JPWO2019189675A1 - 光偏向装置および光学装置 - Google Patents

Abstract

小型・軽量化に適した単純な構造で、かつ、高偏向角化が可能な光偏向装置の提供を目的とする。入射された光を一方向に偏光して出射する光偏向素子と、光偏向素子の駆動手段と、光偏向素子の光出射側に配置される、回折素子の周期構造ピッチが、光偏向素子による偏向の中心から外側に向かって、漸次、変化する、回折素子と、を有することにより、課題を解決する。

Description

本発明は、小型・軽量化に適した単純な構造にできる高偏向角化が可能な光偏向装置、および、この光偏向装置を利用する光学装置に関する。

今日、レーザ光の光偏向の技術は、様々な分野で応用されている。例えば、自由空間光通信用の光行差補正・レーザレーダ用の走査系などが例として挙げられる。

従来、レーザ光の光偏向器やポインティング用光学系として、ジンバルミラーおよびガルバノミラー等が多く用いられている。これらの方法は、ミラーを機械的に動かしてレーザ光の光方向制御をおこなうため、直接的でかつ簡単な方法である。

また、光偏向器としては、液晶層をプリズム形状にした液晶プリズムを用いて、偏向角を拡大する構成も知られている。
液晶プリズムに関する先行技術としては、例えば、特許文献１および特許文献２、ならびに、液晶層とウエッジ型プリズムを組み合わせた先行技術（たとえば、特許文献３）等が存在する。

特開平６−１９４６９５号公報 特開平７−９２５０７号公報 特開２００３−２９５１５３号公報

しかしながら、このような従来の方法にあっては、比較的大きなミラーを大きな物理的動作を伴って制御する必要があることから、軽量・小型化が必要なシステムや、低消費電力を必要とする用途には適していないという問題点があった。

また、液晶層をプリズム形状にした液晶プリズムにあっては、製造工程が複雑になるだけでなく、その制御が難しいといった問題点があった。

さらに、液晶にウエッジ型プリズムを用いるため方法にあっては、ウエッジ型プリズムにある程度の厚さが必要であり、軽量・小型化が必要になる場合は必ずしも適していない問題点があった。

本発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決することにあり、小型・軽量化に適した単純な構造で、かつ、高偏向角化が可能な光偏向装置、および、この光偏向装置を用いる光学装置を提供することにある。

この課題を解決するために、本発明の光偏向装置は、以下の構成を有する。
［１］ 入射された光を偏向して出射する光偏向素子と、
光偏向素子を駆動する駆動手段と、
光偏向素子の光出射側に配置される、回折素子の周期構造ピッチが、光偏向素子による偏向の中心から外側に向かって、漸次、変化する、回折素子と、
を備えたことを特徴とする光偏向装置。
［２］ 光偏向素子が、液晶光位相変調素子である、［１］に記載の光偏向装置。
［３］ 光偏向素子が、ＭＥＭＳ光偏向素子である、［１］に記載の光偏向装置。
［４］ 回折素子が、液晶回折素子である、［１］〜［３］のいずれかに記載の光偏向装置。
［５］ 液晶回折素子が、液晶化合物を含む組成物を用いて形成された、液晶化合物由来の光学軸の向きが面内の少なくとも一方向に沿って連続的に回転しながら変化している液晶配向パターンを有する光学異方性層を備える、［４］に記載の光偏向装置。
［６］ 光学異方性層の液晶配向パターンが、液晶化合物由来の光学軸の向きが連続的に回転しながら変化する一方向を、内側から外側に向かう同心円状に有する、同心円状のパターンである、［５］に記載の光偏向装置。
［７］ 光学異方性層が、厚さ方向に沿って伸びる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶化合物を有する、［５］または［６］に記載の光偏向装置。
［８］ 液晶回折素子が、厚さ方向に沿って伸びる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶化合物の捩れ方向が、互いに逆である、２層の光学異方性層を有する、［７］に記載の光偏向装置。
［９］ ２層の光学異方性層の間に、液晶化合物がねじれ配向しない光学異方性層を有する、［８］に記載の光偏向装置。
［１０］ λ／４板を有する、［４］〜［９］のいずれかに記載の光偏向装置。
［１１］ λ／４板を、光偏向素子と液晶回折素子との間に有する、［１０］に記載の光偏向装置。
［１２］ 回折素子が、ホログラム回折素子である、［１］〜［３］のいずれかに記載の光偏向装置。
［１３］ 回折素子が、表面レリーフ回折素子である、［１］〜［３］のいずれかに記載の光偏向装置。
［１４］ 回折素子が、無機材料で形成される透明基板と、複数の突条で形成される凹凸パターンとを有する、［１］〜［３］のいずれかに記載の光偏向装置。
［１５］ 回折素子よりも、光の進行方向の上流側に、集光素子を有する、［１］〜［１４］のいずれかに記載の光偏向装置。
［１６］ 集光素子を、光偏向素子よりも光の進行方向の上流側に有する、［１５］に記載の光偏向装置。
［１７］ ［１］〜［１６］のいずれかに記載される光偏向装置と、光偏向装置の光偏向素子に光を入射する光源と、受光素子とを有することを特徴とする光学装置。

本発明によれば、小型化および軽量化に適した単純な構造で、かつ、高偏向角化が可能な光偏向装置、および、この光偏向装置を用いる光学装置を提供できる。

図１は、本発明の光偏向装置の一例の概念図である。 図２は、本発明の光偏向装置の別の例の概念図である。 図３は、図１に示す光偏向装置の作用を説明するための概念図である。 図４は、液晶光位相変調素子の概念図である。 図５は、液晶回折素子の概念図である。 図６は、光学異方性層の概略平面図である。 図７は、光学異方性層の作用を説明するための概念図である。 図８は、光学異方性層の作用を説明するための概念図である。 図９は、光学異方性層の作用を説明するための概念図である。 図１０は、光学異方性層の別の例の概略平面図である。 図１１は、配向膜を露光する露光装置の概念図である。 図１２は、配向膜を露光する露光装置の別の例の概念図である。 図１３は、本発明の光偏向装置の別の例の概念図である。 図１４は、本発明の実施例における光学異方性層の概念図である。 図１５は、本発明の実施例における光学異方性層の概念図である。 図１６は、本発明の光偏向装置の一例の作用を説明するための概念図である。 図１７は、本発明の光学装置の一例を概念的に示す図である。

以下、本発明の光偏向装置について図面を参照して説明する。
なお、各図面においては、視認しやすくするため、構成要素の縮尺は実際のものとは適宜、異ならせてある。

本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、角度について「直交」および「平行」とは、厳密な角度±１０°の範囲を意味するものとする。

本明細書において、Ｒｅ（λ）は、波長λにおける面内のリターデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、５５０ｎｍとする。
本明細書において、Ｒｅ（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎで算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。

（光偏向装置）
本発明の実施の形態にかかる光偏向装置の構成を、図１〜図３の概念図を用いて説明する。

図１に示すように、本発明の光偏向装置１００は、光（光ビーム）の進行方向の上流側から、集光レンズ１３１と、液晶光位相変調素子１０１と、λ／４板１１１と、液晶回折素子１２１と、を有する。液晶光位相変調素子１０１は、本発明における光偏向素子であって、駆動装置１４１が接続されている。
以下の説明では、上流および下流とは、光の進行方向の上流および下流とする。

λ／４板１１１および液晶回折素子１２１は、図１に示すように、液晶光位相変調素子１０１の出射側（下流）に配置する。
液晶光位相変調素子１０１、λ／４板１１１、および、液晶回折素子１２１は、図１に示すように、当節して配置してもよく、さらに、接着剤などを用いて固定してもよい。

また、液晶光位相変調素子１０１、λ／４板１１１、および、液晶回折素子１２１は、図２に示すように、液晶光位相変調素子１０１から出射される光の偏向角から外れない程度に間隔１０２を空けて配置しても、本発明と同じ効果を得ることができる。
光の種類によっては、通過する際に熱を発する場合が有るが、間隔１０２を設けることにより、通過する光によって発せられる熱が、液晶光位相変調素子１０１とλ／４板１１１、および、λ／４板１１１と液晶回折素子１２１とを固定した接着剤などを溶かすといった問題を回避できる。この間隔１０２は、０．１〜３０ｍｍが好ましい。
この間隔１０２を有する場合には、液晶回折素子１２１の入射面１０３が空気層と接するため、出射面１６１または入射面１０３に、必要に応じて無反射コートを形成するとよい。

図３は、本発明の実施の形態における光偏向装置１００の作用を説明するための概念図である。
図３に示すように、液晶光位相変調素子１０１は、図示しない光源から出射された入射光１５１を、所定の角度±θだけ偏向する（破線参照）。
入射光１５１は、図中に矢印１７１で示す方向の直線偏光である。この直線偏光は、図３に示した断面図に対して平行な偏光の方向で、液晶回折素子１２１の出射面１６１に対してＰ偏光である。
なお、本発明においては、Ｓ偏光を入射光１５１として使うようにしてもよい。これは、液晶光位相変調素子１０１の一部構成を変えることで対応可能である。

液晶光位相変調素子１０１によって偏向された光は、次いで、液晶回折素子１２１によって回折されて、偏向角を拡大される。
図３において、液晶光位相変調素子１０１による偏向の角度θが反時計方向である場合をプラス方向として、液晶光位相変調素子１０１における角度θの可変範囲の最大値を最大偏向角θmaxとする。本発明の光偏向装置１００では、最大偏向角θmaxの光が液晶回折素子１２１に入射する際における出射角度が、光偏向装置１０において目的とする最大の出射角度θmaxoutになるように、後述する液晶回折素子１２１の光学異方性層１４における周期構造ピッチ（後述する回転周期ｐ）を決める。
このようにすると、液晶光位相変調素子１０１の最大偏向角θmaxが小さくても、液晶回折素子１２１によって、液晶光位相変調素子１０１による最大偏向角θmaxを、光偏向装置１０において目的とする最大の出射角度θmaxoutに拡大することが可能となる。
同様に、角度θがマイナス方向すなわち時計方向である場合にも、角度θの可変範囲の最大値である最大偏向角θmaxの際に、出射角度が、光偏向装置１０において目的とする最大の出射角度θmaxoutになるように、周期構造ピッチを決めることで、角度θがマイナス方向の場合にも最大偏向角θmaxを目的とする最大の出射角度θmaxoutに拡大することが可能となる。

後に詳述するが、液晶回折素子１２１においては、周期構造ピッチが小さいほど、回折角度が大きくなる。また、光偏向装置１００においては、出射光の偏向角度を大きくするために、液晶光位相変調素子１０１による偏向（偏向方位）の中心から外側（両端部）に向かって、漸次、液晶回折素子１２１の回折角度を大きくする。
このことは、図３において、液晶回折素子１２１の一領域である１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃのそれぞれの周期構造ピッチ（回転周期ｐ）をｐａ、ｐｂ、ｐｃとすると、ｐａ＜ｐｂ＜ｐｃ、の関係があることを意味する。同様に、１２１ｄ、１２１ｅのそれぞれの周期構造ピッチをｐｄ、ｐｅとすると、ｐｅ＜ｐｄ＜ｐｃの関係があることを意味する。

この様に、角度θの絶対値が０から最大偏向角θmaxの間の場合は、液晶光位相変調素子１０１から出射される光の角度θが小さい場合には、光が液晶回折素子１２１で小さく回折するように周期構造ピッチを大きくしておき、液晶光位相変調素子１０１から出射される光の角度θが最大偏向角θmaxに近づくにしたがって、光が液晶回折素子１２１で大きく回折するように周期構造ピッチを、漸次、小さくする。
このようにすると、液晶光位相素子の出射光の角度範囲が±θmaxだったのに対し、液晶回折素子１２１を出射する時には±θmaxoutに拡大されることになる。

ここで、液晶回折素子１２１に入射する前の光の入射角度をθ１、入射側の媒質の屈折率をｎ１、液晶回折素子１２１を出射した後の光の出射角度をθ２、出射側の媒質の屈折率をｎ２、光の波長をλ、液晶回折素子の周期構造ピッチをｐ、回折次数をｍ、とすると、以下の式（１０１）によって、これらの値は関係づけられる。
ｎ１・ｓｉｎθ１−ｎ２・ｓｉｎθ２＝ｍ・λ／ｐ （１０１）

後述するように、液晶回折素子１２１の周期構造ピッチｐ（回転周期ｐ）を変えることによって、液晶回折素子１２１からの出射光の角度を変えることができる。
スネル則を考慮すると、最終的に空気に出射されるときの角度は絶対値８０°程度まで可能であるため、非常に大きな角度まで角度θを拡大することが可能である。また、液晶回折素子１２１の周期構造ピッチすなわち光学異方性層１４の回転周期ｐを、面内で連続的に変化させることによって、連続的に任意の方向に光を出射できる。

