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Abstract
本発明の一側面は、所定の波長を有する光を赤色、緑色及び青色のいずれかの光に変換して発光する発光性ナノ結晶粒子を含有する光変換層と、光変換層の少なくとも一方側に設けられ、特定の波長領域の光を透過する波長選択性透過層と、を備える光変換フィルムである。One aspect of the present invention is a light conversion layer containing luminescent nanocrystal particles that emit light by converting light having a predetermined wavelength into red, green, or blue light, and at least one side of the light conversion layer And a wavelength-selective transmission layer that transmits light in a specific wavelength region.
Description
本発明は、光変換フィルム及びそれを用いた画像表示素子に関する。 The present invention relates to a light conversion film and an image display element using the same.
2次元映像や3次元映像を表示する画像表示装置としては、液晶表示素子や無機又は有機EL(エレクトロルミネッセンス)など種々のデバイスが存在する。液晶表示素子は、自己発光型では無いため光源が必要となり、電圧制御により画素を通る光のシャッターとして液晶材料を使用することで画像を表示する平面状で薄型の画像表示装置である。一方、無機又は有機EL(エレクトロルミネッセンス)は、電流の量により発光強度が調節可能な自己発光型の表示装置であり、発光層が無機又は有機化合物で構成された発光ダイオード(LED)を利用した画像表示装置である。いずれも一画素は、赤・緑・青の3色で構成され、それぞれの色に光を透過するためのスイッチ機能を備えた薄膜トランジスタ(TFT)が接続されている画像表示装置が現在主流になっている。 As an image display device that displays a two-dimensional image or a three-dimensional image, there are various devices such as a liquid crystal display element and an inorganic or organic EL (electroluminescence). Since a liquid crystal display element is not a self-luminous type, a light source is required, and a flat and thin image display device that displays an image by using a liquid crystal material as a shutter for light passing through a pixel by voltage control. On the other hand, inorganic or organic EL (electroluminescence) is a self-luminous display device whose light emission intensity can be adjusted by the amount of current, and utilizes a light emitting diode (LED) whose light emitting layer is composed of an inorganic or organic compound. An image display device. In any case, an image display device, in which one pixel is composed of three colors of red, green, and blue and a thin film transistor (TFT) having a switching function for transmitting light to each color, is connected to the current mainstream. ing.
表示品質が優れていることから、アクティブマトリクス型の液晶表示装置が携帯端末、液晶テレビ、プロジェクタ、コンピューター等の市場に出されている。アクティブマトリクス表示方式は、画素毎にTFT(薄膜トランジスタ)あるいはMIM(メタル・インシュレータ・メタル)等が使われており、高電圧保持率を有する液晶組成物との組合せにおいて、TN型(ツイストネマチック)、VA(バーチカルアライメント:垂直配向)、IPS(In Plane Switching:インプレーンスイッチング)、FFS(Fringe Field Switching:フリンジフィールドスイッチング)等が用いられている。特に液晶表示素子は、カラー表示を実現するために液晶素子と合わせてカラーフィルタを用いることから、光源部を改良しても色再現性を向上させることは難しく、そのため色再現性を向上させるにはカラーフィルタ中の高顔料濃度化を図るか、或いは、着色膜厚を大きくすることにより色純度を高める必要がある。 Due to the excellent display quality, active matrix type liquid crystal display devices have been put on the market for portable terminals, liquid crystal televisions, projectors, computers and the like. In the active matrix display method, TFT (thin film transistor) or MIM (metal insulator metal) is used for each pixel. In combination with a liquid crystal composition having a high voltage holding ratio, TN type (twisted nematic), VA (vertical alignment: vertical alignment), IPS (In Plane Switching), FFS (Fringe Field Switching), etc. are used. In particular, liquid crystal display elements use color filters in combination with liquid crystal elements to realize color display, so it is difficult to improve color reproducibility even if the light source section is improved. Therefore, it is necessary to increase the color purity by increasing the pigment concentration in the color filter or by increasing the color film thickness.
一方、有機EL素子などに代表されるEL素子は、自発光でバックライトを必要とせず、薄型・軽量化が可能で、部材が少なくフォールダブル化が容易である反面、発光部材の劣化に起因する表示不良などの問題がある。すなわち、素子製造時の歩留まりの悪さに起因する高コスト、寿命に起因する素子の焼き付き、表示ムラなどの問題の解決が求められている。さらには、有機EL素子をフルカラー化する場合には、赤色、緑色、青色の各色を独自に発光させることが必要となり、特に高エネルギー線の短波長の青色において上記問題が発生しやすく、長期使用において青色が退色することにより素子が黄変するなどの問題も有る。 On the other hand, EL elements typified by organic EL elements are self-luminous and do not require a backlight, can be made thin and light, have fewer members and are easily foldable, but are caused by deterioration of the light-emitting members. There are problems such as poor display. That is, there is a need to solve problems such as high cost due to poor yield during device manufacture, device burn-in due to lifetime, and display unevenness. In addition, when full-color organic EL elements are used, it is necessary to emit red, green, and blue colors independently, and the above problems are likely to occur especially in high-energy rays of short-wavelength blue. In addition, there is a problem that the element is yellowed due to fading of blue.
そこで、画像表示素子の色再現性と発光効率を同時に解決するための技術として、発光性ナノ結晶粒子の一例である量子ドット技術(特許文献1参照)が注目されている。量子ドットを使用することで半値幅の小さい三原色の光源を得ることができるため広色域ディスプレイを実現できるとして、色再現性が向上した液晶表示素子が開示されている(特許文献2及び非特許文献1参照)。更に、光源として近紫外線又は青色等の短波長可視光線を用いて、三色の量子ドットを従来のカラーフィルタの替わりに用いる提案がなされている(特許文献3参照)。これらの表示素子は、原理的には高い発光効率と色再現性を両立できるものである。 Therefore, as a technique for simultaneously solving the color reproducibility and the light emission efficiency of the image display element, a quantum dot technique (see Patent Document 1), which is an example of a light-emitting nanocrystal particle, has attracted attention. A liquid crystal display element with improved color reproducibility is disclosed as a wide color gamut display can be realized because a light source of three primary colors having a small half-value width can be obtained by using quantum dots (Patent Document 2 and Non-Patent Document). Reference 1). Furthermore, a proposal has been made to use three-color quantum dots in place of a conventional color filter using short-wavelength visible light such as near ultraviolet light or blue light as a light source (see Patent Document 3). In principle, these display elements can achieve both high luminous efficiency and color reproducibility.
しかしながら、上記の特許文献2、3及び非特許文献1のように、発光性ナノ結晶粒子の一例である量子ドットを画像表示素子のカラーフィルタとして用いる場合、当該量子ドットの含有量を上げると隣接する量子ドット同士が発光した光を吸収して消光するため、外部量子効率が上がらない。一方、当該量子ドットの含有量を下げると、量子ドットの発光に使用する青色光が透過してしまい色純度が低下するという問題が生じる。 However, as in Patent Documents 2 and 3 and Non-Patent Document 1 described above, when quantum dots, which are examples of luminescent nanocrystal particles, are used as a color filter of an image display element, they are adjacent when the content of the quantum dots is increased Since the quantum dots that are absorbed absorb the light emitted and extinguish, the external quantum efficiency does not increase. On the other hand, when the content of the quantum dots is lowered, there arises a problem that blue light used for light emission of the quantum dots is transmitted and color purity is lowered.
また、量子ドットを取り巻く外部環境により量子ドットが失活したり、使用するリガンド、硬化樹脂などによって外部量子効率が量子ドット単体より低下するという問題も生じる。 In addition, there is a problem that the quantum dot is deactivated by an external environment surrounding the quantum dot, and the external quantum efficiency is lower than that of the quantum dot alone due to a ligand, a cured resin, or the like used.
そこで、本発明が解決しようとする技術的課題は、高い発光効率と高い色純度とを両立できる光変換フィルム及びそれを備えた画像表示素子を提供することにある。 Therefore, a technical problem to be solved by the present invention is to provide a light conversion film that can achieve both high luminous efficiency and high color purity, and an image display device including the light conversion film.
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、上記課題を解決できることを見出し本発明の完成に至った。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved, and have completed the present invention.
本発明の一側面は、所定の波長を有する光を赤色、緑色及び青色のいずれかの光に変換して発光する発光性ナノ結晶粒子を含有する光変換層と、光変換層の少なくとも一方側に設けられ、特定の波長領域の光を透過する波長選択性透過層と、を備える光変換フィルムである。 One aspect of the present invention is a light conversion layer containing luminescent nanocrystal particles that emit light by converting light having a predetermined wavelength into red, green, or blue light, and at least one side of the light conversion layer And a wavelength-selective transmission layer that transmits light in a specific wavelength region.
この光変換フィルムは、入射光の波長及び発光性ナノ結晶粒子の発光波長に応じた波長選択性透過層を備えているため、光変換層により発光した光の一部を波長選択性透過層で反射することができ、一方の面側に当該光変換層により発光した光を増幅して取り出すことができる。 Since this light conversion film includes a wavelength-selective transmission layer corresponding to the wavelength of incident light and the emission wavelength of the light-emitting nanocrystal particles, a part of the light emitted from the light conversion layer is transferred by the wavelength-selective transmission layer. The light can be reflected, and the light emitted from the light conversion layer on one surface side can be amplified and extracted.
本発明の他の一側面は、光源部と、所定の波長を有する光を赤色、緑色及び青色のいずれかの光に変換して発光する発光性ナノ結晶粒子を含有する光変換層と、光変換層の少なくとも一方側に設けられ、特定の波長領域の光を透過する波長選択性透過層と、を備える画像表示素子である。 Another aspect of the present invention includes a light source unit, a light conversion layer containing light-emitting nanocrystal particles that emit light by converting light having a predetermined wavelength into red, green, or blue light, and light. An image display element comprising: a wavelength selective transmission layer that is provided on at least one side of the conversion layer and transmits light in a specific wavelength region.
この画像表示素子は、光変換層と波長選択性透過層とを備えているため、光変換層により発光した光の一部を波長選択性透過層で反射することができ、表示側に当該光変換層により発光した光を増幅して取り出すことができる。 Since this image display element includes a light conversion layer and a wavelength selective transmission layer, a part of the light emitted from the light conversion layer can be reflected by the wavelength selective transmission layer, and the light is reflected on the display side. Light emitted by the conversion layer can be amplified and extracted.
本発明の画像表示素子は、発光効率及び色純度に優れる。本発明の画像表示素子は、透過率に優れ、かつ色再現領域を長期間維持する。本発明の光変換フィルムは、発光効率及び色純度に優れる。本発明の光変換フィルムは、透過率に優れ、かつ色再現領域を長期間維持する。 The image display element of the present invention is excellent in luminous efficiency and color purity. The image display element of the present invention has excellent transmittance and maintains a color reproduction region for a long period of time. The light conversion film of the present invention is excellent in luminous efficiency and color purity. The light conversion film of the present invention is excellent in transmittance and maintains a color reproduction region for a long time.
以下、図面を適宜参照しながら、本発明の実施形態について詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as appropriate.
まず、画像表示素子の実施形態について説明する。画像表示素子は、例えば、液晶表示素子、有機EL表示素子等であってよい。図1は、画像表示素子(液晶表示素子)の一実施形態を示す斜視図である。図1では、説明の便宜上、各構成要素を離間して示している。 First, an embodiment of an image display element will be described. An image display element may be a liquid crystal display element, an organic EL display element, etc., for example. FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of an image display element (liquid crystal display element). In FIG. 1, for convenience of explanation, each component is shown separately.
図1に示すように、一実施形態に係る液晶表示素子1000Aは、バックライトユニット100Aと、液晶パネル200Aとを備えている。バックライトユニット100Aは、複数の発光素子Lを有する光源部101Aと、導光板又は光拡散板の役割を果たす導光部102Aと、を有している。 As shown in FIG. 1, a liquid crystal display element 1000A according to an embodiment includes a backlight unit 100A and a liquid crystal panel 200A. The backlight unit 100A includes a light source unit 101A having a plurality of light emitting elements L and a light guide unit 102A that functions as a light guide plate or a light diffusion plate.
図1に示すように、バックライトユニット100Aの一実施形態は、複数の発光素子Lを含む光源部101Aが、導光部102Aの一側面に配置されている。必要により、複数の発光素子Lを含む光源部101Aを、液晶パネル200Aの一側面側(導光部102Aの一側面)だけでなく、導光部102Aの他方の側面側(対向する両側面)に設けてもよく、また、導光部102Aの周囲を囲むように、複数の発光素子Lを含む光源部101Aが、導光部102Aの3つ側面、又は導光部102Aの全周囲を囲むように4つの側面に設けられていてもよい。導光部102Aは、必要に応じて導光板の代わりに光拡散板を備えてもよい。 As shown in FIG. 1, in one embodiment of the backlight unit 100A, a light source unit 101A including a plurality of light emitting elements L is arranged on one side surface of the light guide unit 102A. If necessary, the light source unit 101A including the plurality of light-emitting elements L is not limited to one side surface (one side surface of the light guide unit 102A) of the liquid crystal panel 200A, but the other side surface side (opposite side surfaces) of the light guide unit 102A. The light source unit 101A including a plurality of light emitting elements L surrounds the three side surfaces of the light guide unit 102A or the entire periphery of the light guide unit 102A so as to surround the light guide unit 102A. As such, it may be provided on four side surfaces. The light guide unit 102A may include a light diffusing plate instead of the light guide plate as necessary.
発光素子Lは、紫外光又は可視光である光LT1を発光する発光素子である。発光素子Lは、波長領域について特に制限されることはないが、青色領域に主発光ピークを有することが好ましい。例えば、420nm〜480nmの波長領域に主発光ピークを有する発光ダイオード(青色発光ダイオード)を好適に使用できる。このような発光素子Lとしては、公知の発光素子を使用することができ、例えば、サファイア基板の上に形成されるAlNからなるシード層と、シード層上に形成される下地層と、GaNを主体とする積層半導体層とを少なくとも備えた発光素子などが例示される。積層半導体層は、基板側から下地層、n型半導体層、発光層及びp型半導体層の順に積層されて構成されたものであってよい。 The light emitting element L is a light emitting element that emits light LT1 that is ultraviolet light or visible light. The light emitting element L is not particularly limited with respect to the wavelength region, but preferably has a main light emission peak in the blue region. For example, a light emitting diode (blue light emitting diode) having a main light emission peak in a wavelength region of 420 nm to 480 nm can be suitably used. As such a light emitting element L, a known light emitting element can be used. For example, a seed layer made of AlN formed on a sapphire substrate, an underlayer formed on the seed layer, and GaN. Examples include a light emitting element including at least a laminated semiconductor layer as a main component. The laminated semiconductor layer may be configured by laminating an underlayer, an n-type semiconductor layer, a light emitting layer, and a p-type semiconductor layer in this order from the substrate side.
紫外線を発光する発光素子Lは、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、無電極ランプ、メタルハライドランプ、キセノンアークランプ、LED等であっよく、好ましくはLEDである。 The light emitting element L that emits ultraviolet light may be, for example, a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, an electrodeless lamp, a metal halide lamp, a xenon arc lamp, an LED, and preferably an LED. is there.
なお、本明細書において、420nm〜480nmの波長領域の光(特に、当該波長領域に発光中心波長を有する光)を青色光と称し、500nm〜560nmの波長領域の光(特に、当該波長領域に発光中心波長を有する光)を緑色光と称し、605nm〜665nmの波長領域の光(特に、当該波長領域に発光中心波長を有する光)を赤色光と称する。また、本明細書の紫外光とは、300nm以上420nm未満の波長領域の光(特に、当該波長領域に発光中心波長を有する光)をいう。さらに本明細書において、「半値幅」とは、ピーク高さ1/2でのピークの波長幅のことをいう。 In this specification, light in a wavelength region of 420 nm to 480 nm (especially light having an emission center wavelength in the wavelength region) is referred to as blue light, and light in a wavelength region of 500 nm to 560 nm (particularly in the wavelength region). Light having an emission center wavelength) is referred to as green light, and light in a wavelength region of 605 nm to 665 nm (particularly, light having an emission center wavelength in the wavelength region) is referred to as red light. The ultraviolet light in this specification refers to light in a wavelength region of 300 nm or more and less than 420 nm (particularly, light having an emission center wavelength in the wavelength region). Further, in this specification, the “half-value width” refers to the wavelength width of the peak at the peak height ½.
図1に示すように、液晶パネル200Aは、一実施形態において、第一の偏光層1と、第一の基板2と、電極層3と、第一の配向層4と、液晶層5と、第二の配向層6と、第二の偏光層7と、波長選択性透過層8と、光変換層9と、第二の基板10とが、バックライトユニット100Aに近い側からこの順で積層された構成を有する。 As shown in FIG. 1, in one embodiment, the liquid crystal panel 200A includes a first polarizing layer 1, a first substrate 2, an electrode layer 3, a first alignment layer 4, a liquid crystal layer 5, The second alignment layer 6, the second polarizing layer 7, the wavelength selective transmission layer 8, the light conversion layer 9, and the second substrate 10 are laminated in this order from the side close to the backlight unit 100A. It has the structure made.
言い換えれば、第一の基板2の一方の面には第一の偏光層1が設けられ、他方の面には、電極層3と、電極層3を被覆する第一の配向層4とが設けられている。第二の基板10は、液晶層5を挟んで第一の基板2と対向するように設けられており、第二の基板10の第一の基板2側の面には、光変換層9A(9)、波長選択性透過層8A(8)、第二の偏光層7及び第二の配向層6が、第二の基板10に近い側からこの順で設けられている。 In other words, the first polarizing layer 1 is provided on one surface of the first substrate 2, and the electrode layer 3 and the first alignment layer 4 covering the electrode layer 3 are provided on the other surface. It has been. The second substrate 10 is provided so as to face the first substrate 2 with the liquid crystal layer 5 interposed therebetween. On the surface of the second substrate 10 on the first substrate 2 side, the light conversion layer 9A ( 9) The wavelength-selective transmission layer 8A (8), the second polarizing layer 7, and the second alignment layer 6 are provided in this order from the side closer to the second substrate 10.
第一の偏光層1及び第二の偏光層7は、特に制限されず、公知の偏光板(偏光層)を使用することができる。当該偏光板(偏光層)としては、例えば、二色性有機色素偏光子、塗布型偏光層、ワイヤーグリッド型偏光子、又はコレステリック液晶型偏光子などが挙げられる。例えば、ワイヤーグリッド型偏光子は、ナノインプリント法、ブロックコポリマー法、Eビームリソグラフィ法又はグランシングアングル蒸着法のうちいずれか一つによって形成されることが好ましい。偏光層が塗布型偏光層である場合、後述する配向層が更に設けられてもよい。すなわち、一実施形態において、塗布型偏光層と配向層との両方が設けられていることが好ましい。 The first polarizing layer 1 and the second polarizing layer 7 are not particularly limited, and a known polarizing plate (polarizing layer) can be used. Examples of the polarizing plate (polarizing layer) include a dichroic organic dye polarizer, a coating type polarizing layer, a wire grid type polarizer, and a cholesteric liquid crystal type polarizer. For example, the wire grid polarizer is preferably formed by any one of a nanoimprint method, a block copolymer method, an E-beam lithography method, and a glansing angle deposition method. When the polarizing layer is a coating-type polarizing layer, an alignment layer described later may be further provided. That is, in one embodiment, it is preferable that both the coating-type polarizing layer and the alignment layer are provided.
第一の基板2及び第二の基板10は、それぞれ、例えば、ガラス又はプラスチック等の柔軟性をもつ材料で形成された透明性及び絶縁性を有する透明絶縁基板である。 Each of the first substrate 2 and the second substrate 10 is a transparent insulating substrate having transparency and insulation formed of a flexible material such as glass or plastic.
電極層3は、例えば、ITO等の透明な材料で形成されている。図1に示す液晶パネル200Aでは、電極層3として画素電極(図示せず)と共通電極(図示せず)とが第一の基板2側に設けられている形態を示しているが、別の実施形態では、例えば後述する図2に示す液晶パネル200Bのように、画素電極(第一の電極層)3aが第一の基板2上に設けられ、共通電極(第二の電極層)3bが第二の基板10上に設けられてもよい。 The electrode layer 3 is made of a transparent material such as ITO. The liquid crystal panel 200A shown in FIG. 1 shows a mode in which a pixel electrode (not shown) and a common electrode (not shown) are provided as the electrode layer 3 on the first substrate 2 side. In the embodiment, for example, a pixel electrode (first electrode layer) 3a is provided on the first substrate 2 and a common electrode (second electrode layer) 3b is provided, as in a liquid crystal panel 200B shown in FIG. It may be provided on the second substrate 10.
第一の配向層4が設けられていることより、電圧無印加時に液晶層5中の液晶分子が基板2,7に対して所定方向に配向することができる。図1では、一対の配向層4,6により液晶層5を挟持した形態が示されているが、他の一実施形態では、配向層は、第一の基板2及び第二の基板10のいずれか一方側にだけ設けてもよい。他の一実施形態では、配向層は、第一の基板2及び第二の基板10のいずれにも設けられていなくてもよい。すなわち、他の一実施形態に係る液晶パネルは、第一の偏光層1と、第一の基板2と、電極層3と、液晶層5と、第二の偏光層7と、波長選択性透過層8と、光変換層9と、第二の基板10とが、バックライトユニット100Aに近い側からこの順で積層された構成を有していてもよい。 By providing the first alignment layer 4, the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 5 can be aligned in a predetermined direction with respect to the substrates 2 and 7 when no voltage is applied. Although FIG. 1 shows a mode in which the liquid crystal layer 5 is sandwiched between a pair of alignment layers 4 and 6, in another embodiment, the alignment layer is either the first substrate 2 or the second substrate 10. It may be provided only on one side. In another embodiment, the alignment layer may not be provided on either the first substrate 2 or the second substrate 10. That is, the liquid crystal panel according to another embodiment includes a first polarizing layer 1, a first substrate 2, an electrode layer 3, a liquid crystal layer 5, a second polarizing layer 7, and wavelength selective transmission. The layer 8, the light conversion layer 9, and the second substrate 10 may have a configuration in which they are stacked in this order from the side close to the backlight unit 100A.
図1に示す液晶表示素子1000Aにおいては、光源部101A(発光素子L)から発光された光LT1は、導光部102A内(例えば導光板や光拡散板を介して)を通過して、液晶パネル200A内に入射する。液晶パネル200A内に入射した光は、第一の偏光層1により特定の方向に偏光された後、液晶層5に入射する。液晶層5では、電極層3の駆動により液晶分子の配向方向が制御され、これにより、液晶層5は、光シャッターとしての役割を果たす。液晶層5により偏光の方向が変えられた光は、第二の偏光層7で遮断又は特定方向に偏光された後、波長選択性透過層8を透過し、光変換層9に入射する。光変換層9では入射光の色が変換され(詳細は後述)、変換された光LT2は液晶パネル200Aの外部へ出射する。 In the liquid crystal display element 1000A shown in FIG. 1, the light LT1 emitted from the light source unit 101A (light emitting element L) passes through the light guide unit 102A (for example, through a light guide plate or a light diffusing plate), and the liquid crystal The light enters the panel 200A. The light that has entered the liquid crystal panel 200 </ b> A is polarized in a specific direction by the first polarizing layer 1 and then enters the liquid crystal layer 5. In the liquid crystal layer 5, the alignment direction of the liquid crystal molecules is controlled by driving the electrode layer 3, whereby the liquid crystal layer 5 plays a role as an optical shutter. The light whose polarization direction has been changed by the liquid crystal layer 5 is blocked by the second polarizing layer 7 or polarized in a specific direction, and then passes through the wavelength selective transmission layer 8 and enters the light conversion layer 9. The light conversion layer 9 converts the color of incident light (details will be described later), and the converted light LT2 is emitted to the outside of the liquid crystal panel 200A.
この際、導光部102A(特に導光板)の形状が、発光素子Lから発光された光が入射する側面から対向面に向かって厚さが次第に減少する側面を備えた平板体である(側面がテーパー状の形態や楔状四角形板)と、線光を面光に変換することができるため液晶パネル200A内に光を入射しやすくなるため好ましい。 At this time, the shape of the light guide portion 102A (particularly the light guide plate) is a flat plate having a side surface whose thickness gradually decreases from the side surface on which the light emitted from the light emitting element L is incident toward the opposing surface (side surface). However, since it is easy to make light incident on the liquid crystal panel 200A, linear light can be converted into surface light.
図2は、他の一実施形態に係る液晶表示素子を示す斜視図である。なお、以下では、図1に示す液晶表示素子と重複する説明については省略する。図2に示すように、他の一実施形態に係る液晶表示素子1000Bでは、バックライトユニット100Bは、光源部101Bにおける複数の発光素子Lが、平板状の導光部102Bに対して略平行に平面状に配置された、いわゆる直下型バックライト構造を有していてもよい。直下型バックライト構造は、発光素子Lからの光LT1は面光であるため、導光部102Bの形状は、図1に示す実施形態とは異なりテーパー状である必要はない。 FIG. 2 is a perspective view showing a liquid crystal display element according to another embodiment. In the following, description overlapping with the liquid crystal display element shown in FIG. 1 is omitted. As shown in FIG. 2, in the liquid crystal display element 1000B according to another embodiment, the backlight unit 100B includes a plurality of light emitting elements L in the light source unit 101B substantially parallel to the flat light guide unit 102B. You may have what is called a direct type backlight structure arrange | positioned planarly. In the direct type backlight structure, since the light LT1 from the light emitting element L is surface light, the shape of the light guide 102B does not need to be tapered unlike the embodiment shown in FIG.
図2に示すように、第一の基板2の液晶層5側の面には、第一の電極層(薄膜トランジスタ層又は画素電極)3aが設けられていてよく、第二の基板10の液晶層5側の面には、第二の電極層(共通電極)3bが設けられていてよい。また、液晶層5の第二の基板10側において、第一の波長選択性透過層8に加えて、第二の波長選択性透過層11が更に設けられていてよい。第二の波長選択性透過層11は、第二の基板10の液晶層5と反対側に設けられていてよい。 As shown in FIG. 2, a first electrode layer (thin film transistor layer or pixel electrode) 3 a may be provided on the surface of the first substrate 2 on the liquid crystal layer 5 side, and the liquid crystal layer of the second substrate 10. A second electrode layer (common electrode) 3b may be provided on the surface on the 5 side. In addition to the first wavelength selective transmission layer 8, a second wavelength selective transmission layer 11 may be further provided on the second substrate 10 side of the liquid crystal layer 5. The second wavelength selective transmission layer 11 may be provided on the opposite side of the liquid crystal layer 5 of the second substrate 10.
すなわち、図2に示す実施形態では、液晶パネル200Bは、第一の偏光層1と、第一の基板2と、第一の電極層3aと、液晶層5と、第二の電極層3bと、第二の偏光層7と、第一の波長選択性透過層8と、光変換層9と、第二の基板10と、第二の波長選択性透過層11とが、バックライトユニット100Bに近い側からこの順に積層された構成を有している。 That is, in the embodiment shown in FIG. 2, the liquid crystal panel 200B includes the first polarizing layer 1, the first substrate 2, the first electrode layer 3a, the liquid crystal layer 5, and the second electrode layer 3b. The second polarizing layer 7, the first wavelength-selective transmission layer 8, the light conversion layer 9, the second substrate 10, and the second wavelength-selective transmission layer 11 are included in the backlight unit 100B. It has the structure laminated | stacked in this order from the near side.
別の実施形態として、図2の液晶パネル200Bにおいて、配向層が更に設けられてもよい。すなわち、図2の液晶パネル200Bの変形例は、第一の偏光層1と、第一の基板2と、第一の電極層3aと、配向層4と、液晶層5と、配向層4と、第二の電極層3bと、第二の偏光層7と、第一の波長選択性透過層8と、光変換層9と、第二の基板10と、第二の波長選択性透過層11とが、バックライトユニット100Bに近い側からこの順に積層された構成を有してもよい。 As another embodiment, an alignment layer may be further provided in the liquid crystal panel 200B of FIG. That is, the modification of the liquid crystal panel 200B of FIG. 2 includes the first polarizing layer 1, the first substrate 2, the first electrode layer 3a, the alignment layer 4, the liquid crystal layer 5, and the alignment layer 4. The second electrode layer 3b, the second polarizing layer 7, the first wavelength selective transmission layer 8, the light conversion layer 9, the second substrate 10, and the second wavelength selective transmission layer 11 May be stacked in this order from the side close to the backlight unit 100B.
以下、図1,2に示すような液晶パネルにおける偏光層1,7、液晶層5、光変換層9、波長選択性透過層8,11等の構成について更に詳細に説明する。図3は、一実施形態に係る液晶パネルの構成を説明するための断面図である。図3では、偏光層、液晶層、光変換層、波長選択性透過層等の位置関係を分かりやすく説明するために、電極層3,3a,3b及び配向層4,6を省略している(図3以降の図面においても同様に省略することがある)。 Hereinafter, the configuration of the polarizing layers 1 and 7, the liquid crystal layer 5, the light conversion layer 9, the wavelength selective transmission layers 8 and 11, etc. in the liquid crystal panel as shown in FIGS. FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining a configuration of a liquid crystal panel according to an embodiment. In FIG. 3, the electrode layers 3, 3 a, 3 b and the alignment layers 4, 6 are omitted for easy understanding of the positional relationship between the polarizing layer, the liquid crystal layer, the light conversion layer, the wavelength selective transmission layer, and the like ( The same may be omitted in the drawings after FIG. 3).
図3に示すように、図1に示す液晶パネルでは、上述したとおり、第一の偏光層1と、第一の基板2と、液晶層5と、第二の偏光層7と、波長選択性透過層8A(8)と、光変換層9A(9)と、第二の基板10とが、バックライトユニット100Aに近い(入射光が入射する)側からこの順で積層されている。なお、液晶層5に対して、バックライトユニット側(入射光LT1が入射する側)の基板(第一の基板2)とその基板に積層される各層からなる積層体をアレイ基板(A−SUB)と呼び、バックライトユニットと反対側(入射光LT1が入射するのと反対側)の基板(第二の基板10)とその基板に積層される各層からなる積層体を対向基板(O−SUB)と呼ぶ(以下、同様)。 As shown in FIG. 3, in the liquid crystal panel shown in FIG. 1, as described above, the first polarizing layer 1, the first substrate 2, the liquid crystal layer 5, the second polarizing layer 7, and the wavelength selectivity. The transmissive layer 8A (8), the light conversion layer 9A (9), and the second substrate 10 are laminated in this order from the side close to the backlight unit 100A (incident light is incident). In addition, a laminated body composed of a substrate (first substrate 2) on the backlight unit side (side on which incident light LT1 is incident) and each layer laminated on the substrate with respect to the liquid crystal layer 5 is an array substrate (A-SUB). ), And a laminate composed of a substrate (second substrate 10) on the side opposite to the backlight unit (the side opposite to where the incident light LT1 is incident) and each layer stacked on the substrate is a counter substrate (O-SUB). (Hereinafter the same).
図3に示す実施形態では、光変換層9A(9)及び波長選択性透過層8A(8)が、対向基板(O−SUB)内に設けられている。この実施形態は、光変換層9A(9)と第二の偏光層7とが、一対の基板(第一の基板2及び第二の基板10)の間に設けられたいわゆるインセル型の構成を有する形態である。 In the embodiment shown in FIG. 3, the light conversion layer 9A (9) and the wavelength selective transmission layer 8A (8) are provided in the counter substrate (O-SUB). This embodiment has a so-called in-cell configuration in which the light conversion layer 9A (9) and the second polarizing layer 7 are provided between a pair of substrates (the first substrate 2 and the second substrate 10). It is a form to have.
図3に示す実施形態をVA型液晶表示素子に適用する場合、第一の電極層(画素電極)が第一の基板2上に形成されており、かつ、対向基板側O−SUBにおいて、第二の電極層(共通電極)が、液晶層5と第二の偏光層7との間、又は、第二の偏光層7と光変換層9A(9)との間に設けられていることが好ましい。対向基板(O−SUB)及びアレイ基板(A−SUB)の少なくとも一方において、液晶層5と接する面には配向層が形成されていることが好ましい。図3において液晶表示素子がFFS型又はIPS型である場合には、画素電極及び共通電極が第一の基板2上に形成されていることが好ましい。 When the embodiment shown in FIG. 3 is applied to a VA liquid crystal display element, the first electrode layer (pixel electrode) is formed on the first substrate 2, and the counter substrate side O-SUB has the first The second electrode layer (common electrode) is provided between the liquid crystal layer 5 and the second polarizing layer 7 or between the second polarizing layer 7 and the light conversion layer 9A (9). preferable. In at least one of the counter substrate (O-SUB) and the array substrate (A-SUB), an alignment layer is preferably formed on the surface in contact with the liquid crystal layer 5. In FIG. 3, when the liquid crystal display element is an FFS type or an IPS type, it is preferable that the pixel electrode and the common electrode are formed on the first substrate 2.
一般的な液晶表示素子は、白色光源からの入射光をカラーフィルタにおいて波長選択し、その一部を吸収することによりそれぞれの色表示を行っているのに対して、本実施形態では、発光性ナノ結晶粒子を含有する光変換層9A(9)と波長選択性透過層8A(8)とを備えた光変換フィルムをカラーフィルタの代替部材として用いることを特徴の一つとしている。つまり、光変換フィルムが、赤色(R)、緑色(G)及び青色(B)の三原色画素を備えており、いわゆるカラーフィルタと同様の役割を果たす。 A general liquid crystal display element performs wavelength selection by selecting a wavelength of incident light from a white light source in a color filter and absorbing a part of the light, but in the present embodiment, it emits light. One of the features is that a light conversion film including a light conversion layer 9A (9) containing nanocrystal particles and a wavelength selective transmission layer 8A (8) is used as an alternative member of a color filter. That is, the light conversion film includes red (R), green (G), and blue (B) three primary color pixels, and plays the same role as a so-called color filter.
図4は、光変換フィルムの一実施形態を示す断面図である。この光変換フィルムは、図3に示す液晶パネルにおいて用いられている光変換フィルムに相当する。図3,4に示すように、一実施形態に係る光変換フィルム90Aは、光変換層9A(9)と、光変換層9A(9)の一方側に設けられた波長選択性透過層8A(8)とを備えている。 FIG. 4 is a cross-sectional view showing one embodiment of the light conversion film. This light conversion film corresponds to the light conversion film used in the liquid crystal panel shown in FIG. As shown in FIGS. 3 and 4, the light conversion film 90 </ b> A according to the embodiment includes a light conversion layer 9 </ b> A (9) and a wavelength selective transmission layer 8 </ b> A (on one side of the light conversion layer 9 </ b> A (9)). 8).
光変換層9A(9)は、赤色の画素部(R:赤色の色層部ともいう)と、緑色の画素部(G:緑色の色層部ともいう)と、青色の画素部(G:青色の色層部ともいう)とを備えている。光変換層9A(9)においては、図3に示すように、3色の画素部(R,G,B)が互いに接していてもよく、図4に示すように、各色の画素部の間の混色を防ぐ目的で、3色の画素部(R,G,B)を互いに区画するブラックマトリックス(BM)が設けられていてもよい。この実施形態では、光変換層9A(9)の一方の面上に波長選択性透過層8A(8)が形成(積層)されている。この光変換フィルム90Aは、図3,4に示すように、波長選択性透過層8A(8)側から入射光LT1が入射するように用いられる。 The light conversion layer 9A (9) includes a red pixel portion (R: also referred to as a red color layer portion), a green pixel portion (G: also referred to as a green color layer portion), and a blue pixel portion (G: A blue color layer portion). In the light conversion layer 9A (9), as shown in FIG. 3, the three color pixel portions (R, G, B) may be in contact with each other, and as shown in FIG. For the purpose of preventing color mixing, a black matrix (BM) for partitioning the three color pixel portions (R, G, B) from each other may be provided. In this embodiment, a wavelength selective transmission layer 8A (8) is formed (laminated) on one surface of the light conversion layer 9A (9). As shown in FIGS. 3 and 4, this light conversion film 90 </ b> A is used so that incident light LT <b> 1 enters from the wavelength selective transmission layer 8 </ b> A (8) side.
赤色の画素部(R)は、例えば、入射光を吸収して赤色を発光する赤色発光性ナノ結晶粒子(NCR)を含む光変換画素層(NC−Red)である。緑色の画素部(G)は、例えば、入射光を吸収して緑色を発光する緑色発光性ナノ結晶粒子(NCG)を含む光変換画素層(NC−Green)である。青色の画素部(B)は、例えば、入射光を吸収して青色を発光する青色発光性ナノ結晶粒子(NCB)を含む光変換画素層(NC−Blue)である。 The red pixel portion (R) is, for example, a light conversion pixel layer (NC-Red) including red light emitting nanocrystal particles (NCR) that absorb incident light and emit red light. The green pixel portion (G) is, for example, a light conversion pixel layer (NC-Green) including green luminescent nanocrystal particles (NCG) that absorb incident light and emit green light. The blue pixel portion (B) is, for example, a light conversion pixel layer (NC-Blue) including blue light-emitting nanocrystal particles (NCB) that absorb incident light and emit blue light.
入射光LT1は、例えば、青色LEDなどから発せられる450nm近傍に主ピークを持つ光(青色光)であってよい。この場合、青色LEDが発する青色光を光変換層から発せられる青色光として利用することができる。そのため、入射光が青色光である場合には、3色の画素部(R,G,B)のうち、青色の画素部(B)は、青色発光性ナノ結晶粒子(NCB)を含む光変換画素層ではなく、青色の入射光をそのまま使用できるように青色光を透過する光透過層であってもよい。この場合、青色の画素部(B)は、透明樹脂や青色の色材を含む色材層(いわゆる青色カラーフィルタ)(CF−Blue)などによって構成することができる。よって、青色発光性ナノ結晶粒子(NCB)が任意成分となりうることから、図3,4及びそれ以降の図面では、青色発光性ナノ結晶粒子(NCB)を破線で表示している。 The incident light LT1 may be, for example, light (blue light) having a main peak near 450 nm emitted from a blue LED or the like. In this case, the blue light emitted from the blue LED can be used as blue light emitted from the light conversion layer. Therefore, when the incident light is blue light, of the three color pixel portions (R, G, B), the blue pixel portion (B) is a light conversion containing blue light-emitting nanocrystal particles (NCB). Instead of the pixel layer, a light transmissive layer that transmits blue light may be used so that blue incident light can be used as it is. In this case, the blue pixel portion (B) can be configured by a color material layer (so-called blue color filter) (CF-Blue) including a transparent resin or a blue color material. Therefore, since the blue light-emitting nanocrystal particles (NCB) can be an optional component, the blue light-emitting nanocrystal particles (NCB) are indicated by broken lines in FIGS.
波長選択性透過層8A(8)は、入射光LT1の波長及び光変換層9A(9)で変換された光の波長に応じて、所定の波長領域の光を選択的に透過させる層である。波長選択性透過層8A(8)は、第1の波長領域(例えば、WL1nm〜WL2nm)の光を透過させ、第1の波長領域とは異なる第2の波長領域(WL3nm〜WL4nm)の光を反射させることが好ましい。これにより、光変換層9A(9)で変換された光や光変換層9A(9)へ入射する光のうち、第1の波長領域の光を透過させ、また第1の波長領域以外の第2の波長領域の光を反射させることにより、色純度を向上させることができる。言い換えれば、波長選択性透過層8A(8)は、特定の波長領域(第2の波長領域)の光を反射させることから、波長選択性反射層(選択反射層)ということもできる。The wavelength selective transmission layer 8A (8) is a layer that selectively transmits light in a predetermined wavelength region according to the wavelength of the incident light LT1 and the wavelength of the light converted by the light conversion layer 9A (9). . The wavelength-selective transmission layer 8A (8) transmits light in a first wavelength region (for example, WL 1 nm to WL 2 nm), and a second wavelength region (WL 3 nm different from the first wavelength region). It is preferable to reflect light (˜WL 4 nm). As a result, among the light converted by the light conversion layer 9A (9) and the light incident on the light conversion layer 9A (9), the light in the first wavelength region is transmitted, and the light other than the first wavelength region is transmitted. By reflecting light in the wavelength region of 2, the color purity can be improved. In other words, since the wavelength selective transmission layer 8A (8) reflects light in a specific wavelength region (second wavelength region), it can also be called a wavelength selective reflection layer (selective reflection layer).
波長選択性透過層8A(8)は、可視光領域(例えば380nm〜780nm)において、透過させる光の波長領域(第1の波長領域)を2つ以上有していてもよく、反射させる光の波長領域(第2の波長領域)を2つ以上有していてもよい。これにより、波長選択性透過層8A(8)が単層である場合も、2種以上の色の純度を向上させることができる。 The wavelength-selective transmission layer 8A (8) may have two or more wavelength regions (first wavelength regions) of light to be transmitted in the visible light region (for example, 380 nm to 780 nm). Two or more wavelength regions (second wavelength regions) may be provided. Thereby, also when wavelength selective transmission layer 8A (8) is a single layer, the purity of two or more kinds of colors can be improved.
波長選択性透過層8A(8)は、青色の波長領域以外の波長領域を含む光を透過すること、緑色の波長領域以外の波長領域を含む光を透過すること、又は赤色の波長領域以外の波長領域を含む光を透過することの少なくとも一つの性質を有していることが好ましい。 The wavelength selective transmission layer 8A (8) transmits light including a wavelength region other than the blue wavelength region, transmits light including a wavelength region other than the green wavelength region, or other than the red wavelength region. It preferably has at least one property of transmitting light including a wavelength region.
波長選択性透過層8A(8)は、青色の波長領域を含む光を反射すること、緑色の波長領域を含む光を反射すること又は赤色の波長領域を含む光を反射することの少なくとも一つの性質を有していることが好ましい。 The wavelength-selective transmission layer 8A (8) reflects at least one of light including a blue wavelength region, reflecting light including a green wavelength region, or reflecting light including a red wavelength region. It preferably has properties.
波長選択性透過層8A(8)は、青色の波長領域以外の波長領域を含む光を透過し、かつ青色の波長領域を含む光を反射すること、緑色の波長領域以外の波長領域を含む光を透過し、かつ緑色の波長領域を含む光を反射すること又は赤色の波長領域以外の波長領域を含む光を透過し、かつ赤色の波長領域を含む光を反射することの少なくとも一つの性質を有していることが好ましい。 The wavelength-selective transmission layer 8A (8) transmits light including a wavelength region other than the blue wavelength region and reflects light including the blue wavelength region, and includes light including a wavelength region other than the green wavelength region. At least one property of reflecting light including a green wavelength region or reflecting light including a wavelength region other than a red wavelength region and reflecting light including a red wavelength region. It is preferable to have.
本明細書において、「層に(特定の波長領域の)光が透過する」とは、層に対する当該(特定の波長領域の)光の透過率が垂直方向で70%以上であることを意味し、「層に(特定の波長領域の)光が反射する」とは、層に対する当該(特定の波長領域の)光の反射率が垂直方向で10%以上であることを意味する。 In this specification, “the light (in a specific wavelength region) is transmitted through a layer” means that the transmittance of the light (in a specific wavelength region) to the layer is 70% or more in the vertical direction. “The light (in a specific wavelength region) reflects on the layer” means that the reflectance of the light (in the specific wavelength region) to the layer is 10% or more in the vertical direction.
波長選択性透過層8A(8)は、入射光LT1を透過させると共に、光変換層9A(9)で発光する光の波長領域、すなわち、青色、緑色及び赤色のうち少なくともいずれか1色の波長領域の光線を選択的に反射させる透過特性を有することが好ましい。ここで、光変換層9A(9)からの発光は、入射光LT1を吸収した発光性ナノ結晶粒子に起因する発光であり、発光性ナノ結晶粒子の形状によって、球面波(量子ドットなどの等方性粒子)又は双極子波(量子ロッドなどの異方性粒子)といった発光の形態が現れる。これに対し、入射光LT1を透過させ、かつ光変換層9A(9)からの発光を反射する波長選択性透過層8A(8)を光変換層9A(9)に隣接させると、必要な波長領域の光(外部に取り出したい光)を一方向に集束させることができる。これにより、図3に示す実施形態において、入射光LT1が光変換層9A(9)へ好適に入射できると共に、光変換層9A(9)からの発光のうち、液晶層5側へ放射された光は波長選択性透過層8A(8)で反射されるため、光変換層9A(9)からの発光のうち、第二の基板10側へと放射された光と、波長選択性透過層8A(8)で反射された光とが合わさって表示(視認)されるため、発光効率及び色純度が向上する。 The wavelength-selective transmission layer 8A (8) transmits the incident light LT1, and the wavelength region of the light emitted from the light conversion layer 9A (9), that is, the wavelength of at least one of blue, green, and red It preferably has a transmission characteristic that selectively reflects light rays in the region. Here, light emission from the light conversion layer 9A (9) is light emission caused by the light-emitting nanocrystal particles that have absorbed the incident light LT1, and depending on the shape of the light-emitting nanocrystal particles, spherical waves (such as quantum dots) Emitting forms such as isotropic particles) or dipole waves (anisotropic particles such as quantum rods) appear. On the other hand, when the wavelength selective transmission layer 8A (8) that transmits the incident light LT1 and reflects the light emitted from the light conversion layer 9A (9) is adjacent to the light conversion layer 9A (9), the required wavelength is obtained. The light in the region (light to be extracted outside) can be focused in one direction. Thereby, in the embodiment shown in FIG. 3, the incident light LT1 can be preferably incident on the light conversion layer 9A (9), and the light emitted from the light conversion layer 9A (9) is emitted to the liquid crystal layer 5 side. Since light is reflected by the wavelength selective transmission layer 8A (8), light emitted from the light conversion layer 9A (9) to the second substrate 10 side and the wavelength selective transmission layer 8A. Since the light reflected in (8) is combined (displayed), the light emission efficiency and the color purity are improved.
図5は、波長選択性透過層の透過特性(透過率の波長依存性)の一例を示すグラフである。例えば、波長選択性透過層8A(8)が図5に示すような透過特性を有する場合、波長選択性透過層8A(8)は、約620nm〜700nmの赤色の波長領域だけを選択的に反射する(換言すると、青色の波長領域と緑色の波長領域の光を透過する)ため、光変換層9A(9)で変換された赤色の波長領域の光が波長選択性透過層8A(8)の反射により増幅され、赤色の波長領域の光の色純度が向上すると考えられる。 FIG. 5 is a graph showing an example of transmission characteristics (wavelength dependence of transmittance) of the wavelength selective transmission layer. For example, when the wavelength selective transmission layer 8A (8) has transmission characteristics as shown in FIG. 5, the wavelength selective transmission layer 8A (8) selectively reflects only the red wavelength region of about 620 nm to 700 nm. (In other words, light in the blue wavelength region and green wavelength region is transmitted), the light in the red wavelength region converted by the light conversion layer 9A (9) is transmitted through the wavelength selective transmission layer 8A (8). It is considered that the color purity of the light in the red wavelength region is improved by the amplification by reflection.
特に好ましい実施形態として、入射光が青色LEDなどから発せられる450nm近傍に主ピークを持つ光(青色光)であり、赤色の画素部(R)が入射光(青色光)を吸収して赤色を発光する赤色発光性ナノ結晶粒子(NCR)を含有し、緑色の画素部(G)が入射光(青色光)を吸収して緑色を発光する緑色発光性ナノ結晶粒子(NCG)を含有し、青色の画素部(B)が入射光(青色光)を透過させる青色光透過層であり、波長選択性透過層8A(8)が青色の波長領域(赤色の波長領域及び緑色の波長領域以外の波長領域)の光を透過させ、かつ赤色の波長領域及び緑色の波長領域の光を反射する、という形態が挙げられる(ただし、この形態に限定されることはない)。 As a particularly preferred embodiment, incident light is light having a main peak in the vicinity of 450 nm (blue light) emitted from a blue LED or the like, and the red pixel portion (R) absorbs incident light (blue light) to produce red light. It contains red luminescent nanocrystal particles (NCR) that emit light, green pixel portions (G) contain green luminescent nanocrystal particles (NCG) that absorb incident light (blue light) and emit green light, The blue pixel portion (B) is a blue light transmission layer that transmits incident light (blue light), and the wavelength selective transmission layer 8A (8) has a blue wavelength region (other than the red wavelength region and the green wavelength region). (Wavelength region) light is transmitted, and light in the red wavelength region and green wavelength region is reflected (but is not limited to this form).
