム。
a floating table comprising a plurality of holes for flowing gas sufficient to float a substrate above the floating table and to form a gas bearing that allows the substrate to be transported in a transport direction; A float having a first region, a second region and a third region arranged in a transport direction, the third region being located between the first region and the second region a formula table;
a printhead assembly mounted above the third region of the floating table;
a fluid network coupled to supply gas to the plurality of holes of the floating table;
A control configured to independently control the flying height of the edge of the substrate by controlling the fluidic network and independently controlling gas flow through holes included in the plurality of holes. and
The plurality of holes are
said first regions located in each of a central zone, a non-central zone, a first edge zone and a second edge zone, said first edge zone and said second edge zone; correspond to the opposite edges of the substrate, the central zone corresponds to the central region of the substrate and is located between the first edge zone and the second edge zone, and the non- said first region, wherein a central zone is located between said first edge zone and said second edge zone;
said second regions located in each of a central zone, a non-central zone, a first edge zone and a second edge zone, said first edge zone and said second edge zone; correspond to the opposite edges of the substrate, the central zone corresponds to the central region of the substrate and is located between the first edge zone and the second edge zone, and the non- and a central zone located in said second region located between said first edge zone and said second edge zone.
前記流体ネットワークを介して前記複数の孔に流体結合されたガス源および真空源をさらに備え、前記制御部は、前記第3の領域の中央領域に位置する前記孔の第1の部分を前記真空源から真空に引き、前記第3の領域に分散配置された前記孔の第2の部分に圧力を加えるように、前記流体ネットワークを制御するようにさらに構成されている、請求項14に記載のシステム。 Further comprising a gas source and a vacuum source fluidly coupled to the plurality of holes via the fluid network, wherein the controller causes a first portion of the holes located in a central region of the third region to be controlled by the vacuum. 15. The fluidic network of claim 14, further configured to control the fluidic network to draw a vacuum from a source and apply pressure to a second portion of the pores distributed in the third region. system. 前記制御部は、前記基板の浮上高さのプロファイルを制御するように構成されている、請求項1、請求項4、または請求項14に記載のシステム。 15. The system of claim 1, claim 4 or claim 14, wherein the controller is configured to control a flying height profile of the substrate.
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