（集光レンズ）
前述のように、光偏向装置１００は、光の進行方向の上流側から、本発明における集光素子としての集光レンズ１３１と、液晶光位相変調素子１０１と、λ／４板１１１と、液晶回折素子１２１とを有する。
集光レンズ１３１は、公知の集光レンズであって、液晶光位相変調素子１０１に入射する光を、若干、集光するものである。
本発明の光偏向装置１００において、集光レンズ１３１は、好ましい態様として設けられるものである。本発明の光偏向装置１００は、集光レンズ１３１を有することにより、光偏向装置１００（液晶回折素子１２１）から出射する光（光ビーム）を、適正な平行光にして、直進性を向上できる。集光レンズ１３１の作用に関しては、後に詳述する。
本発明において、集光素子は、集光レンズ１３１に制限はされず、光（光ビーム）を集光可能な公知の光学素子が、全て、利用可能である。

（光偏向素子）
［液晶光位相変調素子］
液晶光位相変調素子１０１の構造を説明する。
図４は、本発明の実施の形態における液晶光位相変調素子の構造の一例を示す断面図である。ここで例示する液晶光位相変調素子は、特開２００３−２９５１５３号公報の実施例１の液晶光位相変調素子を引用している。なお、本発明において、液晶光位相変調素子は、図示例のものに制限はされず、光偏向素子として利用される公知の液晶光位相変調素子が、全て、利用可能である。
図４において、液晶層の一例として示すネマティック液晶層５０１は、液晶光位相変調素子１０１の第１の透明基板２０１の複合電極２１１を覆って形成した配向層２０９、および、第２の透明基板２０３の共通電極２１３を覆って形成した配向層２０９によって電場無印加時のｐ型（ポジ型）液晶分子のダイレクタ２０７のティルト角γが５°以下となるようにホモジニアス配向させる。
図４で示す液晶光位相変調素子１０１の場合、矢印１７１で示す方向の直線偏光である入射光１５１は、液晶光位相変調素子１０１による光の偏向方向に平行な直線偏光となるようにする。この入射光１５１は、液晶回折素子１２１の出射面１６１からみるとＰ偏光となる。

ネマティック液晶層５０１が数μｍから数十μｍの所定の一定厚さを保持するように、第１の透明基板２０１と第２の透明基板２０３とは、図示しないスペーサを介して固定する。
また、図４には示していないが、複合電極２１１と共通電極２１３とが短絡するのを防ぐために、複合電極２１１の上および共通電極２１３の上の少なくとも一方に、五酸化タンタルおよび二酸化シリコン等の透明絶縁膜を形成してもよい。また、透明絶縁膜を高屈折率膜と低屈折率膜からなる多層膜化して、透過率を向上することも望ましい。
第２の透明基板２０３上に形成する共通電極２１３は透明導電膜からなる全面電極であってよい。

この様な構造にすると、透明電極に別々の電圧をかけることができる。そのため、電場を印加して、所定の屈折率分布となるように液晶分子のダイレクタ２０７の面内分布を制御することにより、レンズの効果によって、入射光を所定の角度θだけ偏向して出射させることができる。
この原理は液晶レンズとして知られており、本態様以外の構造でも様々な構造で同様な効果を得ることができる。

図１に示す光偏向装置１００においては、液晶光位相変調素子１０１は１つであるが、本発明は、これに制限はされず、このような液晶光位相変調素子１０１を、複数個、備えるようにしてもよい。
また、液晶光位相変調素子１０１において、液晶セル（液晶化合物）の配向方向は平行、垂直のどちらでもよい。液晶セルの配向方向が平行の場合は、最大偏向角θmaxを増やすことに寄与し、液晶光位相変調素子１０１による偏向角、すなわち、光偏向装置１００による偏向角の拡大に寄与する。

（駆動装置）
液晶光位相変調素子１０１には、駆動装置１４１が接続される。
駆動装置１４１は、液晶光位相変調素子１０１を駆動する、液晶光位相変調素子１０１の構成に応じた公知の駆動装置である。

［λ／４板］
λ／４板１１１は、液晶光位相変調素子１０１によって偏向された直線偏光を、円偏光にする、公知のλ／４板（１／４位相差板）である。
λ／４板１１１としては、公知のものを制限なく用いることができる。従って、λ／４板１１１は、ポリマー由来のものであってもよいし、液晶由来のものであってもよい。

（回折素子）
［液晶回折素子］
図５に、液晶回折素子１２１を概念的に示す。図５は、液晶回折素子１２１を、図１〜図３と同方向に見た図であり、液晶回折素子１２１の側面図である。
液晶回折素子１２１は、シート状のものであって、支持体１２と、配向膜１３と、光学異方性層１４と、を有する。
上述したように、液晶回折素子１２１は、液晶光位相変調素子１０１が偏向した光を、液晶光位相変調素子による偏向方向に回折することにより、液晶光位相変調素子１０１が偏向した光を、さらに偏向するものである。光偏向装置１００は、液晶光位相変調素子１０１に、このような液晶回折素子１２１を組み合わせるにより、液晶光位相変調素子１０１の最大偏向角θmaxよりも遥かに大きい、最大の出射角度θmaxoutの偏向角による光の偏向を可能にしている。
なお、図示例においては、液晶回折素子１２１のシート面方向をｘ−ｙ方向、厚さ方向をｚ方向として定義している。図５においては、図中横方向が液晶化合物由来の光学軸が一方向に向かって回転する方向（後述する軸Ａ方向）であり、この方向をｘ方向とする。従って、ｙ方向は、図５の紙面と直交する方向になる。
また、図１〜図３においては、図中上下方向がｘ方向に、紙面と直交する方向がｙ方向に、図中横方向がｚ方向に、それぞれ、対応する。ｘ方向は、液晶光位相変調素子１０１による偏向方向と一致する。この点に関しては、後述する図１３も同様である。

図１〜図３において、液晶回折素子１２１は、平面状であるが、液晶回折素子１２１は、平面状に制限はされず、曲面状でもよい。

＜支持体＞
支持体１２は、配向膜および光学異方性層を支持できるものであれば、各種のシート状物（フィルム、板状物）が利用可能である。
支持体１２としては、透明支持体が好ましく、ポリメチルメタクリレート等のポリアクリル系樹脂フィルム、セルローストリアセテート等のセルロース系樹脂フィルム、およびシクロオレフィンポリマー系フィルム等を挙げることができる。シクロオレフィンポリマー系フィルムとしては、例えば、ＪＳＲ社製の商品名「アートン」、および、日本ゼオン社製の商品名「ゼオノア」等が例示される。
支持体１２は、可撓性のフィルムであってもよく、または、例えばガラス基板等の非可撓性の基板であってもよい。

＜配向膜＞
液晶回折素子１２１において、支持体１２の表面には配向膜１３が形成される。
配向膜１３は、光学異方性層１４を形成する際に、液晶化合物２０を、所定の液晶配向パターンに配向するための配向膜である。

後述するが、液晶回折素子１２１において、光学異方性層１４は、液晶化合物２０に由来する光学軸２２の向きが、面内の一方向に沿って連続的に回転しながら変化している液晶配向パターンを有する。従って、液晶回折素子１２１の配向膜１３は、光学異方性層１４が、この液晶配向パターンを形成できるように、形成される。
液晶回折素子１２１の光学異方性層１４においては、液晶配向パターンにおける、光学軸２２の向きが連続的に回転しながら変化する一方向（後述する軸Ａに沿う方向）において、光学軸２２の向きが１８０°回転する長さを１周期（光学軸２２の回転周期ｐ）とする。本発明の光偏向装置１００において、光学異方性層１４は、液晶光位相変調素子１０１による偏向（偏向方位（偏向方向））の中心から外側に向かって、１周期が、漸次、短くなる。また、液晶化合物２０の光学軸の回転方向は、軸Ａに沿う方向（矢印ｘ方向）に向かって、液晶光位相変調素子１０１による偏向の中心で逆転する。従って、液晶回折素子１２１の配向膜１３は、光学異方性層１４が、この液晶配向パターンを形成できるように、形成される。

配向膜１３は、公知の各種のものが利用可能である。
光学異方性層１４の配向膜１３としては、例えば、ポリマーなどの有機化合物からなるラビング処理膜、無機化合物の斜方蒸着膜、マイクログルーブを有する膜、ならびに、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライドおよびステアリル酸メチルなどの有機化合物のラングミュア・ブロジェット法によるＬＢ（Langmuir-Blodgett：ラングミュア・ブロジェット）膜を累積させた膜、等があげられる。
配向膜１３としては、ポリマー層の表面をラビング処理して形成されたものが例示される。ラビング処理は、ポリマー層の表面を紙や布で一定方向に数回こすることにより実施される。配向膜に使用するポリマーの種類は、ポリイミド、ポリビニルアルコール、特開平９−１５２５０９号公報に記載された重合性基を有するポリマー、特開２００５−９７３７７号公報、特開２００５−９９２２８号公報、および、特開２００５−１２８５０３号公報記載の直交配向膜等を好ましく使用することができる。
なお、本発明で言う直交配向膜とは、本発明の重合性棒状液晶化合物の分子の長軸を、直交配向膜のラビング方向と実質的に直交するように配向させる配向膜を意味する。配向膜の厚さは配向機能を提供できれば厚い必要はなく、０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。

配向膜１３としては、光配向性の素材に偏光または非偏光を照射して配向膜とした、いわゆる光配向膜も利用可能である。すなわち、支持体１２上に、光配光材料を塗布して光配向膜を作製してもよい。
偏光の照射は、光配向膜に対して、垂直方向または斜め方向から行うことができ、非偏光の照射は、光配向膜に対して、斜め方向から行うことができる。

本発明に利用可能な光配向膜に用いられる光配向材料としては、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２−２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２−２６５５４１号公報、特開２００２−３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド、またはエステル、特開平９−１１８７１７号公報、特表平１０−５０６４２０号公報、特表２００３−５０５５６１号公報、ＷＯ２０１０／１５０７４８号公報、特開２０１３−１７７５６１号公報、ならびに、特開２０１４−１２８２３号公報に記載の光二量化可能な化合物、特にシンナメート化合物、カルコン化合物およびクマリン化合物が好ましい例として挙げられる。特に好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、エステル、および、シンナメート化合物、カルコン化合物である。
本発明においては、光配向膜を用いるのが好ましい。

光配向材料を支持体１２上に塗布して乾燥させた後、配向膜を露光して配向パターンを形成する、配向膜の露光装置の模式図を図１１に示す。
露光装置５０は、レーザ５２を備えた光源５４と、レーザ５２からのレーザ光７０を２つに分離するビームスプリッター５６と、分離された２つの光線７２Ａ、７２Ｂの光路上にそれぞれ配置されたミラー５８Ａ、５８Ｂおよびλ／４板６０Ａ、６０Ｂを備える。
図示は省略するが、光源６４は例えば偏光板を備え、直線偏光Ｐ₀を出射する。λ／４板６０Ａおよび６０Ｂは互いに直交する光学軸を備えており、λ／４板６０Ａは、直線偏光Ｐ_０を右円偏光Ｐ_Ｒに、λ／４板６０Ｂは直線偏光Ｐ_０を左円偏光Ｐ_Ｌに変換する。

配向パターンを形成される前の配向膜１３を備えた支持体１２が露光部に配置され、２つの光線７２Ａ、７２Ｂを配向膜１３上で交差させて干渉させ、その干渉光を配向膜１３に照射して露光する。
この際の干渉により、配向膜１３に照射される光の偏光状態が干渉縞状に周期的に変化するものとなる。これによって、配向状態が周期的に変化する配向パターンが得られる。
露光装置５０において、２つの光線７２Ａおよび７２Ｂの交差角βを変化させることにより、配向パターンの周期を変化させることができる。すなわち、露光装置５０においては、交差角βを調節することにより、液晶化合物２０に由来する光学軸２２が一方向に沿って連続的に回転する配向パターンにおいて、光学軸２２が回転する１方向における、光学軸２２が１８０°回転する１周期の長さ（回転周期ｐ）を調節できる。
このように配向状態が周期的に変化した配向パターンを有する配向膜１３上に、後述する光学異方性層１４を形成することにより、この周期に応じた液晶配向パターンを備えた光学異方性層１４を形成することができる。

また、λ／４板６０Ａおよびλ／４板６０Ｂの光学軸を各々９０°回転することにより、光学軸２２の回転方向を逆にすることができる。従って、配向膜１３の半面にマスキングを行って露光を行い、次いで、露光済みの領域にマスキングを行って、λ／４板６０Ａおよびλ／４板６０Ｂの光学軸を各々９０°回転して露光を行うことで、液晶化合物２０の光学軸２２が回転する一方向において、中心で光学軸２２の回転方向を逆転できる。
さらに、光線７２Ａおよび７２Ｂの交差角βを調節し、不要な領域をマスキングして露光を行うことを、適宜、繰り返すことにより、光学軸２２が１８０°回転する１周期の長さ（回転周期ｐ）を、光学軸２２が回転する一方向の中心から外方向に向かって、漸次、短くできる。

