JPWO2019142791A1 - Adhesive composition, connection structure and its manufacturing method - Google Patents

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Abstract

本発明の一側面は、導電性粒子と、含窒素芳香族複素環を有する化合物と、を含有する、接着剤組成物を提供する。One aspect of the present invention provides an adhesive composition containing conductive particles and a compound having a nitrogen-containing aromatic heterocycle.

Description

本発明は、接着剤組成物、接続構造体及びその製造方法に関する。 The present invention relates to an adhesive composition, a connecting structure and a method for producing the same.

近年、電子部品の小型化、薄型化及び高性能化が進んでおり、それと共に経済的な高密度実装技術の開発が活発に行われている。微細な回路電極を有する電子部品と回路部材との接続を、従来のハンダ及びゴムコネクターによって行うことは困難である。そこで、特許文献1〜6に開示されているような、分解能に優れた異方導電性の接着剤組成物及びそのフィルム(接着剤フィルム)を用いる接続方法が多用されている。例えば、液晶ディスプレイ(Liquid Crystal Display)のガラスと、TAB(Tape Automated Bonding)又はFPC(Flexible Print Circuit)のような回路部材とを接続するのに際して、導電性粒子を含有する異方導電性接着剤フィルムを対向する電極間に挟み、加熱及び加圧することによって、同一の基板上で隣接する電極同士の絶縁性を維持しながら、両基板の電極同士を電気的に接続して、微細な回路電極を有する電子部品と回路部材とが圧着され、固定される。 In recent years, electronic components have become smaller, thinner, and have higher performance, and at the same time, economical high-density mounting technology has been actively developed. It is difficult to connect an electronic component having a fine circuit electrode to a circuit member by using a conventional solder and a rubber connector. Therefore, a connection method using an anisotropically conductive adhesive composition having excellent resolution and a film (adhesive film) thereof as disclosed in Patent Documents 1 to 6 is often used. For example, when connecting the glass of a liquid crystal display (Liquid Crystal Display) to a circuit member such as a TAB (Tape Automated Bonding) or an FPC (Flexible Print Circuit), an anisotropic conductive adhesive containing conductive particles. By sandwiching the film between the electrodes facing each other, heating and pressurizing, the electrodes of both substrates are electrically connected to each other while maintaining the insulation between adjacent electrodes on the same substrate, resulting in fine circuit electrodes. The electronic component having the above and the circuit member are crimped and fixed.

また、モジュールの軽量化、薄型化及び高感度化が要求されており、液晶表示装置、電子ペーパー等の表示モジュール、又は、タッチパネル等のセンサ用基板においては、配線抵抗を下げる目的で、電極として、従来の銀ペーストに代えて、表面抵抗の低い銅、金、アルミニウム及びそれらの合金を用いることにより、配線の幅を狭くしながら配線抵抗を低減させることが必要となっている。異方導電性の接着剤フィルムにおいても、接続抵抗を低減する目的で、接着剤フィルムに含まれる原料等を最適化する検討がなされている。 Further, weight reduction, thinning, and high sensitivity of the module are required, and in a display module such as a liquid crystal display device and electronic paper, or a sensor substrate such as a touch panel, as an electrode for the purpose of reducing wiring resistance. It is necessary to reduce the wiring resistance while narrowing the width of the wiring by using copper, gold, aluminum and their alloys having low surface resistance instead of the conventional silver paste. Even in the anisotropically conductive adhesive film, studies have been made to optimize the raw materials and the like contained in the adhesive film for the purpose of reducing the connection resistance.

特開平08−148213号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 08-14821 特開平08−124613号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 08-124613 特開平11−50032号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 11-50032 特開2011−91044号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-91044 特開2011−100605号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-100605 特開2013−55058号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-55058

上述した表面抵抗の低い金属の中でも、入手が容易な銅、銅合金、銅の酸化物等を電極に用いるための検討がなされている。しかし、このような電極に従来の接着剤フィルムを適用した場合、例えば、経時的に接続抵抗が上昇することがあり、接続信頼性の点で更なる改良の余地がある。 Among the above-mentioned metals having low surface resistance, studies have been made for using easily available copper, copper alloys, copper oxides, and the like for electrodes. However, when a conventional adhesive film is applied to such an electrode, for example, the connection resistance may increase with time, and there is room for further improvement in terms of connection reliability.

そこで、本発明は、接続抵抗の上昇を抑制し、接続信頼性を向上させることが可能な接着剤組成物を提供することを目的とする。また、本発明は、接続信頼性に優れた接続構造体及びその製造方法を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide an adhesive composition capable of suppressing an increase in connection resistance and improving connection reliability. Another object of the present invention is to provide a connection structure having excellent connection reliability and a method for manufacturing the same.

本発明の一側面は、導電性粒子と、含窒素芳香族複素環を有する化合物と、を含有する、接着剤組成物である。 One aspect of the present invention is an adhesive composition containing conductive particles and a compound having a nitrogen-containing aromatic heterocycle.

含窒素芳香族複素環は、好ましくは、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、オキサゾール環及びピリミジン環からなる群より選ばれる少なくとも1種である。これにより、接続信頼性を更に向上させることができる。 The nitrogen-containing aromatic heterocycle is preferably at least one selected from the group consisting of a pyrazole ring, an imidazole ring, a triazole ring, a tetrazole ring, a thiazole ring, a thiadiazole ring, an oxazole ring and a pyrimidine ring. Thereby, the connection reliability can be further improved.

接着剤組成物は、好ましくは、回路部材同士を接続するために用いられる。 The adhesive composition is preferably used to connect the circuit members together.

本発明の別の一側面は、第一の基板及び該第一の基板上に設けられた第一の電極を有する第一の回路部材と、第二の基板及び該第二の基板上に設けられた第二の電極を有する第二の回路部材と、第一の回路部材及び第二の回路部材の間に配置され、第一の電極と第二の電極とを互いに電気的に接続する回路接続部材と、を備え、回路接続部材は、上記の接着剤組成物の硬化物である、接続構造体である。 Another aspect of the present invention is a first circuit member having a first substrate and a first electrode provided on the first substrate, and a second substrate and the second substrate. A circuit that is arranged between a second circuit member having a second electrode and a first circuit member and a second circuit member, and electrically connects the first electrode and the second electrode to each other. The circuit connecting member includes a connecting member, and the circuit connecting member is a connecting structure which is a cured product of the above-mentioned adhesive composition.

第一の電極及び第二の電極は、好ましくは、銅、銅合金、又は銅酸化物である。 The first electrode and the second electrode are preferably copper, a copper alloy, or a copper oxide.

本発明の別の一側面は、第一の基板及び該第一の基板上に設けられた第一の電極を有する第一の回路部材と、第二の基板及び該第二の基板上に設けられた第二の電極を有する第二の回路部材との間に、上記の接着剤組成物を配置し、上記の接着剤組成物を介して第一の回路部材と第二の回路部材とを圧着して、第一の回路部材と第二の回路部材とを電気的に接続する工程を備える、接続構造体の製造方法である。 Another aspect of the present invention is a first circuit member having a first substrate and a first electrode provided on the first substrate, and a second substrate and the second substrate. The above-mentioned adhesive composition is arranged between the second circuit member having the second electrode, and the first circuit member and the second circuit member are separated from each other via the above-mentioned adhesive composition. It is a method of manufacturing a connection structure including a step of crimping to electrically connect a first circuit member and a second circuit member.

本発明によれば、接続抵抗の上昇を抑制し、接続信頼性を向上させることが可能な接着剤組成物を提供することができる。また、本発明は、接続信頼性に優れた接続構造体及びその製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an adhesive composition capable of suppressing an increase in connection resistance and improving connection reliability. Further, the present invention can provide a connection structure having excellent connection reliability and a method for manufacturing the same.

一実施形態に係る接着剤フィルムを示す模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows the adhesive film which concerns on one Embodiment. 一実施形態に係る接続構造体の製造方法を示す模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows the manufacturing method of the connection structure which concerns on one Embodiment. 実施例で用いた銅電極フィルム貼付体を示す模式断面図である。It is a schematic cross-sectional view which shows the copper electrode film sticking body used in an Example.