この場合、入射光は、波長選択性透過層8A(8)を好適に透過して光変換層9A(9)に入射し、発光性ナノ結晶粒子に吸収され、赤色の画素部(R)では赤色の波長領域の光に、緑色の画素部(G)では緑色の波長領域の光にそれぞれ変換される一方で、青色の画素部(B)ではそのまま透過される。そして、光変換層9A(9)の赤色の画素部(R)及び緑色の画素部(G)で発光した光のうち、液晶層5側へ放射された光は、波長選択性透過層8A(8)で反射され(その他の光は吸収又は透過され)、光変換層9A(9)で発光した光のうち第二の基板10側へ放射された光と合わさって表示される。このように、光変換層9A(9)及び波長選択性透過層8A(8)との組合せを用いることにより、高い発光効率と高い色純度とを両立できる。 In this case, the incident light is preferably transmitted through the wavelength-selective transmission layer 8A (8), is incident on the light conversion layer 9A (9), is absorbed by the luminescent nanocrystal particles, and the red pixel portion (R). The light in the red wavelength region is converted into light in the green wavelength region in the green pixel portion (G), while being transmitted as it is in the blue pixel portion (B). Of the light emitted from the red pixel portion (R) and the green pixel portion (G) of the light conversion layer 9A (9), the light emitted to the liquid crystal layer 5 side is the wavelength selective transmission layer 8A ( 8) is reflected (other light is absorbed or transmitted), and is displayed together with the light emitted from the light conversion layer 9A (9) to the second substrate 10 side. Thus, by using the combination of the light conversion layer 9A (9) and the wavelength selective transmission layer 8A (8), both high luminous efficiency and high color purity can be achieved.
液晶パネルは、他の実施形態であってもよい。以下、他の実施形態について説明するが、上述した実施形態と重複する説明は省略する。 The liquid crystal panel may be another embodiment. Hereinafter, other embodiments will be described, but descriptions overlapping with the above-described embodiments will be omitted.
図6は、他の一実施形態に係る液晶パネルの構成を説明するための断面図である。図6に示すように、この実施形態は、光変換層9A(9)及び波長選択性透過層8A(8)が対向基板(O−SUB)内に設けられ、かつ、光変換層9A(9)が、一対の基板(第一の基板2及び第二の基板10)の外側に設けられた形態である。この実施形態においても、図4に示す光変換フィルムが用いられてよい。この実施形態では、第二の偏光層7、光変換層9A(9)及び波長選択性透過層8A(8)を支持する支持基板12が更に設けられている。支持基板12は、透明基板であることが好ましい。 FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining a configuration of a liquid crystal panel according to another embodiment. As shown in FIG. 6, in this embodiment, the light conversion layer 9A (9) and the wavelength selective transmission layer 8A (8) are provided in the counter substrate (O-SUB), and the light conversion layer 9A (9 ) Is provided outside the pair of substrates (first substrate 2 and second substrate 10). Also in this embodiment, the light conversion film shown in FIG. 4 may be used. In this embodiment, a support substrate 12 that supports the second polarizing layer 7, the light conversion layer 9A (9), and the wavelength selective transmission layer 8A (8) is further provided. The support substrate 12 is preferably a transparent substrate.
すなわち、この実施形態に係る液晶パネルでは、第一の偏光層1と、第一の基板2と、液晶層5と、第二の基板10と、第二の偏光層7と、波長選択性透過層8A(8)と、光変換層9A(9)と、支持基板12とが、バックライトユニットに近い側(入射光LT1が入射する側)からこの順で積層されている。 That is, in the liquid crystal panel according to this embodiment, the first polarizing layer 1, the first substrate 2, the liquid crystal layer 5, the second substrate 10, the second polarizing layer 7, and the wavelength selective transmission. The layer 8A (8), the light conversion layer 9A (9), and the support substrate 12 are stacked in this order from the side closer to the backlight unit (the side on which the incident light LT1 is incident).
図6に示す実施形態をVA型液晶表示素子に適用する場合、第一の電極層(画素電極)が第一の基板2上に形成されており、かつ、対向基板(O−SUB)において、第二の電極層(共通電極)が液晶層5と第二の偏光層7との間に設けられていることが好ましい。対向基板(O−SUB)及びアレイ基板(A−SUB)の少なくとも一方において、液晶層5と接する面には配向層が形成されていることが好ましい。図6において液晶表示素子がFFS型又はIPS型である場合には、画素電極及び共通電極が第一の基板2上に形成されていることが好ましい。 When the embodiment shown in FIG. 6 is applied to a VA liquid crystal display element, the first electrode layer (pixel electrode) is formed on the first substrate 2 and the counter substrate (O-SUB) The second electrode layer (common electrode) is preferably provided between the liquid crystal layer 5 and the second polarizing layer 7. In at least one of the counter substrate (O-SUB) and the array substrate (A-SUB), an alignment layer is preferably formed on the surface in contact with the liquid crystal layer 5. In FIG. 6, when the liquid crystal display element is an FFS type or an IPS type, the pixel electrode and the common electrode are preferably formed on the first substrate 2.
図7は、他の一実施形態に係る液晶パネルの構成を説明するための断面図である。図7に示すように、この実施形態は、図3に示す実施形態と同様にインセル型の形態であるが、光変換層9B(9)の構成が図3に示す実施形態と異なる。 FIG. 7 is a cross-sectional view for explaining a configuration of a liquid crystal panel according to another embodiment. As shown in FIG. 7, this embodiment is an in-cell type as in the embodiment shown in FIG. 3, but the configuration of the light conversion layer 9B (9) is different from the embodiment shown in FIG.
具体的には、光変換層9B(9)において、赤色の画素部(R)は、赤色発光性ナノ結晶粒子(NCR)を含有する光変換画素層(NC−Red)と、赤色の色材を含む色材層(いわゆる赤色カラーフィルタ)(CF−Red)とが、バックライトユニット(入射光LT1が入射する側)に近い側からこの順で積層された2層構造を有している。緑色の画素部(G)は、緑色光を発する緑色発光性ナノ結晶粒子(NCG)を含有する光変換画素層(NC−Green)と、緑色の色材を含む色材層(いわゆる緑色カラーフィルタ)(CF−Green)とが、バックライトユニット(入射光LT1が入射する側)に近い側からこの順で積層された2層構造を有している。 Specifically, in the light conversion layer 9B (9), the red pixel portion (R) includes a light conversion pixel layer (NC-Red) containing red light emitting nanocrystal particles (NCR), and a red color material. And a color material layer (so-called red color filter) (CF-Red) including two layers are stacked in this order from the side closer to the backlight unit (side on which incident light LT1 is incident). The green pixel portion (G) includes a light conversion pixel layer (NC-Green) containing green luminescent nanocrystal particles (NCG) that emits green light, and a color material layer (so-called green color filter) including a green color material. ) (CF-Green) has a two-layer structure laminated in this order from the side closer to the backlight unit (the side on which the incident light LT1 is incident).
この場合、赤色の画素部(R)及び緑色の画素部(G)では、入射光(好ましくは青色光)の全てが発光性ナノ結晶粒子を含有する光変換画素層で変換されない場合であっても、赤色カラーフィルタ(CF−Red)及び緑色カラーフィルタ(CF−Green)のそれぞれが、入射光を透過させず吸収するため、赤色及び緑色の色純度が更に向上する。 In this case, in the red pixel portion (R) and the green pixel portion (G), all of the incident light (preferably blue light) is not converted by the light conversion pixel layer containing the luminescent nanocrystal particles. In addition, since each of the red color filter (CF-Red) and the green color filter (CF-Green) absorbs incident light without transmitting it, the color purity of red and green is further improved.
図8は、他の一実施形態に係る液晶パネルの構成を説明するための断面図である。図9は、光変換フィルムの他の一実施形態を示す断面図である。この光変換フィルムは、図8に示した液晶パネルに好適に用いられる。図8に示すように、この実施形態は、図7に示す実施形態と同様にインセル型の形態であるが、波長選択性透過層の構成が図7に示す実施形態と異なる。 FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining a configuration of a liquid crystal panel according to another embodiment. FIG. 9 is a cross-sectional view showing another embodiment of the light conversion film. This light conversion film is suitably used for the liquid crystal panel shown in FIG. As shown in FIG. 8, this embodiment is an in-cell type like the embodiment shown in FIG. 7, but the configuration of the wavelength selective transmission layer is different from the embodiment shown in FIG.
具体的には、この実施形態では、光変換層9A(9)のバックライトユニット側(入射光LT1が入射する側)に第一の波長選択性透過層8A(8)が設けられており、光変換層9A(9)のバックライトユニットと反対側(入射光LT1が入射するのと反対側)に第二の波長選択性透過層11が設けられている。すなわち、この実施形態に係る液晶パネルでは、第一の偏光層1と、第一の基板2と、液晶層5と、第二の偏光層7と、第一の波長選択性透過層8A(8)、光変換層9A(9)と、第二の波長選択性透過層11と、第二の基板10とが、バックライトユニットに近い側(入射光LT1が入射する側)からこの順で積層されている。 Specifically, in this embodiment, the first wavelength-selective transmission layer 8A (8) is provided on the backlight unit side (the side on which the incident light LT1 is incident) of the light conversion layer 9A (9). The second wavelength-selective transmission layer 11 is provided on the side opposite to the backlight unit of the light conversion layer 9A (9) (the side opposite to the incident light LT1 is incident). That is, in the liquid crystal panel according to this embodiment, the first polarizing layer 1, the first substrate 2, the liquid crystal layer 5, the second polarizing layer 7, and the first wavelength-selective transmission layer 8A (8 ), The light conversion layer 9A (9), the second wavelength-selective transmission layer 11, and the second substrate 10 are stacked in this order from the side closer to the backlight unit (the side on which the incident light LT1 is incident). Has been.
同様に、図9に示す光変換フィルム90Bは、波長選択性透過層8A(8)と、光変換層9A(9)と、第二の波長選択性透過層11とをこの順に備えている。言い換えれば、この光変換フィルムは、光変換層9A(9)と、光変換層9A(9)の両側にそれぞれ設けられた波長選択性透過層8A(8)及び第二の波長選択性透過層11とを備えている。 Similarly, the light conversion film 90B shown in FIG. 9 includes a wavelength selective transmission layer 8A (8), a light conversion layer 9A (9), and a second wavelength selective transmission layer 11 in this order. In other words, the light conversion film includes a light conversion layer 9A (9), a wavelength selective transmission layer 8A (8) provided on both sides of the light conversion layer 9A (9), and a second wavelength selective transmission layer. 11.
第二の波長選択性透過層11は、例えば、青色の波長領域の光を吸収し、青色の波長領域以外の波長領域の光を透過させる、黄色の色材を含む色材層(いわゆる黄色カラーフィルタ)(CF−Yellow)であってよい。第二の波長選択性透過層11は、例えば、青色の波長領域の光を一部反射し、一部透過する第二の波長選択性透過層であってもよい。これらのような第二の波長選択性透過層11を設けることにより、入射光が青色である場合に、外部からの不要な光(特に青色光)の侵入による画質低下を抑制できると共に、青色の画素部(B)からの発光が、赤色の画素部(R)及び緑色の画素部(G)からの発光に比べて強いときであっても、色調を好適に調整できる。 The second wavelength selective transmission layer 11 is, for example, a color material layer containing a yellow color material (so-called yellow color) that absorbs light in a blue wavelength region and transmits light in a wavelength region other than the blue wavelength region. Filter) (CF-Yellow). The second wavelength selective transmission layer 11 may be, for example, a second wavelength selective transmission layer that partially reflects light in the blue wavelength region and partially transmits light. By providing the second wavelength-selective transmission layer 11 as described above, when the incident light is blue, it is possible to suppress deterioration in image quality due to intrusion of unnecessary light (particularly blue light) from the outside, and Even when the light emission from the pixel portion (B) is stronger than the light emission from the red pixel portion (R) and the green pixel portion (G), the color tone can be suitably adjusted.
この光変換フィルム90Bの光変換層9C(9)では、赤色の画素部と緑色の画素部と青色の画素部とが、ブラックマトリックス(BM)によってそれぞれ互いに区画されている。赤色の画素部は、赤色発光性ナノ結晶粒子(NCR)を含有する光変換画素層(NC−Red)と、赤色の色材を含む色材層(赤色カラーフィルタ)(CF−Red)とが、バックライトユニット(入射光LT1が入射する側)に近い側からこの順で積層された2層構造を有している。緑色の画素部は、緑色光を発する緑色発光性ナノ結晶粒子(NCG)を含有する光変換画素層(NC−Green)と、緑色の色材を含む色材層(緑色カラーフィルタ)(CF−Green)とが、バックライトユニット(入射光LT1が入射する側)に近い側からこの順で積層された2層構造を有している。青色の画素部は、青色の色材を含む色材層(青色カラーフィルタ)(CF−Blue)で構成されている。 In the light conversion layer 9C (9) of the light conversion film 90B, a red pixel portion, a green pixel portion, and a blue pixel portion are partitioned from each other by a black matrix (BM). The red pixel portion includes a light conversion pixel layer (NC-Red) containing red light emitting nanocrystal particles (NCR) and a color material layer (red color filter) (CF-Red) including a red color material. The two-layer structure is laminated in this order from the side close to the backlight unit (the side on which the incident light LT1 is incident). The green pixel portion includes a light conversion pixel layer (NC-Green) containing green luminescent nanocrystal particles (NCG) that emits green light, and a color material layer (green color filter) (CF-) containing a green color material. Green) has a two-layer structure in which layers are stacked in this order from the side closer to the backlight unit (the side on which the incident light LT1 is incident). The blue pixel portion is composed of a color material layer (blue color filter) (CF-Blue) including a blue color material.
この場合、赤色の画素部及び緑色の画素部では、入射光(好ましくは青色光)の全てが発光性ナノ結晶粒子を含有する光変換画素層で変換されない場合であっても、赤色カラーフィルタ(CF−Red)及び緑色カラーフィルタ(CF−Green)のそれぞれが、入射光を透過させず吸収するため、赤色及び緑色の色純度が更に向上する。 In this case, in the red pixel portion and the green pixel portion, even if the incident light (preferably blue light) is not converted by the light conversion pixel layer containing the luminescent nanocrystal particles, the red color filter ( Since each of the CF-Red and green color filters (CF-Green) absorbs incident light without transmitting it, the color purity of red and green is further improved.
図8に示す実施形態をVA型液晶表示素子に適用する場合、第一の電極層(画素電極)が第一の基板2上に形成されており、かつ、対向基板(O−SUB)において、第二の電極層(共通電極)が液晶層5と第二の偏光層7との間に設けらていることが好ましい。対向基板(O−SUB)及びアレイ基板(A−SUB)の少なくとも一方において、液晶層5と接する面には配向層が形成されていることが好ましい。図8において液晶表示素子がFFS型又はIPS型である場合には、画素電極及び共通電極が第一の基板2上に形成されていることが好ましい。 When the embodiment shown in FIG. 8 is applied to a VA liquid crystal display element, the first electrode layer (pixel electrode) is formed on the first substrate 2 and the counter substrate (O-SUB) The second electrode layer (common electrode) is preferably provided between the liquid crystal layer 5 and the second polarizing layer 7. In at least one of the counter substrate (O-SUB) and the array substrate (A-SUB), an alignment layer is preferably formed on the surface in contact with the liquid crystal layer 5. In FIG. 8, when the liquid crystal display element is an FFS type or an IPS type, the pixel electrode and the common electrode are preferably formed on the first substrate 2.
図10は、他の一実施形態に係る液晶パネルの構成を説明するための断面図である。図10に示すように、この実施形態は、図3,7に示す実施形態と同様にインセル型の形態であるが、光変換層9D(9)の構成が図3,7に示す実施形態と異なる。 FIG. 10 is a cross-sectional view for explaining a configuration of a liquid crystal panel according to another embodiment. As shown in FIG. 10, this embodiment is an in-cell type as in the embodiments shown in FIGS. 3 and 7, but the configuration of the light conversion layer 9D (9) is the same as the embodiment shown in FIGS. Different.
具体的には、光変換層9A(9)が、各色の画素部(R,G,B)にわたって全体に設けられた発光層(NCL)と、各色の画素部(R,G,B)ごとに区画されて設けられた色材層(いわゆるカラーフィルタ)(CFL)とが、バックライトユニットに近い側(入射光LT1が入射する側)からこの順で積層された構成を有している。 Specifically, the light conversion layer 9A (9) includes the light emitting layer (NCL) provided over the pixel portions (R, G, B) of each color and the pixel portions (R, G, B) of each color. A color material layer (so-called color filter) (CFL) provided in a divided manner is stacked in this order from the side closer to the backlight unit (the side on which the incident light LT1 is incident).
発光層(NCL)は、少なくとも赤色発光性ナノ結晶粒子及び緑色発光性ナノ結晶粒子を含む発光性ナノ結晶粒子(NC)を含有する。発光性ナノ結晶粒子(NC)は、必要に応じて青色発光性ナノ結晶粒子を更に含有してもよい。 The light emitting layer (NCL) contains light emitting nanocrystal particles (NC) including at least red light emitting nanocrystal particles and green light emitting nanocrystal particles. The luminescent nanocrystal particles (NC) may further contain blue luminescent nanocrystal particles as necessary.
色材層(CFL)は、赤色の画素部(R)に対応する位置に赤色の色層部(赤色カラーフィルタ。発光性ナノ結晶粒子を含まない。)(CF−Red)を、緑色の画素部(G)に対応する位置に緑色の色層部(緑色カラーフィルタ)(CF−Green。発光性ナノ結晶粒子を含まない。)を、青色の画素部(B)に対応する位置に青色の色層部(青色カラーフィルタ。発光性ナノ結晶粒子を含まない。)(CF−Blue)を、それぞれ有している。緑色の色層部は、励起光の透過を考慮して色補正を行うために、黄色の色材を含む色材層(黄色カラーフィルタ)(CF−Yellow)であってもよい。赤色の色層部(CF−Red)と緑色の色層部(CF−Green)と青色の色層部(CF−Blue)とは、図10に示すようにそれぞれ互いに接していてよく、混色を防止するために、各色の色層部の間に遮光層としてブラックマトリックスが配置されていてもよい。 The color material layer (CFL) has a red color layer portion (red color filter, not including luminescent nanocrystal particles) (CF-Red) at a position corresponding to the red pixel portion (R), and a green pixel. A green color layer portion (green color filter) (CF-Green, which does not include luminescent nanocrystal particles) is placed at a position corresponding to the portion (G), and a blue color portion is placed at a position corresponding to the blue pixel portion (B). Each has a color layer portion (blue color filter, not including luminescent nanocrystal particles) (CF-Blue). The green color layer portion may be a color material layer (yellow color filter) (CF-Yellow) including a yellow color material in order to perform color correction in consideration of transmission of excitation light. The red color layer portion (CF-Red), the green color layer portion (CF-Green), and the blue color layer portion (CF-Blue) may be in contact with each other as shown in FIG. In order to prevent this, a black matrix may be disposed as a light shielding layer between the color layer portions of the respective colors.
図10に示す実施形態をVA型液晶表示素子に適用する場合、第一の電極層(画素電極)が第一の基板2上に形成されており、かつ、対向基板(O−SUB)において、第二の電極層(共通電極)が液晶層5と第二の偏光層7との間に設けられていることが好ましい。図10において液晶表示素子がFFS型又はIPS型である場合には、画素電極及び共通電極が第一の基板2上に形成されていることが好ましい。VA型、FFS型又はIPS型液晶表示素子において、対向基板(O−SUB)及びアレイ基板(A−SUB)の少なくとも一方では、液晶層5と接する面に配向層が形成されていることが好ましい。 When the embodiment shown in FIG. 10 is applied to a VA liquid crystal display element, the first electrode layer (pixel electrode) is formed on the first substrate 2 and the counter substrate (O-SUB) The second electrode layer (common electrode) is preferably provided between the liquid crystal layer 5 and the second polarizing layer 7. In FIG. 10, when the liquid crystal display element is an FFS type or an IPS type, the pixel electrode and the common electrode are preferably formed on the first substrate 2. In the VA-type, FFS-type, or IPS-type liquid crystal display element, an alignment layer is preferably formed on a surface in contact with the liquid crystal layer 5 on at least one of the counter substrate (O-SUB) and the array substrate (A-SUB). .
図11は、他の一実施形態に係る液晶パネルの構成を説明するための断面図である。図11に示すように、波長選択性透過層8A(8)及び光変換層9A(9)は、上述した実施形態と異なり、アレイ基板(A−SUB)内に設けられていてもよい。この実施形態は、光変換層9A(9)、第一の偏光層1及び第二の偏光層7が、一対の基板(第一の基板2及び第二の基板10)の間に設けられたいわゆるインセル型の構成を有する形態である。 FIG. 11 is a cross-sectional view for explaining a configuration of a liquid crystal panel according to another embodiment. As shown in FIG. 11, the wavelength-selective transmission layer 8A (8) and the light conversion layer 9A (9) may be provided in the array substrate (A-SUB), unlike the above-described embodiment. In this embodiment, the light conversion layer 9A (9), the first polarizing layer 1 and the second polarizing layer 7 are provided between a pair of substrates (first substrate 2 and second substrate 10). This is a form having a so-called in-cell type configuration.
すなわち、この実施形態に係る液晶パネルでは、第一の基板2と、波長選択性透過層8A(8)と、光変換層9A(9)と、第一の偏光層1と、液晶層5と、第二の偏光層7と、第二の基板10とが、バックライトユニットに近い側(入射光LT1が入射する側)からこの順で積層されている。 That is, in the liquid crystal panel according to this embodiment, the first substrate 2, the wavelength-selective transmission layer 8A (8), the light conversion layer 9A (9), the first polarizing layer 1, the liquid crystal layer 5, The second polarizing layer 7 and the second substrate 10 are laminated in this order from the side close to the backlight unit (the side on which the incident light LT1 is incident).
以上説明した各実施形態において、第二の偏光層7と第二の基板10とは、互いに入れ替わっていてもよく、TFTを含む電極層(TFT電極層)が、液晶層5と第一の偏光層1との間に設けられていてもよく、液晶層5と第二の偏光層7との間に設けられていてもよい。 In each of the embodiments described above, the second polarizing layer 7 and the second substrate 10 may be interchanged, and the electrode layer (TFT electrode layer) including the TFT is the liquid crystal layer 5 and the first polarizing layer. It may be provided between the layer 1 and the liquid crystal layer 5 and the second polarizing layer 7.
すなわち、一変形例に係る液晶パネルでは、TFT電極層と、液晶層5と、第二の基板10と、第二の偏光層7とが、バックライトユニットに近い側(入射光LT1が入射する側)からこの順で積層されていてよい。より具体的な例を挙げると、図11に示す実施形態の一変形例に係る液晶パネルでは、第一の基板2と、波長選択性透過層8A(8)と、光変換層9A(9)と、第一の偏光層1と、TFT電極層と、液晶層5と、第二の基板10と、第二の偏光層7とが、バックライトユニットに近い側(入射光LT1が入射する側)からこの順で積層されていてよい。 That is, in the liquid crystal panel according to one modification, the TFT electrode layer, the liquid crystal layer 5, the second substrate 10, and the second polarizing layer 7 are closer to the backlight unit (incident light LT1 enters. From the side) in this order. To give a more specific example, in the liquid crystal panel according to a modification of the embodiment shown in FIG. 11, the first substrate 2, the wavelength-selective transmission layer 8A (8), and the light conversion layer 9A (9). The first polarizing layer 1, the TFT electrode layer, the liquid crystal layer 5, the second substrate 10, and the second polarizing layer 7 are closer to the backlight unit (the side on which the incident light LT1 is incident). ) In this order.
他の一変形例に係る液晶パネルでは、液晶層5と、TFT電極層と、第二の偏光層7と、第二の基板10とが、バックライトユニットに近い側(入射光LT1が入射する側)からこの順で積層されていてよい。より具体的な例を挙げると、図11に示す実施形態の他の一変形例に係る液晶パネルでは、第一の基板2と、波長選択性透過層8A(8)と、光変換層9A(9)と、第一の偏光層1と、液晶層5と、TFT電極層と、第二の偏光層7と、第二の基板10とが、バックライトユニットに近い側(入射光LT1が入射する側)からこの順で積層されていてよい。 In a liquid crystal panel according to another modification, the liquid crystal layer 5, the TFT electrode layer, the second polarizing layer 7, and the second substrate 10 are closer to the backlight unit (incident light LT1 is incident). From the side) in this order. To give a more specific example, in the liquid crystal panel according to another modification of the embodiment shown in FIG. 11, the first substrate 2, the wavelength selective transmission layer 8A (8), and the light conversion layer 9A ( 9), the first polarizing layer 1, the liquid crystal layer 5, the TFT electrode layer, the second polarizing layer 7, and the second substrate 10 are closer to the backlight unit (incident light LT1 is incident). May be laminated in this order.
他の一変形例に係る液晶パネルでは、液晶層5と、TFT電極層と、第二の基板10と、第二の偏光層7とが、バックライトユニットに近い側(入射光LT1が入射する側)からこの順で積層されていてよい。より具体的な例を挙げると、図11に示す実施形態の他の一変形例に係る液晶パネルでは、第一の基板2と、波長選択性透過層8A(8)と、光変換層9A(9)と、第一の偏光層1と、液晶層5と、TFT電極層と、第二の基板10と、第二の偏光層7とが、バックライトユニットに近い側(入射光LT1が入射する側)からこの順で積層されていてよい。 In the liquid crystal panel according to another modification, the liquid crystal layer 5, the TFT electrode layer, the second substrate 10, and the second polarizing layer 7 are closer to the backlight unit (incident light LT1 is incident). From the side) in this order. To give a more specific example, in the liquid crystal panel according to another modification of the embodiment shown in FIG. 11, the first substrate 2, the wavelength selective transmission layer 8A (8), and the light conversion layer 9A ( 9), the first polarizing layer 1, the liquid crystal layer 5, the TFT electrode layer, the second substrate 10, and the second polarizing layer 7 are closer to the backlight unit (incident light LT1 is incident). May be laminated in this order.
以上詳述した各実施形態では、短波長の可視光線や紫外光といった高エネルギー光線の光源を用いた光(入射光)を、光スイッチとして機能する液晶層5及び偏光層1,7を介して、光変換層9に含まれる発光性ナノ結晶粒子が吸収し、当該吸収した光を当該発光性ナノ結晶粒子により特定の波長の光に変換して発光することにより色を表示する。 In each of the embodiments described in detail above, light (incident light) using a high energy light source such as short-wavelength visible light or ultraviolet light is transmitted through the liquid crystal layer 5 and the polarizing layers 1 and 7 that function as an optical switch. The light-emitting nanocrystal particles contained in the light conversion layer 9 absorb, and the absorbed light is converted into light of a specific wavelength by the light-emitting nanocrystal particles to emit light, thereby displaying a color.
各実施形態の中でも、特に光変換層9が対向基板(O−SUB)に設けられた構造を有する形態が、高エネルギー光線の照射による液晶層5の劣化を抑制又は防止できるという効果が顕著に現れる点から好ましい。 Among the embodiments, in particular, the configuration in which the light conversion layer 9 is provided on the counter substrate (O-SUB) has a remarkable effect of suppressing or preventing the deterioration of the liquid crystal layer 5 due to the irradiation of high energy rays. It is preferable from the point of appearance.
上述した実施形態のうち、光変換層9のバックライトユニット側(入射光LT1が入射する側)にのみ波長選択性透過層8が設けられた構成を有する形態では、使用する光源の種類(発光素子として青色LED)や光の強度に応じて、図8に示す実施形態と同様に、光変換層9のバックライトユニットと反対側(入射光LT1が入射するのと反対側)にも、波長選択性透過層(第二の波長選択性透過層11)が更に設けられていてよく、光変換層)と波長選択性透過層8との間に波長選択性透過層(第二の波長選択性透過層11)が更に設けられていてもよい。これらの場合も、図8に示す実施形態と同様に、外部からの不要な光(特に青色光)の侵入による画質低下を抑制できる。 In the embodiment described above, in the embodiment having the configuration in which the wavelength selective transmission layer 8 is provided only on the backlight unit side (the side on which the incident light LT1 is incident) of the light conversion layer 9, the type of light source used (light emission) As in the embodiment shown in FIG. 8, the wavelength of the light conversion layer 9 on the side opposite to the backlight unit (the side opposite to where the incident light LT1 is incident) depends on the intensity of light and the blue LED as the element. A selective transmission layer (second wavelength selective transmission layer 11) may be further provided, and the wavelength selective transmission layer (second wavelength selectivity) is provided between the wavelength conversion transmission layer 8 and the light conversion layer. A transmissive layer 11) may be further provided. In these cases as well, as in the embodiment shown in FIG. 8, it is possible to suppress deterioration in image quality due to intrusion of unnecessary light (particularly blue light) from outside.
これら形態において、第一の波長選択性透過層8と第二の波長選択性透過層11とは、互いに同一であっても異なっていてもよい。好ましい形態は、波長選択性透過層8が、光変換層9に入射する光は透過させ、赤色発光性ナノ結晶粒子(NCR)を含む光変換画素層(NC−Red)からの発光された赤色光及び/又は緑色発光性ナノ結晶粒子(NCG)を含む光変換画素層(NC−Green)からの発光された緑色光を反射し、第二の波長選択性透過層11が、赤色発光性ナノ結晶粒子(NCR)を含む光変換画素層(NC−Red)からの発光された赤色光及び/又は緑色発光性ナノ結晶粒子(NCG)を含む光変換画素層(NC−Green)からの発光された緑色光は透過させ、他の色の光(特に入射光(青色光))を反射又は吸収する形態である。この形態では、赤色や緑色の色純度を更に向上させることができる。 In these forms, the first wavelength selective transmission layer 8 and the second wavelength selective transmission layer 11 may be the same as or different from each other. In a preferred embodiment, the wavelength-selective transmission layer 8 transmits light incident on the light conversion layer 9 and emits red light emitted from the light conversion pixel layer (NC-Red) including red light-emitting nanocrystal particles (NCR). The green light emitted from the light conversion pixel layer (NC-Green) including light and / or green light-emitting nanocrystal particles (NCG) is reflected, and the second wavelength-selective transmission layer 11 includes red light-emitting nano-particles. Red light emitted from the light conversion pixel layer (NC-Red) including crystal particles (NCR) and / or light emitted from the light conversion pixel layer (NC-Green) including green light emitting nanocrystal particles (NCG) The green light is transmitted, and the light of other colors (especially incident light (blue light)) is reflected or absorbed. In this form, the color purity of red or green can be further improved.
上述した各実施形態においては、光変換層9は、青色発光性ナノ結晶粒子NCB、緑色発光性ナノ結晶粒子NCG及び赤色発光性ナノ結晶粒子NCRからなる群から選択される少なくとも1種を含んでいればよく、光変換層9は、上述した実施形態も含めて、青色発光性ナノ結晶粒子NCB、緑色発光性ナノ結晶粒子NCG及び赤色発光性ナノ結晶粒子NCRからなる群から選択される少なくとも2種を含むことが好ましい。 In each of the above-described embodiments, the light conversion layer 9 includes at least one selected from the group consisting of blue light-emitting nanocrystal particles NCB, green light-emitting nanocrystal particles NCG, and red light-emitting nanocrystal particles NCR. The light conversion layer 9 includes at least 2 selected from the group consisting of the blue light-emitting nanocrystal particles NCB, the green light-emitting nanocrystal particles NCG, and the red light-emitting nanocrystal particles NCR, including the above-described embodiments. Preferably it contains seeds.
上述した各実施形態における波長選択性透過層8は、一実施形態において、各色の画素部(R,G,B)に対応して区画されている。図12は、光変換フィルムの他の一実施形態を示す断面図である。この光変換フィルム90Cは、波長選択性透過層8B(8)が各色の画素部(R,G,B)に対応して区画されている形態において用いられる。 In one embodiment, the wavelength-selective transmission layer 8 in each embodiment described above is partitioned corresponding to the pixel portions (R, G, B) of each color. FIG. 12 is a cross-sectional view showing another embodiment of the light conversion film. This light conversion film 90C is used in a form in which the wavelength selective transmission layer 8B (8) is partitioned corresponding to the pixel portions (R, G, B) of the respective colors.
この光変換フィルム90Cは、上述した実施形態と同様に、光変換層9A(9)と波長選択性透過層8B(8)とを備えているが、波長選択性透過層8B(8)の構成が上述した実施形態と異なる。具体的には、波長選択性透過層8B(8)は、赤色の画素部(R)に対応する位置に設けられ、赤色の波長領域の光を選択的に反射し、かつそれ以外の波長領域の光を透過する波長選択性透過部SRRと、緑色の画素部(G)に対応する位置に設けられ、緑色の波長領域の光を選択的に反射し、かつそれ以外の波長領域の光を透過する波長選択性透過部SRGと、青色の画素部(B)に対応する位置に設けられ、青色の波長領域の光を選択的に反射し、かつそれ以外の波長領域の光を透過する波長選択性透過部SRBとを有している。 This light conversion film 90C includes the light conversion layer 9A (9) and the wavelength selective transmission layer 8B (8), as in the above-described embodiment, but the configuration of the wavelength selective transmission layer 8B (8). Is different from the embodiment described above. Specifically, the wavelength-selective transmission layer 8B (8) is provided at a position corresponding to the red pixel portion (R), selectively reflects light in the red wavelength region, and other wavelength regions. Is provided at a position corresponding to the green pixel portion (G), selectively reflects the light in the green wavelength region, and reflects the light in the other wavelength regions. A wavelength that is provided at a position corresponding to the wavelength-selective transmission part SRG that transmits and the blue pixel part (B), selectively reflects light in the blue wavelength region, and transmits light in other wavelength regions And a selective transmission part SRB.
この実施形態では、青色LEDからの青色光などの入射光LT1が波長選択性透過層8B(8)を透過し、赤色発光性ナノ結晶粒子(NCR)を含む光変換画素層(NC−Red)で吸収された後に赤色発光をする場合、赤色発光性ナノ結晶粒子の形状に依存した発光波が放射されるが、入射光が入射した方向への赤色放射光は、赤色の波長領域の光を選択的に反射する波長選択性透過部SRRにより反射されるため、光変換層9A(9)側への赤色光の強度が向上する。緑色の画素部(G)に入射した光も同様に、緑色の波長領域の光を選択的に反射する波長選択性透過部SRGにより反射されるため、光変換層9A(9)側への緑色光の強度が向上する。 In this embodiment, incident light LT1 such as blue light from a blue LED is transmitted through the wavelength selective transmission layer 8B (8), and includes a light conversion pixel layer (NC-Red) including red light emitting nanocrystal particles (NCR). In the case of emitting red light after being absorbed by the light, an emission wave depending on the shape of the red light-emitting nanocrystal particles is emitted, but the red emitted light in the direction in which the incident light is incident is the light in the red wavelength region. Since it is reflected by the wavelength selective transmission portion SRR that selectively reflects, the intensity of red light toward the light conversion layer 9A (9) is improved. Similarly, the light incident on the green pixel portion (G) is also reflected by the wavelength-selective transmission portion SRG that selectively reflects light in the green wavelength region, so that the green color toward the light conversion layer 9A (9) side is reduced. The light intensity is improved.
図12に示す実施形態では、青色の波長領域の光を選択的に反射し、かつそれ以外の波長領域の光を透過する波長選択性透過部SRBが青色の画素部(B)に設けられているが、入射光の種類や強度に応じて、当該波長選択性透過部SRBは設けられていなくてもよい。例えば入射光(青色光)の発光強度が強い場合は、図9に示す実施形態のように、赤色の波長領域の光及び/又は緑色領域の波長領域の光を選択的に透過させる(青色光を吸収する)第二の波長選択性透過層11が、光変換層9A(9)の波長選択性透過層8B(8)と反対側(バックライトユニットと反対側)に設けられてもよい。 In the embodiment shown in FIG. 12, a wavelength selective transmission part SRB that selectively reflects light in the blue wavelength region and transmits light in other wavelength regions is provided in the blue pixel part (B). However, the wavelength selective transmission part SRB may not be provided depending on the type and intensity of incident light. For example, when the emission intensity of incident light (blue light) is strong, light in the red wavelength region and / or light in the green wavelength region is selectively transmitted (blue light) as in the embodiment shown in FIG. A second wavelength-selective transmission layer 11 that absorbs the light conversion layer 9A (9) may be provided on the side opposite to the wavelength-selective transmission layer 8B (8) (the side opposite to the backlight unit).
上述した各実施形態(光変換フィルム)では、光変換層9と波長選択性透過層8とが直接接触するように互いに積層されているが、他の実施形態では、光変換層9と波長選択性透過層8とは、その他の層を介して互いに積層されていてもよい。その他の層は、例えば接着層などであってよい。 In each of the above-described embodiments (light conversion films), the light conversion layer 9 and the wavelength selective transmission layer 8 are laminated so as to be in direct contact with each other. However, in other embodiments, the light conversion layer 9 and the wavelength selection layer are stacked. The transparent permeable layer 8 may be laminated with another layer interposed therebetween. The other layer may be, for example, an adhesive layer.
上述した各実施形態(光変換フィルム)では、波長選択性透過層8は、光変換層9の全面にわたって設けられているが、他の実施形態では、波長選択性透過層8は、光変換層9の一部に設けられていてもよい。 In each of the embodiments (light conversion films) described above, the wavelength selective transmission layer 8 is provided over the entire surface of the light conversion layer 9, but in other embodiments, the wavelength selective transmission layer 8 is a light conversion layer. 9 may be provided in a part.
次に、上述した各実施形態における光変換層及び波長選択性透過層について詳説する。 Next, the light conversion layer and the wavelength selective transmission layer in each embodiment described above will be described in detail.
(光変換層)
光変換層の画素部の構成要素は、発光性ナノ結晶粒子を必須成分として含み、樹脂成分、その他必要により当該発光性ナノ結晶に対して親和性のある分子、公知の添加剤、その他色材を含有してもよいものである。また、前記したとおり、各画素部の境界部分にはブラックマトリックスを有することがコントラストの点から好ましい。(Light conversion layer)
The components of the pixel portion of the light conversion layer include luminescent nanocrystal particles as essential components, resin components, other molecules having an affinity for the luminescent nanocrystals as necessary, known additives, and other coloring materials. It may contain. Further, as described above, it is preferable from the viewpoint of contrast that the boundary portion of each pixel portion has a black matrix.
本実施形態に係る光変換層は、発光性ナノ結晶粒子を含有する。本明細書における用語「ナノ結晶粒子」は、好ましくは、100nm以下の少なくとも1つの長さを有する、粒子を指す。ナノ結晶の形状は、任意の幾何学的形状を有してもよく、対称又は不対称であってよい。当該ナノ結晶の形状の具体例としては、細長、ロッド状の形状、円形(球状)、楕円形、角錐の形状、ディスク状、枝状、網状又は任意の不規則な形状等を含む。一部の実施形態では、ナノ結晶は、量子ドット又は量子ロッドであることが好ましい。 The light conversion layer according to the present embodiment contains luminescent nanocrystal particles. As used herein, the term “nanocrystalline particle” preferably refers to a particle having at least one length of 100 nm or less. The shape of the nanocrystals may have any geometric shape and may be symmetric or asymmetric. Specific examples of the shape of the nanocrystal include an elongated shape, a rod shape, a circle shape (spherical shape), an ellipse shape, a pyramid shape, a disk shape, a branch shape, a net shape, or any irregular shape. In some embodiments, the nanocrystals are preferably quantum dots or quantum rods.
当該発光性ナノ結晶粒子は、少なくとも1種の第一の半導体材料を含むコアと、前記コアを被覆し、かつ前記コアと同一又は異なる第二の半導体材料を含むシェルとを有することが好ましい。 The luminescent nanocrystal particle preferably has a core including at least one first semiconductor material and a shell that covers the core and includes a second semiconductor material that is the same as or different from the core.
そのため、発光性ナノ結晶粒子は、少なくとも第一半導体材料を含むコアと、第二半導体材料を含むシェルからなり、前記第一半導体材料と、前記第二半導体材料とは同じでも異なっていても良い。また、コア及び/又はシェル共に第一半導体及び/又は第二半導体以外の第三の半導体材料を含んでも良い。なお、ここでいうコアを被覆とは、コアの少なくとも一部を被覆していればよい。 Therefore, the luminescent nanocrystal particles are composed of at least a core containing the first semiconductor material and a shell containing the second semiconductor material, and the first semiconductor material and the second semiconductor material may be the same or different. . Further, the core and / or the shell may include a third semiconductor material other than the first semiconductor and / or the second semiconductor. In addition, what is necessary is just to coat | cover at least one part of a core with the core covering here.
さらに、当該発光性ナノ結晶粒子は、少なくとも1種の第一の半導体材料を含むコアと、前記コアを被覆し、かつ前記コアと同一又は異なる第二の半導体材料を含む第一のシェルと、必要により、前記第一のシェルを被覆し、かつ前記第一のシェルと同一又は異なる第三の半導体材料を含む第二のシェルと、を有することが好ましい。 Further, the luminescent nanocrystal particle includes a core including at least one first semiconductor material, a first shell that covers the core and includes a second semiconductor material that is the same as or different from the core, If necessary, it is preferable to have a second shell that covers the first shell and includes a third semiconductor material that is the same as or different from the first shell.
したがって、本実施形態に係る発光性ナノ結晶粒子は、第一の半導体材料を含むコア及び前記コアを被覆し、かつ前記コアと同一の第二の半導体材料を含むシェルを有する形態、すなわち1種類又は2種以上の半導体材料から構成される態様(=コアのみの構造(コア構造とも称する))と、第一の半導体材料を含むコア及び前記コアを被覆し、かつ前記コアと異なる第二の半導体材料を含むシェルを有する形態等の、すなわちコア/シェル構造と、第一の半導体材料を含むコア及び前記コアを被覆し、かつ前記コアと異なる第二の半導体材料を含む第一のシェルと、前記第一のシェルを被覆し、かつ前記第一のシェルと異なる第三の半導体材料を含む第二のシェルを有する形態の、すなわちコア/シェル/シェル構造との3つの構造のうち少なくとも一つを有することが好ましい。 Therefore, the luminescent nanocrystal particle according to the present embodiment has a core including a first semiconductor material and a shell that covers the core and includes a second semiconductor material identical to the core, that is, one type. Alternatively, an embodiment composed of two or more kinds of semiconductor materials (= a core-only structure (also referred to as a core structure)), a core containing a first semiconductor material, and a second coating that covers the core and is different from the core A form having a shell including a semiconductor material, ie, a core / shell structure; a core including a first semiconductor material; and a first shell covering the core and including a second semiconductor material different from the core; Of the three structures of the core / shell / shell structure, having a second shell that covers the first shell and includes a third semiconductor material different from the first shell It is preferred to have one even without.
また、本実施形態に係る発光性ナノ結晶粒子は、上記のとおり、コア構造、コア/シェル構造、コア/シェル/シェル構造の3つの形態を含むことが好ましく、この場合、コアは2種以上の半導体材料を含む混晶であってもよい(例えば、CdSe+CdS、CIS+ZnS等)。またさらに、シェルも同様に2種以上の半導体材料を含む混晶であってもよい。 Further, as described above, the luminescent nanocrystal particle according to the present embodiment preferably includes three forms of a core structure, a core / shell structure, and a core / shell / shell structure. In this case, the core has two or more types. It may be a mixed crystal containing any of the above semiconductor materials (for example, CdSe + CdS, CIS + ZnS, etc.). Furthermore, the shell may also be a mixed crystal containing two or more semiconductor materials.
本実施形態に係る半導体材料は、II−VI族半導体、III−V族半導体、I−III−VI族半導体、IV族半導体及びI−II−IV−VI族半導体からなる群から選択される1種又は2種以上であることが好ましい。本実施形態に係る第一の半導体材料、第一の半導体材料及び第三の半導体材料の好ましい例は、上記の半導体材料と同様である。 The semiconductor material according to this embodiment is selected from the group consisting of II-VI group semiconductors, III-V group semiconductors, I-III-VI group semiconductors, IV group semiconductors and I-II-IV-VI group semiconductors. It is preferable that it is a seed | species or 2 or more types. Preferable examples of the first semiconductor material, the first semiconductor material, and the third semiconductor material according to this embodiment are the same as the above-described semiconductor materials.
本実施形態に係る半導体材料は、具体的には、CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、HgS、HgSe、HgTe、CdSeS、CdSeTe、CdSTe、ZnSeS、ZnSeTe、ZnSTe、HgSeS、HgSeTe、HgSTe、CdZnS、CdZnSe、CdZnTe、CdHgS、CdHgSe、CdHgTe、HgZnS、HgZnSe、CdHgZnTe、CdZnSeS、CdZnSeTe、CdZnSTe、CdHgSeS、CdHgSeTe、CdHgSTe、HgZnSeS、HgZnSeTe、HgZnSTe;GaN、GaP、GaAs、GaSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、InN、InP、InAs、InSb、GaNP、GaNAs、GaNSb、GaPAs、GaPSb、AlNP、AlNAs、AlNSb、AlPAs、AlPSb、InNP、InNAs、InNSb、InPAs、InPSb、GaAlNP、GaAlNAs、GaAlNSb、GaAlPAs、GaAlPSb、GaInNP、GaInNAs、GaInNSb、GaInPAs、GaInPSb、InAlNP、InAlNAs、InAlNSb、InAlPAs、InAlPSb;SnS、SnSe、SnTe、PbS、PbSe、PbTe、SnSeS、SnSeTe、SnSTe、PbSeS、PbSeTe、PbSTe、SnPbS、SnPbSe、SnPbTe、SnPbSSe、SnPbSeTe、SnPbSTe;Si、Ge、SiC、SiGe、AgInSe2、CuGaSe2、CuInS2、CuGaS2、CuInSe2、AgInS2、AgGaSe2、AgGaS2、C、Si及びGeからなる群から選択される少なくとも1つ以上選ばれ、これらの化合物半導体は単独で使用されても、又は2つ以上が混合されていても良く、CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnO、HgS、HgSe、HgTe、InP、InAs、InSb、GaP、GaAs、GaSb、AgInS2、AgInSe2、AgInTe2、AgGaS2、AgGaSe2、AgGaTe2、CuInS2、CuInSe2、CuInTe2、CuGaS2、CuGaSe2、CuGaTe2、Si、C、Ge及びCu2ZnSnS4からなる群から選択される少なくとも1つ以上選ばれることがより好ましく、これらの化合物半導体は単独で使用されても、又は2つ以上が混合されていても良い。Specifically, the semiconductor material according to the present embodiment includes CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, ZnO, HgS, HgSe, HgTe, CdSeS, CdSeTe, CdSTe, ZnSeS, ZnSeTe, ZnSTTe, HgSeT, HgSeT, HgSTe, CdZnS, CdZnSe, CdZnTe, CdHgS, CdHgSe, CdHgTe, HgZnS, HgZnSe, CdHgZnTe, CdZnSeS, CdZnSeTe, CdZnSe, CdHgSeS, CdHgSeS, CdHgSeS AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb, GaNP, GANAS, GaNSb, G PAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs, AlPSb, InNP, InNAs, InNSb, InPAs, InPSb, GaAlNP, GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAsIn, GaInPSIn, GaInPSIn InAlPAs, InAlPSb; SnS, SnSe, SnTe, PbS, PbSe, PbTe, SnSeS, SnSeTe, SnSTe, PbSeS, PbSeTe, PbSTe, SnPbS, SnPbSe, SnPbTe, Sn; CuGaSe2, CuInS , CuGaS2, CuInSe2, AgInS2, AgGaSe2, AgGaS2, C, Si, and Ge, at least one selected from the group consisting of these, and these compound semiconductors may be used alone or in combination of two or more At best, CdS, CdSe, CdTe, ZnS , ZnSe, ZnTe, ZnO, HgS, HgSe, HgTe, InP, InAs, InSb, GaP, GaAs, GaSb, AgInS 2, AgInSe 2, AgInTe 2, AgGaS 2, AgGaSe 2 And at least one selected from the group consisting of AgGaTe 2 , CuInS 2 , CuInSe 2 , CuInTe 2 , CuGaS 2 , CuGaSe 2 , CuGaTe 2 , Si, C, Ge, and Cu 2 ZnSnS 4. Preferably, these compound semiconductors may be used alone or in combination of two or more.
