JPWO2020115966A1 - 還元剤噴射装置、排ガス処理装置及び排ガス処理方法 - Google Patents

Abstract

流体流入端面１３ａから流体流出端面１３ｂまで延びる複数のセル１４を区画形成する隔壁１５を有する柱状のハニカム構造部１１、及びハニカム構造部１１の側面に配設され、ハニカム構造部１１を通電加熱するための少なくとも一対の電極部１２を有し、通電加熱されたハニカム構造部１１内で尿素水溶液中の尿素を分解してアンモニアを生成可能に構成されたハニカム構造体１と、ハニカム構造体１を収容し、ハニカム構造部１１の流体流入端面１３ａ側にキャリアガスを導入するためのキャリアガス導入口２２を有する外筒２と、外筒２の一端に配置され、ハニカム構造部１１の流体流入端面１３ａ側に尿素水溶液を噴霧する尿素噴霧器３と、外筒２のキャリアガス導入口２２に設けられたキャリアガス導入筒４と、キャリアガス導入筒４に設けられ、キャリアガスの流量を増幅するためのキャリアガス流量増幅器５とを備える、還元剤噴射装置である。

Description

本発明は、還元剤噴射装置、排ガス処理装置及び排ガス処理方法に関する。

各種エンジンなどから排出される排ガス中の窒素酸化物（ＮＯｘ）を浄化するために、選択触媒還元型ＮＯｘ触媒（ＳＣＲ触媒）を用いた排ガス処理装置が知られている（特許文献１）。
特許文献１に記載の排ガス処理装置は、エンジンの排気筒に取り付けられた触媒（ＳＣＲ触媒）、及びエンジンと触媒との間の排気筒内に尿素水を噴射する手段を有し、噴霧された尿素水を排ガスと混合し、触媒によって排ガス中の特定成分と反応させると共に尿素水を排ガスと混合する尿素水噴射手段が複数個所に設けられている。
しかしながら、特許文献１に記載の排ガス処理装置は、尿素水中の尿素を排ガスの熱でアンモニアに分解させるため、排ガスの温度が２００℃以上であることが必要とされる。そのため、排ガスの温度が低いときには、尿素の分解反応が起こり難くなり、ＮＯｘの処理に必要なアンモニアの量が不足するという問題があった。

そこで、筒状のハニカム構造部、及びハニカム構造部の側面に配設された一対の電極部を有するハニカム構造体（ハニカムヒーター）と、ハニカム構造部に尿素水溶液を噴霧する尿素噴霧器とを備える還元剤噴射装置を用いた排ガス処理装置が提案されている（特許文献２）。この排ガス装置に用いられる還元剤噴射装置は、電極部に電圧を印加することで通電加熱されたハニカム構造部に尿素水溶液を噴霧し、尿素水溶液中の尿素をハニカム構造部内で分解してアンモニアを効率良く生成させることができる。
しかしながら、通電加熱されたハニカム構造部に尿素水溶液を噴霧すると、尿素水溶液が噴霧された領域の温度が低下し、ハニカム構造部内に温度ムラが発生する。その結果、ハニカム構造部の低温領域に尿素デポジット（尿素に起因する結晶）が生成し易くなる。尿素デポジットが生成すると、ハニカム構造部内の流路が遮断されるため、尿素からアンモニアへの分解が阻害されてしまう。

そこで、尿素噴霧器とハニカム構造体との間にキャリアガス導入口を設けた還元剤噴射装置を用いた排ガス処理装置が提案されている（特許文献３及び４）。この排ガス処理装置に用いられる還元剤噴射装置によれば、キャリアガス導入口から導入されたキャリアガスが、ハニカム構造部内のガスの流れを促進させることができる。そのため、ハニカム構造部に尿素水溶液を噴霧してもハニカム構造部内の温度差が小さくなり、尿素デポジットの生成を抑制することができる。

特開２００７−３２７３７７号公報 国際公開第２０１４／１４８５０６号 特開２０１７−１８０２９８号公報 特開２０１７−１８０２９９号公報

しかしながら、特許文献３及び４に記載の還元剤噴射装置は、使用するキャリアガスの種類や装着位置によっては還元剤噴射装置内にキャリアガスを導入し難いことがある。例えば、エンジン排気系からのガス（排ガス）をキャリアガスとして用いる場合、還元剤噴射装置の装着位置によっては排ガスの圧力が低くなり、排気筒から還元剤噴射装置内に排ガスを導入することが難しくなることがある。特に、ハニカム構造部の圧力損失が大きいと、排気筒から還元剤噴射装置内に排ガスが全く流れないこともある。還元剤噴射装置内に導入されるキャリアガスの量が少なくなると、ハニカム構造部内のガスの流れを十分に促進させることができないため、尿素デポジットが生成し易くなる。

本発明は、上記のような問題を解決するためになされたものであり、尿素デポジットを安定して抑制することができる還元剤噴射装置を提供することを目的とする。
また、本発明は、還元剤噴射装置から必要量のアンモニアを安定的に噴射してＮＯｘの浄化を行うことが可能な排ガス処理装置及び排ガス処理方法を提供することを目的とする。

本発明者らは、還元剤噴射装置におけるキャリアガスの導入方法に着目して鋭意研究を行った結果、キャリアガス流量増幅器を用いることにより、使用するキャリアガスの種類に関わらず、還元剤噴射装置内にキャリアガスを安定して導入し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は、流体流入端面から流体流出端面まで延びる複数のセルを区画形成する隔壁を有する柱状のハニカム構造部、及び前記ハニカム構造部の側面に配設され、前記ハニカム構造部を通電加熱するための少なくとも一対の電極部を有し、通電加熱された前記ハニカム構造部内で尿素水溶液中の尿素を分解してアンモニアを生成可能に構成されたハニカム構造体と、
前記ハニカム構造体を収容し、前記ハニカム構造部の前記流体流入端面側にキャリアガスを導入するためのキャリアガス導入口を有する外筒と、
前記外筒の一端に配置され、前記ハニカム構造部の前記流体流入端面側に尿素水溶液を噴霧する尿素噴霧器と、
前記外筒のキャリアガス導入口に設けられたキャリアガス導入筒と、
前記キャリアガス導入筒に設けられ、前記キャリアガスの流量を増幅するためのキャリアガス流量増幅器と
を備える、還元剤噴射装置である。

また、本発明は、排ガスが流通するための排気筒と、
前記排気筒内にアンモニアを噴射するための、前記還元剤噴射装置と、
前記排気筒の、前記アンモニアが噴射される位置よりも下流側に配置されたＳＣＲ触媒と
を備える排ガス処理装置である。

さらに、本発明は、前記還元剤噴射装置で生成したアンモニアを排ガスに噴射し、前記アンモニアが混入した前記排ガスをＳＣＲ触媒で還元処理する排ガス処理方法である。

本発明によれば、尿素デポジットを安定して抑制することができる還元剤噴射装置を提供することができる。
また、本発明によれば、還元剤噴射装置から必要量のアンモニアを安定的に噴射してＮＯｘの浄化を行うことが可能な排ガス処理装置及び排ガス処理方法を提供することができる。