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments.

一実施形態に係る接着剤組成物は、接着剤成分と、接着剤成分中に分散された導電性粒子とを含有する。接着剤成分は、接着剤組成物中の導電性粒子以外の不揮発分として定義される。 The adhesive composition according to one embodiment contains an adhesive component and conductive particles dispersed in the adhesive component. The adhesive component is defined as a non-volatile component other than the conductive particles in the adhesive composition.

導電性粒子は、例えば、ポリスチレン等のポリマー粒子(プラスチック粒子)と、該ポリマー粒子を被覆する金属層とを有する。ポリマー粒子は、好ましくはその表面の実質的に全体が金属層で被覆されているが、回路接続材料としての機能が維持される範囲で、ポリマー粒子の表面の一部が金属層で被覆されずに露出していてもよい。ポリマー粒子は、例えば、スチレン及びジビニルベンゼンから選ばれる少なくとも1種のモノマーをモノマー単位として含む重合体を含む粒子であってもよい。 The conductive particles have, for example, polymer particles (plastic particles) such as polystyrene and a metal layer that coats the polymer particles. The polymer particles are preferably covered with a metal layer substantially entirely on the surface thereof, but a part of the surface of the polymer particles is not covered with the metal layer as long as the function as a circuit connection material is maintained. It may be exposed to. The polymer particles may be, for example, particles containing a polymer containing at least one monomer selected from styrene and divinylbenzene as a monomer unit.

ポリマー粒子の平均粒径は、好ましくは、1μm以上であってよく、40μm以下であってよく、1〜40μmであってよい。高密度実装の観点から、ポリマー粒子の平均粒径は、より好ましくは、30μm以下であってよく、1〜30μmであってよい。電極の表面凹凸のばらつきのある場合にもより安定して接続状態を維持する観点からは、ポリマー粒子の平均粒径は、更に好ましくは、2μm以上であってよく、20μm以下であってよく、2〜20μmであってよい。ポリマー粒子の平均粒径は、走査電子顕微鏡(SEM)により観察して、ポリマー粒子300個の粒径を測定し、その平均値として得ることができる。 The average particle size of the polymer particles is preferably 1 μm or more, 40 μm or less, and may be 1 to 40 μm. From the viewpoint of high-density mounting, the average particle size of the polymer particles may be more preferably 30 μm or less, and may be 1 to 30 μm. From the viewpoint of maintaining a more stable connection state even when the surface unevenness of the electrode is uneven, the average particle size of the polymer particles may be more preferably 2 μm or more, and may be 20 μm or less. It may be 2 to 20 μm. The average particle size of the polymer particles can be obtained as an average value by observing with a scanning electron microscope (SEM) and measuring the particle size of 300 polymer particles.

金属層は、Ni、Ni/Au、Ni/Pd、Cu、NiB、Ag、Ru等の各種の金属により形成されていてよい。金属層は、めっき、蒸着、スパッタ等で作製される薄膜であってもよい。 The metal layer may be formed of various metals such as Ni, Ni / Au, Ni / Pd, Cu, NiB, Ag, and Ru. The metal layer may be a thin film produced by plating, vapor deposition, sputtering or the like.

絶縁性向上の観点から、導電性粒子は、金属層の外側に設けられた、金属層を覆う絶縁層を更に有していてもよい。絶縁層は、シリカ、アクリル等の絶縁性材料から形成された層であってよい。 From the viewpoint of improving the insulating property, the conductive particles may further have an insulating layer provided on the outside of the metal layer and covering the metal layer. The insulating layer may be a layer formed of an insulating material such as silica or acrylic.

導電性粒子は、好ましくは、複数の突起部を形成している表面を有する。突起部を有する導電性粒子は、例えば、ポリマー粒子の表面上に金属メッキによって金属層を形成することによって得ることができる。 The conductive particles preferably have a surface that forms a plurality of protrusions. The conductive particles having protrusions can be obtained, for example, by forming a metal layer by metal plating on the surface of the polymer particles.

導電性粒子の含有量は、接続する電極の精細度等に応じて決められる。例えば、導電性粒子の含有量は、接着剤成分100体積部に対して、1体積部以上であってよく、50体積部以下であってよく、1〜50体積部であってよい。絶縁性及び製造コストの観点から、導電性粒子の含有量は、より好ましくは、接着剤成分100体積部に対して、30体積部以下であってよく、1〜30体積部であってよい。 The content of the conductive particles is determined according to the fineness of the connecting electrodes and the like. For example, the content of the conductive particles may be 1 part by volume or more, 50 parts by volume or less, and 1 to 50 parts by volume with respect to 100 parts by volume of the adhesive component. From the viewpoint of insulating property and manufacturing cost, the content of the conductive particles may be more preferably 30 parts by volume or less, and may be 1 to 30 parts by volume with respect to 100 parts by volume of the adhesive component.

接着剤成分は、一実施形態において、絶縁性を有し、熱又は光によって硬化するラジカル重合性物質と、遊離ラジカル発生剤と、含窒素芳香族複素環を有する化合物と、を含有する。 In one embodiment, the adhesive component contains a radically polymerizable substance that has insulating properties and is cured by heat or light, a free radical generator, and a compound having a nitrogen-containing aromatic heterocycle.

ラジカル重合性物質は、ラジカルにより重合する官能基を有する物質であり、例えば、アクリレート化合物、メタクリレート化合物、及びマレイミド化合物が挙げられる。ラジカル重合性物質の含有量は、接着剤成分全量を基準として、例えば、50質量%以上であってよく、80質量%以下であってよく、50〜80質量%であってよい。 The radically polymerizable substance is a substance having a functional group that is polymerized by a radical, and examples thereof include an acrylate compound, a methacrylate compound, and a maleimide compound. The content of the radically polymerizable substance may be, for example, 50% by mass or more, 80% by mass or less, or 50 to 80% by mass, based on the total amount of the adhesive component.

アクリレート化合物及びメタクリレート化合物としては、例えば、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、イソブチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、2−ヒドロキシ−1,3−ジアクリロキシプロパン、2,2−ビス[4−(アクリロキシメトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(アクリロキシポリエトキシ)フェニル]プロパン、ジシクロペンテニルアクリレート、トリシクロデカニルアクリレート、ビス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ε−カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、及びトリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレートが挙げられる。ラジカル重合性物質は、これらを1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。ラジカル重合性物質は、接着性の観点からは、好ましくはウレタンアクリレート又はウレタンメタクリレートである。 Examples of the acrylate compound and methacrylate compound include urethane acrylate, urethane methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, isobutyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and dimethylol tricyclodecane diacrylate. , Trimethylol Propane Triacrylate, Tetramethylol Methan Tetraacrylate, 2-Hydroxy-1,3-Diacryloxypropane, 2,2-Bis [4- (Acryloxymethoxy) Phenyl] Propane, 2,2-Bis [4 -(Acryloxipolyethoxy) phenyl] propane, dicyclopentenyl acrylate, tricyclodecanyl acrylate, bis (acryloxyethyl) isocyanurate, ε-caprolactone-modified tris (acryloxyethyl) isocyanurate, and tris (acryloxyethyl) ) Isocyanurate can be mentioned. The radically polymerizable substance may be used alone or in combination of two or more. The radically polymerizable substance is preferably urethane acrylate or urethane methacrylate from the viewpoint of adhesiveness.

ラジカル重合性物質としては、耐熱性を向上させる観点から、ウレタンアクリレート又はウレタンメタクリレートと、有機過酸化物で架橋されたときに、単独で100℃以上のTgを示すラジカル重合性物質とを併用することが特に好ましい。このようなラジカル重合性物質は、ジシクロペンテニル基及び/又はトリシクロデカニル基を有する化合物であってよく、好ましくは、トリシクロデカニル基を有する化合物である。 As the radically polymerizable substance, from the viewpoint of improving heat resistance, urethane acrylate or urethane methacrylate and a radically polymerizable substance that alone exhibits Tg of 100 ° C. or higher when crosslinked with an organic peroxide are used in combination. Is particularly preferred. Such a radically polymerizable substance may be a compound having a dicyclopentenyl group and / or a tricyclodecanyl group, and is preferably a compound having a tricyclodecanyl group.