本実施形態に係る発光性ナノ結晶粒子は、赤色光を発光する赤色発光性ナノ結晶粒子、緑色光を発光する緑色発光性ナノ結晶粒子及び青色光を発光する青色発光性ナノ結晶粒子からなる群から選択される少なくとも1種のナノ結晶を含むことが好ましい。一般に、発光性ナノ結晶粒子の発光色は、井戸型ポテンシャルモデルのシュレディンガー波動方程式の解によれば粒子径に依存するが、発光性ナノ結晶粒子が有するエネルギーギャップにも依存するため、使用する発光性ナノ結晶粒子とその粒子径を調整することにより、発光色を選択する。 The luminescent nanocrystal particles according to the present embodiment are a group consisting of red luminescent nanocrystal particles that emit red light, green luminescent nanocrystal particles that emit green light, and blue luminescent nanocrystal particles that emit blue light. It is preferable to include at least one nanocrystal selected from: In general, the luminescent color of luminescent nanocrystal particles depends on the particle size according to the Schrodinger wave equation of the well-type potential model, but also depends on the energy gap of the luminescent nanocrystal particles, so the luminescence used. The luminescent color is selected by adjusting the conductive nanocrystal particles and the particle diameter thereof.
本実施形態において赤色光を発光する赤色発光性ナノ結晶粒子の蛍光スペクトルの波長ピークの上限は、665nm、663nm、660nm、658nm、655nm、653nm、651nm、650nm、647nm、645nm、643nm、640nm、637nm、635nm、632nm又は630nmであることが好ましく、前記波長ピークの下限は、628nm、625nm、623nm、620nm、615nm、610nm、607nm又は605nmであることが好ましい。 In this embodiment, the upper limit of the wavelength peak of the fluorescence spectrum of the red light emitting nanocrystal particles emitting red light is 665 nm, 663 nm, 660 nm, 658 nm, 655 nm, 653 nm, 651 nm, 650 nm, 647 nm, 645 nm, 643 nm, 640 nm, 637 nm. 635 nm, 632 nm, or 630 nm, and the lower limit of the wavelength peak is preferably 628 nm, 625 nm, 623 nm, 620 nm, 615 nm, 610 nm, 607 nm, or 605 nm.
本実施形態において緑色光を発光する緑色発光性ナノ結晶粒子の蛍光スペクトルの波長ピークの上限は、560nm、557nm、555nm、550nm、547nm、545nm、543nm、540nm、537nm、535nm、532nm又は530nmであることが好ましく、前記波長ピークの下限は、528nm、525nm、523nm、520nm、515nm、510nm、507nm、505nm、503nm又は500nmであることが好ましい。 In this embodiment, the upper limit of the wavelength peak of the fluorescence spectrum of green-emitting nanocrystal particles emitting green light is 560 nm, 557 nm, 555 nm, 550 nm, 547 nm, 545 nm, 543 nm, 540 nm, 537 nm, 535 nm, 532 nm or 530 nm. The lower limit of the wavelength peak is preferably 528 nm, 525 nm, 523 nm, 520 nm, 515 nm, 510 nm, 507 nm, 505 nm, 503 nm or 500 nm.
本実施形態において青色光を発光する青色発光性ナノ結晶粒子の蛍光スペクトルの波長ピークの上限は、480nm、477nm、475nm、470nm、467nm、465nm、463nm、460nm、457nm、455nm、452nm又は450nmであることが好ましく、前記波長ピークの下限は、450nm、445nm、440nm、435nm、430nm、428nm、425nm、422nm又は420nmであることが好ましい。 In this embodiment, the upper limit of the wavelength peak of the fluorescence spectrum of the blue light-emitting nanocrystal particles that emit blue light is 480 nm, 477 nm, 475 nm, 470 nm, 467 nm, 465 nm, 463 nm, 460 nm, 457 nm, 455 nm, 452 nm, or 450 nm. The lower limit of the wavelength peak is preferably 450 nm, 445 nm, 440 nm, 435 nm, 430 nm, 428 nm, 425 nm, 422 nm, or 420 nm.
本実施形態において赤色光を発光する赤色発光性ナノ結晶粒子に使用される半導体材料は、発光のピーク波長が635nm±30nmの範囲に入っている事が望ましい。同じく、緑色光を発光する緑色発光性ナノ結晶粒子に使用される半導体材料は、発光のピーク波長が530nm±30nmの範囲に入っている事が望ましく、青色光を発光する青色発光性ナノ結晶粒子に使用される半導体材料は、発光のピーク波長が450nm±30nmの範囲に入っている事が望ましい。 In the present embodiment, it is desirable that the semiconductor material used for the red light-emitting nanocrystal particles emitting red light has a peak wavelength of light emission in the range of 635 nm ± 30 nm. Similarly, the semiconductor material used for the green light-emitting nanocrystal particles that emit green light preferably has a peak emission wavelength in the range of 530 nm ± 30 nm, and the blue light-emitting nanocrystal particles that emit blue light It is desirable that the semiconductor material used in the above has a peak wavelength of light emission in the range of 450 nm ± 30 nm.
本実施形態に係る発光性ナノ結晶粒子の蛍光量子収率の下限値は、40%以上、30%以上、20%以上、10%以上の順で好ましい。 The lower limit of the fluorescence quantum yield of the luminescent nanocrystal particles according to the present embodiment is preferable in the order of 40% or more, 30% or more, 20% or more, and 10% or more.
本実施形態に係る発光性ナノ結晶粒子の蛍光スペクトルの半値幅の上限値は、60nm以下、55nm以下、50nm以下、45nm以下の順で好ましい。 The upper limit of the full width at half maximum of the fluorescence spectrum of the luminescent nanocrystal particles according to this embodiment is preferable in the order of 60 nm or less, 55 nm or less, 50 nm or less, and 45 nm or less.
本実施形態に係る赤色発光性ナノ結晶粒子の粒子径(1次粒子)の上限値は、50nm以下、40nm以下、30nm以下、20nm以下の順で好ましい。 The upper limit value of the particle diameter (primary particle) of the red light-emitting nanocrystal particles according to the present embodiment is preferable in the order of 50 nm or less, 40 nm or less, 30 nm or less, and 20 nm or less.
本実施形態に係る赤色発光性ナノ結晶粒子のピーク波長の上限値は665nm、下限値は605nmであり、このピーク波長に合う様に化合物及びその粒径を選択する。同じく、緑色発光性ナノ結晶粒子のピーク波長の上限値は560nm、下限値は500nm、青色発光性ナノ結晶粒子のピーク波長の上限値は420nm、下限値は480nmであり、それぞれこのピーク波長に合う様に化合物及びその粒径を選択する。 The upper limit value of the peak wavelength of the red light-emitting nanocrystal particles according to this embodiment is 665 nm, and the lower limit value is 605 nm. The compound and the particle size thereof are selected so as to match this peak wavelength. Similarly, the upper limit value of the peak wavelength of the green light-emitting nanocrystal particles is 560 nm, the lower limit value is 500 nm, the upper limit value of the peak wavelength of the blue light-emitting nanocrystal particles is 420 nm, and the lower limit value is 480 nm. Similarly, the compound and its particle size are selected.
本実施形態に係る液晶表示素子は、少なくとも1つの画素を備える。当該画素を構成する色は、近接する3つの画素により得られ、各画素は、赤色(例えば、CdSeの発光性ナノ結晶粒子、CdSeのロッド状発光性ナノ結晶粒子、コアシェル構造を備えたロッド状発光性ナノ結晶粒子であり、当該シェル部分がCdSであって内側のコア部がCdSe、コアシェル構造を備えたロッド状発光性ナノ結晶粒子であり、当該シェル部分がCdSであって内側のコア部がZnSe、コアシェル構造を備えた発光性ナノ結晶粒子であり、当該シェル部分がCdSであって内側のコア部がCdSe、コアシェル構造を備えた発光性ナノ結晶粒子であり、当該シェル部分がCdSであって内側のコア部がZnSe、CdSeとZnSとの混晶の発光性ナノ結晶粒子、CdSeとZnSとの混晶のロッド状発光性ナノ結晶粒子、InPの発光性ナノ結晶粒子、InPの発光性ナノ結晶粒子、InPのロッド状発光性ナノ結晶粒子、CdSeとCdSとの混晶の発光性ナノ結晶粒子、CdSeとCdSとの混晶のロッド状発光性ナノ結晶粒子、ZnSeとCdSとの混晶の発光性ナノ結晶粒子、ZnSeとCdSとの混晶のロッド状発光性ナノ結晶粒子など)、緑色(CdSeの発光性ナノ結晶粒子、CdSeのロッド状の発光性ナノ結晶粒子、CdSeとZnSとの混晶の発光性ナノ結晶粒子、CdSeとZnSとの混晶のロッド状発光性ナノ結晶粒子など)及び青色(ZnSeの発光性ナノ結晶粒子、ZnSeのロッド状発光性ナノ結晶粒子、ZnSの発光性ナノ結晶粒子、ZnSのロッド状発光性ナノ結晶粒子、コアシェル構造を備えた発光性ナノ結晶粒子であり、当該シェル部分がZnSeであって内側のコア部がZnS、コアシェル構造を備えたロッド状発光性ナノ結晶粒子であり、当該シェル部分がZnSeであって内側のコア部がZnS、CdSの発光性ナノ結晶粒子、CdSのロッド状発光性ナノ結晶粒子)で発光する異なるナノ結晶を含む。他の色(例えば、黄色)についても、必要に応じて光変換層に含有してもよく、さらには近接する4画素以上の異なる色を使用してもよい。 The liquid crystal display element according to this embodiment includes at least one pixel. The color constituting the pixel is obtained by three adjacent pixels, and each pixel is red (for example, a CdSe luminescent nanocrystal particle, a CdSe rod-shaped luminescent nanocrystal particle, a rod-like shape having a core-shell structure) It is a luminescent nanocrystal particle, the shell part is CdS, the inner core part is CdSe, and is a rod-like luminescent nanocrystal particle having a core-shell structure, the shell part is CdS, and the inner core part Is a luminescent nanocrystal particle having ZnSe and a core-shell structure, the shell portion is CdS, the inner core portion is CdSe, and the luminescent nanocrystal particle having a core-shell structure, and the shell portion is CdS. The inner core portion is ZnSe, a mixed crystal luminescent nanocrystal particle of CdSe and ZnS, and a mixed crystal rod-shaped luminescent nanocrystal of CdSe and ZnS. Luminescent nanocrystalline particles of InP, luminescent nanocrystalline particles of InP, rod-shaped luminescent nanocrystalline particles of InP, luminescent nanocrystalline particles of mixed crystals of CdSe and CdS, mixed crystals of CdSe and CdS Rod-shaped luminescent nanocrystal particles, ZnSe and CdS mixed crystal luminescent nanocrystal particles, ZnSe and CdS mixed crystal rod-shaped luminescent nanocrystal particles, etc.), green (CdSe luminescent nanocrystal particles, CdSe rod-shaped luminescent nanocrystal particles, CdSe and ZnS mixed crystal luminescent nanocrystal particles, CdSe and ZnS mixed crystal rod-shaped luminescent nanocrystal particles, etc.) and blue (ZnSe luminescent nanocrystal particles) Crystal particle, ZnSe rod-like luminescent nanocrystal particle, ZnS luminescent nanocrystal particle, ZnS rod-like luminescent nanocrystal particle, luminescent nanocrystal particle with core-shell structure Yes, the shell portion is ZnSe, the inner core portion is ZnS, and rod-like light-emitting nanocrystal particles having a core-shell structure. The shell portion is ZnSe and the inner core portion is ZnS, CdS light emission. Nanocrystal particles, rod-like light-emitting nanocrystal particles of CdS). Other colors (for example, yellow) may be contained in the light conversion layer as necessary, and different colors of four or more adjacent pixels may be used.
本明細書における本実施形態に係る発光性ナノ結晶粒子の平均粒子径(1次粒子)はTEM観察によって測定できる。一般的に、ナノ結晶の平均粒子径の測定方法としては、光散乱法、溶媒を用いた沈降式粒度測定法、電子顕微鏡により粒子を直接観察して平均粒子径を実測する方法が挙げられる。発光性ナノ結晶粒子は水分などにより劣化しやすいため、本実施形態では、透過型電子顕微鏡(TEM)又は走査型電子顕微鏡(SEM)により任意の複数個の結晶を直接観察し、投影二次元映像よる長短径比からそれぞれの粒子径を算出し、その平均を求める方法が好適である。そのため、本実施形態では上記方法を適用して平均粒子径を算出している。発光性ナノ結晶粒子の1次粒子とは、構成する数〜数十nmの大きさの単結晶又はそれに近い結晶子のことであり、発光性ナノ結晶粒子の一次粒子の大きさや形は、当該一次粒子の化学組成、構造、製造方法や製造条件などによって依存すると考えられる。 The average particle diameter (primary particles) of the luminescent nanocrystal particles according to this embodiment in the present specification can be measured by TEM observation. In general, examples of the method for measuring the average particle size of nanocrystals include a light scattering method, a sedimentation type particle size measurement method using a solvent, and a method of actually observing particles with an electron microscope and measuring the average particle size. Since the luminescent nanocrystal particles are easily deteriorated by moisture or the like, in this embodiment, a plurality of crystals are directly observed with a transmission electron microscope (TEM) or a scanning electron microscope (SEM), and a projection two-dimensional image is displayed. Therefore, a method of calculating the particle diameter from the long / short diameter ratio and obtaining the average is preferable. Therefore, in the present embodiment, the average particle diameter is calculated by applying the above method. The primary particle of the luminescent nanocrystal particle is a single crystal having a size of several to several tens of nm or a crystallite close thereto, and the size and shape of the primary particle of the luminescent nanocrystal particle are It is considered to depend on the chemical composition, structure, production method, production conditions, etc. of the primary particles.
本実施形態に係る光変換層において、発光性ナノ結晶粒子は、分散安定性の観点から、その表面に有機リガンドを有することが好ましい。有機リガンドは、例えば、発光性ナノ結晶粒子の表面に配位結合されていてよい。換言すれば、発光性ナノ結晶粒子の表面は、有機リガンドによってパッシベーションされていてよい。また、発光性ナノ結晶粒子は、その表面に高分子分散剤を有していてもよい。一実施形態では、例えば、上述の有機リガンドを有する発光性ナノ結晶粒子から有機リガンドを除去し、有機リガンドと高分子分散剤とを交換することで発光性ナノ結晶粒子の表面に高分子分散剤を結合させてよい。ただし、インクジェットインクにした際の分散安定性の観点では、有機リガンドが配位したままの発光性ナノ結晶粒子に対して高分子分散剤が配合されることが好ましい。 In the light conversion layer according to this embodiment, the luminescent nanocrystal particles preferably have an organic ligand on the surface thereof from the viewpoint of dispersion stability. The organic ligand may be coordinated to the surface of the luminescent nanocrystal particle, for example. In other words, the surface of the luminescent nanocrystal particle may be passivated by the organic ligand. Moreover, the luminescent nanocrystal particle | grains may have a polymer dispersing agent on the surface. In one embodiment, for example, the organic dispersant is removed from the luminescent nanocrystal particles having the above-described organic ligand, and the organic dispersant and the polymer dispersant are exchanged, whereby the polymer dispersant is formed on the surface of the luminescent nanocrystal particle. May be combined. However, from the viewpoint of dispersion stability when an inkjet ink is used, it is preferable that a polymer dispersant is added to the luminescent nanocrystal particles in which the organic ligand is coordinated.
有機リガンドとしては、発光性ナノ結晶粒子に対して親和性のある官能基を有する低分子及び高分子であり、親和性のある官能基としては特に限定されるものでは無いが、窒素、酸素、硫黄及びリンからなる群から選択される1種の元素を含む基である事が好ましい。例えば、有機系硫黄基、有機系リン酸基ピロリドン基、ピリジン基、アミノ基、アミド基、イソシアネート基、カルボニル基、及び水酸基等を挙げることができる。例えば、TOP(トリオクチルフォスフィン)、TOPO(トリオクチルフォスフィンオキサイド)、オレイン酸、オレイルアミン、オクチルアミン、トリオクチルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタンチオール、ドデカンチオール、ヘキシルホスホン酸(HPA)、テトラデシルホスホン酸(TDPA)、及びオクチルホスフィン酸(OPA)が挙げられる。 Examples of the organic ligand include low molecules and polymers having a functional group having affinity for the luminescent nanocrystal particles, and the functional group having affinity is not particularly limited, but nitrogen, oxygen, A group containing one element selected from the group consisting of sulfur and phosphorus is preferable. Examples thereof include an organic sulfur group, an organic phosphate group pyrrolidone group, a pyridine group, an amino group, an amide group, an isocyanate group, a carbonyl group, and a hydroxyl group. For example, TOP (trioctylphosphine), TOPO (trioctylphosphine oxide), oleic acid, oleylamine, octylamine, trioctylamine, hexadecylamine, octanethiol, dodecanethiol, hexylphosphonic acid (HPA), tetradecyl Examples include phosphonic acid (TDPA) and octylphosphinic acid (OPA).
発光性ナノ結晶粒子としては、有機溶剤の中にコロイド形態で分散しているものを用いることができる。有機溶剤中で分散状態にある発光性ナノ結晶粒子の表面は、上述の有機リガンドによってパッシベーションされていることが好ましい。有機溶剤としては、例えば、シクロヘキサン、ヘキサン、ヘプタン、クロロホルム、トルエン、オクタン、クロロベンゼン、テトラリン、ジフェニルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ブチルカルビトールアセテート、又はそれらの混合物が挙げられる。 As the luminescent nanocrystal particles, those dispersed in a colloidal form in an organic solvent can be used. It is preferable that the surface of the luminescent nanocrystal particles dispersed in the organic solvent is passivated by the above-described organic ligand. Examples of the organic solvent include cyclohexane, hexane, heptane, chloroform, toluene, octane, chlorobenzene, tetralin, diphenyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, butyl carbitol acetate, or a mixture thereof.
本実施形態に係る光変換層(又は当該光変換層の調製用インク組成物)は、高分子分散剤を含有させることが好ましい。高分子分散剤は、光散乱性粒子をインク中に均一分散させることができる。 The light conversion layer (or the ink composition for preparing the light conversion layer) according to this embodiment preferably contains a polymer dispersant. The polymer dispersant can uniformly disperse the light scattering particles in the ink.
本実施形態における光変換層は、上記で示した発光性ナノ結晶粒子に加え、該発光性ナノ結晶粒子を適度分散安定化させる高分子分散剤を含むことが好ましい。 The light conversion layer in the present embodiment preferably contains a polymer dispersant that moderately stabilizes the luminescent nanocrystal particles in addition to the luminescent nanocrystal particles described above.
本実施形態において、高分子分散剤は、750以上の重量平均分子量を有し、かつ、光散乱性粒子に対し親和性を有する官能基を有する高分子化合物であり、光散乱性粒子を分散させる機能を有する。高分子分散剤は、光散乱性粒子に対し親和性を有する官能基を介して高分子分散剤が光散乱性粒子に吸着し、高分子分散剤同士の静電反発及び/又は立体反発により、光散乱性粒子がインク組成物中に分散される。高分子分散剤は、光散乱性粒子の表面と結合して光散乱性粒子に吸着していることが好ましいが、発光性ナノ結晶粒子の表面に結合して発光性ナノ粒子に吸着していてもよく、インク組成物中に遊離していてもよい。 In this embodiment, the polymer dispersant is a polymer compound having a weight average molecular weight of 750 or more and having a functional group having an affinity for the light scattering particles, and disperses the light scattering particles. It has a function. The polymer dispersant is adsorbed to the light-scattering particles through a functional group having an affinity for the light-scattering particles, and electrostatic and / or steric repulsion between the polymer dispersants. Light scattering particles are dispersed in the ink composition. The polymer dispersant is preferably bonded to the surface of the light-scattering particle and adsorbed to the light-scattering particle, but is bonded to the surface of the light-emitting nanocrystal particle and adsorbed to the light-emitting nanoparticle. It may be free in the ink composition.
光散乱性粒子に対し親和性を有する官能基としては、酸性官能基、塩基性官能基及び非イオン性官能基が挙げられる。酸性官能基は解離性のプロトンを有しており、アミン、水酸化物イオン等の塩基により中和されていてもよく、塩基性官能基は有機酸、無機酸等の酸により中和されていてもよい。 Examples of the functional group having an affinity for the light-scattering particles include an acidic functional group, a basic functional group, and a nonionic functional group. The acidic functional group has a dissociable proton and may be neutralized with a base such as amine or hydroxide ion, and the basic functional group is neutralized with an acid such as organic acid or inorganic acid. May be.
酸性官能基としては、カルボキシル基(−COOH)、スルホ基(−SO3H)、硫酸基(−OSO3H)、ホスホン酸基(−PO(OH)3)、リン酸基(−OPO(OH)3)、ホスフィン酸基(−PO(OH)−)、メルカプト基(−SH)、が挙げられる。Examples of the acidic functional group include a carboxyl group (—COOH), a sulfo group (—SO 3 H), a sulfuric acid group (—OSO 3 H), a phosphonic acid group (—PO (OH) 3 ), and a phosphoric acid group (—OPO ( OH) 3 ), a phosphinic acid group (—PO (OH) —), and a mercapto group (—SH).
塩基性官能基としては、一級、二級及び三級アミノ基、アンモニウム基、イミノ基、並びに、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、イミダゾール、トリアゾール等の含窒素ヘテロ環基等が挙げられる。 Examples of basic functional groups include primary, secondary and tertiary amino groups, ammonium groups, imino groups, and nitrogen-containing heterocyclic groups such as pyridine, pyrimidine, pyrazine, imidazole and triazole.
非イオン性官能基としては、ヒドロキシ基、エーテル基、チオエーテル基、スルフィニル基(−SO−)、スルホニル基(−SO2−)、カルボニル基、ホルミル基、エステル基、炭酸エステル基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、チオアミド基、チオウレイド基、スルファモイル基、シアノ基、アルケニル基、アルキニル基、ホスフィンオキシド基、ホスフィンスルフィド基が挙げられる。Nonionic functional groups include hydroxy groups, ether groups, thioether groups, sulfinyl groups (—SO—), sulfonyl groups (—SO 2 —), carbonyl groups, formyl groups, ester groups, carbonate groups, amide groups, Examples thereof include a carbamoyl group, a ureido group, a thioamide group, a thioureido group, a sulfamoyl group, a cyano group, an alkenyl group, an alkynyl group, a phosphine oxide group, and a phosphine sulfide group.
光散乱性粒子の分散安定性の観点、発光性ナノ結晶粒子が沈降するという副作用を起こしにくい観点、高分子分散剤の合成の容易性の観点、及び官能基の安定性の観点から、酸性官能基としては、カルボキシル基、スルホ基、ホスホン酸基及びリン酸基が好ましく用いられ、塩基性官能基としては、アミノ基が好ましく用いられる。これらの中でも、カルボキシル基、ホスホン酸基及びアミノ基がより好ましく用いられ、最も好ましくはアミノ基が用いられる。 From the viewpoint of dispersion stability of light-scattering particles, from the viewpoint of hardly causing the side effect that the luminescent nanocrystal particles settle, from the viewpoint of ease of synthesis of the polymer dispersant, and from the viewpoint of stability of the functional group, acidic functional As the group, a carboxyl group, a sulfo group, a phosphonic acid group, and a phosphoric acid group are preferably used, and as the basic functional group, an amino group is preferably used. Among these, a carboxyl group, a phosphonic acid group, and an amino group are more preferably used, and most preferably an amino group is used.
酸性官能基を有する高分子分散剤は酸価を有する。酸性官能基を有する高分子分散剤の酸価は、好ましくは、固形分換算で、1〜150mgKOH/gである。酸価が1以上であると、光散乱性粒子の充分な分散性が得られやすく、酸価が150以下であると、画素部(インク組成物の硬化物)の保存安定性が低下しにくい。 The polymer dispersant having an acidic functional group has an acid value. The acid value of the polymer dispersant having an acidic functional group is preferably 1 to 150 mgKOH / g in terms of solid content. When the acid value is 1 or more, sufficient dispersibility of the light-scattering particles can be easily obtained, and when the acid value is 150 or less, the storage stability of the pixel portion (cured product of the ink composition) is hardly lowered. .
また、塩基性官能基を有する高分子分散剤はアミン価を有する。塩基性官能基を有する高分子分散剤のアミン価は、好ましくは、固形分換算で、1〜200mgKOH/gである。アミン価が1以上であると、光散乱性粒子の充分な分散性が得られやすく、アミン価が200以下であると、画素部(インク組成物の硬化物)の保存安定性が低下しにくい。 In addition, the polymer dispersant having a basic functional group has an amine value. The amine value of the polymer dispersant having a basic functional group is preferably 1 to 200 mgKOH / g in terms of solid content. When the amine value is 1 or more, sufficient dispersibility of the light-scattering particles can be easily obtained, and when the amine value is 200 or less, the storage stability of the pixel portion (cured product of the ink composition) is hardly lowered. .
高分子分散剤は、単一のモノマーの重合体(ホモポリマー)であってよく、複数種のモノマーの共重合体(コポリマー)であってもよい。また、高分子分散剤は、ランダム共重合体、ブロック共重合体又はグラフト共重合体のいずれであってもよい。また、高分子分散剤がグラフト共重合体である場合、くし形のグラフト共重合体であってよく、星形のグラフト共重合体であってもよい。高分子分散剤は、例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレア樹脂、アミノ樹脂、ポリエチレンイミン及びポリアリルアミン等のポリアミン、エポキシ樹脂、ポリイミドなどであってよい。 The polymer dispersant may be a polymer (homopolymer) of a single monomer, or may be a copolymer (copolymer) of a plurality of types of monomers. The polymer dispersant may be any of a random copolymer, a block copolymer, or a graft copolymer. When the polymer dispersant is a graft copolymer, it may be a comb-shaped graft copolymer or a star-shaped graft copolymer. Polymer dispersants include, for example, acrylic resins, polyester resins, polyurethane resins, polyamide resins, polyethers, phenol resins, silicone resins, polyurea resins, amino resins, polyethylamines and other polyamines, epoxy resins, polyimides, etc. It may be.
前記高分子分散剤として、市販品を使用することも可能であり、市販品としては、味の素ファインテクノ株式会社のアジスパーPBシリーズ、BYK社製のDISPERBYKシリーズ並びにBYK−シリーズ、BASF社製のEfkaシリーズ等を使用することができる。 Commercially available products can also be used as the polymer dispersant, and examples of commercially available products include Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd. Ajisper PB series, BYK's DISPERBYK series and BYK- series, BASF's Efka series. Etc. can be used.
本実施形態に係る光変換層(又は当該光変換層の調製用インク組成物)は、硬化物中においてバインダーとして機能する樹脂成分を含むことが好ましい。本実施形態に係る樹脂成分は、硬化性樹脂が好ましく、当該硬化性樹脂としては、熱硬化性樹脂又はUV硬化性樹脂が好ましい。 The light conversion layer (or the ink composition for preparing the light conversion layer) according to this embodiment preferably contains a resin component that functions as a binder in the cured product. The resin component according to the present embodiment is preferably a curable resin, and the curable resin is preferably a thermosetting resin or a UV curable resin.
当該熱硬化性樹脂としては、硬化性基を有し、当該硬化性基としては、エポキシ基、オキセタン基、イソシアネート基、アミノ基、カルボキシル基、メチロール基等が挙げられ、インク組成物の硬化物の耐熱性及び保存安定性に優れる観点、及び、遮光部(例えばブラックマトリックス)及び基材への密着性に優れる観点から、エポキシ基が好ましい。熱硬化性樹脂は、1種の硬化性基を有していてもよく、二種以上の硬化性基を有していてもよい。 The thermosetting resin has a curable group, and examples of the curable group include an epoxy group, an oxetane group, an isocyanate group, an amino group, a carboxyl group, and a methylol group. From the viewpoint of excellent heat resistance and storage stability, and from the viewpoint of excellent adhesion to a light shielding part (for example, a black matrix) and a substrate, an epoxy group is preferable. The thermosetting resin may have one type of curable group or may have two or more types of curable groups.
熱硬化性樹脂は、単一のモノマーの重合体(ホモポリマー)であってよく、複数種のモノマーの共重合体(コポリマー)であってもよい。また、熱硬化性樹脂は、ランダム共重合体、ブロック共重合体又はグラフト共重合体のいずれであってもよい。 The thermosetting resin may be a polymer (homopolymer) of a single monomer, or may be a copolymer (copolymer) of a plurality of types of monomers. Further, the thermosetting resin may be any of a random copolymer, a block copolymer, or a graft copolymer.
熱硬化性樹脂としては、1分子中に熱硬化性官能基を2個以上有する化合物が用いられ、通常、硬化剤と組み合わせて用いられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、熱硬化反応を促進できる触媒(硬化促進剤)を更に添加してもよい。言い換えれば、インク組成物は、熱硬化性樹脂(並びに、必要に応じて用いられる硬化剤及び硬化促進剤)を含む熱硬化性成分を含有していてよい。また、これらに加えて、それ自体は重合反応性のない重合体を更に用いてもよい。 As the thermosetting resin, a compound having two or more thermosetting functional groups in one molecule is used, and it is usually used in combination with a curing agent. When using a thermosetting resin, you may further add the catalyst (curing accelerator) which can accelerate | stimulate a thermosetting reaction. In other words, the ink composition may contain a thermosetting component including a thermosetting resin (and a curing agent and a curing accelerator used as necessary). In addition to these, a polymer having no polymerization reactivity per se may be further used.
1分子中に熱硬化性官能基を2個以上有する化合物として、例えば、1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂(以下、「多官能エポキシ樹脂」ともいう。)を用いてよい。「エポキシ樹脂」には、モノマー性エポキシ樹脂及びポリマー性エポキシ樹脂の両方が含まれる。多官能性エポキシ樹脂が1分子中に有するエポキシ基の数は、好ましくは2〜50個であり、より好ましくは2〜20個である。エポキシ基は、オキシラン環構造を有する構造であればよく、例えば、グリシジル基、オキシエチレン基、エポキシシクロヘキシル基等であってよい。エポキシ樹脂としては、カルボン酸により硬化しうる公知の多価エポキシ樹脂を挙げることができる。このようなエポキシ樹脂は、例えば、新保正樹編「エポキシ樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社刊(昭和62年)等に広く開示されており、これらを用いることが可能である。 As a compound having two or more thermosetting functional groups in one molecule, for example, an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule (hereinafter also referred to as “polyfunctional epoxy resin”) may be used. “Epoxy resin” includes both monomeric epoxy resins and polymeric epoxy resins. The number of epoxy groups contained in one molecule of the polyfunctional epoxy resin is preferably 2 to 50, and more preferably 2 to 20. The epoxy group may be a structure having an oxirane ring structure, and may be a glycidyl group, an oxyethylene group, an epoxycyclohexyl group, or the like. As an epoxy resin, the well-known polyvalent epoxy resin which can be hardened | cured with carboxylic acid can be mentioned. Such epoxy resins are widely disclosed in, for example, published by Masaki Shinbo, “Epoxy Resin Handbook” published by Nikkan Kogyo Shimbun (1987), and these can be used.
熱硬化性樹脂として、比較的分子量が小さい多官能エポキシ樹脂を用いると、インク組成物(インクジェットインク)中にエポキシ基が補充されてエポキシの反応点濃度が高濃度となり、架橋密度を高めることができる。 When a polyfunctional epoxy resin having a relatively low molecular weight is used as the thermosetting resin, the epoxy group is replenished in the ink composition (inkjet ink) to increase the concentration of epoxy reactive sites and increase the crosslinking density. it can.
熱硬化性樹脂を硬化させるために用いられる硬化剤及び硬化促進剤としては、上記した有機溶剤に溶解又は分散し得る公知慣用のものをいずれも用いることができる。 As the curing agent and curing accelerator used for curing the thermosetting resin, any known and commonly used one that can be dissolved or dispersed in the organic solvent described above can be used.
熱硬化性樹脂は、信頼性に優れるカラーフィルタ画素部が得られやすい観点から、アルカリ不溶性であってよい。熱硬化性樹脂がアルカリ不溶性であるとは、1質量%の水酸化カリウム水溶液に対する25℃における熱硬化性樹脂の溶解量が、熱硬化性樹脂の全質量を基準として、30質量%以下であることを意味する。熱硬化性樹脂の上記溶解量は、好ましくは、10質量%以下であり、より好ましくは3質量%以下である。 The thermosetting resin may be insoluble in alkali from the viewpoint of easily obtaining a color filter pixel portion having excellent reliability. The thermosetting resin is alkali-insoluble means that the amount of the thermosetting resin dissolved in a 1% by mass potassium hydroxide aqueous solution at 25 ° C. is 30% by mass or less based on the total mass of the thermosetting resin. Means that. The dissolution amount of the thermosetting resin is preferably 10% by mass or less, and more preferably 3% by mass or less.
熱硬化性樹脂の重量平均分子量は、インクジェットインクとして適正な粘度が得られやすい観点、インク組成物の硬化性が良好となる観点、並びに、画素部(インク組成物の硬化物)の耐溶剤性及び磨耗性が向上する観点から、750以上であってよく、1000以上であってもよく、2000以上であってよい。インクジェットインクとしての適正な粘度とする観点から、500000以下であってよく、300000以下であってもよく、200000以下であってもよい。ただし、架橋後の分子量に関してはこの限りでない。 The weight-average molecular weight of the thermosetting resin is such that an appropriate viscosity is easily obtained as an ink-jet ink, the ink composition has good curability, and the solvent resistance of the pixel portion (cured product of the ink composition). From the viewpoint of improving the wear resistance, it may be 750 or more, 1000 or more, or 2000 or more. From the viewpoint of obtaining an appropriate viscosity as an inkjet ink, it may be 500000 or less, 300000 or less, or 200000 or less. However, the molecular weight after crosslinking is not limited to this.
熱硬化性樹脂の含有量は、インクジェットインクとして適正な粘度が得られやすい観点、インク組成物の硬化性が良好となる観点、並びに、画素部(インク組成物の硬化物)の耐溶剤性及び磨耗性が向上する観点から、インク組成物の不揮発分の質量を基準として、10質量%以上であってよく、15質量%以上であってもよく、20質量%以上であってもよい。熱硬化性樹脂の含有量は、画素部の厚さが光変換機能に対して厚くなりすぎない観点から、インク組成物の不揮発分の質量を基準として、90質量%以下であってよく、80質量%以下であってもよく、70質量%以下であってもよく、60質量%以下であってもよく、50質量%以下であってもよい。 The content of the thermosetting resin is the viewpoint that an appropriate viscosity is easily obtained as an inkjet ink, the viewpoint that the curability of the ink composition is good, and the solvent resistance of the pixel portion (cured product of the ink composition). From the viewpoint of improving the wear resistance, it may be 10% by mass or more, 15% by mass or more, or 20% by mass or more, based on the mass of the nonvolatile content of the ink composition. The content of the thermosetting resin may be 90% by mass or less based on the mass of the nonvolatile content of the ink composition from the viewpoint that the thickness of the pixel portion does not become too thick for the light conversion function. It may be not more than mass%, may be not more than 70 mass%, may be not more than 60 mass%, and may be not more than 50 mass%.
上記UV硬化性樹脂は、光の照射によって重合する、光ラジカル重合性化合物又は光カチオン重合性化合物を重合した樹脂であることが好ましく、光重合性のモノマー又はオリゴマーであってよい。これらは、光重合開始剤と共に用いられる。光ラジカル重合性化合物は光ラジカル重合開始剤と共に用いられ、光カチオン重合性化合物は光カチオン重合開始剤と共に用いられることが好ましい。言い換えれば、本実施形態に係る光変換層用のインク組成物は、光重合性化合物及び光重合開始剤を含む光重合性成分を含有していてよく、光ラジカル重合性化合物及び光ラジカル重合開始剤を含む光ラジカル重合性成分を含有していてもよく、光カチオン重合性化合物及び光カチオン重合開始剤を含む光カチオン重合性成分を含有していてもよい。光ラジカル重合性化合物と光カチオン重合性化合物とを併用してもよく、光ラジカル重合性と光カチオン重合性を具備した化合物を用いてもよく、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤とを併用してもよい。光重合性化合物は一種を単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。 The UV curable resin is preferably a resin obtained by polymerizing a photo radical polymerizable compound or a photo cationic polymerizable compound that is polymerized by light irradiation, and may be a photo polymerizable monomer or oligomer. These are used together with a photopolymerization initiator. The photoradical polymerizable compound is preferably used with a photoradical polymerization initiator, and the photocationic polymerizable compound is preferably used with a photocationic polymerization initiator. In other words, the ink composition for the light conversion layer according to this embodiment may contain a photopolymerizable component including a photopolymerizable compound and a photopolymerization initiator, and the photoradical polymerizable compound and the photoradical polymerization start. A photo radical polymerizable component containing an agent may be contained, and a photo cation polymerizable component containing a photo cation polymerizable compound and a photo cation polymerization initiator may be contained. A photo radical polymerizable compound and a photo cationic polymerizable compound may be used in combination, or a compound having a photo radical polymerizable property and a photo cationic polymerizable property may be used. A photo radical polymerization initiator, a photo cationic polymerization initiator, May be used in combination. A photopolymerizable compound may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
上記光ラジカル重合性化合物としては、(メタ)アクリレート化合物が挙げられる。(メタ)アクリレート化合物は、(メタ)アクリロイル基を一つ有する単官能(メタ)アクリレートであってよく、(メタ)アクリロイル基を複数有する多官能(メタ)アクリレートであってもよい。カラーフィルタ製造時における硬化収縮に起因する平滑性の低下を抑制し得る観点から、単官能(メタ)アクリレートと多官能(メタ)アクリレートとを組み合わせて用いることが好ましい。なお、本明細書において、(メタ)アクリレートとは、「アクリレート」及びそれに対応する「メタクリレート」を意味する。「(メタ)アクリロイル」との表現についても同様である。 Examples of the radical photopolymerizable compound include (meth) acrylate compounds. The (meth) acrylate compound may be a monofunctional (meth) acrylate having one (meth) acryloyl group or a polyfunctional (meth) acrylate having a plurality of (meth) acryloyl groups. It is preferable to use a monofunctional (meth) acrylate and a polyfunctional (meth) acrylate in combination from the viewpoint of suppressing a decrease in smoothness due to curing shrinkage during the production of the color filter. In the present specification, (meth) acrylate means “acrylate” and “methacrylate” corresponding thereto. The same applies to the expression “(meth) acryloyl”.
光カチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物、オキセタン化合物、ビニルエーテル化合物等が挙げられる。 Examples of the cationic photopolymerizable compound include an epoxy compound, an oxetane compound, and a vinyl ether compound.
また、本実施形態における光重合性化合物として、特開2013−182215号公報の段落0042〜0049に記載の光重合性化合物を用いることもできる。 In addition, as the photopolymerizable compound in the present embodiment, the photopolymerizable compounds described in paragraphs 0042 to 0049 of JP2013-182215A can also be used.
本実施形態に係る光変換層用のインク組成物において、硬化可能成分を、光重合性化合物のみ又はそれを主成分として構成する場合には、上記したような光重合性化合物としては、重合性官能基を一分子中に2以上有する2官能以上の多官能の光重合性化合物を必須成分として用いることが、硬化物の耐久性(強度、耐熱性等)をより高めることができることからより好ましい。 In the ink composition for the light conversion layer according to the present embodiment, when the curable component is composed solely of the photopolymerizable compound or the main component thereof, the photopolymerizable compound as described above is polymerizable. It is more preferable to use a bifunctional or polyfunctional photopolymerizable compound having two or more functional groups in one molecule as an essential component because durability (strength, heat resistance, etc.) of the cured product can be further improved. .
光重合性化合物は、信頼性に優れるカラーフィルタ画素部が得られやすい観点から、アルカリ不溶性であってよい。本明細書中、光重合性化合物がアルカリ不溶性であるとは、1質量%の水酸化カリウム水溶液に対する25℃における光重合性化合物の溶解量が、光重合性化合物の全質量を基準として、30質量%以下であることを意味する。光重合性化合物の上記溶解量は、好ましくは、10質量%以下であり、より好ましくは3質量%以下である。 The photopolymerizable compound may be insoluble in alkali from the viewpoint of easily obtaining a color filter pixel portion having excellent reliability. In the present specification, the photopolymerizable compound is alkali-insoluble means that the amount of the photopolymerizable compound dissolved in a 1% by mass aqueous potassium hydroxide solution at 25 ° C. is 30 based on the total mass of the photopolymerizable compound. It means that it is below mass%. The dissolution amount of the photopolymerizable compound is preferably 10% by mass or less, and more preferably 3% by mass or less.
光重合性化合物の含有量は、インク組成物の硬化性が良好となる観点、並びに、画素部(インク組成物の硬化物)の耐溶剤性及び磨耗性が向上する観点から、インク組成物の不揮発分の質量を基準として、10質量%以上であってもよく、15質量%以上であってもよく、20質量%以上であってもよい。光重合性化合物の含有量は、より優れた光学特性(漏れ光)が得られる観点から、インク組成物の不揮発分の質量を基準として、90質量%以下であってよく、80質量%以下であってもよく、70質量%以下であってもよく、60質量%以下であってもよく、50質量%以下であってもよい。 The content of the photopolymerizable compound is selected from the viewpoints of improving the curability of the ink composition and improving the solvent resistance and wear resistance of the pixel portion (cured product of the ink composition). Based on the mass of the nonvolatile content, it may be 10% by mass or more, 15% by mass or more, or 20% by mass or more. The content of the photopolymerizable compound may be 90% by mass or less and 80% by mass or less based on the mass of the nonvolatile content of the ink composition from the viewpoint of obtaining more excellent optical properties (leakage light). It may be 70% by mass or less, 60% by mass or less, or 50% by mass or less.
光重合性化合物は、画素部(インク組成物の硬化物)の安定性に優れる(例えば、経時劣化を抑制でき、高温保存安定性及び湿熱保存安定性に優れる)観点から、架橋性基を有していてもよい。架橋性基は、熱又は活性エネルギー線(例えば、紫外線)により他の架橋性基と反応する官能基であり、例えば、エポキシ基、オキセタン基、ビニル基、アクリロイル基、アクリロイルオキシ基、ビニルエーテル基等が挙げられる。 The photopolymerizable compound has a crosslinkable group from the viewpoint of excellent stability of the pixel portion (cured product of the ink composition) (for example, it can suppress deterioration over time and is excellent in high-temperature storage stability and wet heat storage stability). You may do it. The crosslinkable group is a functional group that reacts with other crosslinkable groups by heat or active energy rays (for example, ultraviolet rays), such as an epoxy group, an oxetane group, a vinyl group, an acryloyl group, an acryloyloxy group, and a vinyl ether group. Is mentioned.
光ラジカル重合開始剤としては、分子開裂型又は水素引き抜き型の光ラジカル重合開始剤が好適である。 As the radical photopolymerization initiator, a molecular cleavage type or hydrogen abstraction type radical photopolymerization initiator is suitable.
光重合開始剤の含有量は、インク組成物の硬化性の観点から、光重合性化合物100質量部に対して、0.1質量部以上であってよく、0.5質量部以上であってもよく、1質量部以上であってもよい。光重合開始剤の含有量は、画素部(インク組成物の硬化物)の経時安定性の観点から、光重合性化合物100質量部に対して、40質量部以下であってよく、30質量部以下であってもよく、20質量部以下であってもよい。 The content of the photopolymerization initiator may be 0.1 parts by mass or more and 0.5 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the photopolymerizable compound from the viewpoint of curability of the ink composition. It may be 1 part by mass or more. The content of the photopolymerization initiator may be 40 parts by mass or less and 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the photopolymerizable compound from the viewpoint of temporal stability of the pixel part (cured product of the ink composition). Or 20 parts by mass or less.
また、これらのUV硬化樹脂と共に、一部熱可塑性樹脂を併用してもよく、該熱可塑性樹脂としては、例えば、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、スチレンマレイン酸系樹脂、スチレン無水マレイン酸系樹脂等が挙げられる。 Along with these UV curable resins, some thermoplastic resins may be used in combination. Examples of the thermoplastic resins include urethane resins, acrylic resins, polyamide resins, polyimide resins, and styrene maleic acid resins. Examples thereof include resins and styrene maleic anhydride resins.
また、本実施形態に係る光変換層の調製用インク組成物は、公知の有機溶剤を使用してもよく、例えば、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジブチルエーテル、アジピン酸ジエチル、シュウ酸ジブチル、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、コハク酸ジメチル、コハク酸ジエチル、1,4−ブタン時オールジアセテート、グリセリルトリアセテートなどが挙げられる。 The ink composition for preparing the light conversion layer according to this embodiment may use a known organic solvent, for example, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol diester. Examples include butyl ether, diethyl adipate, dibutyl oxalate, dimethyl malonate, diethyl malonate, dimethyl succinate, diethyl succinate, 1,4-butane, all diacetate, and glyceryl triacetate.
さらに、本実施形態に係る光変換層(又は当該光変換層の調製用インク組成物)において、上記硬化性樹脂、上記高分子分散剤、上記発光性ナノ結晶粒子の他に、光散乱性粒子といった公知の添加剤を含んでもよい。 Further, in the light conversion layer (or the ink composition for preparing the light conversion layer) according to this embodiment, in addition to the curable resin, the polymer dispersant, and the luminescent nanocrystal particles, light scattering particles Such known additives may be included.
発光性ナノ結晶粒子を用いたインク組成物によりカラーフィルタ画素部(以下、単に「画素部」ともいう。)を形成した場合、光源からの光が発光性ナノ結晶粒子に吸収されずに画素部から漏れることがある。このような漏れ光は、画素部の色再現性を低下させるため、光変換層として上記画素部を用いる場合には、その漏れ光を可能な限り低減することが好ましい。上記光散乱性粒子は、画素部の漏れ光を防止するために、好適には用いられる。光散乱性粒子は、例えば、光学的に不活性な無機微粒子である。光散乱性粒子は、カラーフィルタ画素部に照射された光源からの光を散乱させることができる。 When a color filter pixel portion (hereinafter also simply referred to as a “pixel portion”) is formed from an ink composition using luminescent nanocrystal particles, light from the light source is not absorbed by the luminescent nanocrystal particles and the pixel portion. May leak. Since such leakage light reduces the color reproducibility of the pixel portion, when the pixel portion is used as the light conversion layer, it is preferable to reduce the leakage light as much as possible. The light scattering particles are preferably used in order to prevent leakage light from the pixel portion. The light scattering particles are, for example, optically inactive inorganic fine particles. The light scattering particles can scatter light from the light source irradiated to the color filter pixel portion.