本発明の実施形態１に係る還元剤噴射装置を示す模式断面図である。 本発明の実施形態１に係る還元剤噴射装置を構成するハニカム構造体の流体流入端面を示す模式平面図である。 本発明の実施形態１に係る還元剤噴射装置を排気筒に設けた状態を説明するための模式断面図である。 本発明の実施形態１に係る還元剤噴射装置を排気筒に設けた別の状態を説明するための模式断面図である。 本発明の実施形態２に係る還元剤噴射装置を示す模式断面図である。 本発明の実施形態３に係る排ガス処理装置を示す模式断面図である。 本発明の実施形態４に係る別の排ガス処理装置を示す模式断面図である。

以下、本発明の還元剤噴射装置、排ガス処理装置及び排ガス処理方法の好適な実施形態について具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されて解釈されるべきものではなく、本発明の要旨を逸脱しない限りにおいて、当業者の知識に基づいて、種々の変更、改良などを行うことができる。各実施形態に開示されている複数の構成要素は、適宜な組み合わせにより、種々の形態を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素からいくつかの構成要素を削除してもよいし、異なる実施形態の構成要素を適宜組み合わせてもよい。

＜実施形態１＞
（１）還元剤噴射装置
図１は、本発明の実施形態１に係る還元剤噴射装置を示す模式断面図（ハニカム構造部のセルの延びる方向に平行な模式断面図）である。
図１に示すように、本実施形態の還元剤噴射装置１００は、ハニカム構造体１と、外筒２と、尿素噴霧器３と、キャリアガス導入筒４と、キャリアガス流量増幅器５とを備える。

ハニカム構造体１は、流体流入端面１３ａから流体流出端面１３ｂまで延びる複数のセル１４を区画形成する隔壁１５を有する柱状のハニカム構造部１１と、ハニカム構造部１１の側面に配設され、ハニカム構造部１１を通電加熱するための少なくとも一対の電極部１２とを有する。ハニカム構造部１１におけるセル１４は、流体の流通経路となる。
ここで、本明細書において「流体流入端面１３ａ」とは、流体の流入口を有する端面のことを意味し、「流体流出端面１３ｂ」とは、流体の流出口を有する端面のことを意味する。また、本明細書において「一対の電極部１２」とは、ハニカム構造部１１のセル１４が延びる方向に直交する断面において、一方の電極部１２に対して、他方の電極部１２がハニカム構造部１１の中心を挟んで反対側に配設されていることを意味する。
電極部１２は、セル１４が延びる方向に沿って帯状に形成されている。なお、電極部１２は一対であってよいが、ハニカム構造部１１の発熱効率を高める観点から、複数対としてもよい。

外筒２は、入口側端部及び出口側端部を有し、内部にハニカム構造体１を収容している。一端である入口側端部には尿素噴霧器３が配置され、他端である出口側端部にはアンモニアを噴射するための噴射口２１が形成されている。また、外筒２は、ハニカム構造部１１の流体流入端面１３ａ側、すなわち、ハニカム構造体１と尿素噴霧器３との間にキャリアガスを導入するためのキャリアガス導入口２２を有する。
外筒２に収容されるハニカム構造体１は、絶縁保持部２３を介して外筒２内に固定（保持）されている。これにより、ハニカム構造体１と外筒２との間の絶縁が確保される。ハニカム構造体１と外筒２との間には、絶縁保持部２３が配置されていない部分（空間）があってもよいが、ハニカム構造体１の外周全体が絶縁保持部２３で覆われていてもよい。絶縁保持部２３の材質は、絶縁性に優れたものであれば特に限定されず、例えば、アルミナを用いることができる。

尿素噴霧器３は、外筒２の一端（入口側端部）に配置され、ハニカム構造部１１の流体流入端面１３ａ側に尿素水溶液を噴霧する。尿素水溶液は、本実施形態の還元剤噴射装置１００で生成させるアンモニアの原料である。

キャリアガス導入筒４は、外筒２のキャリアガス導入口２２に設けられている。キャリアガス導入筒４の他端は、キャリアガス導入筒４に導入するキャリアガスの供給源に接続されている。
キャリアガスとしては、特に限定されず、排ガス、吸気ガス、その他のエアー供給装置（大型車両などに搭載されているコンプレッサーなど）からのエアーなどを用いることができるが、排ガスが好ましい。排ガスは温度が高いため、加熱しなくてもキャリアガスとして利用することができる。なお、吸気ガス（エンジン吸気系からのガス）をキャリアガスとして用いる場合、吸気ガスは温度が低いため、加熱手段などを用いて予め加熱することが好ましい。

キャリアガス流量増幅器５は、キャリアガスの流量を増幅する機能を有し、キャリアガス導入筒４に設けられている。

上記のような構成を有する本実施形態の還元剤噴射装置１００では、尿素噴霧器３から噴霧された尿素水溶液が、通電加熱されたハニカム構造部１１内で尿素水溶液中の尿素を分解してアンモニア（還元剤）を生成し、噴射口２１から外部にアンモニアが噴射される。このとき、ハニカム構造部１１の流体流入端面１３ａ側にキャリアガスを導入することにより、ハニカム構造部１１内に、流体流入端面１３ａ側から流体流出端面１３ｂ側へのガスの流れを作ることができる。また、使用するキャリアガスの種類によっては還元剤噴射装置１００内にキャリアガスを導入し難いことがあるが、キャリアガス導入筒４にキャリアガス流量増幅器５を設けているため、還元剤噴射装置１００内にキャリアガスを安定して導入することができる。したがって、ハニカム構造部１１内に熱及び尿素水溶液が停滞し難くなり、尿素デポジットを安定して抑制することができる。

以下、本実施形態の還元剤噴射装置１００について、さらに、構成部材ごとに詳細に説明する。

（１−１）ハニカム構造体１
ハニカム構造体１は、ハニカム構造部１１と電極部１２とを有する。
ハニカム構造部１１を構成する隔壁１５の材質は、特に限定されないが、セラミックスであることが好ましい。特に、隔壁１５の材質は、珪素−炭化珪素複合材又は炭化珪素を主成分としていることが好ましく、珪素−炭化珪素複合材を主成分としていることがより好ましい。このような材質を用いることにより、ハニカム構造部１１の電気抵抗率を、炭化珪素と珪素との比率を変更することで任意の値に調整し易くなる。
ここで、上記の主成分となる「珪素−炭化珪素複合材」とは、骨材としての炭化珪素粒子、及び炭化珪素粒子を結合させる結合材としての金属珪素を含有するものを意味する。珪素−炭化珪素複合材は、複数の炭化珪素粒子が、金属珪素によって結合されていることが好ましい。また、上記の主成分となる「炭化珪素」とは、炭化珪素粒子同士が焼結して形成されたものを意味する。また、本明細書において「主成分」とは、９０質量％以上含有される成分のことを意味する。

ハニカム構造部１１の電気抵抗率は、特に限定されないが、０．０１〜５００Ωｃｍであることが好ましく、０．１〜２００Ωｃｍであることがより好ましい。このような電気抵抗率に制御することにより、少なくとも一対の電極部１２に電圧を印加することにより、ハニカム構造部１１を効果的に発熱させることができる。特に、電圧１２〜２００Ｖの電源を用いて、ハニカム構造部１１を１６０〜６００℃に発熱させるためには、電気抵抗率を上記の範囲とすることが好ましい。
なお、ハニカム構造部１１の電気抵抗率は、２５℃における値である。また、ハニカム構造部１１の電気抵抗率は、四端子法により測定した値である。

