JPWO2020042656A5 - - Google Patents
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本開示の実施例の第１の態様によれば、基板上に位置し、第１の開口を有する第１の画素規定層を備え、前記第１の画素規定層は、第１の親疎性材料で形成される第１の部分と、第２の親疎性材料で形成される第２の部分と、を含み、前記第１の部分と前記第２の部分とは、基板表面における投影が重ならず、前記第１の画素規定層の第１の開口に面する側面は、前記第１の親疎性材料で形成される第１の側面と、第２の親疎性材料で形成される第２の側面と、を含み、前記第１の親疎性材料の親疎性は、前記第２の親疎性材料の親疎性と異なり、前記第１の部分の前記第１の開口に近い側は、歯形構造を含み、前記第２の部分は、前記歯形構造の歯間に位置する画素規定構造を提供している。 According to a first aspect of the embodiments of the present disclosure, the first pixel defining layer is located on a substrate and has a first opening, and the first pixel defining layer is a first intimacy material. Including a first portion formed by and a second portion formed of a second intimacy material, the first portion and the second portion are such that the projections on the surface of the substrate overlap. Instead, the side surface of the first pixel defining layer facing the first opening is a first side surface formed of the first intimacy material and a second side surface formed of the second intimacy material. The intimacy of the first intimacy material, including the sides, is different from the intimacy of the second intimacy material, and the side of the first portion near the first opening has a tooth profile. Including, the second portion provides a pixel defined structure located between the teeth of the tooth profile .
いくつかの実施例において、前記第１の部分は親液性部分であり、前記第２の部分は疎液性部分であり、前記歯の延在方向において前記疎液性部分は前記親液性部分からはみ出していない。 In some embodiments, the first portion is a wicked portion, the second portion is a liquefied portion, and the wicked portion is the wicked portion in the extending direction of the tooth. It does not protrude from the part.
いくつかの実施例において、前記画素規定構造は、前記第１の画素規定層の前記基板から遠い側に位置し、第２の開口を有する第２の画素規定層をさらに備え、前記第２の画素規定層は、前記第２の親疎性材料で形成され、前記第２の画素規定層の前記基板表面における投影は、前記第１の画素規定層の前記基板表面における投影によって完全に覆われており、前記第２の開口の前記基板表面における投影は、前記第１の開口の前記基板表面における投影を完全に覆っている。 In some embodiments, the pixel defining structure further comprises a second pixel defining layer located far from the substrate of the first pixel defining layer and having a second opening, said second. The pixel defining layer is formed of the second intimacy material, and the projection of the second pixel defining layer on the substrate surface is completely covered by the projection of the first pixel defining layer on the substrate surface. The projection of the second opening on the surface of the substrate completely covers the projection of the first opening on the surface of the substrate.
いくつかの実施例において、前記第１の画素規定層の第１の開口に面する側面の傾斜角は、３０度～９０度である。 In some embodiments, the tilt angle of the side surface of the first pixel defining layer facing the first opening is 30 to 90 degrees.
いくつかの実施例において、前記第２の画素規定層の前記第２の開口に面する側面の傾斜角は、３０度～９０度である。
いくつかの実施例において、第１の部分は、連続した本体部分と、前記本体部分から前記第１の開口へ伸びた前記歯形構造とを含む。
いくつかの実施例において、第１の部分は、互いに平行かつ離間した第１のストライプ状構造を複数含み、前記歯形構造は、複数の前記第１のストライプ状構造の前記第１の開口へ伸びた端部を含む。
In some embodiments, the tilt angle of the side surface of the second pixel defining layer facing the second opening is 30 to 90 degrees.
In some embodiments, the first portion comprises a continuous body portion and the tooth profile structure extending from the body portion to the first opening.
In some embodiments, the first portion comprises a plurality of first striped structures parallel and spaced apart from each other, wherein the tooth profile extends into the first opening of the plurality of the first striped structures. Includes edges.
本開示の実施例の第４の態様によれば、基板上に第１の開口を有する第１の画素規定層を形成することを含み、前記第１の画素規定層は、第１の親疎性材料で形成される第１の部分と、第２の親疎性材料で形成される第２の部分とを含み、前記第１の部分と前記第２の部分とは、基板表面における投影が重ならず、前記第１の画素規定層の前記第１の開口に面する側面が、前記第１の親疎性材料で形成される第１の側面と、前記第２の親疎性材料で形成される第２の側面とを含み、前記第１の親疎性材料の親疎性は、前記第２の親疎性材料の親疎性と異なり、前記第１の部分の前記第１の開口に近い側は、歯形構造を含み、前記第２の部分は、前記歯形構造の歯間に位置する、画素規定構造の製造方法を提供している。 According to a fourth aspect of the embodiments of the present disclosure, the first pixel defining layer having a first opening is formed on the substrate, and the first pixel defining layer is the first intimacy. A first portion formed of a material and a second portion formed of a second intimacy material are included, and the first portion and the second portion have overlapping projections on the substrate surface. Instead, the side surface of the first pixel defining layer facing the first opening is formed of the first side surface formed of the first intimacy material and the second side surface made of the second intimacy material. The intimacy of the first intimacy material, including the second aspect, is different from the intimacy of the second intimacy material, and the side of the first portion close to the first opening has a tooth profile. The second portion provides a method for manufacturing a pixel-defined structure located between the teeth of the tooth profile structure .