光散乱性粒子を構成する材料としては、例えば、タングステン、ジルコニウム、チタン、白金、ビスマス、ロジウム、パラジウム、銀、スズ、プラチナ、金等の単体金属;シリカ、硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、タルク、酸化チタン、クレー、カオリン、硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、アルミナホワイト、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化バリウム、酸化アルミニウム、酸化ビスマス、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛等の金属酸化物;炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、次炭酸ビスマス、炭酸カルシウム等の金属炭酸塩;水酸化アルミニウム等の金属水酸化物;ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウム、チタン酸カルシウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム等の複合酸化物、次硝酸ビスマス等の金属塩などが挙げられる。光散乱性粒子は、漏れ光の低減効果により優れる観点から、酸化チタン、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム及びシリカからなる群より選択される少なくとも1種を含むことが好ましく、酸化チタン、硫酸バリウム及び炭酸カルシウムからなる群より選択される少なくとも一種を含むことがより好ましい。 Examples of the material constituting the light scattering particles include simple metals such as tungsten, zirconium, titanium, platinum, bismuth, rhodium, palladium, silver, tin, platinum, and gold; silica, barium sulfate, barium carbonate, calcium carbonate, Metal oxides such as talc, titanium oxide, clay, kaolin, barium sulfate, barium carbonate, calcium carbonate, alumina white, titanium oxide, magnesium oxide, barium oxide, aluminum oxide, bismuth oxide, zirconium oxide, zinc oxide; magnesium carbonate, Metal carbonates such as barium carbonate, bismuth subcarbonate and calcium carbonate; metal hydroxides such as aluminum hydroxide; complex oxides such as barium zirconate, calcium zirconate, calcium titanate, barium titanate, strontium titanate, Bis nitrate Such as a metal salt of the scan, and the like. The light-scattering particles preferably include at least one selected from the group consisting of titanium oxide, alumina, zirconium oxide, zinc oxide, calcium carbonate, barium sulfate, and silica, from the viewpoint of being more effective in reducing leakage light. More preferably, it contains at least one selected from the group consisting of titanium oxide, barium sulfate and calcium carbonate.
光散乱性粒子の形状は、球状、フィラメント状、不定形状等であってよい。しかしながら、光散乱性粒子としては、粒子形状として方向性の少ない粒子(例えば、球状、正四面体状等の粒子)を用いることが、インク組成物の均一性、流動性及び光散乱性をより高められる点で好ましい。 The shape of the light scattering particles may be spherical, filamentous, indeterminate. However, as the light scattering particles, it is possible to use particles having less directivity as the particle shape (for example, spherical, tetrahedral, etc. particles), thereby improving the uniformity, fluidity and light scattering of the ink composition. It is preferable in that it can be improved.
インク組成物中での光散乱性粒子の平均粒子径(体積平均径)は、漏れ光の低減効果により優れる観点から、0.05μm以上であってよく、0.2μm以上であってもよく、0.3μm以上であってもよい。インク組成物中での光散乱性粒子の平均粒子径(体積平均径)は、吐出安定性に優れる観点から、1.0μm以下であってもよく、0.6μm以下であってもよく、0.4μm以下であってもよい。インク組成物中での光散乱性粒子の平均粒子径(体積平均径)は、0.05〜1.0μm、0.05〜0.6μm、0.05〜0.4μm、0.2〜1.0μm、0.2〜0.6μm、0.2〜0.4μm、0.3〜1.0μm、0.3〜0.6μm、又は0.3〜0.4μmであってもよい。このような平均粒子径(体積平均径)が得られやすい観点から、使用する光散乱性粒子の平均粒子径(体積平均径)は、50nm以上であってよく、1000nm以下であってよい。光散乱性粒子の平均粒子径(体積平均径)は、動的光散乱式ナノトラック粒度分布計により測定し、体積平均径を算出することにより得られる。また、使用する光散乱性粒子の平均粒子径(体積平均径)は、例えば透過型電子顕微鏡又は走査型電子顕微鏡により各粒子の粒子径を測定し、体積平均径を算出することにより得られる。 The average particle diameter (volume average diameter) of the light-scattering particles in the ink composition may be 0.05 μm or more, or 0.2 μm or more, from the viewpoint of being excellent in the effect of reducing leakage light. It may be 0.3 μm or more. The average particle diameter (volume average diameter) of the light-scattering particles in the ink composition may be 1.0 μm or less, 0.6 μm or less, from the viewpoint of excellent ejection stability. It may be 4 μm or less. The average particle diameter (volume average diameter) of the light-scattering particles in the ink composition is 0.05 to 1.0 μm, 0.05 to 0.6 μm, 0.05 to 0.4 μm, and 0.2 to 1. It may be 0.0 μm, 0.2 to 0.6 μm, 0.2 to 0.4 μm, 0.3 to 1.0 μm, 0.3 to 0.6 μm, or 0.3 to 0.4 μm. From the viewpoint of easily obtaining such an average particle diameter (volume average diameter), the average particle diameter (volume average diameter) of the light-scattering particles to be used may be 50 nm or more and 1000 nm or less. The average particle diameter (volume average diameter) of the light-scattering particles is obtained by measuring with a dynamic light scattering nanotrack particle size distribution meter and calculating the volume average diameter. The average particle diameter (volume average diameter) of the light-scattering particles used is obtained by measuring the particle diameter of each particle with, for example, a transmission electron microscope or a scanning electron microscope and calculating the volume average diameter.
光散乱性粒子の含有量は、漏れ光の低減効果により優れる観点から、インク組成物の不揮発分の質量を基準として、0.1質量%以上であってよく、1質量%以上であってもよく、5質量%以上であってもよく、7質量%以上であってもよく、10質量%以上であってもよく、12質量%以上であってもよい。光散乱性粒子の含有量は、漏れ光の低減効果により優れる観点及び吐出安定性に優れる観点から、インク組成物の不揮発分の質量を基準として、60質量%以下であってよく、50質量%以下であってもよく、40質量%以下であってもよく、30質量%以下であってもよく、25質量%以下であってもよく、20質量%以下であってもよく、15質量%以下であってもよい。本実施形態では、インク組成物が高分子分散剤を含むため、光散乱性粒子の含有量を上記範囲とした場合であっても光散乱性粒子の良好に分散させることができる。 The content of the light-scattering particles may be 0.1% by mass or more based on the non-volatile content of the ink composition, and may be 1% by mass or more from the viewpoint of being excellent in the effect of reducing leakage light. Alternatively, it may be 5% by mass or more, 7% by mass or more, 10% by mass or more, or 12% by mass or more. The content of the light-scattering particles may be 60% by mass or less and 50% by mass based on the mass of the non-volatile content of the ink composition from the viewpoint of being excellent in the effect of reducing leakage light and excellent in ejection stability. Or 40% by mass or less, 30% by mass or less, 25% by mass or less, 20% by mass or less, or 15% by mass. It may be the following. In this embodiment, since the ink composition contains a polymer dispersant, the light scattering particles can be favorably dispersed even when the content of the light scattering particles is within the above range.
発光性ナノ結晶粒子の含有量に対する光散乱性粒子の含有量の質量比(光散乱性粒子/発光性ナノ結晶粒子)は、0.1〜5.0である。質量比(光散乱性粒子/発光性ナノ結晶粒子)は、漏れ光の低減効果により優れる観点から、0.2以上であってもよく、0.5以上であってもよい。質量比(光散乱性粒子/発光性ナノ結晶粒子)は、漏れ光の低減効果により優れる観点から、2.0以下であってもよく、1.5以下であってもよい。質量比(光散乱性粒子/発光性ナノ結晶粒子)は、0.1〜2.0、0.1〜1.5、0.2〜5.0、0.2〜2.0、0.2〜1.5、0.5〜5.0、0.5〜2.0、又は0.5〜1.5であってもよい。なお、光散乱性粒子による漏れ光低減は、次のようなメカニズムによると考えられる。すなわち、光散乱性粒子が存在しない場合、バックライト光は画素部内をほぼ直進して通過するのみであり、発光性ナノ結晶粒子に吸収される機会が少ないと考えられる。一方、光散乱性粒子を発光性ナノ結晶粒子と同一の画素部内に存在させると、その画素部内でバックライト光が全方位に散乱され、それを発光性ナノ結晶粒子が受光することができるため、同一のバックライトを用いていても、画素部における光吸収量が増大すると考えられる。結果的に、このようなメカニズムで漏れ光を防ぐことが可能になったと考えられる。 The mass ratio of the content of the light scattering particles to the content of the light emitting nanocrystal particles (light scattering particles / light emitting nanocrystal particles) is 0.1 to 5.0. The mass ratio (light-scattering particles / light-emitting nanocrystal particles) may be 0.2 or more or 0.5 or more from the viewpoint of excellent leakage light reduction effect. The mass ratio (light-scattering particles / light-emitting nanocrystal particles) may be 2.0 or less or 1.5 or less from the viewpoint of excellent leakage light reduction effect. The mass ratios (light scattering particles / luminescent nanocrystal particles) are 0.1 to 2.0, 0.1 to 1.5, 0.2 to 5.0, 0.2 to 2.0, 0.0. It may be 2 to 1.5, 0.5 to 5.0, 0.5 to 2.0, or 0.5 to 1.5. In addition, it is thought that leakage light reduction by light-scattering particles is based on the following mechanism. That is, when no light-scattering particles are present, it is considered that the backlight light only passes almost straight through the pixel portion and is less likely to be absorbed by the light-emitting nanocrystal particles. On the other hand, if the light-scattering particles are present in the same pixel portion as the light-emitting nanocrystal particles, the backlight light is scattered in all directions in the pixel portion, and the light-emitting nanocrystal particles can receive it. Even if the same backlight is used, it is considered that the light absorption amount in the pixel portion increases. As a result, it is considered that leakage light can be prevented by such a mechanism.
本実施形態に係る光変換層は、赤(R)、緑(G)、青(B)の三色画素部を備え、必要により色材を含んでもよく、当該色材としては、公知の色材を使用することができ、例えば、赤(R)の画素部中にジケトピロロピロール顔料及び/又はアニオン性赤色有機染料を、緑(G)の画素部中にハロゲン化銅フタロシニアン顔料、フタロシアニン系緑色染料、フタロシアニン系青色染料とアゾ系黄色有機染料との混合物からなる群から選ばれる少なくとも一種を、青(B)の画素部中にε型銅フタロシニアン顔料及び/又はカチオン性青色有機染料を含有することが好ましい。 The light conversion layer according to the present embodiment includes a three-color pixel portion of red (R), green (G), and blue (B), and may include a color material if necessary. For example, a diketopyrrolopyrrole pigment and / or an anionic red organic dye in the red (R) pixel portion, and a copper halide phthalocyanine pigment, phthalocyanine in the green (G) pixel portion. At least one selected from the group consisting of a green dye, a mixture of a phthalocyanine blue dye and an azo yellow organic dye, and an ε-type copper phthalocyanine pigment and / or a cationic blue organic dye in the blue (B) pixel portion It is preferable to contain.
また、本実施形態に係る光変換層に、黄色(Y)画素部(黄色の色層)を含む場合、色材として、黄色の色層中には、に、C.I.Pigment Yellow 150、同215、同185、同138、同139、C.I.Solvent Yellow 21、82、同83:1、同33、同162からなる群から選ばれる少なくとも1種の黄色有機染顔料を含有するのも好ましい。 Further, when the light conversion layer according to the present embodiment includes a yellow (Y) pixel portion (yellow color layer), as a color material, the yellow color layer includes C.I. I. Pigment Yellow 150, 215, 185, 138, 139, C.I. I. It is also preferable to contain at least one yellow organic dye / pigment selected from the group consisting of Solvent Yellow 21, 82, 83: 1, 33, 162.
カラーフィルタは、上記色材を用いて形成することが好ましい。例えば、赤色(R)のカラーフィルタ中にジケトピロロピロール顔料及び/又はアニオン性赤色有機染料を、緑色(G)のカラーフィルタ中にハロゲン化銅フタロシニアン顔料、フタロシアニン系緑色染料、フタロシアニン系青色染料とアゾ系黄色有機染料との混合物からなる群から選ばれる少なくとも一種を、青色(B)のカラーフィルタ中にε型銅フタロシニアン顔料及び/又はカチオン性青色有機染料を含有することが好ましい。 The color filter is preferably formed using the above color material. For example, diketopyrrolopyrrole pigment and / or anionic red organic dye in red (R) color filter, copper halide phthalocyanine pigment, phthalocyanine green dye, phthalocyanine blue dye in green (G) color filter It is preferable that at least one selected from the group consisting of a mixture of an azo-based yellow organic dye contains an ε-type copper phthalocyanine pigment and / or a cationic blue organic dye in a blue (B) color filter.
また、カラーフィルタには、必要により前述の透明樹脂や後述の光硬化性化合物、分散剤などを含んでもよく、カラーフィルタの製造方法は公知のフォトリソグラフィ法などで形成することができる。 In addition, the color filter may contain the above-described transparent resin, a photocurable compound described later, a dispersant, and the like, if necessary, and the color filter can be produced by a known photolithography method or the like.
(光変換層の製造方法)
光変換層は、従来公知の方法で形成することができる。画素部の形成方法の代表的な方法としては、フォトリソグラフィ法であり、これは、後記する発光用ナノ結晶含有光硬化性組成物を、従来のカラーフィルタ用の透明基板のブラックマトリックスを設けた側の面に塗布、加熱乾燥(プリベーク)した後、フォトマスクを介して紫外線を照射することでパターン露光を行って、画素部に対応する箇所の光硬化性化合物を硬化させた後、未露光部分を現像液で現像し、非画素部を除去して画素部を透明基板に固着させる方法である。この方法では、発光用ナノ結晶含有光硬化性組成物の硬化着色皮膜からなる画素部が透明基板上に形成される。(Method for producing light conversion layer)
The light conversion layer can be formed by a conventionally known method. A typical method for forming the pixel portion is a photolithography method, which is provided with a light-curable nanocrystal-containing photocurable composition to be described later and a transparent matrix black matrix for a conventional color filter. After applying to the surface on the side, heating and drying (pre-baking), pattern exposure is performed by irradiating ultraviolet rays through a photomask to cure the photocurable compound at the location corresponding to the pixel portion, and then unexposed In this method, the portion is developed with a developing solution, the non-pixel portion is removed, and the pixel portion is fixed to the transparent substrate. In this method, a pixel portion composed of a cured colored film of a light-emitting nanocrystal-containing photocurable composition is formed on a transparent substrate.
赤色(R)画素、緑色(G)画素、青色(B)画素、必要に応じて黄色(Y)画素等の他の色の画素ごとに、後記する光硬化性組成物を調製して、前記した操作を繰り返すことにより、所定の位置に赤色(R)画素、緑色(G)画素、青色(B)画素、黄色(Y)画素の着色画素部を有する光変換層を製造することができる。 A photocurable composition to be described later is prepared for each of other color pixels such as a red (R) pixel, a green (G) pixel, a blue (B) pixel, and a yellow (Y) pixel as necessary, By repeating these operations, a light conversion layer having colored pixel portions of red (R) pixels, green (G) pixels, blue (B) pixels, and yellow (Y) pixels at a predetermined position can be manufactured.
後記する発光性ナノ結晶粒子含有光硬化性組成物をガラス等の透明基板上に塗布する方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、インクジェット法等が挙げられる。 Examples of the method for applying a light-emitting nanocrystal particle-containing photocurable composition to be described later on a transparent substrate such as glass include a spin coating method, a roll coating method, and an ink jet method.
透明基板に塗布した発光性ナノ結晶粒子含有光硬化性組成物の塗膜の乾燥条件は、各成分の種類、配合割合等によっても異なるが、通常、50〜150℃で、1〜15分間程度である。また、発光性ナノ結晶粒子含有光硬化性組成物の光硬化に用いる光としては、200〜500nmの波長範囲の紫外線、あるいは可視光を使用するのが好ましい。この波長範囲の光を発する各種光源が使用できる。 Although the drying conditions of the coating film of the light-emitting nanocrystal particle-containing photocurable composition applied to the transparent substrate vary depending on the type of each component, the blending ratio, etc., it is usually 50 to 150 ° C. for about 1 to 15 minutes. It is. Moreover, as light used for photocuring of the luminescent nanocrystal particle containing photocurable composition, it is preferable to use the ultraviolet rays of a wavelength range of 200-500 nm, or visible light. Various light sources that emit light in this wavelength range can be used.
現像方法としては、例えば、液盛り法、ディッピング法、スプレー法等が挙げられる。光硬化性組成物の露光、現像の後に、必要な色の画素部が形成された透明基板は水洗いし乾燥させる。こうして得られたカラーフィルタは、ホットプレート、オーブン等の加熱装置により、90〜280℃で、所定時間加熱処理(ポストベーク)することによって、着色塗膜中の揮発性成分を除去すると同時に、発光性ナノ結晶粒子を含有する光硬化性組成物の硬化着色皮膜中に残存する未反応の光硬化性化合物が熱硬化し、光変換層が完成する。 Examples of the developing method include a liquid piling method, a dipping method, and a spray method. After exposure and development of the photocurable composition, the transparent substrate on which the necessary color pixel portion is formed is washed with water and dried. The color filter thus obtained is subjected to heat treatment (post-baking) at 90 to 280 ° C. for a predetermined time with a heating device such as a hot plate or an oven, thereby removing volatile components in the colored coating film and simultaneously emitting light. The unreacted photocurable compound remaining in the cured colored film of the photocurable composition containing the curable nanocrystal particles is thermally cured to complete the light conversion layer.
本実施形態の光変換層用色材、樹脂は、本実施形態の発光性ナノ結晶粒子と用いることで、液晶層の電圧保持率(VHR)の低下、青色光又は紫外光による劣化、イオン密度(ID)の増加を防止し、白抜け、配向むら、焼き付けなどの表示不良の問題を解決する液晶表示装置を提供することが可能となる。 The color material and resin for the light conversion layer of the present embodiment are used with the luminescent nanocrystal particles of the present embodiment, so that the voltage holding ratio (VHR) of the liquid crystal layer is lowered, the blue light or the ultraviolet light is deteriorated, the ion density It is possible to provide a liquid crystal display device that prevents an increase in (ID) and solves display defect problems such as white spots, uneven alignment, and baking.
上記発光性ナノ結晶粒子含有光硬化性組成物の製造方法としては、発光性ナノ結晶粒子と、有機溶剤と、を混合して、必要により、親和性のある分子、分散剤、色材(=染料及び/又は顔料組成物)と、を添加し均一となる様に攪拌分散を行って、まず光変換層の画素部を形成するための分散液を調製してから、そこに、光硬化性化合物と、必要に応じて熱可塑性樹脂や光重合開始剤等を加えて発光性ナノ結晶粒子を含有する発光性ナノ結晶粒子含有光硬化性組成物とする方法が一般的である。 As a manufacturing method of the said luminescent nanocrystal particle containing photocurable composition, a luminescent nanocrystal particle and an organic solvent are mixed, and if necessary, it has an affinity molecule | numerator, a dispersing agent, a coloring material (= Dye and / or pigment composition), and stirring and dispersing so as to be uniform. First, a dispersion liquid for forming the pixel portion of the light conversion layer is prepared, and then the photo-curing property is prepared there. A method is generally used in which a compound and, if necessary, a thermoplastic resin, a photopolymerization initiator, and the like are added to form a luminescent nanocrystal particle-containing photocurable composition containing luminescent nanocrystal particles.
ここで用いられる有機溶媒としては、例えば、トルエンやキシレン、メトキシベンゼン等の芳香族系溶剤、酢酸エチルや酢酸プロピルや酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールブチルエーテルアセテート等の酢酸エステル系溶剤、エトキシエチルプロピオネート等のプロピオネート系溶剤、メタノール、エタノール等のアルコール系溶剤、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、ヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶剤、N,N−ジメチルホルムアミド、γ−ブチロラクタム、N−メチル−2−ピロリドン、アニリン、ピリジン等の窒素化合物系溶剤、γ−ブチロラクトン等のラクトン系溶剤、カルバミン酸メチルとカルバミン酸エチルの48:52の混合物の様なカルバミン酸エステル等が挙げられる。 Examples of the organic solvent used here include aromatic solvents such as toluene, xylene, methoxybenzene, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol methyl ether acetate. , Acetate solvents such as diethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol propyl ether acetate, diethylene glycol butyl ether acetate, propionate solvents such as ethoxyethyl propionate, alcohol solvents such as methanol and ethanol, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol ethyl Ether, diethylene glycol dimethyl ether Ether solvents such as methyl, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, N, N-dimethylformamide, γ-butyrolactam, N-methyl-2-pyrrolidone, aniline And nitrogen compound solvents such as pyridine, lactone solvents such as γ-butyrolactone, and carbamic acid esters such as a 48:52 mixture of methyl carbamate and ethyl carbamate.
ここで用いられる分散剤としては、例えば、ビックケミー社のディスパービック130、ディスパービック161、ディスパービック162、ディスパービック163、ディスパービック170、ディスパービック171、ディスパービック174、ディスパービック180、ディスパービック182、ディスパービック183、ディスパービック184、ディスパービック185、ディスパービック2000、ディスパービック2001、ディスパービック2020、ディスパービック2050、ディスパービック2070、ディスパービック2096、ディスパービック2150、ディスパービックLPN21116、ディスパービックLPN6919エフカ社のエフカ46、エフカ47、エフカ452、エフカLP4008、エフカ4009、エフカLP4010、エフカLP4050、LP4055、エフカ400、エフカ401、エフカ402、エフカ403、エフカ450、エフカ451、エフカ453、エフカ4540、エフカ4550、エフカLP4560、エフカ120、エフカ150、エフカ1501、エフカ1502、エフカ1503、ルーブリゾール社のソルスパース3000、ソルスパース9000、ソルスパース13240、ソルスパース13650、ソルスパース13940、ソルスパース17000、18000、ソルスパース20000、ソルスパース21000、ソルスパース20000、ソルスパース24000、ソルスパース26000、ソルスパース27000、ソルスパース28000、ソルスパース32000、ソルスパース36000、ソルスパース37000、ソルスパース38000、ソルスパース41000、ソルスパース42000、ソルスパース43000、ソルスパース46000、ソルスパース54000、ソルスパース71000、味の素株式会社のアジスパーPB711、アジスパーPB821、アジスパーPB822、アジスパーPB814、アジスパーPN411、アジスパーPA111等の分散剤や、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキッド系樹脂、ウッドロジン、ガムロジン、トール油ロジン等の天然ロジン、重合ロジン、不均化ロジン、水添ロジン、酸化ロジン、マレイン化ロジン等の変性ロジン、ロジンアミン、ライムロジン、ロジンアルキレンオキシド付加物、ロジンアルキド付加物、ロジン変性フェノール等のロジン誘導体等の、室温で液状かつ水不溶性の合成樹脂を含有させることが出来る。これら分散剤や、樹脂の添加は、フロッキュレーションの低減、顔料の分散安定性の向上、分散体の粘度特性を向上にも寄与する。 Dispersants used here include, for example, Big Chemie's Dispersic 130, Dispersic 161, Dispersic 162, Dispersic 163, Dispersic 170, Dispersic 171, Dispersic 174, Dispersic 180, Dispersic 182, Dispersic 183, Dispersic 184, Dispersic 185, Dispersic 2000, Dispersic 2001, Dispersic 2020, Dispersic 2050, Dispersic 2070, Dispersic 2096, Dispersic 2150, Dispersic LPN21116, Dispersic LPN6919 Efka EFKA46, EFKA47, EFKA452, EFKALP4008, EFKA4 09, EFKA LP4010, EFKA LP4050, LP4055, EFKA400, EFKA401, EFKA402, EFKA403, EFKA450, EFKA451, EFKA453, EFKA4540, EFKA4550, EFKALP4560, EFKA120, EFKA150, EFKA1501, EFKA1501, EFKA1501, EFKA1501 1502, Efka 1503, Lubrizol's Sol Sparse 3000, Sol Sparse 9000, Sol Sparse 13240, Sol Sparse 13650, Sol Sparse 13940, Sol Sparse 17000, 18000, Sol Sparse 20000, Sol Sparse 21000, Sol Sparse 20000, Sol Sparse 24000, Sol Sparse 26000, Sol Sparse 28000, Sol Sparse 28000, Solsparse 32000, Solsparse 36 00, Solsperse 37000, Solsperse 38000, Solsperse 41000, Solsperse 42000, Solsperse 43000, Solsperse 44000, Solsperse 71000, Ajinomoto Co., Ltd. Agents, natural rosin such as acrylic resin, urethane resin, alkyd resin, wood rosin, gum rosin, tall oil rosin, polymerized rosin, disproportionated rosin, hydrogenated rosin, oxidized rosin, modified rosin such as maleated rosin, Rosin derivatives such as rosinamine, lime rosin, rosin alkylene oxide adduct, rosin alkyd adduct, rosin modified phenol, etc. A synthetic resin that is liquid and water-insoluble at room temperature can be contained. Addition of these dispersants and resins also contributes to reduction of flocculation, improvement of pigment dispersion stability, and improvement of viscosity characteristics of the dispersion.
また、分散助剤として、有機顔料誘導体の、例えば、フタルイミドメチル誘導体、同スルホン酸誘導体、同N−(ジアルキルアミノ)メチル誘導体、同N−(ジアルキルアミノアルキル)スルホン酸アミド誘導体等も含有することも出来る。もちろん、これら誘導体は、異なる種類のものを二種以上併用することも出来る。 Further, as a dispersion aid, organic pigment derivatives such as phthalimidomethyl derivatives, sulfonic acid derivatives, N- (dialkylamino) methyl derivatives, N- (dialkylaminoalkyl) sulfonic acid amide derivatives, etc. You can also. Of course, two or more of these derivatives can be used in combination.
発光性ナノ結晶粒子含有光硬化性組成物の調製に使用する熱可塑性樹脂としては、例えば、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、スチレンマレイン酸系樹脂、スチレン無水マレイン酸系樹脂等が挙げられる。 Examples of the thermoplastic resin used for the preparation of the photocurable composition containing luminescent nanocrystal particles include urethane resin, acrylic resin, polyamide resin, polyimide resin, styrene maleic acid resin, and styrene maleic anhydride. Based resins and the like.
発光性ナノ結晶粒子含有光硬化性化合物としては、例えば、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ビス(アクリロキシエトキシ)ビスフェノールA、3−メチルペンタンジオールジアクリレート等のような2官能モノマー、トリメチルロールプロパトントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリス〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の比較的分子量の小さな多官能モノマー、ポリエステルアクリレート、ポリウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート等の様な比較的分子量の大きな多官能モノマーが挙げられる。 Examples of the photocurable compound containing luminescent nanocrystal particles include 1,6-hexanediol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, bis (acryloxyethoxy) bisphenol A, Bifunctional monomers such as 3-methylpentanediol diacrylate, trimethylol propaton triacrylate, pentaerythritol triacrylate, tris [2- (meth) acryloyloxyethyl) isocyanurate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol Polyfunctional monomers with relatively low molecular weight such as pentaacrylate, polyester acrylate, polyurethane acrylate, polyether acrylate, etc. Relatively large polyfunctional monomer having a molecular weight thereof.
光重合開始剤としては、例えばアセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンジルジメチルケタノール、ベンゾイルパーオキサイド、2−クロロチオキサントン、1,3−ビス(4’−アジドベンザル)−2−プロパン、1,3−ビス(4’−アジドベンザル)−2−プロパン−2’−スルホン酸、4,4’−ジアジドスチルベン−2,2’−ジスルホン酸等が挙げられる。市販の光重合開始剤としては、例えば、BASF社製「イルガキュア(商標名)−184」、「イルガキュア(商標名)−369」、「ダロキュア(商標名)−1173」、BASF社製「ルシリン−TPO」、日本化薬社製「カヤキュアー(商標名)DETX」、「カヤキュアー(商標名)OA」、ストーファー社製「バイキュアー10」、「バイキュアー55」、アクゾー社製「トリゴナールPI」、サンド社製「サンドレー1000」、アップジョン社製「デープ」、黒金化成社製「ビイミダゾール」などがある。 Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, benzophenone, benzyldimethylketanol, benzoyl peroxide, 2-chlorothioxanthone, 1,3-bis (4′-azidobenzal) -2-propane, 1,3-bis (4 ′). -Azidobenzal) -2-propane-2'-sulfonic acid, 4,4'-diazidostilbene-2,2'-disulfonic acid and the like. Examples of commercially available photopolymerization initiators include “Irgacure (trade name) -184”, “Irgacure (trade name) -369”, “Darocur (trade name) -1173” manufactured by BASF, and “Lucirin-” manufactured by BASF. "TPO", Nippon Kayaku Co., Ltd. "Kayacure (trade name) DETX", "Kayacure (trade name) OA", Stofer "Bicure 10", "Bicure 55", Akzo "Trigonal PI", Sand "Sandray 1000" manufactured by Upjohn, "Deep" manufactured by Upjohn, and "Biimidazole" manufactured by Kurokin Kasei.
また上記光重合開始剤に公知慣用の光増感剤を併用することもできる。光増感剤としては、例えば、アミン類、尿素類、硫黄原子を有する化合物、燐原子を有する化合物、塩素原子を有する化合物又はニトリル類もしくはその他の窒素原子を有する化合物等が挙げられる。これらは、単独で用いることも、2種以上を組み合わせて用いることもできる。 Moreover, a well-known and usual photosensitizer can also be used together with the said photoinitiator. Examples of the photosensitizer include amines, ureas, compounds having a sulfur atom, compounds having a phosphorus atom, compounds having a chlorine atom, nitriles or other compounds having a nitrogen atom. These can be used alone or in combination of two or more.
光重合開始剤の配合率は、特に限定されるものではないが、質量基準で、光重合性あるいは光硬化性官能基を有する化合物に対して0.1〜30%の範囲が好ましい。0.1%未満では、光硬化時の感光度が低下する傾向にあり、30%を超えると、顔料分散レジストの塗膜を乾燥させたときに、光重合開始剤の結晶が析出して塗膜物性の劣化を引き起こすことがある。 The blending ratio of the photopolymerization initiator is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.1 to 30% with respect to the compound having a photopolymerizable or photocurable functional group on a mass basis. If it is less than 0.1%, the photosensitivity at the time of photocuring tends to decrease, and if it exceeds 30%, crystals of the photopolymerization initiator are precipitated when the pigment-dispersed resist coating film is dried. May cause deterioration of film properties.
前記した様な各材料を使用して、質量基準で、本実施形態の発光性ナノ結晶粒子100部当たり、300〜100000部の有機溶剤と、1〜500部の親和性のある分子や分散剤とを、均一となる様に攪拌分散して前記染顔料液を得ることができる。次いでこの顔料分散液100部当たり、熱可塑性樹脂と光硬化性化合物の合計が0.125〜2500部、光硬化性化合物1部当たり0.05〜10部の光重合開始剤と、必要に応じてさらに有機溶剤を添加し、均一となる様に攪拌分散して画素部を形成するための発光性ナノ結晶粒子含有光硬化性組成物を得ることができる。 Using each of the materials as described above, 300 to 100,000 parts of an organic solvent and 1 to 500 parts of an affinity molecule or dispersant per 100 parts of the luminescent nanocrystal particles of the present embodiment on a mass basis. Can be stirred and dispersed in a uniform manner to obtain the dye / pigment solution. Then, per 100 parts of this pigment dispersion, a total of 0.125 to 2500 parts of thermoplastic resin and photocurable compound, 0.05 to 10 parts of photopolymerization initiator per 1 part of photocurable compound, and if necessary In addition, an organic solvent can be further added, and the photocurable composition containing luminescent nanocrystal particles for forming a pixel portion by stirring and dispersing so as to be uniform can be obtained.
現像液としては、公知慣用の有機溶剤やアルカリ水溶液を使用することができる。特に前記光硬化性組成物に、熱可塑性樹脂又は光硬化性化合物が含まれており、これらの少なくとも一方が酸価を有し、アルカリ可溶性を呈する場合には、アルカリ水溶液での洗浄がカラーフィルタ画素部の形成に効果的である。 As the developer, a known and commonly used organic solvent or alkaline aqueous solution can be used. In particular, when the photocurable composition contains a thermoplastic resin or a photocurable compound, and at least one of them has an acid value and exhibits alkali solubility, the color filter can be washed with an alkaline aqueous solution. It is effective for forming the pixel portion.
ここでは、フォトリソグラフィー法によるR画素、G画素、B画素、Y画素の着色画素部の製造方法について詳記したが、本実施形態の発光性ナノ結晶粒子含有組成物を使用して調製された画素部は、その他の電着法、転写法、ミセル電解法、PVED(PhotovoltaicElectrodeposition)法、インクジェット法、反転印刷法、熱硬化法等の方法で各色画素部を形成して、光変換層を製造してもよい。 Here, although the manufacturing method of the colored pixel part of R pixel, G pixel, B pixel, and Y pixel by the photolithography method was described in detail, it was prepared using the luminescent nanocrystal particle containing composition of this embodiment. For the pixel portion, each color pixel portion is formed by other electrodeposition methods, transfer methods, micellar electrolysis methods, PVED (Photovoltaic Electrodeposition) methods, ink jet methods, reverse printing methods, thermosetting methods, etc., and a light conversion layer is manufactured. May be.
本実施形態に係る光変換層用のインク組成物の製造方法について説明する。インク組成物の製造方法は、例えば、光散乱性粒子及び高分子分散剤を含有する、光散乱性粒子の分散体を用意する第1の工程と、光散乱性粒子の分散体及び発光性ナノ結晶粒子を混合する第2の工程と、を備える。この方法では、光散乱性粒子の分散体が熱硬化性樹脂を更に含有してよく、第2の工程において、熱硬化性樹脂を更に混合してもよい。この方法によれば、光散乱性粒子を充分に分散させることができる。そのため、画素部における漏れ光を低減することができるインク組成物を容易に得ることができる。 A method for producing an ink composition for a light conversion layer according to this embodiment will be described. The method for producing an ink composition includes, for example, a first step of preparing a dispersion of light scattering particles containing light scattering particles and a polymer dispersant, a dispersion of light scattering particles, and a light-emitting nanoparticle. A second step of mixing the crystal particles. In this method, the dispersion of light scattering particles may further contain a thermosetting resin, and in the second step, a thermosetting resin may be further mixed. According to this method, the light scattering particles can be sufficiently dispersed. Therefore, an ink composition that can reduce leakage light in the pixel portion can be easily obtained.
光散乱性粒子の分散体を用意する工程では、光散乱性粒子と、高分子分散剤と、場合により、熱硬化性樹脂とを混合し、分散処理を行うことにより光散乱性粒子の分散体を調製してよい。混合及び分散処理は、ビーズミル、ペイントコンディショナー、遊星撹拌機等の分散装置を用いて行ってよい。光散乱性粒子の分散性が良好となり、光散乱性粒子の平均粒子径を所望の範囲に調整しやすい観点から、ビーズミル又はペイントコンディショナーを用いることが好ましい。 In the step of preparing a dispersion of light-scattering particles, the dispersion of light-scattering particles is performed by mixing the light-scattering particles, a polymer dispersant, and optionally a thermosetting resin, and performing a dispersion treatment. May be prepared. The mixing and dispersing treatment may be performed using a dispersing device such as a bead mill, a paint conditioner, a planetary stirrer or the like. It is preferable to use a bead mill or a paint conditioner from the viewpoint of good dispersibility of the light scattering particles and easy adjustment of the average particle diameter of the light scattering particles to a desired range.
インク組成物の製造方法は、第2の工程の前に、発光性ナノ結晶粒子と、熱硬化性樹脂とを含有する、発光性ナノ結晶粒子の分散体を用意する工程を更に備えていてもよい。この場合、第2の工程では、光散乱性粒子の分散体と、発光性ナノ結晶粒子の分散体と、を混合する。この方法によれば、発光性ナノ結晶粒子を充分に分散させることができる。そのため、画素部における漏れ光を低減することができるインク組成物を容易に得ることができる。発光性ナノ結晶粒子の分散体を用意する工程では、光散乱性粒子の分散体を用意する工程と同様の分散装置を用いて、発光性ナノ結晶粒子と、熱硬化性樹脂との混合及び分散処理を行ってよい。 The method for producing an ink composition may further include a step of preparing a dispersion of luminescent nanocrystal particles containing the luminescent nanocrystal particles and a thermosetting resin before the second step. Good. In this case, in the second step, the dispersion of light scattering particles and the dispersion of luminescent nanocrystal particles are mixed. According to this method, the luminescent nanocrystal particles can be sufficiently dispersed. Therefore, an ink composition that can reduce leakage light in the pixel portion can be easily obtained. In the step of preparing a dispersion of luminescent nanocrystal particles, mixing and dispersion of the luminescent nanocrystal particles and the thermosetting resin are performed using the same dispersing device as the step of preparing the dispersion of light scattering particles. Processing may be performed.
本実施形態のインク組成物を、インクジェット方式用のインク組成物として用いる場合には、圧電素子を用いた機械的吐出機構による、ピエゾジェット方式のインクジェット記録装置に適用することが好ましい。ピエゾジェット方式では、吐出に当たり、インク組成物が瞬間的に高温に晒されることがなく、発光性ナノ結晶粒子の変質が起こり難く、カラーフィルタ画素部(光変換層)も期待したとおりの発光特性がより容易に得られやすい。 When the ink composition of this embodiment is used as an ink composition for an ink jet system, it is preferably applied to a piezo jet ink jet recording apparatus using a mechanical ejection mechanism using a piezoelectric element. In the piezo jet method, the ink composition is not instantaneously exposed to high temperatures during ejection, the luminescent nanocrystal particles are not easily altered, and the light emission characteristics as expected by the color filter pixel part (light conversion layer) Is easier to obtain.
本実施形態に係る光変換層は、例えば、基材上に遮光部であるブラックマトリックスをパターン状に形成した後、基材上の遮光部によって区画された画素部形成領域に、上述した実施形態のインク組成物(インクジェットインク)をインクジェット方式により選択的に付着させ、活性エネルギー線の照射又は加熱によりインク組成物を硬化させる方法により製造することができる。 The light conversion layer according to the present embodiment is, for example, the embodiment described above in which the black matrix that is the light shielding portion is formed in a pattern on the base material, and then the pixel portion forming region partitioned by the light shielding portion on the base material. The ink composition (inkjet ink) can be selectively adhered by an inkjet method, and the ink composition is cured by irradiation with active energy rays or heating.
遮光部を形成させる方法は、基材の一面側の複数の画素部間の境界となる領域に、クロム等の金属薄膜、又は、遮光性粒子を含有させた樹脂組成物の薄膜を形成し、この薄膜をパターニングする方法等が挙げられる。金属薄膜は、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法等により形成することができ、遮光性粒子を含有させた樹脂組成物の薄膜は、例えば、塗布、印刷等の方法により形成することができる。パターニングを行う方法としては、フォトリソグラフィー法等が挙げられる。 The method for forming the light-shielding part is to form a metal thin film such as chromium or a resin composition thin film containing light-shielding particles in a region that becomes a boundary between a plurality of pixel parts on one side of the substrate, A method of patterning this thin film is exemplified. The metal thin film can be formed by, for example, a sputtering method, a vacuum deposition method, or the like, and the thin film of the resin composition containing the light-shielding particles can be formed by, for example, a method such as coating or printing. Examples of the patterning method include a photolithography method.
インクジェット方式としては、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェット(登録商標)方式、或いは圧電素子を用いたピエゾジェット方式等が挙げられる。 Examples of the inkjet method include a bubble jet (registered trademark) method using an electrothermal transducer as an energy generating element, a piezo jet method using a piezoelectric element, and the like.
インク組成物の硬化を活性エネルギー線(例えば紫外線)の照射により行う場合、例えば、水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、LED等を用いてよい。照射する光の波長は、例えば、200nm以上であってよく、440nm以下であってよい。露光量は、例えば、10mJ/cm2以上であってよく、4000mJ/cm2以下であってよい。When the ink composition is cured by irradiation with active energy rays (for example, ultraviolet rays), for example, a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, an LED, or the like may be used. The wavelength of the irradiated light may be, for example, 200 nm or more and 440 nm or less. The exposure amount may be, for example, 10 mJ / cm 2 or more, and 4000 mJ / cm 2 or less.
インク組成物の硬化を加熱により行う場合、加熱温度は、例えば、110℃以上であってよく、250℃以下であってよい。加熱時間は、例えば、10分以上であってよく、120分以下であってよい。 When the ink composition is cured by heating, the heating temperature may be, for example, 110 ° C. or higher and 250 ° C. or lower. The heating time may be, for example, 10 minutes or more and 120 minutes or less.
以上、カラーフィルタ及び光変換層、並びにこれらの製造方法の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されない。 As mentioned above, although one embodiment of the color filter, the light conversion layer, and the manufacturing method thereof has been described, the present invention is not limited to the above embodiment.
(波長選択性透過層)
本実施形態に係る波長選択性透過層の平均膜厚は、所望の透過する光の波長領域や所望の反射する光の波長領域などによって適宜選択されるものであるが、0.5〜15μmが好ましく、0.7〜12μmがより好ましく、1〜10μmがさらに好ましい。(Wavelength selective transmission layer)
The average film thickness of the wavelength-selective transmission layer according to this embodiment is appropriately selected according to the desired wavelength range of transmitted light, the desired wavelength range of reflected light, and the like. Preferably, 0.7-12 micrometers is more preferable, and 1-10 micrometers is further more preferable.
本実施形態に係る光変換フィルムは、必要により支持基材(支持基板とも称する。図6に示される支持基板12に相当。)を有してもよく、例えば、光変換層を支持するため、波長選択性透過層を支持するため又は光変換フィルムを支持するために支持基板が用いられる。当該支持基板としては、ガラス基板、透明基材(プラスチックフィルム又はプラスチックシート)が好ましく、プラスチック透明基材としては、ポリオレフィン樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリイミド樹脂などからなるものが好ましく挙げられ、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムなどのポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース(TAC)などのセルロース系樹脂などが挙げられる。 The light conversion film according to the present embodiment may have a support base (also referred to as a support substrate, which corresponds to the support substrate 12 shown in FIG. 6) as necessary. For example, in order to support the light conversion layer, A support substrate is used to support the wavelength selective transmission layer or to support the light conversion film. The supporting substrate is preferably a glass substrate or a transparent substrate (plastic film or plastic sheet). The plastic transparent substrate is a polyolefin resin, vinyl resin, polyester resin, acrylic resin, polyamide resin, cellulose resin, polystyrene. Preferred examples include those made of resin, polycarbonate resin, polyarylate resin, polyimide resin, and the like, polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) film, and cellulose resins such as triacetyl cellulose (TAC).
上記支持基材は、その上に設けられる層(光変換層又は波長選択性透過層)との密着性の観点から、必要により片面又は両面にコロナ放電処理、クロム酸化処理、熱風処理、オゾン処理法、紫外線処理法、サンドブラスト法、溶剤処理法又はプラズマ処理などの物理的又は化学的表面処理を施してもよい。 From the viewpoint of adhesion with the layer (light conversion layer or wavelength-selective transmission layer) provided thereon, the support substrate is optionally subjected to corona discharge treatment, chromium oxidation treatment, hot air treatment, ozone treatment on one or both sides. A physical or chemical surface treatment such as a method, an ultraviolet treatment method, a sand blast method, a solvent treatment method or a plasma treatment may be performed.
本実施形態に係る支持基材の厚さについては特に制限はないが、耐久性を確保し、かつ汎用性を考慮すると、通常20〜200μm程度、好ましくは30〜150μmの範囲である。 Although there is no restriction | limiting in particular about the thickness of the support base material which concerns on this embodiment, When durability is ensured and versatility is considered, it is about 20-200 micrometers normally, Preferably it is the range of 30-150 micrometers.
上記支持該材は、基材と波長選択性透過層や光変換層との間の密着性、接着性の強化の観点から、プライマー層、裏面プライマー層を形成するなどの処理を施してもよい。当該プライマー層の形成に用いられる材料としては特に限定されず、アクリル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、ポリウレタン、塩素化ポリプロピレン、塩素化ポリエチレンなどが挙げられる。なお、裏面プライマー層に用いられる材料は被着材によって、適宜選択される。 The support material may be subjected to a treatment such as forming a primer layer or a back primer layer from the viewpoint of enhancing adhesion and adhesion between the substrate and the wavelength selective transmission layer or the light conversion layer. . The material used for forming the primer layer is not particularly limited, and examples thereof include acrylic resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, polyesters, polyurethanes, chlorinated polypropylenes, and chlorinated polyethylenes. The material used for the back primer layer is appropriately selected depending on the adherend.
本実施形態に係る透明基材の厚さについては特に制限はないが、耐久性を確保し、かつ汎用性を考慮すると、通常20〜200μm程度、好ましくは30〜150μmの範囲である。 Although there is no restriction | limiting in particular about the thickness of the transparent base material which concerns on this embodiment, When durability is ensured and versatility is considered, it is about 20-200 micrometers normally, Preferably it is the range of 30-150 micrometers.
本実施形態に係る波長選択性透過層は、誘電体多層膜又はコレスティック液晶層であることが好ましい。 The wavelength selective transmission layer according to this embodiment is preferably a dielectric multilayer film or a cholestic liquid crystal layer.
当該誘電体多層膜は、屈折率の異なる2つの層を有し、他方に比べて屈折率の高い高屈折率層と、当該高屈折率層に比べて屈折率の低い低屈折率層と、が交互に積層された膜をいい、複数組(例えば、2〜9組)にわたって積層させた多層構造である。この積層された多層構造は、例えば、「表面技術」誌、p890〜894、第48巻、No.9、1997年刊、栗山桂司著、に記載されている構成を有することができる。 The dielectric multilayer film includes two layers having different refractive indexes, a high refractive index layer having a higher refractive index than the other, a low refractive index layer having a lower refractive index than the high refractive index layer, Is a multilayer structure in which a plurality of sets (for example, 2 to 9 sets) are stacked. This laminated multilayer structure is described in, for example, “Surface Technology”, p890-894, Vol. 9, 1997, written by Keiji Kuriyama.
このような多層構造により、高い反射率を有するミラー、特定の波長範囲の光を反射と透過にわけるエッジフィルター類(ショートウェイブパスフィルター、ロングウェイブパスフィルター等)を得ることができる。一般に、誘電体多層膜は、高屈折率層と低屈折率層との屈折率の差を大きく設計することで、少ない層数で所望の波長の光の反射率を高くすることができる。また、このとき各屈折率層の厚さdを光学膜厚にして1/4波長、すなわち、所望の反射光の波長λに対する層材料の屈折率をnとして、d=λ/4nに設計すると、層の境界で反射した波が打ち消しあい、その波に対する禁制バンドができことで、透過率が減少することが知られている。 With such a multilayer structure, it is possible to obtain a mirror having high reflectivity and edge filters (a short wave pass filter, a long wave pass filter, etc.) that divide light in a specific wavelength range into reflection and transmission. In general, a dielectric multilayer film can increase the reflectance of light having a desired wavelength with a small number of layers by designing a large difference in refractive index between a high refractive index layer and a low refractive index layer. Further, at this time, when the thickness d of each refractive index layer is set to the optical film thickness, the refractive index of the layer material with respect to the quarter wavelength, that is, the wavelength λ of the desired reflected light is n, and d = λ / 4n It is known that the wave reflected at the layer boundary cancels out and a forbidden band is created for the wave, thereby reducing the transmittance.