ハニカム構造部１１の単位体積当たりの表面積は、特に限定されないが、５ｃｍ²／ｃｍ³以上であることが好ましく、８〜４５ｃｍ²／ｃｍ³であることがより好ましく、２０〜４０ｃｍ²／ｃｍ³であることが特に好ましい。この表面積が５ｃｍ²／ｃｍ³以上であると、尿素水溶液との接触面積が十分に確保され、尿素水溶液の処理速度、すなわちアンモニアの発生量（発生速度）が適切に制御される。
なお、ハニカム構造部１１の表面積は、ハニカム構造部１１の隔壁１５の表面の面積である。

ハニカム構造部１１の隔壁１５の厚さは、０．０６〜１．５ｍｍが好ましく、０．１０〜０．８０ｍｍがより好ましい。隔壁１５の厚さが１．５ｍｍ以下であると、圧力損失が低減され、尿素水溶液の処理速度、すなわちアンモニアの発生量（発生速度）が適切に制御される。隔壁１５の厚さが０．０６ｍｍ以上であると、通電加熱による熱衝撃でハニカム構造部１１が破壊してしまうことが抑制される。
セル１４の形状（セル１４の延びる方向に直交する断面の形状）が、図２に示すような円形の場合、隔壁１５の厚さは、「セル１４同士の間の距離が最も短くなっている部分（隔壁１５の厚さが小さい部分）」における隔壁１５の厚さを意味する。
セル１４の密度は、７〜１４０セル／ｃｍ²が好ましく、１５〜１２０セル／ｃｍ²が更に好ましい。セル１４の密度が７セル／ｃｍ²以上であると、尿素水溶液との接触面積が十分に確保され、尿素水溶液の処理速度、すなわちアンモニアの発生量（発生速度）が適切に制御される。セル１４の密度が１４０セル／ｃｍ²以下であると、圧力損失が低減され、尿素水溶液の処理速度、すなわちアンモニアの発生量（発生速度）が適切に制御される。

ハニカム構造部１１は、一部のセル１４に対し、流体流入端面１３ａ側の端部に目封止部を設けてもよい。目封止部の材質は、隔壁１５の材質と同じであることが好ましいが、他の材質であってもよい。

流体流入端面１３ａの形状は、図２に示すような正方形の他、長方形、その他の多角形、円形、楕円形などの各種形状であってもよい。また、流体流入端面１３ａの形状は、流体流出端面１３ｂの形状と同じであり、セル１４の延びる方向に直交する断面の形状と同じであることが好ましい。

ハニカム構造部１１の大きさは、流体流入端面１３ａ及び流体流出端面１３ｂの面積がそれぞれ５０〜１００００ｍｍ²であることが好ましく、１００〜８０００ｍｍ²であることがより好ましい。

セル１４の延びる方向に直交する断面におけるセル１４の形状は、図２に示すような円形の他、楕円形、四角形、六角形、八角形、又はこれらの組み合わせであることが好ましい。このような形状にすることにより、ハニカム構造部１１に排ガスを流したときの圧力損失が小さくなり、尿素水溶液中の尿素を効率的に分解することが可能となる。

電極部１２は、セル１４が延びる方向に沿って帯状に形成されているが、ハニカム構造部１１の周方向にも広がる幅広に形成されていてもよい。また、セル１４の延びる方向に直交する断面において、一方の電極部１２は、他方の電極部１２に対して、ハニカム構造部１１の中心を挟んで反対側に配設されている。このような構成とすることにより、一対の電極部１２の間に電圧を印加した時に、ハニカム構造部１１内を流れる電流の偏りを抑制することができるため、ハニカム構造部１１内の発熱の偏りを抑制することが可能になる。
また、電極部１２に対する電圧の印加は、流体流入端面１３ａにおける温度が９００℃以下となるようにハニカム構造部１１を発熱させることが好ましい。ハニカム構造部１１の温度の制御はハニカム構造部１１に温度測定手段を直接設けることにより制御することができる。あるいは、キャリアガス温度、キャリアガス流量及び尿素水溶液噴霧量からハニカム構造部１１の温度を推定して制御することも可能である。また、エンジンの運転条件をマッピングすれば、キャリアガス温度及びキャリアガス流量の測定に代えることもできる。

電極部１２の材質は、特に限定されないが、ハニカム構造部１１の隔壁１５の主成分と同じであることが好ましい。
電極部１２の電気抵抗率は、０．０００１〜１００Ωｃｍであることが好ましく、０．００１〜５０Ωｃｍであることがより好ましい。電極部１２の電気抵抗率をこのような範囲にすることにより、一対の電極部１２が、高温の排ガスが流れる排気筒内において、電極の役割を効果的に果たす。電極部１２の電気抵抗率は、ハニカム構造部１１の電気抵抗率より低いものであることが好ましい。
なお、電極部１２の電気抵抗率は、４００℃における値である。また、電極部１２の電気抵抗率は、四端子法により測定した値である。

一対の電極部１２には、外部からの電気配線１８を繋ぐための電極端子突起部１６が配設されていてもよい。電極端子突起部１６の材質は、導電性セラミックスであってもよいし、金属であってもよい。また、電極端子突起部１６の材質は、電極部１２と同じであることが好ましい。また、電極端子突起部１６と外筒２のコネクター１７とが、電気配線１８によって繋がれていることが好ましい。

ハニカム構造部１１には、尿素加水分解触媒が備えられていてもよい。尿素加水分解触媒を用いることにより、尿素からアンモニアを効率的に生成させることができる。尿素加水分解触媒としては、酸化チタンなどを挙げることができる。

（１−２）外筒２
外筒２の材質は、特に限定されないが、ステンレス鋼などが好ましい。
外筒２の形状は、ハニカム構造体１と嵌合させるため、セル１４の延びる方向に直交する断面において、ハニカム構造部１１の形状と同種であることが好ましい。ここで、本明細書において「同種の形状」とは、外筒２の形状が正方形であるときには、ハニカム構造部１１の形状も正方形であり、外筒２の形状が長方形であるときには、ハニカム構造部１１の形状も長方形であることを意味する。なお、例えば、外筒２の形状及びハニカム構造部１１の形状が、同種の形状であり、その形状が長方形である場合、縦と横との長さの比までが同じである必要はない。

（１−３）尿素噴霧器３
尿素噴霧器３の種類は、尿素水溶液を噴霧可能であれば特に限定されないが、ソレノイド式、超音波式、圧電アクチュエータ式、又はアトマイザー式であることが好ましい。これらを用いることにより、尿素水溶液を容易に霧状に噴霧することができる。また、これらの中でも、ソレノイド式、超音波式、又は圧電アクチュエータ式を用いると、空気を使用せずに尿素水溶液を霧状に噴霧することができる。そのため、尿素水溶液の噴霧に用いる空気を加熱する必要がなくなり、加熱するエネルギー量を低減することができる。また、噴霧に用いる空気を使用しないことにより、噴射体積が減少するため、ハニカム構造部１１内を霧状の尿素水溶液が通過する速度を低下させることが可能となり、分解に必要な反応時間を長く取ることができる。尿素噴霧器３から噴霧される尿素水溶液の液滴の大きさ（直径）は、０．３ｍｍ以下であることが好ましい。液滴の大きさが０．３ｍｍより大きいと、ハニカム構造部１１内で加熱された際に、気化し難くなることがある。

