JPWO2020039662A1 - フェイスマスク - Google Patents

Abstract

本発明は、凹凸を有する使用者の顔面において、目立つ部位を化粧用組成物でケアすることができる美容用のフェイスマスクを提供することを目的とする。美容用のフェイスマスク１は、使用者の鼻に接する鼻部２０において、中心線の左側の部分及び右側の部分のそれぞれに、互いに独立して形成された複数の調整構造２２が配置されており、各調整構造２２は、鼻部２０の外形を規定する切れ込み６とは独立して形成されており、中心線の方向以外の方向において乖離した２点を起点とし、２点の下方または上方において接続する切れ込みによって空間Ｓを形成する空間境界部２４と、空間Ｓと同一形状であって、２点を結ぶ位置において、フェイスマスク１本体と接続しており、空間Ｓに配置される不動部２６と、を有する。

Description

本発明は美容用のフェイスマスクに関する。

従来、化粧用ローション等の化粧用組成物を含浸させた基材シートで形成されている顔用のフェイスマスクが、美容に使用されてきた（例えば、特許文献１及び特許文献２）。また、小鼻の部分への密着性を高めた鼻用のパックが提案されている（例えば、特許文献３）。さらに、フェイスマスクで使用者の鼻を覆うために、フェイスマスクに鼻の輪郭の切れ込みを形成せずに、フェイスマスクの鼻の部分にミシン目状の切れ込み線を形成する技術が提案されている（例えば、特許文献４）。

特開２０１２−４０２５０号公報 特開２００９−２４０７８８号公報 実用新案登録第３１２８４４５号公報 特許第４３５２４６１号公報

上述のいずれの技術も、凹凸を有する使用者の鼻の部分において、相対的に高く、目立つ位置を十分にマスクあるいはパックで覆い、化粧用組成物によってケアすることはできない。上述の技術によっては、マスクあるいはパックを顔の形状に追従させるに留まり、化粧用組成物によって十分にケアすることはできない。すなわち、マスクあるいはパックを顔の形状の追従させる際に、マスクあるいはパックに空間が生じ、その空間の部分に対応する使用者の顔に対しては、化粧用組成物によってケアすることはできない。例えば、特許文献１及び特許文献２の技術においては、鼻と周囲の部分の高さの差（以下、「高度差」という。）に対応するために、使用者の鼻の輪郭に対応する鼻部の外形を規定するようにフェイスマスクに切れ込みが形成されており、フェイスマスクの装着時には、高度差によって、その切れ込みが広がって空間となり、その空間において、フェイスマスクは顔を覆っていない状態になる。なお、鼻部の外形を規定するように形成された切れ込みが、高度差によって変形するから、切れ込みの両側のフェイスマスクの生地が重複することはない。また、特許文献３に記載の技術は、使用者の小鼻に対応するパックの位置に、図３７に示す切れ込みが形成されている。その切れ込みは、図３７に示すように、点Ｐ１とＰ３を結ぶ切込み１００Ａの中間部に、始点を点Ｐ２とする直線状の切込み１００Ｂが接続されたものである。図３７の切込み１００Ａ及び１００Ｂの部分が使用者の小鼻に接すると、小鼻の部分とその周辺の高さの差（以下、「小鼻高度差」という。）によって、図３８に示すように、切れ込み１００Ａは切込み１００Ａａと１００Ａｂに分離し、空間Ｓ１００ａを生じ、切れ込み１００Ｂは切込み１００Ｂａと１００Ｂｂに分離し、空間Ｓ１００ｂを生じる。空間Ｓ１００ａ及び空間Ｓ１００ｂにおいて、鼻用パックは小鼻を覆っていない状態になる。そして、空間Ｓ１００ｂは、小鼻において相対的に最も高い位置である可能性が高く、目立つ部分に対応する。このとき、小鼻高度差によって、切れ込み１００Ａ及び１００Ｂが変形し、切れ込み１００Ａ及び１００Ｂの両側のパックの生地が重複することはない。すなわち、特許文献３の技術においては、鼻用パックによって、小鼻の部分を十分に覆うことができず、しかも、最も目立つ部分を覆うことができない。さらに、特許文献４のフェイスマスクにおいては、例えば、図３９に示すように、複数の線分状の切れ込み（スリット）１００が線状に配列されている。図３９に示すスリット１００に矢印Ｘ１及びＸ２に示す左右方向の力が作用すると、図４０に示すように、スリット１００は、スリット１００の始点Ｐ１及び終点Ｐ２を起点として左右に広がり、隙間Ｓ１００を生じる。隙間Ｓ１００は、凹凸を有する使用者の鼻の部分において、相対的に高く、目立つ位置に生じる可能性が高い。すなわち、上述のいずれのフェイスマスクあるいは鼻用パックにおいても、目立つ部位を化粧用組成物でケアすることが困難である。

本発明は、上記を踏まえて、凹凸を有する使用者の顔面において、目立つ部位を化粧用組成物でケアすることができるフェイスマスクを提供するものである。

第一の発明は、化粧用組成物を含侵した美容用のフェイスマスクであって、前記フェイスマスクは、使用者の顔の全体を覆うように構成されており、使用者の額の中心から使用者の顎の中心を結ぶ線分に接する線を中心線とするとき、前記使用者の鼻に接する鼻部において、前記中心線の左側の部分及び右側の部分のそれぞれに、互いに独立して形成された複数の調整構造が配置されており、各前記調整構造は、前記鼻部の外形を規定する切れ込みとは独立して形成されており、前記中心線の方向以外の方向において乖離した２点を起点とし、前記２点の下方または上方において接続する切れ込みによって空間を形成する空間境界部と、前記空間と同一形状であって、前記２点を結ぶ位置において、前記フェイスマスク本体と接続しており、前記空間に配置される不動部と、を有し、前記使用者の顔において前記フェイスマスクの装着態様が調整されるときに、前記空間境界部が変形して前記空間が広がり、前記不動部が前記空間の中心部を含む領域を覆うことができるように構成されている、フェイスマスクである。