本実施形態では、高屈折率層と当該高屈折率層と当接する低屈折率層とから構成される少なくとも1組において、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が、0.04以上であることが好ましく、0.05以上であることがより好ましく、0.08以上であることがさらに好ましく、0.11以上であることがよりさらに好ましく、0.21以上であることがさらにより好ましく、0.38以上であることが特に好ましい。 In the present embodiment, in at least one set including a high refractive index layer and a low refractive index layer in contact with the high refractive index layer, the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer is 0. It is preferably 04 or more, more preferably 0.05 or more, still more preferably 0.08 or more, still more preferably 0.11 or more, and 0.21 or more. Even more preferably, it is particularly preferably 0.38 or more.
例えば、高屈折率層の好ましい屈折率としては1.2〜2.7であり、より好ましくは1.5〜2.5であり、さらに好ましくは1.7〜2.3であり、特に好ましくは1.9〜2.2である。また、低屈折率層の好ましい屈折率としては、0.9〜1.7であることが好ましく、1.2〜1.55であるのがより好ましく、1.25〜1.5がさらに好ましい。 For example, the preferable refractive index of the high refractive index layer is 1.2 to 2.7, more preferably 1.5 to 2.5, still more preferably 1.7 to 2.3, and particularly preferably. Is 1.9 to 2.2. Moreover, as a preferable refractive index of a low-refractive-index layer, it is preferable that it is 0.9-1.7, it is more preferable that it is 1.2-1.55, and 1.25-1.5 is further more preferable. .
また、誘電体多層膜は、DBR(Distributed Bragg Reflector)膜などに用いられており、所定の波長光を選択的に反射することができる。本実施形態に係る誘電体多層膜の材料として、Si、Ti、Zr、Nb、Ta及びAlからなる群より選択された少なくとも一種の酸化物又は窒化物を含んで形成することができる。当該誘電体多層膜の総膜厚は、0.05μm〜2μm程度が好ましく、0.1μm〜1.5μm程度がより好ましい。 The dielectric multilayer film is used for a DBR (Distributed Bragg Reflector) film or the like, and can selectively reflect light having a predetermined wavelength. As a material of the dielectric multilayer film according to this embodiment, it can be formed including at least one oxide or nitride selected from the group consisting of Si, Ti, Zr, Nb, Ta, and Al. The total thickness of the dielectric multilayer film is preferably about 0.05 μm to 2 μm, and more preferably about 0.1 μm to 1.5 μm.
本実施形態に係る誘電体多層膜は、酸化チタン及び酸化シリコンの積層物、例えばSiO2、MgF2、CaF2などの低屈折率の酸化膜と、TiO2、ZnO2、CeO2、Ta2O3又はNb2O5などの高屈折率の酸化膜とを、真空蒸着などにより交互に形成することにより得られる。その他、銀とSiO2又はAl2O3との2層構造の膜、シリカ(SiO2)層及びチタニア(TiO2)層が交互に積層されてなる膜、窒化アルミニウム(AlN)層及び酸化アルミニウム(Al2O3)層が交互に積層されてなる膜などが挙げられ、誘電体多層膜を構成する層の材料としては、AlN、SiO2、SiN、ZrO2、SiO2、TiO2、Ta2O3、ITONb2O5、ITO等から選択することができ、例えば、SiO2/Ta2O3、SiO2/Nb2O5、SiO2/TiO2の組み合わせの誘電体多層膜が挙げられる。これらの材料(TiO2、Nb2O5及びTa2O3)屈折率の順序は、TiO2>Nb2O5>Ta2O3であり、SiO2の総膜厚はSiO2/TiO2の組み合わせの誘電体多層膜のときに薄くなる。The dielectric multilayer film according to this embodiment includes a stack of titanium oxide and silicon oxide, for example, an oxide film having a low refractive index such as SiO 2 , MgF 2 , and CaF 2 , TiO 2 , ZnO 2 , CeO 2 , and Ta 2. It can be obtained by alternately forming oxide films with a high refractive index such as O 3 or Nb 2 O 5 by vacuum deposition or the like. In addition, a film having a two-layer structure of silver and SiO 2 or Al 2 O 3 , a film in which silica (SiO 2 ) layers and titania (TiO 2 ) layers are alternately stacked, an aluminum nitride (AlN) layer, and aluminum oxide Examples include a film in which (Al 2 O 3 ) layers are alternately stacked, and materials of layers constituting the dielectric multilayer film include AlN, SiO 2 , SiN, ZrO 2 , SiO 2 , TiO 2 , Ta 2 O 3 , ITONb 2 O 5 , ITO, etc. can be selected, for example, a dielectric multilayer film of a combination of SiO 2 / Ta 2 O 3 , SiO 2 / Nb 2 O 5 , SiO 2 / TiO 2 It is done. The order of these materials (TiO 2, Nb 2 O 5 and Ta 2 O 3) refractive index is TiO 2> Nb 2 O 5> Ta 2 O 3, the total thickness of the SiO 2 is SiO 2 / TiO 2 When the dielectric multilayer film of the combination of is thinned.
例えば、誘電体多層膜として現在市販されているものとして、DFY−520(イエロー)(オプティカルソリューションズ社製)、DFM−495(マゼンタ)(オプティカルソリューションズ社製)、DFC−590(シアン)(オプティカルソリューションズ社製)、DFB−500(ブルー)(オプティカルソリューションズ社製)、DFG−505(グリーン)(オプティカルソリューションズ社製)、DFR−610(レッド)(オプティカルソリューションズ社製)、DIF−50S−BLE(シグマ光機社製)、DIF−50S−GRE(シグマ光機社製)、DIF−50S−RED(シグマ光機社製)、DIF−50S−YEL(シグマ光機社製)、DIF−50S−MAG(シグマ光機社製)又はDIF−50S−CYA(シグマ光機社製)などが挙げられる。 For example, as a multilayered dielectric film currently on the market, DFY-520 (yellow) (manufactured by Optical Solutions), DFM-495 (magenta) (manufactured by Optical Solutions), DFC-590 (cyan) (optical solutions) DFB-500 (Blue) (manufactured by Optical Solutions), DFG-505 (green) (manufactured by Optical Solutions), DFR-610 (red) (manufactured by Optical Solutions), DIF-50S-BLE (Sigma) Manufactured by Koki Co., Ltd.), DIF-50S-GRE (manufactured by Sigma Koki Co., Ltd.), DIF-50S-RED (manufactured by Sigma Koki Co., Ltd.), DIF-50S-YEL (manufactured by Sigma Koki Co., Ltd.), DIF-50S-MAG (Manufactured by Sigma Koki Co., Ltd.) or DIF-50S-CY (Sigma Koki Co., Ltd.) and the like.
また、誘電体多層膜としては、所望の範囲の波長領域を透過させ、当該所望の範囲の波長領域以外の波長領域を反射させるものを適宜使用することができる。 As the dielectric multilayer film, a film that transmits a wavelength region in a desired range and reflects a wavelength region other than the desired wavelength region can be used as appropriate.
本実施形態に係る誘電体多層膜の製造方法としては特に制限はないが、例えば、特許3704364号、特許4037835号、特許4091978号、特許3709402号、特許4860729号、特許3448626号などに記載の方法を参考に製造することができ、これらの特許公報の内容は本実施形態に組み込まれる。 Although there is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the dielectric multilayer film which concerns on this embodiment, For example, the method as described in patent 3704364, patent 4037835, patent 4091978, patent 3709402, patent 4860729, patent 3448626 etc. The contents of these patent publications are incorporated in this embodiment.
本実施形態に係る光変換フィルムにおいて、誘電体多層膜を用いた場合の光変換フィルムの製造方法としては、上記のとおり、インクジェット法やフォトリソグラフィー法で作製した光変換層の少なくとも一方の面に平坦化膜を積層させ、さらにその上に上記の文献などに記載の方法でスパッタリングなどの蒸着法で選択性光透過層を形成することで誘電体多層膜を用いた場合の光変換フィルムを作製することができる。 In the light conversion film according to the present embodiment, as a method for producing a light conversion film in the case of using a dielectric multilayer film, as described above, at least one surface of a light conversion layer produced by an inkjet method or a photolithography method is used. A light conversion film is produced when a dielectric multilayer film is used by laminating a flattening film and then forming a selective light transmission layer on it by a vapor deposition method such as sputtering according to the method described in the above document. can do.
上記平坦化膜は、光変換層を平坦化する機能を備え、有機材料であっても無機材料であってもよい。有機材料の場合は感光性樹脂組成物を用いることで形成された絶縁性の膜とすることができる。すなわち、当該平坦化膜は、環状オレフィン樹脂、アクリル樹脂、アクリルアミド樹脂、ポリシロキサン、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、カルド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂又はノボラック樹脂からなる膜が挙げられ、本実施形態において用いられる有機材料からなるパッシベーション膜は、前記樹脂及び公知の有機溶媒を含有する樹脂組成物により形成されることが好ましい。 The planarizing film has a function of planarizing the light conversion layer, and may be an organic material or an inorganic material. In the case of an organic material, an insulating film formed by using a photosensitive resin composition can be obtained. That is, the planarizing film is a film made of a cyclic olefin resin, acrylic resin, acrylamide resin, polysiloxane, epoxy resin, phenol resin, cardo resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polycarbonate resin, polyethylene terephthalate resin or novolac resin. It is preferable that the passivation film made of the organic material used in the present embodiment is formed of a resin composition containing the resin and a known organic solvent.
また、無機材料の場合は、窒化ケイ素、酸化ケイ素等の無機化合物からなる膜が挙げられる。これら平坦化膜(パッシベーション膜)は、膜の形成材料に応じた公知の方法で成膜すればよく、プラズマCVD法、蒸着法などにより成膜することができる。本実施形態に係る平坦化膜は、0.1μm〜5μmの平均膜厚で形成することが好ましい。 Moreover, in the case of an inorganic material, the film | membrane which consists of inorganic compounds, such as a silicon nitride and a silicon oxide, is mentioned. These flattening films (passivation films) may be formed by a known method according to a film forming material, and can be formed by a plasma CVD method, a vapor deposition method, or the like. The planarizing film according to this embodiment is preferably formed with an average film thickness of 0.1 μm to 5 μm.
本実施形態に係るコレステリック液晶層は、一方の面から入射する光(電磁波)のうち右円偏光成分の光又は左円偏光成分の光を選択的に反射し、他の成分の光を透過する層である。また、特定の円偏光成分の光だけを透過(又は反射)できる材料としては、コレスティック液晶又はキラルネマチック液晶が使用されることが好ましい。コレステリック液晶は、円偏光二色性の性質を備えていることが知られており、液晶のプレーナ配列のヘリカル軸に沿って入射した光(電磁波)の右旋性又は左旋性のいずれかの円偏光のうち一方を選択的に反射する性質を示す。そのため、コレステリック液晶の旋回方向を適宜選択することにより、その旋回方向と同一の旋光方向を有する円偏光が選択的に反射することができる。 The cholesteric liquid crystal layer according to the present embodiment selectively reflects the light of the right circularly polarized light component or the light of the left circularly polarized light component among the light (electromagnetic wave) incident from one surface and transmits the light of the other component. Is a layer. Further, as a material that can transmit (or reflect) only light of a specific circularly polarized component, it is preferable to use a cholesteric liquid crystal or a chiral nematic liquid crystal. Cholesteric liquid crystals are known to have circular dichroism properties, and either right-handed or left-handed circles of light (electromagnetic waves) incident along the helical axis of the liquid crystal planar array. It exhibits the property of selectively reflecting one of the polarized light. Therefore, by appropriately selecting the turning direction of the cholesteric liquid crystal, circularly polarized light having the same optical rotation direction as that turning direction can be selectively reflected.
すなわち、本実施形態に係るコレステリック液晶の選択反射層は、透明基材の表面に対して法線の方向(光の入射角θ=0°)に、多層構造となる一定周期のらせん構造(コレステリック構造)を有し、らせんピッチに対応した波長の円偏光を反射するという波長選択反射性を有する。選択反射波長(λ)と螺旋ピッチ(p)との関係は、λ=p・N(Nは重合性コレステリック液晶組成物の平均屈折率)の関係で表され、選択反射を示す波長の幅(Δλ)は、重合性液晶組成物の複屈折異方性(Δn)とpの積で表される。 That is, the selective reflection layer of the cholesteric liquid crystal according to the present embodiment has a spiral structure (cholesteric structure) having a multilayer structure in a normal direction (light incident angle θ = 0 °) with respect to the surface of the transparent substrate. And has a wavelength selective reflectivity of reflecting circularly polarized light having a wavelength corresponding to the helical pitch. The relationship between the selective reflection wavelength (λ) and the helical pitch (p) is represented by the relationship of λ = p · N (N is the average refractive index of the polymerizable cholesteric liquid crystal composition), and the width of the wavelength indicating selective reflection ( (Δλ) is represented by the product of birefringence anisotropy (Δn) of the polymerizable liquid crystal composition and p.
本実施形態に係るコレステリック液晶の選択反射のピーク波長は、コレステリック構造のピッチ長で決定され、ネマチック液晶分子(液晶化合物)とキラル化合物とを使用してコレステリック液晶を得る場合には、キラル化合物の添加量などを調整することにより螺旋ピッチ長を制御できる。そのため、所望の螺旋ピッチ長を得るためには、キラル化合物の種類、キラル化合物の添加量、使用する液晶化合物の種類に応じて適宜調整することで、任意に選択波長領域を選択できる。 The peak wavelength of selective reflection of the cholesteric liquid crystal according to the present embodiment is determined by the pitch length of the cholesteric structure, and when a cholesteric liquid crystal is obtained using a nematic liquid crystal molecule (liquid crystal compound) and a chiral compound, The helical pitch length can be controlled by adjusting the addition amount and the like. Therefore, in order to obtain a desired helical pitch length, the selected wavelength region can be arbitrarily selected by appropriately adjusting according to the type of chiral compound, the amount of chiral compound added, and the type of liquid crystal compound to be used.
本実施形態に係るコレステリック液晶層は、重合性液晶化合物、キラル化合物及び重合開始剤を含有する重合性液晶組成物を重合させて得られることが好ましい。 The cholesteric liquid crystal layer according to this embodiment is preferably obtained by polymerizing a polymerizable liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound, a chiral compound, and a polymerization initiator.
また、本実施形態において、重合性液晶化合物の「液晶」とは、用いる重合性液晶化合物1種のみの化合物で液晶性を示すことを意図する場合や、その他の液晶化合物と混合し混合物とした場合に液晶性を示すことを意図する。なお、重合性液晶組成物は紫外線等の光照射、加熱又はそれらの併用によって重合処理を行うことでポリマー化(フィルム化)することができる。 In the present embodiment, the “liquid crystal” of the polymerizable liquid crystal compound is a mixture of a liquid crystal compound that is intended to exhibit liquid crystal properties with only one type of polymerizable liquid crystal compound to be used, or is mixed with another liquid crystal compound. In some cases it is intended to exhibit liquid crystallinity. The polymerizable liquid crystal composition can be polymerized (formed into a film) by performing a polymerization treatment by irradiation with light such as ultraviolet rays, heating, or a combination thereof.
本実施形態に係る波長選択性透過層として、コレステリック液晶層を使用する形態としては、右旋性(右巻きとも称する。)のコレステリック液晶層と左旋性(左巻きとも称する。)のコレステリック液晶層とを積層させた2層の積層体、2枚の右旋性のコレステリック液晶層の間にλ/2板を挟持した積層体(右旋性のコレステリック液晶層、λ/2板及び右旋性のコレステリック液晶層の順で積層した積層体)、2枚の左旋性のコレステリック液晶層の間にλ/2板を挟持した積層体(左旋性のコレステリック液晶層、λ/2板及び左旋性のコレステリック液晶層の順で積層した積層体)が好ましい。 As a form using a cholesteric liquid crystal layer as the wavelength selective transmission layer according to the present embodiment, a cholesteric liquid crystal layer having a dextrorotatory (also referred to as right-handed) and a cholesteric liquid crystal layer having a left-handed (also referred to as left-handed) are disclosed. A laminated body in which a λ / 2 plate is sandwiched between two dextrorotatory cholesteric liquid crystal layers (a dextrorotatory cholesteric liquid crystal layer, a λ / 2 plate, and a dextrorotatory layer). Laminated body in the order of cholesteric liquid crystal layers) Laminated body with a λ / 2 plate sandwiched between two levorotatory cholesteric liquid crystal layers (a levorotatory cholesteric liquid crystal layer, a λ / 2 plate and a levorotatory cholesteric layer) A laminate in which the liquid crystal layers are laminated in this order is preferable.
本実施形態に係る光変換層の好ましい形態としては、光変換層の一方の面に右旋性のコレステリック液晶層と左旋性のコレステリック液晶層とを積層させた2層の積層体を形成した形態、光変換層の一方の面に2枚の右旋性のコレステリック液晶層の間にλ/2板を挟持した積層体を形成した形態、光変換層の一方の面に2枚の左旋性のコレステリック液晶層の間にλ/2板を挟持した積層体を形成した形態、光変換層の一方の面に右旋性のコレステリック液晶層と左旋性のコレステリック液晶層とを積層させた2層の積層体を形成し、かつ他方の面に黄色カラーフィルタを形成した形態、光変換層の一方の面に2枚の右旋性のコレステリック液晶層の間にλ/2板を挟持した積層体を形成し、かつ他方の面に黄色カラーフィルタを形成した形態、光変換層の一方の面に2枚の左旋性のコレステリック液晶層の間にλ/2板を挟持した積層体を形成し、かつ他方の面に黄色カラーフィルタを形成した形態の6つが挙げられる。 As a preferred form of the light conversion layer according to the present embodiment, a form in which a two-layer laminate in which a dextrorotatory cholesteric liquid crystal layer and a levorotatory cholesteric liquid crystal layer are laminated on one surface of the light conversion layer is formed. A layered structure in which a λ / 2 plate is sandwiched between two dextrorotatory cholesteric liquid crystal layers on one surface of the light conversion layer, and two levorotatory layers on one surface of the light conversion layer Form in which a laminated body with a λ / 2 plate sandwiched between cholesteric liquid crystal layers is formed, and a two-layer structure in which a dextrorotatory cholesteric liquid crystal layer and a levorotatory cholesteric liquid crystal layer are laminated on one surface of the light conversion layer A laminate in which a yellow color filter is formed on the other surface, and a laminate in which a λ / 2 plate is sandwiched between two dextrorotatory cholesteric liquid crystal layers on one surface of the light conversion layer. Formed with a yellow color filter formed on the other side There are six forms in which a laminated body in which a λ / 2 plate is sandwiched between two levorotatory cholesteric liquid crystal layers is formed on one surface of the light conversion layer, and a yellow color filter is formed on the other surface. It is done.
本実施形態に係るコレステリック液晶層の総膜厚は、1μm〜12μm程度が好ましく、1μm〜10μm程度がより好ましく、2μm〜8μm程度がさらに好ましい。ここでいう総膜厚は平均膜厚の意味であり、コレステリック液晶層(右旋性、左旋性)の2層と、必要に含まれるλ/2板との合計膜厚を意味し、必要により設けられる基板の厚みは含まれない。また、上記において、本実施形態に係る波長選択性透過層としてコレステリック液晶層を使用する形態(積層体)を6つ説明したが、各右旋性のコレステリック液晶層及び/又は各左旋性のコレステリック液晶層の単層の平均厚みは、4.1μm以下であることが好ましく、3.1μm以下であることがより好ましい。また、必要により設けられるλ/2板の平均厚みは、2μm以下であることが好ましい。 The total film thickness of the cholesteric liquid crystal layer according to this embodiment is preferably about 1 μm to 12 μm, more preferably about 1 μm to 10 μm, and even more preferably about 2 μm to 8 μm. The total film thickness here means the average film thickness, which means the total film thickness of the two cholesteric liquid crystal layers (right-handed and left-handed) and the necessary λ / 2 plate, and if necessary The thickness of the provided substrate is not included. In the above description, six forms (laminates) using a cholesteric liquid crystal layer as the wavelength-selective transmission layer according to the present embodiment have been described. However, each dextrorotatory cholesteric liquid crystal layer and / or each levorotatory cholesteric is described. The average thickness of the single layer of the liquid crystal layer is preferably 4.1 μm or less, and more preferably 3.1 μm or less. The average thickness of the λ / 2 plate provided as necessary is preferably 2 μm or less.
本実施形態に係るコレステリック液晶層に用いられる重合性液晶組成物は、少なくとも1つの重合性基を有する液晶性化合物を必須成分として含有する。本実施形態の少なくとも1つの重合性基を有する液晶性化合物は、メソゲン性骨格を有する重合性化合物であればよく、前記化合物単独では、液晶性を示さなくてもよい。 The polymerizable liquid crystal composition used for the cholesteric liquid crystal layer according to this embodiment contains a liquid crystal compound having at least one polymerizable group as an essential component. The liquid crystalline compound having at least one polymerizable group in the present embodiment may be a polymerizable compound having a mesogenic skeleton, and the compound alone may not exhibit liquid crystallinity.
例えば、Handbook of Liquid Crystals (D.Demus, J.W.Goodby, G.W.Gray, H.W.Spiess, V.Vill編集, Wiley-VCH社発行, 1998年)、季刊化学総説No.22、液晶の化学(日本化学会編,1994年)、あるいは、特開平7−294735号公報、特開平8−3111号公報、特開平8−29618号公報、特開平11−80090号公報、特開平11−116538号公報、特開平11−148079号公報、等に記載されているような、1,4−フェニレン基1,4−シクロヘキレン基等の構造が複数繋がったメソゲンと呼ばれる剛直な部位と、ビニル基、アクリル基、(メタ)アクリル基といった重合性官能基を2つ以上有する棒状重合性液晶化合物、あるいは特開2004−2373号公報、特開2004−99446号公報に記載されているようなマレイミド基を有する2つ以上の重合性基を有する棒状重合性液晶化合物が挙げられる。中でも、2つ以上の重合性基を有する棒状液晶化合物が、液晶温度範囲として室温前後の低温を含むものを作りやすく好ましい。 For example, Handbook of Liquid Crystals (D. Demus, J.W.Goodby, G.W.Gray, H.W.Spiess, V.Vill, published by Wiley-VCH, 1998), Quarterly Chemical Review No. 22, Liquid Crystal Chemistry (edited by the Chemical Society of Japan, 1994), or JP-A-7-294735, JP-A-8-3111, JP-A-8-29618, JP-A-11-80090, A rigid part called a mesogen in which a plurality of structures such as 1,4-phenylene group and 1,4-cyclohexylene group are connected as described in Kaihei 11-116538, JP-A-11-148079, etc. And a rod-like polymerizable liquid crystal compound having two or more polymerizable functional groups such as a vinyl group, an acrylic group, and a (meth) acryl group, or JP-A Nos. 2004-2373 and 2004-99446. Examples thereof include a rod-like polymerizable liquid crystal compound having two or more polymerizable groups having a maleimide group. Among them, a rod-like liquid crystal compound having two or more polymerizable groups is preferable because it can easily produce a liquid crystal having a temperature range around room temperature.
本実施形態に係るコレステリック液晶層として、緑色波長領域(例えば、490〜595nm、より好ましくは510〜590nm)を有する光を反射させる場合、p(螺旋ピッチ)とN(重合性コレステリック液晶組成物の平均屈折率)との積を、490=p×N、595=p×Nの関係式を満たすように調整する。同様に、赤色波長領域(例えば、600〜710nm、より好ましくは610〜700nm)の光を反射させる場合、p(螺旋ピッチ)とN(重合性コレステリック液晶組成物の平均屈折率)との積を、620=p×N、690=p×Nの関係式を満たすように調整する。 When reflecting light having a green wavelength region (for example, 490 to 595 nm, more preferably 510 to 590 nm) as the cholesteric liquid crystal layer according to the present embodiment, p (spiral pitch) and N (polymerizable cholesteric liquid crystal composition) The product with the average refractive index is adjusted so as to satisfy the relational expression of 490 = p × N, 595 = p × N. Similarly, when reflecting light in the red wavelength region (for example, 600 to 710 nm, more preferably 610 to 700 nm), the product of p (spiral pitch) and N (average refractive index of the polymerizable cholesteric liquid crystal composition) is 620 = p × N and 690 = p × N.
具体的には、本実施形態に係る重合性コレステリック液晶組成物の硬化物の各層の平均屈折率を、0.9〜2.1の範囲にすることが好ましく、1.0〜2.0の範囲にすることがより好ましく、1.1〜1.9の範囲にすることがさらに好ましく、1.2〜1.8の範囲にすることがよりさらに好ましく、1.4〜1.75の範囲にすることが特に好ましい。また、本実施形態に係る重合性コレステリック液晶組成物の硬化物の螺旋ピッチpは、添加するキラル化合物の量や種類によって適宜調整され、また、本実施形態に係る重合性コレステリック液晶組成物中のキラル化合物のらせんねじれ力(HTP)が強いとキラル化合物の添加量は少量でよく、当該組成物中のキラル化合物のHTPが弱いとキラル化合物の添加量が多くなる傾向がある。 Specifically, the average refractive index of each layer of the cured product of the polymerizable cholesteric liquid crystal composition according to this embodiment is preferably in the range of 0.9 to 2.1, and is preferably 1.0 to 2.0. More preferably, the range is 1.1 to 1.9, even more preferably 1.2 to 1.8, and more preferably 1.4 to 1.75. It is particularly preferable that Further, the helical pitch p of the cured product of the polymerizable cholesteric liquid crystal composition according to the present embodiment is appropriately adjusted depending on the amount and type of the chiral compound to be added, and in the polymerizable cholesteric liquid crystal composition according to the present embodiment. If the helical twisting power (HTP) of the chiral compound is strong, the amount of the chiral compound added may be small, and if the HTP of the chiral compound in the composition is weak, the amount of the chiral compound tends to increase.
本実施形態に係る光変換フィルムにおいて、コレステリック液晶層を用いた場合の光変換フィルムの製造方法としては、上記のとおり、インクジェット法やフォトリソグラフィー法で作製した光変換層の少なくとも一方の面を、例えばナイロン、レーヨン、コットンなどの繊維からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦るラビング処理した後、重合性コレステリック液晶組成物を塗布し、コレステリック液晶分子を配向させた後、重合性コレステリック液晶を重合して硬化させる方法が挙げられる。その他の光変換フィルムの製造方法としては、光変換層の少なくとも一方の面に平坦化膜(有機材料)や(光)配向層を形成するための組成物を塗布して硬化させた後、硬化物である平坦化膜や配向層に対してナイロン、レーヨン、コットンなどの繊維からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦るラビング処理する方法又は光配向層(後述の光配向膜)に対して偏光又は非偏光の放射線を照射する光配向処理する方法などが挙げられる。 In the light conversion film according to the present embodiment, as a method for producing a light conversion film when using a cholesteric liquid crystal layer, as described above, at least one surface of a light conversion layer produced by an inkjet method or a photolithography method is used. For example, after rubbing with a roll of cloth made of fibers such as nylon, rayon and cotton, rubbing in a certain direction, applying a polymerizable cholesteric liquid crystal composition and orienting cholesteric liquid crystal molecules, A method of polymerizing and curing may be mentioned. As another method for producing a light conversion film, a composition for forming a planarizing film (organic material) or a (light) alignment layer is applied and cured on at least one surface of the light conversion layer, and then cured. A method of rubbing in a certain direction with a roll wound with a fiber made of nylon, rayon, cotton or the like, or a photo-alignment layer (a photo-alignment film described later) Examples include a method of performing photo-alignment treatment by irradiating polarized or non-polarized radiation.
本実施形態に係るコレステリック液晶層に用いられる重合性液晶組成物は、第一成分として、下記一般式(I−2):
MG122は下記一般式(I−2−b)で表されるメソゲン基を表し、
MG 122 represents a mesogenic group represented by the following general formula (I-2-b),
重合性液晶組成物は、第二成分として、下記一般式(II−2):
重合性液晶組成物は、第三成分として、下記一般式(II−1):
A211及びA212は各々独立して、1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、ビシクロ[2.2.2]オクタン−1,4−ジイル基、ピリジン−2,5−ジイル基、ピリミジン−2,5−ジイル基、ナフタレン−2,6−ジイル基、ナフタレン−1,4−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基、デカヒドロナフタレン−2,6−ジイル基又は1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は1つ以上の置換基Lによって置換されても良く、
Lはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、置換されていても良いフェニル基、置換されていても良いフェニルアルキル基、置換されていても良いシクロヘキシルアルキル基、又は、1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−が各々独立して−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−CO−S−、−S−CO−、−O−CO−O−、−CO−NR0−、−NR0−CO−、−CH=CH−COO−、−CH=CH−OCO−、−COO−CH=CH−、−OCO−CH=CH−、−CH=CH−、−N=N−、−CR0=N−、−N=CR0−、−CH=N−N=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−(式中、R0は水素原子又は炭素原子数1から8のアルキル基を表す。)によって置換されても良い炭素原子数1から20の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、化合物内にLが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、A212が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、
Z211は、−O−、−S−、−OCH2−、−CH2O−、−CH2CH2−、−CO−、−COO−、−OCO−、−CO−S−、−S−CO−、−O−CO−O−、−CO−NH−、−NH−CO−、−OCO−NH−、−NH−COO−、−NH−CO−NH−、−NH−O−、−O−NH−、−SCH2−、−CH2S−、−CF2O−、−OCF2−、−CF2S−、−SCF2−、−CH=CH−COO−、−CH=CH−OCO−、−COO−CH=CH−、−OCO−CH=CH−、−COO−CH2CH2−、−OCO−CH2CH2−、−CH2CH2−COO−、−CH2CH2−OCO−、−COO−CH2−、−OCO−CH2−、−CH2−COO−、−CH2−OCO−、−CH=CH−、−N=N−、−CH=N−、−N=CH−、−CH=N−N=CH−、−CF=CF−、−C≡C−又は単結合を表すが、Z211が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、
m211は1〜3の整数を表し、
T211は水素原子、−OH基、−SH基、−CN基、−COOH基、−NH2基、−NO2基、−COCH3基、−O(CH2)nCH3、又は−(CH2)nCH3を表し、nは0〜20の整数を表す。)で表される重合性液晶化合物を含有することが好ましい。The polymerizable liquid crystal composition has the following general formula (II-1) as a third component:
A 211 and A 212 are each independently 1,4-phenylene group, 1,4-cyclohexylene group, bicyclo [2.2.2] octane-1,4-diyl group, pyridine-2,5-diyl. Group, pyrimidine-2,5-diyl group, naphthalene-2,6-diyl group, naphthalene-1,4-diyl group, tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group, decahydronaphthalene-2,6-diyl group or Represents a 1,3-dioxane-2,5-diyl group, these groups may be unsubstituted or substituted by one or more substituents L;
L is a fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, pentafluorosulfuranyl group, nitro group, cyano group, isocyano group, amino group, hydroxyl group, mercapto group, methylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, Diisopropylamino group, trimethylsilyl group, dimethylsilyl group, thioisocyano group, optionally substituted phenyl group, optionally substituted phenylalkyl group, optionally substituted cyclohexylalkyl group, or one —CH 2- or two or more non-adjacent —CH 2 — are each independently —O—, —S—, —CO—, —COO—, —OCO—, —CO—S—, —S—CO. -, - OCO-O -, - CO-NR 0 -, - NR 0 -CO -, - CH = CH-COO -, - CH = CH-OCO -, - C O-CH = CH -, - OCO-CH = CH -, - CH = CH -, - N = N -, - CR 0 = N -, - N = CR 0 -, - CH = N-N = CH- , —CF═CF— or —C≡C— (wherein R 0 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms), and is a straight chain having 1 to 20 carbon atoms. A hydrogen atom in the alkyl group may be substituted with a fluorine atom, and when a plurality of L are present in the compound, they may be the same or different. , A 212 may be the same or different when there are multiple,
Z 211 is, -O -, - S -, - OCH 2 -, - CH 2 O -, - CH 2 CH 2 -, - CO -, - COO -, - OCO -, - CO-S -, - S -CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -OCO-NH-, -NH-COO-, -NH-CO-NH-, -NH-O-, -O-NH -, - SCH 2 -, - CH 2 S -, - CF 2 O -, - OCF 2 -, - CF 2 S -, - SCF 2 -, - CH = CH-COO -, - CH = CH—OCO—, —COO—CH═CH—, —OCO—CH═CH—, —COO—CH 2 CH 2 —, —OCO—CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 —COO—, —CH 2 CH 2 -OCO -, - COO -CH 2 -, - OCO-CH 2 -, - CH 2 -COO -, - CH 2 -OCO-, CH = CH-, -N = N-, -CH = N-, -N = CH-, -CH = NN-CH-, -CF = CF-, -C≡C- or a single bond. , When there are a plurality of Z 211, they may be the same or different,
m211 represents an integer of 1 to 3,
T 211 is a hydrogen atom, —OH group, —SH group, —CN group, —COOH group, —NH 2 group, —NO 2 group, —COCH 3 group, —O (CH 2 ) n CH 3 , or — ( It represents CH 2) n CH 3, n is an integer of 0 to 20. It is preferable to contain the polymerizable liquid crystal compound represented by this.
重合性液晶組成物は、第四成分としてキラル化合物を含有することが好ましい。 The polymerizable liquid crystal composition preferably contains a chiral compound as the fourth component.
上記一般式(I−2)において、P121及びP122はそれぞれ独立して重合性官能基を表すが、下記の式(P−1)から式(P−17):
上記一般式(I−2)において、Sp121及びSp122はそれぞれ独立して、炭素原子数1〜15のアルキレン基を表すことが好ましく、該アルキレン基中の1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−が各々独立して−COO−、−OCO−又は−OCO−O−によって置換されても良く、該アルキレン基の有する1個又は2個以上の水素原子は、ハロゲン原子(好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)又はCN基によって置換されても良く、Sp11及びSp12はそれぞれ独立して、炭素原子数1〜12のアルキレン基を表すことがより好ましく、該アルキレン基中の1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−が各々独立して−O−、−COO−、−OCO−又は−OCO−O−によって置換されても良い。In the general formula (I-2), Sp 121 and Sp 122 each independently preferably represent an alkylene group having 1 to 15 carbon atoms, and one —CH 2 — or adjacent group in the alkylene group. Two or more —CH 2 — that are not present may be each independently substituted by —COO—, —OCO—, or —OCO—O—, and one or more hydrogen atoms of the alkylene group May be substituted by a halogen atom (preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom) or a CN group, and Sp 11 and Sp 12 are each independently an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms. it is more preferable that represents, one -CH 2 in the alkylene group - or nonadjacent two or more -CH 2 - are each independently -O -, - COO -, - OCO- or -O O-O-by may be substituted.
上記一般式(I−2)において、X121及びX122はそれぞれ独立して、−O−、−OCH2−、−CH2O−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−CO−O−、−CO−NH−、−NH−CO−、−CF2O−、−OCF2−、−CH=CH−COO−、−CH=CH−OCO−、−COO−CH=CH−、−OCO−CH=CH−、−COO−CH2CH2−、−OCO−CH2CH2−、−CH2CH2−COO−、−CH2CH2−OCO−、−COO−CH2−、−OCO−CH2−、−CH2−COO−、−CH2−OCO−、−CH=CH−、−N=N−、−CH=N−N=CH−、−CF=CF−、−C≡C−又は単結合を表すことが好ましく、X121及びX122はそれぞれ独立して、−O−、−OCH2−、−CH2O−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−CO−O−、−CF2O−、−OCF2−、−CH=CH−COO−、−CH=CH−OCO−、−COO−CH=CH−、−OCO−CH=CH−、−COO−CH2CH2−、−OCO−CH2CH2−、−CH2CH2−COO−、−CH2CH2−OCO−、−COO−CH2−、−OCO−CH2−、−CH2−COO−、−CH2−OCO−、−CH=CH−、−CF=CF−、−C≡C−又は単結合を表すことがより好ましい。In the general formula (I-2), X 121 and X 122 are each independently —O—, —OCH 2 —, —CH 2 O—, —CO—, —COO—, —OCO—, —O. -CO-O -, - CO- NH -, - NH-CO -, - CF 2 O -, - OCF 2 -, - CH = CH-COO -, - CH = CH-OCO -, - COO-CH = CH -, - OCO-CH = CH -, - COO-CH 2 CH 2 -, - OCO-CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 -COO -, - CH 2 CH 2 -OCO -, - COO- CH 2 -, - OCO-CH 2 -, - CH 2 -COO -, - CH 2 -OCO -, - CH = CH -, - N = N -, - CH = N-N = CH -, - CF = CF -, - C≡C- or preferably a single bond, X 121 and X 122 each independently Te, -O -, - OCH 2 - , - CH 2 O -, - CO -, - COO -, - OCO -, - OCO-O -, - CF 2 O -, - OCF 2 -, - CH = CH-COO -, - CH = CH-OCO -, - COO-CH = CH -, - OCO-CH = CH -, - COO-CH 2 CH 2 -, - OCO-CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 —COO—, —CH 2 CH 2 —OCO—, —COO—CH 2 —, —OCO—CH 2 —, —CH 2 —COO—, —CH 2 —OCO—, —CH═CH—, More preferably, it represents —CF═CF—, —C≡C— or a single bond.
MG122はメソゲン基を表し、一般式(I−2−b)
Z1及びZ2はそれぞれ独立して、−COO−、−OCO−、−CH2CH2−、−OCH2−、−CH2O−、−CH=CH−、−C≡C−、−CH=CHCOO−、−OCOCH=CH−、−CH2CH2COO−、−CH2CH2OCO−、−COOCH2CH2−、−OCOCH2CH2−、−C=N−、−N=C−、−CONH−、−NHCO−、−C(CF3)2−、ハロゲン原子(好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)を有してもよい炭素原子数2〜10のアルキル基又は単結合を表し、Z1及びZ2はそれぞれ独立して−COO−、−OCO−、−CH2CH2−、−OCH2−、−CH2O−、−CH=CH−、−C≡C−、−CH=CHCOO−、−OCOCH=CH−、−CH2CH2COO−、−CH2CH2OCO−、−COOCH2CH2−、−OCOCH2CH2−又は単結合であることが好ましく、−COO−、−OCO−、−OCH2−、−CH2O−、−CH2CH2O−、−CH2CH2OCO−、−COOCH2CH2−、−OCOCH2CH2−又は単結合であることがより好ましく、r1は0、1、2又は3を表し、A1、及びZ1が複数存在する場合は、それぞれ、同一であっても、異なっていても良い。このうち、A1、A2及びA3はそれぞれ独立的に、1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、2,6−ナフチレン基(該1,4−フェニレン基、2,6−ナフチレン基は置換基L2を有していても良い)を表すことが好ましい。MG 122 represents a mesogenic group and has the general formula (I-2-b)
Z1 and Z2 are each independently —COO—, —OCO—, —CH 2 CH 2 —, —OCH 2 —, —CH 2 O—, —CH═CH—, —C≡C—, —CH═. CHCOO -, - OCOCH = CH - , - CH 2 CH 2 COO -, - CH 2 CH 2 OCO -, - COOCH 2 CH 2 -, - OCOCH 2 CH 2 -, - C = N -, - N = C- , -CONH -, - NHCO -, - C (CF 3) 2 -, a halogen atom (preferably fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom) alkyl group which may C2-10 have a Or Z 1 and Z 2 are each independently —COO—, —OCO—, —CH 2 CH 2 —, —OCH 2 —, —CH 2 O—, —CH═CH—, —C≡C. -, -CH = CHCOO-, -OCOCH = CH- , - - -CH 2 CH 2 COO CH 2 CH 2 OCO -, - COOCH 2 CH 2 -, - OCOCH 2 CH 2 - or preferably a single bond, -COO -, - OCO -, - OCH 2 - , -CH 2 O -, - CH 2 CH 2 O -, - CH 2 CH 2 OCO -, - COOCH 2 CH 2 -, - OCOCH 2 CH 2 - or more preferably a single bond, r1 is 0, In the case where a plurality of A1 and Z1 are present, they may be the same or different. Of these, A1, A2 and A3 are each independently 1,4-phenylene group, 1,4-cyclohexylene group, 2,6-naphthylene group (the 1,4-phenylene group, 2,6-naphthylene group). Preferably represents a substituent L 2 ).
上記一般式(I−2)の例として、下記一般式(I−2−1)〜(I−2−4)で表される化合物を挙げることができるが、下記の一般式に限定されるわけではない。
式中、P121、Sp121、X121、q121、X122、Sp122、q122、P122は、それぞれ、上記一般式(I−2)の定義と同じものを表し、
A11とA12とA13、A2、A3は、上記一般式(I−2−b)のA1〜A3の定義と同じものを表し、それぞれ、同一であっても、異なっていても良く、
Z11とZ12とZ13、Z2は、それぞれ、上記一般式(I−2−b)のZ1、Z2の定義と同じものを表し、それぞれ、同一であっても、異なっていても良い。In the formula, P 121 , Sp 121 , X 121 , q 121 , X 122 , Sp 122 , q 122 , and P 122 each represent the same definition as in the general formula (I-2),
A11, A12, A13, A2, and A3 represent the same definitions as A1 to A3 in the general formula (I-2-b), and may be the same or different,
Z11, Z12, Z13, and Z2 represent the same definitions as Z1 and Z2 in the general formula (I-2-b), respectively, and may be the same or different.
上記一般式(I−1−1−1)〜(I−1−1−4)で表される化合物のうち、一般式(I−2−2)〜(I−2−4)で表される、化合物中に3つ以上の環構造を有する化合物を用いると、得られる光学異方体の配向性が良好となるため好ましく、化合物中に3つの環構造を有する一般式(I−2−2)で表される化合物を用いることが特に好ましい。 Of the compounds represented by the general formulas (I-1-1-1) to (I-1-1-4), those represented by the general formulas (I-2-2) to (I-2-4) It is preferable to use a compound having three or more ring structures in the compound because the orientation of the obtained optical anisotropic body is good, and the general formula (I-2-2) having three ring structures in the compound is preferable. It is particularly preferable to use the compound represented by 2).
上記一般式(I−2−1)〜(I−2−4)で表される化合物としては、以下の一般式(I−2−1−1)〜一般式(I−2−1−21)で表される化合物を例示されるが、これらに限定される訳ではない。 Examples of the compounds represented by the general formulas (I-2-1) to (I-2-4) include the following general formulas (I-2-1-1) to (I-2-1-21). ) Is exemplified, but not limited thereto.
一般式(I−2−1−1)〜一般式(I−2−1−21)中、Rd及びReは、それぞれ独立して水素原子又はメチル基を表し、
上記環状基は、置換基として1個以上のF、Cl、CF3、OCF3、CN基、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数1〜8のアルカノイル基、炭素原子数1〜8のアルカノイルオキシ基、炭素原子数1〜8のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜8のアルケニル基、炭素原子数2〜8のアルケニルオキシ基、炭素原子数2〜8のアルケノイル基、炭素原子数2〜8のアルケノイルオキシ基を有していても良く、
m1、m2、m3、m4は、それぞれ独立して0〜18の整数を表すが、それぞれ独立して0〜8の整数が好ましく、n1、n2、n3、n4はそれぞれ独立して0又は1を表す。In General Formula (I-2-1-1) to General Formula (I-2-1-21), R d and R e each independently represent a hydrogen atom or a methyl group,
The cyclic group has one or more F, Cl, CF 3 , OCF 3 , CN groups, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, and 1 to 1 carbon atoms as substituents. 8 alkanoyl groups, alkanoyloxy groups having 1 to 8 carbon atoms, alkoxycarbonyl groups having 1 to 8 carbon atoms, alkenyl groups having 2 to 8 carbon atoms, alkenyloxy groups having 2 to 8 carbon atoms, carbon atoms It may have an alkenoyl group having 2 to 8 carbon atoms or an alkenoyloxy group having 2 to 8 carbon atoms,
m1, m2, m3, and m4 each independently represents an integer of 0 to 18, but each independently represents an integer of 0 to 8, and n1, n2, n3, and n4 each independently represents 0 or 1. To express.
上記一般式(I−2)で表される2官能重合性液晶化合物は1種又は2種以上用いても良いが、一般式(I−2)で表される2官能重合性液晶化合物の合計含有量は、重合性液晶組成物に用いる重合性液晶化合物の合計量のうち、0〜50質量%含有することが好ましく、0〜30質量%含有することがより好ましい。また、重合性液晶組成物中にキラル化合物を添加した際に、ねじれネマチック相又はコレステリック相を発現させやすくするためには、化合物の構造が非対称なもの、あるいは、メソゲン骨格部分に置換基を有するものが好ましく、重合性液晶組成物に用いる重合性液晶化合物の合計量のうち、0〜20質量%含有することが特に好ましい。また、具体的に、上記一般式(I−2−1)〜(I−2−4)で表される化合物、更には上記一般式(I−2−1−1)〜一般式(I−2−1−21)で表される化合物を用いた場合も当該割合で含有することが好ましい。 The bifunctional polymerizable liquid crystal compound represented by the general formula (I-2) may be used alone or in combination of two or more, but the total of the bifunctional polymerizable liquid crystal compound represented by the general formula (I-2) The content is preferably 0 to 50% by mass, more preferably 0 to 30% by mass, out of the total amount of the polymerizable liquid crystal compound used in the polymerizable liquid crystal composition. In addition, when a chiral compound is added to the polymerizable liquid crystal composition, in order to easily develop a twisted nematic phase or a cholesteric phase, the compound has an asymmetric structure or has a substituent in the mesogenic skeleton. In particular, it is particularly preferable to contain 0 to 20% by mass of the total amount of the polymerizable liquid crystal compound used in the polymerizable liquid crystal composition. Further, specifically, the compounds represented by the general formulas (I-2-1) to (I-2-4), and further, the general formulas (I-2-1-1) to the general formula (I- Also when the compound represented by 2-1-21) is used, it is preferably contained in this proportion.
上記一般式(I−2−1−1)〜一般式(I−2−1−21)で表される化合物はさらに具体的に以下の一般式(I−2−2−1)〜一般式(I−2−2−24)で表される化合物を例示できるが、これらに限定される訳ではない。 The compounds represented by the general formula (I-2-1-1) to the general formula (I-2-1-21) are more specifically represented by the following general formulas (I-2-2-1) to the general formula. Although the compound represented by (I-2-2-24) can be illustrated, it is not necessarily limited to these.
上記一般式(I−2)で表される2官能重合性液晶化合物は1種又は2種以上用いても良いが、一般式(I−2)で表される2官能重合性液晶化合物の合計含有量は、密着性及び耐熱性の点から5〜50質量%含有することが好ましく、5〜40質量%含有することがより好ましく、5〜30質量%含有することが特に好ましく、5〜20質量%含有することが最も好ましい。 The bifunctional polymerizable liquid crystal compound represented by the general formula (I-2) may be used alone or in combination of two or more, but the total of the bifunctional polymerizable liquid crystal compound represented by the general formula (I-2) The content is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, particularly preferably 5 to 30% by mass from the viewpoints of adhesion and heat resistance. It is most preferable to contain by mass%.
また一般式(I−2)で表される化合物として具体的には、下記の式(I−1−1)から式(I−1−7)で表される化合物が好ましい。
上記一般式(I−1−1)〜一般式(I−1−7)中でも、一般式(1−1−1)の化合物が最も好ましい。Further, specifically, compounds represented by the following formulas (I-1-1) to (I-1-7) are preferable as the compounds represented by the general formula (I-2).
Among the general formula (I-1-1) to general formula (I-1-7), the compound represented by the general formula (1-1-1) is most preferable.
上記一般式(I−2)で表される2官能重合性液晶化合物は1種又は2種以上用いても良いが、一般式(I−2)で表される2官能重合性液晶化合物の合計含有量は、重合性液晶組成物に用いる重合性液晶化合物の合計量のうち、5〜50質量%含有することが好ましく、5〜40質量%含有することがより好ましく、5〜30質量%含有することが特に好ましく、5〜20質量%含有することが最も好ましい。 The bifunctional polymerizable liquid crystal compound represented by the general formula (I-2) may be used alone or in combination of two or more, but the total of the bifunctional polymerizable liquid crystal compound represented by the general formula (I-2) The content is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, and 5 to 30% by mass in the total amount of the polymerizable liquid crystal compound used in the polymerizable liquid crystal composition. It is particularly preferred to contain 5 to 20% by mass, and most preferred.
