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一実施形態によれば、ステップd)におけるキャリアプレートを切断するステップは、レーザービームによって行われる。このプロセスにおいて、これは、キャリアプレートを構築するための精密で効率的な方法を可能にし、この技術では、1つの作業ステップにおいて簡潔なシーケンスで複数の切り込みの切断を実施することも可能になる。横断方向の切り込み、第1の長手方向の切り込み、および第2の長手方向の切り込みは、一般的に、ステップd)におけるキャリアプレートの切断のために、任意の所望の順序で実施され得る。横断方向の切り込み、第1の長手方向の切り込み、および第2の長手方向の切り込みの規則的な配置は、この点に関して、抵抗器材料のストリップの規則的なパターン、および、導電性材料のゾーンの規則的なパターンに追従または対応している。
According to one embodiment, the step of cutting the carrier plate in step d) is performed by a laser beam. In this process, this enables a precise and efficient method for constructing carrier plates, and the technique also allows the cutting of multiple cuts in a concise sequence in one working step. .. The transverse cut, the first longitudinal cut, and the second longitudinal cut can generally be made in any desired order for cutting the carrier plate in step d). The regular arrangement of the transverse cuts, the first longitudinal cuts, and the second longitudinal cuts in this regard is the regular pattern of strips of resistor material, and the zones of conductive material. Follows or corresponds to the regular pattern of.

一実施形態によれば、抵抗器材料のそれぞれのストリップの電気抵抗は、第1の長手方向の切り込みおよび第2の長手方向の切り込みによってキャリアプレートを切断するステップの前に(特に、ステップd)の前に)測定され、接触プローブは、抵抗器材料のそれぞれのストリップの第1の端部と重なる導電性材料のゾーンに適用され、また、抵抗器材料のそれぞれのストリップの第2の端部と重なる導電性材料のゾーンに適用される。測定値は、抵抗値が所定の公称範囲内にあるかどうか、または、それからの偏差が見出され得るかどうかについて、品質コントロールの一部としてチェックされ得る。接触プローブは、特に、ケルビンプローブであることが可能であり、ケルビンプローブは、ケルビン方法によって抵抗器材料のそれぞれのゾーンの電気抵抗を測定する。キャリアプレートの切断の前の電気抵抗の測定は、導電性材料のそれぞれのストリップの全表面が接触プローブの適用のために利用可能となるという利点をもたらし、これは、接触プローブの位置決めを実質的に容易にし、または、抵抗器ユニットの小さいサイズに起因して、および、接触プローブと導電性材料のそれぞれのゾーンとの間の小さいサイズ関係に起因して、接触プローブの位置決めを可能にする。
According to one embodiment, the electrical resistance of each strip of resistor material is prior to the step of cutting the carrier plate with a first longitudinal cut and a second longitudinal cut (particularly step d). Measured (before), the contact probe is applied to the zone of conductive material that overlaps the first end of each strip of resistor material, and also the second end of each strip of resistor material. Applies to zones of conductive material that overlap the section. The measured value may be checked as part of quality control as to whether the resistance value is within a given nominal range or if deviations from it can be found. The contact probe can be, in particular, a Kelvin probe, which measures the electrical resistance of each zone of the resistor material by the Kelvin method. The measurement of electrical resistance prior to cutting the carrier plate has the advantage that the entire surface of each strip of conductive material is available for application of the contact probe, which effectively positions the contact probe. It facilitates or allows positioning of the contact probe due to the small size of the resistor unit and due to the small size relationship between the contact probe and each zone of the conductive material.