ここで、ソレノイド式の尿素噴霧器３は、ソレノイドの振動又はソレノイドを用いた電界によるピストンの前後動作により、尿素水溶液を霧状に噴霧する装置である。また、超音波式の尿素噴霧器３は、超音波振動により、尿素水溶液を霧状に噴霧する装置である。また、圧電アクチュエータ式の尿素噴霧器３は、圧電素子の振動により、尿素水溶液を霧状に噴霧する装置である。また、アトマイザー式の尿素噴霧器３は、例えば、管で液体を吸い上げながら、当該管の先端の開口部に吸い上げられた液体を空気で霧状に吹き飛ばして、当該液体を噴霧する装置である。なお、アトマイザー式の尿素噴霧器３は、ノズルの先端に小さな開口部を複数個形成し、当該開口部より液体を霧状に噴霧する装置であってもよい。

尿素噴霧器３は、ハニカム構造部１１の流体流入端面１３ａ側に尿素水溶液を噴霧し易くするために、尿素水溶液の噴霧方向（液滴が飛び出す方向）が、ハニカム構造部１１の流体流入端面１３ａ側を向いていることが好ましい。

（１−４）キャリアガス導入筒４
キャリアガス導入筒４の材質は、特に限定されないが、ステンレス鋼などが好ましい。
キャリアガス導入筒４の形状は、特に限定されないが、断面形状が、外筒２に形成されたキャリアガス導入口２２の形状と同種であることが好ましい。このような形状であれば、キャリアガス導入口２２にキャリアガス導入筒４を接続することが容易になる。

キャリアガスとして排ガスを用いる場合、図３に示すように、キャリアガス導入筒４は排ガスが流通する排気筒６１から分岐していることが好ましい。このような構成とすることにより、排気筒６１を流通する排ガスの一部をキャリアガス導入筒４内に容易に導くことができる。

また、キャリアガス導入筒４は、図４に示すように、還元剤噴射装置１００で生成したアンモニアが噴射される位置よりも下流側の排気筒６１から分岐していることが好ましい。このような構成とすることにより、還元剤噴射装置１００内で加熱されたキャリアガスを還元剤噴射装置１００内に再び取り込むことができるため、尿素デポジットを抑制する効果が高くなる。なお、還元剤噴射装置１００で生成したアンモニアが噴射される位置よりも下流側からキャリアガスを取り込んだ場合、キャリアガス中にアンモニアが含まれることがあるが、キャリアガス中のアンモニアは還元剤噴射装置１００をそのまま通過するため、還元剤噴射装置１００の機能に影響を及ぼすことはない。

（１−５）キャリアガス流量増幅器５
キャリアガス流量増幅器５としては、特に限定されず、コアンダ効果を利用したコアンダ流量増幅器、エジェクタなどの様々な流量増幅器を用いることができる。このような流量増幅器は市販されており、例えば、東浜工業株式会社製のエアー・セーバー、ＩＮＯＸ東栄株式会社製のＡＩＲ−Ｘ、虹枝株式会社製のトランスベクター及びフロートトランスベクターなどを用いることができる。コアンダ流量増幅器は、例えば、外部エアー導入口５１から外部エアーを導入することにより、外部エアーの２０倍以上にキャリアガスの流量を増幅させることができる。

キャリアガスとして排ガスを用いる場合、キャリアガス流量増幅器５は、例えば、排気筒からキャリアガス導入筒４に流入した排ガスを１．１倍以上の流量に増幅することが好ましい。また、流量の増幅倍率の上限は、特に限定されないが、好ましくは１．８倍、より好ましくは１．６倍である。このような流量に増幅することにより、還元剤噴射装置１００内にキャリアガスを十分に導入することができる。

次に、本実施形態の還元剤噴射装置１００の製造方法について詳細に説明する。
（２）還元剤噴射装置１００の製造方法
（２−１）ハニカム構造体１の製造
ハニカム構造体１がセラミックス製の場合、ハニカム構造体１の製造方法は、以下のような製造方法であることが好ましい。
ハニカム構造体１の製造方法は、ハニカム成形体作製工程と、ハニカム乾燥体作製工程と、未焼成電極付きハニカム体作製工程と、ハニカム構造体作製工程とを含む。

（ハニカム成形体作製工程）
ハニカム成形体作製工程では、成形原料を押出成形してハニカム成形体を作製する。成形原料は、セラミックス原料及び有機バインダを含むことが好ましい。成形原料には、セラミックス原料及び有機バインダ以外に、界面活性剤、焼結助剤、造孔材、水などをさらに配合してもよい。成形原料は、これらの原料を混合することによって得ることができる。

成形原料中のセラミックス原料は、「セラミックス」又は「焼成によりセラミックスとなる原料」である。セラミックス原料は、いずれの場合も、焼成後にセラミックスとなる。成形原料中のセラミックス原料は、金属珪素及び炭化珪素粒子（炭化珪素粉末）を主成分とするか、又は炭化珪素粒子（炭化珪素粉末）を主成分とすることが好ましい。これにより、得られるハニカム構造体１が導電性になる。金属珪素も金属珪素粒子（金属珪素粉末）であることが好ましい。なお、「金属珪素及び炭化珪素粒子を主成分とする」とは、金属珪素及び炭化珪素粒子の合計質量が、全体（セラミックス原料）の９０質量％以上であることを意味する。また、セラミックス原料に含まれる、主成分以外の成分としては、ＳｉＯ₂、ＳｒＣＯ₃、Ａｌ₂Ｏ₃、ＭｇＣＯ₃、コージェライトなどを挙げることができる。

セラミックス原料の主成分として炭化珪素を用いた場合には、焼成によって炭化珪素が焼結される。また、セラミックス原料の主成分として金属珪素及び炭化珪素粒子を用いた場合には、焼成により、金属珪素を結合材として、骨材である炭化珪素同士が結合される。

セラミックス原料として、炭化珪素粒子（炭化珪素粉末）及び金属珪素粒子（金属珪素粉末）を用いた場合、炭化珪素粒子の質量と金属珪素粒子の質量との合計に対して、金属珪素粒子の質量が１０〜４０質量％であることが好ましい。炭化珪素粒子の平均粒子径は、１０〜５０μｍが好ましく、１５〜３５μｍがより好ましい。金属珪素粒子の平均粒子径は、０．１〜２０μｍが好ましく、１〜１０μｍがより好ましい。炭化珪素粒子及び金属珪素粒子の平均粒子径はレーザー回折法で測定した値である。

有機バインダとしては、メチルセルロース、グリセリン、ヒドロキシプロピルメチルセルロースなどを挙げることができる。有機バインダとしては、１種類の有機バインダを用いてもよいし、複数種類の有機バインダを用いてもよい。有機バインダの配合量は、セラミックス原料の合計質量を１００質量部としたときに、５〜１０質量部であることが好ましい。

界面活性剤としては、エチレングリコール、デキストリンなどを用いることができる。界面活性剤としては、１種類の界面活性剤を用いてもよいし、複数種類の界面活性剤を用いてもよい。界面活性剤の配合量は、セラミックス原料の合計質量を１００質量部としたときに、０．１〜２．０質量部であることが好ましい。