本実施形態の重合性液晶組成物には、上記一般式(I−2)で表される2官能重合性液晶化合物を含有することが好ましく、該2官能重合性液晶化合物と共に、第二成分として下記一般式(II−2)で表される単官能重合性液晶化合物を併用することがより好ましい。これにより、該重合性液晶組成物の相溶性が高まると共に、実用レベルのUV照射量にて測定した場合の、高温放置後の上記選択反射波長の変化が小さくなる。
上記一般式(II−2)において、P221は、重合性官能基を表すが、上記の式(P−1)から式(P−17)から選ばれる基を表すことが好ましく、これらの重合性基はラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合及びアニオン重合により重合する。特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式(P−1)、式(P−2)、式(P−3)、式(P−4)、式(P−8)、式(P−10)、式(P−12)又は式(P−15)が好ましく、式(P−1)、式(P−2)、式(P−3)、式(P−4)、式(P−8)又は式(P−10)がより好ましく、式(P−1)、式(P−2)又は式(P−3)がさらに好ましく、式(P−1)又は式(P−2)が特に好ましい。In the general formula (II-2), P 221 represents a polymerizable functional group, and preferably represents a group selected from the above formulas (P-1) to (P-17). The functional group is polymerized by radical polymerization, radical addition polymerization, cationic polymerization and anionic polymerization. In particular, when ultraviolet polymerization is performed as a polymerization method, the formula (P-1), formula (P-2), formula (P-3), formula (P-4), formula (P-8), formula (P -10), Formula (P-12) or Formula (P-15) is preferred, Formula (P-1), Formula (P-2), Formula (P-3), Formula (P-4), Formula (P P-8) or formula (P-10) is more preferred, formula (P-1), formula (P-2) or formula (P-3) is more preferred, and formula (P-1) or formula (P-) 2) is particularly preferred.
上記一般式(II−2)において、Sp221は炭素原子数1〜8のアルキレン基を表すことが好ましく、該アルキレン基中の1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−が各々独立して−O−、−COO−、−OCO−又は−OCO−O−によって置換されても良く、該アルキレン基の有する1個又は2個以上の水素原子は、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)又はCN基によって置換されても良い。In the general formula (II-2), Sp 221 preferably represents an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and one —CH 2 — in the alkylene group or two or more non-adjacent — CH 2 — may be independently substituted with —O—, —COO—, —OCO— or —OCO—O—, and one or more hydrogen atoms of the alkylene group may be a halogen atom. (Fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom) or a CN group may be substituted.
上記一般式(II−2)において、X221は−O−、−OCH2−、−CH2O−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−CO−O−、−CO−NH−、−NH−CO−、−CF2O−、−OCF2−、−CH=CH−COO−、−CH=CH−OCO−、−COO−CH=CH−、−OCO−CH=CH−、−COO−CH2CH2−、−OCO−CH2CH2−、−CH2CH2−COO−、−CH2CH2−OCO−、−COO−CH2−、−OCO−CH2−、−CH2−COO−、−CH2−OCO−、−CH=CH−、−N=N−、−CH=N−N=CH−、−CF=CF−、−C≡C−又は単結合を表すことが好ましく、X221は−O−、−OCH2−、−CH2O−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−CO−O−、−CF2O−、−OCF2−、−CH=CH−COO−、−CH=CH−OCO−、−COO−CH=CH−、−OCO−CH=CH−、−COO−CH2CH2−、−OCO−CH2CH2−、−CH2CH2−COO−、−CH2CH2−OCO−、−COO−CH2−、−OCO−CH2−、−CH2−COO−、−CH2−OCO−、−CH=CH−、−CF=CF−、−C≡C−又は単結合を表すことがより好ましい。In the above general formula (II-2), X 221 represents —O—, —OCH 2 —, —CH 2 O—, —CO—, —COO—, —OCO—, —O—CO—O—, —CO. —NH—, —NH—CO—, —CF 2 O—, —OCF 2 —, —CH═CH—COO—, —CH═CH—OCO—, —COO—CH═CH—, —OCO—CH═ CH -, - COO-CH 2 CH 2 -, - OCO-CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 -COO -, - CH 2 CH 2 -OCO -, - COO-CH 2 -, - OCO-CH 2- , —CH 2 —COO—, —CH 2 —OCO—, —CH═CH—, —N═N—, —CH═N—N═CH—, —CF═CF—, —C≡C— or preferably a single bond, X 221 is -O -, - OCH 2 -, - CH 2 O -, - CO -, - C O -, - OCO -, - OCO-O -, - CF 2 O -, - OCF 2 -, - CH = CH-COO -, - CH = CH-OCO -, - COO-CH = CH-, -OCO-CH = CH -, - COO-CH 2 CH 2 -, - OCO-CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 -COO -, - CH 2 CH 2 -OCO -, - COO-CH 2 - , -OCO-CH 2 -, - CH 2 -COO -, - CH 2 -OCO -, - CH = CH -, - CF = CF -, - C≡C- or more preferably a single bond.
上記一般式(II−2)において、MG221はメソゲン基を表し、一般式(II−2−b)
上記一般式(II−2)において、R221は、水素原子、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、炭素原子数1から8の直鎖又は分岐アルキル基、炭素原子数1から8の直鎖又は分岐アルケニル基を表すことがより好ましく、該アルキル基及びアルケニル基中の1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−が各々独立して−O−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−CO−O−、−CH=CH−COO−、−CH=CH−OCO−、−COO−CH=CH−、−OCO−CH=CH−、−CH=CH−、又は−C≡C−によって置換されても良く、該アルキル基及び該アルケニル基の有する1個又は2個以上の水素原子はそれぞれ独立して、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)又はシアノ基によって置換されても良く、複数置換されている場合それぞれ同一であっても、異なっていても良い。
一般式(II−2)の例として、下記一般式(II−2−1)〜(II−2−4)で表される化合物を挙げることができるが、下記の一般式に限定されるわけではない。
Examples of the general formula (II-2) include compounds represented by the following general formulas (II-2-1) to (II-2-4), but are not limited to the following general formulas. is not.
式中、P221、Sp221、X221、及び、R221は、それぞれ、上記一般式(II−2)の定義と同じものを表し、
A11、A12、A13、A2、A3は、上記一般式(II−2−b)のA1〜A3の定義と同じものを表し、それぞれ、同一であっても、異なっていても良く、
Z11、Z12、Z13、Z2は、上記一般式(II−2−b)のZ1〜Z3の定義と同じものを表し、それぞれ、同一であっても、異なっていても良く、
上記一般式(II−2−1)〜(II−2−4)で表される化合物としては、以下の一般式(II−2−1−1)〜一般式(II−2−1−26)で表される化合物を例示されるが、これらに限定される訳ではない。
A11, A12, A13, A2, and A3 represent the same definitions as A1 to A3 in the general formula (II-2-b), and may be the same or different,
Z11, Z12, Z13, and Z2 represent the same definitions as Z1 to Z3 in the general formula (II-2-b), and may be the same or different,
Examples of the compounds represented by the general formulas (II-2-1) to (II-2-4) include the following general formulas (II-2-1-1) to (II-2-1-26). ) Is exemplified, but not limited thereto.
上記一般式(II−2−1−1)〜一般式(II−2−1−26)中、Rcは水素原子又はメチル基を表し、mは1〜8の整数を表し、nは0又は1を表し、R221は、上記一般式(II−2−1)〜(II−2−4)の定義と同じものを表すが、R221は、水素原子、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、1個の−CH2−が−O−、−CO−、−COO−、−OCO−、によって置換されても良い、炭素原子数1から6の直鎖アルキル基又は炭素原子数1から6の直鎖アルケニル基を表すことが好ましい。In the general formula (II-2-1-1) to general formula (II-2-1-26), R c represents a hydrogen atom or a methyl group, m represents an integer of 1 to 8, and n represents 0. Or R 221 represents the same definition as in the general formulas (II-2-1) to (II-2-4), but R 221 represents a hydrogen atom, a halogen atom (fluorine atom, chlorine). Atom, bromine atom, iodine atom), cyano group, one —CH 2 — may be substituted by —O—, —CO—, —COO—, —OCO—, It preferably represents a linear alkyl group or a linear alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms.
上記一般式(II−2−1−1)〜一般式(II−2−1−26)中、環状基は、置換基として1個以上のF、Cl、CF3、OCF3、CN基、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数1〜8のアルカノイル基、炭素原子数1〜8のアルカノイルオキシ基、炭素原子数1〜8のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜8のアルケニル基、炭素原子数2〜8のアルケニルオキシ基、炭素原子数2〜8のアルケノイル基、炭素原子数2〜8のアルケノイルオキシ基を有していても良い。In the above general formula (II-2-1-1) to general formula (II-2-1-26), the cyclic group has one or more F, Cl, CF 3 , OCF 3 , CN groups as substituents, An alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkanoyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkanoyloxy group having 1 to 8 carbon atoms, and an alkoxycarbonyl having 1 to 8 carbon atoms A alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkenyloxy group having 2 to 8 carbon atoms, an alkenoyl group having 2 to 8 carbon atoms, and an alkenoyloxy group having 2 to 8 carbon atoms. good.
上記一般式(II−2)で表される単官能重合性液晶化合物は1種又は2種以上用いても良いが、一般式(II−2)で表される単官能重合性液晶化合物の合計含有量は、重合性液晶組成物に用いる重合性液晶化合物の合計量のうち、30〜90質量%含有することが好ましく、40〜90質量%含有することがより好ましく、45〜90質量%含有することが特に好ましく、50〜90質量%含有することが最も好ましい。 Although the monofunctional polymerizable liquid crystal compound represented by the general formula (II-2) may be used alone or in combination of two or more, the total of the monofunctional polymerizable liquid crystal compound represented by the general formula (II-2) The content is preferably 30 to 90% by mass, more preferably 40 to 90% by mass, and more preferably 45 to 90% by mass, out of the total amount of the polymerizable liquid crystal compound used in the polymerizable liquid crystal composition. It is particularly preferable to contain 50 to 90% by mass.
本実施形態では、更に第三の成分として、下記一般式(II−1)で表される単官能重合性液晶化合物を用いることにより、選択反射を示す波長の半値幅(Δλ)をより小さくできる他、更に基材への密着性を高めることができる。ここで、選択反射波長を有するコレステリック液晶の場合、一般的に選択反射波長(λ)と螺旋ピッチ(p)の関係は、λ=p・N(Nはコレステリック液晶組成物の平均屈折率)の関係で表され、選択反射を示す波長の半値幅(Δλ)は、重合性液晶組成物の複屈折異方性(Δn)とpの積で表される。ある特定の波長のみを選択反射したい場合など、この選択反射の波長幅(Δλ)を小さくすることが望ましく、一般式(II−1)では、スペーサー基を有さずに環状基に直接連結する重合性官能基を1つ有する重合性液晶化合物を含有させることにより、当該重合性液晶組成物を重合した場合、各一般式で表される重合性液晶化合物中に存在するメソゲン骨格部分は部分的に配向性が揃わず、配向秩序が低い重合体が得られることから、複屈折異方性(Δn)を低く抑えることができ、選択反射の波長幅(Δλ)を小さくすることができる。 In this embodiment, by using a monofunctional polymerizable liquid crystal compound represented by the following general formula (II-1) as the third component, the half width (Δλ) of the wavelength exhibiting selective reflection can be further reduced. In addition, the adhesion to the substrate can be further improved. Here, in the case of a cholesteric liquid crystal having a selective reflection wavelength, the relationship between the selective reflection wavelength (λ) and the helical pitch (p) is generally λ = p · N (N is the average refractive index of the cholesteric liquid crystal composition). The full width at half maximum (Δλ) of the wavelength exhibiting selective reflection is expressed by the product of birefringence anisotropy (Δn) and p of the polymerizable liquid crystal composition. When it is desired to selectively reflect only a specific wavelength, it is desirable to reduce the wavelength width (Δλ) of this selective reflection. In the general formula (II-1), it is directly connected to a cyclic group without having a spacer group. When the polymerizable liquid crystal composition is polymerized by containing a polymerizable liquid crystal compound having one polymerizable functional group, the mesogen skeleton portion present in the polymerizable liquid crystal compound represented by each general formula is partially Thus, a polymer having a poor alignment order and a low alignment order can be obtained, so that the birefringence anisotropy (Δn) can be kept low and the wavelength width (Δλ) of selective reflection can be reduced.
Lはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、置換されていても良いフェニル基、置換されていても良いフェニルアルキル基、置換されていても良いシクロヘキシルアルキル基、又は、1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−が各々独立して−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−CO−S−、−S−CO−、−O−CO−O−、−CO−NR0−、−NR0−CO−、−CH=CH−COO−、−CH=CH−OCO−、−COO−CH=CH−、−OCO−CH=CH−、−CH=CH−、−N=N−、−CR0=N−、−N=CR0−、−CH=N−N=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−(式中、R0は水素原子又は炭素原子数1から8のアルキル基を表す。)によって置換されても良い炭素原子数1から20の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、化合物内にLが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、A212が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、
Z211は、−O−、−S−、−OCH2−、−CH2O−、−CH2CH2−、−CO−、−COO−、−OCO−、−CO−S−、−S−CO−、−O−CO−O−、−CO−NH−、−NH−CO−、−OCO−NH−、−NH−COO−、−NH−CO−NH−、−NH−O−、−O−NH−、−SCH2−、−CH2S−、−CF2O−、−OCF2−、−CF2S−、−SCF2−、−CH=CH−COO−、−CH=CH−OCO−、−COO−CH=CH−、−OCO−CH=CH−、−COO−CH2CH2−、−OCO−CH2CH2−、−CH2CH2−COO−、−CH2CH2−OCO−、−COO−CH2−、−OCO−CH2−、−CH2−COO−、−CH2−OCO−、−CH=CH−、−N=N−、−CH=N−、−N=CH−、−CH=N−N=CH−、−CF=CF−、−C≡C−又は単結合を表すが、Z211が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、
m211は1〜3の整数を表し、
T211は水素原子、−OH基、−SH基、−CN基、−COOH基、−NH2基、−NO2基、−COCH3基、−O(CH2)nCH3、又は−(CH2)nCH3を表し、nは0〜20の整数を表す。)
L is a fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, pentafluorosulfuranyl group, nitro group, cyano group, isocyano group, amino group, hydroxyl group, mercapto group, methylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, Diisopropylamino group, trimethylsilyl group, dimethylsilyl group, thioisocyano group, optionally substituted phenyl group, optionally substituted phenylalkyl group, optionally substituted cyclohexylalkyl group, or one —CH 2- or two or more non-adjacent —CH 2 — are each independently —O—, —S—, —CO—, —COO—, —OCO—, —CO—S—, —S—CO. -, - OCO-O -, - CO-NR 0 -, - NR 0 -CO -, - CH = CH-COO -, - CH = CH-OCO -, - C O-CH = CH -, - OCO-CH = CH -, - CH = CH -, - N = N -, - CR 0 = N -, - N = CR 0 -, - CH = N-N = CH- , —CF═CF— or —C≡C— (wherein R 0 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms), and is a straight chain having 1 to 20 carbon atoms. A hydrogen atom in the alkyl group may be substituted with a fluorine atom, and when a plurality of L are present in the compound, they may be the same or different. , A 212 may be the same or different when there are multiple,
Z 211 is, -O -, - S -, - OCH 2 -, - CH 2 O -, - CH 2 CH 2 -, - CO -, - COO -, - OCO -, - CO-S -, - S -CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -OCO-NH-, -NH-COO-, -NH-CO-NH-, -NH-O-, -O-NH -, - SCH 2 -, - CH 2 S -, - CF 2 O -, - OCF 2 -, - CF 2 S -, - SCF 2 -, - CH = CH-COO -, - CH = CH—OCO—, —COO—CH═CH—, —OCO—CH═CH—, —COO—CH 2 CH 2 —, —OCO—CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 —COO—, —CH 2 CH 2 -OCO -, - COO -CH 2 -, - OCO-CH 2 -, - CH 2 -COO -, - CH 2 -OCO-, CH = CH-, -N = N-, -CH = N-, -N = CH-, -CH = NN-CH-, -CF = CF-, -C≡C- or a single bond. , When there are a plurality of Z 211, they may be the same or different,
m211 represents an integer of 1 to 3,
T 211 is a hydrogen atom, —OH group, —SH group, —CN group, —COOH group, —NH 2 group, —NO 2 group, —COCH 3 group, —O (CH 2 ) n CH 3 , or — ( It represents CH 2) n CH 3, n is an integer of 0 to 20. )
上記一般式(II−1)において、P211は重合性官能基を表すが、上記の式(P−1)から式(P−17)から選ばれる基を表すことが好ましく、これらの重合性基はラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合及びアニオン重合により重合する。特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式(P−1)、式(P−2)、式(P−3)、式(P−4)、式(P−8)、式(P−10)、式(P−12)又は式(P−15)が好ましく、式(P−1)、式(P−2)、式(P−3)、式(P−4)、式(P−8)又は式(P−10)がより好ましく、式(P−1)、式(P−2)又は式(P−3)がさらに好ましく、式(P−1)又は式(P−2)が特に好ましい。In the general formula (II-1), P211 represents a polymerizable functional group, and preferably represents a group selected from the above formulas (P-1) to (P-17). The group is polymerized by radical polymerization, radical addition polymerization, cationic polymerization and anionic polymerization. In particular, when ultraviolet polymerization is performed as a polymerization method, the formula (P-1), formula (P-2), formula (P-3), formula (P-4), formula (P-8), formula (P -10), Formula (P-12) or Formula (P-15) is preferred, Formula (P-1), Formula (P-2), Formula (P-3), Formula (P-4), Formula (P P-8) or formula (P-10) is more preferred, formula (P-1), formula (P-2) or formula (P-3) is more preferred, and formula (P-1) or formula (P-) 2) is particularly preferred.
上記一般式(II−1)において、A211及びA212は各々独立して1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、ビシクロ[2.2.2]オクタン−1,4−ジイル基、ピリジン−2,5−ジイル基、ピリミジン−2,5−ジイル基、ナフタレン−2,6−ジイル基、ナフタレン−1,4−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基、デカヒドロナフタレン−2,6−ジイル基又は1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は1つ以上の置換基Lによって置換されても良い。合成の容易さ、原料の入手容易さ及び液晶性の観点から、A211及びA212は、各々独立して無置換であるか又は1つ以上の置換基Lによって置換されても良い1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、ビシクロ[2.2.2]オクタン−1,4−ジイル基、ナフタレン−2,6−ジイル基又はナフタレン−1,4−ジイル基を表すことが好ましく、各々独立して下記の式(A−1)から式(A−16):
上記一般式(II−1)において、Lはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、置換されていても良いフェニル基、置換されていても良いフェニルアルキル基、置換されていても良いシクロヘキシルアルキル基、又は、1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−が各々独立して−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−CO−S−、−S−CO−、−O−CO−O−、−CO−NR0−、−NR0−CO−、−CH=CH−COO−、−CH=CH−OCO−、−COO−CH=CH−、−OCO−CH=CH−、−CH=CH−、−N=N−、−CR0=N−、−N=CR0−、−CH=N−N=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−(式中、R0は水素原子又は炭素原子数1から8のアルキル基を表す。)によって置換されても良い炭素原子数1から20の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良いが、化合物内にLが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。液晶性、合成の容易さの観点から、置換基Lはフッ素原子、塩素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−は各々独立して−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−CO−O−、−CH=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数1から20の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、置換基Lはフッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−は各々独立して−O−、−COO−又は−OCO−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数1から12の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、置換基Lはフッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数1から12の直鎖状又は分岐状アルキル基若しくはアルコキシ基を表すことがさらに好ましく、置換基Lはフッ素原子、塩素原子、又は、炭素原子数1から8の直鎖アルキル基若しくは直鎖アルコキシ基を表すことが特に好ましい。In the above general formula (II-1), L is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a pentafluorosulfuranyl group, a nitro group, a cyano group, an isocyano group, an amino group, a hydroxyl group, a mercapto group, methyl Amino group, dimethylamino group, diethylamino group, diisopropylamino group, trimethylsilyl group, dimethylsilyl group, thioisocyano group, optionally substituted phenyl group, optionally substituted phenylalkyl group, optionally substituted cyclohexyl An alkyl group, or one —CH 2 — or two or more non-adjacent —CH 2 — are each independently —O—, —S—, —CO—, —COO—, —OCO—, -CO-S -, - S- CO -, - O-COO -, - CO-NR 0 -, - NR 0 -CO -, - CH = CH-COO , -CH = CH-OCO -, - COO-CH = CH -, - OCO-CH = CH -, - CH = CH -, - N = N -, - CR 0 = N -, - N = CR 0 - , —CH═N—N═CH—, —CF═CF—, or —C≡C— (wherein R 0 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms). Represents a straight or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and any hydrogen atom in the alkyl group may be substituted with a fluorine atom, but when a plurality of L are present in the compound, May be the same or different. From the viewpoint of liquid crystallinity and ease of synthesis, the substituent L is a fluorine atom, chlorine atom, pentafluorosulfuranyl group, nitro group, methylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, diisopropylamino group, or any A hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom, and one —CH 2 — or two or more non-adjacent —CH 2 — are each independently —O—, —S—, —CO—, — 1 to 20 carbon atoms which may be substituted by a group selected from COO—, —OCO—, —O—CO—O—, —CH═CH—, —CF═CF— or —C≡C—. It preferably represents a linear or branched alkyl group, and the substituent L may be a fluorine atom, a chlorine atom, or an arbitrary hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom, and one —CH 2 — or adjacent group may be substituted. not two or more -CH 2 - It is more preferable that each independently represents a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a group selected from —O—, —COO— or —OCO—. More preferably, L represents a fluorine atom, a chlorine atom, or an arbitrary hydrogen atom, a linear or branched alkyl group or alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, which may be substituted with a fluorine atom. L particularly preferably represents a fluorine atom, a chlorine atom, or a linear alkyl group or linear alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.
上記一般式(II−1)において、Z212は−O−、−S−、−OCH2−、−CH2O−、−CH2CH2−、−CO−、−COO−、−OCO−、−CO−S−、−S−CO−、−O−CO−O−、−CO−NH−、−NH−CO−、−OCO−NH−、−NH−COO−、−NH−CO−NH−、−NH−O−、−O−NH−、−SCH2−、−CH2S−、−CF2O−、−OCF2−、−CF2S−、−SCF2−、−CH=CH−COO−、−CH=CH−OCO−、−COO−CH=CH−、−OCO−CH=CH−、−COO−CH2CH2−、−OCO−CH2CH2−、−CH2CH2−COO−、−CH2CH2−OCO−、−COO−CH2−、−OCO−CH2−、−CH2−COO−、−CH2−OCO−、−CH=CH−、−N=N−、−CH=N−、−N=CH−、−CH=N−N=CH−、−CF=CF−、−C≡C−又は単結合を表すが、Z212が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。In the general formula (II-1), Z 212 represents —O—, —S—, —OCH 2 —, —CH 2 O—, —CH 2 CH 2 —, —CO—, —COO—, —OCO—. , -CO-S-, -S-CO-, -O-CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -OCO-NH-, -NH-COO-, -NH-CO- NH—, —NH—O—, —O—NH—, —SCH 2 —, —CH 2 S—, —CF 2 O—, —OCF 2 —, —CF 2 S—, —SCF 2 —, —CH = CH-COO -, - CH = CH-OCO -, - COO-CH = CH -, - OCO-CH = CH -, - COO-CH 2 CH 2 -, - OCO-CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 —COO—, —CH 2 CH 2 —OCO—, —COO—CH 2 —, —OCO—CH 2 —, —CH 2 —C OO—, —CH 2 —OCO—, —CH═CH—, —N═N—, —CH═N—, —N═CH—, —CH═N—N═CH—, —CF═CF—, —C≡C— or a single bond is represented, but when there are a plurality of Z 212, they may be the same or different.
上記一般式(II−1)において、配向欠陥の少なさを重視する場合は、Z212は複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く−OCH2−、−CH2O−、−CH2CH2−、−COO−、−OCO−、−CO−NH−、−NH−CO−、−CF2O−、−OCF2−、−CH=CH−COO−、−OCO−CH=CH−、−COO−CH2CH2−、−CH2CH2−OCO−、−CH=CH−、−N=N−、−CH=N−、−N=CH−、−CH=N−N=CH−、−CF=CF−、−C≡C−又は単結合を表すことが好ましく、Z212は複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く−COO−、−OCO−、−CO−NH−、−NH−CO−、−CF2O−、−OCF2−、−CH=CH−COO−、−OCO−CH=CH−、−CH=CH−、−N=N−、−CH=N−N=CH−、−CF=CF−、−C≡C−又は単結合を表すことがより好ましく、Z212は複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く−COO−、−OCO−、−CO−NH−、−NH−CO−、−CF2O−、−OCF2−又は単結合を表すことがさらに好ましく、Z212は複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く−COO−、−OCO−、−CF2O−、−OCF2−又は単結合を表すことが特に好ましい。In the above general formula (II-1), when importance is attached to the small number of orientation defects, when there are a plurality of Z 212 s, they may be the same or different from each other -OCH 2- , -CH 2 O- , —CH 2 CH 2 —, —COO—, —OCO—, —CO—NH—, —NH—CO—, —CF 2 O—, —OCF 2 —, —CH═CH—COO—, —OCO— CH = CH -, - COO- CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 -OCO -, - CH = CH -, - N = N -, - CH = N -, - N = CH -, - CH = N—N═CH—, —CF═CF—, —C≡C— or a single bond is preferable, and when there are a plurality of Z 212, they may be the same or different —COO—, -OCO -, - CO-NH - , - NH-CO -, - CF 2 O -, - OCF 2 - —CH═CH—COO—, —OCO—CH═CH—, —CH═CH—, —N═N—, —CH═N—N═CH—, —CF═CF—, —C≡C— or More preferably, it represents a single bond, and when there are a plurality of Z 212 s, they may be the same or different, —COO—, —OCO—, —CO—NH—, —NH—CO—, —CF More preferably, it represents 2 O—, —OCF 2 — or a single bond, and when there are a plurality of Z 212 s, they may be the same or different, —COO—, —OCO—, —CF 2 O— , —OCF 2 — or a single bond is particularly preferred.
上記一般式(II−1)において、m211は1〜3の整数を表すが、m211は1又は2を表すことが好ましく、m211は1を表すことが好ましい。 In the general formula (II-1), m211 represents an integer of 1 to 3, but m211 preferably represents 1 or 2, and m211 preferably represents 1.
上記一般式(II−1)において、T211は水素原子、−OH基、−SH基、−CN基、−COOH基、−NH2基、−NO2基、−COCH3基、−O(CH2)nCH3、又は−(CH2)nCH3(nは0〜20の整数を表す)を表すが、T211は水素原子、−O(CH2)nCH3、又は−(CH2)nCH3(nは0〜10の整数を表す)を表すことがより好ましく、T211は、−O(CH2)nCH3、又は−(CH2)nCH3(nは0〜8の整数を表す)を表すことが特に好ましい。In the above general formula (II-1), T 211 is a hydrogen atom, —OH group, —SH group, —CN group, —COOH group, —NH 2 group, —NO 2 group, —COCH 3 group, —O ( CH 2 ) n CH 3 , or — (CH 2 ) n CH 3 (n represents an integer of 0 to 20), T 211 is a hydrogen atom, —O (CH 2 ) n CH 3 , or — ( CH 2) n CH 3 (n is more preferably represents an represents) an integer of 0, T 211 is, -O (CH 2) n CH 3, or - (CH 2) n CH 3 (n is It is particularly preferable to represent an integer of 0 to 8.
一般式(II−1)で表される化合物として具体的には、下記の式(II−1−1)から式(II−1−7)で表される化合物が好ましい。
上記一般式(II−1)で表される単官能重合性液晶化合物は1種又は2種以上用いても良いが、密着性の観点から一般式(II−1)で表される単官能重合性液晶化合物の合計含有量は、重合性液晶組成物に用いる重合性液晶化合物の合計量のうち、5〜50質量%含有することが好ましく、5〜40質量%含有することがより好ましく、10〜40質量%含有することが特に好ましく、15〜35質量%含有することが最も好ましい。 The monofunctional polymerizable liquid crystal compound represented by the above general formula (II-1) may be used alone or in combination of two or more, but from the viewpoint of adhesion, the monofunctional polymerization represented by the general formula (II-1) The total content of the polymerizable liquid crystal compound is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, out of the total amount of the polymerizable liquid crystal compound used in the polymerizable liquid crystal composition. It is especially preferable to contain -40 mass%, and it is most preferable to contain 15-35 mass%.
また、本実施形態では、2官能重合性液晶化合物として前記一般式(I−1)で表される化合物を用い、かつ、前記単官能重合性液晶化合物として前記一般式(II−1)及び前記一般式(II−2)で表される化合物を併用するものであるが、この場合、重合性液晶組成物に用いる重合性液晶化合物の合計量のうち、単官能成分である、前記一般式(II−1)及び前記一般式(II−2)で表される化合物の合計が、50〜95質量%の範囲、60〜95質量%の範囲、特に70〜95質量%の範囲であることが特に密着性と耐熱性の点から好ましい。 Moreover, in this embodiment, the compound represented by the general formula (I-1) is used as the bifunctional polymerizable liquid crystal compound, and the general formula (II-1) and the above compound are used as the monofunctional polymerizable liquid crystal compound. The compound represented by the general formula (II-2) is used in combination, and in this case, the total amount of the polymerizable liquid crystal compound used in the polymerizable liquid crystal composition is a monofunctional component, the general formula ( The sum of the compounds represented by II-1) and the general formula (II-2) is in the range of 50 to 95% by mass, in the range of 60 to 95% by mass, particularly in the range of 70 to 95% by mass. Particularly preferred from the viewpoints of adhesion and heat resistance.
本実施形態の重合性液晶組成物には、物性を損なわない範囲で、分子内に3個以上の重合性官能基を有する重合性液晶化合物を含有していてもよい。分子内に3個以上の重合性官能基を有する重合性液晶化合物としては、下記一般式(III−1)、一般式(III−2)で表される化合物を例示できる。
式中、P31〜P35はそれぞれ独立して、重合性官能基を表し、Sp31〜S35はそれぞれ独立して、炭素原子数1〜18のアルキレン基又は単結合を表し、該アルキレン基中の1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−が各々独立して−O−、−COO−、−OCO−又は−OCO−O−によって置換されても良く、該アルキレン基の有する1個又は2個以上の水素原子は、ハロゲン原子(好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)又はCN基によって置換されても良く、X31〜X35はそれぞれ独立して、−O−、−S−、−OCH2−、−CH2O−、−CO−、−COO−、−OCO−、−CO−S−、−S−CO−、−O−CO−O−、−CO−NH−、−NH−CO−、−SCH2−、−CH2S−、−CF2O−、−OCF2−、−CF2S−、−SCF2−、−CH=CH−COO−、−CH=CH−OCO−、−COO−CH=CH−、−OCO−CH=CH−、−COO−CH2CH2−、−OCO−CH2CH2−、−CH2CH2−COO−、−CH2CH2−OCO−、−COO−CH2−、−OCO−CH2−、−CH2−COO−、−CH2−OCO−、−CH=CH−、−N=N−、−CH=N−N=CH−、−CF=CF−、−C≡C−又は単結合を表し(ただし、P31−Sp31、P32−Sp32、P33−Sp33、P34−Sp34、P35−Sp35、Sp31−X31、Sp32−X32、Sp33−X33、Sp34−X34、及びSp35−X35において、酸素原子同士の直接結合を含まない。)、q31、q32、q34、q35、q36、q37、q38及びq39はそれぞれ独立して0又は1を表し、j3は0又は1を表し、MG31はメソゲン基を表す。In the formula, each of P 31 to P 35 independently represents a polymerizable functional group, and each of Sp 31 to S 35 independently represents an alkylene group having 1 to 18 carbon atoms or a single bond, and the alkylene group In which one —CH 2 — or two or more non-adjacent —CH 2 — may be each independently substituted by —O—, —COO—, —OCO— or —OCO—O—. One or two or more hydrogen atoms of the alkylene group may be substituted with a halogen atom (preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom) or a CN group, and X 31 to X 35 are Independently, —O—, —S—, —OCH 2 —, —CH 2 O—, —CO—, —COO—, —OCO—, —CO—S—, —S—CO—, —O -CO-O-, -CO-NH-, -NH-CO-,- CH 2 -, - CH 2 S -, - CF 2 O -, - OCF 2 -, - CF 2 S -, - SCF 2 -, - CH = CH-COO -, - CH = CH-OCO -, - COO -CH = CH -, - OCO- CH = CH -, - COO-CH 2 CH 2 -, - OCO-CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 -COO -, - CH 2 CH 2 -OCO-, -COO-CH 2 -, - OCO -CH 2 -, - CH 2 -COO -, - CH 2 -OCO -, - CH = CH -, - N = N -, - CH = N-N = CH-, -CF = CF-, -C≡C- or a single bond (where P 31 -Sp 31 , P 32 -Sp 32 , P 33 -Sp 33 , P 34 -Sp 34 , P 35 -Sp 35 , Sp 31 -X 31, Sp 32 -X 32 , Sp 33 -X 33, Sp 34 - 34, and the Sp 35 -X 35, does not include a direct bond between the oxygen atom.), Q31, q32, q34 , q35, q36, q37, q38 and q39 is 0 or 1 each independently, is j3 0 or 1 is represented, and MG 31 represents a mesogenic group.
上記一般式(III−1)〜一般式(III−2)において、P31〜P35はそれぞれ独立して、下記の式(P−2−1)から式(P−2−20)で表される重合性基から選ばれる置換基を表すのが好ましい。
これらの重合性官能基のうち、重合性を高める観点から、式(P−2−1)、(P−2−2)、(P−2−7)、(P−2−12)、(P−2−13)が好ましく、式(P−2−1)、(P−2−2)がより好ましい。 Among these polymerizable functional groups, from the viewpoint of increasing the polymerizability, the formulas (P-2-1), (P-2-2), (P-2-7), (P-2-12), ( P-2-13) is preferable, and formulas (P-2-1) and (P-2-2) are more preferable.
上記一般式(III−1)〜一般式(III−2)において、Sp31〜Sp35はそれぞれ独立して、炭素原子数1〜15のアルキレン基を表すことが好ましく、該アルキレン基中の1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−が各々独立して−O−、−COO−、−OCO−又は−OCO−O−によって置換されても良く、該アルキレン基の有する1個又は2個以上の水素原子は、ハロゲン原子(好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)又はCN基によって置換されても良く、Sp31〜Sp35はそれぞれ独立して、炭素原子数1〜12のアルキレン基を表すことがより好ましく、該アルキレン基中の1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−が各々独立して−O−、−COO−、−OCO−又は−OCO−O−によって置換されても良い。In the general formula (III-1) to general formula (III-2), Sp 31 to Sp 35 each independently preferably represent an alkylene group having 1 to 15 carbon atoms, and 1 in the alkylene group -CH 2 — or two or more non-adjacent —CH 2 — may be each independently substituted by —O—, —COO—, —OCO— or —OCO—O—, One or two or more hydrogen atoms of the group may be substituted with a halogen atom (preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom) or a CN group, and Sp 31 to Sp 35 are independent of each other. Te, more preferably an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, one -CH 2 in the alkylene group - or nonadjacent two or more -CH 2 - are each independently -O -,- OO -, - OCO- or may be substituted by --OCO-O-.
上記一般式(III−1)〜一般式(III−2)において、X31〜X35はそれぞれ独立して、−O−、−OCH2−、−CH2O−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−CO−O−、−CO−NH−、−NH−CO−、−CF2O−、−OCF2−、−CH=CH−COO−、−CH=CH−OCO−、−COO−CH=CH−、−OCO−CH=CH−、−COO−CH2CH2−、−OCO−CH2CH2−、−CH2CH2−COO−、−CH2CH2−OCO−、−COO−CH2−、−OCO−CH2−、−CH2−COO−、−CH2−OCO−、−CH=CH−、−N=N−、−CH=N−N=CH−、−CF=CF−、−C≡C−又は単結合を表すことが好ましく、X31〜X35はそれぞれ独立して、−O−、−OCH2−、−CH2O−、−CO−、−COO−、−OCO−、−O−CO−O−、−CF2O−、−OCF2−、−CH=CH−COO−、−CH=CH−OCO−、−COO−CH=CH−、−OCO−CH=CH−、−COO−CH2CH2−、−OCO−CH2CH2−、−CH2CH2−COO−、−CH2CH2−OCO−、−COO−CH2−、−OCO−CH2−、−CH2−COO−、−CH2−OCO−、−CH=CH−、−CF=CF−、−C≡C−又は単結合を表すことがより好ましい。In the general formula (III-1) to general formula (III-2), X 31 to X 35 are each independently —O—, —OCH 2 —, —CH 2 O—, —CO—, —COO. -, - OCO -, - OCO -O -, - CO-NH -, - NH-CO -, - CF 2 O -, - OCF 2 -, - CH = CH-COO -, - CH = CH- OCO -, - COO-CH = CH -, - OCO-CH = CH -, - COO-CH 2 CH 2 -, - OCO-CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 -COO -, - CH 2 CH 2 -OCO -, - COO-CH 2 -, - OCO-CH 2 -, - CH 2 -COO -, - CH 2 -OCO -, - CH = CH -, - N = N -, - CH = N- N = CH -, - CF = CF -, - C≡C- or preferably a single bond, X 31 to X 3 Each independently, -O -, - OCH 2 - , - CH 2 O -, - CO -, - COO -, - OCO -, - OCO-O -, - CF 2 O -, - OCF 2 -, - CH = CH-COO -, - CH = CH-OCO -, - COO-CH = CH -, - OCO-CH = CH -, - COO-CH 2 CH 2 -, - OCO-CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 -COO -, - CH 2 CH 2 -OCO -, - COO-CH 2 -, - OCO-CH 2 -, - CH 2 -COO -, - CH 2 -OCO -, - CH More preferably, it represents ═CH—, —CF═CF—, —C≡C— or a single bond.
上記一般式(III−1)〜一般式(III−2)において、MG31はメソゲン基を表し、一般式(III−A)
式中、A1、A2及びA3はそれぞれ独立的に、1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−2,5−ジイル基、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−2,5−ジイル基、1,4−ビシクロ(2,2,2)オクチレン基、デカヒドロナフタレン−2,6−ジイル基、ピリジン−2,5−ジイル基、ピリミジン−2,5−ジイル基、ピラジン−2,5−ジイル基、チオフェン−2,5−ジイル基−、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基、2,6−ナフチレン基、フェナントレン−2,7−ジイル基、9,10−ジヒドロフェナントレン−2,7−ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a−オクタヒドロフェナントレン−2,7−ジイル基、1,4−ナフチレン基、ベンゾ[1,2−b:4,5−b‘]ジチオフェン−2,6−ジイル基、ベンゾ[1,2−b:4,5−b‘]ジセレノフェン−2,6−ジイル基、[1]ベンゾチエノ[3,2−b]チオフェン−2,7−ジイル基、[1]ベンゾセレノフェノ[3,2−b]セレノフェン−2,7−ジイル基、又はフルオレン−2,7−ジイル基を表し、置換基として1個以上のF、Cl、CF3、OCF3、CN基、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数1〜8のアルカノイル基、炭素原子数1〜8のアルカノイルオキシ基、炭素原子数1〜8のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜8のアルケニル基、炭素原子数2〜8のアルケニルオキシ基、炭素原子数2〜8のアルケノイル基、及び/又は、炭素原子数2〜8のアルケノイルオキシ基を有していても良いが、上記一般式(III−1)で表される構造を形成する場合存在するA1、A2及びA3のいずれかに−(X33)q35−(Sp33)q34−P33基を有する。Z1及びZ2はそれぞれ独立して、−COO−、−OCO−、−CH2CH2−、−OCH2−、−CH2O−、−CH=CH−、−C≡C−、−CH=CHCOO−、−OCOCH=CH−、−CH2CH2COO−、−CH2CH2OCO−、−COOCH2CH2−、−OCOCH2CH2−、−C=N−、−N=C−、−CONH−、−NHCO−、−C(CF3)2−、ハロゲン原子(好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)を有してもよい炭素原子数2〜10のアルキル基又は単結合を表し、Z1及びZ2はそれぞれ独立して−COO−、−OCO−、−CH2CH2−、−OCH2−、−CH2O−、−CH=CH−、−C≡C−、−CH=CHCOO−、−OCOCH=CH−、−CH2CH2COO−、−CH2CH2OCO−、−COOCH2CH2−、−OCOCH2CH2−又は単結合であることが好ましく、r1は0、1、2又は3を表し、A1、及びZ1が複数存在する場合は、それぞれ、同一であっても、異なっていても良い。)で表される。このうち、A1、A2及びA3はそれぞれ独立的に、1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、2,6−ナフチレン基を表すことが好ましい。
一般式(III)の例として、下記一般式(III−1−1)〜一般式(III−1−8)、一般式(III−2−1)〜一般式)III−2−2)で表される化合物を挙げることができるが、下記の一般式に限定されるわけではない。In the formula, A1, A2 and A3 are each independently 1,4-phenylene group, 1,4-cyclohexylene group, 1,4-cyclohexenyl group, tetrahydropyran-2,5-diyl group, 1,3 -Dioxane-2,5-diyl group, tetrahydrothiopyran-2,5-diyl group, 1,4-bicyclo (2,2,2) octylene group, decahydronaphthalene-2,6-diyl group, pyridine-2 , 5-diyl group, pyrimidine-2,5-diyl group, pyrazine-2,5-diyl group, thiophene-2,5-diyl group-, 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl Group, 2,6-naphthylene group, phenanthrene-2,7-diyl group, 9,10-dihydrophenanthrene-2,7-diyl group, 1,2,3,4,4a, 9,10a-octahydrophenant Les -2,7-diyl group, 1,4-naphthylene group, benzo [1,2-b: 4,5-b '] dithiophene-2,6-diyl group, benzo [1,2-b: 4,5 -B '] diselenophen-2,6-diyl group, [1] benzothieno [3,2-b] thiophene-2,7-diyl group, [1] benzoselenopheno [3,2-b] selenophene-2, Represents a 7-diyl group or a fluorene-2,7-diyl group, and has one or more F, Cl, CF 3 , OCF 3 , CN groups, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or the number of carbon atoms as a substituent. An alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkanoyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkanoyloxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, carbon C2-C8 alkenyloxy group, carbon atoms May have an alkenoyl group having 8 to 8 and / or an alkenoyloxy group having 2 to 8 carbon atoms, but is present when forming the structure represented by the general formula (III-1). , to one of A2 and A3 - having (Sp 33) q34 -P 33 group - (X 33) q35. Z1 and Z2 are each independently —COO—, —OCO—, —CH 2 CH 2 —, —OCH 2 —, —CH 2 O—, —CH═CH—, —C≡C—, —CH═. CHCOO -, - OCOCH = CH - , - CH 2 CH 2 COO -, - CH 2 CH 2 OCO -, - COOCH 2 CH 2 -, - OCOCH 2 CH 2 -, - C = N -, - N = C- , -CONH -, - NHCO -, - C (CF 3) 2 -, a halogen atom (preferably fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom) alkyl group which may C2-10 have a Or Z 1 and Z 2 are each independently —COO—, —OCO—, —CH 2 CH 2 —, —OCH 2 —, —CH 2 O—, —CH═CH—, —C≡C. -, -CH = CHCOO-, -OCOCH = CH- -CH 2 CH 2 COO -, - CH 2 CH 2 OCO -, - COOCH 2 CH 2 -, - OCOCH 2 CH 2 - or preferably a single bond, r1 represents 0, 1, 2 or 3, When there are a plurality of A1 and Z1, they may be the same or different. ). Among these, it is preferable that A1, A2, and A3 each independently represent a 1,4-phenylene group, a 1,4-cyclohexylene group, or a 2,6-naphthylene group.
Examples of the general formula (III) include the following general formula (III-1-1) to general formula (III-1-8), general formula (III-2-1) to general formula) III-2-2) Although the compound represented can be mentioned, it is not necessarily limited to the following general formula.
式中、P31〜P35、Sp31〜Sp35、X31〜X35、q31〜q39MG31は、それぞれ、上記一般式(III−1)〜一般式(III−2)の定義と同じものを表し、
A11とA12とA13、A2、A3は、それぞれ、上記一般式(III−A)のA1〜A3の定義と同じものを表し、それぞれ、同一であっても、異なっていても良く、
Z11とZ12とZ13、Z2は、それぞれ、上記一般式(III−A)のZ1、Z2の定義と同じものを表し、それぞれ、同一であっても、異なっていても良い。In the formula, P 31 to P 35 , Sp 31 to Sp 35 , X 31 to X 35 , q31 to q39 MG 31 are the same as defined in the above general formula (III-1) to general formula (III-2), respectively. Represents
A11, A12, A13, A2, and A3 each represent the same definition as A1 to A3 in the general formula (III-A), and may be the same or different,
Z11, Z12, Z13, and Z2 represent the same definitions as Z1 and Z2 in the general formula (III-A), respectively, and may be the same or different.
上記一般式(III−1−1)〜一般式(III−1−8)、一般式(III−2−1)、一般式(III−2−2)で表される化合物としては、以下の一般式(III−9−1)〜(III−9−6)で表される化合物を例示されるが、これらに限定される訳ではない。 The compounds represented by the above general formula (III-1-1) to general formula (III-1-8), general formula (III-2-1), and general formula (III-2-2) include the following: The compounds represented by the general formulas (III-9-1) to (III-9-6) are exemplified, but not limited thereto.
上記一般式(III−9−1)〜(III−9−6)中、Rf、Rg及びRhは、それぞれ独立して水素原子又はメチル基を表し、Ri、Rj及びRkはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子(好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、シアノ基を表し、これらの基が炭素数1〜6のアルキル基、あるいは炭素数1〜6のアルコキシ基の場合、全部が未置換であるか、あるいは1つ又は2つ以上のハロゲン原子(好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)により置換されていてもよく、上記環状基は、置換基として1個以上のF、Cl、CF3、OCF3、CN基、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数1〜8のアルカノイル基、炭素原子数1〜8のアルカノイルオキシ基、炭素原子数1〜8のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜8のアルケニル基、炭素原子数2〜8のアルケニルオキシ基、炭素原子数2〜8のアルケノイル基、炭素原子数2〜8のアルケノイルオキシ基を有していても良い。
m4〜m9はそれぞれ独立して0〜18の整数を表し、n4〜n10はそれぞれ独立して0又は1を表す。In the general formulas (III-9-1) to (III-9-6), R f , R g and R h each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and R i , R j and R k. Each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom (preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a cyano group. When the group is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, all of them are unsubstituted, or one or two or more halogen atoms (preferably a fluorine atom or a chlorine atom) , a bromine atom, may be substituted by an iodine atom), the cyclic group may contain one or more F as substituents, Cl, CF 3, OCF 3 , CN group, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, C1-C8 alkoxy , An alkanoyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkanoyloxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, and 2 to 8 carbon atoms It may have an alkenyloxy group, an alkenoyl group having 2 to 8 carbon atoms, or an alkenoyloxy group having 2 to 8 carbon atoms.
m4 to m9 each independently represents an integer of 0 to 18, and n4 to n10 each independently represents 0 or 1.