ラジカル重合性物質の25℃における粘度は、100000mPa・s以上であってよく、1000000mPa・s以下であってよく、100000〜1000000mPa・sであってもよく、好ましくは、500000mPa・s以下であってよく、100000〜500000mPa・sであってもよい。ラジカル重合性物質の25℃における粘度は、市販のE型粘度計を用いて測定できる。 The viscosity of the radically polymerizable substance at 25 ° C. may be 100,000 mPa · s or more, 1,000,000 mPa · s or less, 100,000 to 1,000,000 mPa · s, and preferably 500,000 mPa · s or less. It may be 100,000 to 500,000 mPa · s. The viscosity of the radically polymerizable substance at 25 ° C. can be measured using a commercially available E-type viscometer.

遊離ラジカル発生剤は、熱又は光により分解して遊離ラジカルを発生する化合物であり、例えば過酸化化合物又はアゾ系化合物である。遊離ラジカル発生剤は、目的とする接続温度、接続時間、ポットライフ等により適宜選定される。遊離ラジカル発生剤は、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、パーオキシエステル、パーオキシケタール、ジアルキルパーオキサイド及びハイドロパーオキサイドから選ばれる1種以上であってよい。高反応性とポットライフの観点からは、遊離ラジカル発生剤は、好ましくは、半減期10時間の温度が40℃以上で、且つ、半減期1分の温度が180℃以下の有機過酸化化合物である。遊離ラジカル発生剤の含有量は、接着剤成分全量を基準として、例えば、0.05質量%以上であってよく、15質量%以下であってよく、0.05〜15質量%であってよい。接着剤成分が遊離ラジカル発生剤を含有する場合、遊離ラジカル発生剤は、分解促進剤、抑制剤等と組み合わせて用いられてもよい。 The free radical generator is a compound that decomposes by heat or light to generate free radicals, and is, for example, a peroxide compound or an azo compound. The free radical generator is appropriately selected according to the target connection temperature, connection time, pot life, and the like. The free radical generator may be, for example, one or more selected from benzoyl peroxide, diacyl peroxide, peroxydicarbonate, peroxyester, peroxyketal, dialkyl peroxide and hydroperoxide. From the viewpoint of high reactivity and pot life, the free radical generator is preferably an organic peroxide compound having a half-life of 10 hours at a temperature of 40 ° C. or higher and a half-life of 1 minute at a temperature of 180 ° C. or lower. is there. The content of the free radical generator may be, for example, 0.05% by mass or more, 15% by mass or less, or 0.05 to 15% by mass, based on the total amount of the adhesive component. .. When the adhesive component contains a free radical generator, the free radical generator may be used in combination with a decomposition accelerator, an inhibitor, or the like.

本実施形態の接着剤成分は、重合禁止剤を更に含んでいてもよい。重合禁止剤は、ハイドロキノン化合物、メチルエーテルハイドロキノン化合物等であってよい。重合禁止剤の含有量は、接着剤成分全量を基準として、0.05質量%以上であってよく、5質量%以下であってよく、0.05〜5質量%であってよい。 The adhesive component of the present embodiment may further contain a polymerization inhibitor. The polymerization inhibitor may be a hydroquinone compound, a methyl ether hydroquinone compound, or the like. The content of the polymerization inhibitor may be 0.05% by mass or more, 5% by mass or less, or 0.05 to 5% by mass, based on the total amount of the adhesive component.

含窒素芳香族複素環を有する化合物(以下、単に「複素環化合物」ともいう)は、環内に1個以上の窒素原子を含む芳香族性の複素環を有する化合物である。含窒素芳香族複素環(以下、単に「複素環」ともいう)は、少なくとも炭素原子及び窒素原子の2種の原子で構成されており、炭素原子及び窒素原子に加えて、硫黄原子、酸素原子等のその他の原子を含む3種以上の原子で構成されていてもよい。複素環は、例えば1〜4個の窒素原子を含み、好ましくは2〜4個の窒素原子を含む。複素環に含まれる窒素原子が1個である場合、複素環は、好ましくは、炭素原子及び窒素原子に加えて上記のその他の原子を更に含む。 A compound having a nitrogen-containing aromatic heterocycle (hereinafter, also simply referred to as “heterocyclic compound”) is a compound having an aromatic heterocycle containing one or more nitrogen atoms in the ring. A nitrogen-containing aromatic heterocycle (hereinafter, also simply referred to as “heterocycle”) is composed of at least two types of atoms, a carbon atom and a nitrogen atom, and in addition to the carbon atom and the nitrogen atom, a sulfur atom and an oxygen atom. It may be composed of three or more kinds of atoms including other atoms such as. The heterocycle contains, for example, 1 to 4 nitrogen atoms, preferably 2 to 4 nitrogen atoms. When the heterocycle contains one nitrogen atom, the heterocycle preferably further contains the above other atoms in addition to the carbon atom and the nitrogen atom.

複素環は、好ましくは、5員環又は6員環を有する化合物であり、より好ましくは5員環を有する化合物(アゾール)である。5員環としては、例えば、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、オキサゾール環等が挙げられる。6員環としては、例えばピリミジン環等が挙げられる。 The heterocycle is preferably a compound having a 5-membered ring or a 6-membered ring, and more preferably a compound having a 5-membered ring (azole). Examples of the 5-membered ring include a pyrazole ring, an imidazole ring, a triazole ring, a tetrazole ring, a thiazole ring, a thiadiazole ring, an oxazole ring and the like. Examples of the 6-membered ring include a pyrimidine ring and the like.

複素環は、接続抵抗の上昇を抑制して接続信頼性をより向上させる観点から、好ましくは、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、オキサゾール環及びピリミジン環からなる群より選ばれる少なくとも1種であり、より好ましくは、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環及びオキサゾール環からなる群より選ばれる少なくとも1種であり、更に好ましくは、トリアゾール環、テトラゾール環及びチアジアゾール環からなる群より選ばれる少なくとも1種である。 The heterocycle is preferably composed of a pyrazole ring, an imidazole ring, a triazole ring, a tetrazole ring, a thiazole ring, a thiazazole ring, an oxazole ring and a pyrimidine ring from the viewpoint of suppressing an increase in connection resistance and further improving connection reliability. It is at least one selected from the group, more preferably at least one selected from the group consisting of a pyrazole ring, an imidazole ring, a triazole ring, a tetrazole ring, a thiazole ring, a thiazazole ring and an oxazole ring, and even more preferably. It is at least one selected from the group consisting of a triazole ring, a tetrazole ring and a thiazazole ring.

複素環は、無置換であってもよく、置換基を有して(複素環を構成する原子に結合した水素原子が置換されて)いてもよい。複素環が置換基を有する場合、当該置換基は、炭化水素基であってよく、硫黄原子、酸素原子等を含む有機基であってもよい。炭化水素基は、アルキル基等であってよい。窒素原子を含む有機基は、アミノ基等であってよい。硫黄原子を含む有機基は、メルカプト基等であってよい。 The heterocycle may be unsubstituted or may have a substituent (the hydrogen atom bonded to the atom constituting the heterocycle is substituted). When the heterocycle has a substituent, the substituent may be a hydrocarbon group or an organic group containing a sulfur atom, an oxygen atom and the like. The hydrocarbon group may be an alkyl group or the like. The organic group containing a nitrogen atom may be an amino group or the like. The organic group containing a sulfur atom may be a mercapto group or the like.

複素環化合物は、単環からなる含窒素芳香族複素環を有していてもよいし、例えば、炭化水素のみで構成された芳香環(例えば、置換又は無置換のベンゼン環)と上述した含窒素芳香族複素環とが縮合した多環を有していてもよい。このような多環は、例えば、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等であってよい。 The heterocyclic compound may have a nitrogen-containing aromatic heterocycle composed of a monocycle, and may contain, for example, an aromatic ring composed only of hydrocarbons (for example, a substituted or unsubstituted benzene ring) and the above-mentioned above-mentioned heterocyclic ring. It may have a polycycle fused with a nitrogen aromatic heterocycle. Such a polycycle may be, for example, a benzimidazole ring, a benzotriazole ring, a benzothiazole ring, a benzoxazole ring or the like.