いくつかの実施例において、前記製造方法は、前記第１の画素規定層上に第２の画素規定層を形成することをさらに含み、前記第１の画素規定層及び前記第２の画素規定層を形成することは、前記基板上に第１の親疎性材料層を形成することと、前記第１の画素規定層の前記第１の部分を形成するように、前記第１の親疎性材料層をパターニングすることと、パターニングされた第１の親疎性材料層が形成された基板上に、第２の親疎性材料層を形成することと、前記第１の画素規定層の前記第２の部分及び前記第２の画素規定層を形成するように、前記第２の親疎性材料層をパターニングすることと、を含み、前記第２の画素規定層は、第２の開口を有し、前記第２の画素規定層の基板表面における投影は、前記第１の画素規定層の前記基板表面における投影によって完全に覆われており、前記第２の開口の前記基板表面における投影は、前記第１の開口の前記基板表面における投影を完全に覆っている。 In some embodiments, the manufacturing method further comprises forming a second pixel defining layer on the first pixel defining layer, the first pixel defining layer and the second pixel defining layer. To form the first intimacy material layer on the substrate and to form the first portion of the first pixel defined layer. To form a second intimacy material layer on a substrate on which a patterned first intimacy material layer is formed, and to form the second portion of the first pixel-defined layer. And the patterning of the second intimacy material layer so as to form the second pixel defining layer, wherein the second pixel defining layer has a second opening and the second. The projection of the second pixel-defined layer on the substrate surface is completely covered by the projection of the first pixel-defined layer on the substrate surface, and the projection of the second opening on the substrate surface is the first. It completely covers the projection of the opening on the surface of the substrate.
図１Ｃに示すように、第１の画素規定層ＰＤＬ１は、第１の親疎性材料で形成される第１の部分（例えば、親液性部分）１２０と、第２の親疎性材料で形成される第２の部分（例えば、疎液性部分）１３０と、を含む。いくつかの実施例において、第１の部分１２０と第２の部分１３０との高さは同じである。図１Ｄに示されるように、第１の部分１２０と第２の部分１３０とは、基板表面における投影が、重ならない。図１Ｃ及び図１Ｄに示すように、第１の部分１２０は、連続した本体部分と、本体部分から前記第１の開口へ伸びた歯形構造とを含む。 As shown in FIG. 1C, the first pixel-defined layer PDL1 is formed of a first portion (for example, a liquid-friendly portion) 120 formed of a first intimacy material and a second intimacy material. A second portion (eg, a sparsely liquid portion) 130, and the like. In some embodiments, the heights of the first portion 120 and the second portion 130 are the same. As shown in FIG. 1D, the first portion 120 and the second portion 130 do not overlap the projections on the substrate surface. As shown in FIGS. 1C and 1D, the first portion 120 includes a continuous body portion and a tooth profile structure extending from the body portion to the first opening.
第２の画素規定層ＰＤＬ２は、第２の親疎性材料で形成され、例えば、ＰＤＬ１の第２の部分１３０とは同一の第２の親疎性材料を含む。いくつかの実施例において、第２の画素規定層ＰＤＬ２における第２の親疎性材料は、第１の画素規定層ＰＤＬ１の第２の部分１３０における第２の親疎性材料と一体であり、例えば、いずれも疎液性材料である。ＰＤＬ２は、疎液性材料で形成されているか、又は、その表面に疎液性材料を有しており、これにより、湿式工程によって機能層を製造する過程におけるフラッディングを防止し、隣接画素間の混色を効果的に防止することができる。 The second pixel-defined layer PDL2 is formed of a second intimacy material and includes, for example, a second intimacy material identical to the second portion 130 of the PDL1. In some embodiments, the second intimacy material in the second pixel-defined layer PDL2 is integral with the second intimacy material in the second portion 130 of the first pixel-defined layer PDL1, eg, Both are sparse materials. The PDL2 is made of a sparse liquid material or has a sparse liquid material on its surface, thereby preventing flooding in the process of manufacturing a functional layer by a wet process and between adjacent pixels. Color mixing can be effectively prevented.
