JPWO2020095346A1 - パターン計測方法、計測システム、及びコンピュータ可読媒体 - Google Patents
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Abstract
Description
反射板117に設けられた開口は、電子線107を通過させるものであり、十分小さくすることで、試料112上に形成された半導体パターンの穴底ないし溝底から鉛直上向きに放出された二次電子を選択的に検出することができる。一方で、偏向器115で二次電子を偏向し、鉛直上向きに放出された二次電子を、反射板117の開口を通過しないようにすることもできる。また、反射板117と検出絞り116の間に設けられたエネルギーフィルタ122により、鉛直上向きに放出された二次電子のエネルギーを選別することが出来る。
[数1]
深さ指標値D=(パターン幅W又はパターン面積A/輝度B)N
Nは正数である。数1は、パターン(凹部)底部の輝度B(第1の特徴)、パターン幅W又はパターン面積A(第2の特徴)、及びパターンの深さ指標値との関係を示す数理モデルであり、当該数理モデルに、輝度Bとパターン幅W、或いは面積Aを入力することによって、パターンの深さ指標値を導出する。なお、輝度評価領域の輝度値を用いて深さ指標値を導出する例について以下に説明するが、輝度値に代えて輝度値に応じて変化する他のパラメータであっても良い。例えば基準輝度値に対する差分値や、所定輝度範囲毎に割り当てられた指標値等が考えられる。更に、面積や寸法も面積や寸法に応じて変化する他のパラメータに置き換えることも可能である。
Rは侵入深さ(nm)、E0は入射電子のエネルギー(keV)、Aは原子量、ρは密度(g/cm3)、Zは試料の原子番号である。
Accelerating Voltage255を参照し、入射エネルギー設定欄256に設定する入射電子のエネルギーを入力し、Setボタン257を押すとレシピに入射電子のエネルギーが設定され、記憶部105やメモリ2507に記憶される。
[数3]
I=(W/GL)N
図10(d)は計測対象としてホールパターンを選択したときのobject選択画面の一例を示す図である。ホールパターン以外に楕円パターン、正方形パターン、及び長方形パターンを選択したときも同等のobject選択となる。深さ計測において、ホールを計測する場合は、Measurement選択一覧680でHole691を選択する。Measurementのタブ681でHole選択時にObjectタブ682を開くと、ホールを計測する項目693が選択できる。
[数4]
I=(A/GL)N
Measurement681、Object682で設定した計測パラメータは、Saveボタン683を押すと、 図9(c)に例示するMeasurement画面670のMS List671に追加される。
[数5]
D=(A/GL)0.5
また、深さ計測の対象パターンが溝形状の場合、溝底部から開口を見込む立体角は、概ね溝幅に比例し、且つ溝の深さに比例することから、輝度値GLも概ね溝幅に比例し、溝の深さに比例すると仮定すれば、指数Nは1.0となる。即ち、数6に基づいて、深さ(D)を求めることができる。
[数6]
D=W/GL
以上のように、パターンの形状や種類に応じた適切な指数を、パターンの種類に応じて予め登録しておくことによって、計測対象に応じた適切な深さ計測を行うことが可能となる。
[数7]
IT−SE=(WTx-SE,BSE/GLTx−SE)N
[数8]
IT−BSE=(WTx-SE,BSE/GLTx−BSE)N
また、輝度平均値GLTAve-SE、或いはGLTxAve−BSEを輝度値とする場合には、数9或いは数10を用いて深さ指標値を算出する。
[数9]
IT−SE=(WTx-SE,BSE/GLTAve-SE)N
[数10]
IT−BSE=(WTx-SE,BSE/GLTxAve−BSE)N
更に、複数のトレンチの平均溝幅WTAveを溝幅とする場合には、数11或いは数12を用いて深さ指標値を算出する。