複素環化合物は、具体的には、5−メチルテトラゾール、5−アミノ−1H−テトラゾール、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、2−アミノピリミジン、5,6−ジメチルベンゾイミダゾール、2−アミノ−5−メルカプト−1,3,4−チアジアゾール、2−メルカプトピリミジン、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール等であってよい。 Specific examples of the heterocyclic compound include 5-methyltetrazole, 5-amino-1H-tetrazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, benzotriazole, 2-aminopyrimidine, and 5,6-dimethylbenzimidazole. , 2-Amino-5-mercapto-1,3,4-thiazazole, 2-mercaptopyrimidine, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzthiazole, 2-mercaptobenzimidazole and the like.

複素環化合物の含有量は、接続抵抗の上昇を抑制して接続信頼性を更に向上させる観点から、接着剤成分100体積部に対して、好ましくは0.01体積部以上であり、より好ましくは0.1体積部以上であり、更に好ましくは0.2体積部以上であり、また、好ましくは5体積部以下であり、より好ましくは2体積部以下であり、更に好ましくは1体積部以下である。 The content of the heterocyclic compound is preferably 0.01 part by volume or more, more preferably 0.01 part by volume or more, based on 100 parts by volume of the adhesive component, from the viewpoint of suppressing an increase in connection resistance and further improving connection reliability. It is 0.1 part by volume or more, more preferably 0.2 part by volume or more, preferably 5 part by volume or less, more preferably 2 part by volume or less, still more preferably 1 part by volume or less. is there.

接着剤成分は、他の一実施形態において、熱硬化性樹脂と、上述した含窒素芳香族複素環を有する化合物とを含有する。 In another embodiment, the adhesive component contains a thermosetting resin and the above-mentioned compound having a nitrogen-containing aromatic heterocycle.

熱硬化性樹脂は、例えば、エポキシ樹脂、シアネートエステル樹脂、マレイミド樹脂、アリルナジイミド樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、レゾルシノールホルムアルデヒド樹脂、キシレン樹脂、フラン樹脂、ポリウレタン樹脂、ケトン樹脂、トリアリルシアヌレート樹脂、ポリイソシアネート樹脂、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌラートを含有する樹脂、トリアリルトリメリタートを含有する樹脂、シクロペンタジエンから合成された熱硬化性樹脂、芳香族ジシアナミドの三量化による熱硬化性樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂は、これらを1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いられる。熱硬化性樹脂の含有量は、接着剤成分全量を基準として、例えば、20質量%以上であってよく、50質量%以下であってよく、20〜50質量%であってよい。 Thermosetting resins include, for example, epoxy resin, cyanate ester resin, maleimide resin, allylnadiimide resin, phenol resin, urea resin, alkyd resin, acrylic resin, unsaturated polyester resin, diallylphthalate resin, silicone resin, resorsinol formaldehyde resin. , Xylene resin, furan resin, polyurethane resin, ketone resin, triallyl cyanurate resin, polyisocyanate resin, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate-containing resin, triallyl trimeritato-containing resin, cyclopentadiene. Examples thereof include a thermosetting resin synthesized from the above, a thermosetting resin obtained by quantifying aromatic isocyanate. The thermosetting resin is used alone or in combination of two or more. The content of the thermosetting resin may be, for example, 20% by mass or more, 50% by mass or less, or 20 to 50% by mass, based on the total amount of the adhesive component.

接着剤成分が熱硬化性樹脂を含有する場合、接着剤成分は、硬化剤を更に含有してもよい。硬化剤は、例えば触媒型の硬化剤であってよい。触媒型の硬化剤は、ヒドラジド、三フッ化ホウ素−アミン錯体、スルホニウム塩、アミンイミド、ジアミノマレオニトリル、ポリアミン塩、ジシアンジアミド等であってよく、又はこれらの変性物であってもよい。硬化剤は、ポリアミン、ポリメルカプタン、ポリフェノール、酸無水物等の重付加型の硬化剤であってもよい。硬化剤として、重付加型の硬化剤と触媒型の硬化剤とを併用することもできる。硬化剤は、これらを1種単独で又は2種以上を組み合わせて使用されてよい。硬化剤の含有量は、接着剤成分全量を基準として、0.5質量%以上であってよく、15質量%以下であってよく、0.5〜15質量%であってよい。 When the adhesive component contains a thermosetting resin, the adhesive component may further contain a curing agent. The curing agent may be, for example, a catalytic type curing agent. The catalytic curing agent may be hydrazide, boron trifluoride-amine complex, sulfonium salt, amineimide, diaminomaleonitrile, polyamine salt, dicyandiamide or the like, or may be a modified product thereof. The curing agent may be a heavy addition type curing agent such as polyamine, polymercaptan, polyphenol, acid anhydride and the like. As the curing agent, a heavy addition type curing agent and a catalytic type curing agent can be used in combination. As the curing agent, these may be used alone or in combination of two or more. The content of the curing agent may be 0.5% by mass or more, 15% by mass or less, and 0.5 to 15% by mass based on the total amount of the adhesive components.

硬化剤は、上述した硬化剤を、ポリウレタン系、ポリエステル系等の高分子化合物、又は、Ni、Cu等の金属薄膜、ケイ酸カルシウムなどの無機化合物で被覆してマイクロカプセル化したものであってもよい。このような硬化剤は、可使時間が延長できるため好ましい。 The curing agent is obtained by coating the above-mentioned curing agent with a polymer compound such as polyurethane or polyester, a metal thin film such as Ni or Cu, or an inorganic compound such as calcium silicate and microencapsulating it. May be good. Such a curing agent is preferable because the pot life can be extended.

接着剤成分は、他の一実施形態において、上述した、ラジカル重合性物質と、遊離ラジカル発生剤と、熱硬化性樹脂と、含窒素芳香族複素環を有する化合物と、を含有する。 In another embodiment, the adhesive component contains the above-mentioned radically polymerizable substance, a free radical generator, a thermosetting resin, and a compound having a nitrogen-containing aromatic heterocycle.

本実施形態においては、ラジカル重合性物質の含有量及び熱硬化性樹脂の含有量の合計は、接着剤成分全量を基準として、例えば、50質量%以上であってよく、80質量%以下であってよく、50〜80質量%であってよい。 In the present embodiment, the total content of the radically polymerizable substance and the content of the thermosetting resin may be, for example, 50% by mass or more and 80% by mass or less based on the total amount of the adhesive components. It may be 50 to 80% by mass.

上述した各実施形態において、接着剤成分は、シリコーン粒子等の充填材、軟化剤、促進剤、老化防止剤、着色剤、難燃化剤、チキソトロピック剤、カップリング剤などを更に含有することもできる。 In each of the above-described embodiments, the adhesive component further contains a filler such as silicone particles, a softening agent, an accelerator, an antiaging agent, a coloring agent, a flame retardant agent, a thixotropic agent, a coupling agent, and the like. You can also.

接着剤組成物は、ペースト状であってよく、取り扱い性の観点から、好ましくはフィルム状に形成されている接着剤フィルムであってもよい。図1は、一実施形態に係るフィルム状の接着剤組成物(接着剤フィルム)を示す模式断面図である。図1に示すように、接着剤フィルム1は、一実施形態において、接着剤成分2と、接着剤成分2中に分散された導電性粒子3とからなる一層で構成されている。接着剤成分2及び導電性粒子3は、一実施形態において、上述の接着剤成分及び導電性粒子であってよい。接着剤フィルム1の厚さは、例えば、10μm以上であってよく、50μm以下であってよく、10〜50μmであってよい。 The adhesive composition may be in the form of a paste, and may be preferably an adhesive film formed in the form of a film from the viewpoint of handleability. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a film-like adhesive composition (adhesive film) according to an embodiment. As shown in FIG. 1, in one embodiment, the adhesive film 1 is composed of a layer composed of an adhesive component 2 and conductive particles 3 dispersed in the adhesive component 2. The adhesive component 2 and the conductive particles 3 may be the above-mentioned adhesive component and conductive particles in one embodiment. The thickness of the adhesive film 1 may be, for example, 10 μm or more, 50 μm or less, and 10 to 50 μm.