第一の発明の構成によれば、調整構造は鼻部の外形を規定する切れ込みとは独立して形成されている。このため、調整構造が鼻部の外形を規定する切れ込みと連続している場合に比べて、フェイスマスクが使用者に装着されたときに、使用者の鼻とその周囲の高さの差（高度差）による変形の影響は相対的に小さい。また、鼻部において、中心線の左側の部分及び右側の部分のそれぞれにおいて、複数の調整構造が配置されている。このため、高度差は、複数の調整構造によって調整される。したがって、使用者の顔においてフェイスマスクの装着態様が調整されるときに、空間境界部が変形して空間が広がるのであるが、左側の部分または右側の部分において調整構造が単一である場合に比べて、それぞれの空間の広がりの程度は相対的に小さいから、使用者の顔面を化粧用組成物によって効果的にケアすることができる。さらに、広がった空間の中心部を含む領域を不動部が覆うから、一層効果的に使用者の顔面を化粧用組成物でケアすることができる。ここで、広がった空間は、使用者の鼻の凹凸において、相対的に高く、目立つ部位に生じる可能性が高い。そして、広がった空間の中心部を含む領域を不動部が覆う。これにより、本発明の構成によれば、凹凸を有する使用者の顔面において、目立つ部位を化粧用組成物でケアすることができる。

第二の発明は、第一の発明の構成において、前記使用者の小鼻に接する小鼻部において、前記中心線の左側の部分及び右側の部分のそれぞれに、互いに独立して形成された複数の前記調整構造が配置されている、フェイスマスクである。

第二の発明の構成によれば、小鼻に接する小鼻部において、中心線の左側の部分及び右側の部分のそれぞれに、互いに独立して形成された複数の調整構造が配置されているから、使用者の小鼻の高さと周囲の高さの相違（小鼻高度差）は、複数の調整構造によって調整される。このため、使用者の顔においてフェイスマスクの装着態様が調整されるときに、空間境界部が変形して空間が広がるのであるが、小鼻部に単一の調整構造が形成されている場合や、調整構造が連続している場合に比べて、それぞれの空間は相対的に小さく、さらに、広がった空間の中心部を含む領域を不動部が覆う。広がった空間は、使用者の小鼻の凹凸において、相対的に高く、目立つ部位に生じる可能性が高い。そして、広がった空間の中心部を含む領域を不動部が覆う。

第三の発明は、第二の発明の構成において、前記小鼻部において、上下方向及び／または左右方向に複数の前記調整構造が互いに独立して配置されている、フェイスマスクである。

第三の発明の構成によれば、小鼻部において、上下方向及び／または左右方向に複数の調整構造が互いに独立して配置されているから、複雑な小鼻部の形状にきめ細かく追従し、しかも、最も高く目立つ位置を確実に不動部で覆い、化粧用組成物によってケアすることができる。

第四の発明は、第一の発明乃至第三の発明のいずれかの構成において、前記使用者の鼻の形状に従って、前記空間境界部が変形して広がり、前記不動部が前記空間境界部の中心部を含む領域を覆うときに、前記不動部が、前記空間境界部の下方または上方の前記フェイスマスクの部分と重複して重複領域を形成するように構成されている、フェイスマスクである。

第四の発明の構成によれば、重複領域を形成するから、空間境界部の下方または上方のフェイスマスクの領域において、一層効果的に、使用者の顔を化粧用組成物によってケアすることができる。

本発明にかかるフェイスマスクによれば、凹凸を有する使用者の顔面において、目立つ部位を化粧用組成物でケアすることができる。

本発明の第一の実施形態にかかるフェイスマスクの概略平面図である。 フェイスマスクの概略側面図である。 フェイスマスクの使用者の顔を示す概略図である。 フェイスマスクが使用者の顔面に装着された状態を示す概略図である。 フェイスマスクが使用者の顔面に装着された状態を示す概略図である。 フェイスマスクの鼻部を示す概略図である。 フェイスマスクが使用者の顔面に装着された状態における鼻部を示す概略図である。 フェイスマスクが使用者の顔面に装着された状態の鼻部を側面から視た概略図である。 調整構造を示す概略図である。 調整構造を示す概略図である。 調整構造を示す概略図である。 調整構造を示す概略図である。 調整構造を示す概略図である。 調整構造を示す概略図である。 調整構造を示す概略図である。 調整構造を示す概略図である。 本発明の第二の実施形態にかかるフェイスマスクの概略平面図である。 調整構造を示す概略図である。 調整構造を示す概略図である。 調整構造を示す概略図である。 調整構造を示す概略図である。 調整構造を示す概略図である。 調整構造を示す概略図である。 本発明の第三の実施形態にかかるフェイスマスクの概略平面図である。 本発明の第四の実施形態にかかるフェイスマスクの概略平面図である。 本発明の第五の実施形態にかかるフェイスマスクの概略平面図である。 調整構造を示す概略図である。 調整構造を示す概略図である。 本発明の第六の実施形態にかかるフェイスマスクの概略平面図である。 調整構造を示す概略図である。 調整構造を示す概略図である。 本発明の第七の実施形態にかかるフェイスマスクの概略平面図である。 本発明の第八の実施形態にかかるフェイスマスクの概略平面図である。 鼻部を拡大して示す概略図である。 鼻部を複数の部分に区分して示す概略図である。 小鼻部を拡大して示す概略図である。 従来例を示す概略図である。 従来例を示す概略図である。 従来例を示す概略図である。 従来例を示す概略図である。