[数11]
IT−SE=(WTAve-SE,BSE/GLTAve-SE)N
[数12]
IT−BSE=(WTAve-SE,BSE/GLTxAve−BSE)N
以上のように輝度値と寸法値(上述の例では溝の幅)の2つの情報に基づいて、深さ計測を実施することによって、試料の材質やパターン密度の違いによらず、正確な深さ計測を行うことが可能となる。
以上のようにして求められた面積値、輝度値を数13、数14に代入することによって、深さ指標値を算出する。
[数13]
IH−SE=(AreaH−SE,BSE/GLH−SE)N
[数14]
IH−BSE=(AreaH−SE,BSE/GLH−BSE)N
図18は、楕円パターン画像の一例を示す図である。(a)はSE画像、(b)はBSE画像の一例を示している。楕円パターンでもホールパターン同様、底部の輝度と面積を計測する。楕円の場合は、複数方向の輝度プロファイル401から複数方向の直径(例えば402)の寸法値を求め、その中から最大値a(図18(a)の例ではP5−P13)と、最小値b(図18(a)の例ではP1−P9)を抽出し、πabを解くことによって、AreaO−SEを求める。また、楕円内部の輝度GLO−SEを計算する。BSE画像でも同様に楕円パターン410の面積AreaO−BSEと、楕円内部の輝度GLO−BSEを求める。以上のようにして求められた輝度と面積を、(面積/輝度)Nに代入することによって、深さ指標値を算出する。SE画像と同時撮像したBSE像を用いて輝度値を算出する場合は、SE画像の面積計算で認識した領域と同じ領域で輝度平均値を計測することも可能である。
[数15]
AreaH−SE−Ave=Average(AH1−SE+AH2−SE+AH3−SE+・・・+AHn−SE)
[数16]
AreaH−BSE−Ave=Average(AH1−BSE+AH2−BSE+AH3−BSE+・・・+AHn−BSE)
また、輝度値の平均値(GLH−SE−Ave、GLH−BSE−Ave)を、数17、18を用いて算出する。GLH1−SE・・・、GLH1−BSE・・・は、画像処理に基づいて得られる各ホール中心部を含む領域の輝度値である。
[数17]
GLH−SE−Ave=Average(GLH1−SE+GLH2−SE+GLH3−SE+・・・+GLHn−SE)
[数18]
GLH−BSE−Ave=Average(GLH1−BSE+GLH2−BSE+GLH3−BSE+・・・+GLHn−BSE)
以上のようにして求められた平均面積値(AreaH−SE−Ave,AreaH−BSE−Ave)と平均輝度値(GLH−SE−Ave,GLH−BSE−Ave)から、数19、数20を用いて深さ指標値IH−SE−Ave、IH−BSE−Ave算出する。
[数19]
IH−SE−Ave=(AreaH−SE−Ave/GLH−SE−Ave)N
[数20]
IH−BSE−Ave=(AreaH−BSE−Ave/GLH−BSE−Ave)N
視野内に複数のパターンが含まれている場合のもう一つの深さ指標値計測として、パターンごとの面積と輝度を用いて深さ指標値を算出し、数21、22を用いて求める手法もある。(AH1−SE/GLH1−SE)・・・、AH1−BSE/GLH1−BSE)・・・は、画像処理に基づいて得られる各ホールの深さ指標値である。
[数21]
IH−SE−Ave=Average((AH1−SE/GLH1−SE)+(AH2−SE/GLH2−SE)+(AH3−SE/GLH3−SE)+・・・+(AHn−SE/GLHn−SE)
[数22]
IH−BSE−Ave=Average((AH1−BSE/GLH1−BSE)+(AH2−BSE/GLH2−BSE)+(AH3−BSE/GLH3−BSE)+・・・+(AHn−BSE/GLHn−BSE)
図20に例示するように、視野内に複数の同一形状パターンが存在する場合には、上述のような演算を行うことによって、高精度な高さ評価を行うことが可能となる。一方、視野内の複数のパターンの深さを比較する場合は、個別の面積値と輝度値、或いは複数の領域単位の平均面積値と平均輝度値に基づいて、深さ指標値を算出するようにしても良い。