また、配向膜１３の露光には、図１２に概念的に示す露光装置８０も、好適に利用される。図１２に示す露光装置８０は、図１０に示すような、同心円状の液晶配向パターンを形成する場合にも用いられる露光装置である。
露光装置８０は、レーザ８２を備えた光源８４と、レーザ８２からのレーザ光ＭをＳ偏光ＭＳとＰ偏光ＭＰとに分割する偏光ビームスプリッター８６と、Ｐ偏光ＭＰの光路に配置されたミラー９０ＡおよびＳ偏光ＭＳの光路に配置されたミラー９０Ｂと、Ｓ偏光ＭＳの光路に配置されたレンズ９２（凸レンズ）と、偏光ビームスプリッター９４と、λ／４板９６と、を有する。

偏光ビームスプリッター８６で分割されたＰ偏光ＭＰは、ミラー９０Ａによって反射されて、偏光ビームスプリッター９４に入射する。他方、偏光ビームスプリッター８６で分割されたＳ偏光ＭＳは、ミラー９０Ｂによって反射され、レンズ９２によって集光されて偏光ビームスプリッター９４に入射する。
Ｐ偏光ＭＰおよびＳ偏光ＭＳは、偏光ビームスプリッター９４で合波されて、λ／４板９６によって偏光方向に応じた右円偏光および左円偏光となって、支持体１２の上の配向膜１３に入射する。
ここで、右円偏光と左円偏光との干渉により、配向膜１３に照射される光の偏光状態が干渉縞状に周期的に変化するものとなる。同心円の内側から外側に向かうにしたがい、左円偏光と右円偏光の交差角が変化するため、内側から外側に向かってピッチが変化する露光パターンが得られる。これにより、配向膜１３において、配向状態が周期的に変化する同心円状の配向パターンが得られる。

この露光装置８０において、液晶化合物２０の光学軸２２が一方向に沿って連続的に１８０°回転する１周期の長さ（回転周期ｐ）は、レンズ９２の屈折力（レンズ９２のＦナンバー）レンズ９２の焦点距離、および、レンズ９２と配向膜１３との距離等を変化させることで、制御できる。
また、レンズ９２の屈折力（レンズ９２のＦナンバー）を調節することによって、光学軸２２が連続的に回転する一方向において、光学軸２２が１８０°回転する１周期の長さを変更できる。具体的には、平行光と干渉させる、レンズ９２を透過した光の集光の程度によって、光学軸２２が１８０°回転する１周期の長さ変えることができる。より具体的には、レンズ９２の屈折力を弱くすると、平行光に近づくため、光学軸２２が１８０°回転する１周期の長さは、内側から外側に向かって緩やかに短くなり、Ｆナンバーは大きくなる。逆に、レンズ９２の屈折力を強めると、光学軸２２が１８０°回転する１周期の長さは、内側から外側に向かって急に短くなり、Ｆナンバーは小さくなる。

このように、光学軸２２が連続的に回転する１方向において、光学軸２２が１８０°回転する１周期（回転周期ｐ）を変更する構成は、図１〜１０に示す、矢印Ｘ方向の一方向のみに液晶化合物２０の光学軸２２が連続的に回転して変化する構成でも、利用可能である。
例えば、光学軸２２が１８０°回転する１周期を、矢印Ｘ方向に向かって、漸次、短くすることにより、集光するように光を透過する光学素子を得ることができる。また、液晶配向パターンにおいて、光学軸２２が１８０°回転する方向を逆にすることにより、矢印Ｘ方向にのみ拡散するように光を透過する光学素子を得ることができる。なお、入射する円偏光の旋回方向を逆にすることでも、矢印のＸ方向にのみ拡散するように光を透過する光学素子を得ることができる。
さらに、例えば透過光に光量分布を設けたい場合など、光学素子の用途によって、矢印Ｘ方向に向かって、光学軸２２が１８０°回転する１周期を漸次、変更するのではなく、矢印Ｘ方向において、部分的に光学軸２２が１８０°回転する１周期が異なる領域を有する構成も利用可能である。例えば、部分的に光学軸２２が１８０°回転する１周期を変更する方法として、集光したレーザー光の偏光方向を任意に変えながら、光配向膜をスキャン露光してパターニングする方法等を利用することができる。

なお、液晶回折素子１２１において、配向膜１３は、好ましい態様として設けられるものであり、必須の構成要件ではない。
例えば、支持体１２をラビング処理する方法、支持体１２をレーザ光等で加工する方法等によって、支持体１２に配向パターンを形成することにより、光学異方性層１４が、液晶化合物２０に由来する光学軸２２の向きが面内の少なくとも一方向に沿って連続的に回転しながら変化している液晶配向パターンを有する構成とすることも、可能である。

＜光学異方性層＞
液晶回折素子１２１において、配向膜１３の表面には、液晶化合物２０を含む液晶組成物の硬化層である光学異方性層１４を備えている。
光学異方性層１４においては、液晶化合物の光学軸（遅相軸）が、光学異方性層の面内の少なくとも一方向に沿って配列された液晶パターンであって、液晶化合物２０の光学軸２２の向きが、一方向に向かって回転変化した液晶配向パターンを有する。

本実施形態の液晶回折素子１２１は、波長λの光に対する光学異方性層１４の厚さ方向（図中ｚ方向）のリターデーションＲ（＝Δｎ・ｄ_１）が、０．３６λ〜０．６４λである。リターデーションＲは０．４λ〜０．６λが好ましく、０．４５λ〜０．５５λがより好ましく、０．５λであることが特に好ましい。Δｎは光学異方性層１４の複屈折率、ｄ_１は厚さである。例えば、９４０ｎｍの光を入射光として想定する場合には、９４０ｎｍの光に対するリターデーションＲが３３８〜６０２ｎｍの範囲であればよく、４７０ｎｍであることが特に好ましい。
このようなリターデーションＲを有するので、光学異方性層１４は、一般的なλ／２板としての機能、すなわち、入射光の直交する直線偏光成分の間に１８０°（＝π＝λ／２）の位相差を与える機能を発現する。

液晶回折素子１２１は、透過型の回折格子として機能する。回折格子として機能する原理について、図５および図６を参照して説明する。
なお、図６は、光学異方性層１４の概略平面図であり、すなわち、図５を、図中上方からみた図である。

図５および図６に示すように、光学異方性層１４においては、液晶化合物２０が、一方向に連続的に光学軸２２が回転変化した液晶配向パターンで固定化されている。図示例では、矢印ｘ方向に一致する、図６中の軸Ａに沿った方向に、光学軸２２が連続的に回転変化している。すなわち、光学軸２２として定義される液晶化合物２０の長軸（異常光の軸：ダイレクタ）の面内成分と、軸Ａとが成す角度が、回転変化するように液晶化合物２０が配向されている。
なお、図６に示すように、光学異方性層１４において、液晶化合物２０の光学軸２２の方向は、軸Ａと直交する方向すなわち矢印ｙ方向に配列される液晶化合物２０では、一致している。光学異方性層１４は、このｙ方向の液晶化合物２０の光学軸２２の方向が一致する領域毎に、上述のような一般的なλ／２板としての機能を発現する。

光学軸２２の向きが回転変化した液晶配向パターンとは、軸Ａに沿って配列されている液晶化合物２０の光学軸２２と軸Ａとのなす角度が、軸Ａ方向の位置によって異なっており、軸Ａに沿って光学軸２２と軸Ａとのなす角度がφからφ＋１８０°あるいはφ−１８０°まで徐々に変化するように配向され固定化されたパターンである。
以下において、図６に示すような、光学異方性層１４において、液晶化合物２０の光学軸２２が光学異方性層１４の面に平行であり、さらに、光学軸２２の向きが一定である局所領域（単位領域）すなわち液晶化合物２０が矢印ｙ方向に配列される領域が、矢印ｙ方向と直交するｘ方向に配列されており、かつ、矢印ｘ方向に配列される複数の局所領域間において、光学軸２２の向きが一方向（軸Ａに沿う方向）に向かって連続的に回転変化するように配向されている液晶配向パターンを、水平回転配向と称する。

なお、連続的に回転変化するとは、図５および図６に示す通り、３０°刻みなどの一定の角度の領域が隣接して０°から１８０°（＝０°）まで回転するものであってもよい。または、軸Ａ方向に向かう光学軸２２の角度変化は、一定の角度間隔ではなく、不均一な角度間隔で回転する物であってもよい。本発明においては、単位領域の光学軸２２の向きの平均値が一定の割合で線形に変化していれば徐々に変化していることになる。ただし、軸Ａ方向に隣接する、光学軸２２が異なる傾きを有する単位領域同士における光学軸の傾きの変化は、４５°以下とするのが好ましい。隣接する単位領域の傾きの変化は、より小さい方が好ましい。

光学異方性層１４において、軸Ａ方向に向かって光学軸２２と軸Ａとがなす角度がφからφ＋１８０°（元に戻る）まで変化する距離、すなわち、光学軸２２が１８０°回転する周期を、回転周期ｐとする。この回転周期ｐは、０．５〜５μｍであるのが好ましい。回転周期ｐが短いほど、光学異方性層１４すなわち液晶回折素子１２１による回折角が大きくなる。従って、回転周期ｐは、液晶回折素子１２１への入射光の波長および所望の出射角に応じて定めればよい。

液晶回折素子１２１は、上述した光学異方性層１４の構成により、入射光に対してλ／２の位相差を与える共に、入射角０°で入射した、すなわち垂直入射した入射光を出射角θ_２で出射させる。
すなわち、後述する図７に示すように、光学異方性層１４の面に垂直に右円偏光Ｐ_Rの光Ｌ₁を入射させると、法線方向と角度θ₂をなす方向に左円偏光Ｐ_Lの光Ｌ₂が出射される。なお、光学異方性層１４の面に垂直に光を入射するとは、言い換えれば、面の法線に沿って光を入射する、ということである。また、以下の説明では、光学異方性層１４に入射する右円偏光Ｐ_Rの光Ｌ₁を『入射光Ｌ₁』ともいう。さらに、以下の説明では、光学異方性層から出射する左円偏光Ｐ_Lの光Ｌ₂を『出射光Ｌ₂』ともいう。
液晶回折素子１２１は、所定の波長の光を入射させる場合、光学異方性層１４における回転周期ｐが小さいほど、回折角すなわち出射光Ｌ₂の出射角が大きくなる。出射光Ｌ₂の出射角とは、光学異方性層１４の法線方向と出射光Ｌ₂とが成す角度である。

なお、液晶回折素子１２１は右円偏光と左円偏光とは回折する方位が異なるので、液晶回折素子１２１からの出射光Ｌ₂の回折方向は、液晶回折素子１２１に入射する光の円偏光の状態を制御して入射する。すなわち、図示例のように、入射光が直線偏光の場合は、λ／４板１１１を挿入して、左右どちらかの円偏光に変換してから入射することで、光の回折の方位をどちらかのみにすることができる。

図７は、光学異方性層１４に垂直入射した入射光Ｌ₁が、所定の出射角θ₂で出射される原理を模式的に示す図である。以下、図７を参照して、光学異方性層１４の作用について説明する。

まず、入射光Ｌ₁として、波長λの右円偏光Ｐ_Ｒを用いた場合について説明する。
右円偏光Ｐ_Ｒである入射光Ｌ₁は、光学異方性層１４を通過することにより、λ／２の位相差が与えられて左円偏光Ｐ_Lに変換される。
また、光学異方性層１４において、入射光Ｌ₁は、面内の個々の単位領域（局所領域）における液晶化合物２０の光学軸２２により、絶対位相が変化する。ここで、光学異方性層１４においては、液晶化合物２０の光学軸２２の向きが、軸Ａ方向（本例では矢印ｘ方向と一致）に向かって回転して変化しているため、入射光が入射する光学異方性層１４の面（ｘ−ｙ面）のｘ座標（ｘ方向の位置）における液晶化合物２０の光学軸２２の向きに応じて絶対位相の変化量が異なる。図７中の破線で示す領域には、その絶対位相の変化量がｘ座標によって異なる様子を模式的に示している。
図７に示すように、光学異方性層１４を通過する際の絶対位相のずれにより、光学異方性層の面に対して角度を有する絶対位相の等位相面２４が形成される。これによって、法線方向から入射した入射光Ｌ_１に対して、等位相面２４に垂直な方向に屈曲力が与えられ、入射光Ｌ₁の進行方向が変化する。すなわち、右円偏光Ｐ_Ｒである入射光Ｌ₁は、光学異方性層１４を通過した後には左円偏光Ｐ_Lとなり、かつ、法線方向と所定の角度θ₂をなす方向に進行する出射光Ｌ₂として光学異方性層１４から出射される。