接着剤組成物をフィルム状に形成させる場合、フィルム形成性を高めるために、接着剤成分は、上述した熱硬化性樹脂以外の絶縁性樹脂を含んでいてよい。絶縁性樹脂としては、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリフェニレンオキサイド、尿素樹脂、フェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステルウレタン樹脂等であってよく、接続信頼性を更に高める観点からは、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)から求められる重量平均分子量が10000以上の高分子量フェノキシ樹脂であってよい。接着剤成分は、これらの樹脂がラジカル重合性の官能基で変性したものを含有してもよいし、溶融粘度調整等のために、これらの樹脂と、スチレン系樹脂又はアクリル樹脂の混合物を含有してもよい。他の実施形態として、接着剤成分は、フィルム形成性を高めるためにゴムを含有してもよい。 When the adhesive composition is formed into a film, the adhesive component may contain an insulating resin other than the thermosetting resin described above in order to enhance the film-forming property. The insulating resin may be polystyrene, polyethylene, polyvinyl butyral, polyvinylformal, polyimide, polyamide, polyvinyl chloride, polyphenylene oxide, urea resin, phenoxy resin, polyimide resin, polyester urethane resin, etc., further improving connection reliability. From the viewpoint of enhancing, a high molecular weight phenoxy resin having a weight average molecular weight of 10,000 or more determined by high-speed liquid chromatography (HPLC) may be used. The adhesive component may contain a resin obtained by modifying these resins with a radically polymerizable functional group, or may contain a mixture of these resins and a styrene resin or an acrylic resin for adjusting the melt viscosity or the like. You may. In another embodiment, the adhesive component may contain rubber to enhance film formability.

接着剤フィルムは、多層の構成とすることもできる。接着剤フィルムは、例えば、導電性粒子を含む層と、導電性粒子を含まない層とから構成される二層構成、又は、導電性粒子を含む層と、その両側に設けられた導電性粒子を含まない層とから構成される三層構成であってもよい。接着剤フィルムには、導電性粒子を含む層が複数設けられていてもよい。これらの多層構成の接着剤フィルムは、電極上に効率よく導電性粒子を配置できるため、狭ピッチ接続をする際に好適である。接着剤フィルムは、回路部材との接着性を考慮して、接続されるそれぞれの回路部材に対して高い接着性を示す接着層を更に有していてもよい。 The adhesive film may also have a multi-layer structure. The adhesive film has, for example, a two-layer structure composed of a layer containing conductive particles and a layer not containing conductive particles, or a layer containing conductive particles and conductive particles provided on both sides thereof. It may be a three-layer structure composed of a layer not containing the above. The adhesive film may be provided with a plurality of layers containing conductive particles. These multi-layered adhesive films are suitable for narrow pitch connection because conductive particles can be efficiently arranged on the electrodes. The adhesive film may further have an adhesive layer that exhibits high adhesiveness to each of the circuit members to be connected in consideration of adhesiveness to the circuit member.

以上説明した接着剤組成物(接着剤フィルム)は、回路部材同士を接続するための材料(回路接続材料)として好適に用いられ、回路部材同士を接続するための異方導電性接着剤組成物(異方導電性接着剤フィルム)として特に好適に用いられる。 The adhesive composition (adhesive film) described above is suitably used as a material (circuit connection material) for connecting circuit members to each other, and an anisotropic conductive adhesive composition for connecting circuit members to each other. It is particularly preferably used as (an anisotropic conductive adhesive film).

次に、接着剤フィルム1を用いた、接続構造体の製造方法を説明する。図2は、一実施形態に係る接続構造体の製造方法を示す模式断面図である。まず、図2(a)に示すように、第一の基板4及び第一の基板4上に設けられた第一の電極5を有する第一の回路部材6と、第二の基板7及び第二の基板7上に設けられた第二の電極8を有する第二の回路部材9とを用意する。 Next, a method of manufacturing the connection structure using the adhesive film 1 will be described. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a method of manufacturing a connection structure according to an embodiment. First, as shown in FIG. 2A, a first circuit member 6 having a first electrode 5 provided on the first substrate 4 and the first substrate 4, a second substrate 7, and a second substrate 7 are provided. A second circuit member 9 having a second electrode 8 provided on the second substrate 7 is prepared.

次に、第一の回路部材6と第二の回路部材9とを、第一の電極5と第二の電極8とが対向するように配置し、第一の回路部材6と第二の回路部材9との間に接着剤フィルム1を配置する。 Next, the first circuit member 6 and the second circuit member 9 are arranged so that the first electrode 5 and the second electrode 8 face each other, and the first circuit member 6 and the second circuit are arranged. The adhesive film 1 is arranged between the member 9 and the member 9.

そして、矢印A及びB方向に全体を加圧しながら、接着剤フィルム1を硬化させる。加圧時の圧力は、例えば総接続面積あたり1〜10MPaであってよい。接着剤フィルム1を硬化させる方法は、加熱による方法であってよく、加熱に加えて光照射を併用する方法であってもよい。加熱は、例えば100〜170℃で行われてよい。加圧及び加熱(必要に応じて光照射)は、例えば1〜160秒間行われてよい。これにより、第一の回路部材6と第二の回路部材9とが、接着剤フィルム1を構成する接着剤組成物の硬化物を介して圧着される。 Then, the adhesive film 1 is cured while pressurizing the whole in the directions of arrows A and B. The pressure during pressurization may be, for example, 1 to 10 MPa per total connection area. The method of curing the adhesive film 1 may be a method of heating, or a method of using light irradiation in combination with heating. The heating may be performed at, for example, 100 to 170 ° C. Pressurization and heating (irradiation with light if necessary) may be performed, for example, for 1 to 160 seconds. As a result, the first circuit member 6 and the second circuit member 9 are pressure-bonded via the cured product of the adhesive composition constituting the adhesive film 1.

本実施形態では、第一の回路部材6と第二の回路部材9との間に接着剤フィルム1を配置したが、他の実施形態として、接着剤フィルムに代えて、ペースト状の接着剤組成物を、第一の回路部材6又は第二の回路部材9上に、又はその両方に塗布してもよい。 In the present embodiment, the adhesive film 1 is arranged between the first circuit member 6 and the second circuit member 9, but as another embodiment, a paste-like adhesive composition is used instead of the adhesive film. The object may be applied onto the first circuit member 6 and / or the second circuit member 9.

このようにして得られる、一実施形態に係る接続構造体11は、図2(b)に示すように、第一の基板4及び第一の基板4上に設けられた第一の電極5を有する第一の回路部材6と、第二の基板7及び第二の基板7上に設けられた第二の電極8を有する第二の回路部材9と、第一の回路部材6と第二の回路部材9との間に配置され、第一の電極5と第二の電極8とを互いに電気的に接続する回路接続部材10と、を備える。回路接続部材10は、接着剤組成物の硬化物により構成されており、接着剤成分2の硬化物12と、該硬化物12中に分散された導電性粒子3とからなっている。接続構造体11では、導電性粒子3が第一の電極5と第二の電極8との間に介在することにより、第一の電極5と第二の電極8とが互いに電気的に接続されている。 As shown in FIG. 2B, the connection structure 11 according to the embodiment thus obtained has the first substrate 4 and the first electrode 5 provided on the first substrate 4. The first circuit member 6 having the first circuit member 6, the second circuit member 9 having the second electrode 8 provided on the second substrate 7 and the second substrate 7, the first circuit member 6 and the second A circuit connecting member 10 which is arranged between the circuit member 9 and electrically connects the first electrode 5 and the second electrode 8 to each other is provided. The circuit connection member 10 is composed of a cured product of the adhesive composition, and is composed of a cured product 12 of the adhesive component 2 and conductive particles 3 dispersed in the cured product 12. In the connection structure 11, the first electrode 5 and the second electrode 8 are electrically connected to each other by interposing the conductive particles 3 between the first electrode 5 and the second electrode 8. ing.