上述のようにして求められた面積値、寸法値、及び輝度値を、予め記憶された(面積or寸法値/輝度値)Nに代入することによって、ホールやトレンチの深さ指標値を求めることができる。トレンチの長手方向の寸法が小さい場合(例えば視野内にトレンチ全体が表示されているような場合)は、長方形とみなし、図19に例示するように面積値(トレンチの幅の寸法値×トレンチの長手方向の寸法値)の算出に基づいて、深さ指標値を算出するようにしても良い。
Accelerating Voltage255を参照し、入射エネルギー設定欄256に設定する入射電子のエネルギーを入力し、Setボタン257を押すとレシピに入射電子のエネルギーが設定され、記憶部105やメモリ2507に記憶される。
[数15]
AreaH−SE−Ave=Average(AH1−SE+AH2−SE+AH3−SE+・・・+AHn−SE)
[数16]
AreaH−BSE−Ave=Average(AH1−BSE+AH2−BSE+AH3−BSE+・・・+AHn−BSE)
また、輝度値の平均値(GLH−SE−Ave、GLH−BSE−Ave)を、数17、18を用いて算出する。GLH1−SE・・・、GLH1−BSE・・・は、画像処理に基づいて得られる各ホール中心部を含む領域の輝度値である。
[数17]
GLH−SE−Ave=Average(GLH1−SE+GLH2−SE+GLH3−SE+・・・+GLHn−SE)
[数18]
GLH−BSE−Ave=Average(GLH1−BSE+GLH2−BSE+GLH3−BSE+・・・+GLHn−BSE)
以上のようにして求められた平均面積値(AreaH−SE−Ave,AreaH−BSE−Ave)と平均輝度値(GLH−SE−Ave,GLH−BSE−Ave)から、数19、数20を用いて深さ指標値IH−SE−Ave、IH−BSE−Ave算出する。
[数19]
IH−SE−Ave=(AreaH−SE−Ave/GLH−SE−Ave)N
[数20]
IH−BSE−Ave=(AreaH−BSE−Ave/GLH−BSE−Ave)N
視野内に複数のパターンが含まれている場合のもう一つの深さ指標値計測として、パターンごとの面積と輝度を用いて深さ指標値を算出し、数21、22を用いて求める手法もある。(AH1−SE/GLH1−SE)・・・、(AH1−BSE/GLH1−BSE)・・・は、画像処理に基づいて得られる各ホールの深さ指標値である。
[数21]
IH−SE−Ave=Average((AH1−SE/GLH1−SE)+(AH2−SE/GLH2−SE)+(AH3−SE/GLH3−SE)+・・・+(AHn−SE/GLHn−SE)
[数22]
IH−BSE−Ave=Average((AH1−BSE/GLH1−BSE)+(AH2−BSE/GLH2−BSE)+(AH3−BSE/GLH3−BSE)+・・・+(AHn−BSE/GLHn−BSE)
図20に例示するように、視野内に複数の同一形状パターンが存在する場合には、上述のような演算を行うことによって、高精度な高さ評価を行うことが可能となる。一方、視野内の複数のパターンの深さを比較する場合は、個別の面積値と輝度値、或いは複数の領域単位の平均面積値と平均輝度値に基づいて、深さ指標値を算出するようにしても良い。
Claims (19)
- 計測ツールを用いて試料上に形成された凹部を含む領域の画像或いは輝度分布を取得し、当該取得された画像或いは輝度分布から、凹部内部の第1の特徴と、凹部の寸法或いは面積に関する第2の特徴を抽出し、当該抽出された第1の特徴と第2の特徴を、第1の特徴、第2の特徴、及び凹部の深さ指標値の関係を示すモデルに入力することによって、凹部の深さ指標値を導く方法。
- 請求項1において、
前記凹部は、トレンチ、ビア、或いはその両方である方法。 - 請求項1において、
前記第1の特徴は、凹部の底の輝度に関連する値である方法。 - 請求項3において、