以上のようにして、液晶回折素子１２１においては、液晶回折素子１２１の面に対して垂直に法線方向に沿って入射した入射光Ｌ₁は、法線方向とは異なる方向に出射光Ｌ_２として出射される。

光学異方性層１４中の液晶配向パターンにおける光学軸の向きの回転周期ｐを変化させることにより、出射角の傾きを変化させることができる。回転周期Ｐを小さくするほど入射光に大きな屈曲力を与えることができるので、傾きを大きくすることができる。

このように、光学異方性層１４における液晶配向パターンによって、絶対位相の変化量を変化させて入射光の波面を変化させることができる。

液晶回折素子１２１が、一方向のみに一様な回転周期ｐの液晶配向パターンを有している場合、上記のような原理に基づく入射光Ｌ₁の出射光Ｌ₂への変換は、透過回折として説明できる。
入射光Ｌ₁に対し光学異方性層１４は透過回折格子として機能し、光学異方性層１４に垂直入射した入射光Ｌ₁は、所定の回折角θ₂の出射光（透過回折光）Ｌ₂として透過回折される。この場合、一般的な光の回折の式である下記式（１）を満たす。
ｎ₂ｓｉｎθ₂−ｎ₁ｓｉｎθ₁＝ｍλ／ｐ 式（１）
ここで、ｎ₁は回折格子（ここでは光学異方性層１４）の入射面側の媒質１の屈折率、θ₁は入射角、ｎ₂は回折格子（ここでは光学異方性層）の出射面側の媒質２の屈折率、θ_２は回折角（出射角）、λは波長、ｐは回転周期、ｍは回折の次数である。ここでは、ｍ＝１で最大の回折効率が得られるように設定する。また、ここで、入射角θ₁＝０°であるので、式（１）は、
ｎ₂ｓｉｎθ₂＝λ／ｐ 式（２）
となる。

図８は、式（２）で示される回折現象を模式的に示す図である。
媒質ｎ₁と媒質ｎ₂との間に回折格子としての光学異方性層１４が配置されている。
屈折率ｎ₁である媒質１側から光学異方性層１４に法線方向から入射した光Ｌ₁は、光学異方性層１４による回折作用により回折されて、屈折率ｎ₂である媒質２側に出射される。このとき出射角θ₂で出射される出射光Ｌ₂は、回折角θ₂の透過回折光Ｌ₂と言い換えることができる。

このように、液晶化合物２０が水平回転配向して固定化された光学異方性層１４が回折格子として機能する。

液晶回折素子１２１（光学異方性層１４）により回折作用を生じさせる光の波長λは、紫外から可視光、赤外、さらには、電磁波レベルであってもよい。
同一の回転周期ｐに対し、入射光の波長が大きいほど回折角が大きく、入射光の波長が小さいほど回折角が小さくなる。
後述するが、液晶化合物２０としては、棒状液晶化合物および円盤状液晶化合物が利用可能である。波長λが３８０ｎｍである場合、回転周期ｐ（μｍ）が０．５＜ｐ＜１の範囲では、棒状液晶化合物と比べて円盤状液晶化合物は高い回折効率を得ることができる。また、波長λが１１００ｎｍである場合、回転周期ｐ（μｍ）が２＜ｐ＜５の範囲では、棒状液晶化合物と比べて円盤状液晶化合物は高い回折効率を得ることができる。

図７に示すように、液晶回折素子１２１の表面の法線に沿って右円偏光Ｐ_Rの入射光Ｌ₁を入射させると、法線方向と角度θ₂をなす方向に左円偏光Ｐ_Lの出射光Ｌ₂が出射される。
一方、液晶回折素子１２１に左円偏光を入射光として入射させた場合には、入射光は光学異方性層１４において右円偏光に変換されると共に図７とは逆向きの屈曲力を受けて進行方向が変化される。

なお、図９に示すように、液晶回折素子１２１（光学異方性層１４）に対して、ランダム偏光の入射光Ｌ₄₁を入射させた場合、入射光Ｌ₄₁のうち、右円偏光Ｐ_Rの成分は、上述したように、光学異方性層１４において左円偏光Ｐ_Lに変換され、液晶配向パターンによって屈曲力を受けて進行方向が変化し、光学異方性層を透過して第１の透過回折光Ｌ₄₂として出射される。
これに対して、入射光Ｌ₄₁のうちの左円偏光Ｐ_Lの成分は、光学異方性層１４で右円偏光Ｐ_Rに変換されると共に、右円偏光から左円偏光に変換された光とは逆向きの屈曲力を受けて、進行方向が変化した状態で光学異方性層１４を透過して、液晶回折素子１２１の反対の面から第２の透過回折光Ｌ₄₃として出射される。なお、第１の透過回折光Ｌ₄₂と第２の透過回折光Ｌ₄₃の進行方向は法線に対して略線対称の関係となる。

上記説明では入射光を光学異方性層に対して垂直に入射する例を示したが、入射光が斜めになった場合も同様に透過回折の効果が得られる。
斜め入射の場合には、入射角θ₁を考慮に入れて上記式（１）を満たすように、所望の回折角θ₂を得られるように回転周期の設計をすればよい。

上述したように、本発明の光偏向装置１００は、液晶光位相変調素子１０１が偏向した光を、液晶回折素子１２１（光学異方性層１４）によって屈折（回折）することで、液晶光位相変調素子１０１の最大偏向角θmaxよりも遥かに大きい、最大の出射角度θmaxoutの偏向角による光の偏向を可能にしている。

光学異方性層１４による光の屈折（回折角）は、液晶化合物２０の光学軸２２が１８０°回転する１周期すなわち回転周期ｐが短いほど、大きくなる。

また、入射する円偏光の偏向方向（旋回方向）が同じ場合には、光学異方性層１４による光の屈折方向は、液晶化合物２０の光学軸２２の回転方向によって、逆になる。
すなわち、入射光Ｌ₁が右円偏光Ｐ_Rである場合に、出射面側から見て、光学軸２２の回転方向が、図５〜図７に示すように軸Ａ方向（矢印ｘ方向）に向かって時計回りである場合には、出射光Ｌ２は、例えば、軸Ａ方向に屈折される。
これに対して、入射光Ｌ₁が右円偏光Ｐ_Rである場合に、出射面側から見て、光学軸２２の回転方向が、軸Ａ方向に向かって反時計回りである場合には、出射光Ｌ２は、逆の軸Ａ方向とは逆方向に屈折される（図９の出射光Ｌ₄₃参照）。

これに応じて、本発明の光偏向装置１００においては、光学異方性層１４は、軸Ａ方向に向かう液晶化合物２０の光学軸２２の回転周期ｐを、液晶光位相変調素子１０１による偏向（偏向方位）の中心から外側に向かって、漸次、短くする。すなわち、光学異方性層１４による光の屈折量は、偏向方向の外側に向かうにしたがって、大きくなる。
加えて、本発明の光偏向装置１００においては、光学異方性層１４は、軸Ａ方向に向かう液晶化合物２０の光学軸２２の回転方向を、液晶光位相変調素子１０１による偏向の中心において、逆転する。例えば、図示例であれば、軸Ａ方向に向かって、軸Ａ方向の上流側から、偏向方向の中心までは、軸Ａ方向に向かう光学軸２２の回転方向を反時計回りとし、偏向の中心で光学軸２２の回転方向を逆転して、偏向の中心から軸Ａ方向の下流に向かっては、軸Ａ方向に向かう光学軸２２の回転方向を時計回りとする。
本発明の光偏向装置１００は、このような構成を有することにより、液晶光位相変調素子１０１の最大偏向角θmaxよりも遥かに大きい、最大の出射角度θmaxoutの偏向角による光の偏向を可能にしている。
なお、光学軸２２の回転方向を逆転するのは、通常、光学異方性層１４における、軸Ａ方向（矢印ｘ方向）すなわち光学軸２２が回転する一方向の中心である。すなわち、光偏向装置１００においては、通常、液晶光位相変調素子１０１における偏向の中心と、光学異方性層１４における軸Ａ方向の中心とを、一致させる。

なお、本発明において、回転周期ｐは、偏向の中心から外側に向かって、連続的に短くなってもよく、または、段階的に短くなってもよい。

＜光学異方性層の形成＞
光学異方性層１４は、一例として、液晶化合物を含む液晶組成物によって形成する。
光学異方性層１４を形成するための、液晶化合物を含む液晶組成物は、液晶化合物の他に、レベリング剤、配向制御剤、重合開始剤および配向助剤などのその他の成分を含有していてもよい。支持体上に配向膜を形成し、その配向膜上に液晶組成物を塗布、硬化することにより、液晶組成物の硬化層からなる、所定の液晶配向パターンが固定化された光学異方性層を得ることができる。
次に、本発明の液晶組成物の各構成成分について詳述する。

光学異方性層１４は、棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物を含む液晶組成物の硬化層からなり、棒状液晶化合物の光学軸または円盤状液晶化合物の光学軸が、上記のように配向された液晶配向パターンを有している。
支持体１２上に配向膜を形成し、配向膜上に液晶組成物を塗布、硬化することにより、液晶組成物の硬化層からなる光学異方性層を得ることができる。なお、いわゆるλ／２板として機能するのは光学異方性層であるが、本発明は、支持体１２および配向膜を一体的に備えた積層体がλ／２板として機能する態様を含む。
また、光学異方性層を形成するための液晶組成物は、棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物を含有し、さらに、レベリング剤、配向制御剤、重合開始剤および配向助剤などのその他の成分を含有していてもよい。

また、光学異方性層は、入射光の波長に対して広帯域であるのが望ましく、複屈折率が逆分散となる液晶材料を用いて構成されているのが好ましい。
さらに、液晶組成物に捩れ成分を付与することにより、また、異なる位相差層を積層することにより、入射光の波長に対して光学異方性層を実質的に広帯域にすることも好ましい。例えば、光学異方性層において、捩れ方向が異なる２層の液晶を積層することによって広帯域のパターン化されたλ／２板を実現する方法が特開２０１４−０８９４７６号公報等に示されており、本発明において好ましく使用することができる。

―棒状液晶化合物―
棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、および、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。

棒状液晶化合物を重合によって配向を固定することがより好ましく、重合性棒状液晶化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ． Ｃｈｅｍ．， １９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開第９５／２２５８６号、同９５／２４４５５号、同９７／００６００号、同９８／２３５８０号、同９８／５２９０５号、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、および、特願２００１−６４６２７号公報などに記載の化合物を用いることができる。さらに棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報および特開２００７−２７９６８８号公報に記載のものも好ましく用いることができる。

―円盤状液晶化合物―
円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報および特開２０１０−２４４０３８号公報に記載のものを好ましく用いることができる。
なお、光学異方性層に円盤状液晶化合物を用いた場合には、光学異方性層において、液晶化合物２０は厚さ方向に立ち上がっており、液晶化合物に由来する光学軸２２は、円盤面に垂直な軸、いわゆる進相軸として定義される。

光学異方性層１４は、配向膜１３上に液晶組成物を多層塗布することにより形成することができる。
多層塗布とは、配向膜の上に液晶組成物を塗布し、加熱し、さらに冷却した後に紫外線硬化を行って１層目の液晶固定化層を作製した後、２層目以降はその液晶固定化層に重ね塗りして塗布を行い、同様に加熱し、冷却後に紫外線硬化を行うことを繰り返すことをいう。光学異方性層１４を上記のように多層塗布して形成することにより、光学異方性層１４の総厚が厚くなった場合でも、配向膜１３の配向方向を、光学異方性層１４の下面から上面にわたって反映させることができる。

［集光レンズの作用］
上述したように、図示例の光偏向装置１００は、好ましい態様として、液晶光位相変調素子１０１の上流側に、集光レンズ１３１を有する。

光学異方性層１４（液晶回折素子１２１）による光の屈折は、偏向方向の中心から外側に向かって、漸次、大きくなる。
一方で、光偏向装置１００が偏向する光すなわち光ビームは、実際には太さを有する。そのため、光学異方性層１４による光の屈折量は、厳密には、偏向方向の内側（偏向の中心側）と外側とで異なり、屈折量は外側の方が、大きい。そのため、液晶回折素子１２１によって屈折された光は、若干、拡散するように拡径する光になってしまう。

これに対して、集光レンズ１３１を設け、液晶回折素子１２１に入射する光を、若干、縮径した光とすることで、光偏向装置１００（液晶回折素子１２１）から出射する光を、平行光にして、直進性を向上できる。
その結果、集光レンズ１３１を設けることで、光による走査対象が、光偏向装置１００から遠方であっても、光偏向装置１００による光の走査を、正確に行うことができる。