第一の基板4及び第二の基板7は、互いに同一であっても異なっていてもよく、例えば、熱可塑性樹脂を含むフレキシブル基板、ガラス基板、又は、ガラス基板及び該ガラス基板上に設けられた絶縁膜を有する複合基板であってよい。 The first substrate 4 and the second substrate 7 may be the same as or different from each other, and are provided on, for example, a flexible substrate containing a thermoplastic resin, a glass substrate, or a glass substrate and the glass substrate. It may be a composite substrate having an insulating film.

フレキシブル基板は、例えば、ポリイミド(PI)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)及びポリエチレンナフタレート(PEN)から選ばれる少なくとも1種の熱可塑性樹脂を含む有機材料で形成された有機基板であってよい。 The flexible substrate is, for example, an organic substrate formed of an organic material containing at least one thermoplastic resin selected from polyimide (PI), polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC) and polyethylene naphthalate (PEN). You can.

フレキシブル基板は、有機基板の表面上に形成された、光学及び機械的特性を向上するためのハードコート等の改質処理膜及び/又は保護膜等を更に有していてもよい。フレキシブル基板の取り扱い及び搬送を容易にするため、ガラス材及びSUS等から選ばれる補強材が有機基板に貼り合わせられていてもよい。 The flexible substrate may further have a modified treatment film such as a hard coat and / or a protective film formed on the surface of the organic substrate to improve optical and mechanical properties. In order to facilitate the handling and transportation of the flexible substrate, a reinforcing material selected from a glass material, SUS and the like may be attached to the organic substrate.

フレキシブル基板の厚さは、基板単体でフィルムとしての強度、及び曲げやすさを確保する点から、好ましくは、10μm以上であってよく、200μm以下であってよく、10〜200μmであってよく、より好ましくは、125μm以下であってよく、10〜125μmであってよい。 The thickness of the flexible substrate may be preferably 10 μm or more, 200 μm or less, and 10 to 200 μm from the viewpoint of ensuring the strength and bendability of the substrate alone. More preferably, it may be 125 μm or less, and may be 10 to 125 μm.

従来の回路接続材料を用いると、回路部材同士の圧着のための加熱及び加圧により、フレキシブル基板上の電極が破断したり、クラックを生じたりし易いことがあった。また、十分な電気的接続を形成しにくい電極の接続に関しては、電極の破損を抑制するために、より低温又はより低応力の条件で回路部材を圧着する必要がある。本実施形態の接着剤フィルム1は、これらの点においても従来の材料と比較して有利な効果を有し得る。 When a conventional circuit connection material is used, the electrodes on the flexible substrate may be easily broken or cracked due to heating and pressurization for crimping between circuit members. Further, regarding the connection of electrodes that are difficult to form a sufficient electrical connection, it is necessary to crimp the circuit member under conditions of lower temperature or lower stress in order to suppress damage to the electrodes. The adhesive film 1 of the present embodiment may also have an advantageous effect in these respects as compared with the conventional material.

ガラス基板は、ソーダガラス、石英硝子等で形成されていてよい。外部からの応力による破損防止の観点からは、これらの材料で形成された基板に化学強化処理が施されてもよい。複合基板は、ガラス基板と、ガラス基板の表面に設けられた、ポリイミド又は装飾のための加色の有機材料若しくは無機材料から構成される絶縁膜を有してよい。複合基板において、電極は、絶縁膜の上に形成されてよい。 The glass substrate may be made of soda glass, quartz glass, or the like. From the viewpoint of preventing damage due to external stress, a substrate made of these materials may be chemically strengthened. The composite substrate may have a glass substrate and an insulating film provided on the surface of the glass substrate and composed of polyimide or a colored organic or inorganic material for decoration. In the composite substrate, the electrodes may be formed on the insulating film.

第一の基板4及び第二の基板7の組み合わせとして、より具体的には、第一の基板4がICチップ、又は熱可塑性樹脂を含むフレキシブル基板で、第二の基板7が、熱可塑性樹脂を含むフレキシブル基板であってもよい。あるいは、第一の基板4がICチップ又はフレキシブル基板で、第二の基板7が、ガラス基板又は複合基板であってもよい。言い換えると、第二の基板7がフレキシブル基板であるとき、第一の基板4はICチップであってもよいし、フレキシブル基板であってもよい。第一の基板4がICチップで、第二の基板7がフレキシブル基板であるとき、COP(Chip on Plastic substrate)接続のために上述の接着剤フィルム1が用いられる。第一の基板4及び第二の基板7がフレキシブル基板であるとき、FOP(Film on Plastic substrate)接続のために上述の接着剤フィルム1が用いられる。 As a combination of the first substrate 4 and the second substrate 7, more specifically, the first substrate 4 is an IC chip or a flexible substrate containing a thermoplastic resin, and the second substrate 7 is a thermoplastic resin. It may be a flexible substrate containing. Alternatively, the first substrate 4 may be an IC chip or a flexible substrate, and the second substrate 7 may be a glass substrate or a composite substrate. In other words, when the second substrate 7 is a flexible substrate, the first substrate 4 may be an IC chip or a flexible substrate. When the first substrate 4 is an IC chip and the second substrate 7 is a flexible substrate, the above-mentioned adhesive film 1 is used for COP (Chip on Plastic substrate) connection. When the first substrate 4 and the second substrate 7 are flexible substrates, the above-mentioned adhesive film 1 is used for FOP (Film on Plastic substrate) connection.

第二の基板7がフレキシブル基板である場合、第一の回路部材6は、半導体チップ、トランジスタ、ダイオ−ド、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子等の電子部品、プリント基板、又は、ITO等が回路形成されたガラス基板であってもよい。第一の基板4が半導体チップ又はガラス基板である場合、めっきで形成されるバンプ又は金ワイヤの先端をトーチ等により溶融させ、金ボールを形成し、このボールを電極パッド上に圧着した後、ワイヤを切断して得られるワイヤバンプ等の突起電極を設け、これを第一の回路部材6として用いることができる。 When the second substrate 7 is a flexible substrate, the first circuit member 6 is an electronic component such as an active element such as a semiconductor chip, a transistor, a die, a thyristor, a capacitor, a resistor, or a passive element such as a coil. It may be a printed circuit board or a glass substrate on which an ITO or the like is formed into a circuit. When the first substrate 4 is a semiconductor chip or a glass substrate, the tips of bumps or gold wires formed by plating are melted by a torch or the like to form gold balls, and the balls are crimped onto the electrode pads. A protruding electrode such as a wire bump obtained by cutting a wire is provided, and this can be used as the first circuit member 6.

第一の電極5及び第二の電極8を形成する電極材料としては、Ag、Ni、Al、Au、Cu、Ti、Mo等の金属、及び、ITO、IZO、銀ナノワイヤ、カーボンナノチューブ等の透明導電体が挙げられる。第一の電極5及び第二の電極8は、同一の材料で形成されていても異なる材料で形成されていてもよいが、好ましくは同一の材料で形成されている。第一の電極5及び第二の電極8は、接続抵抗の低減及び入手のしやすさの観点から、好ましくは、銅、銅合金、又は銅酸化物で形成されている。第一の電極5及び第二の電極8上には、断線防止の観点から、酸化物又は窒化物の膜、合金膜、有機膜等の表面層を更に設けてもよい。第一の回路部材6及び第二の回路部材9には、第一の電極5及び第二の電極8がそれぞれ1つずつ設けられていてもよいが、好ましくは、複数の第一の電極5及び第二の電極8がそれぞれ所定の間隔で設けられている。 Examples of the electrode material forming the first electrode 5 and the second electrode 8 include metals such as Ag, Ni, Al, Au, Cu, Ti, and Mo, and transparent such as ITO, IZO, silver nanowires, and carbon nanotubes. Examples include conductors. The first electrode 5 and the second electrode 8 may be made of the same material or different materials, but are preferably made of the same material. The first electrode 5 and the second electrode 8 are preferably formed of copper, a copper alloy, or a copper oxide from the viewpoint of reducing connection resistance and availability. From the viewpoint of preventing disconnection, surface layers such as an oxide or nitride film, an alloy film, and an organic film may be further provided on the first electrode 5 and the second electrode 8. The first circuit member 6 and the second circuit member 9 may be provided with one first electrode 5 and one second electrode 8, but preferably, a plurality of first electrodes 5 are provided. And the second electrode 8 are provided at predetermined intervals, respectively.