3個以上の重合性官能基を有する多官能重合性液晶化合物は、1種又は2種以上用いることができる。 The polyfunctional polymerizable liquid crystal compound having three or more polymerizable functional groups can be used alone or in combination of two or more.
分子内に3個の重合性官能基を有する多官能重合性液晶化合物の合計含有量は、重合性液晶組成物に用いる重合性液晶化合物の合計量のうち、20質量%以下の範囲で含有することが好ましく、なかでも10質量%以下、特に5質量%以下の範囲で含有することが特に好ましい。 The total content of the polyfunctional polymerizable liquid crystal compound having three polymerizable functional groups in the molecule is 20% by mass or less of the total amount of the polymerizable liquid crystal compound used in the polymerizable liquid crystal composition. It is particularly preferred that the content be 10% by mass or less, particularly 5% by mass or less.
また、本実施形態の重合性液晶組成物には、重合性基を有さないメソゲン基を含有する化合物を添加しても良く、通常の液晶デバイス、例えばSTN(スーパー・ツイステッド・ネマチック)液晶や、TN(ツイステッド・ネマチック)液晶、TFT(薄膜トランジスター)液晶等に使用される化合物が挙げられる。 Further, the polymerizable liquid crystal composition of the present embodiment may be added with a compound containing a mesogenic group having no polymerizable group, such as a normal liquid crystal device such as STN (super twisted nematic) liquid crystal, And compounds used in TN (twisted nematic) liquid crystal, TFT (thin film transistor) liquid crystal, and the like.
重合性官能基を有さないメソゲン基を含有する化合物は、具体的には以下の一般式(5)で表される化合物が好ましい。
MG3で表されるメソゲン基又はメソゲン性支持基は、一般式(5−b)
Z0d、Z1d、Z2d及びZ3dはそれぞれ独立して、−COO−、−OCO−、−CH2 CH2−、−OCH2−、−CH2O−、−CH=CH−、−C≡C−、−CH=CHCOO−、−OCOCH=CH−、−CH2CH2COO−、−CH2CH2OCO−、−COOCH2CH2−、−OCOCH2CH2−、−CONH−、−NHCO−、炭素数2〜10のハロゲン原子(好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)を有してもよいアルキレン基又は単結合を表し、
neは0、1又は2を表し、
R51及びR52はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子(好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基又は炭素原子数1〜18のアルキル基を表すが、該アルキル基は1つ以上のハロゲン原子(好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)又はCNにより置換されていても良く、この基中に存在する1つのCH2基又は隣接していない2つ以上のCH2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、−O−、−S−、−NH−、−N(CH3)−、−CO−、−COO−、−OCO−、−OCOO−、−SCO−、−COS−又は−C≡C−により置き換えられていても良い。)で表される化合物が挙げられる。The mesogenic group or mesogenic supporting group represented by MG3 has the general formula (5-b)
Z0 d , Z1 d , Z2 d and Z3 d are each independently —COO—, —OCO—, —CH 2 CH 2 —, —OCH 2 —, —CH 2 O—, —CH═CH—, — C≡C -, - CH = CHCOO - , - OCOCH = CH -, - CH 2 CH 2 COO -, - CH 2 CH 2 OCO -, - COOCH 2 CH 2 -, - OCOCH 2 CH 2 -, - CONH- , -NHCO-, an alkylene group which may have a halogen atom having 2 to 10 carbon atoms (preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom) or a single bond;
n e is 0, 1 or 2,
R 51 and R 52 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom (preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom), a cyano group or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms. May be substituted by one or more halogen atoms (preferably fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom) or CN, one CH 2 group present in this group or two non-adjacent two The above CH 2 groups are independent of each other, and in a form in which oxygen atoms are not directly bonded to each other, —O—, —S—, —NH—, —N (CH 3 ) —, —CO—, —COO -, -OCO-, -OCOO-, -SCO-, -COS- or -C≡C- may be substituted. ).
具体的には、以下に示されるが、これらに限定される訳ではない。
Ra及びRbはそれぞれ独立して水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜6のアルケニル基、シアノ基を表し、これらの基が炭素数1〜6のアルキル基、あるいは炭素数1〜6のアルコキシ基の場合、全部が未置換であるか、あるいは1つ又は2つ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい。 Ra and Rb each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a cyano group, and these groups have 1 carbon atom. In the case of a -6 alkyl group or a C1-C6 alkoxy group, all may be unsubstituted or may be substituted by one or more halogen atoms.
メソゲン基を有する化合物の総含有量は、重合性液晶組成物の総量に対して0質量%以上20質量%以下であることが好ましく、用いる場合は、1質量%以上であることが好ましく、2質量%以上であることが好ましく、5質量%以上であることが好ましく、また、15質量%以下であることが好ましく、10質量%以下であることが好ましい。 The total content of the compound having a mesogenic group is preferably 0% by mass or more and 20% by mass or less with respect to the total amount of the polymerizable liquid crystal composition, and when used, it is preferably 1% by mass or more. It is preferably at least mass%, preferably at least 5 mass%, more preferably at most 15 mass%, preferably at most 10 mass%.
本実施形態における重合性液晶組成物は、得られる光学フィルムにコレステリック液晶性を持たせるために、液晶性を示しても良く、又は非液晶性であってもよい、キラル化合物を含有する。キラル化合物のうち、重合性を有する重合性キラル化合物を用いることが好ましい。 The polymerizable liquid crystal composition in the present embodiment contains a chiral compound that may exhibit liquid crystallinity or may be non-liquid crystalline in order to give the obtained optical film cholesteric liquid crystallinity. Of the chiral compounds, it is preferable to use a polymerizable chiral compound having polymerizability.
本実施形態に使用する重合性キラル化合物としては、重合性官能基を1つ以上有することが好ましい。このような化合物としては、例えば、特開平11−193287号公報、特開2001−158788号公報、特表2006−52669号公報、特開2007−269639号公報、特開2007−269640号公報、2009−84178号公報等に記載されているような、イソソルビド、イソマンニット、グルコシド等のキラルな糖類を含み、かつ、1,4−フェニレン基1,4−シクロヘキレン基等の剛直な部位と、ビニル基、アクリロイル基、(メタ)アクリロイル基、また、マレイミド基といった重合性官能基を有する重合性キラル化合物、特開平8−239666号公報に記載されているような、テルペノイド誘導体からなる重合性キラル化合物、NATURE VOL35 467〜469ページ(1995年11月30日発行)、NATURE VOL392 476〜479ページ(1998年4月2日発行)等に記載されているような、メソゲン基とキラル部位を有するスペーサーからなる重合性キラル化合物、あるいは特表2004−504285号公報、特開2007−248945号公報に記載されているような、ビナフチル基を含む重合性キラル化合物が挙げられる。中でも、らせんねじれ力(HTP)の大きなキラル化合物が、本実施形態の重合性液晶組成物に好ましい。 The polymerizable chiral compound used in this embodiment preferably has one or more polymerizable functional groups. Examples of such compounds include JP-A-11-193287, JP-A-2001-158788, JP-T 2006-52669, JP-A-2007-269639, JP-A-2007-269640, 2009. -84178 and the like, including a chiral saccharide such as isosorbide, isomannite, glucoside, etc., and a rigid site such as a 1,4-phenylene group and a 1,4-cyclohexylene group, and a vinyl group A polymerizable chiral compound having a polymerizable functional group such as an acryloyl group, a (meth) acryloyl group or a maleimide group, a polymerizable chiral compound comprising a terpenoid derivative as described in JP-A-8-239666, NATURE VOL35 467-469 pages (November 30, 1995) Published), NATURE VOL 392, pages 476 to 479 (issued on April 2, 1998), or the like, or a polymerizable chiral compound comprising a mesogenic group and a spacer having a chiral moiety, or JP-T-2004-504285. And a polymerizable chiral compound containing a binaphthyl group as described in JP-A-2007-248945. Among them, a chiral compound having a large helical twisting power (HTP) is preferable for the polymerizable liquid crystal composition of the present embodiment.
キラル化合物のうち、らせんねじれ力(HTP)の大きなキラル化合物として、下記一般式(3−1)〜一般式(3−4)を挙げることができり、一般式(3−1)〜一般式(3−3)から選択されるキラル化合物を用いることがより好ましく、一般式(3−1)〜一般式(3−3)から選択されるキラル化合物のうち下記一般式(3−a)で表される重合性基を有する重合性キラル化合物を用いることが特に好ましく、一般式(3−1)でR3a及びR3bが(P1)である化合物が、特により好ましい。
式中、Sp3a、及び、Sp3bはそれぞれ独立して炭素原子数0〜18のアルキレン基を表し、該アルキレン基は1つ以上のハロゲン原子、CN基、又は重合性官能基を有する炭素原子数1〜8のアルキル基により置換されていても良く、この基中に存在する1つのCH2基又は隣接していない2つ以上のCH2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、−O−、−S−、−NH−、−N(CH3)−、−CO−、−COO−、−OCO−、−OCOO−、−SCO−、−COS−又は−C≡C−により置き換えられていても良く、
A1、A2、A3、A4、A5及びA6はそれぞれ独立して、1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−2,5−ジイル基、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−2,5−ジイル基、1,4−ビシクロ(2,2,2)オクチレン基、デカヒドロナフタレン−2,6−ジイル基、ピリジン−2,5−ジイル基、ピリミジン−2,5−ジイル基、ピラジン−2,5−ジイル基、チオフェン−2,5−ジイル基−、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基、2,6−ナフチレン基、フェナントレン−2,7−ジイル基、9,10−ジヒドロフェナントレン−2,7−ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a−オクタヒドロフェナントレン−2,7−ジイル基、1,4−ナフチレン基、ベンゾ[1,2−b:4,5−b‘]ジチオフェン−2,6−ジイル基、ベンゾ[1,2−b:4,5−b‘]ジセレノフェン−2,6−ジイル基、[1]ベンゾチエノ[3,2−b]チオフェン−2,7−ジイル基、[1]ベンゾセレノフェノ[3,2−b]セレノフェン−2,7−ジイル基、又はフルオレン−2,7−ジイル基を表し、置換基として1個以上のF、Cl、CF3、OCF3、CN基、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数1〜8のアルカノイル基、炭素原子数1〜8のアルカノイルオキシ基、炭素原子数1〜8のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜8のアルケニル基、炭素原子数2〜8のアルケニルオキシ基、炭素原子数2〜8のアルケノイル基、及び/又は、炭素原子数2〜8のアルケノイルオキシ基を有していても良い。A1、A2、A3、A4、A5及びA6はそれぞれ独立して、1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基又は2,6−ナフチレン基を表すことが好ましく、置換基として1個以上のF、CN基、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基を有していても良い。In the formula, Sp 3a and Sp 3b each independently represent an alkylene group having 0 to 18 carbon atoms, and the alkylene group is a carbon atom having one or more halogen atoms, a CN group, or a polymerizable functional group. It may be substituted by an alkyl group having 1 to 8, two or more of CH 2 groups, independently of one another each of the present in the radical is not one CH 2 group or adjacent, each other oxygen atom in the form that does not bind directly to, -O -, - S -, - NH -, - N (CH 3) -, - CO -, - COO -, - OCO -, - OCOO -, - SCO -, - COS- Or it may be replaced by -C≡C-
A1, A2, A3, A4, A5 and A6 are each independently 1,4-phenylene group, 1,4-cyclohexylene group, 1,4-cyclohexenyl group, tetrahydropyran-2,5-diyl group, 1,3-dioxane-2,5-diyl group, tetrahydrothiopyran-2,5-diyl group, 1,4-bicyclo (2,2,2) octylene group, decahydronaphthalene-2,6-diyl group, Pyridine-2,5-diyl group, pyrimidine-2,5-diyl group, pyrazine-2,5-diyl group, thiophene-2,5-diyl group-, 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2, 6-diyl group, 2,6-naphthylene group, phenanthrene-2,7-diyl group, 9,10-dihydrophenanthrene-2,7-diyl group, 1,2,3,4,4a, 9,10a-octahydro Enanthrene-2,7-diyl group, 1,4-naphthylene group, benzo [1,2-b: 4,5-b ′] dithiophene-2,6-diyl group, benzo [1,2-b: 4, 5-b ′] diselenophen-2,6-diyl group, [1] benzothieno [3,2-b] thiophene-2,7-diyl group, [1] benzoselenopheno [3,2-b] selenophene-2 , 7-diyl group, or fluorene-2,7-diyl group, one or more F, Cl, CF 3 , OCF 3 , CN groups, alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms, carbon atoms as substituents An alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkanoyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkanoyloxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, Alkenyloxy group having 2 to 8 carbon atoms Alkenoyl group having 2 to 8 carbon atoms, and / or may have a alkenoyloxy group having from 2 to 8 carbon atoms. A1, A2, A3, A4, A5 and A6 each independently preferably represents a 1,4-phenylene group, a 1,4-cyclohexylene group or a 2,6-naphthylene group, and one or more substituents F, CN group, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms.
n、l、k及びsはそれぞれ独立して、0又は1を表し、
Z0、Z1、Z2、Z3、Z4、Z5、及び、Z6はそれぞれ独立して、−COO−、−OCO−、−CH2 CH2−、−OCH2−、−CH2O−、−CH=CH−、−C≡C−、−CH=CHCOO−、−OCOCH=CH−、−CH2CH2COO−、−CH2CH2OCO−、−COOCH2CH2−、−OCOCH2CH2−、−CONH−、−NHCO−、炭素数2〜10のハロゲン原子を有してもよいアルキル基又は単結合を表し、
n5、及び、m5はそれぞれ独立して0又は1を表し、
R3a及びR3bは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数1〜18のアルキル基を表すが、該アルキル基は1つ以上のハロゲン原子又はCNにより置換されていても良く、この基中に存在する1つのCH2基又は隣接していない2つ以上のCH2基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、−O−、−S−、−NH−、−N(CH3)−、−CO−、−COO−、−OCO−、−OCOO−、−SCO−、−COS−又は−C≡C−により置き換えられていても良く、
あるいはR3a及びR3bは一般式(3−a)
P3aは、下記の式(P−1)から式(P−20)で表される重合性基から選ばれる置換基を表すのが好ましい。
Z0, Z1, Z2, Z3, Z4, Z5, and Z6 are each independently —COO—, —OCO—, —CH 2 CH 2 —, —OCH 2 —, —CH 2 O—, —CH═. CH—, —C≡C—, —CH═CHCOO—, —OCOCH═CH—, —CH 2 CH 2 COO—, —CH 2 CH 2 OCO—, —COOCH 2 CH 2 —, —OCOCH 2 CH 2 — , -CONH-, -NHCO-, an alkyl group which may have a halogen atom having 2 to 10 carbon atoms or a single bond;
n5 and m5 each independently represent 0 or 1,
R 3a and R 3b represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and the alkyl group may be substituted with one or more halogen atoms or CN. two or more CH 2 groups not one CH 2 group or adjacent present in the radical are each, independently of one another, in the form of oxygen atoms are not directly bonded to each other, -O -, - S -, - NH—, —N (CH 3 ) —, —CO—, —COO—, —OCO—, —OCOO—, —SCO—, —COS— or —C≡C— may be substituted,
Alternatively, R 3a and R 3b are represented by the general formula (3-a)
P 3a preferably represents a substituent selected from a polymerizable group represented by the following formula (P-1) to formula (P-20).
これらの重合性官能基のうち、重合性及び保存安定性を高める観点から、式(P−1)又は式(P−2)、(P−7)、(P−12)、(P−13)が好ましく、式(P−1)、(P−7)、(P−12)がより好ましい。 Among these polymerizable functional groups, from the viewpoint of enhancing the polymerizability and storage stability, the formula (P-1) or the formulas (P-2), (P-7), (P-12), (P-13) ) Is preferable, and formulas (P-1), (P-7), and (P-12) are more preferable.
重合性キラル化合物の具体的例としては、化合物(3−5)〜(3−26)の化合物を挙げることができるが、下記の化合物に限定されるものではない。 Specific examples of the polymerizable chiral compound include compounds (3-5) to (3-26), but are not limited to the following compounds.
式中、m、n、k、lはそれぞれ独立して1〜18の整数を表し、R1〜R4はそれぞれ独立して水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、カルボキシ基、シアノ基を示す。これらの基が炭素数1〜6のアルキル基、あるいは炭素数1〜6のアルコキシ基の場合、全部が未置換であるか、あるいは1つ又は2つ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい。In the formula, m, n, k, and l each independently represent an integer of 1 to 18, R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to 6 carbon atoms. An alkoxy group, a carboxy group, and a cyano group. When these groups are alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms or alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms, all of them may be unsubstituted or substituted with one or more halogen atoms. .
上記一般式(3−5)〜一般式(3−26)で表される重合性キラル化合物のうち、らせんねじれ力(HTP)の大きなキラル化合物として、一般式(3−5)〜一般式(3−9)、一般式(3−12)〜一般式(3−14)、一般式(3−16)〜一般式(3−18)、(3−25)、及び(3−26)で表される重合性キラル化合物を用いることが特に好ましく、(3−8)、(3−25)、及び(3−26)で表される重合性キラル化合物を用いることが更に特に好ましい。 Among the polymerizable chiral compounds represented by the above general formula (3-5) to general formula (3-26), as a chiral compound having a large helical twisting power (HTP), the general formula (3-5) to the general formula ( 3-9), general formula (3-12) to general formula (3-14), general formula (3-16) to general formula (3-18), (3-25), and (3-26) It is particularly preferable to use the polymerizable chiral compound represented by formula (3-8), (3-25), and (3-26).
得られる光学フィルムにコレステリック性を持たせ、かつ、透過性の良好な光学フィルムを得るために、本実施形態における重合性液晶組成物には、前記キラル化合物を重合性液晶組成物に用いる重合性液晶化合物の合計100質量部に対し、0.5〜20質量部用いることが好ましく、1〜15質量部用いることがより好ましく、1.5〜10質量部用いることが特に好ましい。 In order to give the obtained optical film cholesteric properties and to obtain an optical film with good transparency, the polymerizable liquid crystal composition in the present embodiment is polymerizable using the chiral compound in the polymerizable liquid crystal composition. It is preferable to use 0.5 to 20 parts by mass, more preferably 1 to 15 parts by mass, and particularly preferably 1.5 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total liquid crystal compound.
本実施形態における重合性液晶組成物は光重合開始剤を含有することが好ましい。斯かる光重合開始剤としては、本実施形態の組成においては、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤又はα−アミノアルキルフェノン系開始剤であることが耐熱性の点から好ましい。かかる光重合開始剤としては、具体的には、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤としては、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド(BASF社製「イルガキュアTPO」)、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド(BASF社製「イルガキュア819」)、α−アミノアルキルフェノン系開始剤としては、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン(BASF社製「イルガキュア907」)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1(BASF社製「イルガキュア369E」)、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−−ブタノン (BASF社製「イルガキュア379」)が挙げられる。 The polymerizable liquid crystal composition in the present embodiment preferably contains a photopolymerization initiator. As such a photopolymerization initiator, in the composition of the present embodiment, an acyl phosphine oxide photopolymerization initiator or an α-aminoalkylphenone initiator is preferable from the viewpoint of heat resistance. Specifically, as the photopolymerization initiator, acylphosphine oxide photopolymerization initiators include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (“Irgacure TPO” manufactured by BASF), bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide (“IRGACURE 819” manufactured by BASF), α-aminoalkylphenone-based initiator includes 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2 -Morpholinopropan-1-one ("Irgacure 907" manufactured by BASF), 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 ("Irgacure 369E" manufactured by BASF), 2- (Dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4 (4-morpholinyl) phenyl] -1-- butanone (BASF Corp. "Irgacure 379") and the like.
また、上記の光重合開始剤を併用してもよく、斯かる光重合開始剤としては、「ルシリンTPO」、「ダロキュア1173」、「ダロキュアMBF」やLAMBSON社製の「エサキュア1001M」、「エサキュアKIP150」、「スピードキュアBEM」、「スピードキュアBMS」、「スピードキュアMBP」、「スピードキュアPBZ」、「スピードキュアITX」、「スピードキュアDETX」、「スピードキュアEBD」、「スピードキュアMBB」、「スピードキュアBP」や日本化薬社製の「カヤキュアDMBI」、日本シイベルヘグナー社製(現DKSH社)の「TAZ−A」、ADEKA社製の「アデカオプトマーSP−152」、「アデカオプトマーSP−170」、「アデカオプトマーN−1414」、「アデカオプトマーN−1606」、「アデカオプトマーN−1717」、「アデカオプトマーN−1919」、UCC社製の「サイラキュアーUVI−6990」、「サイラキュアーUVI−6974」や「サイラキュアーUVI−6992」、旭電化工業社製の「アデカオプトマーSP−150、SP−152、SP−170、SP−172」やローディア製の「PHOTOINITIATOR2074」、BASF社製の「イルガキュア250」、GEシリコンズ社製の 「UV−9380C」、みどり化学社製の「DTS−102」等が挙げられる。 In addition, the above photopolymerization initiator may be used in combination, and as such photopolymerization initiator, “Lucirin TPO”, “Darocur 1173”, “Darocur MBF”, “Esacure 1001M”, “Esacure” manufactured by LAMBSON “KIP150”, “Speed Cure BEM”, “Speed Cure BMS”, “Speed Cure MBP”, “Speed Cure PBZ”, “Speed Cure ITX”, “Speed Cure DETX”, “Speed Cure EBD”, “Speed Cure MBB” , “Speed Cure BP”, “Kayacure DMBI” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. “TAZ-A” manufactured by Nippon Siebel Hegner (currently DKSH), “Adekaoptomer SP-152”, “Adekaopter” manufactured by ADEKA "Mer SP-170", "Adekaoptomer N-1414", "Adeka "Putomer N-1606", "Adekaoptomer N-1717", "Adekaoptomer N-1919", "Syracure UVI-6990", "Syracure UVI-6974" and "Syracure UVI-6922" manufactured by UCC. "Adekaoptomer SP-150, SP-152, SP-170, SP-172" manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., "PHOTOINITIATOR 2074" manufactured by Rhodia, "Irgacure 250" manufactured by BASF, and manufactured by GE Silicones “UV-9380C”, “DTS-102” manufactured by Midori Kagaku Co., Ltd. and the like can be mentioned.
光重合開始剤の使用量は重合性液晶組成物中に含有する重合性液晶化合物の含有量100質量部に対して0.1〜10質量部であることが好ましく、0.5〜7質量部が特に好ましい。光学異方体の硬化性を高めるためには重合性液晶化合物の含有量100質量部に対して3質量部以上の光重合開始剤を用いることが好ましい。これらは、単独で使用することもできるし、2種類以上混合して使用することもでき、また、増感剤等を添加しても良い。 The amount of the photopolymerization initiator used is preferably 0.1 to 10 parts by mass, and 0.5 to 7 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound contained in the polymerizable liquid crystal composition. Is particularly preferred. In order to improve the curability of the optical anisotropic body, it is preferable to use a photopolymerization initiator of 3 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. These can be used alone or in combination of two or more, and a sensitizer or the like may be added.
本実施形態における重合性液晶組成物に有機溶剤を添加してもよい。用いる有機溶剤としては特に限定はないが、重合性液晶化合物が良好な溶解性を示す有機溶剤が好ましく、100℃以下の温度で乾燥できる有機溶剤であることが好ましい。そのような溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、クメン、メシチレン等の芳香族系炭化水素、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、アニソール等のエーテル系溶剤、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、等のアミド系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン及びクロロベンゼン等が挙げられる。これらは、単独で使用することもできるし、2種類以上混合して使用することもできるが、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤及び芳香族炭化水素系溶剤のうちのいずれか1種類以上を用いることが溶液安定性の点から好ましい。 An organic solvent may be added to the polymerizable liquid crystal composition in the present embodiment. Although there is no limitation in particular as an organic solvent to be used, the organic solvent in which a polymeric liquid crystal compound shows favorable solubility is preferable, and it is preferable that it is an organic solvent which can be dried at the temperature of 100 degrees C or less. Examples of such solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cumene and mesitylene, ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate and butyl acetate, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone ( MIBK), ketone solvents such as cyclohexanone and cyclopentanone, ether solvents such as tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane and anisole, amide solvents such as N, N-dimethylformamide and N-methyl-2-pyrrolidone , Propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, γ-butyrolactone and chlorobenzene. These can be used alone or in combination of two or more, but any one of ketone solvents, ether solvents, ester solvents and aromatic hydrocarbon solvents It is preferable to use the above from the viewpoint of solution stability.
本実施形態に用いられる組成物は有機溶剤を用いた溶液とすると基板に対して塗布することができる。重合性液晶組成物に用いる有機溶剤の比率は、塗布した状態を著しく損なわない限りは特に制限はないが、重合性液晶組成物を含有する溶液中の有機溶剤の合計量が10〜95質量%であることが好ましく、12〜90質量%であることが更に好ましく、15〜85質量%であることが特に好ましい。 The composition used in the present embodiment can be applied to a substrate when a solution using an organic solvent is used. The ratio of the organic solvent used in the polymerizable liquid crystal composition is not particularly limited as long as the applied state is not significantly impaired, but the total amount of the organic solvent in the solution containing the polymerizable liquid crystal composition is 10 to 95% by mass. It is preferable that it is 12-90 mass%, It is still more preferable that it is 15-85 mass%.
有機溶剤に重合性液晶組成物を溶解する際には、均一に溶解させるために、加熱攪拌することが好ましい。加熱攪拌時の加熱温度は、用いる組成物の有機溶剤に対する溶解性を考慮して適宜調節すればよいが、生産性の点から15℃〜110℃が好ましく、15℃〜105℃がより好ましく、15℃〜100℃がさらに好ましく、20℃〜90℃とするのが特に好ましい。 When the polymerizable liquid crystal composition is dissolved in the organic solvent, it is preferably heated and stirred in order to uniformly dissolve the polymerizable liquid crystal composition. The heating temperature at the time of heating and stirring may be appropriately adjusted in consideration of the solubility of the composition to be used in the organic solvent, but is preferably 15 ° C to 110 ° C, more preferably 15 ° C to 105 ° C from the viewpoint of productivity, 15 to 100 degreeC is further more preferable, and it is especially preferable to set it as 20 to 90 degreeC.
また、溶剤を添加する際には分散攪拌機により攪拌混合することが好ましい。分散攪拌機として具体的には、ディスパー、プロペラ、タービン翼等攪拌翼を有する分散機、ペイントシェイカー、遊星式攪拌装置、振とう機、シェーカー又はロータリーエバポレーター等が使用できる。その他には、超音波照射装置が使用できる。 Moreover, when adding a solvent, it is preferable to stir and mix with a dispersion stirrer. Specific examples of the dispersion stirrer include a disperser having a stirring blade such as a disper, a propeller, and a turbine blade, a paint shaker, a planetary stirring device, a shaker, a shaker, or a rotary evaporator. In addition, an ultrasonic irradiation apparatus can be used.
溶剤を添加する際の攪拌回転数は、用いる攪拌装置により適宜調整することが好ましいが、均一な重合性液晶組成物溶液とするために攪拌回転数を10rpm〜1000rpmとするのが好ましく、50rpm〜800rpmとするのがより好ましく、150rpm〜600rpmとするのが特に好ましい。 The stirring rotation speed when adding the solvent is preferably adjusted as appropriate depending on the stirring device to be used, but in order to obtain a uniform polymerizable liquid crystal composition solution, the stirring rotation speed is preferably 10 rpm to 1000 rpm, preferably 50 rpm to 800 rpm is more preferable, and 150 rpm to 600 rpm is particularly preferable.
本実施形態における重合性液晶組成物には、重合禁止剤を添加することが好ましい。重合禁止剤としては、フェノール系化合物、キノン系化合物、アミン系化合物、チオエーテル系化合物、ニトロソ化合物、等が挙げられる。 It is preferable to add a polymerization inhibitor to the polymerizable liquid crystal composition in the present embodiment. Examples of the polymerization inhibitor include phenol compounds, quinone compounds, amine compounds, thioether compounds, nitroso compounds, and the like.
フェノール系化合物としては、p−メトキシフェノール、クレゾール、t−ブチルカテコール、3.5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエン、2.2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2.2’−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4.4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4−メトキシ−1−ナフトール、4,4’−ジアルコキシ−2,2’−ビ−1−ナフトール、等が挙げられる。 Examples of phenolic compounds include p-methoxyphenol, cresol, t-butylcatechol, 3.5-di-t-butyl-4-hydroxytoluene, 2.2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) 2.2′-methylenebis (4-ethyl-6-tert-butylphenol), 4.4′-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 4-methoxy-1-naphthol, 4,4′- Dialkoxy-2,2′-bi-1-naphthol, and the like.
キノン系化合物としては、ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、tert−ブチルヒドロキノン、p−ベンゾキノン、メチル−p−ベンゾキノン、tert−ブチル−p−ベンゾキノン、2,5−ジフェニルベンゾキノン、2−ヒドロキシ−1,4−ナフトキノン、1,4−ナフトキノン、2,3−ジクロロ−1,4−ナフトキノン、アントラキノン、ジフェノキノン等が挙げられる。 As quinone compounds, hydroquinone, methylhydroquinone, tert-butylhydroquinone, p-benzoquinone, methyl-p-benzoquinone, tert-butyl-p-benzoquinone, 2,5-diphenylbenzoquinone, 2-hydroxy-1,4-naphthoquinone 1,4-naphthoquinone, 2,3-dichloro-1,4-naphthoquinone, anthraquinone, diphenoquinone and the like.
アミン系化合物としては、p−フェニレンジアミン、4−アミノジフェニルアミン、N.N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N−i−プロピル−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−(1.3−ジメチルブチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N.N’−ジ−2−ナフチル−p−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、N−フェニル−β−ナフチルアミン、4.4’−ジクミル−ジフェニルアミン、4.4’−ジオクチル−ジフェニルアミン等が挙げられる。 Examples of amine compounds include p-phenylenediamine, 4-aminodiphenylamine, N.I. N'-diphenyl-p-phenylenediamine, Ni-propyl-N'-phenyl-p-phenylenediamine, N- (1.3-dimethylbutyl) -N'-phenyl-p-phenylenediamine, N.I. N'-di-2-naphthyl-p-phenylenediamine, diphenylamine, N-phenyl-β-naphthylamine, 4.4'-dicumyl-diphenylamine, 4.4'-dioctyl-diphenylamine and the like.
チオエーテル系化合物としては、フェノチアジン、ジステアリルチオジプロピオネート等が挙げられる。 Examples of thioether compounds include phenothiazine and distearyl thiodipropionate.
ニトロソ系化合物としては、N−ニトロソジフェニルアミン、N−ニトロソフェニルナフチルアミン、N−ニトロソジナフチルアミン、p−ニトロソフェノール、ニトロソベンゼン、p−ニトロソジフェニルアミン、α−ニトロソ−β−ナフトール等、N、N−ジメチルp−ニトロソアニリン、p−ニトロソジフェニルアミン、p−ニトロンジメチルアミン、p−ニトロン−N、N−ジエチルアミン、N−ニトロソエタノールアミン、N−ニトロソジ−n−ブチルアミン、N−ニトロソ−N−n−ブチル−4−ブタノールアミン、N−ニトロソ−ジイソプロパノールアミン、N−ニトロソ−N−エチル−4−ブタノールアミン、5−ニトロソ−8−ヒドロキシキノリン、N−ニトロソモルホリン、N−二トロソーN−フェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩、二トロソベンゼン、2,4.6−トリーtert−ブチルニトロンベンゼン、N−ニトロソ−N−メチル−p−トルエンスルホンアミド、N−ニトロソ−N−エチルウレタン、N−ニトロソ−N−n−プロピルウレタン、1−ニトロソ−2−ナフトール、2−ニトロソー1−ナフトール、1−ニトロソ−2−ナフトール−3,6−スルホン酸ナトリウム、2−ニトロソ−1−ナフトール−4−スルホン酸ナトリウム、2−ニトロソ−5−メチルアミノフェノール塩酸塩、2−ニトロソ−5−メチルアミノフェノール塩酸塩等が挙げられる。 Examples of nitroso compounds include N-nitrosodiphenylamine, N-nitrosophenylnaphthylamine, N-nitrosodinaphthylamine, p-nitrosophenol, nitrosobenzene, p-nitrosodiphenylamine, α-nitroso-β-naphthol, and N, N-dimethyl. p-nitrosoaniline, p-nitrosodiphenylamine, p-nitronedimethylamine, p-nitrone-N, N-diethylamine, N-nitrosoethanolamine, N-nitrosodi-n-butylamine, N-nitroso-Nn-butyl- 4-butanolamine, N-nitroso-diisopropanolamine, N-nitroso-N-ethyl-4-butanolamine, 5-nitroso-8-hydroxyquinoline, N-nitrosomorpholine, N-nitroso-N-phenylhydroxylamine Ammonium salt, ditrosobenzene, 2,4.6-tri-tert-butylnitronebenzene, N-nitroso-N-methyl-p-toluenesulfonamide, N-nitroso-N-ethylurethane, N-nitroso-N- n-propyl urethane, 1-nitroso-2-naphthol, 2-nitroso 1-naphthol, sodium 1-nitroso-2-naphthol-3,6-sulfonate, sodium 2-nitroso-1-naphthol-4-sulfonate, Examples include 2-nitroso-5-methylaminophenol hydrochloride and 2-nitroso-5-methylaminophenol hydrochloride.
重合禁止剤の添加量は重合性液晶組成物に対して0.01〜1.0質量%であることが好ましく、0.05〜0.5質量%であることがより好ましい。 The addition amount of the polymerization inhibitor is preferably 0.01 to 1.0% by mass and more preferably 0.05 to 0.5% by mass with respect to the polymerizable liquid crystal composition.
本実施形態における重合性液晶組成物には、光重合開始剤とともに、熱重合開始剤を併用してもよい。熱重合開始剤としては公知慣用のものが使用でき、例えば、メチルアセトアセテイトパーオキサイド、キュメンハイドロパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パ−オキシジカーボネイト、t−ブチルパーオキシベンゾエイト、メチルエチルケトンパーオキサイド、1,1−ビス(t−ヘキシルパ−オキシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、p−ペンタハイドロパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、イソブチルパーオキサイド、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネイト、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン等の有機過酸化物、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)等のアゾニトリル化合物、2,2’−アゾビス(2−メチル−N−フェニルプロピオン−アミヂン)ジハイドロクロライド等のアゾアミヂン化合物、2,2’アゾビス{2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}等のアゾアミド化合物、2,2’アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)等のアルキルアゾ化合物等を使用することができる。具体的には、和光純薬工業株式会社製の「V−40」、「VF−096」、日本油脂株式会社(現日油株式会社)の「パーへキシルD」、「パーへキシルI」等が挙げられる。 In the polymerizable liquid crystal composition in the present embodiment, a thermal polymerization initiator may be used in combination with a photopolymerization initiator. Known and commonly used thermal polymerization initiators can be used, such as methyl acetoacetate peroxide, cumene hydroperoxide, benzoyl peroxide, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, t-butyl. Peroxybenzoate, methyl ethyl ketone peroxide, 1,1-bis (t-hexylperoxy) 3,3,5-trimethylcyclohexane, p-pentahydroperoxide, t-butylhydroperoxide, dicumyl peroxide, isobutyl Peroxide, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, organic peroxides such as 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, 2,2′-azobisisobutyronitrile , 2,2′-azobis (2, Azonitrile compounds such as 2-dimethylvaleronitrile), azoamidin compounds such as 2,2′-azobis (2-methyl-N-phenylpropion-amidin) dihydrochloride, 2,2′azobis {2-methyl-N- [1 , 1-bis (hydroxymethyl) -2-hydroxyethyl] propionamide}, alkyl azo compounds such as 2,2′azobis (2,4,4-trimethylpentane), and the like can be used. Specifically, “V-40”, “VF-096” manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., “Perhexyl D”, “Perhexyl I” of Nippon Oil & Fats Co., Ltd. (currently Nippon Oil Co., Ltd.) Etc.
熱重合開始剤の使用量は重合性液晶組成物中に含有する重合性液晶化合物の含有量100質量部に対して0.1〜10質量部が好ましく、0.5〜5質量部が特に好ましい。これらは、単独で使用することもできるし、2種類以上混合して使用することもできる。 The amount of the thermal polymerization initiator used is preferably from 0.1 to 10 parts by weight, particularly preferably from 0.5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymerizable liquid crystal compound contained in the polymerizable liquid crystal composition. . These can be used alone or in combination of two or more.
本実施形態における重合性液晶組成物は、光学異方体とした場合の膜厚むらを低減させるために界面活性剤を少なくとも1種類以上含有してもよい。含有することができる界面活性剤としては、アルキルカルボン酸塩、アルキルリン酸塩、アルキルスルホン酸塩、フルオロアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルリン酸塩、フルオロアルキルスルホン酸塩、ポリオキシエチレン誘導体、フルオロアルキルエチレンオキシド誘導体、ポリエチレングリコール誘導体、アルキルアンモニウム塩、フルオロアルキルアンモニウム塩類等をあげることができ、特にフッ素系やアクリル系界面活性剤が好ましい。 The polymerizable liquid crystal composition in the present embodiment may contain at least one surfactant in order to reduce film thickness unevenness when an optical anisotropic body is used. Surfactants that can be included include alkyl carboxylates, alkyl phosphates, alkyl sulfonates, fluoroalkyl carboxylates, fluoroalkyl phosphates, fluoroalkyl sulfonates, polyoxyethylene derivatives, fluoro Examples thereof include alkylethylene oxide derivatives, polyethylene glycol derivatives, alkylammonium salts, fluoroalkylammonium salts and the like, and fluorine-based and acrylic surfactants are particularly preferable.
本実施形態において界面活性剤は、必須成分ではないが、添加する場合、界面活性剤の添加量は重合性液晶組成物中に含有する重合性液晶化合物の含有量100質量部に対して、0.01〜2質量部であることが好ましく、0.05〜0.5質量部であることがより好ましい。 In the present embodiment, the surfactant is not an essential component, but when it is added, the addition amount of the surfactant is 0 with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound contained in the polymerizable liquid crystal composition. It is preferably 0.01 to 2 parts by mass, and more preferably 0.05 to 0.5 parts by mass.
また、上記界面活性剤を使用することで、本実施形態の重合性液晶組成物を光学異方体とした場合、空気界面のチルト角を効果的に減じることができる。 In addition, by using the surfactant, when the polymerizable liquid crystal composition of the present embodiment is an optical anisotropic body, the tilt angle of the air interface can be effectively reduced.
本実施形態における重合性液晶組成物は、光学異方体とした場合の空気界面のチルト角を効果的に減じる効果を持つ、上記界面活性剤以外として、下記一般式(7)で表される繰り返し単位を有する重量平均分子量が100以上である化合物が挙げられる。
式中、R11、R12、R13及びR14はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1〜20の炭化水素基を表し、該炭化水素基中の水素原子は1つ以上のハロゲン原子で置換されていても良い。In the formula, R 11 , R 12 , R 13 and R 14 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and one or more hydrogen atoms in the hydrocarbon group It may be substituted with a halogen atom.
一般式(7)で表される好適な化合物として、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、パラフィン、流動パラフィン、塩素化ポリプロピレン、塩素化パラフィン、塩素化流動パラフィン等を挙げることができる。 Suitable examples of the compound represented by the general formula (7) include polyethylene, polypropylene, polyisobutylene, paraffin, liquid paraffin, chlorinated polypropylene, chlorinated paraffin, and chlorinated liquid paraffin.
一般式(7)で表される化合物の添加量は重合性液晶組成物中に含有する重合性液晶化合物の含有量100質量部に対して、0.01〜1質量部であることが好ましく、0.05〜0.5質量部であることがより好ましい。 The amount of the compound represented by the general formula (7) is preferably 0.01 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound contained in the polymerizable liquid crystal composition. It is more preferable that it is 0.05-0.5 mass part.
本実施形態の重合性液晶組成物は、重合性基を有するが液晶化合物ではない化合物を添加することもできる。このような化合物としては、通常、この技術分野で重合性モノマーあるいは重合性オリゴマーとして認識されるものであれば特に制限なく使用することができる。重合性基を有する非液晶性化合物の添加量は重合性液晶組成物中に含有する重合性液晶化合物の含有量100質量部に対して、0.01〜15質量部であることが好ましく、0.05〜10質量部であることがより好ましく、特に0.05〜5質量部が好ましい。具体的には、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルオキシルエチル(メタ)アクリレート、イソボルニルオキシルエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、ジメチルアダマンチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトン(n≒2)モノアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシエチル(メタ)アクリレート、(2−メチル−2−エチル−1,3−ジオキソラン−4−イル)メチル(メタ)アクリレート、(3−エチルオキセタン−3−イル)メチル(メタ)アクリレート、o−フェニルフェノールエトキシ(メタ)アクリレート、ジメチルアミノ(メタ)アクリレート、ジエチルアミノ(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2,2,3,4,4,4−ヘキサフルオロブチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、1H,1H,3H−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、1H,1H,7H−ドデカフルオロヘプチル(メタ)アクリレート、1H−1−(トリフルオロメチル)トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、1H,1H,3H−ヘキサフルオロブチル(メタ)アクリレート、1,2,2,2−テトラフルオロ−1−(トリフルオロメチル)エチル(メタ)アクリレート、1H,1H−ペンタデカフルオロオクチル(メタ)アクリレート、1H,1H,2H,2H−トリデカフルオロオクチル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、グリシジル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルりん酸、アクリロイルモルホリン、ジメチルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、イロプロピルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド等のモノ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルジオールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、9,9−ビス[4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン、グリセリンジ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−アクロイルオキシプロピルメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルのアクリル酸付加物、等のジアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ε−カプロラクトン変性トリス−(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、等のトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、等のテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、オリゴマー型の(メタ)アクリレート、各種ウレタンアクリレート、各種マクロモノマー、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、等のエポキシ化合物、マレイミド等が挙げられる。これらは単独で使用することもできるし、2種類以上混合して使用することもできる。 In the polymerizable liquid crystal composition of the present embodiment, a compound having a polymerizable group but not a liquid crystal compound can be added. Such a compound can be used without particular limitation as long as it is generally recognized as a polymerizable monomer or polymerizable oligomer in this technical field. The addition amount of the non-liquid crystalline compound having a polymerizable group is preferably 0.01 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound contained in the polymerizable liquid crystal composition. 0.05 to 10 parts by mass is more preferable, and 0.05 to 5 parts by mass is particularly preferable. Specifically, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, propyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, Dicyclopentanyloxylethyl (meth) acrylate, isobornyloxylethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, dimethyl Damantyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, tetrahydroflur Furyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, 2-phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, ω-carboxy-polycaprolactone (n≈2) monoacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl Acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxyethyl (meth) acrylate, (2-methyl-2-ethyl-1,3-dioxolan-4-yl) methyl (meth) acrylate, (3-ethyloxetane-3-yl) methyl (meth) acrylate, o-phenylphenol ethoxy (meth) acrylate, dimethylamino (meth) acrylate, diethylamino (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-penta Fluoropropyl (meth) acrylate, 2,2,3,4,4,4-hexafluorobutyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl (meth) acrylate, 2 -(Perfluorobutyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 3H-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl (meta ) Acrylate, 1H, 1H, 7H-dodecafluoroheptyl (meta) Acrylate, 1H-1- (trifluoromethyl) trifluoroethyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 3H-hexafluorobutyl (meth) acrylate, 1,2,2,2-tetrafluoro-1- (trifluoromethyl ) Ethyl (meth) acrylate, 1H, 1H-pentadecafluorooctyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 2H, 2H-tridecafluorooctyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethylphthalic acid, 2- (Meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, glycidyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl phosphoric acid, acryloylmorpholine, dimethylacrylamide, dimethylaminopropylacrylamide, isopropylpropylacrylamide, diethyl Mono (meth) acrylates such as chloramide, hydroxyethyl acrylamide, N-acryloyloxyethyl hexahydrophthalimide, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9- Nonanediol di (meth) acrylate, neopentyldiol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, Ethylene oxide modified bisphenol A di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, 9,9-bis [4- (2-acryloyloxyethoxy) phenyl ] Fluorene, glycerin di (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl methacrylate, acrylic acid addition product of 1,6-hexanediol diglycidyl ether, acrylic acid addition of 1,4-butanediol diglycidyl ether Products such as diacrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated isocyanuric acid triacrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, ε-caprolactone modified tris- (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate, etc. Tetra (meth) acrylates such as (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meta Acrylate, oligomeric (meth) acrylate, various urethane acrylates, various macromonomers, ethylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl Examples thereof include epoxy compounds such as ether, glycerin diglycidyl ether, and bisphenol A diglycidyl ether, and maleimide. These can be used alone or in combination of two or more.
本実施形態における重合性液晶組成物は、光学異方体とした場合の基材との密着性をより向上させるため、連鎖移動剤を添加することも好ましい。連鎖移動剤としては、チオール化合物が好ましく、モノチオール、ジチオール、トリチオール、テトラチオール化合物がより好ましく、トリチオール化合物が更により好ましい。具体的には下記一般式(8−1)〜(8−13)で表される化合物が好ましい。 In order to further improve the adhesiveness with the base material when the polymerizable liquid crystal composition in the present embodiment is an optical anisotropic body, it is also preferable to add a chain transfer agent. The chain transfer agent is preferably a thiol compound, more preferably a monothiol, dithiol, trithiol, or tetrathiol compound, and even more preferably a trithiol compound. Specifically, compounds represented by the following general formulas (8-1) to (8-13) are preferable.
式中、R65は炭素原子数2〜18のアルキル基を表し、該アルキル基は直鎖であっても分岐鎖であっても良く、該アルキル基中の1つ以上のメチレン基は酸素原子、及び硫黄原子が相互に直接結合しないものとして、酸素原子、硫黄原子、−CO−、−OCO−、−COO−、又は−CH=CH−で置換されていてもよく、R66は炭素原子数2〜18のアルキレン基を表し、該アルキレン基中の1つ以上のメチレン基は酸素原子、及び硫黄原子が相互に直接結合しないものとして、酸素原子、硫黄原子、−CO−、−OCO−、−COO−、又は−CH=CH−で置換されていてもよい。In the formula, R 65 represents an alkyl group having 2 to 18 carbon atoms, and the alkyl group may be linear or branched, and one or more methylene groups in the alkyl group are oxygen atoms. And a sulfur atom that is not directly bonded to each other, it may be substituted with an oxygen atom, a sulfur atom, —CO—, —OCO—, —COO—, or —CH═CH—, and R 66 is a carbon atom. Represents an alkylene group of 2 to 18, wherein one or more methylene groups in the alkylene group are oxygen atoms, sulfur atoms, -CO-, -OCO- , —COO—, or —CH═CH— may be substituted.
また、チオール以外の連鎖移動剤として、α−メチルスチレンダイマーも好適に用いられる。連鎖移動剤の添加量は重合性液晶組成物中に含有する重合性液晶化合物の含有量100質量部に対して、0.5〜10質量部であることが好ましく、1.0〜5.0質量部であることがより好ましい。 In addition, α-methylstyrene dimer is also preferably used as a chain transfer agent other than thiol. The addition amount of the chain transfer agent is preferably 0.5 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound contained in the polymerizable liquid crystal composition, and preferably 1.0 to 5.0. More preferably, it is part by mass.
本実施形態の重合性液晶組成物には、必要に応じて色素を含有することができる。用いる色素は、特に限定はなく、配向性を乱さない範囲で公知慣用のものを含有することができる。 The polymerizable liquid crystal composition of the present embodiment can contain a dye as necessary. The dye to be used is not particularly limited, and may include known and commonly used dyes as long as the orientation is not disturbed.
