JPWO2020053174A5 - - Google Patents

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本発明の一実施形態によれば、放射線変換材料は、タリウムで随意にドープされる、ヨウ化セシウム、セリウムで随意にドープされる、ヨウ化ルテチウム、テルビウムで随意にドープされる、又はプラセオジムで随意にドープされる酸硫化ガドリニウム、タングステン酸カルシウム、オキシオルトケイ酸ルテチウムイットリウム、ヨウ化ナトリウム、硫化亜鉛、ルテチウムガドリニウムガリウムガーネット、イットリウムアルミニウムガーネット、又は酸化ビスマスゲルマニウムなどのシンチレーションガーネット材料である。
本発明の一実施形態によれば、信号読み出し要素は、放射線を電荷に変換(直接変換)する又は光子に変換 (間接変換)する放射線変換材料に接続される。

Claims (12)

  1. 放射線検出器であって、
    i)基板と、
    ii)前記基板に結合されるセンサであって、前記センサは、
    複数のセンサ画素を有するのアレイ、
    複数の信号読み出し要素を有するのアレイ、及び
    前記信号読み出し要素から受信される信号に基づいて画像データを提供するように構成される電子回路
    を有する、センサと、
    iii)前記基板及び前記センサに結合されるトランスデューサであって、前記トランスデューサは、
    複数のサブ画素を有するのアレイであって、少なくともつのサブ画素がつのセンサ画素に割り当てられ、前記第2のアレイの前記複数の信号読み出し要素と前記第3のアレイの前記複数のサブ画素とは各々互いに対応しており、前記サブ画素の各々は放射線変換材料を有する、第3のアレイ
    を有する、トランスデューサと
    を有し、
    前記信号読み出し要素の少なくともつは、導電性電極であり、前記サブ画素の各々の前記放射線変換材料は光導電体であり、前記光導電体の組成及び/又は前記光導電体の厚さは、つのセンサ画素に割り当てられる少なくともつのサブ画素間で変化し、
    つのセンサ画素に割り当てられる前記少なくともつのサブ画素の間で変化する前記光導電体の組成が、i)前記光導電体のドーピングレベル、ii)ドーピング材料、及び/又はiii)ドーピング材料の組み合わせの少なくともつである、
    放射線検出器。
  2. 放射線検出器であって、
    i)基板と、
    ii)前記基板に結合されるセンサであって、前記センサは、
    複数のセンサ画素を有する第1のアレイ、
    複数の信号読み出し要素を有する第2のアレイ、及び
    前記信号読み出し要素から受信される信号に基づいて画像データを提供するように構成される電子回路
    を有する、センサと、
    iii)前記基板及び前記センサに結合されるトランスデューサであって、前記トランスデューサは、
    複数のサブ画素を有する第3のアレイであって、少なくとも2つのサブ画素が1つのセンサ画素に割り当てられ、前記第2のアレイの前記複数の信号読み出し要素と前記第3のアレイの前記複数のサブ画素とは各々互いに対応しており、前記サブ画素の各々は放射線変換材料を有する、第3のアレイ
    を有する、トランスデューサと
    を有し、
    前記信号読み出し要素の少なくともつはフォトダイオードであり、前記サブ画素の各々の前記放射線変換材料はシンチレータであり、前記放射線変換材料の組成及び/又は前記放射線変換材料の厚さは、つのセンサ画素に割り当てられる少なくともつのサブ画素間で変化し、
    1つのセンサ画素に割り当てられる少なくとも2つのサブ画素の間で変化する放射線変換材料の組成は、i)前記放射線変換材料のドーピングレベル、ii)ドーピング材料、及び/又はiii)ドーピング材料の組合せの少なくとも1つである、放射線検出器。
  3. 前記放射線変換材料は、タリウムで随意にドープされるヨウ化セシウム、セリウムで随意にドープされるヨウ化ルテチウム、テルビウムで随意にドープされるか、又はプラセオジムで随意にドープされる酸硫化ガドリニウム、タングステン酸カルシウム、ルテチウムイットリウムオキシオルトシリケート、ヨウ化ナトリウム、硫化亜鉛、ルテチウムガドリウムガリウムガーネット、イットリウムアルミニウムガーネット、又は酸化ビスマスゲルマニウムである、請求項に記載の放射線検出器。
  4. 前記光導電体は、i)非晶質セレン、ii)テルル化カドミウム亜鉛、iii)テルル化カドミウム、iv)ペロブスカイト、v)ヒ化ガリウム、vi)ヨウ化水銀(II)、vii)酸化鉛(II)、viii)臭化タリウム(I)、及びix)有機マトリックスに埋め込まれる無機光導電体ナノ粒子の少なくともつである、請求項に記載の放射線検出器。
  5. つのセンサ画素に割り当てられる前記少なくともつのサブ画素は、異なる次元及び/又は異なるサイズ及び/又は異なる距離空隙及び/又は異なる放射線変換材料及び/又は前記サブ画素の間の異なる材料組成を有するサブ画素である、請求項1乃至の何れか一項に記載の放射線検出器。
  6. 前記第のアレイは、前記サブ画素の前記異なる次元及び/又は前記サブ画素の前記異なるサイズ及び/又は前記サブ画素の異なる距離空隙及び/又は前記サブ画素の前記異なる放射線変換材料及び/又は前記サブ画素の間の前記異なる材料組成の不均一な分布を有する、請求項乃至の何れか一項に記載の放射線検出器。
  7. 記第のアレイ及び/又は前記第のアレイ及び/又は前記第のアレイは、次元アレイである、請求項1乃至の何れか一項に記載の放射線検出器。
  8. 記第のアレイ及び/又は前記第のアレイ及び/又は前記第のアレイは、次元アレイである、請求項1乃至の何れか一項に記載の放射線検出器。
  9. 記第のアレイ及び/又は前記第のアレイは、前記第のアレイのサブアレイスキームを定義する、請求項1乃至の何れか一項に記載の放射線検出器。
  10. 記第のアレイ及び/又は前記第のアレイは、空間解像度、スペクトルエネルギ分解能、又はダイナミックレンジ又はスペクトルエネルギレンジを提供するように構成される、請求項1乃至の何れか一項に記載の放射線検出器。
  11. 前記基板は、平坦又は湾曲形状を有する、請求項の1乃至10の何れか一項に記載の放射線検出器。
  12. 前記基板は、シリコン、ガラス又はポリマフォイルを有する、請求項1乃至11の何れか一項に記載の放射線検出器。
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