図１Ｄは、図１Ｂに示す断面図の線ＣＣ’に沿う第１の画素規定層ＰＤＬ１の断面図を示す。第１の部分１２０は親液性部分であり、第２の部分１３０は疎液性部分である。親液性部分１２０の第１の開口１１０に近い側は、歯形構造を有する。疎液性部分１３０は、歯形構造の歯間に位置している。歯の第１の開口１１０への延在方向において、疎液性部分１３０は、親液性部分１２０からはみ出していない。図１Ｄに示すように、第１の側面ＳＦ１と第２の側面ＳＦ２とは、基板１００の表面における投影Ｐ１とＰ２が互いに平行した直線であり、第１の画素規定層ＰＤＬ１の第１の開口に面する側部の、基板１００の表面における投影は、歯形であり、歯の延在方向において、親液性部分１２０は、疎液性部分１３０よりも突出している。いくつかの実施例において、歯形構造は矩形の歯形構造である。図１Ｄは、第１の画素規定層ＰＤＬ１の第１の開口１１０に面する側部は、基板１００の表面における投影が矩形の歯形であり、第１の側面ＳＦ１及び第２の側面ＳＦ２が矩形であることを示している。 FIG. 1D shows a cross-sectional view of the first pixel defining layer PDL1 along the line CC'in the cross-sectional view shown in FIG. 1B. The first portion 120 is a lyophilized portion and the second portion 130 is a sparsely liquefied portion. The side of the lipophilic portion 120 near the first opening 110 has a tooth profile. The sparse part 130 is located between the teeth of the tooth profile. In the extending direction to the first opening 110 of the tooth, the sparse liquid portion 130 does not protrude from the wicking portion 120. As shown in FIG. 1D, the first side surface SF1 and the second side surface SF2 are straight lines in which projections P1 and P2 on the surface of the substrate 100 are parallel to each other, and are first openings in the first pixel-defined layer PDL1 . The projection on the surface of the substrate 100 on the side facing the substrate is a tooth profile, and in the extending direction of the tooth, the lyophilized portion 120 protrudes more than the leached portion 130. In some embodiments, the tooth profile is a rectangular tooth profile. In FIG. 1D, the side portion of the first pixel-defined layer PDL1 facing the first opening 110 has a rectangular tooth profile projected on the surface of the substrate 100, and the first side surface SF1 and the second side surface SF2 are rectangular. It shows that.
図２Ａは、第２の画素規定層ＰＤＬ２’及び基板１００を示す。図２Ｂに示すように、第１の画素規定層ＰＤＬ１’は、第１の開口１１０’を有し、第２の画素規定層ＰＤＬ２’は、第１の画素規定層ＰＤＬ１’の開口とほぼ同じ第２の開口２１０’を有する。 FIG. 2A shows the second pixel defining layer PDL2'and the substrate 100. As shown in FIG. 2B, the first pixel-defined layer PDL1'has a first opening 110', and the second pixel-defined layer PDL2'is substantially the same as the opening of the first pixel-defined layer PDL1'. It has a second opening 210' .
図２Ｄは、図２Ｂに示す断面図の線ｃｃ’に沿う第１の画素規定層ＰＤＬ１’の断面図を示す。図２Ｄに示すように、第１の側面ＳＦ１’と第２の側面ＳＦ２’とは、基板１００の表面における投影Ｐ１’及びＰ２’が共通直線であり、すなわち、第１の側面と第２の側面は、面一である。 FIG. 2D shows a cross-sectional view of the first pixel defining layer PDL 1'along the line cc'in the cross-sectional view shown in FIG. 2B. As shown in FIG. 2D, the first side surface SF1'and the second side surface SF2' have projections P1'and P2'on the surface of the substrate 100 which are common straight lines , that is, the first side surface and the second side surface. The sides are flush.
図３Ｄは、図３Ｂの線ＣＣ’に沿う第１の画素規定層ＰＤＬ１’’の断面図である。図３Ｄに示すように、親液性部分１２０’’と疎液性部分１３０’’とは、交互的に設けられるストライプ状構造である。具体的には、親液性部分（第１の部分）１２０’’は、互いに平行かつ離間した第１のストライプ状構造を複数含み、疎液性部分（第２の部分）１３０’’は、互いに平行かつ離間した第２のストライプ状構造を複数含み、第２のストライプ状構造は、隣り合う第１のストライプ状構造の間に設けられている。ストライプ構造の延在方向に、親液性部分１２０’’は疎液性部分１３０’’よりも長い。図１Ｄに類似し、第１の画素規定層ＰＤＬ１’’の第１の開口に面する第１の側面ＳＦ１’’と第２の側面ＳＦ２’’とは、基板１００の表面における投影Ｐ１’’とＰ２’’が互いに平行した直線であり、第１の画素規定層ＰＤＬ１’’の第１の開口に面する側部の、基板１００の表面における投影も歯形である。 FIG. 3D is a cross-sectional view of the first pixel defining layer PDL1'' along the line CC'of FIG. 3B. As shown in FIG. 3D, the lipophilic portion 120 ″ and the sparsely liquefied portion 130 ″ have a striped structure provided alternately . Specifically, the lipophilic portion (first portion) 120 ″ contains a plurality of first striped structures parallel to and separated from each other, and the sparsely liquefied portion (second portion) 130 ″ includes. A plurality of second striped structures parallel to each other and separated from each other are included, and the second striped structure is provided between adjacent first striped structures. In the extending direction of the striped structure , the wicked portion 120 ″ is longer than the leached portion 130 ″. Similar to FIG. 1D, the first side surface SF1'' and the second side surface SF2'' facing the first opening of the first pixel defining layer PDL1'' are projected P1'' on the surface of the substrate 100. And P2'' are straight lines parallel to each other, and the projection on the surface of the substrate 100 on the side facing the first opening of the first pixel defining layer PDL1'' is also a tooth profile.