＜第一の実施形態＞
以下、図面に基づき本発明の好適な実施形態を説明する。なお、当業者が適宜実施できる構成については説明を省略し、本発明の基本的な構成についてのみ説明する。

図１に示すように、フェイスマスク１は、基材シート２で構成されている。基材シート２は、例えば、不織布で形成されている。不織布の材質は、例えば、ポリエステル、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ボリビニルアルコール、コットン、キュプラ、レーヨン、パルプ等である。基材シート２には、化粧用組成物が含侵されている。化粧用組成物の主成分は水分であり、さらに、以下の美容成分のうち少なくとも一つを含む。美容成分は、例えば、ヒトオリゴペプチド−１、ヒトオリゴペプチド−１３、アセチルヘキサペプチド−８、パルミトイルペンタペプチド−４、水溶性コラーゲン、加水分解コラーゲン、サクシノイルアテロコラーゲン、リン酸アスコルビルＭｇ、サッカロミセス（黒砂糖、プラセンタエキス）発酵液、ヒアルロン酸Ｎａ、アセチルヒアルロン酸Ｎａ、ヒアルロン酸クロスポリマーＮａ、セレブロシド、アルブチン、アスパラギン酸Ｍｇ、グリチルリチン酸２Ｋ、グルコン酸銅、グルコン酸亜鉛、プラセンタエキス、サイタイエキス、水溶性プロテオグリカン、白金、酒粕エキス、イワベンケイ根エキス、リンゴ果実培養細胞エキス、ビタミンＡ油、トコフェロール、サッカロミセスセレビシアエエキス、セレブロシド、ＰＣＡ−Ｎａ、ナットウガム、アボカド油、カニナバラ果実油、アンズ核油、ヒマワリ種子油、ジラウロイルグルタミン酸リシンＮａ、アミノカプロン酸、ベタインである。

図１において、紙面手前側が図２の表面１Ａａであり、紙面裏側が図２の裏面１Ａｂである。フェイスマスク１が使用されるとき、裏面１Ａｂが使用者の顔面に接する。フェイスマスク１は、使用者２００（図３参照）の顔の全体を覆うように構成されている（図４及び図５参照）。

基材シート２には、瞼部４Ａ及び４Ｂ、鼻部２０、口部開口８、顎部１４、側方部切れ込み１６Ａ及び１６Ｂ、及び、フェイスマスク１の上下左右方向及び表裏を示すための突出部１８等が形成されている。鼻部２０の下方には線分状の水平方向の切れ込み（スリット）６が形成されている。基材シート２において、使用者２００の額に接する部分を額部１９とする。

本明細書において、額部１９が存在する方向をフェイスマスク１における上側（上方）、顎部１４が形成されている方向を下側（下方）、鼻部２０から視て側方部切れ込み１６Ａ及び１６Ｂへ向かう方向を外側（側方）、外側から鼻部２０へ向かう方向を中心方向と呼ぶ。フェイスマスク１において、使用者の額の中心から使用者の口の中心を結ぶ線分に接する仮想線を「中心線」と呼ぶ。上側から下側へ向かう方向が上下方向である。上下方向は鼻筋の方向を含むが、中心線と厳密に一致するものではない。フェイスマスク１の面上において、上下方向に直交する方向を左右方向と呼ぶ。ある構成に対して「上方」というときには、中心線と並行な線に沿って上側に位置する場合に限らず、左右にずれた上側であってもよい。同様に、ある構成に対して「下方」というときには、中心線と並行な線に沿って下側に位置する場合に限らず、左右にずれた下側であってもよい。また、ある構成に対して「左方」または「右方」というときには、中心線と垂直な線に沿って左側または右側に位置する場合に限らず、上下にずれた左側または右側であってもよい。また、切れ込みまたは開口が形成されていない部分を基材シート２の「本体部」と呼ぶ。

人間の顔面は３次元形状であり、凹凸がある。そして、凹凸の状態は顔面における部位によって異なり、各部位において、相対的に高い部分が凸部となり、相対的に低い部分が凹部となる。そして、鼻を含む鼻近傍の領域において凹凸は顕著である。

フェイスマスク１の鼻部２０は、使用者の鼻に接する部分である。鼻部２０には、使用者の鼻の凹凸を調整するための複数の調整構造２２が互いに独立して形成されている。また、調整構造２２は、鼻部２０の輪郭を規定する下方の切れ込み６とは連続しておらず、独立して形成されている。

フェイスマスク１には、化粧用組成物が含侵されているので、使用者の顔面に貼りつく。フェイスマスク１を装着する際には、まず、額、眼及び鼻などに接するように配置し、その後、頬や口、顎など、顔の形状に合わせて、装着していく。フェイスマスク１は、平均的な人間の顔面よりも大きく作られている。

一般的に、平面形状のフェイスマスクを立体的な顔の形状に合せると、フェイスマスクにしわやたるみの部分が生じ、その部分からフェイスマスクが顔面から剥がれたり、顔面から浮くことがある。剥がれや浮きの問題に対応するために、フェイスマスクの装着を微調整する必要がある。フェイスマスクの微調整を行うには、貼りついたフェイスマスクを顔の上を滑らせるようにずらしていく、もしくは、フェイスマスクの一部分を把持して外し、ずらす必要がある。この点、フェイスマスク１は、上述の調整構造２２、及び、側方部切れ込み１６Ａ等によって、フェイスマスク１のしわやたるみの発生を防ぎながら、最初の配置後に調整がしやすく、効果的に顔面に装着することを可能にしている。