集光レンズ１３１の屈折力（レンズパワー）には、制限はない。
すなわち、集光レンズ１３１の屈折力は、液晶回折素子１２１による光の屈折量とその面内の分布（すなわち回折ピッチの面内分布関数）、光偏向装置１００による光の偏向角、光偏向装置１００と光走査対象との距離、入射光の光径（ビーム径）等に応じて、好適な光を出射できる屈折力を、適宜、設定すればよい。
また、集光レンズ１３１の位置は、液晶回折素子１２１よりも上流であればよいが、集光レンズ１３１を小型化できる、集光レンズ１３１の設計を容易にできる等の点で、液晶光位相変調素子１０１（光偏向素子）よりも上流であるのが好ましい。

図１０は、液晶回折素子の設計変更例における光学異方性層の平面模式図である。
図１０に示す光学異方性層１４Ａにおける液晶配向パターンは、上述した光学異方性層１４における液晶配向パターンと異なる。図１０においては、光学軸２２のみを示している。図１０の光学異方性層１４Ａは、光学軸２２の向きが中心側から外側の多方向、例えば、軸Ａ₁、Ａ₂、Ａ₃…に沿って徐々に回転して変化している液晶配向パターンを有している。
すなわち、図１０に示す光学異方性層１４Ａの液晶配向パターンは、放射状に光学軸２２が回転する液晶配向パターンである。言い換えれば、図１０に示す光学異方性層１４Ａの液晶配向パターンは、光学軸の向きが連続的に回転しながら変化する一方向を、内側から外側に向かう同心円状に有する、同心円状のパターンである。
図１０に示す液晶配向パターンによって、入射光は光学軸２２の向きが異なる局所領域間では、異なる変化量で絶対位相が変化する。図１０に示すような放射状に光学軸が回転変化する液晶配向パターンを備えれば、入射した光を、発散光または集光光として透過させることができる。すなわち、光学異方性層１４中の液晶配向パターンによって凹レンズまたは凸レンズとしての機能を実現できる。

本発明の光偏向装置の好ましい態様としては、図１０に示す光学異方性層１４Ａの凹レンズの機能を液晶回折素子１２１に用いる。このときに、レンズの中心を液晶光位相変調素子１０１の出射光の中心に合わせると、液晶光位相変調素子から出射した最大偏向角θmaxの角度を最も効率的に光を広げることができる。
なお、液晶回折素子１２１の分割領域（１２１a〜１２１ｅに例示）の大きさは小さいほど滑らかに変化するので好ましいが、照射するレーザ光のビーム径によっては実用上問題ない程度に有限の値であってもよい。たとえば、１０〜数百μｍ程度であってもよい。

本発明の光偏向装置は、図１０に示す光学異方性層１４Ａの凹レンズの機能を液晶回折素子１２１Ａに用いることにより、中心から放射状に拡散するように、光を偏向させることができる。
例えば、本発明の光偏向装置において、図１６に概念的に示すように、凹レンズとして機能する光学異方性層１４Ａを有する液晶回折素子１２１Ａと、光偏向素子として、放射状に光を偏向する光偏向素子１０１Ａとを用いる。光偏向素子１０１Ａは、例えば、方位３６０°、極角０〜３５°で、光を偏向する。
これにより、図１６に示すように、光偏向素子１０１Ａで放射状に偏向した光Ｌを、液晶回折素子１２１Ａによって屈折させることで、偏向角すなわち光偏向素子１０１Ａによる方位角を拡大して、広い範囲に放射状に光を偏向できる。また、本発明の光偏向装置においては、好ましい態様として集光レンズ１３１を設ける。集光レンズ１３１によって、光Ｌを集光光として光偏向素子１０１Ａに入射して偏向し、そのまま集光光として液晶回折素子１２１Ａに入射することにより、液晶回折素子１２１Ａによって屈折した光を、平行光として偏向、出射できる。
なお、このように放射状に光を偏向する光偏向素子１０１Ａとしては、一例として、２０１２−２０８３５２号公報に記載されるＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems、微小機器電気システム）光偏向素子、特開２０１４−１３４６４２号公報に記載されるＭＥＭＳ光偏向素子、および、特開２０１５−２２０６４号公報に記載されるＭＥＭＳ光偏向素子等、圧電アクチュエータ等を用いてミラー（鏡）を揺動させることにより、光を偏向（偏向走査）する、公知のＭＥＭＳ光偏向素子（ＭＥＭＳ（光）スキャナー、ＭＥＭＳ光偏向器、ＭＥＭＳミラー、および、ＤＭＤ（Digital MicromirrorDevice）等が例示される。

以上の例では、液晶回折素子の液晶化合物２０は、厚さ方向には一方向を向いているが、本発明は、これに制限はされない。
本発明の光偏向装置において、液晶回折素子を構成する光学異方性層は、図１４に示す液晶回折素子２２０の第１光学異方性層２１５および第２光学異方性層２１６のように、厚さ方向に沿って伸びる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶化合物２０を有するものであってもよい。以下の説明では、厚さ方向に沿って伸びる螺旋軸に沿った捩れ配向を、単に『捩れ配向』ともいう。
液晶化合物２０が捩じれ配向している第１光学異方性層２１５および第２光学異方性層２１６は、液晶回折素子２２０の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Microscope）で観察した断面ＳＥＭ像において、液晶化合物２０の捩れ配向に由来する明暗線が、図１４に示すように、第１光学異方性層２１５と第２光学異方性層２１６との界面の法線に対して傾いた、傾斜光学異方性層である。
なお、上述のように、液晶配向パターンにおいて、液晶化合物の光学軸が１８０°回転する１周期（回転周期ｐ）、光学軸２２が回転する方向に向かって、漸次、短くなる場合には、第１光学異方性層２１５および第２光学異方性層２１６の法線に対する明暗線の傾斜角度は、光学軸２２が回転する方向に向かって、漸次、小さくなる。すなわち、この場合には、光学異方性層の主面に対して、明暗線の傾斜角度は、立ち上がっていく。さらに、この場合には、第１光学異方性層２１５および第２光学異方性層２１６の明暗線のパターンは、光学軸２２が回転する方向に向かって、周期が短くなる。
このように、捩れ配向した液晶化合物２０を有する光学異方性層によれば、高角度回折であっても、光の回折効率を向上できる。その結果、図５に示す、液晶化合物が捩じれ配向されない光学異方性層に比して、光学異方性層における光量低下を抑制して、出射光の光量を向上できる。

液晶回折素子２２０において、第１光学異方性層２１５と第２光学異方性層２１６とでは、液晶化合物２０の捩れ配向における捩れ方向が異なる。すなわち、第１光学異方性層２１５においては、光の進行方向に向かって、時計回りに、液晶化合物２０が捩れ配向されている。他方、第２光学異方性層２１６では、光の進行方向に向かって、反時計回りに、液晶化合物２０が捩れ配向されている。
そのため、第１光学異方性層２１５と第２光学異方性層２１６とでは、断面ＳＥＭ像における、捩れ配向に由来する明暗線の傾きの方向が、異なっている。

このような第１光学異方性層２１５では、例えば入射光が右円偏光である場合には、実線で示す図中左側（外側）に向かって進行する光に対しては、回折効率の向上効果が大きく得られる。しかしながら、第１光学異方性層２１５は、例えば入射光が右円偏光である場合には、破線で示す図中右側（中心側）に向かって進行する光に対しては、回折効率の向上効果は小さい。
これに対して、第２光学異方性層２１６では、入射光が右円偏光である場合には、逆に、実線で示す図中左側（外側）に向かって進行する光に対する回折効率の向上効果は小さい。しかしながら、第２光学異方性層２１６は、入射光が右円偏光である場合には、破線で示す図中右側（中心側）に向かって進行する光に対する回折効率の向上効果は大きい。
この作用効果は、入射光が左円偏光である場合には、逆になる。

液晶回折素子２２０では、偏向の中心が図中右側となる図１４に示す領域には、実線で示す図中左側（外側）に向かって進行する光しか入射しない。従って、この光（右円偏光）、すなわち、中心よりも図中左側の領域では、第１光学異方性層２１５が強く作用して、回折効率を向上して、出射光の光量を高くできる。
他方、図１４に示す領域に対して、中心よりも右側の領域では、破線で示す図中右側に向かって進行する光しか入射しない。従って、この光（右円偏光）に対しては、第２光学異方性層２１６が強く作用して、回折効率を向上して、出射光の光量を高くできる。
また、偏光の中心の領域では、光学異方性層に対する入射光の入射角度が小さいので、第１光学異方性層２１５および第２光学異方性層２１６が、共に、回折効率の向上に寄与する。
その結果、液晶化合物２０の捩れ配向における捩れ方向が互いに異なる異なる第１光学異方性層２１５および第２光学異方性層２１６を有する液晶回折素子２２０によれば、光の偏向方向の全域で、回折効率の向上効果を得られ、偏向角の全域において、高い光量の光を出射できる。

液晶化合物２０が捩れ配向する光学異方性層において、液晶化合物の捩れ角には、制限はない。液晶化合物の捩れ角は、光偏向素子による偏向角、および、目的とする回折効率等に応じて、適宜、設定すればよい。
液晶化合物２０が捩れ配向する光学異方性層において、液晶化合物２０の捩れ角は、１０〜２００°が好ましく、２０〜１９０°がより好ましく、４０〜１７０°がさらに好ましい。
なお、捩れ配向した液晶化合物２０の捩れ角（厚さ方向の捩れ角）とは、光学異方性層における、厚さ方向に沿って伸びる螺旋軸に沿って捩れ配向された液晶化合物２０の、下面から上面に到るまでの捩れ角度である。

このように、液晶化合物２０が螺旋状に捩れ配向した第１光学異方性層２１５および第２光学異方性層２１６を有する液晶回折素子は、図１５に示す液晶回折素子２２４のように、第１光学異方性層２１５と第２光学異方性層２１６との間に、液晶化合物２０がねじれ配向しない第３光学異方性層２１９を有してもよい。
液晶化合物が捩じれ配向していない第３光学異方性層２１９は、明暗線が法線方向に沿って延びる非傾斜光学異方性層である。
第１光学異方性層２１５と第２光学異方性層２１６との間に、このような第３光学異方性層２１９を有することにより、第３光学異方性層２１９による回折が相乗されて、より広い偏向角で光を偏向できる。

以上は、液晶回折素子１２１を透過型の回折素子として説明したが、本発明の光偏向装置では、反射型の液晶回折素子も用いることができる。
その場合は、液晶組成物が異なるだけで、同様の形成方法を採用することができる。液晶にはコレステリック液晶を用い、透過型と同様の配向膜を用いることで、反射型の回折光を発生させ、角度拡大に用いることができる。光を入射角とは異なる方向に反射させる光反射素子として、光を集光また発散するマイクロミラー、あるいはマイクロレンズとして、センサ用集光ミラーとしての適用が可能である。

本発明の光偏向装置において、光偏向素子は、液晶光位相変調素子１０１に制限はされず、ガルバノミラー、ポリゴンミラー、および、ＭＥＭＳ光偏向素子等、公知の光偏向素子が、各種、利用可能である。
中でも、機械的な可動部が小さく、かつ、機械的な可動部が少ないという点で、光偏向素子としては、上述した液晶光位相変調素子１０１およびＭＥＭＳ光偏向素子が、好適に利用される。

図１３に、ＭＥＭＳ光偏向素子を用いる本発明の光偏向装置の一例を概念的に示す。
なお、図１３に示す光偏向装置１３０は、上述した光偏向装置１００と同じ部材を多用するので、同じ部材には同じ符号を付し、以下の説明は、異なる部位を主に行う。

図１３に示す光偏向装置１３０において、図示しない光源から出射された、液晶回折素子１２１の出射面１６１に対してＰ偏光の光は、集光レンズ１３１によって、若干、集光され、次いで、λ／４板１１１によって、例えば、右円偏光に変換される。
なお、ＭＥＭＳ光偏向素子１３２を用いる光偏向装置１３０において、λ／４板１１１は、図１に示す光偏向装置１００と同様、ＭＥＭＳ光偏向素子１３２と液晶回折素子１２１との間に配置してもよい。しかしながら、λ／４板１１１を小型化できる等の点で、ＭＥＭＳ光偏向素子１３２を用いる光偏向装置１３０においては、λ／４板１１１は、ＭＥＭＳ光偏向素子１３２よりも上流に設けるのが好ましい。
また、ＭＥＭＳ光偏向素子１３２を用いる光偏向装置１３０においては、円偏光の光が入射される場合には、λ／４板１１１を設けなくてもよい。