ステップＳ１２において、第１の親疎性材料層３００をパターニングして第１の画素規定層の第１の部分（例えば、親液性部分）を形成し、例えば、図７Ａ及び図７Ｂに示す構造を形成する。パターニングされた第１の親疎性材料層３００の開口３１０に近い側は、歯形構造を含む。図７Ａに示すように、第１の親疎性材料層３００の開口３１０に面する側部の基板１００における投影は、歯形である。すなわち、第１親疎材層の開口に面する側面は、凸部３１０Ｐと凹部３１０Ｃとが交互に配置された面となっている。いくつかの実施例において、パターニング工程は、リソグラフィ工程を含み、例えば、マスクを用いて第１の親疎性材料層を露光現像し、歯状の第１の親疎性材料層を形成する。 In step S12, the first intimacy material layer 300 is patterned to form a first portion (for example, a liquid-friendly portion) of the first pixel-defined layer, and the structures shown in FIGS. 7A and 7B are formed, for example. Form. The side of the patterned first intimacy material layer 300 near the opening 310 comprises a tooth profile. As shown in FIG. 7A, the projection on the substrate 100 on the side of the first intimacy material layer 300 facing the opening 310 is a tooth profile. That is, the side surface of the first sparse material layer facing the opening is a surface in which the convex portions 310P and the concave portions 310C are alternately arranged. In some embodiments, the patterning step comprises a lithography step, for example, using a mask to expose and develop the first intimacy material layer to form a tooth-like first intimacy material layer.
いくつかの実施例において、１セットのマスクを用いて、図１Ａ－１Ｄに示す第１の画素規定層ＰＤＬ１及び第２の画素規定層ＰＤＬ２を形成し、ただし、第２の開口２１０は第１の開口１１０よりも大きく、第２の画素規定層ＰＤＬ２は第１の画素規定層ＰＤＬ１を部分的に覆っている。 In some embodiments, a set of masks is used to form the first pixel-defined layer PDL1 and the second pixel-defined layer PDL2 shown in FIGS. 1A-1D, where the second opening 210 is the first. The second pixel-defined layer PDL2 is larger than the opening 110 of the above, and partially covers the first pixel-defined layer PDL1.
他の実施例において、別の１セットのマスクを用いて図２Ａ－２Ｄに示す第１の画素規定層ＰＤＬ１’及び第２の画素規定層ＰＤＬ２’を形成し、ただし、第２の開口２１０’は第１の開口１１０’と同じであり、第２の画素規定層ＰＤＬ２’は第１の画素規定層ＰＤＬ１’を完全に覆っている。 In another embodiment, another set of masks is used to form the first pixel-defined layer PDL1'and the second pixel-defined layer PDL2'shown in FIG. 2A-2D, provided that the second opening 210'. Is the same as the first opening 110', and the second pixel-defined layer PDL2' completely covers the first pixel-defined layer PDL1'.
例えば、測定された結果がＴ１／Ｔ０＜Ｌ１／Ｌ０であり、すなわち、横方向Ｔにおける厚さの均一性が縦方向Ｌにおける厚さの均一性よりも低いのであれば、横方向Ｔにおける第１の画素規定層の第１の開口に面する第１の側面と第２の側面との面積比を減少させ、乾燥過程における溶液の表面張力を再分布し、さらに、縦方向及び横方向における溶質の移動作用を均一にし、Ｔ１／Ｔ０＝Ｌ１／Ｌ０であることを可能な限り達成することができる。この場合、第１の側面の面積を小さくし或いは第２の側面の面積を大きくしてもよく、または、第１の側面の面積を小さくするとともに第２の側面の面積を大きくしてもよい。 For example, if the measured result is T 1 / T 0 <L 1 / L 0 , that is, if the thickness uniformity in the lateral T is lower than the thickness uniformity in the longitudinal L, then lateral. The area ratio of the first side surface facing the first opening of the first pixel defining layer in the direction T to the second side surface is reduced, the surface tension of the solution in the drying process is redistributed, and further, in the longitudinal direction. And the movement action of the solute in the lateral direction can be made uniform, and T 1 / T 0 = L 1 / L 0 can be achieved as much as possible. In this case, the area of the first side surface may be reduced or the area of the second side surface may be increased, or the area of the first side surface may be reduced and the area of the second side surface may be increased. ..
図１－１Ｄの、第１の側面及び第２の側面を含む第１の画素規定層の側部が矩形歯状であることを例として、開口形状を変えずに矩形歯状の幅を小さくすることができ、これにより、矩形歯状の先端部分に位置する第１の側面の面積が減少し、矩形歯状の底部に位置する第２の側面の面積が相応的に増加する。なお、第１の画素規定層は矩形歯状であることにより、溶液を引導し、機能層の様子をさらに制御することに役立つ。 Taking as an example that the side portion of the first pixel defining layer including the first side surface and the second side surface in FIG. 1-1D has a rectangular tooth shape, the width of the rectangular tooth shape is reduced without changing the opening shape. This allows the area of the first side surface located at the tip of the rectangular tooth to decrease and the area of the second side surface located at the bottom of the rectangular tooth to increase accordingly. Since the first pixel defining layer has a rectangular tooth shape, it is useful for guiding the solution and further controlling the state of the functional layer.