Claims (13)

複数の抵抗器ユニット(44)を製造する方法であって、前記複数の抵抗器ユニット(44)は各々、抵抗器エレメント(50)のグループを有するキャリア(48)を含み、前記抵抗器エレメント(50)の端部には、それぞれの第1および第2の電気端子(52、54)が提供されており、前記方法は、
a) 上側面(12)および下側面(14)を有するキャリアプレート(10)を提供するステップと、
b) 前記キャリアプレート(10)の前記下側面(14)に抵抗器材料の複数のストリップ(16)を規則的なパターンで形成するステップであって、前記ストリップ(16)は、横断方向(Q)に沿って第1の端部(20)および第2の端部(22)を有しており、前記抵抗器材料のストリップ(16)のそれぞれの列(18)が、前記横断方向(Q)に対して垂直に延在する長手方向(L)に沿って形成されるようになっており、複数の前記列(18)が、前記横断方向(Q)において互いに隣り合って配置されるようになっている、ステップと、
c) 前記キャリアプレート(10)の前記下側面(14)に導電性材料の複数のゾーン(24)を規則的なパターンで形成するステップであって、前記ゾーン(24)は、前記横断方向(Q)に沿って、第1の端部(28)、中間領域(30)、および第2の端部(32)を有しており、前記導電性材料のゾーン(24)のそれぞれの列(26)が、前記長手方向(L)に沿って形成されるようになっており、複数の前記列(26)が、前記横断方向(Q)において互いに隣り合って配置されるようになっており、前記抵抗器材料のストリップ(16)の前記列(18)、および、前記導電性材料のゾーン(24)の前記列(26)は、前記横断方向(Q)において交互に配置されており、前記キャリアプレート(10)の境界領域を除いて、前記抵抗器材料の前記ストリップ(16)は、それらの第1の端部(20)において、前記導電性材料のそれぞれのゾーン(24)の前記第1の端部(28)と重なっており、それらの第2の端部(22)において、前記導電性材料のそれぞれのゾーン(24)の前記第2の端部(32)と重なっている、ステップと、
d) 前記横断方向(Q)に沿った規則的な横断方向の切り込み(36)、前記長手方向(L)に沿った第1の長手方向の切り込み(38)、および、前記長手方向(L)に沿った第2の長手方向の切り込み(40)によって、前記キャリアプレート(10)を切断するステップであって、前記横断方向の切り込み(36)が、互いに関連付けられ、前記長手方向(L)において互いに隣接する、前記抵抗器材料のストリップ(16)のグループ(42)同士の間に延在するようになっており、さらに、前記第1の長手方向の切り込み(38)が、前記導電性材料のゾーン(24)の前記列(26)の前記中間領域(30)から前記第1の端部(28)を切り離すようになっており、前記第2の長手方向の切り込み(40)が、前記導電性材料のゾーン(24)のそれぞれの列(26)の前記中間領域(30)から前記第2の端部(32)を切り離すようになっており、前記キャリアプレート(10)のそれぞれの抵抗器ユニット(44)およびそれぞれの残留セクション(46)が、前記横断方向(Q)に沿って交互に形成されるようになっており、前記残留セクション(46)は、前記導電性材料のゾーン(24)の列(26)の切り離された中間領域(30)を含む、ステップと
を含む、方法。
A method of manufacturing a plurality of resistor units (44), wherein each of the plurality of resistor units (44) includes a carrier ( 48 ) having a group of resistor elements (50), and the resistor element (44). The ends of 50) are provided with first and second electrical terminals (52, 54), respectively, according to the method.
a) A step of providing a carrier plate (10) having an upper side surface (12) and a lower side surface (14),
b) A step of forming a plurality of strips (16) of a resistor material on the lower side surface (14) of the carrier plate (10) in a regular pattern, wherein the strips (16) are in the transverse direction (Q). ) With a first end (20) and a second end (22), each row (18) of strips (16) of the resistor material in the transverse direction (Q). ) Is formed along the longitudinal direction (L) extending perpendicular to the), so that the plurality of the rows (18) are arranged next to each other in the transverse direction (Q). The steps and
c) A step of forming a plurality of zones (24) of the conductive material on the lower side surface (14) of the carrier plate (10) in a regular pattern, wherein the zones (24) are in the transverse direction (24). Along Q), it has a first end (28), an intermediate region (30), and a second end (32), each row (24) of the conductive material zone (24). 26) is formed along the longitudinal direction (L), and a plurality of the rows (26) are arranged adjacent to each other in the transverse direction (Q). , The row (18) of the strip of resistor material (16) and the row (26) of the zone (24) of the conductive material are arranged alternately in the transverse direction (Q). Except for the boundary region of the carrier plate (10), the strips (16) of the resistor material are at their first end (20), the said of each zone (24) of the conductive material. It overlaps with the first end (28), and at their second end (22), overlaps with the second end (32) of each zone (24) of the conductive material. , Steps and
d) A regular transverse cut (36) along the transverse direction (Q), a first longitudinal cut (38) along the longitudinal direction (L), and the longitudinal direction (L). In the step of cutting the carrier plate (10) by a second longitudinal notch (40) along, the transverse notches (36) are associated with each other and in the longitudinal direction (L). Adjacent to each other are extending between groups (42) of strips (16) of the resistor material, further the first longitudinal notch (38) is the conductive material. The first end (28) is separated from the intermediate region (30) of the row (26) of the zone (24), and the second longitudinal notch (40) is said. The second end (32) is configured to separate the second end (32) from the intermediate region (30) of each row (26) of the zone (24) of the conductive material and the respective resistance of the carrier plate (10). The vessel unit (44) and the respective residual sections (46) are formed alternately along the transverse direction (Q), and the residual sections (46) are zones of the conductive material (46). 24) A method comprising a step and an interstitial intermediate region (30) of column (26).
