JPWO2020090051A1 - 導光板用光学材料及び導光板 - Google Patents
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Abstract
Description
高い導光性能を持つ導光板として種々の検討がされてきた。例えば、Rainbow Effectと呼ばれる色調不具合に対応するため導光板の板厚偏差(TTV)を制御したり、光の散乱による輝度低下を抑える目的で、導光板の二乗平均平方根粗さ(Rq)を制御したりすることが知られている(特許文献1〜3)。
このような状況下、導光板の小型化及び長光路化に適した反射角のずれを抑制した優れた導光性能を有する光学材料が望まれている。
すなわち、本発明は屈折率が1.70以上、板厚が1.1mm以下であり表面のWavinessが50×10−4degree未満である導光板用光学材料を提供する。
本発明の光学材料は屈折率nが1.70以上であれば、組成は限定されない。好ましい屈折率は1.75以上、さらに好ましい屈折率は1.78以上、特に好ましい屈折率は1.85以上である。
屈折率が高くなるほど導光板としたときの臨界角θcが小さくなり、光学装置の設計自由度が大きくなる。光学材料の組成物は高屈折率材料から主に構成され、樹脂またはガラスを用いることができる。
また、ガラスの好ましい具体例としては、酸化物基準のモル%表示で,
SiO2:0%〜70%、
B2O3:0%〜50%、
MgO:0%〜25%、
CaO:0%〜25%、
SrO:0%〜25%、
BaO:0%〜35%、
Li20:0%〜35%、
Na2O:0%〜35%、
K2O:0%〜35%、
Al2O3:0%〜10%、
Y2O3:0%〜10%、
TiO2:0%〜50%、
WO3:0%〜20%、
Nb2O5:0%〜35%、
La2O3:0%〜50%、
ZrO2:0%〜20%、
ZnO:0%〜35%、
Gd2O3:0%〜30%、
Sb2O3+SnO2:0%〜10%、
特に好ましくは、
SiO2:5%〜35%、
B2O3:5%〜25%、
MgO:0%〜5%、
CaO:0%〜10%、
SrO:0%〜10%、
BaO:0%〜10%、
Li20:0%〜10%、
Na2O:0%〜5%、
K2O:0%〜5%、
Al2O3:0%〜5%、
Y2O3:0%〜10%、
TiO2:15%〜40%、
WO3:0%〜5%、
Nb2O5:1%〜10%、
La2O3:1%〜25%、
ZrO2:1%〜10%、
ZnO:0%〜5%、
Gd2O3:0%〜10%、
Sb2O3+SnO2:0%〜5%、
の範囲にある組成物が挙げられる。
通常、樹脂とガラスではガラスの方が屈折率が高いことから、ガラスが好ましい。
本発明の光学材料は前記組成物を板状に成形し、後述する表面状態を特定の状態にすることで製造される。
光学材料の板状への成形方法は限定されず、例えば樹脂では押し出し成形及びプレス成形、ガラスであればフロート法、フュージョン法及びロールアウト法等、公知の手法を用いることができる。
光学材料の板厚は、1.1mm以下であり、0.1〜1.0mmが好ましく、0.3〜0.7mmが特に好ましい。この範囲にあることで、導光板としたときの薄型化と導光位置のずれの抑制とを両立することができる。
本発明の光学材料は表面のうねり状態が小さく、これにより導光板中を全反射する光の反射角のずれによる画像の明暗比及び明細度の低下を抑えることができる。
本発明ではWavinessを表面のうねり状態を表す指標とする。Wavinessは表面の局所的なうねりの傾き(Degree)をある範囲内で平均化したものを指す。
図1には実施例1でWavinessを測定するための表面状態を測定したデータを示しているが、極微細な表面の凹凸状態の角度変化からWavinessが算出される。
算出方法の具体例は実施例にて説明する。
本発明の光学材料のWavinessは50(×10−4degree)未満であり、好ましくは20(×10−4degree)以下、特に好ましくは1.0〜10(×10−4degree)の範囲である。
また、二乗平均平方根粗さ(Rq)が2.0nm以下であることが好ましく、光の散乱による輝度低下を抑えることができる。
直径150mm(6inch)、板厚(表1記載)の円板状のガラス板を使用。
[屈折率]
屈折率はヘリウムd線に対する屈折率であり、屈折率計(カルニュー光学工業社製、商品名:KRP−2000)で測定した。
ノギスを用いて、サンプル端部の厚さ(d)を測定した。
東京精密製のSurfcom579Aを用いて、(WCA,CUT OFF 0.8〜8mm)の条件で基板表面のうねりの高さについて局所的な変化量を測定し、微分処理することによりwaviness(Degree換算値)を算出した。測定は、図2に示す通り、サンプルを3等分した直線(中心から外縁まで65mm)について測定した。
算出方法は下記式の通りである。
Wx(場所xにおけるwaviness)
=180*ATAN(0.001*((うねり最大高さ)−(うねり最小高さ))/(うねりの最大高と最小高さとの距離)/π