同様に、測定された結果がＴ１／Ｔ０＞Ｌ１／Ｌ０であり、すなわち、横方向Ｔにおける厚さの均一性が縦方向Ｌにおける厚さの均一性よりも大きいのであれば、縦方向Ｌにおける第１の画素規定層の第１の開口に面する第１の側面と第２の側面との面積比を低減することによって、Ｔ１／Ｔ０＝Ｌ１／Ｌ０であることを可能な限り達成することができる。 Similarly, if the measured result is T 1 / T 0 > L 1 / L 0 , that is, if the thickness uniformity in the lateral T is greater than the thickness uniformity in the longitudinal L. T 1 / T 0 = L 1 / L 0 by reducing the area ratio of the first side surface facing the first opening of the first pixel defining layer in the vertical direction L to the second side surface. You can achieve that as much as possible.
本開示のいくつかの実施例によれば、第１の側面と第２の側面の面積比は、這い上がり速度に反比例している。すなわち、ある方向における機能層材料の第１画素規定層の親液性部分における這い上がり速度が速いほど、当該方向における第１の側面と第２の側面との面積比を小さくするように調整する。縦方向Ｌ又は横方向Ｔにおける第１の画素規定層の第１の開口に面する第１の側面と第２の側面との面積比を減少させることによって、第１の画素規定層の側面における機能層材料の這い上がりを減少させることができ、これにより、Ｌ１／Ｌ０又はＴ１／Ｔ０をさらに向上させることができ、例えば、Ｌ１／Ｌ０≒Ｔ１／Ｔ０≒９０％であることを達成することができる。 According to some embodiments of the present disclosure, the area ratio of the first side surface to the second side surface is inversely proportional to the climbing speed. That is, the faster the creeping speed in the liquid-friendly portion of the first pixel defined layer of the functional layer material in a certain direction, the smaller the area ratio between the first side surface and the second side surface in the direction is adjusted. .. On the side surface of the first pixel defining layer by reducing the area ratio of the first side surface facing the first opening of the first pixel defining layer in the vertical direction L or the horizontal direction T to the second side surface. The creep-up of the functional layer material can be reduced, which can further improve L 1 / L 0 or T 1 / T 0 , for example L 1 / L 0 ≈ T 1 / T 0 ≈ 90. It can be achieved to be%.
例えば、Ｌ０≒１３５μｍであり、Ｔ０≒８０μｍであれば、Ｌ１／Ｌ０≒８５％であり、Ｔ１／Ｔ０≒８７．５％であると算出することができる。すなわち、幅方向Ｔにおける厚さの均一性が、縦方向Ｌにおける厚さの均一性よりも大きく、Ｔ１／Ｔ０＞Ｌ１／Ｌ０である。このため、縦方向Ｌにおける溶質の移動作用を調整することができ、例えば、縦方向Ｌにおける親液性材料に対する吸引作用を小さくし、疎液性材料に対する排斥作用を大きくすることができる。すなわち、縦方向Ｌにおける第１画素規定層の第１の開口に面する第１の側面と第２の側面との面積比を小さくし、Ｔ１／Ｔ０＝Ｌ１／Ｌ０であることを可能な限り達成し、且つ横方向Ｔにおける溶質の移動作用に一致することができる。 For example, if L 0 ≈ 135 μm and T 0 ≈ 80 μm, it can be calculated that L 1 / L 0 ≈ 85% and T 1 / T 0 ≈ 87.5%. That is, the uniformity of the thickness in the width direction T is larger than the uniformity of the thickness in the vertical direction L, and T 1 / T 0 > L 1 / L 0 . Therefore, the movement action of the solute in the vertical direction L can be adjusted, and for example, the suction action on the lipophilic material in the vertical direction L can be reduced and the exclusion action on the sparse liquid material can be increased. That is, the area ratio between the first side surface facing the first opening of the first pixel defining layer in the vertical direction L and the second side surface is reduced, and T 1 / T 0 = L 1 / L 0 . Can be achieved as much as possible and can match the movement action of the solute in the lateral direction T.
逆に、Ｌ０≒１２８μｍであり、Ｔ０≒８０μｍであれば、Ｌ１／Ｌ０≒９０％であり、Ｔ１／Ｔ０≒８７．５％であると算出できる。すなわち、幅方向Ｔにおける厚さの均一性は、縦方向Ｌにおける厚さの均一性よりも低く、Ｔ１／Ｔ０ ＜Ｌ１／Ｌ０である。このため、横方向Ｔにおける溶質の移動作用を調整することができ、例えば横方向Ｔにおいて疎液性材料に対する排斥作用を小さくし、親液性材料に対する吸引作用を大きくすることができる。横方向Ｔにおいて第１の画素規定層の第１の開口に面する第１の側面と第２の側面との面積比を大きくすることができ、これにより、乾燥工程における溶液の表面張力を再分布させ、横方向Ｔにおける溶質の移動作用が縦方向Ｌにおける溶質の移動作用と一致し、Ｔ１／Ｔ０＝Ｌ１／Ｌ０であることを可能な限り達成させる。 On the contrary, if L 0 ≈ 128 μm and T 0 ≈ 80 μm, it can be calculated that L 1 / L 0 ≈ 90% and T 1 / T 0 ≈ 87.5%. That is, the thickness uniformity in the width direction T is lower than the thickness uniformity in the vertical direction L, and T 1 / T 0 <L 1 / L 0 . Therefore, the movement action of the solute in the lateral direction T can be adjusted, for example, the exclusion action on the sparse liquid material can be reduced and the suction action on the lipophilic material can be increased in the lateral direction T. In the lateral direction T, the area ratio between the first side surface facing the first opening of the first pixel defining layer and the second side surface can be increased, thereby re-releasing the surface tension of the solution in the drying step. Distribute and achieve as much as possible that the solute moving action in the horizontal direction T coincides with the solute moving action in the vertical direction L and T 1 / T 0 = L 1 / L 0 .