前記輝度に関する値を、前記凹部の寸法或いは面積より狭い領域で取得する方法。 - 請求項1において、
前記凹部は閉図形パターンであり、以下の演算式に基づいて前記深さ指標値を導く方法。
深さ指標値=(閉図形パターンの面積に関する値/閉図形パターン内部の輝度に関する値)N(Nは任意の正数) - 請求項5において、
前記Nは0.5である方法。 - 請求項1において、
前記凹部は溝状のパターンであり、以下の演算式に基づいて前記深さ指標値を導く方法。
深さ指標値=(溝幅の寸法に関する値/溝内部の輝度に関する値)N(Nは任意の正数) - 請求項7において、
前記Nは1.0である方法。 - 請求項1において、
前記導かれた深さ指標値を、当該深さ指標値とパターン深さとの関係情報を記憶するデータベースに参照することによって、パターン深さを導く方法。 - 請求項1において、
前記画像或いは輝度分布は、荷電粒子ビームの走査に基づいて得られるものであって、当該荷電粒子ビームの侵入深さは、深さ指標値の導出対象である凹部が形成された膜の膜厚より短い方法。 - 試料上に形成された凹部を含む領域の画像或いは輝度分布を取得するように構成された計測ツールと、前記取得された画像或いは輝度分布から、凹部内部の第1の特徴と、凹部の寸法或いは面積に関する第2の特徴を導出するように構成されたコンピュータ可読プログラムを実行するように構成されたコンピュータを備え、当該コンピュータは更に、前記導出された第1の特徴と第2の特徴と、当該第1の特徴、第2の特徴及び凹部の深さ指標値との関係を示すモデルを用いて、深さ指標値を導出するように構成されたコンピュータ可読プログラムを実行するシステム。
- 請求項11において、
前記前記計測ツールは、前記第1の情報を前記凹部の寸法或いは面積より狭い領域で取得するように構成されたシステム。 - 請求項11において、
前記凹部の種類を選択する入力装置を備え、前記コンピュータは当該入力装置によって入力された凹部の種類に応じたモデルを用いて、前記深さ指標値を導出するシステム。 - 請求項11において、
前記コンピュータは、前記凹部の種類が閉図形パターンである場合は、前記第2の特徴として閉図形の面積に関する値を導出するように構成されているシステム。 - 請求項14において、
前記コンピュータは、以下の演算式に基づいて前記深さ指標値を導くように構成されているシステム。
深さ指標値=(閉図形パターンの面積に関する値/閉図形パターン内部の輝度に関する値)N(Nは任意の正数) - 請求項11において、
前記コンピュータは、前記凹部の種類が溝状パターンである場合は、前記第2の特徴として溝状パターンの幅に関する値を導出するように構成されているシステム。 - 請求項16において、
前記コンピュータは、以下の演算式に基づいて前記深さ指標値を導くように構成されているシステム。
深さ指標値=(溝幅の寸法に関する値/溝内部の輝度に関する値)N(Nは任意の正数) - 請求項11において、
前記コンピュータは、前記導かれた深さ指標値を、当該深さ指標値とパターン深さとの関係情報を記憶するデータベースに参照することによって、パターン深さを導くように構成されているシステム。 - 計測ツールによって得られた画像、或いは輝度分布から、試料上に形成された凹部の深さ情報を生成するためのコンピュータで実行される方法を実施するためのコンピュータシステムで実行可能なプログラム命令を保存する非一時的コンピュータ可読媒体であって、
コンピュータで実行される方法は、
計測ツールを用いて試料上に形成された凹部を含む領域の画像或いは輝度分布を取得し、当該取得された画像或いは輝度分布から、凹部内部の第1の特徴と、凹部の寸法或いは面積に関する第2の特徴を抽出し、当該抽出された第1の特徴と第2の特徴を、第1の特徴、第2の特徴、及び凹部の深さ指標値の関係を示すモデルに入力することによって、凹部の深さ指標値を導く。
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