焼結助剤としては、ＳｉＯ₂、ＳｒＣＯ₃、Ａｌ₂Ｏ₃、ＭｇＣＯ₃、コージェライトなどを用いることができる。焼結助剤としては、１種類の焼結助剤を用いてもよいし、複数種類の焼結助剤を用いてもよい。焼結助剤の配合量は、セラミックス原料の合計質量を１００質量部としたときに、０．１〜３質量部であることが好ましい。

造孔材としては、焼成後に気孔を形成するものであれば特に限定されず、例えば、グラファイト、澱粉、発泡樹脂、吸水性樹脂、シリカゲルなどを挙げることができる。造孔材としては、１種類の造孔材を用いてもよいし、複数種類の造孔材を用いてもよい。造孔材の配合量は、セラミックス原料の合計質量を１００質量部としたときに、０．５〜１０質量部であることが好ましい。

水の配合量は、セラミックス原料の合計質量を１００質量部としたときに、２０〜６０質量部であることが好ましい。

成形原料を押出成形する際には、まず、成形原料を混練して坏土を形成する。次に、坏土を押出成形してハニカム成形体を得る。ハニカム成形体は、流体流入端面１３ａから流体流出端面１３ｂまで延びる複数のセル１４を区画形成する多孔質の隔壁１５を有する。ハニカム成形体の隔壁１５は、未乾燥、未焼成の隔壁１５である。

（ハニカム乾燥体作製工程）
ハニカム乾燥体作製工程では、得られたハニカム成形体を乾燥させてハニカム乾燥体を作製する。乾燥条件は、特に限定されず、公知の条件を用いることができる。例えば、８０〜１２０℃で、０．５〜５時間乾燥させることが好ましい。

（未焼成電極付きハニカム体作製工程）
未焼成電極付きハニカム体作製工程では、まず、ハニカム乾燥体の側面に、セラミックス原料と水とを含有する電極形成用スラリーを塗布する。次に、電極形成用スラリーを乾燥させて未焼成電極を形成して、未焼成電極付きハニカム体を作製する。

未焼成電極付きハニカム体は、ハニカム乾燥体に、セル１４の延びる方向に帯状に延びると共に周方向にも広がる、幅広の長方形の未焼成電極が形成されていることが好ましい。周方向とは、セル１４の延びる方向に直交する断面において、ハニカム乾燥体の側面に沿った方向のことである。

未焼成電極付きハニカム体作製工程で用いられる電極形成用スラリーは、セラミックス原料と水とを含有する。電極形成用スラリーには、界面活性剤、造孔材、水などを配合してもよい。
セラミックス原料としては、ハニカム成形体を作製する際に用いられるセラミックス原料を用いることが好ましい。例えば、ハニカム成形体を作製する際に用いられるセラミックス原料の主成分を炭化珪素粒子及び金属珪素とした場合には、電極形成用スラリーのセラミックス原料としても炭化珪素粒子及び金属珪素を用いればよい。

ハニカム乾燥体の側面に、電極形成用スラリーを塗布する方法は特に限定されない。電極形成用スラリーは、例えば、刷毛を用いて塗布したり、印刷の手法を用いて塗布したりすることができる。

電極形成用スラリーの粘度は、２０℃において、５００Ｐａ・ｓ以下であることが好ましく、１０〜２００Ｐａ・ｓであることがより好ましい。電極形成用スラリーの粘度が５００Ｐａ・ｓ以下であると、電極形成用スラリーをハニカム乾燥体の側面に塗布し易くなる。

ハニカム乾燥体に電極形成用スラリーを塗布した後に、電極形成用スラリーを乾燥させて、未焼成電極（未焼成電極付きハニカム体）を得ることができる。乾燥温度は、８０〜１２０℃であることが好ましい。また、乾燥時間は、０．１〜５時間であることが好ましい。

（ハニカム構造体作製工程）
ハニカム構造体作製工程では、未焼成電極付きハニカム体を焼成してハニカム構造体１を作製する。
焼成条件は、ハニカム成形体の製造に用いられたセラミックス原料、及び電極形成用スラリーに用いられたセラミックス原料の種類に応じて適宜決定すればよい。
また、未焼成電極付きハニカム成形体を乾燥させた後、焼成前に、バインダなどを除去するため、仮焼成を行うことが好ましい。仮焼成は、大気雰囲気下、４００〜５００℃で０．５〜２０時間行うことが好ましい。

尿素加水分解触媒４０をハニカム構造体１に担持させる場合、その方法としては、例えば、尿素加水分解触媒４０のスラリーが貯留された容器に、ハニカム構造体１を浸漬させればよい。なお、尿素加水分解触媒４０のスラリーの粘度、含有される尿素加水分解触媒４０の粒径などを調整することによって、隔壁１５の表面だけでなく隔壁１５の細孔の内部にまで触媒を担持させることができると共に、担持する触媒の量を調節することもできる。また、スラリーの吸引を複数回行うことによっても、担持する触媒の量を調節することができる。

（２−２）還元剤噴射装置１００の製造
外筒２内にハニカム構造体１を挿入し、絶縁保持部２３を介してハニカム構造体１を外筒２内に固定すると共に、外筒２の一端（入口側端部）に尿素噴霧器３を配置する。そして、外筒２のコネクター１７と一対の電極部１２に配設した電極端子突起部１６との間を電気配線１８によって接続する。また、外筒２のキャリアガス導入口２２にキャリアガス導入筒４を接続し、キャリアガス導入筒４にキャリアガス流量増幅器５を設けることにより、還元剤噴射装置１００を製造することができる。

次に、本実施形態の還元剤噴射装置１００の使用方法について詳細に説明する。
（３）還元剤噴射装置１００の使用方法
本実施形態の還元剤噴射装置１００は、尿素水溶液を原料として供給することにより、尿素水溶液中の尿素を分解してアンモニアを生成させ、生成したアンモニアを外部に噴射する。具体的には、ハニカム構造部１１を通電して昇温（加熱）し、尿素噴霧器３に尿素水溶液を供給し、尿素噴霧器３からハニカム構造部１１の流体流入端面１３ａ側に尿素水溶液を噴霧する。このとき、キャリアガス流量増幅器５で流量を増幅させたキャリアガスをキャリアガス導入口２２からハニカム構造部１１の流体流入端面１３ａ側に導入することにより、尿素水溶液の流れを促進させてハニカム構造部１１内に尿素水溶液が停滞し難くする。尿素噴霧器３から噴霧された尿素水溶液は、ハニカム構造部１１で加熱されて蒸発する。尿素水溶液の蒸発によるハニカム構造部１１と尿素噴霧器３との間の領域内の圧力上昇、及びキャリアガスの流れにより、尿素水溶液は、流体流入端面１３ａからハニカム構造部１１のセル１４内に入る。セル１４内に供給された尿素水溶液中の尿素は、加熱されたハニカム構造部１１の温度により分解されてアンモニアが生成する。

キャリアガス流量増幅器５で増幅させた後のキャリアガスの流量としては、特に限定されないが、１〜２００Ｌ／分であることが好ましく、２〜５０Ｌ／分であることがより好ましい。このような流量であれば、ハニカム構造部１１内にキャリアガスを効率的に導入することができる。

尿素水溶液の供給量は、特に限定されないが、排ガスに含まれる窒素酸化物（ＮＯｘ）量に対して、当量比で１．０〜２．０であることが好ましい。当量比が１．０未満の場合、浄化されずに排出される窒素酸化物量が増加することがある。ただし、ＳＣＲ触媒にＮＯｘ吸蔵機能を付与すれば、当量比が１．０未満の期間があってもよい。当量比が２．０を超えると、排ガス中にアンモニアが混入した状態で排ガスが排出される可能性が高くなる恐れがある。