フェイスマスク１の各構成について、以下に詳細に説明する。
＜瞼近傍の構成について＞
基材シート２には、使用者の瞼を覆う瞼部４Ａ及び４Ｂが形成されている（図１参照）。瞼部４Ａは基材シート２と線状の線分部４Ａａにおいて連続している。また、瞼部４Ａは略円弧状の瞼部切れ込み４Ａｂによって、使用時に基材シート２の本体部と乖離するようになっている。瞼部４Ａは、閉鎖部として使用者の瞼全体を覆うことができ（図４参照）、または、線分部４Ａａ近傍で折り畳んで、折り畳み部として使用される（図５参照）。使用者の目の大きさに合わせて、目の縁部で折り畳み、使用者の下瞼の下方の部分を集中的にケアするように構成されている。瞼部４Ｂの構成は、瞼部４Ａの構成と同様である。

＜鼻近傍の構成について＞
基材シート２には、使用者の鼻に接する鼻部２０に複数の調整構造２２（図６等参照）が互いに独立して形成されている。また、調整構造２２は、鼻部２０の輪郭を規定する下方の切れ込み６とは連続しておらず、独立して形成されている。調整構造２２は、顔面への装着前においては、図１及び図６に示す状態である。調整構造２２は、フェイスマスク１が使用者２００の顔面へ装着されて装着態様が調整されると、図４、図５、図７及び図８に示すように変形して、使用者２００の鼻２０６の形状に追従するように構成されている。以下、調整構造２２の構成を詳細に説明する。

上述のように、フェイスマスク１が使用者２００の顔面に装着されて、装着態様が調整されると、図７及び図８に示すように、調整構造２２が変形し、使用者２００の鼻２０６の形状に追従するように構成されている。以下、調整構造２２の構成を詳細に説明する。

図９に示すように、調整構造２２は、空間境界部２４、不動部２６、及び、接続部２８で構成される。空間境界部２４は、基材シート２を切り込んで形成されるスリットである。不動部２６は、空間境界部２４が形成された結果生じる部分であり、接続部２８によって基材シート２２の本体部と接続している。

図１０に示すように、空間境界部２４は、鼻筋の方向以外の方向において乖離した２点Ｑ１及びＱ２を起点とし、その２点の下方の下方部２４ｃで接続する切れ込み２４ａ及び２４ｂで形成される。空間境界部２４は、Ｕ字状に形成されている。

不動部２６は、使用者２００に装着される前の状態において、空間境界部２４によって画される空間と同一形状である。上述のように、不動部２６は、接続部２８によって基材シート２の本体部と接続している。接続部２８は、２点Ｑ１とＱ２を結ぶ線分である。

不動部２６は、空間境界部２４及び接続部２８を外周とする領域である。不動部２６は、空間境界部２４が使用者２００の鼻２０６の形状に従って変形したときに、空間境界部２４によって画される空間の中心部を含む領域を覆うように構成されている。

各調整構造２２において、空間境界部２４の２点Ｑ１とＱ２を結ぶ線分の中心から両端に向かう方向（以下、「線分方向」という。）は、フェイスマスク１が使用者２００の顔を覆って、使用者２００の鼻２０６の形状に応じて空間境界部２４が変形するときに、空間境界部２４に作用する力の方向と一致するように形成されている。

使用者２００の鼻２０６の各部位に接する鼻部２０の各部位について、空間境界部２４に作用する力の方向が解析され、線分方向がその力の方向と一致するように形成されている。このため、複数の調整構造２２において、線分方向は一様とは限らない。使用者２００の鼻２０６の各部位の位置及び形状に応じて、２点Ｑ１とＱ２の線分方向が、調整構造２２に作用する力の方向、すなわち、矢印Ｘ１方向及び矢印Ｘ２に示す方向と一致するように構成されている。

フェイスマスク１が２点Ｑ１とＱ２を結ぶ線分の長さは、鼻部２０の左右方向の最長部分の長さＬ２０（図６参照）の３分の１未満の長さとして規定されている。これにより、最長部分において、すくなくとも３つの調整構造２２を並列に配置することができる。図１の例においては、最長部分において、５つの調整構造２２が並列に配置されている。

上述のように、空間境界部２４の起点である点Ｑ１とＱ２を結ぶ線分の線分方向が、フェイスマスク１が使用者２００の顔を覆って、使用者２００の鼻２０６の形状に応じて空間境界部２４が変形するときに、空間境界部２４に作用する力の方向と一致するように形成されているから、不動部２６に作用する左右の力は相殺され、不動部２６は大きく移動することはなく、大きく変形することもない。このため、図１１に示すように、不動部２６は、空間境界部２４が変形して空間が広がったときに、空間境界部２４によって画される空間の中心部を含む領域を覆う。しかも、調整構造２２は複数形成されているから、各調整構造２２は、調整構造２２が単一である場合に比べて、相対的に小さく変形する。

図１２乃至図１５に示す調整構造２２において、不動部２６をハッチング（複数の平行な斜線）で示す。図１２の調整構造２２を分解すると、図１３に示すように、空間境界部２４によって画される空間Ｓと、空間Ｓと同一形状の不動部２６となる。不動部２６は接続部２８によって、基材シート２の本体部と接続されている。空間Ｓ及び不動部２６の上下方向の長さを長さＬ１とする。

フェイスマスク１が使用者２００の顔面に装着されると、空間境界部２４に起点である点Ｑ１とＱ２の線分方向の力が作用し、図１４に示すように、空間境界部２４が起点である点Ｑ１とＱ２の線分方向に変形し、空間Ｓは広がる。その結果、空間Ｓの長さは、当初の長さＬ１よりも短くなり、長さＬ２となる。

一方、不動部２６は、接続部２８以外においては、フェイスマスク１の本体部から独立している。このため、空間境界部２４に作用した力は接続部２８以外においては直接的に不動部２６には作用しない。また、接続部２８の両端には、ほぼ同じ大きさであり、かつ、反対方向の力が作用するから、不動部２６は大きくは移動せず、大きな変形もなく、不動部２６の長さは、当初の長さＬ１をほぼ維持する。その結果、図１５に示すように、不動部２６は、広がった空間Ｓの中央を含む領域を覆う。これにより、空間Ｓの大半は不動部２６に覆われ、空間Ｓの一部である小空間Ｓ１及びＳ２のみが、基材シート２で覆われない状態となる。