第１の側面と第２の側面との面積比を決定するには、溶液の成分、第１の画素規定層の材料、及び側面の傾斜角などの様々な要因を考慮する必要がある。いくつかの実施例では、第１の画素規定層の第１の開口に面する側面の傾斜角は、３０度～９０度の範囲内である。 In order to determine the area ratio between the first side surface and the second side surface, it is necessary to consider various factors such as the composition of the solution, the material of the first pixel-defined layer, and the inclination angle of the side surface. In some embodiments, the tilt angle of the side surface of the first pixel defined layer facing the first opening is in the range of 30 degrees to 90 degrees.
第１の画素規定層ＰＤＬ１の親液性部分の第１の開口に近い側が歯形構造を含む画素規定構造において、歯の寸法によって第１の側面と第２の側面との面積比を反映することができる。歯の寸法は、形成される表示パネルの解像度に応じて決定され得る。表示パネルの解像度は、画素の寸法（すなわち、第１の開口の大きさ）及びピッチを決定し、すなわち、画素規定層の構造を決定し、例えば、画素規定ユニット（すなわち、ＰＤＬ１）の寸法を決定する。以下、長辺を例として、如何にして歯の寸法を決定するかを説明する。例えば、画素ピッチをＰ、画素の長辺の寸法をＤｐとすると、第１の画素規定ユニットＰＤＬ１の寸法がＤ１＝Ｐ－Ｄｐである。仮に、湿式工程によって機能層材料を含む溶液を形成する際に、フラッディングしない第２の画素規定ユニットＰＤＬ２の最小寸法をＤ２であり、第１の画素規定ユニットＰＤＬ１及び第２の画素規定ユニットＰＤＬ２の開口に面する傾斜角をいずれも９０度とすると、歯の最大寸法は（Ｄ１－Ｄ２）／２となる。 In a pixel-defined structure in which the side of the lyophilic portion of the first pixel-defined layer PDL1 near the first opening includes a tooth profile, the area ratio between the first side surface and the second side surface is reflected depending on the tooth size. Can be done. The dimensions of the teeth can be determined depending on the resolution of the display panel being formed. The resolution of the display panel determines the pixel dimensions (ie, the size of the first aperture) and the pitch, i.e. determines the structure of the pixel defining layer, eg, the dimensions of the pixel defining unit (ie, PDL1). decide. Hereinafter, how to determine the tooth size will be described using the long side as an example. For example, assuming that the pixel pitch is P and the dimension of the long side of the pixel is D p , the dimension of the first pixel defining unit PDL 1 is D 1 = PD p . Assuming that the minimum dimension of the second pixel defining unit PDL 2 that does not flood when forming a solution containing the functional layer material by the wet process is D 2 , the first pixel defining unit PDL 1 and the second pixel defining unit PDL 2 are assumed. If the inclination angle facing the opening of is 90 degrees, the maximum dimension of the tooth is (D 1 − D 2 ) / 2.
例えば、最大解像度が１６０ｐｐｉ（ｐｉｘｅｌｓ ｐｅｒ ｉｎｃｈ、各インチの画素）である表示パネルでは、長辺を例として、画素の寸法を１２０μｍとし、ピッチを１６０μｍとすると、第１の画素規定ユニットＰＤＬ１のユニットサイズは４０μｍとなる。仮に、インクジェット印刷によって機能層材料を含む溶液を形成する場合に、フラッディングしない第２の画素規定ユニットＰＤＬ２の最小寸法を２０μｍ、第１の画素規定ユニットＰＤＬ１及び第２の画素規定ユニットＰＤＬ２の開口に面する傾斜角をいずれも９０度とすると、歯の最大寸法は（４０－２０）／２＝１０μｍとなる。 For example, in a display panel having a maximum resolution of 160 ppi (pixels per inch, pixels of each inch), assuming that the pixel dimension is 120 μm and the pitch is 160 μm, the unit of the first pixel defining unit PDL1 is set as an example of the long side. The size is 40 μm. If a solution containing a functional layer material is formed by inkjet printing, the minimum dimension of the second pixel defining unit PDL2 that does not flood is set to 20 μm, and the opening of the first pixel defining unit PDL1 and the second pixel defining unit PDL2. Assuming that the facing inclination angles are all 90 degrees, the maximum size of the tooth is (40-20) / 2 = 10 μm.
解像度の異なる第１の画素規定層ＰＤＬ１における歯の調整可能な寸法の範囲（すなわち、ゼロから最大寸法までの範囲）が異なる可能性がある。分解能が高いほど、歯の調整可能な寸法範囲は大きくなる。 The adjustable dimensional range of the teeth (ie, the range from zero to the maximum dimension) in the first pixel-defined layer PDL1 with different resolutions may be different. The higher the resolution, the larger the adjustable dimensional range of the tooth.