尿素水溶液としては、特に限定されないが、１０〜４０質量％の尿素を含む水溶液であることが好ましい。尿素含有量が１０質量％未満であると、ＮＯｘ還元のために多量の尿素水溶液を噴霧する必要があり、ハニカム構造部１１の通電加熱に要求される電力量が多くなることがある。尿素含有量が４０質量％を超えると、寒冷地で尿素が凝固する懸念がある。尿素水溶液の好適な例としては、市場で広く流通しているＡｄＢｌｕｅ（３２．５質量％の尿素水溶液、ドイツ自動車工業会（ＶＤＡ）の登録商標）が挙げられる。

ハニカム構造部１１の加熱温度は、１６０℃以上とすることが好ましく、１６０〜６００℃とすることがより好ましく、２５０〜４００℃とすることが更に好ましい。加熱温度が１６０℃以上であると、尿素が効率良く分解され易くなる。加熱温度が６００℃以下であると、アンモニアが燃焼され、排気筒６１にアンモニアが供給されないことが抑制される。また、ハニカム構造部１１の加熱温度は、３６０℃以上とすることが、還元剤噴射装置１００に析出する硫酸水素アンモニウム、硫酸アンモニウムなどの硫黄化合物を除去することができる点で好ましい。

ハニカム構造部１１に印加する最大電圧は、１２〜２００Ｖとすることが好ましく、１２〜１００Ｖとすることがより好ましく、１２〜４８Ｖとすることがさらに好ましい。最大電圧が１２Ｖ以上であると、ハニカム構造部１１を昇温し易くなる。最大電圧が２００Ｖ以下であると、電圧を昇圧させる装置が高価になることが抑制される。

＜実施形態２＞
図５は、本発明の実施形態２に係る還元剤噴射装置を示す模式断面図（ハニカム構造部のセルの延びる方向に平行な模式断面図）である。
図５に示すように、本実施形態の還元剤噴射装置２００は、実施形態１の還元剤噴射装置１００に対して、ハニカム構造部１１の流体流出端面１３ｂ側に、流体流出端面１３ｂと間隔をあけて配置された尿素加水分解触媒体３１をさらに備える点で構成が相違する。なお、本実施形態の還元剤噴射装置２００の他の構成については、実施形態１の還元剤噴射装置１００と同じであるため説明を省略し、相違点のみ詳細に説明する。

本実施形態の還元剤噴射装置２００では、ハニカム構造部１１の流体流出端面１３ｂ側に、流体流出端面１３ｂと間隔をあけて配置された尿素加水分解触媒体３１が設けられている。このような構成とすることにより、ハニカム構造部１１で未反応の尿素を尿素加水分解触媒体３１でアンモニアに分解することができるため、アンモニアの生成効率が向上する。
尿素加水分解触媒体３１は、尿素加水分解触媒が担持されたハニカム構造体であることが好ましい。尿素加水分解触媒体３１に用いられる担体（ハニカム構造体）は、上流に設けられるハニカム構造体１と同様の構造及び材質であってよい。なお、尿素加水分解触媒体３１に用いられるハニカム構造体は、一対の電極部１２を有していなくてよいが、上流に設けられるハニカム構造体１と同様に通電加熱可能な構成にしてもよい。

尿素加水分解触媒体３１は、上流に設けられるハニカム構造体１と同様にしてハニカム構造体（担体）を製造した後、尿素加水分解触媒をハニカム構造体に担持させればよい。尿素加水分解触媒をハニカム構造体に担持させる方法は、先で説明した通りである。

＜実施形態３＞
図６及び７は、本発明の実施形態３に係る排ガス処理装置を示す模式断面図である。
図６及び７に示すように、本実施形態の排ガス処理装置３００，４００は、排ガスが流通するための排気筒６１と、排気筒６１内にアンモニアを噴射するための還元剤噴射装置１００と、排気筒６１の、アンモニアが噴射される位置よりも下流側に配置されたＳＣＲ触媒６２とを備える。

排気筒６１は、各種エンジンなどから排出される排ガス（ＮＯｘを含有する排ガス）を通す配管であり、この中で、排ガスとアンモニアとが混合される。排気筒６１の大きさは、特に限定されず、本実施形態の排ガス処理装置３００，４００を取り付けるエンジンなどの排気系に合わせて、適宜決定することができる。また、排気筒６１の、ガスの流れる方向における長さは、特に限定されないが、還元剤噴射装置１００とＳＣＲ触媒６２との間の距離を適切な距離とすることが可能な長さであることが好ましい。

排気筒６１の材質は、特に限定されないが、排ガスによる腐食が発生し難いものであることが好ましい。排気筒６１の材質としては、例えば、ステンレス鋼などが挙げられる。

還元剤噴射装置１００に導入するキャリアガスとして排ガスを用いる場合、図６及び７に示すように、キャリアガス導入筒４は排気筒６１から分岐するように接続されている。排気筒６１から分岐するキャリアガス導入筒４の位置は、還元剤噴射装置１００の上流であってよいが、還元剤噴射装置１００の下流であってもよい。キャリアガス導入筒４を還元剤噴射装置１００の下流に配置することにより、還元剤噴射装置１００内で加熱されたキャリアガスを還元剤噴射装置１００内に再び取り込むことができるため、尿素デポジットを抑制する効果が高くなる。
また、排ガス以外のキャリアガス（例えば、吸気ガスなど）を用いる場合には、当該キャリアガスの供給源にキャリアガス導入筒４が接続される。

還元剤噴射装置１００は、噴射口２１が排気筒６１に装着されており、排気筒６１内にアンモニアを噴射する。還元剤噴射装置１００から排気筒６１内にアンモニアを噴射することにより、排気筒６１内でアンモニアと排ガスとの混合ガスが生成する。
還元剤噴射装置１００は、図６に示すように排気筒６１に１つ装着すればよい。また、図７に示すように排気筒６１に還元剤噴射装置を２つ装着してもよい。この場合、下流側の還元剤噴射装置は、還元剤噴射装置１００であっても、還元剤（尿素水）を加熱せずに噴霧する従来の還元剤噴射装置５００（例えば、尿素噴霧器３）であってもよい。好ましい実施形態では、下流側の還元噴霧装置は、還元剤（尿素水）を加熱せずに噴霧する従来の還元剤噴射装置５００である。これは、排ガス中のＮＯｘの量が少ない場合（排ガスの温度が低い場合）、上流側の還元剤噴射装置１００及びＳＣＲ触媒６２によってＮＯｘのほとんどが浄化され、また、排ガス中のＮＯｘの量が多い場合（排ガスの温度が高い場合）、従来の還元剤噴射装置５００から噴霧された尿素水が排ガスの温度によってアンモニアに分解されるためである。また、図示していないが、還元剤噴射装置１００は、必要に応じて排気筒６１に３つ以上装着してもよい。