以下、実施例を挙げて本発明について更に具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

<実施例1>
ラジカル重合性物質であるウレタンアクリレート(製品名:UA−5500T、新中村化学工業(株)製)20質量部、ビス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート(製品名:M−215、東亞合成(株)製)15質量部、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート(製品名:DCP−A、共栄社化学(株)製)5質量部、及び2−メタクリロイロキシエチルアッシドフォスヘート(製品名:P−2M、共栄社化学(株)製)1質量部と、遊離ラジカル発生剤であるベンゾイルパーオキサイド(製品名:ナイパーBMT−K、日本油脂(株)製)8質量部と、絶縁性樹脂であるポリエステルウレタン樹脂(製品名:UR4800、東洋紡績(株)製)を含む濃度40質量%の溶液60質量部とを混合し、撹拌して、樹脂溶液を得た。このとき、ポリエステルウレタン樹脂の溶液は、ポリエステルウレタン樹脂をトルエン/メチルエチルケトン=50/50の混合溶剤に溶解して調製した。
<Example 1>
Urethane acrylate (product name: UA-5500T, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), which is a radically polymerizable substance, 20 parts by mass, bis (acryloxyethyl) isocyanurate (product name: M-215, Toa Synthetic Co., Ltd.) 15 parts by mass, dimethylol tricyclodecandiacrylate (product name: DCP-A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 5 parts by mass, and 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate (product name: P-2M) , Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 1 part by mass, benzoyl peroxide (product name: Niper BMT-K, manufactured by Nippon Yushi Co., Ltd.) 8 parts by mass, which is a free radical generator, and polyester urethane which is an insulating resin. A resin solution was obtained by mixing with 60 parts by mass of a 40% by mass solution containing a resin (product name: UR4800, manufactured by Toyo Spinning Co., Ltd.) and stirring. At this time, the solution of the polyester urethane resin was prepared by dissolving the polyester urethane resin in a mixed solvent of toluene / methyl ethyl ketone = 50/50.

一方、ポリスチレン粒子の表面に厚さ0.2μmのニッケル層を形成した。さらに、このニッケル層の外側に厚さ0.04μmの金層を形成させた。これにより、平均粒径4μmの導電性粒子を作製した。調製した樹脂溶液に、この導電性粒子を、樹脂溶液100体積部に対して10体積部の割合で分散させた。そこに、5−メチルテトラゾールを、樹脂溶液100体積部に対して1体積部の割合で分散させた。さらに、充填材として、平均粒径2μmのシリコーン微粒子(製品名:KMP−605、信越化学(株)製)を、樹脂溶液100質量部に対して20質量部の割合で分散させて、ラジカル重合性物質、遊離ラジカル発生剤、絶縁性樹脂、導電性粒子、含窒素芳香族複素環を有する化合物、及び充填材を含む接着剤組成物の塗工液を得た。この塗工液を、片面を離型処理したポリエチレンテレフタラート(PET)フィルム(厚み50μm)に、塗工装置を用いて塗布した。塗膜を70℃の熱風乾燥により乾燥させて、実施例1に係る接着剤組成物からなる異方導電性の接着剤フィルム(厚さ18μm)を形成させた。 On the other hand, a nickel layer having a thickness of 0.2 μm was formed on the surface of the polystyrene particles. Further, a gold layer having a thickness of 0.04 μm was formed on the outside of the nickel layer. As a result, conductive particles having an average particle size of 4 μm were produced. The conductive particles were dispersed in the prepared resin solution at a ratio of 10 parts by volume with respect to 100 parts by volume of the resin solution. 5-Methyltetrazole was dispersed therein at a ratio of 1 part by volume with respect to 100 parts by volume of the resin solution. Further, as a filler, silicone fine particles having an average particle size of 2 μm (product name: KMP-605, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) are dispersed in a ratio of 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin solution for radical polymerization. A coating liquid of an adhesive composition containing a sex substance, a free radical generator, an insulating resin, conductive particles, a compound having a nitrogen-containing aromatic heterocycle, and a filler was obtained. This coating liquid was applied to a polyethylene terephthalate (PET) film (thickness 50 μm) having a mold release treatment on one side using a coating device. The coating film was dried by hot air drying at 70 ° C. to form an anisotropically conductive adhesive film (thickness 18 μm) composed of the adhesive composition according to Example 1.

<実施例2〜5、比較例1>
実施例1において、5−メチルテトラゾールに代えて、表1に示す含窒素芳香族複素環を有する化合物を用いたこと以外は、実施例1と同様にして実施例2〜5に係る接着剤フィルムを作製した。また、実施例1において、5−メチルテトラゾールを添加しなかった以外は、実施例1と同様にして比較例1に係る接着剤フィルムを作製した。
<Examples 2 to 5, Comparative Example 1>
The adhesive film according to Examples 2 to 5 in the same manner as in Example 1 except that the compound having a nitrogen-containing aromatic heterocycle shown in Table 1 was used instead of 5-methyltetrazole in Example 1. Was produced. Further, an adhesive film according to Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that 5-methyltetrazole was not added in Example 1.

<銅電極フィルム貼付体の作製>
回路部材を模した被着体として、PETフィルムと、該PETフィルム上に形成された銅膜とを有する銅電極フィルム部材を準備した。この銅電極フィルム部材の銅膜上に、作製した接着剤フィルムを、接着剤フィルムの到達温度が70℃となるように加熱しながら、総接続面積当たり2MPaの圧力で10秒間全体を加圧して、接着剤フィルムに由来する接着剤組成物の硬化物を備えた銅電極フィルム貼付体を得た。図3は、銅電極フィルム貼付体を示す模式断面図である。図3に示すように、銅電極フィルム貼付体13は、PETフィルム14上に銅膜15が形成され、銅膜15のPETフィルム14と反対側の面15a上に、接着剤組成物の硬化物20(接着剤成分の硬化物22と導電性粒子23とからなる)が更に設けられている。
<Preparation of copper electrode film sticker>
As an adherend imitating a circuit member, a copper electrode film member having a PET film and a copper film formed on the PET film was prepared. The produced adhesive film is heated on the copper film of the copper electrode film member so that the reaching temperature of the adhesive film reaches 70 ° C., and the whole is pressurized for 10 seconds at a pressure of 2 MPa per total connection area. , A copper electrode film patch having a cured product of an adhesive composition derived from an adhesive film was obtained. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a copper electrode film affixed body. As shown in FIG. 3, in the copper electrode film sticking body 13, a copper film 15 is formed on the PET film 14, and a cured product of the adhesive composition is formed on the surface 15a of the copper film 15 opposite to the PET film 14. 20 (composed of a cured product 22 as an adhesive component and conductive particles 23) is further provided.

<接続信頼性の評価>
得られた実施例1〜5及び比較例1の貼付体を、85℃、85%RHの環境下に100時間静置して信頼性試験に供した。試験前後の銅電極フィルム貼付体13について、銅膜15のPETフィルム14と反対側の面15aのうち硬化物20が接する部分(貼付部)の外観を目視により観察した。試験前後で変色がほとんど見られなかったものをA、変色が見られたが程度が小さかったものをB、激しい変色が見られたものをCとして、接続信頼性を評価した。評価結果を表1に示す。評価結果がA又はBであれば、接続信頼性に優れているといえる。
<Evaluation of connection reliability>
The obtained patches of Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 were allowed to stand in an environment of 85 ° C. and 85% RH for 100 hours to be subjected to a reliability test. With respect to the copper electrode film affixed body 13 before and after the test, the appearance of the portion (attached portion) of the surface 15a of the copper film 15 opposite to the PET film 14 in contact with the cured product 20 was visually observed. The connection reliability was evaluated with A as the one in which almost no discoloration was observed before and after the test, B as the one in which the discoloration was observed but the degree was small, and C as the one in which the severe discoloration was observed. The evaluation results are shown in Table 1. If the evaluation result is A or B, it can be said that the connection reliability is excellent.