上述のように、空間Ｓの長さは当初の長さＬ１よりも短くなるのに対して、不動部２６は当初の長さＬ１をほぼ維持し、使用者２００の顔面に張り付いた位置を維持してほとんど移動しないから、図１５及び図１６に示すように、不動部２６が広がった空間Ｓを覆うときに、不動部２６は、変形した空間境界部２４の下方の基材シート２の本体部と重複して重複領域２６ａを形成する。重複領域２６ａにおいては、基材シート２が二重になっているから、より多くの化粧用組成物によって、重複領域２６ａと接する使用者２００の顔面の部分をケアすることができる。

上述のように、不動部２６は、広がった空間Ｓを覆うことにより、使用者２００の顔面に基材シート２が接しない面積を低減するだけではなく、重複領域２６ａを形成することによって、より多くの化粧用組成物によって、重複領域２６ａと接する使用者２００の顔面の部分をケアすることができる。複数の調整構造２２は、使用者２００の額の中心から使用者２００の口の中心を結ぶ線分に接する線を中心線とするとき、使用者２００の鼻２０６に接する鼻部２０において、中心線の左側の部分及び右側の部分のそれぞれに、互いに独立して形成されている。各調整構造２２は、鼻部２０の外形を規定する切れ込みとは独立して形成されている。本実施形態において、鼻部２０の外形を規定する切れ込みは、鼻部２０の下方部の線分状の切れ込み６である。調整構造２２に対する高度差の影響は相対的に小さく、調整構造２２は複数形成されているから、各調整構造２２に対する高度差及び鼻部高度差の影響はさらに相対的に小さい。これにより、各著性構造２２の変形の度合いは相対的に小さい。例えば、大きな一つの空間の面積と、複数の小さな空間の合計の面積が同一であるとき、小さな空間であれば化粧用組成物が基材シート２から染み出して覆うことができるのに対して、大きな一つの空間の場合には困難である。複数の小さな空間を形成する構成は、顔の形状への追従に効果的であることに加えて、化粧用組成物によって顔を覆う点においても有効である。さらに、上述のように、各調整構造２２は、中心線の方向以外の方向において乖離した２点を起点とし、その２点の下方または上方において接続する切れ込みによって空間Ｓを形成する空間境界部２４と、空間Ｓと同一形状であって、２点を結ぶ位置において、フェイスマスク１の本体部と接続しており、空間Ｓに配置される不動部２６と、を有し、使用者２００の顔においてフェイスマスク１の装着態様が調整されるときに、空間境界部２４が変形して空間Ｓが広がり、不動部２６が空間Ｓの中心部を含む領域を覆うことができるように構成されている。これにより、一層効果的に使用者の顔を化粧用組成物によってケアすることができる。

＜口の構成について＞
基材シート２には、使用者の口の部分に対応する口部開口８が形成されている（図１参照）。口部開口８の両端には、側方へ向かう端部切れ込み８ａ及び８ｂが形成されている。端部切れ込み８ａ及び８ｂによって、人によって異なる口の形状に追従しやすい。

＜顎の部分の構成について＞
基材シート２には、使用者の顎の部分に接する凸状の顎部１４が形成されている（図１参照）。顎部１４は、連続する凸状部１４ａ，１４ｂ，１４ｃ及び１４ｄで構成されている。図４及び図５に示すように、フェイスマスク１が使用者２００に装着されると、顎部１４は、使用者２００の顎に沿って、折り曲げられるように装着される。その際、凸状部１４ａ等は下顎に向かって寄せられて、一体となるように、使用者２００の顎と密着する。

＜側方の構成について＞
基材シート２には、側方部切れ込み１６Ａ及び１６Ｂが形成されている（図１参照）。側方部切れ込み１６Ａ及び１６Ｂは非直線的に形成されおり、フェイスマスク１が使用者２００の顔に装着されたときに、フェイスマスク１は頬骨を頂点とした周辺領域の盛り上がりとそれに続く部分の形状に追従する曲面部を形成することができる。

＜第二の実施形態＞
図１７乃至図２３を参照して、第二の実施形態について、第一の実施形態と異なる点を中心に説明し、第一の実施形態と共通する点は適宜説明を省略する。

図１７に示すように、フェイスマスク１Ａにおいて、鼻部２０Ａが形成されている。鼻部２０Ａは、複数の調整構造２２Ａによって形成されている。図１８乃至図２３に示すように、調整構造２２Ａにおいては、空間境界部２４Ａが、直線状の切れ込み２４Ａａ及び２４Ａｂによって形成されている。空間境界部２４Ａは、Ｖ字状に形成されている。直線状の切れ込み２４Ａａ及び２４Ａｂは、鼻筋の方向以外の方向において乖離した２点Ｑ１とＱ２を起点とし、２点Ｑ１及びＱ２の下方の点Ｑ３で接続している。直線状の切れ込み２４Ａａ及び２４Ａｂによって、二等辺三角形状の空間Ｓ（図２１参照）が形成され、空間Ｓと同一形状の不動部２６Ａが形成される。なお、鼻部２０Ａの下方の切れ込み６は、直線状の線分の両端近傍部が斜め上方に向かう形状に形成されている。後述の鼻部２０Ｄ、鼻部２０Ｅ及び鼻部２０Ｆの下方の切れ込み６も同様である。