前述した内容から分かるように、第１の画素規定ユニットＰＤＬ１における歯の調整可能な寸法範囲は、第１の画素規定ユニットＰＤＬ１及び第２の画素規定ユニットＰＤＬ２の開口に面する傾斜角の大きさにも依存している。なお、機能層材料を製造する湿式工程によって、フラッディングしない第２の画素規定ユニットＰＤＬ２の最小寸法も異なっている。すなわち、第１の画素規定ユニットＰＤＬ１における歯の調整可能な寸法範囲は、使用された湿式工程にも依存している。 As can be seen from the above-mentioned contents, the adjustable dimensional range of the teeth in the first pixel defining unit PDL1 is the size of the inclination angle facing the opening of the first pixel defining unit PDL1 and the second pixel defining unit PDL2. It also depends on. The minimum dimension of the second pixel defining unit PDL2 that does not flood differs depending on the wet process for manufacturing the functional layer material. That is, the adjustable dimensional range of the teeth in the first pixel defining unit PDL1 also depends on the wet process used.
Claims (21)
前記第１の画素規定層は、第１の親疎性材料で形成される第１の部分と、第２の親疎性材料で形成される第２の部分と、を含み、
前記第１の部分と前記第２の部分とは、基板表面における投影が重ならず、
前記第１の画素規定層の第１の開口に面する側面は、前記第１の親疎性材料で形成される第１の側面と、前記第２の親疎性材料で形成される第２の側面と、を含み、
前記第１の親疎性材料の親疎性は、前記第２の親疎性材料の親疎性と異なり、
前記第１の部分の前記第１の開口に近い側は、歯形構造を含み、前記第２の部分は、前記歯形構造の歯間に位置する
ことを特徴とする画素規定構造。 Located on the substrate, with a first pixel defining layer with a first opening,
The first pixel-defined layer includes a first portion formed of a first intimacy material and a second portion formed of a second intimacy material.
The projections on the surface of the substrate do not overlap between the first portion and the second portion, and the projections do not overlap.
The side surface of the first pixel defining layer facing the first opening is a first side surface formed of the first intimacy material and a second side surface formed of the second intimacy material. And, including
The intimacy of the first intimacy material is different from the intimacy of the second intimacy material.
The side of the first portion near the first opening comprises the tooth profile, and the second portion is located between the teeth of the tooth profile.
Pixel regulation structure characterized by that.
前記歯の延在方向において、前記疎液性部分は前記親液性部分からはみ出していない
ことを特徴とする請求項１に記載の画素規定構造。 The first portion is a lipophilic portion and the second portion is a sparse liquid portion .
The pixel-defined structure according to claim 1, wherein the sparse liquid portion does not protrude from the liquor-like portion in the extending direction of the tooth.
前記第１の側面及び前記第２の側面は、いずれも矩形である
ことを特徴とする請求項２に記載の画素規定構造。 The tooth profile is a rectangular tooth structure.
The pixel-defined structure according to claim 2, wherein the first side surface and the second side surface are both rectangular.
前記第２の画素規定層は、前記第２の親疎性材料で形成され、
前記第２の画素規定層の前記基板表面における投影は、前記第１の画素規定層の前記基板表面における投影によって完全に覆われており、
前記第２の開口の前記基板表面における投影は、前記第１の開口の前記基板表面における投影を完全に覆っている
ことを特徴とする請求項１に記載の画素規定構造。 A second pixel defining layer located on the side of the first pixel defining layer far from the substrate and having a second opening is further provided.
The second pixel defining layer is formed of the second intimacy material and is formed.
The projection of the second pixel-defined layer on the substrate surface is completely covered by the projection of the first pixel-defined layer on the substrate surface .
The pixel-defined structure according to claim 1, wherein the projection of the second opening on the substrate surface completely covers the projection of the first opening on the substrate surface.
ことを特徴とする請求項１に記載の画素規定構造。 The pixel-defined structure according to claim 1, wherein the first intimacy material contains SiO 2 .
ことを特徴とする請求項１に記載の画素規定構造。 The pixel-defined structure according to claim 1, wherein the second friendliness material contains a fluororesin material.
ことを特徴とする請求項１に記載の画素規定構造。 The pixel defining structure according to claim 1, wherein the inclination angle of the side surface of the first pixel defining layer facing the first opening is 30 degrees to 90 degrees.
前記第１の画素規定層の前記第１の開口に面する側面の全ては、いずれも前記第１の親疎性材料で形成される第１の側面と、前記第２の親疎性材料で形成される第２の側面とを含む
ことを特徴とする請求項１に記載の画素規定構造。 The first pixel defining layer has a mesh structure having a plurality of first openings.
All of the side surfaces of the first pixel-defined layer facing the first opening are formed of the first side surface formed of the first intimacy material and the second intimacy material. The pixel-defined structure according to claim 1, wherein the pixel-defined structure includes the second aspect.
ことを特徴とする請求項１に記載の画素規定構造。 The pixel-defined structure according to claim 1, wherein the first portion and the second portion in the first pixel-defined layer have the same height.