この光偏向装置１３０において、ＭＥＭＳ光偏向素子１３２のミラーは、偏光解消しないものであるのが好ましい。具体的には、鏡面を示す金属ミラー等である。金属ミラーの場合には、円偏光が反射するときに円偏光の捩れ（センス）が反転するので、液晶回折素子に入射するときに所望の円偏光の捩れになるように予め反対の捩れの円偏光をＭＥＭＳ光偏光素子に入射するのが好ましい。
ＭＥＭＳ光偏向素子１３２のミラー面に対する入射角度が大きい場合には、Ｐ偏光（Ｐ波）とＳ偏光（Ｓ波）とで反射率および位相が異なることが原因で光の偏光状態が変化する。これに対応して、ミラーによる反射後の偏光が所望の円偏光になるように、予め偏光状態を調節しても良い。偏光状態の調節としては、例えば、光を楕円偏光にしておく方法が例示される。また、ＭＥＭＳ光偏向素子１３２のミラーによる反射後に所望の円偏光になるように、位相調節用の位相差板を配置しても良い。
さらに、ＭＥＭＳ光偏向素子１３２のミラーには円偏光ミラー、例えばコレステリック液晶層を用いてもよい。円偏光ミラー、例えばコレステリック液晶層の場合には、反射時に円偏光の捩れの向きが保たれるので、液晶回折素子１２１に入射するときに所望の円偏光の捩れになるように、予め、同じ捩れの円偏光をＭＥＭＳ光偏光素子１３２に入射するのが好ましい。

λ／４板１１１によって円偏光に変換された光は、ＭＥＭＳ光偏向素子１３２によって偏向される。なお、ＭＥＭＳ光偏向素子１３２による光の偏向方向は、上述した光偏向装置１００と同様、軸Ａ方向（矢印ｘ方向）と一致させる。
図１３において、符号１３４は、ＭＥＭＳ光偏向素子１３２の駆動装置である。駆動装置１３４は、ＭＥＭＳ光偏向素子１３２の構成等に応じた、公知のものを用いればよい。

本発明の光偏向装置１３０において、ＭＥＭＳ光偏向素子１３２には制限はなく、特開２０１２−２０８３５２号公報に記載されるＭＥＭＳ光偏向素子、特開２０１４−１３４６４２号公報に記載されるＭＥＭＳ光偏向素子、および、特開２０１５−２２０６４号公報に記載されるＭＥＭＳ光偏向素子等、圧電アクチュエータ等を用いてミラー（鏡）を揺動させることにより、光を偏向（偏向走査）する、公知のＭＥＭＳ光偏向素子（ＭＥＭＳ（光）スキャナー、ＭＥＭＳ光偏向器、ＭＥＭＳミラー、ＤＭＤが、全て、利用可能である。

ＭＥＭＳ光偏向素子１３２によって偏向された光は、先の光偏向装置１００と同様、液晶回折素子１２１によって回折され、上述したように偏向角を拡大され、ＭＥＭＳ光偏向素子１３２の最大偏向角θmaxよりも大きな、目的とする最大の出射角度θmaxoutで、光偏向装置１３０から出射される。

以上、説明した本発明の光偏向装置は、好ましい態様として、液晶化合物由来の光学軸の向きが面内の少なくとも一方向に沿って連続的に回転しながら変化している液晶配向パターンを持つ光学異方性層１４を有する、液晶回折素子１２１を回折素子として用いているが、本発明は、これに制限はされない。
すなわち、本発明の光偏向装置は、光偏向素子による偏向の中心から外側に向かって、回折角が大きくなるように、周期構造ピッチが、漸次、変化する物であれば、公知の回折素子が、全て、利用可能である。

好適な一例として、上述の液晶回折素子と同じ原理で、液晶材料を用いずにフォトニック結晶を用いた方法も用いることができる。
例えば、特開２０１７−１１１２７７号公報に述べられている方法の様に、無機材料で形成される透明基板と、Ｓｉ等で形成される複数の突条で形成される凹凸パターン形成部とを一定間隔ずつ空けて複数描くことで構造複屈折を生じさせ、面内で方位角を変化させることによって、上述した液晶配向パターンと同じような回折の効果を得る事ができる。

別の好適な回折素子として、ホログラフィによって感光性物質等にパターン形状を露光し、感光した部分の屈折率の違いに応じて光を回折させる、ホログラム回折素子が例示される。
ホログラム回折素子は、例えば、光偏向素子の偏向の中心から外側に向かって、回折角が大きくなるように、光偏向素子による偏向の中心から両端部に向かって、漸次、変化する、周期的な屈折率分布を有すればよい。
ホログラム回折素子は、上述の限定を満たすものであれば、制限はなく、例えば、特開２０１６−１８４１２４号公報に記載されるホログラムシート等、公知のホログラム回折素子（ホログラフィック回折素子（回折格子））が、全て、利用可能である。

さらに別の好適な回折素子として、表面に形成した微細な凹凸によって光を回折させる、表面レリーフ回折素子も利用可能である。
表面レリーフ回折素子は、例えば、光偏向素子の偏向の中心から両端部に向かって、回折角が大きくなるように、凹凸の格子周期（レリーフパターン）が、光偏向素子による偏向の中心から両端部に向かって、漸次、変化すればよい。
表面レリーフ回折素子も、上述の限定を満たすものであれば、制限はなく、例えば、特開２０１５−９３４３９号公報に記載される構造等、公知の表面レリーフ回折素子（表面レリーフ型回折格子）が、全て、利用可能である。
なお、回折素子として、ホログラム回折素子および表面レリーフ回折素子を用いる場合には、回折素子に入射する光は、円偏光である必要はない。従って、この場合には、λ／４板１１１は、不要である。

以上の説明から明らかなように、本発明の光偏向装置は、単純な構造を持ち、駆動も単純に、大きな角度の偏向が可能な自由空間光通信やレーザレーダまたは、光スキャナに適する機械的な可動部の無い、軽量小型化の光偏向装置を実現することができる。

このように本実施の形態にかかる本発明の光偏向装置では、単純な構成で簡便な駆動方法により高機能な光偏向装置を実現できる。

このような本発明の光偏向装置は、各種の光学装置に利用可能である。
図１７に本発明の光偏向装置を用いる、本発明の光学装置の一例を概念的に示す。
図１７に示す光学装置１１０は、光源１１２と、本発明の光偏向装置１００と、受光素子１１４とを有する。
光学装置１１０においては、光源１１２が出射した光を、本発明の光偏向装置１００によって偏向する。偏向された光は、光学装置１１０から出射され、測定対象Ｏによって反射される。測定対象Ｏによる反射光は、再度、光学装置１１０に入射して、受光素子１１４によって受光され、測光される。

このような本発明の光学装置１１０は、各種のセンサとして利用される。光学装置１１０を利用するセンサとしては、一例として、いわゆるＬｉＤＡＲ（Light Detection and Ranging）を用いる測距センサ、形状計測センサ、および、認識センサ等が例示される。

光学装置１１０において、光源１１２には制限はなく、測定対象、および、光学装置１１０の用途等に応じて、適宜、選択すればよい。光源１１２としては、一例として、半導体レーザ、レーザーダイオード（ＬＤ）、および、発光ダイオード（ＬＥＤ）等が例示される。一例として、光学装置１１０を測距センサとして利用する場合には、光源１１２として、赤外線を出射する光源が好ましく例示される。また、測定する対象や環境によっては、赤外線以外の波長の光または電磁波を用いることも、好ましく例示される。例えば、光源１１２として、可視光のレーザー光源を用いても良い。
受光素子１１４にも、制限はなく、光源１１２が出射した光を測光可能なものであれば、公知の受光素子が、各種、利用可能である。受光素子１１４としては、一例として、ＣＣＤ(Charge Coupled Device)センサ、および、フォトマルチプライヤ等が例示される。

また、本発明の光偏向装置は、単純構造、単純駆動で、大きな角度偏向が可能なため、軽量小型化が望まれる、光をスキャン（走査）するあらゆる用途に応用が可能である。
本発明の光偏向装置の用途としては、例えば、ビームースキャンを用いた描画装置、ビームスキャン型プロジェクションディスプレイ、ビームスキャン型ヘッドアップディスプレイ、および、ビームスキャン型ＡＲグラス等が例示される。この場合、可視光を初め広い波長域で光を光偏向させる装置として応用することができる。

以下に実施例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、使用量、物質量、割合、処理内容、および、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

［実施例１］
＜液晶光位相変調素子の作製＞
液晶光位相変調素子は、特開２００３−２９５１５３号公報に記載のものを用いた。
すなわち、平行ストライプ状に配した透明導電体からなる複数の個別のＩＴＯ電極を有する透明基板と、透明導電体からなる共通ＩＴＯ電極を有する透明基板の間にネマティック液晶層を備え、各個別電極に所定の電圧を印加することにより、ネマティック液晶層に屈折率の変調を生じさせるように構成した。
これにより、正面から入射した赤外線レーザ(波長９４０ｎｍ、直線偏光、偏光軸の方位は液晶の異常光方位)の光が平行ストライプの帯の方位に対して垂直な方位に曲げられることを確認した。偏向角度は±３°程度であった。

＜液晶回折素子の作製＞
（支持体、および、支持体の鹸化処理）
支持体として、市販されているトリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム社製、Ｚ−ＴＡＣ）を用意した。
支持体を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させて、支持体の表面温度を４０℃に昇温した。
その後、支持体の片面に、バーコーターを用いて下記に示すアルカリ溶液を塗布量１４ｍＬ（リットル）／ｍ²で塗布し、支持体を１１０℃に加熱し、さらに、スチーム式遠赤外ヒーター（ノリタケカンパニーリミテド社製）の下を、１０秒間搬送した。
続いて、同じくバーコーターを用いて、支持体のアルカリ溶液塗布面に、純水を３ｍＬ／ｍ²塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗およびエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンを１０秒間搬送して乾燥させ、支持体の表面をアルカリ鹸化処理した。

アルカリ溶液
――――――――――――――――――――――――――――――――――
水酸化カリウム ４．７０質量部
水 １５．８０質量部
イソプロパノール ６３．７０質量部
界面活性剤
ＳＦ−１：Ｃ₁₄Ｈ₂₉Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂ＯＨ １．０ 質量部
プロピレングリコール １４．８ 質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（下塗り層の形成）
支持体のアルカリけん化処理面に、下記の下塗り層形成用塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。塗膜が形成された支持体を６０℃の温風で６０秒間、さらに１００℃の温風で１２０秒間乾燥し、下塗り層を形成した。

下塗り層形成用塗布液
――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記変性ポリビニルアルコール ２．４０質量部
イソプロピルアルコール １．６０質量部
メタノール ３６．００質量部
水 ６０．００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

（配向膜の形成）
下塗り層を形成した支持体上に、下記の配向膜形成用塗布液を＃２のワイヤーバーで連続的に塗布した。この配向膜形成用塗布液の塗膜が形成された支持体を６０℃のホットプレート上で６０秒間乾燥し、配向膜を形成した。

配向膜形成用塗布液
――――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向用素材Ａ １．００質量部
水 １６．００質量部
ブトキシエタノール ４２．００質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ４２．００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

−光配向用素材Ａ−

（配向膜の露光）
図１２に示す露光装置を用いて配向膜を露光して、配向パターンを有する配向膜Ｐ−１を形成した。
露光装置において、レーザとして波長（４０５ｎｍ）のレーザ光を出射するものを用いた。干渉光による露光量を１００ｍＪ／ｃｍ²とした。
なお、レンズ（凸レンズ）の屈折力を調節して、その後の光学異方性層の形成時に、中心から外側に向かって、光学異方性層における液晶化合物の光学軸の回転の回転周期が、漸次、短くなるようにした。

（光学異方性層の形成）
光学異方性層を形成する液晶組成物として、下記の組成物Ａ−１を調製した。
組成物Ａ−１
――――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶化合物Ｌ−１ １００．００質量部
重合開始剤（ＢＡＳＦ製、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）９０７）
３．００質量部
光増感剤（日本化薬社製、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ）
１．００質量部
レベリング剤Ｔ−１ ０．０８質量部
メチルエチルケトン ３１３．００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

液晶化合物Ｌ−１

レベリング剤Ｔ−１

光学異方性層は、組成物Ａ−１を配向膜Ｐ−１上に多層塗布することにより形成した。多層塗布とは、先ず配向膜の上に１層目の組成物Ａ−１を塗布、加熱、冷却後に紫外線硬化を行って液晶固定化層を作製した後、２層目以降はその液晶固定化層に重ね塗りして塗布を行い、同様に加熱、冷却後に紫外線硬化を行うことを繰り返すことを指す。多層塗布により形成することにより、液晶層の総厚が厚くなった時でも配向膜の配向方向が液晶層の下面から上面にわたって反映される。

先ず１層目は、配向膜Ｐ−１上に組成物Ａ−１を塗布して、塗膜をホットプレート上で７０℃に加熱し、その後、２５℃に冷却した後、窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて波長３６５ｎｍの紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ²の照射量で塗膜に照射することにより、液晶化合物の配向を固定化した。この時の１層目の液晶層の膜厚は０．２μｍであった。