図１８に示すように、調整構造２２Ａは、空間境界部２４Ａ、不動部２６Ａ、及び、接続部２８で構成される。空間境界部２４Ａは、基材シート２の本体部を切り込んで形成されるスリットである。不動部２６Ａは、空間境界部２４Ａが形成された結果生じる基材シート２の部分であり、接続部２８によって基材シート２の本体部と接続している。

不動部２６Ａは、使用者２００に装着される前の状態において、空間境界部２４Ａによって画される空間と同一形状である。すなわち、不動部２６Ａは、空間境界部２４Ａ及び接続部２８を外周とする領域である。不動部２６Ａは、使用者２００の鼻２０６の形状に従って、空間境界部２４Ａが変形して空間Ｓが広がったときに、空間Ｓの中心部を含む領域を覆うように構成されている。

空間境界部２４Ａの起点である点Ｑ１とＱ２の線分方向は、フェイスマスク１Ａが使用者２００の顔を覆って、使用者２００の鼻の形状に応じて空間境界部２４Ａが変形するときに、空間境界部２４Ａに作用する力の方向と一致するように形成されている。使用者２００の鼻の形状に応じてフェイスマスク１Ａが変形するときに、矢印Ｘ１及びＸ２方向の力が作用する。点Ｑ１とＱ２の線分方向は、矢印Ｘ１方向及び矢印Ｘ２方向と一致するようになっている。

フェイスマスク１Ａが起点である点Ｑ１とＱ２を結ぶ線分の長さは、鼻部２０Ａの左右方向の最長部分の長さの３分の１以下の長さとして規定されている。

上述のように、空間境界部２４Ａの起点である点Ｑ１とＱ２の線分方向が、フェイスマスク１Ａが使用者２００の顔を覆って、使用者２００の鼻の形状に応じて空間境界部２４Ａが変形するときに、フェイスマスク１Ａに作用する力の方向と一致するように形成されているから、不動部２６Ａは大きくは移動せず、変形もしない。このため、図１９に示すように、不動部２６Ａは、空間境界部２４Ａが変形して空間Ｓが広がったときに、空間境界部２４Ａによって画される空間Ｓの中心部を含む領域を覆う。

図２０、図２１及び図２３において、不動部２６Ａをハッチング（複数の平行な斜線）で示している。図２０に示すように、不動部２６Ａは、幅Ｗ１が高さＨ１よりも長くなるように形成されている。図２０の調整構造２２Ａを分解すると、図２１に示すように、空間境界部２４Ａによって画される空間Ｓと、空間Ｓと同一形状の不動部２６Ａとなる。不動部２６Ａは接続部２８によって、基材シート２の本体部と接続されている。

フェイスマスク１Ａが使用者２００の顔面に装着されると、図２２に示すように、空間部Ｓは起点Ｑ１とＱ２の線分方向に変形して広がり、上下方向の長さも短くなる。このとき、調整構造２２Ａにおいて、不動部２６Ａは大きく変形したり、移動したりしないように構成されているから、図２３に示すように、不動部２６Ａは、広がった空間Ｓの中央を含む領域を覆う。これにより、空間部Ｓの大半は不動部２６Ａに覆われ、空間Ｓの一部である小空間Ｓ１及びＳ２のみが、基材シート２に覆われない状態となる。

図２３に示すように、不動部２６Ａが広がった空間Ｓを覆うときに、不動部２６Ａが基材シート２の本体部と重複して重複領域２６Ａａを形成する。重複領域２６Ａａにおいては、基材シート２が二重になっているから、より多くの化粧用組成物によって、重複領域２６Ａａと接する使用者２００の顔面の部分をケアすることができる。

上述のように、不動部２６Ａは、広がった空間Ｓを覆うことにより、使用者２００の顔面に基材シート２が接しない面積を低減するだけではなく、重複領域２６Ａａを形成することによって、より多くの化粧用組成物によって、重複領域２６Ａａと接する使用者２００の顔面の部分をケアすることができる。

＜第三の実施形態＞
図２４を参照して、第一の実施形態と異なる点を中心に、第三の実施形態を説明し、第一の実施形態と共通する点は適宜説明を省略する。

第三の実施形態のフェイスマスク１Ｂにおいて、鼻部２０Ｂの外側にも調整構造２２（図９乃至図１１参照）が形成されている。これにより、使用者２００の鼻２０６以外の部分である、例えば、鼻と頬骨の間の領域においても、調整構造２２によって、基材シート２を顔面に接触させて、化粧用組成物によってケアすることができる。

＜第四の実施形態＞
図２５を参照して、第一の実施形態と異なる点を中心に、第四の実施形態を説明し、第一の実施形態と共通する点は説明を適宜省略する。

第四の実施形態のフェイスマスク１Ｃにおいて、調整構造２２（図９乃至図１１参照）は、鼻部２０Ｃのみならず、目元及び口の周辺にも配置されている。これにより、使用者２００の顔の中心領域全体に、調整構造２２によって、基材シート２を顔面に接触させて、化粧用組成物によってケアすることができる。

＜第五の実施形態＞
図２６乃至図２８を参照して、第一の実施形態と異なる点を中心に、第五の実施形態を説明、第一の実施形態と共通する点は適宜説明を省略する。

フェイスマスク１Ｄにおいては、調整構造２２Ａ（図１８等参照）と調整構造２２Ｂ（図２７及び図２８参照）が形成されている。調整構造２２Ａ等は、鼻部２０Ｄに加えて、額、瞼及び顎に接触する部分にも形成されている。

図２７に示すように、調整構造２２Ｂは、空間境界部２４Ｂ、不動部２６Ｂ、及び、接続部２８で構成される。空間境界部２４Ｂは、基材シート２の本体部を切り込んで形成されるスリットである。空間境界部２４Ｂは、変形したＶ字状に形成されている。不動部２６Ｂは、空間境界部２４Ｂが形成された結果生じる基材シート２の部分であり、接続部２８によって基材シート２の本体部と接続している。