ことを特徴とする請求項４に記載の画素規定構造。 The second portion in the first pixel-defined layer and the second intimacy material in the second pixel-defined layer are integrated, and the second intimacy material is a sparse liquid material. The pixel-defined structure according to claim 4.
ことを特徴とする請求項４に記載の画素規定構造。 The pixel defining structure according to claim 4, wherein the inclination angle of the side surface of the second pixel defining layer facing the second opening is 30 degrees to 90 degrees.
ことを特徴とする表示パネル。 A display panel comprising the pixel-defined structure according to any one of claims 1 to 11.
ことを特徴とする表示装置。 A display device comprising the display panel according to claim 12.
前記第１の画素規定層は、第１の親疎性材料で形成される第１の部分と、第２の親疎性材料で形成される第２の部分とを含み、
前記第１の部分と前記第２の部分とは、基板表面における投影が重ならず、
前記第１の画素規定層の前記第１の開口に面する側面は、前記第１の親疎性材料で形成される第１の側面と、前記第２の親疎性材料で形成される第２の側面とを含み、
前記第１の親疎性材料の親疎性は、前記第２の親疎性材料の親疎性と異なり、
前記第１の部分の前記第１の開口に近い側は、歯形構造を含み、前記第２の部分は、前記歯形構造の歯間に位置する
ことを特徴とする画素規定構造の製造方法。 Including forming a first pixel-defined layer with a first opening on the substrate, including forming a first pixel-defined layer.
The first pixel-defined layer includes a first portion formed of a first intimacy material and a second portion formed of a second intimacy material.
The projections on the surface of the substrate do not overlap between the first portion and the second portion, and the projections do not overlap.
The side surface of the first pixel defining layer facing the first opening is a first side surface formed of the first intimacy material and a second side surface formed of the second intimacy material. Including the sides
The intimacy of the first intimacy material is different from the intimacy of the second intimacy material.
The side of the first portion near the first opening comprises the tooth profile, and the second portion is located between the teeth of the tooth profile.
A method for manufacturing a pixel-defined structure, characterized in that.
前記第１の画素規定層及び前記第２の画素規定層を形成することは、
前記基板上に第１の親疎性材料層を形成することと、
前記第１の画素規定層の前記第１の部分を形成するように、前記第１の親疎性材料層をパターニングすることと、
パターニングされた第１の親疎性材料層が形成された基板上に、第２の親疎性材料層を形成することと、
前記第１の画素規定層の前記第２の部分及び前記第２の画素規定層を形成するように、前記第２の親疎性材料層をパターニングすることと、を含み、
前記第２の画素規定層は、第２の開口を有し、
前記第２の画素規定層の基板表面における投影は、前記第１の画素規定層の前記基板表面における投影によって完全に覆われており、
前記第２の開口の前記基板表面における投影は、前記第１の開口の前記基板表面における投影を完全に覆っている
ことを特徴とする請求項１４に記載の画素規定構造の製造方法。 It further includes forming a second pixel-defined layer on the first pixel-defined layer.
Forming the first pixel defining layer and the second pixel defining layer is to form.
Forming a first intimacy material layer on the substrate,
By patterning the first intimacy material layer so as to form the first portion of the first pixel-defined layer,
Forming a second intimacy material layer on a substrate on which a patterned first intimacy material layer is formed ,
Including patterning the second intimacy material layer so as to form the second portion of the first pixel defining layer and the second pixel defining layer.
The second pixel defining layer has a second opening.
The projection of the second pixel-defined layer on the substrate surface is completely covered by the projection of the first pixel-defined layer on the substrate surface .
The method for manufacturing a pixel-defined structure according to claim 14, wherein the projection of the second opening on the surface of the substrate completely covers the projection of the first opening on the surface of the substrate.
前記第１の開口に形成されようとする機能層の前記親液性部分における這い上がり速度に応じて、前記第１の側面と前記第２の側面との面積比を決定することをさらに含む
ことを特徴とする請求項１４に記載の画素規定構造の製造方法。 The first portion is a lyophilized portion and is
Further comprising determining the area ratio of the first side surface to the second side surface according to the crawling speed of the functional layer to be formed in the first opening in the wicked portion. The method for manufacturing a pixel-defined structure according to claim 14.
ことを特徴とする請求項１６に記載の画素規定構造の製造方法。 The method for manufacturing a pixel-defined structure according to claim 16, wherein the area ratio between the first side surface and the second side surface is inversely proportional to the climbing speed.
ことを特徴とする表示パネルの製造方法。 A method for manufacturing a display panel, which comprises the method for manufacturing a pixel-defined structure according to any one of claims 14 to 17.
前記開口は、第１の開口を含み、
インクジェット印刷を用いて、前記開口内に前記機能層の材料を含む溶液を形成することをさらに含む
ことを特徴とする請求項１８に記載の表示パネルの製造方法。 The pixel-defined structure surrounds an opening for forming a functional layer.
The opening includes a first opening.
The method for manufacturing a display panel according to claim 18, further comprising forming a solution containing the material of the functional layer in the opening by using inkjet printing.
ことを特徴とする請求項１に記載の画素規定構造。The pixel defined structure according to claim 1, wherein the pixel is defined.
ことを特徴とする請求項１に記載の画素規定構造。The pixel defined structure according to claim 1, wherein the pixel is defined.
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