ＳＣＲ触媒６２は、触媒体（ＳＣＲ触媒６２が担持されたハニカム構造体）の状態で、排気筒６１の、アンモニアが噴射される位置よりも下流側に配置される。したがって、図６に示すように、還元剤噴射装置１００が排気筒６１に１つ装着される場合、この還元剤噴射装置１００が装着された位置よりも下流側の排気筒６１にＳＣＲ触媒６２が配置される。また、図７に示すように、還元剤噴射装置１００が排気筒６１に２つ装着される場合、還元剤噴射装置１００及び従来の還元剤噴射装置５００が装着された位置よりも下流側の排気筒６１にＳＣＲ触媒６２がそれぞれ配置される。
ＳＣＲ触媒６２の例としては、バナジウム系触媒やゼオライト系触媒などを挙げることができる。
ＳＣＲ触媒６２を、ハニカム構造体に担持された触媒体として使用する場合には、当該触媒体を容器内に収納し、当該容器を排気筒６１の下流側に装着することが好ましい。
ＳＣＲ触媒６２を担持するハニカム構造体は、特に限定されず、当該技術分野において公知のものを用いることができる。

排気筒６１の上流側には、排ガス中の粒子状物質を捕集するためのフィルタが配置されていることが好ましい。粒子状物質を捕集するためのフィルタとしては、例えば、ハニカム形状のセラミックス製のＤＰＦ（ディーゼル・パティキュレート・フィルタ）６３を挙げることができる。また、排気筒６１の上流側には、排ガス中の炭化水素や一酸化炭素を除去するための酸化触媒６４が配置されていることが好ましい。酸化触媒６４は、セラミックス製のハニカム構造体に担持された状態（酸化触媒体）であることが好ましい。酸化触媒６４としては、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）などの貴金属が好適に用いられる。
還元剤噴射装置１００が排気筒６１に１つ装着される場合、ＤＰＦ６３及び酸化触媒６４は、図６に示すように、還元剤噴射装置１００によるアンモニアの噴射位置よりも上流側の排気筒６１に配置される。また、還元剤噴射装置１００が排気筒６１に２つ装着される場合、ＤＰＦ６３及び酸化触媒６４は、図７に示すように、従来の還元剤噴射装置５００によるアンモニアの噴射位置よりも上流側であり、且つ還元剤噴射装置１００が装着された位置よりも下流側にあるＳＣＲ触媒６２よりも下流側の排気筒６１に配置される。

ＳＣＲ触媒６２の下流側には、アンモニアを除去するためのアンモニア除去触媒（酸化触媒）を配置することが好ましい。このような構成とすることより、排ガス中のＮＯｘの除去に使用されなかった余分なアンモニアが下流側に流れた際に、そのアンモニアが外部に排出されることを防止することができる。ＳＣＲ触媒６２の下流側に配置される酸化触媒としては、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）などの貴金属が好適に用いられる。

なお、上記の説明では、実施形態１の還元剤噴射装置１００を用いた場合を説明したが、実施形態２の還元剤噴射装置２００を用いてもよい。

＜実施形態４＞
本発明の実施形態４に係る排ガス処理方法は、実施形態１又は２の還元剤噴射装置１００，２００で生成したアンモニアを排ガスに噴射し、アンモニアが混入した排ガスをＳＣＲ触媒で還元処理する。これにより、排ガス中のＮＯｘを除去することができる。この排ガス処理方法は、実施形態３の排ガス処理装置３００，４００を用いることによって容易に実施することができる。

還元剤噴射装置１００，２００は、キャリアガス流量増幅器５で流量を増幅させたキャリアガスを、尿素噴霧器３から噴霧された尿素水溶液と共に、ハニカム構造部１１の流体流入端面１３ａ側に安定して供給することができる。これにより、ハニカム構造部１１内のガスの流れを十分に促進し、ハニカム構造部１１内に尿素が残留することを抑制できるため、尿素デポジットの生成限界を上げることができる。さらに、加熱分解されたアンモニアをキャリアガスによって外部に排出することができるため、応答性が向上する。

ハニカム構造部１１の流体流入端面１３ａの温度は、１５０℃以上、好ましくは２５０℃以上となるように、キャリアガスの温度及び流量、並びにハニカム構造体１への供給電力を調整することが好ましい。このような温度制御を行うために、例えば、キャリアガスの温度は１８０℃以上、流量は１０Ｌ／分以上とすることが好ましい。また、ハニカム構造体１への供給電力は、１５０〜５００Ｗとすることが好ましい。

還元剤噴射装置１００，２００から噴射されるアンモニアの噴射量は、排ガスに含まれる窒素酸化物量に対して、当量比で１．０〜２．０であることが好ましい。当量比が１．０未満の場合は、浄化されずに排出される窒素酸化物量が増加することがある。当量比が２．０を超えると、排ガス中にアンモニアが混入した状態で排ガスが排出される可能性が高くなる恐れがある。

尿素水溶液の噴霧量及びハニカム構造部１１の温度（供給電力）は、電子制御装置によって、制御することが好ましい。また、ハニカム構造部１１の抵抗値から温度を算出し、算出された温度が所望の温度になるように、ハニカム構造部１１の温度を制御してもよい。

以下、本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
（実施例１）
図１に示されるような還元剤噴射装置１００を以下の手順に従って作製した。
まず、炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末とを７０：３０の質量割合で混合し、セラミックス原料を調製した。そして、セラミックス原料に、バインダとしてヒドロキシプロピルメチルセルロース、造孔材として吸水性樹脂を配合し、水をさらに配合して成形原料とした。そして、成形原料を真空土練機により混練して坏土を作製した。バインダの配合量はセラミックス原料１００質量部に対して７質量部とした。造孔材の配合量はセラミックス原料１００質量部に対して３質量部とした。水の配合量はセラミックス原料１００質量部に対して４２質量部とした。炭化珪素粉末の平均粒子径は２０μｍであり、金属珪素粉末の平均粒子径は６μｍであった。また、造孔材の平均粒子径は、２０μｍであった。炭化珪素、金属珪素及び造孔材の平均粒子径は、レーザー回折法で測定した値である。

次に、得られた坏土を押出成形機を用いて成形し、四角柱状（セルの延びる方向に直交する断面が正方形の柱状）のハニカム成形体を得た。得られたハニカム成形体を高周波誘電加熱乾燥した後、熱風乾燥機を用いて１２０℃で２時間乾燥し、両端面を所定量切断した。
次に、炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末とを６０：４０の質量割合で混合し、電極形成用セラミックス原料を作製した。そして、電極形成用セラミックス原料に、バインダとしてヒドロキシプロピルメチルセルロース、保湿剤としてグリセリン、分散剤として界面活性剤を配合し、水をさらに配合して混合した。そして、混合物を混練して電極形成用スラリーとした。
次に、電極形成用スラリーを、乾燥させたハニカム成形体（ハニカム乾燥体）の側面における平行な２面に帯状に塗布した。電極形成用スラリーは、ハニカム乾燥体の「４つの平面を有する側面（４つの側面）」の中の、１つの側面に帯状に塗布するとともに、当該「塗布された側面」に対して平行な１つの側面に帯状に塗布した。ハニカム乾燥体の側面に塗布された電極形成用スラリーの形状（外周形状）は、長方形とした。

次に、ハニカム乾燥体に塗布した電極形成用スラリーを乾燥させて未焼成電極付きハニカム体を得た。乾燥条件は、７０℃とした。
次に、電極形成用スラリーと同一の材料を用いて電極端子突起部１６を個別に２つ作製した。
次に、２つの電極端子突起部１６のそれぞれを、未焼成電極付きハニカム体の２つの電極部のそれぞれに貼り付けた。その後、この未焼成電極付きハニカム体を、脱脂し、焼成し、更に酸化処理してハニカム構造体１を得た。脱脂の条件は、５５０℃で３時間とした。焼成の条件は、アルゴン雰囲気下で、１４５０℃、２時間とした。酸化処理の条件は、１３００℃で１時間とした。