図２７に示すように、空間境界部２４Ｂは、鼻筋の方向とは異なる方向に乖離した２点Ｑ１及びＱ２を起点とし、２点Ｑ１及びＱ１の下方の点Ｑ３で接続する切れ込み２４Ｂａ及び２４Ｂｂで形成される。

不動部２６Ｂは、使用者２００に装着される前の状態において、空間境界部２４Ｂによって画される空間と同一形状である。すなわち、不動部２６Ｂは、空間境界部２４Ｂ及び接続部２８を外周とする領域である。不動部２６Ｂは、使用者２００の鼻２０６の形状に従って、空間境界部２４Ｂが変形して空間Ｓが広がったときに、空間境界部２４Ｂによって画される空間Ｓの中心部を含む領域を覆うように構成されている。

空間境界部２４Ｂの起点Ｑ１とＱ２の線分方向は、フェイスマスク１Ｄが使用者２００の顔を覆って、使用者２００の鼻の形状に応じて変形するときに、空間境界部２４Ｂに作用する力の方向と一致するように形成されている。使用者２００の鼻２０６の形状に応じて空間境界部２４Ｂが変形するときに、矢印Ｘ１及びＸ２方向の力が作用する。起点である点Ｑ１とＱ２の線分方向は、矢印Ｘ１方向及び矢印Ｘ２方向と一致するようになっている。

起点である点Ｑ１とＱ２を結ぶ線分の長さは、鼻部２０Ｄの左右方向の最長部分の長さの３分の１以下の長さとして規定されている。また、点Ｑ１とＱ２を結ぶ線分の中心から最下部Ｑ３を結ぶ線分の長さは、点Ｑ１とＱ２を結ぶ線分の長さよりも長い長さとして規定されている。

＜第六の実施形態＞
図２９乃至図３１を参照して、第二の実施形態と異なる点を中心に、第六の実施形態を説明し、第二の実施形態と共通する点は適宜説明を省略する。

図２９に示すように、フェイスマスク１Ｅにおいて、鼻部２０Ｅが形成されている。鼻部２０Ｅは、複数の調整構造２２Ｃ（図３０及び３１参照）によって形成されている。図３０及び図３１に示すように、調整構造２２Ｃにおいては、空間境界部２４Ｃが、直線状の切れ込み２４Ｃａ及び２４Ｃｂによって形成されている。空間境界部２４Ｃは、Ｖ字を上下反対にした形状に形成されている。直線状の切れ込み２４Ｃａ及び２４Ｃｂは、鼻筋の方向以外の方向において乖離した２点Ｑ１とＱ２を起点とし、２点Ｑ１及びＱ２の上方の点Ｑ３で接続している。直線状の切れ込み２４Ｃａ及び２４Ｃｂによって、上方に凸の二等辺三角形状の空間が形成され、その空間と同一形状の不動部２６Ｃが形成される。

図３０に示すように、調整構造２２Ｃは、空間境界部２４Ｃ、不動部２６Ｃ、及び、接続部２８で構成される。空間境界部２４Ｃは、基材シート２の本体部を切り込んで形成されるスリットである。不動部２６Ｃは、空間境界部２４Ｃが形成された結果生じる基材シート２の部分であり、接続部２８によって基材シート２の本体部と接続している。

図３１に示すように、不動部２６Ｃが広がった空間を覆うときに、不動部２６Ｃが基材シート２の本体部と重複して重複領域２６Ｃａを形成する。重複領域２６Ｃａにおいては、基材シート２が二重になっているから、より多くの化粧用組成物によって、重複領域２６Ｃａと接する使用者２００の顔面の部分をケアすることができる。

そして、重複領域２６Ｃａの化粧用組成物は、重力によって、下方に流れる。すなわち、重複領域２６Ｃａの化粧用組成物は、空間境界部２４Ｃが変形することによって広がった空間を覆う不動部２６Ｃがより多くの化粧用組成物を含むようになる。従って、不動部２６Ｃによって、より効果的に使用者２００の顔の部分を化粧用組成物によってケアすることができる。

＜第七の実施形態＞
図３２を参照して、第二の実施形態と異なる点を中心に、第六の実施形態を説明し、第二の実施形態と共通する点は適宜説明を省略する。

図３２に示すように、フェイスマスク１Ｆの鼻部２０Ｆにおいては、調整構造２２Ａ（図１８等参照）と調整構造２２Ｃ（図３０及び図３１参照）が形成されている。具体的には、鼻部２０Ｆの鼻筋の部分には、主に調整構造２２Ａが形成されており、鼻筋の外側の部分には、主に調整構造２２Ｃが形成されている。

＜第八の実施形態＞
図３３乃至図３６を参照して、第二の実施形態と異なる点を中心に、第八の実施形態を説明し、第二の実施形態と共通する点は適宜説明を省略する。第八の実施形態のフェイスマスク１Ｇの鼻部２０Ｇにおいては、第二の実施形態のフェイスマスク１Ａよりも調整構造２２Ａの数が多い。

図３４は鼻部２０Ｇを拡大して示す概略図であり、図３５は鼻部２０Ｇを複数の部分に区分して示す概略図である。図３５に示すように、調整構造２２Ａは、中心線Ｌｃに対して対象に配置されている。また、調整構造２２Ａは、鼻部２０Ｇを規定する切れ込み６とは接続しておらず、切れ込み６とは独立して形成されている。切れ込み６は、使用者２００の鼻２０６の高さと周辺の高さに相違（高度差）の影響を受けて相対的に大きく変形する。これに対して、調整構造２２Ａは鼻部２０Ｇを画する切れ込み（例えば、切れ込み６）から独立しているから、調整構造２２Ａに対する上述の高度差の相違の影響は相対的に小さい。