前記キャリアプレート(10)の切断によって形成された前記それぞれの抵抗器ユニット(44)は、
- 前記抵抗器ユニット(44)の前記キャリア(48)を形成する前記キャリアプレート(10)のセクションと、
- 前記抵抗器ユニット(44)の抵抗器エレメント(50)の前記グループを形成する前記抵抗器材料のストリップ(16)のグループ(42)と、
- 前記抵抗器エレメント(50)の前記第1の電気端子(52)を形成する前記導電性材料のゾーン(24)の複数の第1の端部(28)と、
- 前記抵抗器エレメント(50)の前記第2の電気端子(54)を形成する前記導電性材料のゾーン(24)の複数の第2の端部(32)と
を有する、請求項1に記載の方法。
Each of the resistor units (44) formed by cutting the carrier plate (10) is
-With the section of the carrier plate (10) forming the carrier (48) of the resistor unit (44),
-A group (42) of strips (16) of the resistor material forming the group of resistor elements (50) of the resistor unit (44).
-A plurality of first ends (28) of the conductive material zone (24) forming the first electrical terminal (52) of the resistor element (50).
1. The first aspect of the present invention, which has a plurality of second ends (32) of a zone (24) of the conductive material forming the second electrical terminal (54) of the resistor element ( 50 ). the method of.
前記横断方向の切り込み(36)の相互間隔、および、前記第1の長手方向の切り込みおよび前記第2の長手方向の切り込み(38、40)の相互間隔は、形成されたそれぞれの前記抵抗器ユニット(44)が0.6mm未満の幅および0.8mm未満の長さを有するように選択され、前記幅は、特に、0.3mmから0.34mmの範囲とすることができ、前記長さは、特に、0.54mmから0.62mmの範囲とすることができる、請求項1または請求項2に記載の方法。 The mutual spacing of the transverse cuts (36) and the mutual spacing of the first longitudinal cuts and the second longitudinal cuts (38, 40) are the respective resistor units formed. (44) is selected to have a width of less than 0.6 mm and a length of less than 0.8 mm, the width can be in particular in the range of 0.3 mm to 0.34 mm, and the length is The method of claim 1 or claim 2, in particular, which can range from 0.54 mm to 0.62 mm. 前記抵抗器材料のストリップ(16)の前記グループ(42)は、前記抵抗器材料の2つのストリップ(16)を含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。 The method of any one of claims 1 to 3, wherein the group (42) of strips (16) of the resistor material comprises two strips (16) of the resistor material. 形成された前記抵抗器ユニット(44)の前記抵抗器材料の前記ストリップ(16)は、等しいサイズである、請求項1から4のいずれか一項に記載の方法。 The method of any one of claims 1 to 4, wherein the strips (16) of the resistor material of the formed resistor unit (44) are of equal size. 形成された前記抵抗器ユニット(44)の前記抵抗器材料の前記ストリップ(16)は、異なるサイズであり、特に、前記第1の端部(20)と前記第2の端部(22)との間で、前記抵抗器材料の前記ストリップ(16)の延在に対して横断方向に異なる幅を備える、請求項1から4のいずれか一項に記載の方法。 The strips (16) of the resistor material of the formed resistor unit (44) are of different sizes, particularly with the first end (20) and the second end (22). The method of any one of claims 1 to 4, wherein the resistor material has different widths in the transverse direction with respect to the extension of the strip (16) of the resistor material. 前記キャリアプレート(10)は、セラミック基板を含む、請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。 The method according to any one of claims 1 to 6, wherein the carrier plate (10) includes a ceramic substrate. 前記抵抗器材料および前記導電性材料は、前記キャリアプレート(10)の前記下側面(14)のみに適用される、請求項1から7のいずれか一項に記載の方法。 The method according to any one of claims 1 to 7, wherein the resistor material and the conductive material are applied only to the lower side surface (14) of the carrier plate (10). 前記抵抗器材料の前記複数のストリップ(16)を形成するステップb)は、
カソード噴霧によって前記キャリアプレート(10)の前記下側面(14)に金属層を適用するステップと、
蒸発による前記金属層の局所的な除去と
を含む、請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。
Step b) of forming the plurality of strips (16) of the resistor material is
A step of applying a metal layer to the lower side surface (14) of the carrier plate (10) by cathode spraying.