W=(0mm〜65mm)におけるWxの平均値。
最後に3本の直線範囲の結果の平均値を結果として表1に示した。
導光性は、理想的な反射(うねりがない条件)とうねりがある条件における反射における光の位置のずれ(ΔL)をシミュレーションにより求めて評価した。
具体的には、図3に示すように直射光が光学材料中を全反射した場合の理想的な反射(うねりがない光学材料中の反射)による反射光の導光距離が最も65mmに近づいた点を基準点として、距離(L0)及び反射回数Nを記録する。
次に、実施例等のうねりがA面にあり、B面はうねりがない条件(違いを明確にするため、片面のみうねりがある条件とした。)において、N回、直射光が全反射したときの導光距離(L1)を測定し、光の到達点のずれ(ΔL)を、ΔL=|L0−L1|により求めた。
条件:
反射角:表1に記載の条件における臨界角θc(θc=arcsin(n2/n1)
気中の屈折率:n1=1.0
光学材料の屈折率n2:表1に記載の条件
光学材料の板厚d:表1に記載の条件
基準となる導光距離:65mm
<理論的な条件とのずれΔL>
A:ΔL≦3.0μm
B:3.0μm<ΔL<4.0μm
C:4.0μm≦ΔL≦10.0μm
D:10.0μm<ΔL
A〜C評価を合格とし、D評価を不合格とした。
<臨界角θc>
A:θc≦30°
B:30°<θc<35°
C:35°≦θc≦40°
D:40°<θc
A〜C評価を合格とし、D評価を不合格とした。
<反射回数N>
A:90≦N
B:60≦N<90
C:45≦N<60
D:N<45
A〜C評価を合格とし、D評価を不合格とした。
次に両面研磨機(浜井製作所社製16B−N/F)を用いて研削及び研磨を行い、板厚を0.507mmまで薄くしてから面取り加工を行い、円板の半径を150mmに調整した。
最後に研磨材としてセリウム研磨材を用いて両面精密研磨をWavinessが表1の値になるまで行い、板厚0.500mmの評価用サンプルを作成した。評価結果を表1に示す。
表1に記載の条件に変更した以外は実施例1と同様に操作を行って評価用サンプルを作成する。
(ただし、実施例3、実施例4、比較例1、比較例2は研磨条件をそれぞれ最終の両面精密研磨における研磨レートを、実施例1と比較して実施例3は10%、実施例4は20%、比較例1は40%大きくなるように研磨条件を変更した。)評価結果を表1に示す。
・ガラス組成1:B2O3(19.5),SiO2(5.3),La2O3(26.4),Gd2O3(13.3),ZnO(16.7),Li2O(1.3),ZrO2(1.8),Ta2O5(9.8),WO3(6.0)
・ガラス組成2:Bi2O3(20.8),SiO2(4.5),La2O3(25.4),Gd2O3(17.5),ZnO(15.0),LiO2(1.7),ZrO2(1.8),Ta2O5(9.9),WO3(3.4)
・ガラス組成3:Bi2O3(68.9),B2O3(7.8),TeO2(12.4),P2O5(6.3),ZnO(1.8),TiO2(2.8)
・ガラス組成4:B2O3(42.7),Li2O(2.5),ZnO(9.7),La2O3(34.0),Gd2O3(11.0),Sb2O3(0.1)
・ガラス組成5:P2O5(71.0),B2O3(2.0),K2O(13.0)
表1に記載の条件に変更した以外は実施例1と同様に操作を行って評価用サンプルを作成する。
(ただし、参考例1、参考例2、比較例1、比較例2は研磨条件をそれぞれ最終の両面精密研磨における研磨レートを、実施例1と比較して参考例1は10%、参考例2は20%、比較例1は40%大きくなるように研磨条件を変更した。)評価結果を表1に示す。
Claims (6)
- 屈折率が1.70以上、板厚が1.1mm以下であり表面のWavinessが50×10−4degree未満である導光板用光学材料。
- Wavinessが1.0×10−4〜10×10−4degreeの範囲にある請求項1に記載の導光板用光学材料。
- 前記光学材料がガラスを含有する請求項1又は2に記載の導光板用光学材料。
- 前記ガラスの組成が、酸化物基準のモル%表示で,
SiO2:0%〜70%、
B2O3:0%〜50%、
MgO:0%〜25%、
CaO:0%〜25%、
SrO:0%〜25%、
BaO:0%〜35%、
Li20:0%〜35%、
Na2O:0%〜35%、
K2O:0%〜35%、
Al2O3:0%〜10%、
Y2O3:0%〜10%、
TiO2:0%〜50%、
WO3:0%〜20%、
Nb2O5:0%〜35%、
La2O3:0%〜50%、
ZrO2:0%〜20%、
ZnO:0%〜35%、
Gd2O3:0%〜30%、
Sb2O3+SnO2:0%〜10%、
の範囲にある請求項3に記載の導光板用光学材料。 - 板厚が0.3〜0.7mmの範囲にある請求項1〜4のいずれか1項に記載の導光板用光学材料。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の導光板用光学材料を用いた導光板。
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