図３５に示すように、鼻部２０Ｇを、部分Ａ１，Ａ２，Ａ３，Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３，Ｃ１，Ｃ２及びＣ３に位置する部分に区分し、部分Ａ１，Ｂ１及びＣ１を左部、部分Ａ２，Ｂ２及びＣ２を中央部、部分Ａ３，Ｂ３及びＣ３を右部と呼ぶ。左部と右部のそれぞれにおいて、複数の調整構造２２Ａが形成されている。調整構造２２Ａは、左部と右部のそれぞれにおいて、上下方向に乖離して複数形成されている。また、調整構造２２Ａは、左部と右部のそれぞれにおいて、左右方向に乖離して複数形成されている。すなわち、複数の調整構造２２Ａは、上下方向及び／または左右方向に互いに独立して配置されている。このため、左部と右部において、上述の相対的に小さい高度差の影響は、複数の調整構造２２Ａによって調整される。このため、各調整構造２２Ａの変形は、左部と右部において、それぞれ、単一の調整構造２２Ａしか形成されていない場合に比べて小さい。このため、使用者２００の鼻部をより効果的にケアすることができる。

また、左部のうち、部分Ｃ１に位置する部分は使用者２００の小鼻に接する部分である小鼻部である。同様に、右部のうち、部分Ｃ３に位置する部分は使用者２００の小鼻に接する部分である小鼻部である。各小鼻部において、複数の調整構造２２Ａが形成されている。各小鼻部における調整構造２２Ａの数は、２以上であり、望ましくは３以上であり、さらに望ましくは４以上である。本実施形態においては、各小鼻部における調整構造２２Ａの数は６である。調整構造２２Ａは、使用者２００の小鼻と周囲の高さの相違（小鼻部高度差）の影響を受けて変形するのであるが、各小鼻部に複数の調整構造２２Ａが形成されているため、それぞれの調整構造２２Ａの変形の程度は、各小鼻部に単一の調整構造２２Ａが形成されている場合や、調整構造２２Ａが独立しておらず、連続している場合に比べて小さい。このため、使用者２００の鼻部をより効果的にケアすることができる。

図３６は、部分Ｃ１を拡大して示す概略図である。図３６において、直線Ｌ１は、中心線Ｌｃ（図３５参照）と直交する直線である。調整構造２２Ａの一方の起点である点Ｑ１と他方の起点である点Ｑ２を結ぶ線分Ｌ２は、中心線Ｌｃと方向が異なり、また、直線Ｌ１とも方向が異なる。また、点Ｑ１と点Ｑ３を結ぶ線分の方向Ｙ１、及び、点Ｑ２と点Ｑ３を結ぶ線分の方向Ｙ２は、いずれも、中心線Ｌｃと方向が異なり、また、直線Ｌ１とも方向が異なる。線分Ｌ２は、フェイスマスク１Ｇが使用者２００の顔に装着されたときに、調整構造２２Ａを変形させる力が作用する方向である。この構造により、フェイスマスク１Ｇが使用者２００の顔に装着されたときに、点Ｑ１と点Ｑ３を結ぶ切れ込み（スリット）及び点Ｑ２と点Ｑ３を結ぶ切れ込みが線分Ｌ２の両端部方向へ広がり、不動部２６Ａが下方の本体部と重複する。重複部分により、一層効果的に使用者の顔面をケアすることができる。

なお、本発明のフェイスマスクは、上記実施形態に限らず、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加えることができる。

１，１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄ，１Ｅ，１Ｆ，１Ｇ フェイスマスク
２ 基材シート
４Ａ，４Ｂ 瞼部
６ 切れ込み
８ 口部開口
１９ 額部
１４ 顎部
１６Ａ，１６Ｂ 側方部切れ込み
２０，２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃ，２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇ 鼻部
２２，２２Ａ，２２Ｂ，２２Ｃ 調整構造
２４，２４Ａ，２４Ｂ，２４Ｃ 空間境界部
２６，２６Ａ，２６Ｂ，２６Ｃ 不動部
２８ 接続部

Claims (4)

1. 化粧用組成物を含侵した美容用のフェイスマスクであって、
   前記フェイスマスクは、使用者の顔の全体を覆うように構成されており、
   使用者の額の中心から使用者の顎の中心を結ぶ線分に接する線を中心線とするとき、前記使用者の鼻に接する鼻部において、前記中心線の左側の部分及び右側の部分のそれぞれに、互いに独立して形成された複数の調整構造が配置されており、
   各前記調整構造は、
   前記鼻部の外形を規定する切れ込みとは独立して形成されており、
   前記中心線の方向以外の方向において乖離した２点を起点とし、前記２点の下方または上方において接続する切れ込みによって空間を形成する空間境界部と、
   前記空間と同一形状であって、前記２点を結ぶ位置において、前記フェイスマスク本体と接続しており、前記空間に配置される不動部と、
   を有し、
   前記使用者の顔において前記フェイスマスクの装着態様が調整されるときに、前記空間境界部が変形して前記空間が広がり、前記不動部が前記空間の中心部を含む領域を覆うことができるように構成されている、
   フェイスマスク。
2. 前記使用者の小鼻に接する小鼻部において、前記中心線の左側の部分及び右側の部分のそれぞれに、互いに独立して形成された複数の前記調整構造が配置されている、請求項１に記載のフェイスマスク。
3. 前記小鼻部において、上下方向及び／または左右方向に複数の前記調整構造が互いに独立して配置されている、請求項２に記載のフェイスマスク。
4. 前記使用者の鼻の形状に従って、前記空間境界部が変形して広がり、前記不動部が前記空間境界部の中心部を含む領域を覆うときに、前記不動部が、前記空間境界部の下方または上方の前記フェイスマスクの部分と重複して重複領域を形成するように構成されている、
   請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のフェイスマスク。
   
   
   
   

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