The method of any one of claims 1-8, comprising local removal of the metal layer by evaporation.
前記導電性材料の前記複数のゾーン(24)を形成するステップc)は、
導電性のペーストを用いて前記キャリアプレート(10)の前記下側面(14)をプリントするステップ
を含む、請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。
Step c) of forming the plurality of zones (24) of the conductive material is
The method according to any one of claims 1 to 9, comprising printing the lower side surface (14) of the carrier plate (10) using a conductive paste.
ステップd)における前記キャリアプレート(10)を切断する前記ステップは、レーザービームによって行われる、請求項1から10のいずれか一項に記載の方法。 The method according to any one of claims 1 to 10, wherein the step of cutting the carrier plate (10) in step d) is performed by a laser beam. 前記抵抗器材料のそれぞれのストリップ(16)の電気抵抗は、前記第1の長手方向の切り込みおよび前記第2の長手方向の切り込み(38、40)によって前記キャリアプレート(10)を切断する前記ステップの前に測定され、接触プローブ(34)は、前記抵抗器材料のそれぞれの前記ストリップ(16)の前記第1の端部(20)と重なる前記導電性材料の前記ゾーン(24)、および前記抵抗器材料のそれぞれの前記ストリップ(16)の前記第2の端部(22)と重なる前記導電性材料の前記ゾーン(24)に適用される、請求項1から11のいずれか一項に記載の方法。 The electrical resistance of each strip (16) of the resistor material cuts the carrier plate (10) by the first longitudinal cut and the second longitudinal cut (38, 40). Measured prior to, the contact probe (34) is the zone (24) of the conductive material that overlaps the first end (20) of each of the strips (16) of the resistor material, and said. 13. The aspect of any one of claims 1 to 11 applied to the zone (24) of the conductive material that overlaps the second end (22) of each strip (16) of the resistor material. the method of. 請求項1から12のいずれか一項に記載の方法にしたがって製造された抵抗器ユニット(44)であって、前記抵抗器ユニット(44)は、キャリア(48)と、前記キャリア(48)の前記下側面に配置されている抵抗器エレメント(50)のグループと、前記抵抗器エレメント(50)のそれぞれの第1の端部に接続されている第1の電気端子(52)と、前記抵抗器エレメント(50)のそれぞれの第2の端部に接続されている第2の電気端子(54)とを含み、
前記抵抗器ユニット(44)は、0.6mm未満の幅および0.8mm未満の長さを有しており、前記幅は、特に、0.3mmから0.34mmの範囲にあり、前記長さは、特に、0.54mmから0.62mmの範囲にある、抵抗器ユニット(44)。
A resistor unit (44) manufactured according to the method according to any one of claims 1 to 12, wherein the resistor unit (44) is a carrier (48) and a carrier (48). A group of resistor elements (50) arranged on the lower surface, a first electrical terminal (52) connected to the first end of each of the resistor elements (50), and the resistance. Includes a second electrical terminal (54) connected to each second end of the instrument element (50).
The resistor unit (44) has a width of less than 0.6 mm and a length of less than 0.8 mm, the width being particularly in the range of 0.3 mm to 0.34 mm, said length. Is, in particular, a resistor unit (44) in the range of 0.54 mm to 0.62 mm.