２層目以降は、この液晶層に重ね塗りして、上と同じ条件で加熱、冷却後に紫外線硬化を行って液晶固定化層を作製した。このようにして、総厚が所望の膜厚になるまで重ね塗りを繰り返して、光学異方性層を形成することで、支持体、配向膜、および、光学異方性層を有する、液晶回折素子を作製した。
光学異方性層は、最終的に液晶のΔｎ₉₄₀×厚さ（Ｒｅ（９４０））が４７０ｎｍになり、かつ、図１０に示すような同心円状の周期的な液晶配向パターンになっており、さらに、光学軸が回転する一方向において、中心から外側に向かって、光学異方性層における液晶化合物の光学軸の回転周期が、漸次、短くなっていること、および、中心で光学軸の回転方向が逆転していることを、偏光顕微鏡で確認した。
なお、この光学異方性層の液晶配向パターンにおいて、液晶化合物の光学軸が１８０°回転する回転周期（１周期）は、中心部の回転周期が非常に大きく（回転周期の逆数が０）、中心から２．５ｍｍの距離での回転周期が１０．６μｍ、中心から５．０ｍｍの距離での回転周期が５．３μｍであり、中心から外方向に向かって、回転周期が、漸次、短くなる液晶配向パターンであった。

＜λ／４板の作製＞
液晶光位相変調素子を通過した後の直線偏光を、円偏光に変換して液晶回折素子に入射するために、λ／４板（円偏光板）を作製した。
まず、上記と同様に下塗り層を形成した支持体を用意した。

（配向膜Ｐ−１０の形成）
下塗り層を形成した支持体上に、下記の配向膜Ｐ−１０形成用塗布液を＃２．４のワイヤーバーで連続的に塗布した。この配向膜Ｐ−１０形成用塗布液の塗膜が形成された支持体を８０℃のホットプレート上で５分間乾燥し、配向膜Ｐ−１０を形成した。

＜配向膜Ｐ−１０形成用塗布液＞
――――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向用素材 重合体Ａ２ ４．３５質量部
低分子化合物Ｂ２ ０．８０質量部
架橋剤Ｃ１ ２．２０質量部
化合物Ｄ１ ０．４８質量部
化合物Ｄ２ １．１５質量部
酢酸ブチル １００．００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

＜＜重合体Ａ２の合成＞＞
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１００質量部、メチルイソブチルケトン５００質量部、および、トリエチルアミン１０質量部を仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水１００質量部を滴下漏斗より３０分かけて滴下した後、還流下で混合しつつ、８０℃で６時間反応させた。反応終了後、有機相を取り出し、０．２質量％硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒および水を留去することにより、エポキシ含有ポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
このエポキシ含有ポリオルガノシロキサンについて、¹Ｈ−ＮＭＲ（Nuclear Magnetic Resonance）分析を行ったところ、化学シフト（δ）＝３．２ｐｐｍ付近にオキシラニル基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このエポキシ含有ポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Ｍｗは２，２００、エポキシ当量は１８６ｇ／モルであった。
次に、１００ｍＬの三口フラスコに、上記で得たエポキシ含有ポリオルガノシロキサン１０．１質量部、アクリル基含有カルボン酸（東亜合成社製、アロニックスＭ−５３００、アクリル酸ω−カルボキシポリカプロラクトン（重合度ｎ≒２））０．５質量部、酢酸ブチル２０質量部、特開２０１５−２６０５０号公報の合成例１の方法で得られた桂皮酸誘導体１．５質量部、および、テトラブチルアンモニウムブロミド０．３質量部を仕込み、９０℃で１２時間撹拌した。反応終了後、反応溶液と等量（質量）の酢酸ブチルで希釈し、３回水洗した。
この溶液を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２回繰り返し、最終的に、光配向性基を有するポリオルガノシロキサン（下記重合体Ａ２）を含む溶液を得た。この重合体Ａ２の重量平均分子量Ｍｗは９，０００であった。また、¹Ｈ−ＮＭＲ分析の結果、重合体Ａ２中のシンナメート基を有する成分は２３．７質量％であった。

−重合体Ａ２−

−低分子化合物Ｂ２−
下記式で表される低分子化合物Ｂ２（日清オリイオ社製、ノムコートＴＡＢ）を用いた。

−架橋剤Ｃ１−
下記式で表わされる架橋剤Ｃ１（ナガセケムテックス社製、デナコールＥＸ４１１）を用いた。

−化合物Ｄ１−
下記式で表わされる化合物Ｄ１（川研ファインケミカル社製、アルミキレートＡ（Ｗ））を用いた。

−化合物Ｄ２−
下記式で表わされる化合物Ｄ２（東洋サイエンス社製、トリフェニルシラノール）を用いた。

（配向膜Ｐ−１０の露光）
得られた配向膜Ｐ−１０に偏光紫外線を照射（２０ｍＪ／ｃｍ²、超高圧水銀ランプ使用）することで、配向膜Ｐ−１０の露光を行った。

［λ／４板の作製］
光学異方性層は、上述した組成物Ａ−１を配向膜Ｐ−１０上に塗布することにより形成した。
塗布した塗膜をホットプレート上で１１０℃に加熱し、その後、６０℃に冷却した後、窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて波長３６５ｎｍの紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ²の照射量で塗膜に照射することにより、液晶化合物の配向を固定化して、光学異方性層を作製した。最後に、支持体から光学異方性層を１０ｍｍ厚の石英基板に粘着材で転写し、これをλ／４板とした。得られたλ／４板のΔｎ₉₄₀×ｄ（Ｒｅ（９４０））は４７０ｎｍであった。

＜光偏向装置の組み立て＞
手前から、液晶光位相変調素子、λ／４板、および、液晶回折素子、の順番で積層し、粘着材で貼合して、図１に示すような光偏向装置を作製した。また、液晶光位相変調素子には、駆動装置を接続した。
この際に、液晶光位相変調素子の出射光の偏光方位とλ／４板の面内遅相軸とを４５°で交差させ、円偏光に変換されるようにした。また、液晶光位相変調素子の偏向方位の中心を、液晶回折素子の中心と合わせて、光の偏向角の増幅効果が最も大きくなるように貼合した。
また、光源として、赤外線レーザ(波長９４０ｎｍ、直線偏光、偏光軸の方位は液晶の異常光方位)を用意した。赤外線レーザは、出射する直線偏光が、液晶回折素子の出射面に対してＰ偏向となるように配置した。

［評価］
実施例１の光偏向装置について、赤外線レーザ光を光偏向装置の液晶光位相変調素子側の正面から入射し、液晶光位相変調素子を±３°角度変化させるよう個別電極に所定の電圧を印加させ、液晶回折素子からの出射光の角度を確認した。
その結果、液晶光位相変調素子による偏向角（偏角量）が、液晶回折素子で大きく拡大され、±５５°程度まで大きくなっていることが確認できた。

また、赤外線レーザと、光偏向装置の液晶光位相変調素子との間に集光レンズ（凸レンズ）を配置して、同様の評価を行った。その結果、光偏向装置によって偏向した光の直進性が向上したことを確認できた。

［実施例２］
液晶光位相変調素子に変えて、特開２０１４−１３４６４２号公報に記載されるマイクロミラーデバイスを、光偏向素子として用い、図１３に示すような構成の光偏向装置を作製して、同様の評価を行った。
本例では、液晶回折素子も、以下のものに変更した。液晶回折素子の作製方法を、以下に示す。

＜液晶回折素子の作製＞
上述した組成物Ａ−１に、下記のカイラル剤を０．０９質量部添加した組成物を調製した。この組成物を用いた以外は、上述した方法と同様にして、光学異方性層を形成した。Δｎ₉₄₀×厚さ（Ｒｅ（９４０））は４７０ｎｍ、捩れ角は、右捩れ７５°であった。

次に、上述した組成物Ａ−１に、下記のカイラル材を０．０９質量部添加した組成物を調製した。この組成物を用いた以外は、上述した方法と同様にして、先に形成した光学異方性層の上に、２層目の光学異方性層を形成した。２層目のΔｎ₉₄₀×厚さ（Ｒｅ（９４０））は４７０ｎｍ、捩れ角は左捩れ７５°であった。

これにより、図１４に示すような、液晶化合物が捩じれ配向され、かつ、捩じれ方向が互いに異なった２層積層型の液晶回折素子を作製した。捩れが異なる層を積層した理由は、上述のように、高角度回折においても高い回折効率を得るためである。

その他の図１３に示す各光学部品の特性値は以下のとりである。
レーザー光の光径は３ｍｍ、集光レンズの焦点距離は３５ｍｍ、集光レンズとマイクロミラーデバイスとの距離は１６ｍｍ、マイクロミラーデバイスと液晶回折素子の距離は７ｍｍとした。
マイクロミラーデバイスによる出射光の偏向角度は±３５°であった。
液晶回折素子の直径は２０ｍｍである。液晶回折素子は、中心部の回転周期が非常に大きく（回転周期の逆数が０）で、半径５ｍｍの位置での回転周期が４．８μｍ、半径１０ｍｍの位置での回転周期が２．６μｍであり、中心から外方向に向かって、回転周期が、漸次、短くなる液晶配向パターンであった。

実施例２の光偏向装置について、実施例１と同様にして、液晶回折素子からの出射光の角度を確認、評価した。
評価の結果、同様に、マイクロミラーデバイスによる偏向角が、液晶回折素子で大きく拡大され、±７０°の偏向角で光を出射されることが確認できた。

さらに、液晶回折素子が上述の例と異なる２つの光偏向装置を作製した。
［実施例３］
＜液晶回折素子の作製＞
図１４に概念的に示すような、第１光学異方性層および第２光学異方性層の２層の光学異方性層を有する液晶回折素子を作製した。
第１光学異方性層および第２光学異方性層は、共に、液晶化合物が捩れ配向している層であり、液晶回折素子の断面をＳＥＭで観察した断面ＳＥＭ像において、液晶化合物の捩れ配向に由来する明暗線が、図１４に示すように、第１光学異方性層と第２光学異方性層との界面の法線に対して傾いた、傾斜光学異方性層である。
さらに、第１光学異方性層と第２光学異方性層とでは、液晶化合物の捩れ配向における捩れ方向が異なる。その結果、断面ＳＥＭ像における、捩れ配向に由来する明暗線の傾きの方向が異なる。
以下の説明では、『捩じれ配向に由来する明暗線』を、単に『明暗線』とも言う。また、『第１光学異方性層と第２光学異方性層との界面の法線』を、単に『法線』とも言う。

（第１光学異方性層の形成）
第１光学異方性層を形成する液晶組成物として、下記の組成物Ａ−５を調製した。
組成物Ａ−５
――――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶化合物Ｌ−１ １００．００質量部
カイラル剤Ａ ０．１３質量部
重合開始剤（ＢＡＳＦ製、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）９０７）
３．００質量部
光増感剤（日本化薬製、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ）
１．００質量部
レベリング剤Ｔ−１ ０．０８質量部
メチルエチルケトン ２８４０．００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

カイラル剤Ａ

この組成物Ａ−５を用いた以外は、実施例１の光学異方性層と同様にして、配向膜Ｐ−１の上に第１光学異方性層を形成した。

（第２光学異方性層の形成）
第２光学異方性層を形成する液晶組成物として、下記の組成物Ａ−６を調製した。
組成物Ａ−６
――――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶化合物Ｌ−１ １００．００質量部
カイラル剤Ｂ ０．２２質量部
重合開始剤（ＢＡＳＦ製、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）９０７）
３．００質量部
光増感剤（日本化薬製、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ）
１．００質量部
レベリング剤Ｔ−１ ０．０８質量部
メチルエチルケトン ２８４０．００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

カイラル剤Ｂ

組成物Ａ−６を用いた以外は実施例１の光学異方性層と同様にして、第１光学異方性層の上に第２光学異方性層を形成した。これにより、図１４に示すような２層の光学異方性層を有する液晶回折素子を作製した。