上記のようにして得られたハニカム構造体１の隔壁１５の厚さは０．１５２ｍｍであり、セルピッチは１．１１ｍｍであった。また、ハニカム構造部１１の単位体積当たりの表面積は、３１．１ｃｍ²／ｃｍ³であった。また、ハニカム構造体１の形状は、底面が正方形の柱状であり、底面の一辺は３０ｍｍであった。また、ハニカム構造体１のセル１４の延びる方向における長さは２５ｍｍであった。また、電極部の電気抵抗率は、０．１Ωｃｍであり、ハニカム構造部１１の電気抵抗率は、１．４Ωｃｍであった。ハニカム構造体１には、目封止部は形成しなかった。

次に、外筒２をステンレス鋼により作製した。外筒２の外周に電気配線用のコネクター１７を１個装着した。外筒２内にハニカム構造体１を挿入し、絶縁保持部２３で固定した。そして、ハニカム構造体１の一方の電極端子突起部１６と、外筒２のコネクター１７とを電気配線１８でつないだ。また、他方の電極端子突起部１６は、外筒２に接触させるようにした。さらに、外筒２の入口側端部内にソレノイド式の尿素噴霧器３を装着すると共に、外筒２のキャリアガス導入口２２にステンレス鋼製のキャリアガス導入筒４を接続し、キャリアガス導入筒４に、キャリアガス流量増幅器５として東浜工業株式会社製のエアー・セーバーを設けることによって還元剤噴射装置１００を得た。

（比較例１）
キャリアガス流量増幅器５を設けないこと以外は実施例１と同様にして還元剤噴射装置を得た。

上記の実施例で得られた還元剤噴射装置を図３に示す排気筒の所定の位置に設け、キャリアガス流量増幅器５による排ガスの流量の増幅倍率を変化させ、一定量の尿素水溶液（ＡｄＢｌｕｅ）を３０分間連続して噴霧する試験を行い、ハニカム構造部の流体流入端面側に尿素デポジットが発生しないときの尿素水溶液の最大噴霧量（ｇ／分）を求めた。また、上記の比較例で得られた還元剤噴射装置についても、上記と同様にして、ハニカム構造部の流体流入端面側に尿素デポジットが発生しないときの尿素水溶液の最大噴霧量（ｇ／分）を求めた。その結果を表１に示す。なお、尿素デポジットの発生の有無は、目視にて評価した。

表１に示すように、キャリアガス流量増幅器５を備える実施例の還元剤噴射装置は、キャリアガス流量増幅器５を備えていない比較例の還元剤噴射装置に比べて、ハニカム構造部の流体流入端面側に尿素デポジットが発生しないときの尿素水溶液の最大噴霧量が多く、尿素デポジットを安定して抑制することができることがわかった。特に、キャリアガス流量増幅器５による排ガスの流量の増幅倍率を１．１０倍以上に設定すると、ハニカム構造部の流体流入端面側に尿素デポジットが発生しないときの尿素水溶液の最大噴霧量がより多くなった。

以上の結果からわかるように、本発明によれば、尿素デポジットを安定して抑制することができる還元剤噴射装置を提供することができる。また、本発明によれば、還元剤噴射装置から必要量のアンモニアを安定的に噴射してＮＯｘの浄化を行うことが可能な排ガス処理装置及び排ガス処理方法を提供することができる。

本発明の還元剤噴射装置、排ガス処理装置及び排ガス処理方法は、各種エンジンなどから排出される排ガス中のＮＯｘを浄化するのに好適に利用することができる。

１ ハニカム構造体
２ 外筒
３ 尿素噴霧器
４ キャリアガス導入筒
５ キャリアガス流量増幅器
１１ ハニカム構造部
１２ 電極部
１３ａ 流体流入端面
１３ｂ 流体流出端面
１４ セル
１５ 隔壁
１６ 電極端子突起部
１７ コネクター
１８ 電気配線
２１ 噴射口
２２ キャリアガス導入口
２３ 絶縁保持部
３１ 尿素加水分解触媒体
５１ 外部エアー導入口
６１ 排気筒
６２ ＳＣＲ触媒
６３ ＤＰＦ
６４ 酸化触媒
１００、２００ 還元剤噴射装置
３００、４００ 排ガス処理装置
５００ 従来の還元剤噴射装置

Claims (10)

1. 流体流入端面から流体流出端面まで延びる複数のセルを区画形成する隔壁を有する柱状のハニカム構造部、及び前記ハニカム構造部の側面に配設され、前記ハニカム構造部を通電加熱するための少なくとも一対の電極部を有し、通電加熱された前記ハニカム構造部内で尿素水溶液中の尿素を分解してアンモニアを生成可能に構成されたハニカム構造体と、
   前記ハニカム構造体を収容し、前記ハニカム構造部の前記流体流入端面側にキャリアガスを導入するためのキャリアガス導入口を有する外筒と、
   前記外筒の一端に配置され、前記ハニカム構造部の前記流体流入端面側に尿素水溶液を噴霧する尿素噴霧器と、
   前記外筒のキャリアガス導入口に設けられたキャリアガス導入筒と、
   前記キャリアガス導入筒に設けられ、前記キャリアガスの流量を増幅するためのキャリアガス流量増幅器と
   を備える、還元剤噴射装置。
2. 前記キャリアガスは排ガスであり、前記キャリアガス導入筒は、前記排ガスが流通する排気筒から分岐している、請求項１に記載の還元剤噴射装置。
3. 前記キャリアガス導入筒は、アンモニアが噴射される位置よりも下流側の前記排気筒から分岐している、請求項２に記載の還元剤噴射装置。
4. 前記キャリアガス流量増幅器は、前記排気筒からキャリアガス導入筒に流入した排ガスを１．１倍以上の流量に増幅する、請求項２又は３に記載の還元剤噴射装置。
5. 前記ハニカム構造部の前記流体流出端面側に、前記流体流出端面と間隔をあけて配置された尿素加水分解触媒体をさらに備える、請求項１〜４のいずれか一項に記載の還元剤噴射装置。
6. 前記ハニカム構造部の電気抵抗率が０．０１〜５００Ωｃｍである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の還元剤噴射装置。
7. 前記ハニカム構造部は、珪素−炭化珪素複合材又は炭化珪素を主成分とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の還元剤噴射装置。
8. 前記ハニカム構造部の単位体積当たりの表面積が５ｃｍ²／ｃｍ³以上である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の還元剤噴射装置。
9. 排ガスが流通するための排気筒と、
   前記排気筒内にアンモニアを噴射するための、請求項１〜８のいずれか一項に記載の還元剤噴射装置と、
   前記排気筒の、前記アンモニアが噴射される位置よりも下流側に配置されたＳＣＲ触媒と
   を備える排ガス処理装置。
10. 請求項１〜８のいずれか一項に記載の還元剤噴射装置で生成したアンモニアを排ガスに噴射し、前記アンモニアが混入した前記排ガスをＳＣＲ触媒で還元処理する排ガス処理方法。

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