<接続抵抗の評価>
得られた実施例1〜5及び比較例1の異方導電性の接着剤フィルムを銅電極フィルムに貼り付けた後、銅電極フィルムの反対側の接着剤フィルム上にフレキシブル回路基板(FPC)を載せ、接着剤フィルムの到達温度が170℃となるように加熱しながら、総接続面積当たり2MPaの圧力で10秒間全体を加圧して接着フィルム実装体a(接続構造体)を得た。フレキシブル回路基板としては、電極幅150μm、電極間スペース150μmで電極間ピッチは300μm、銅箔厚さは18μmで、表面にNi(膜厚3μm)及びAu(膜厚0.01μm)が形成されているものを使用した。この接着フィルム実装体aについて、85℃、85%RHの環境下に100時間静置して信頼性試験に供した。信頼性試験後の接着フィルム実装体aの接続抵抗を測定し、1Ω以下のものをA、1Ωを超えるものをBとして評価した。表1に示すように、実施例1〜5の接着フィルム実装体aの接続抵抗はいずれも1Ω以下と良好であった。
<Evaluation of connection resistance>
After the idiosyncratic adhesive films of Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 were attached to the copper electrode film, the flexible circuit board (FPC) was placed on the adhesive film on the opposite side of the copper electrode film. An adhesive film mounting body a (connection structure) was obtained by pressurizing the entire adhesive film for 10 seconds at a pressure of 2 MPa per total connection area while heating the adhesive film so that the temperature reached was 170 ° C. As a flexible circuit board, the electrode width is 150 μm, the space between electrodes is 150 μm, the pitch between electrodes is 300 μm, the copper foil thickness is 18 μm, and Ni (thickness 3 μm) and Au (thickness 0.01 μm) are formed on the surface. I used the one that is. The adhesive film mounting body a was allowed to stand in an environment of 85 ° C. and 85% RH for 100 hours for a reliability test. The connection resistance of the adhesive film mounting body a after the reliability test was measured, and those having 1Ω or less were evaluated as A, and those exceeding 1Ω were evaluated as B. As shown in Table 1, the connection resistance of the adhesive film mounting bodies a of Examples 1 to 5 was as good as 1Ω or less.

<接着性の評価>
得られた実施例1〜5及び比較例1の異方導電性の接着剤フィルムを、SiO膜を有するPETフィルムに貼り付けた後、PETフィルムの反対側の接着剤フィルム上にフレキシブル回路基板(FPC)を載せ、接着剤フィルムの到達温度が170℃となるように加熱しながら、総接続面積当たり2MPaの圧力で10秒間全体を加圧して接着フィルム実装体b(接続構造体)を得た。フレキシブル回路基板としては、電極幅150μm、電極間スペース150μmで電極間ピッチは300μm、銅箔厚さは18μmで、表面にNi(膜厚3μm)及びAu(膜厚0.01μm)が形成されているものを使用した。この接着フィルム実装体bについて、85℃、85%RHの環境下に100時間静置して信頼性試験に供した。信頼性試験後の接着フィルム実装体bの接着性(接着力)を測定し、4N/cm以上のものをA、4N/cm未満のものをBとして評価した。表1に示すように、接着力はいずれも4N/cm以上と良好であった。
<Evaluation of adhesiveness>
After the obtained isotropic adhesive films of Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 are attached to a PET film having a SiO 2 film, a flexible circuit substrate is placed on the adhesive film on the opposite side of the PET film. (FPC) is placed on the film, and while heating so that the reaching temperature of the adhesive film reaches 170 ° C., the entire area is pressurized at a pressure of 2 MPa per total connection area for 10 seconds to obtain an adhesive film mounting body b (connection structure). It was. As a flexible circuit board, the electrode width is 150 μm, the space between electrodes is 150 μm, the pitch between electrodes is 300 μm, the copper foil thickness is 18 μm, and Ni (thickness 3 μm) and Au (thickness 0.01 μm) are formed on the surface. I used the one that is. The adhesive film mounting body b was allowed to stand in an environment of 85 ° C. and 85% RH for 100 hours to be subjected to a reliability test. The adhesiveness (adhesive strength) of the adhesive film mounting body b after the reliability test was measured, and those having 4 N / cm or more were evaluated as A and those having less than 4 N / cm as B. As shown in Table 1, the adhesive strength was as good as 4 N / cm or more.

Figure 2019142791
Figure 2019142791

1…接着剤フィルム(接着剤組成物)、2…接着剤成分、3…導電性粒子、4…第一の基板、5…第一の電極、6…第一の回路部材、7…第二の基板、8…第二の電極、9…第二の回路部材、10…回路接続部材(接着剤組成物の硬化物)、11…接続構造体。 1 ... Adhesive film (adhesive composition), 2 ... Adhesive component, 3 ... Conductive particles, 4 ... First substrate, 5 ... First electrode, 6 ... First circuit member, 7 ... Second Substrate, 8 ... second electrode, 9 ... second circuit member, 10 ... circuit connection member (cured product of adhesive composition), 11 ... connection structure.

Claims (6)

導電性粒子と、含窒素芳香族複素環を有する化合物と、を含有する、接着剤組成物。 An adhesive composition containing conductive particles and a compound having a nitrogen-containing aromatic heterocycle. 前記含窒素芳香族複素環は、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、オキサゾール環及びピリミジン環からなる群より選ばれる少なくとも1種である、請求項1に記載の接着剤組成物。 The nitrogen-containing aromatic heterocycle is at least one selected from the group consisting of a pyrazole ring, an imidazole ring, a triazole ring, a tetrazole ring, a thiazole ring, a thiadiazole ring, an oxazole ring and a pyrimidine ring, according to claim 1. Adhesive composition. 回路部材同士を接続するために用いられる、請求項1又は2に記載の接着剤組成物。 The adhesive composition according to claim 1 or 2, which is used for connecting circuit members to each other. 第一の基板及び該第一の基板上に設けられた第一の電極を有する第一の回路部材と、
第二の基板及び該第二の基板上に設けられた第二の電極を有する第二の回路部材と、
前記第一の回路部材及び前記第二の回路部材の間に配置され、前記第一の電極と前記第二の電極とを互いに電気的に接続する回路接続部材と、を備え、
前記回路接続部材は、請求項1〜3のいずれか一項に記載の接着剤組成物の硬化物である、接続構造体。
A first circuit board having a first substrate and a first electrode provided on the first substrate, and a first circuit member.
A second circuit board having a second substrate and a second electrode provided on the second substrate, and a second circuit member.
A circuit connecting member arranged between the first circuit member and the second circuit member and electrically connecting the first electrode and the second electrode to each other is provided.
The circuit connection member is a connection structure which is a cured product of the adhesive composition according to any one of claims 1 to 3.
前記第一の電極及び前記第二の電極は、銅、銅合金、又は銅酸化物で形成されている、請求項4に記載の接続構造体。 The connection structure according to claim 4, wherein the first electrode and the second electrode are made of copper, a copper alloy, or a copper oxide. 第一の基板及び該第一の基板上に設けられた第一の電極を有する第一の回路部材と、第二の基板及び該第二の基板上に設けられた第二の電極を有する第二の回路部材との間に、請求項1〜3のいずれか一項に記載の接着剤組成物を配置し、
前記接着剤組成物を介して前記第一の回路部材と前記第二の回路部材とを圧着して、前記第一の回路部材と前記第二の回路部材とを互いに電気的に接続する工程を備える、接続構造体の製造方法。
A first circuit member having a first substrate and a first electrode provided on the first substrate, and a second having a second substrate and a second electrode provided on the second substrate. The adhesive composition according to any one of claims 1 to 3 is arranged between the two circuit members.
A step of crimping the first circuit member and the second circuit member via the adhesive composition to electrically connect the first circuit member and the second circuit member to each other. A method for manufacturing a connection structure.
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