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Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2515445A1 (en) * 1981-10-28 1983-04-29 Trt Telecom Radio Electr METHOD FOR MAKING A SUPPLY BRIDGE SUBJECT TO SIGNIFICANT OVERLOADS AND POWER SUPPLY BRIDGE FOLLOWED BY THIS METHOD
JPS60166102U (en) 1984-04-11 1985-11-05 シャープ株式会社 chip parts
JPH0632650Y2 (en) 1989-08-01 1994-08-24 ローム株式会社 Resistor board
US5104480A (en) 1990-10-12 1992-04-14 General Electric Company Direct patterning of metals over a thermally inefficient surface using a laser
DE9015206U1 (en) * 1990-11-05 1991-01-17 Isabellenhuette Heusler Gmbh Kg, 6340 Dillenburg, De
JP2788156B2 (en) 1992-09-18 1998-08-20 ローム株式会社 Stamping method for multiple chip resistors
JP3309010B2 (en) * 1993-09-02 2002-07-29 コーア株式会社 Electronic component manufacturing method
JPH07302704A (en) * 1994-05-10 1995-11-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd Resistor
JPH08102401A (en) * 1994-09-30 1996-04-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Resistor and manufacturing method thereof
US5976392A (en) 1997-03-07 1999-11-02 Yageo Corporation Method for fabrication of thin film resistor
DE19755753A1 (en) 1997-12-16 1999-06-17 Bosch Gmbh Robert Resistor device and method for its production
JPH11204315A (en) * 1998-01-12 1999-07-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd Manufacture of resistor
JPH11340002A (en) * 1998-05-26 1999-12-10 Rohm Co Ltd Assembled substrate for chip type resistor
JP3358990B2 (en) * 1998-06-22 2002-12-24 ローム株式会社 Manufacturing method of chip type resistor
DE10110179B4 (en) * 2001-03-02 2004-10-14 BCcomponents Holding B.V. Method of making thin film chip resistors
JP3967553B2 (en) * 2001-03-09 2007-08-29 ローム株式会社 Chip resistor manufacturing method and chip resistor
JP3958532B2 (en) * 2001-04-16 2007-08-15 ローム株式会社 Manufacturing method of chip resistor
JP4078042B2 (en) 2001-06-12 2008-04-23 ローム株式会社 Method for manufacturing chip-type electronic component having a plurality of elements
JP2003124010A (en) * 2001-10-18 2003-04-25 Rohm Co Ltd Chip electronic component and method of manufacturing the same
JP3846312B2 (en) * 2002-01-15 2006-11-15 松下電器産業株式会社 Method for manufacturing multiple chip resistors
CN1328002C (en) * 2002-03-12 2007-07-25 浜松光子学株式会社 Cutting method for workpiece
TWI520269B (en) * 2002-12-03 2016-02-01 Hamamatsu Photonics Kk Cutting method of semiconductor substrate
JP4047760B2 (en) * 2003-04-28 2008-02-13 ローム株式会社 Chip resistor and manufacturing method thereof
JP4358664B2 (en) * 2004-03-24 2009-11-04 ローム株式会社 Chip resistor and manufacturing method thereof
JP4380586B2 (en) * 2005-05-06 2009-12-09 住友金属鉱山株式会社 Thin film resistor and manufacturing method thereof
TW200709235A (en) 2005-05-20 2007-03-01 Electro Scient Ind Inc Method of forming passive electronic components on a substrate by direct write technique using shaped uniform laser beam
JP2007073693A (en) * 2005-09-06 2007-03-22 Rohm Co Ltd Chip resistor and method of manufacturing same
JP4745027B2 (en) * 2005-11-09 2011-08-10 太陽社電気株式会社 Manufacturing method of chip resistor
TWI287806B (en) * 2006-02-22 2007-10-01 Walsin Technology Corp Method of manufacturing chip resistor
US7882621B2 (en) * 2008-02-29 2011-02-08 Yageo Corporation Method for making chip resistor components
CN102394164B (en) * 2011-07-11 2014-04-16 广东风华高新科技股份有限公司 Preparation method of miniature chip resistor
TW201409493A (en) * 2012-08-24 2014-03-01 Ralec Electronic Corp Chip type resistor array and manufacturing method thereof
CN107622848A (en) * 2017-09-22 2018-01-23 中国振华集团云科电子有限公司 A kind of preparation method of Split type print structure and conductor printing structure

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