作製した液晶回折素子において、第１光学異方性層および第２光学異方性層は、共に、最終的に液晶のΔｎ₉₄₀×厚さ＝Ｒｅ（９４０）が４７０ｎｍになり、かつ、図１０に示すような同心円状の周期的な液晶配向パターンになっており、さらに、光学軸が回転する一方向において、中心から外側に向かって、液晶化合物の光学軸の回転周期が、漸次、短くなっていること、および、中心で光学軸の回転方向が逆転していることを、偏光顕微鏡で確認した。
なお、第１光学異方性層の液晶配向パターンにおいて、液晶化合物の光学軸が１８０°回転する回転周期（１周期）は、中心部で非常に大きく（回転周期の逆数が０と見なせる）、中心から１．０ｍｍの距離での回転周期が９．０μｍ、中心から２．５ｍｍの距離での回転周期が４．５μｍ、中心から４．０ｍｍの距離での回転周期が３．０μｍであり、中心から外方向に向かって、回転周期が、漸次、短くなっていた。
第１光学異方性層と第２光学異方性層６とでは、液晶化合物の捩れの方向は逆であった。第１光学異方性層の厚さ方向の捩れ角は、右捩れ８０°であった。他方、第２光学異方性層の厚さ方向の捩れ角は、左捩れ８０°であった。
液晶回折素子の断面ＳＥＭ像において、第１光学異方性層および第２光学異方性層では、共に、法線に対して斜めに傾斜した明暗線が観察された。また、第１光学異方性層と第２光学異方性層とでは、法線に対する明暗線の傾き方向は、逆であった。なお、法線とは、第１光学異方性層と第２光学異方性層との界面の法線であるのは、上述のとおりである。
第１光学異方性層および第２光学異方性層は、共に、法線に対する明暗線の傾斜角度は、中心から外側に向かって、漸次、小さくなっていた。さらに、第１光学異方性層および第２光学異方性層の明暗線のパターンは、共に、中心から外側に向かって周期が短くなる様子が観察された。

＜光偏向装置の作製＞
液晶回折素子を、このような第１光学異方性層および第２光学異方性層の２層の光学異方性層を有する液晶回折素子に変更した以外は、実施例２と同様にして、光偏向装置を作製した。

［実施例４］
＜液晶回折素子の作製＞
図１５に概念的に示すような、第１光学異方性層と第２光学異方性層との間に、第３光学異方性層を有する、３層の光学異方性層を有する液晶回折素子を作製した。
第１光学異方性層および第２光学異方性層は、いずれも、液晶化合物が捩じれ配向した層である。そのため、第１光学異方性層および第２光学異方性層は、断面ＳＥＭ像において、図１５に示すように明暗線が法線に対して傾いた、傾斜光学異方性層である。
さらに、第１光学異方性層と第２光学異方性層とでは、液晶化合物の捩れ配向における捩れ方向が異なる。その結果、断面ＳＥＭ像における、捩れ配向に由来する明暗線の傾きの方向が異なる。
これに対して、第１光学異方性層と第２光学異方性層との間に配置された第３光学異方性層は、液晶化合物が捩じれ配向しておらず、明暗線が法線方向に沿って延びる非傾斜光学異方性層である。なお、法線とは、第１光学異方性層と第２光学異方性層との界面の法線であるのは、上述のとおりである。
上述のように、第１光学異方性層と第２光学異方性層とでは、液晶化合物の捩れ配向における捩れ方向が異なる。その結果、断面ＳＥＭ像における、捩れ配向に由来する明暗線の傾きの方向が異なる。

（第１光学異方性層の形成）
第１光学異方性層を形成する液晶組成物として、下記の組成物Ａ−７を調製した。
組成物Ａ−７
――――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶化合物Ｌ−１ １００．００質量部
カイラル剤Ａ ０．１９質量部
重合開始剤（ＢＡＳＦ製、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）９０７）
３．００質量部
光増感剤（日本化薬製、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ）
１．００質量部
レベリング剤Ｔ−１ ０．０８質量部
メチルエチルケトン ２８４０．００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

この組成物Ａ−７を用いた以外は、実施例１の光学異方性層と同様にして、配向膜Ｐ−１の上に第１光学異方性層を形成した。

（第３光学異方性層の形成）
膜厚を変更した以外は、上述した組成物Ａ−１を用い、実施例１の光学異方性層と同様にして、第１光学異方性層の上に第３光学異方性層３を塗布することにより形成した。

（第２光学異方性層の形成）
第２光学異方性層を形成する液晶組成物として、下記の組成物Ａ−８を調製した。
組成物Ａ−８
――――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶化合物Ｌ−１ １００．００質量部
カイラル剤Ｂ ０．３２質量部
重合開始剤（ＢＡＳＦ製、Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）９０７）
３．００質量部
光増感剤（日本化薬製、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ）
１．００質量部
レベリング剤Ｔ−１ ０．０８質量部
メチルエチルケトン ２８４０．００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

この組成物Ａ−８を用いた以外は、実施例１の光学異方性層と同様にして、第３光学異方性層の上に第２光学異方性層を形成した。これにより、図１５に示すような、３層の光学異方性層を有する液晶回折素子を作製した。

作製した液晶回折素子において、第１光学異方性層および第２光学異方性層は、共に、最終的に液晶のΔｎ₉₄₀×厚さ＝Ｒｅ（９４０）が４７０ｎｍであり、第３光学異方性層はΔｎ₉₄₀×厚さ（Ｒｅ（９４０））が５６４ｎｍであった。
第１光学異方性層、第２光学異方性層および第３光学異方性層は、いずれも、図１０に示すような同心円状の周期的な液晶配向パターンになっており、さらに、光学軸が回転する一方向において、中心から外側に向かって、液晶化合物の光学軸の回転周期が、漸次、短くなっていること、および、中心で光学軸の回転方向が逆転していることを、偏光顕微鏡で確認した。
なお、この第１光学異方性層の水平回転配向パターンにおいて、液晶化合物の光学軸が１８０°回転する回転周期（１周期）は、中心部で非常に大きく（回転周期の逆数が０と見なせる）、中心から１．０ｍｍの距離での回転周期が９．０μｍ、中心から２．５ｍｍの距離での回転周期が４．５μｍ、中心から４．０ｍｍの距離での回転周期が３．０μｍであり、中心から外方向に向かって、回転周期が、漸次、短くなっていた。
第１光学異方性層と第２光学異方性層とでは、液晶化合物の捩れの方向は逆であった。また、第１光学異方性層の厚さ方向の捩れ角は、右捩れ１３０°であった。第３光学異方性層の厚さ方向の捩れ角は、０°であった。第２光学異方性層の厚さ方向の捩れ角は、左捩れ１３０°であった。
液晶回折素子の断面ＳＥＭ像において、第１光学異方性層および第２光学異方性層は、共に、法線に対し、斜めに傾斜した明暗線が観察され、第３光学異方性層では、法線に沿って延びる明暗線が観察された。第１光学異方性層と第２光学異方性層とでは、法線に対する明暗線の傾き方向は、逆であった。なお、法線とは、第１光学異方性層と第２光学異方性層との界面の法線であるのは、上述のとおりである。
第１光学異方性層および第２光学異方性層は、共に、法線に対する明暗線の傾斜角度は、中心から外側に向かって、漸次、小さくなっていた。さらに、第１光学異方性層および第２光学異方性層の明暗線のパターンは、共に、中心から外側に向かって周期が短くなる様子が観察された。

＜光偏向装置の作製＞
液晶回折素子を、このような第１光学異方性層、第３光学異方性層および第２光学異方性層の３層の光学異方性層を有する液晶回折素子に変更した以外は、実施例２と同様にして、光偏向装置を作製した。

［評価］
実施例３および実施例４の光偏向装置について、実施例１と同様に液晶回折素子からの出射角の角度を確認した。
評価の結果、同様に、マイクロミラーデバイスによる偏向角が、入射角−３５〜＋３５°の範囲から液晶回折素子で大きく拡大され、±７０°の偏向角で光を出射されることが確認できた。また、実施例２よりも実施例３の方が、さらに実施例４の方が、より広い角度範囲で強い出射光が得られた。
また、実施例３および実施例４の光偏向装置は、実施例１の光偏向装置に比して、高光量の偏向光を出射できた。

［その他の実施例］
さらに、液晶回折素子に変えて、特開２０１６−１８４１２４号公報に記載されたホログラムシート、特開２０１５−９３４３９号公報に記載されたポリマー紙幣と同様に形成したレリーフパターンを有する表面レリーフ回折素子、および、特開２０１７−１１１２７７号公報に記載された無機材料の微細パターニングによる回折素子を、回折素子として用いて光偏向装置を作製した。なお、回折素子は、共に、液晶光位相変調素子による偏向（偏向方位）の中心から両端に向かって、漸次、回折角が大きくなるように、周期構造ピッチを、漸次、変更した。
その結果、いずれの回折素子を用いた場合でも、液晶光位相変調素子による偏向角を、ホログラムシート、表面レリーフ回折素子、および、無機材料の微細パターニングによる回折素子によって、大きく拡大されたことが確認できた。

以上、説明したように、本発明によれば、小型・軽量化に適した単純な構造にできる高偏向角化が可能な光偏向装置が得られるという効果を奏することを確認できた。

測距センサ等の各種の光学装置に好適に利用可能である。

１２ 支持体
１３ 配向膜
１４，１４Ａ 光学異方性層
２０ 液晶化合物
２２ 光学軸
２４ 等位相面
５０，８０ 露光装置
５２，８２ レーザ
５４，８４ 光源
５６ ビームスプリッター
５８Ａ，５８Ｂ，９０Ａ，９０Ｂ ミラー
６０Ａ，６０Ｂ，９６，１１１ λ／４板
７０ レーザ光
７２Ａ，７２Ｂ 光線
８６，９４ 偏光ビームスプリッター
９２ レンズ
１００ 光偏向装置
１０１ 液晶光位相変調素子
１０１Ａ 光偏向素子
１０２ 間隔
１０３ 入射面
１１０ 光学装置
１１２ 光源
１１４ 受光素子
１２１，１２１Ａ，２２０，２２４ 液晶回折素子
１３１ 集光レンズ
１３２ ＭＥＭＳ光偏向素子
１３４，１４１ 駆動装置
１５１ 入射光
１６１ 出射面
１７１ 矢印
２０１ 第１の透明基板
２０３ 第２の透明基板
２０７ ダイレクタ
２０９ 配向層
２１１ 複合電極
２１３ 共通電極
２１５ 第１光学異方性層
２１６ 第２光学異方性層
２１９ 第３光学異方性層
５０１ ネマティック液晶層
Ｌ 光
Ｌ₁，Ｌ₄₁ 入射光
Ｌ₂，Ｌ₄₂，Ｌ₄₃ 出射光
Ｐ_O 直線偏光
Ｐ_R 右円偏光
Ｐ_L 左円偏光
Ｍ レーザ光
ＭＰ Ｐ偏光
ＭＳ Ｓ偏光

Claims (17)

1. 入射された光を偏向して出射する光偏向素子と、
   前記光偏向素子を駆動する駆動手段と、
   前記光偏向素子の光出射側に配置される、回折素子の周期構造ピッチが、前記光偏向素子による偏向の中心から外側に向かって、漸次、変化する、回折素子と、
   を備えたことを特徴とする光偏向装置。
2. 前記光偏向素子が、液晶光位相変調素子である、請求項１に記載の光偏向装置。
3. 前記光偏向素子が、ＭＥＭＳ光偏向素子である、請求項１に記載の光偏向装置。
4. 前記回折素子が、液晶回折素子である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光偏向装置。
5. 前記液晶回折素子が、液晶化合物を含む組成物を用いて形成された、前記液晶化合物由来の光学軸の向きが面内の少なくとも一方向に沿って連続的に回転しながら変化している液晶配向パターンを有する光学異方性層を備える、請求項４に記載の光偏向装置。
6. 前記光学異方性層の前記液晶配向パターンが、前記液晶化合物由来の光学軸の向きが連続的に回転しながら変化する前記一方向を、内側から外側に向かう同心円状に有する、同心円状のパターンである、請求項５に記載の光偏向装置。
7. 前記光学異方性層が、厚さ方向に沿って伸びる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶化合物を有する、請求項５または６に記載の光偏向装置。
8. 前記液晶回折素子が、前記厚さ方向に沿って伸びる螺旋軸に沿って捩れ配向した液晶化合物の捩れ方向が、互いに逆である、２層の光学異方性層を有する、請求項７に記載の光偏向装置。
9. 前記２層の光学異方性層の間に、前記液晶化合物がねじれ配向しない前記光学異方性層を有する、請求項８に記載の光偏向装置。
10. λ／４板を有する、請求項４〜９のいずれか１項に記載の光偏向装置。
11. 前記λ／４板を、前記光偏向素子と前記液晶回折素子との間に有する、請求項１０に記載の光偏向装置。
12. 前記回折素子が、ホログラム回折素子である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光偏向装置。
13. 前記回折素子が、表面レリーフ回折素子である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光偏向装置。
14. 前記回折素子が、無機材料で形成される透明基板と、複数の突条で形成される凹凸パターンとを有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光偏向装置。
15. 前記回折素子よりも、光の進行方向の上流側に、集光素子を有する、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の光偏向装置。
16. 前記集光素子を、前記光偏向素子よりも光の進行方向の上流側に有する、請求項１５に記載の光偏向装置。
17. 請求項１〜１６のいずれか１項に記載される光偏向装置と、前記光偏向装置の前記光偏向素子に光を入射する光源と、受光素子とを有することを特徴とする光学装置。