前記色素としては、例えば、2色性色素、蛍光色素等が挙げられる。そのような色素としては、例えば、ポリアゾ色素、アントラキノン色素、シアニン色素、フタロシアニン色素、ペリレン色素、ペリノン色素、スクアリリウム色素等が挙げられるが、添加する観点から、前記色素は液晶性を示す色素が好ましい。例えば、米国特許第2,400,877号公報、Dreyer J. F., Phys. and Colloid Chem., 1948, 52, 808., "The Fixing of Molecular Orientation"、 Dreyer J. F., Journal de Physique, 1969, 4, 114., "Light Polarization from Films of Lyotropic Nematic Liquid Crystals"、及び、J. Lydon, "Chromonics" in "Handbook of Liquid Crystals Vol.2B: Low MolecularWeight Liquid Crystals II", D. Demus, J. Goodby, G. W. Gray, H. W. Spiessm, V. Villed, Willey-VCH, P.981-1007(1998)、Dichroic Dyes for Liquid Crystal Display A. V. lvashchenko CRC Press, 1994年、及び「機能性色素市場の新展開」、第一章、1頁、1994年、CMC株式会社発光、等に記載の色素を使用することができる。 Examples of the dye include a dichroic dye and a fluorescent dye. Examples of such dyes include polyazo dyes, anthraquinone dyes, cyanine dyes, phthalocyanine dyes, perylene dyes, perinone dyes, squarylium dyes and the like. From the viewpoint of addition, the dye is preferably a liquid crystal dye. . For example, US Pat. No. 2,400,877, Dreyer JF, Phys. And Colloid Chem., 1948, 52, 808., “The Fixing of Molecular Orientation”, Dreyer JF, Journal de Physique, 1969, 4, 114. ., "Light Polarization from Films of Lyotropic Nematic Liquid Crystals" and J. Lydon, "Chromonics" in "Handbook of Liquid Crystals Vol.2B: Low MolecularWeight Liquid Crystals II", D. Demus, J. Goodby, GW Gray , HW Spiessm, V. Villed, Willey-VCH, P. 981-1007 (1998), Dichroic Dyes for Liquid Crystal Display AV lvashchenko CRC Press, 1994, and `` New Developments in Functional Dye Market '', Chapter 1, 1 page, 1994, CMC Corporation light emission, etc. can be used.
2色性色素としては、例えば、以下の式(d−1)〜式(d−8)
本実施形態の重合性液晶組成物には、必要に応じてフィラーを含有することができる。用いるフィラーは、特に限定はなく、得られた重合物の熱伝導性が低下しない範囲で公知慣用のものを含有することができる。具体的には、アルミナ、チタンホワイト、水酸化アルミニウム、タルク、クレイ、マイカ、チタン酸バリウム、酸化亜鉛、ガラス繊維等の無機質充填材、銀粉、銅粉などの金属粉末や窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化ケイ素、窒化ガリウム、炭化ケイ素、マグネシア(酸化アルミニウム)、アルミナ(酸化アルミニウム)、結晶性シリカ(酸化ケイ素)、溶融シリカ(酸化ケイ素)等などの熱伝導性フィラー、銀ナノ粒子等が挙げられる。 The polymerizable liquid crystal composition of the present embodiment can contain a filler as necessary. The filler to be used is not particularly limited, and may contain known and commonly used fillers as long as the thermal conductivity of the obtained polymer is not lowered. Specifically, inorganic fillers such as alumina, titanium white, aluminum hydroxide, talc, clay, mica, barium titanate, zinc oxide, glass fiber, metal powder such as silver powder, copper powder, aluminum nitride, boron nitride, Examples thereof include thermally conductive fillers such as silicon nitride, gallium nitride, silicon carbide, magnesia (aluminum oxide), alumina (aluminum oxide), crystalline silica (silicon oxide), fused silica (silicon oxide), and silver nanoparticles. .
更に物性調整のため、目的に応じて、液晶性のない重合性化合物、チキソ剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、表面処理剤等の添加剤を液晶の配向能を著しく低下させない程度添加することができる。 Furthermore, in order to adjust the physical properties, additives such as polymerizable compounds that do not have liquid crystallinity, thixotropic agents, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, antioxidants, surface treatment agents, etc., do not significantly reduce the alignment ability of liquid crystals. To the extent that can be added.
次に、本実施形態の光学フィルムは、以上詳述した重合性液晶組成物の硬化物から構成されるものである。本実施形態の重合性液晶組成物から光学フィルムを製造する方法としては、具体的には、重合性液晶組成物を、基材上に塗布、乾燥させた後、紫外線照射する方法が挙げられる。 Next, the optical film of the present embodiment is composed of a cured product of the polymerizable liquid crystal composition described in detail above. Specific examples of the method for producing an optical film from the polymerizable liquid crystal composition of the present embodiment include a method in which the polymerizable liquid crystal composition is applied on a substrate and dried, and then irradiated with ultraviolet rays.
本実施形態の光学フィルムに用いられる基材は、液晶デバイス、ディスプレイ、光学部品や光学フィルムに通常使用する基材であって、本実施形態の重合性液晶組成物の塗布後の乾燥時における加熱に耐えうる耐熱性を有する材料であれば、特に制限はない。そのような基材としては、ガラス基材、金属基材、セラミックス基材やプラスチック基材等の有機材料が挙げられる。特に基材が有機材料の場合、セルロース誘導体、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアクリレート(アクリル樹脂)、ポリアリレート、ポリエーテルサルホン、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンエーテル、ナイロン又はポリスチレン等が挙げられる。中でもポリエステル、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリオレフィン、セルロース誘導体、ポリアリレート、ポリカーボネート等のプラスチック基材が好ましく、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリオレフィン、セルロース誘導体等の基材がさらに好ましく、ポリエステルとしてPET(ポリエチレンテレフタレート)を用い、ポリオレフィンとしてCOP(シクロオレフィンポリマー)を用い、セルロース誘導体としてTAC(トリアセチルセルロース)を用い、ポリアクリレートとしてPMMA(ポリメチルメタクリレート)を用いることが特に好ましい。基材の形状としては、平板の他、曲面を有するものであっても良い。これらの基材は、必要に応じて、電極層、反射防止機能、反射機能を有していてもよい。 The substrate used for the optical film of the present embodiment is a substrate that is usually used for liquid crystal devices, displays, optical components and optical films, and is heated during drying after the application of the polymerizable liquid crystal composition of the present embodiment. If it is the material which has heat resistance which can endure, there will be no restriction | limiting in particular. Examples of such a substrate include organic materials such as a glass substrate, a metal substrate, a ceramic substrate, and a plastic substrate. In particular, when the substrate is an organic material, examples thereof include cellulose derivatives, polyolefins, polyesters, polycarbonates, polyacrylates (acrylic resins), polyarylate, polyether sulfone, polyimide, polyphenylene sulfide, polyphenylene ether, nylon, and polystyrene. Among them, plastic base materials such as polyester, polystyrene, polyacrylate, polyolefin, cellulose derivative, polyarylate, and polycarbonate are preferable, and base materials such as polyester, polyacrylate, polyolefin, and cellulose derivative are more preferable, and PET (polyethylene terephthalate) is used as the polyester. It is particularly preferable to use COP (cycloolefin polymer) as the polyolefin, TAC (triacetyl cellulose) as the cellulose derivative, and PMMA (polymethyl methacrylate) as the polyacrylate. As a shape of a base material, you may have a curved surface other than a flat plate. These base materials may have an electrode layer, an antireflection function, and a reflection function as needed.
本実施形態の重合性液晶組成物の塗布性や接着性向上のために、これらの基材の表面処理を行っても良い。表面処理として、オゾン処理、プラズマ処理、コロナ処理、シランカップリング処理などが挙げられる。また、光の透過率や反射率を調節するために、基材表面に有機薄膜、無機酸化物薄膜や金属薄膜等を蒸着など方法によって設ける、あるいは、光学的な付加価値をつけるために、基材がピックアップレンズ、ロッドレンズ、光ディスク、位相差フィルム、光拡散フィルム、カラーフィルタ、等であっても良い。中でも付加価値がより高くなるピックアップレンズ、位相差フィルム、光拡散フィルム、カラーフィルタは好ましい。 In order to improve the applicability and adhesion of the polymerizable liquid crystal composition of the present embodiment, surface treatment of these substrates may be performed. Examples of the surface treatment include ozone treatment, plasma treatment, corona treatment, silane coupling treatment, and the like. In addition, in order to adjust the light transmittance and reflectance, an organic thin film, an inorganic oxide thin film, a metal thin film, etc. are provided on the surface of the substrate by a method such as vapor deposition, or in order to add optical added value. The material may be a pickup lens, a rod lens, an optical disk, a retardation film, a light diffusion film, a color filter, or the like. Among these, a pickup lens, a retardation film, a light diffusion film, and a color filter that have higher added value are preferable.
また、上記基材としては、本実施形態の重合性液晶組成物を塗布乾燥した際に重合性液晶組成物が配向するように、ガラス基材単独、あるいは基材上に配向膜が設けられていることが好ましい。配向処理としては、延伸処理、ラビング処理、偏光紫外可視光照射処理、イオンビーム処理等が挙げられる。配向膜を用いる場合、配向膜は公知慣用のものが用いられる。そのような配向膜としては、ポリイミド、ポリアミド、レシチン、水酸基、カルボン酸基又はスルホン酸基を含有する親水性ポリマーや、また親水性の無機化合物、光配向膜などが利用できる。親水性ポリマーとしては、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸ソーダ、ポリメタクリル酸、ポリアルギン酸ソーダ、ポリカルボキシメチルセルロースソーダ塩、プルラン、ポリスチレンスルホン酸が挙げられる。また、親水性の無機化合物としては、Si、Al、Mg、Zr等の酸化物やフッ化物等の無機化合物が上げられる。親水性の基材は光学異方体の光学軸を基材に対して法線方向にほぼ平行に配向させるために有効なものであるため、ポジティブCプレートの光学異方体を得るために好ましいが、親水性の基材にラビング処理した場合には水平配向膜として作用するため、親水性ポリマー層においてラビング処理は垂直配向性に悪影響を及ぼすためポジティブCプレートの光学フィルムを得るためには好ましくない。 In addition, as the substrate, a glass substrate alone or an alignment film is provided on the substrate so that the polymerizable liquid crystal composition is aligned when the polymerizable liquid crystal composition of the present embodiment is applied and dried. Preferably it is. Examples of the alignment treatment include stretching treatment, rubbing treatment, polarized ultraviolet visible light irradiation treatment, ion beam treatment, and the like. When the alignment film is used, a known and conventional alignment film is used. As such an alignment film, a hydrophilic polymer containing polyimide, polyamide, lecithin, hydroxyl group, carboxylic acid group or sulfonic acid group, a hydrophilic inorganic compound, a photo-alignment film, or the like can be used. Examples of the hydrophilic polymer include polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyacrylic acid soda, polymethacrylic acid, sodium polyalginate, polycarboxymethylcellulose soda salt, pullulan, and polystyrene sulfonic acid. Examples of hydrophilic inorganic compounds include oxides such as Si, Al, Mg, and Zr, and inorganic compounds such as fluoride. Since the hydrophilic base material is effective for orienting the optical axis of the optical anisotropic body almost parallel to the normal direction with respect to the base material, it is preferable for obtaining the optical anisotropic body of the positive C plate. However, since it acts as a horizontal alignment film when a rubbing treatment is performed on a hydrophilic base material, the rubbing treatment adversely affects the vertical alignment in the hydrophilic polymer layer, so that it is preferable for obtaining an optical film of a positive C plate. Absent.
前記した基材に本実施形態の重合性液晶組成物を塗布する方法としては、アプリケーター法、バーコーティング法、スピンコーティング法、ロールコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、フレキソコーティング法、インクジェット法、ダイコーティング法、キャップコーティング法、ディップコーティング法、スリットコーティング法等、公知慣用の方法を行うことができる。重合性液晶組成物を塗布後、必要に応じて重合性液晶組成物に含有される溶剤を加熱乾燥させる。 As a method for applying the polymerizable liquid crystal composition of the present embodiment to the substrate described above, applicator method, bar coating method, spin coating method, roll coating method, direct gravure coating method, reverse gravure coating method, flexo coating method, Known and commonly used methods such as an inkjet method, a die coating method, a cap coating method, a dip coating method, and a slit coating method can be performed. After coating the polymerizable liquid crystal composition, the solvent contained in the polymerizable liquid crystal composition is dried by heating as necessary.
本実施形態の重合性液晶組成物の重合操作については、重合性液晶組成物中の液晶化合物が基材に対してコレステリック配向した状態で一般に紫外線等の光照射、あるいは加熱によって行われる。重合を光照射で行う場合は、具体的には390nm以下の紫外光を照射することが好ましく、250〜370nmの波長の光を照射することが最も好ましい。但し、390nm以下の紫外光により重合性液晶組成物が分解などを引き起こす場合は、390nm以上の紫外光で重合処理を行ったほうが好ましい場合もある。この光は、拡散光で、かつ偏光していない光であることが好ましい。 The polymerization operation of the polymerizable liquid crystal composition of the present embodiment is generally performed by irradiation with light such as ultraviolet rays or heating in a state where the liquid crystal compound in the polymerizable liquid crystal composition is cholesterically aligned with respect to the substrate. When the polymerization is performed by light irradiation, specifically, it is preferable to irradiate ultraviolet light having a wavelength of 390 nm or less, and most preferably to irradiate light having a wavelength of 250 to 370 nm. However, when the polymerizable liquid crystal composition causes decomposition or the like due to ultraviolet light of 390 nm or less, it may be preferable to perform polymerization treatment with ultraviolet light of 390 nm or more. This light is preferably diffused light and unpolarized light.
本実施形態の重合性液晶組成物を重合させる方法としては、活性エネルギー線を照射する方法や熱重合法等が挙げられるが、加熱を必要とせず、室温で反応が進行することから活性エネルギー線を照射する方法が好ましく、中でも、操作が簡便なことから、紫外線等の光を照射する方法が好ましい。 Examples of the method for polymerizing the polymerizable liquid crystal composition of the present embodiment include a method of irradiating active energy rays and a thermal polymerization method. However, since the reaction proceeds at room temperature without requiring heating, the active energy rays are used. In particular, a method of irradiating light such as ultraviolet rays is preferable because the operation is simple.
照射時の温度は、本実施形態の重合性液晶組成物が液晶相を保持できる温度とし、重合性液晶組成物の熱重合の誘起を避けるため、可能な限り50℃以下とすることが好ましい。 The temperature at the time of irradiation is preferably set to 50 ° C. or less as much as possible in order to avoid the induction of thermal polymerization of the polymerizable liquid crystal composition so that the polymerizable liquid crystal composition of the present embodiment can maintain the liquid crystal phase.
紫外線等の光を照射する場合において、その照射強度、及び照射エネルギーは得られる光学フィルムの耐熱性に大きく影響を及ぼす。照射強度、又は照射エネルギーが弱すぎると重合反応が完了しない部分が発生し、耐熱性に影響を与え、照射強度、又は照射エネルギーが強すぎても、層の深さ方向に対して重合度合いの差異が生じ、同様に耐熱性に影響を及ぼす。照射強度としては、30〜2,000mW/cm2のUVA光(UVAは315〜380nmの紫外光)の紫外光を照射することが好ましく、50〜1,500mW/cm2のUVA光の紫外光を照射することがより好ましく、120〜1,000mW/cm2のUVA光の紫外光を照射することが更より好ましく、250〜1,000mW/cm2のUVA光の紫外光を照射することが最も好ましい。照射エネルギーとしては、100〜5,000mJ/cm2のUVA光の紫外光を照射することが好ましく、150〜4,000mJ/cm2のUVA光の紫外光を照射することがより好ましく、200〜3,000mJ/cm2のUVA光の紫外光を照射することが更により好ましく、300〜1,000mJ/cm2のUVA光の紫外光を照射することが最も好ましい。UV照射については、複数回照射する方法でもよいが、1回目の照射強度が上記UV強度であることが好ましく、更に1回目の照射エネルギーが上記UV照射エネルギーであることがより好ましい。In the case of irradiation with light such as ultraviolet rays, the irradiation intensity and irradiation energy greatly affect the heat resistance of the obtained optical film. When the irradiation intensity or irradiation energy is too weak, a portion where the polymerization reaction is not completed occurs, affecting the heat resistance, and even if the irradiation intensity or irradiation energy is too strong, the degree of polymerization with respect to the depth direction of the layer Differences occur and affect the heat resistance as well. The irradiation intensity is preferably 30 to 2,000 mW / cm 2 UVA light (UVA is 315 to 380 nm ultraviolet light), and 50 to 1,500 mW / cm 2 UVA light. It is more preferable to irradiate UV light of 120 to 1,000 mW / cm 2 UVA light, and still more preferable to irradiate UV light of 250 to 1,000 mW / cm 2 UVA light. Most preferred. As irradiation energy, it is preferable to irradiate UV light of UVA light of 100 to 5,000 mJ / cm 2 , more preferable to irradiate UV light of UVA light of 150 to 4,000 mJ / cm 2 , and 200 to 200 It is even more preferable to irradiate UV light of 3,000 mJ / cm 2 UVA light, and it is most preferable to irradiate UV light of 300 to 1,000 mJ / cm 2 UVA light. The UV irradiation may be performed multiple times, but the first irradiation intensity is preferably the UV intensity, and the first irradiation energy is more preferably the UV irradiation energy.
また、本実施形態では、前記一般式(I−1)で表される2官能重合性液晶化合物と、前記一般式(II−1)で表される単官能重合性液晶化合物とを、質量基準で、存在比率[(I−1)/(II−1)]が90/10〜50/50となる割合で用いる場合に、UVAの紫外線を300〜1,000mJ/cm2の照射量で照射することが、耐熱性が良好なものとなる点から好ましい。In the present embodiment, the bifunctional polymerizable liquid crystal compound represented by the general formula (I-1) and the monofunctional polymerizable liquid crystal compound represented by the general formula (II-1) are mass-based. When the abundance ratio [(I-1) / (II-1)] is 90/10 to 50/50, UVA ultraviolet rays are irradiated at a dose of 300 to 1,000 mJ / cm 2. It is preferable that the heat resistance is good.
本実施形態の重合性液晶組成物を重合させて得られる光学フィルムは、基板から剥離して単体で光学フィルムとして使用することも、基板から剥離せずにそのまま光学フィルムとして使用することもできる。特に、他の部材を汚染し難いので、被積層基板として使用したり、他の基板に貼り合わせて使用したりするときに有用である。 The optical film obtained by polymerizing the polymerizable liquid crystal composition of the present embodiment can be peeled off from the substrate and used alone as an optical film, or can be used as an optical film as it is without being peeled off from the substrate. In particular, since it is difficult to contaminate other members, it is useful when used as a laminated substrate or by being attached to another substrate.
この様にして得られる光学フィルムは、コレステリック反射膜として優れた色純度を発現させることができる。斯かるコレステリック反射膜としては、基材に対して棒状液晶性化合物がコレステリック配向したネガティブCプレート、特定の波長の光を反射する選択反射フィルム(バンドストップフィルタ)、棒状液晶性化合物が基材に対して水平時配向し且つ捩れた配向状態を取る捩れたポジティブAプレートとして用いることができる。 The optical film thus obtained can exhibit excellent color purity as a cholesteric reflective film. As such a cholesteric reflective film, a negative C plate in which a rod-like liquid crystalline compound is cholesterically oriented with respect to a substrate, a selective reflection film (band stop filter) that reflects light of a specific wavelength, and a rod-like liquid crystalline compound on the substrate. On the other hand, it can be used as a twisted positive A plate which is horizontally oriented and takes a twisted orientation state.
ここで本実施形態のコレステリック液晶層は、λ/4板、及び二重輝度強化フィルム(DBEF)と積層することにより、光源からの光のうち不要色のみを選択的に反射させて表示素子として色純度を高めることができる。 Here, the cholesteric liquid crystal layer of the present embodiment is laminated with a λ / 4 plate and a dual brightness enhancement film (DBEF) to selectively reflect only unnecessary colors out of light from the light source as a display element. Color purity can be increased.
また、本実施形態に係るλ/2板(又はλ/2層)は、特に制限はなく、公知のものを使用することができ、必要に応じて適宜変更して好ましいものを用いることができる。 Further, the λ / 2 plate (or λ / 2 layer) according to the present embodiment is not particularly limited, and a known one can be used, and a preferable one can be used by appropriately changing as necessary. .
当該λ/2板は、例えば、上記重合性液晶化合物を組み合わせた組成物の硬化物や透明樹脂からなるフィルムを延伸して得られるものである。また、上記透明樹脂としては、平均膜圧0.1mmで全光線透過率が80%以上のものであれば使用することができる。例えば、トリアセチルセルロース等のアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、鎖状ポリオレフィン系樹脂、脂環式構造を有する重合体樹脂(ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素重合体及びこれらの水素添加物)、アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂等が挙げられる。 The λ / 2 plate is obtained, for example, by stretching a cured product of a composition obtained by combining the polymerizable liquid crystal compound or a film made of a transparent resin. As the transparent resin, any resin having an average film pressure of 0.1 mm and a total light transmittance of 80% or more can be used. For example, acetate resin such as triacetyl cellulose, polyester resin, polyethersulfone resin, polycarbonate resin, chain polyolefin resin, polymer resin having alicyclic structure (norbornene polymer, monocyclic ring) Examples thereof include olefin polymers, cyclic conjugated diene polymers, vinyl alicyclic hydrocarbon polymers and hydrogenated products thereof), acrylic resins, polyvinyl alcohol resins, and polyvinyl chloride resins.
上記透明樹脂には、必要に応じて、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、分散剤などの公知の添加剤を添加してもよい。 You may add well-known additives, such as antioxidant, a heat stabilizer, a light stabilizer, a ultraviolet absorber, an antistatic agent, a dispersing agent, to the said transparent resin as needed.
(液晶パネル)
次に、液晶表示素子における液晶パネルの構造について説明する。(LCD panel)
Next, the structure of the liquid crystal panel in the liquid crystal display element will be described.
液晶パネル200A,200Bの好ましい実施形態を、図13〜20を用いて説明する。図13は、液晶表示部の電極層3の構造図の模式図を表し、液晶パネル200A,200Bの電極部分を等価回路で示した模式図であり、図14及び15は画素電極の形状の一例を示す模式図であり、本実施形態の一例として、FFS型の液晶表示素子の電極構造を示す模式図である。図17は、FFS型の液晶表示素子の液晶パネルの断面を示す模式図である。また、図16は、本実施形態の一例として、IPS型の液晶表示素子の電極構造を示す模式図である。図18は、IPS型の液晶表示素子の液晶パネルの断面を示す模式図である。さらに、図19は、本実施形態の一例として、VA型の液晶表示素子の電極構造を示す模式図である。図20は、VA型の液晶表示素子の液晶パネルの断面を示す模式図である。図1,2に示すように、液晶パネル200A,200Bに対して側面側又は背面側から照明する照明手段としてバックライトユニットを設けることで液晶表示素子として駆動する。 A preferred embodiment of the liquid crystal panels 200A and 200B will be described with reference to FIGS. FIG. 13 is a schematic diagram showing the structure of the electrode layer 3 of the liquid crystal display unit, and is a schematic diagram showing the electrode portions of the liquid crystal panels 200A and 200B in an equivalent circuit. FIGS. 14 and 15 are examples of the shape of the pixel electrode. FIG. 2 is a schematic diagram illustrating an electrode structure of an FFS type liquid crystal display element as an example of the embodiment. FIG. 17 is a schematic diagram showing a cross section of a liquid crystal panel of an FFS type liquid crystal display element. FIG. 16 is a schematic diagram showing an electrode structure of an IPS liquid crystal display element as an example of the present embodiment. FIG. 18 is a schematic diagram showing a cross section of a liquid crystal panel of an IPS liquid crystal display element. Further, FIG. 19 is a schematic diagram showing an electrode structure of a VA liquid crystal display element as an example of this embodiment. FIG. 20 is a schematic diagram showing a cross section of a liquid crystal panel of a VA liquid crystal display element. As shown in FIGS. 1 and 2, a liquid crystal display element is driven by providing a backlight unit as illumination means for illuminating the liquid crystal panels 200A and 200B from the side surface or the back surface.
図1,2及び図13において、電極層3a、3bは、1以上の共通電極及び/又は1以上の画素電極を備えている。例えば、FFS型の液晶表示素子では、画素電極は、絶縁層(例えば、窒化シリコン(SiN)など)を介して共通電極上に配置されており、VA型の液晶表示素子では、画素電極と共通電極とは液晶層5を介して対向して配置されている。 1, 2 and 13, the electrode layers 3a and 3b include one or more common electrodes and / or one or more pixel electrodes. For example, in the FFS liquid crystal display element, the pixel electrode is disposed on the common electrode via an insulating layer (eg, silicon nitride (SiN)). In the VA liquid crystal display element, the pixel electrode is shared with the pixel electrode. The electrode is disposed opposite to the liquid crystal layer 5.
画素電極は表示画素毎に配置され、スリット状の開口部が形成されている。共通電極と画素電極とは、例えばITO(Indium Tin Oxide)によって形成された透明電極であり、電極層3は、表示部において、複数の表示画素が配列する行に沿って延びるゲートバスラインGBL(GBL1、GBL2・・・GBLm)と、複数の表示画素が配列する列に沿って延びるソースバスラインSBL(SBL1、SBL2・・・SBLm)と、ゲートバスラインとソースバスラインとが交差する位置近傍に画素スイッチとして薄膜トランジスタを備えている。また、当該薄膜トランジスタのゲート電極は対応するゲートバスラインGBLと電気的に接続されており、当該薄膜トランジスタのソース電極は対応する信号線SBLと電気的に接続されている。さらに、薄膜トランジスタのドレイン電極は、対応する画素電極と電気的に接続されている。 The pixel electrode is disposed for each display pixel, and a slit-shaped opening is formed. The common electrode and the pixel electrode are transparent electrodes formed of, for example, ITO (Indium Tin Oxide), and the electrode layer 3 has a gate bus line GBL (extending along a row in which a plurality of display pixels are arranged in the display portion. GBL1, GBL2,... GBLm), a source bus line SBL (SBL1, SBL2,... SBLm) extending along a column in which a plurality of display pixels are arranged, and a vicinity of a position where the gate bus line and the source bus line intersect. In addition, a thin film transistor is provided as a pixel switch. The gate electrode of the thin film transistor is electrically connected to the corresponding gate bus line GBL, and the source electrode of the thin film transistor is electrically connected to the corresponding signal line SBL. Further, the drain electrode of the thin film transistor is electrically connected to the corresponding pixel electrode.
電極層3は、複数の表示画素を駆動する駆動手段として、ゲートドライバとソースドライバとを備えており、前記ゲートドライバ及び前記ソースドライバは、液晶表示部の周囲に配置されている。また、複数のゲートバスラインはゲートドライバの出力端子と電気的に接続され、複数のソースバスラインはソースドライバの出力端子と電気的に接続されている。 The electrode layer 3 includes a gate driver and a source driver as driving means for driving a plurality of display pixels, and the gate driver and the source driver are arranged around the liquid crystal display unit. The plurality of gate bus lines are electrically connected to the output terminal of the gate driver, and the plurality of source bus lines are electrically connected to the output terminal of the source driver.
ゲートドライバは複数のゲートバスラインにオン電圧を順次印加して、選択されたゲートバスラインに電気的に接続された薄膜トランジスタのゲート電極にオン電圧を供給する。ゲート電極にオン電圧が供給された薄膜トランジスタのソース−ドレイン電極間が導通する。ソースドライバは、複数のソースバスラインのそれぞれに対応する出力信号を供給する。ソースバスラインに供給された信号は、ソース−ドレイン電極間が導通した薄膜トランジスタを介して対応する画素電極に印加される。ゲートドライバ及びソースドライバは、液晶表示素子の外部に配置された表示処理部(制御回路とも称する)により動作を制御される。 The gate driver sequentially applies an ON voltage to the plurality of gate bus lines, and supplies the ON voltage to the gate electrode of the thin film transistor electrically connected to the selected gate bus line. Conduction is established between the source and drain electrodes of the thin film transistor in which the ON voltage is supplied to the gate electrode. The source driver supplies an output signal corresponding to each of the plurality of source bus lines. The signal supplied to the source bus line is applied to the corresponding pixel electrode through a thin film transistor in which the source and drain electrodes are electrically connected. The operations of the gate driver and the source driver are controlled by a display processing unit (also referred to as a control circuit) arranged outside the liquid crystal display element.
本実施形態に係る表示処理部は、通常駆動のほかに駆動電力低減のために低周波駆動の機能と間欠駆動の機能とを備えてもよく、TFT液晶パネルのゲートバスラインを駆動するためのLSIであるゲートドライバの動作及びTFT液晶パネルのソースバスラインを駆動するためのLSIであるソースドライバの動作を制御するものである。また、共通電極に共通電圧VCOMを供給し、バックライトユニットの動作も制御している。例えば、本実施形態に係る表示処理部は、表示画面全体を複数の区画に分けて、それぞれの区画に映す画像の明るさに合わせてバックライトの光の強度を調整するローカルディミング手段を有してもよい。The display processing unit according to the present embodiment may have a low frequency driving function and an intermittent driving function for reducing driving power in addition to normal driving, and is used for driving the gate bus line of the TFT liquid crystal panel. It controls the operation of the gate driver which is an LSI and the operation of the source driver which is an LSI for driving the source bus line of the TFT liquid crystal panel. In addition, the common voltage V COM is supplied to the common electrode to control the operation of the backlight unit. For example, the display processing unit according to the present embodiment includes a local dimming unit that divides the entire display screen into a plurality of sections and adjusts the intensity of the backlight light according to the brightness of the image displayed in each section. May be.
本実施形態に係る液晶表示素子におけるFFS型の液晶パネルの例を図14、図15及び図17を用いて説明する。 An example of the FFS type liquid crystal panel in the liquid crystal display element according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.
図14は、画素電極の形状の一例として櫛形の画素電極を示した図であり、図4及び2における基板2上に形成された電極層3のXIV線で囲まれた領域を拡大した平面図である。図14に示すように、第一の基板2の表面に形成されている薄膜トランジスタを含む電極層3は、走査信号を供給するための複数のゲートバスライン26と表示信号を供給するための複数のソースバスライン25とが、互いに交差してマトリクス状に配置されている。当該複数のゲートバスライン26と当該複数のソースバスライン25とにより囲まれた領域により、液晶表示装置の単位画素が形成され、該単位画素内には、画素電極21及び共通電極22が形成されている。ゲートバスライン26とソースバスライン25が互いに交差している交差部近傍には、ソース電極27、ドレイン電極24及びゲート電極28を含む薄膜トランジスタが設けられている。この薄膜トランジスタは、画素電極21に表示信号を供給するスイッチ素子として、画素電極21と連結している。また、ゲートバスライン26と並行して、共通ライン29が設けられる。この共通ライン29は、共通電極22に共通信号を供給するために、共通電極22と連結している。 FIG. 14 is a diagram showing a comb-shaped pixel electrode as an example of the shape of the pixel electrode, and is an enlarged plan view of a region surrounded by the XIV line of the electrode layer 3 formed on the substrate 2 in FIGS. It is. As shown in FIG. 14, the electrode layer 3 including a thin film transistor formed on the surface of the first substrate 2 includes a plurality of gate bus lines 26 for supplying scanning signals and a plurality of gate bus lines 26 for supplying display signals. The source bus lines 25 are arranged in a matrix so as to cross each other. A unit pixel of the liquid crystal display device is formed by a region surrounded by the plurality of gate bus lines 26 and the plurality of source bus lines 25, and a pixel electrode 21 and a common electrode 22 are formed in the unit pixel. ing. A thin film transistor including a source electrode 27, a drain electrode 24, and a gate electrode 28 is provided in the vicinity of the intersection where the gate bus line 26 and the source bus line 25 intersect each other. The thin film transistor is connected to the pixel electrode 21 as a switch element that supplies a display signal to the pixel electrode 21. A common line 29 is provided in parallel with the gate bus line 26. The common line 29 is connected to the common electrode 22 in order to supply a common signal to the common electrode 22.
画素電極21の背面には絶縁層18(図示せず)を介して共通電極22が一面に形成されている。そして、隣接する共通電極と画素電極との最短離間経路の水平成分は配向層同士(又は基板同士)の最短離間距離(セルギャップ)より短い。前記画素電極の表面には保護絶縁膜及び配向層によって被覆されていることが好ましい。ここで言う「最短離間経路の水平成分」とは、隣接する共通電極と画素電極とを結ぶ最短離間経路を、基板に対して水平方向と基板に対して垂直方向(=厚み方向)とに分解した成分のうち、基板に対して水平方向の成分をいう。なお、前記複数のゲートバスライン26と複数のソースバスライン25とに囲まれた領域にはソースバスライン25を介して供給される表示信号を保存するストレイジキャパシタ(図示せず)を設けてもよい。 A common electrode 22 is formed on the back surface of the pixel electrode 21 with an insulating layer 18 (not shown) interposed therebetween. The horizontal component of the shortest separation path between the adjacent common electrode and the pixel electrode is shorter than the shortest separation distance (cell gap) between the alignment layers (or substrates). The surface of the pixel electrode is preferably covered with a protective insulating film and an alignment layer. The “horizontal component of the shortest separation path” here means that the shortest separation path connecting the adjacent common electrode and the pixel electrode is decomposed into a horizontal direction with respect to the substrate and a vertical direction (= thickness direction) with respect to the substrate. Among the components, the component in the horizontal direction with respect to the substrate. Note that a storage capacitor (not shown) for storing a display signal supplied through the source bus line 25 may be provided in an area surrounded by the plurality of gate bus lines 26 and the plurality of source bus lines 25. Good.
また、図15は、図14の変形例であり、画素電極の形状の一例としてスリット状の画素電極を示した図である。当該図15に示す画素電極21は、略長方形の平板体の電極を、当該平板体の中央部及び両端部が三角形状の切欠き部でくり抜かれ、その他の部分は略矩形枠状の切欠き部でくり抜かれた形状である。なお、切欠き部の形状は特に制限されるものではなく、楕円、円形、長方形状、菱形、三角形、又は平行四辺形など公知の形状の切欠き部を使用できる。 FIG. 15 is a modification of FIG. 14 and shows a slit-shaped pixel electrode as an example of the shape of the pixel electrode. The pixel electrode 21 shown in FIG. 15 is formed by cutting out a substantially rectangular flat plate electrode with a triangular cutout at the center and both ends of the flat plate, and the other portions are cut out in a substantially rectangular frame shape. The shape is hollowed out at the part. The shape of the notch is not particularly limited, and a notch having a known shape such as an ellipse, a circle, a rectangle, a rhombus, a triangle, or a parallelogram can be used.
なお、図14及び図15には、一画素における一対のゲートバスライン26及び一対のソースバスライン25のみが示されている。 14 and 15 show only a pair of gate bus lines 26 and a pair of source bus lines 25 in one pixel.
図17は、図14又は図15におけるIII−III線方向に液晶表示素子を切断した断面図の例の一つである。第一の配向層4及び薄膜トランジスタ(TFT)を含む電極層3が一方の面に形成され、かつ他方の面に第一の偏光層1が形成された第一の基板2と、第二の配向層6、第二の偏光層7、光変換フィルム90が一方の面に形成された第二の基板10と、が所定の間隔Gで配向層同士向かい合うよう離間しており、この第一の基板2と第二の基板10との間に液晶組成物を含む液晶層5が充填されている。第一の基板2の表面の一部にゲート絶縁膜13、薄膜トランジスタ(14、15、16、17、19)、パッシベーション膜18、平坦化膜33、共通電極22、絶縁膜35、画素電極21及び第一の配向層4の順で積層されている。図17では、パッシベーション膜18と平坦膜33との2層を別々に設けた例を記載しているが、パッシベーション膜18と平坦膜33との機能を併せ持つ平坦化膜を一層設けてもよい。また、図17では、配向層4,6を備えている例を示しているが、上記図2で示したとおり、配向層4,6を形成しなくてもよい。光変換フィルム90は、上述した光変換層と波長選択性透過層とを備えている。 FIG. 17 is one example of a cross-sectional view in which the liquid crystal display element is cut in the direction of the line III-III in FIG. A first substrate 2 in which an electrode layer 3 including a first alignment layer 4 and a thin film transistor (TFT) is formed on one surface and a first polarizing layer 1 is formed on the other surface; and a second alignment Layer 1, second polarizing layer 7, and second substrate 10 on which light conversion film 90 is formed on one surface are spaced apart from each other with a predetermined gap G so that the alignment layers face each other. A liquid crystal layer 5 containing a liquid crystal composition is filled between 2 and the second substrate 10. A gate insulating film 13, a thin film transistor (14, 15, 16, 17, 19), a passivation film 18, a planarizing film 33, a common electrode 22, an insulating film 35, a pixel electrode 21, and a part of the surface of the first substrate 2 The first alignment layers 4 are stacked in this order. Although FIG. 17 shows an example in which two layers of the passivation film 18 and the flat film 33 are separately provided, one leveling film having both the functions of the passivation film 18 and the flat film 33 may be provided. Moreover, although the example provided with the alignment layers 4 and 6 is shown in FIG. 17, as shown in the said FIG. 2, the alignment layers 4 and 6 do not need to be formed. The light conversion film 90 includes the light conversion layer and the wavelength selective transmission layer described above.
上記図17におけるFFS型の液晶パネルにおいて、本実施形態に係る光変換フィルムの好ましい実施形態について上述したが、これら光変換フィルムの好ましい実施形態は、IPS型の液晶表示素子、VA型の液晶表示素子における光変換フィルム90にも適用することができる。 In the FFS type liquid crystal panel in FIG. 17, the preferred embodiments of the light conversion film according to the present embodiment have been described above. However, the preferred embodiments of the light conversion film include an IPS type liquid crystal display element and a VA type liquid crystal display. The present invention can also be applied to the light conversion film 90 in the element.
図17において、薄膜トランジスタの構造の好適な一態様は、基板2表面に形成されたゲート電極14と、当該ゲート電極14を覆い、且つ前記基板2の略全面を覆うように設けられたゲート絶縁層13と、前記ゲート電極14と対向するよう前記ゲート絶縁層13の表面に形成された半導体層19と、前記半導体層19の表面の一部を覆うように設けられた保護膜20と、前記保護膜20及び前記半導体層19の一方の側端部を覆い、かつ前記基板2表面に形成された前記ゲート絶縁層13と接触するように設けられたドレイン電極16と、前記保護膜20及び前記半導体層19の他方の側端部を覆い、かつ前記基板2表面に形成された前記ゲート絶縁層13と接触するように設けられたソース電極17と、前記ドレイン電極16及び前記ソース電極17を覆うように設けられた絶縁保護層18と、を有している。ゲート電極14の表面にゲート電極との段差を無くす等の理由により陽極酸化被膜(図示せず)を形成してもよい。 In FIG. 17, a preferred embodiment of the structure of the thin film transistor includes a gate electrode 14 formed on the surface of the substrate 2, and a gate insulating layer provided so as to cover the gate electrode 14 and cover substantially the entire surface of the substrate 2. 13, a semiconductor layer 19 formed on the surface of the gate insulating layer 13 so as to face the gate electrode 14, a protective film 20 provided so as to cover a part of the surface of the semiconductor layer 19, and the protection A drain electrode 16 which covers one side edge of the film 20 and the semiconductor layer 19 and is in contact with the gate insulating layer 13 formed on the surface of the substrate 2, the protective film 20 and the semiconductor A source electrode 17 that covers the other side end of the layer 19 and is in contact with the gate insulating layer 13 formed on the surface of the substrate 2; the drain electrode 16; Has an insulating protective layer 18 provided to cover the over scan electrodes 17. An anodic oxide film (not shown) may be formed on the surface of the gate electrode 14 for reasons such as eliminating a step with the gate electrode.
図17に示すようなFFS型の液晶表示素子の実施形態では、共通電極22はゲート絶縁層13上のほぼ全面に形成された平板状の電極であり、一方、画素電極21は共通電極22を覆う絶縁保護層18上に形成された櫛形の電極である。すなわち、共通電極22は画素電極21よりも第一の基板2に近い位置に配置され、これらの電極は絶縁保護層18を介して互いに重なりあって配置される。画素電極21と共通電極22は、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、IZTO(Indium Zinc Tin Oxide)等の透明導電性材料により形成される。画素電極21と共通電極22が透明導電性材料により形成されるため、単位画素面積で開口される面積が大きくなり、開口率及び透過率が増加する。 In the embodiment of the FFS type liquid crystal display device as shown in FIG. 17, the common electrode 22 is a flat electrode formed on almost the entire surface of the gate insulating layer 13, while the pixel electrode 21 has the common electrode 22. It is a comb-shaped electrode formed on the insulating protective layer 18 to be covered. That is, the common electrode 22 is disposed at a position closer to the first substrate 2 than the pixel electrode 21, and these electrodes are disposed so as to overlap each other via the insulating protective layer 18. The pixel electrode 21 and the common electrode 22 are formed of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), or IZTO (Indium Zinc Tin Oxide). Since the pixel electrode 21 and the common electrode 22 are formed of a transparent conductive material, the area opened by the unit pixel area increases, and the aperture ratio and transmittance increase.
また、画素電極21と共通電極22とは、これらの電極間にフリンジ電界を形成するために、画素電極21と共通電極22との間の電極間経路の水平成分(最小離間経路の水平成分とも称する)Rが、第一の基板2と第二の基板10との間の液晶層5の厚さGより小さくなるように形成される。ここで、電極間経路の水平成分Rは各電極間の基板に水平方向の距離を表す。図17では、平板状の共通電極22と櫛形の画素電極21とが重なり合っているため、最小離間経路の水平成分(又は電極間距離):R=0となる例が示されており、最小離間経路の水平成分Rが第一の基板2と第二の基板10との間の液晶層の厚さ(セルギャップとも称される):Gよりも小さくなるため、フリンジの電界Eが形成される。したがって、FFS型の液晶表示素子は、画素電極21の櫛形を形成するラインに対して垂直な方向に形成される水平方向の電界と、放物線状の電界を利用することができる。画素電極21の櫛状部分の電極幅:l、及び、画素電極21の櫛状部分の間隙の幅:mは、発生する電界により液晶層5内の液晶分子が全て駆動され得る程度の幅に形成することが好ましい。また、画素電極と共通電極との最小離間経路の水平成分Rは、絶縁膜35の(平均)膜厚などで調整することができる。 Further, the pixel electrode 21 and the common electrode 22 have a horizontal component of the inter-electrode path between the pixel electrode 21 and the common electrode 22 (both the horizontal component of the minimum separation path) in order to form a fringe electric field between these electrodes. R) is formed to be smaller than the thickness G of the liquid crystal layer 5 between the first substrate 2 and the second substrate 10. Here, the horizontal component R of the interelectrode path represents the distance in the horizontal direction on the substrate between the electrodes. In FIG. 17, since the flat common electrode 22 and the comb-shaped pixel electrode 21 overlap each other, an example in which the horizontal component (or interelectrode distance) of the minimum separation path is R = 0 is shown. Since the horizontal component R of the path is smaller than the thickness of the liquid crystal layer between the first substrate 2 and the second substrate 10 (also referred to as cell gap): G, a fringe electric field E is formed. . Therefore, the FFS type liquid crystal display element can use a horizontal electric field formed in a direction perpendicular to a line forming the comb shape of the pixel electrode 21 and a parabolic electric field. The electrode width of the comb-shaped portion of the pixel electrode 21: l and the width of the gap of the comb-shaped portion of the pixel electrode 21: m are such that all the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 5 can be driven by the generated electric field. It is preferable to form. Further, the horizontal component R of the minimum separation path between the pixel electrode and the common electrode can be adjusted by the (average) film thickness of the insulating film 35 or the like.
本実施形態に係る液晶表示素子におけるFFS型の液晶パネルの変形例であるIPS型の液晶パネルの例を図16及び図18を用いて説明する。IPS型の液晶表示素子における液晶パネルの構成は、上記図1のFFS型と同様に片側の基板上に電極層3(共通電極と画素電極とTFTを含む)が設けられた構造であり、第一の偏光層1と、第一の基板2と、電極層3と、第一の配向層4と、液晶組成物を含む液晶層5と、第二の配向層6と、第二の偏光層7と、光変換フィルム90と、第二の基板10と、が順次積層された構成である。 An example of an IPS type liquid crystal panel, which is a modification of the FFS type liquid crystal panel in the liquid crystal display element according to the present embodiment, will be described with reference to FIGS. The configuration of the liquid crystal panel in the IPS type liquid crystal display element is a structure in which an electrode layer 3 (including a common electrode, a pixel electrode, and a TFT) is provided on a substrate on one side as in the FFS type in FIG. One polarizing layer 1, a first substrate 2, an electrode layer 3, a first alignment layer 4, a liquid crystal layer 5 containing a liquid crystal composition, a second alignment layer 6, and a second polarizing layer 7, the light conversion film 90, and the second substrate 10 are sequentially laminated.
図16は、IPS型の液晶表示部における図13の第一の基板2上に形成された電極層3のXIV線で囲まれた領域の一部を拡大した平面図である。図16に示すように、走査信号を供給するための複数のゲートバスライン26と表示信号を供給するための複数のソースバスライン25とにより囲まれた領域内(単位画素内)で、櫛歯形の第一の電極(例えば、画素電極)21と櫛歯型の第二の電極(例えば、共通電極)22とが互いに遊嵌した状態(両電極が一定距離を保った状態で離間して噛合した状態)で設けられている。該単位画素内には、ゲートバスライン26とソースバスライン25が互いに交差している交差部近傍には、ソース電極27、ドレイン電極24及びゲート電極28を含む薄膜トランジスタが設けられている。この薄膜トランジスタは、第一の電極21に表示信号を供給するスイッチ素子として、第一の電極21と連結している。また、ゲートバスライン26と並行して、共通ライン(Vcom)29が設けられる。この共通ライン29は、第二の電極22に共通信号を供給するために、第二の電極22と連結している。FIG. 16 is an enlarged plan view of a part of the region surrounded by the XIV line of the electrode layer 3 formed on the first substrate 2 of FIG. 13 in the IPS liquid crystal display unit. As shown in FIG. 16, in a region surrounded by a plurality of gate bus lines 26 for supplying scanning signals and a plurality of source bus lines 25 for supplying display signals (in a unit pixel), a comb-teeth shape is formed. The first electrode (for example, pixel electrode) 21 and the comb-shaped second electrode (for example, common electrode) 22 are loosely engaged with each other (the two electrodes are spaced apart and meshed with each other while maintaining a certain distance). ). In the unit pixel, a thin film transistor including a source electrode 27, a drain electrode 24, and a gate electrode 28 is provided in the vicinity of an intersection where the gate bus line 26 and the source bus line 25 intersect each other. The thin film transistor is connected to the first electrode 21 as a switch element that supplies a display signal to the first electrode 21. Further, a common line (V com ) 29 is provided in parallel with the gate bus line 26. The common line 29 is connected to the second electrode 22 in order to supply a common signal to the second electrode 22.
図18は、図16におけるIII−III線方向にIPS型の液晶パネルを切断した断面図である。第一の基板2上には、ゲートバスライン26(図示せず)を覆い、且つ第一の基板2の略全面を覆うように設けられたゲート絶縁層32と、ゲート絶縁層32の表面に形成された絶縁保護層31とが設けられ、絶縁保護膜31上に、第一の電極(画素電極)21及び第二の電極(共通電極)22が離間して設けられる。絶縁保護層31は、絶縁機能を有する層であり、窒化ケイ素、二酸化ケイ素、ケイ素酸窒化膜等で形成される。また、第一の配向層4及び薄膜トランジスタを含む電極層3が一方の面に形成され、かつ他方の面に第一の偏光層1が形成された第一の基板2と、第二の配向層6、第二の偏光層7及び光変換層9が一方の面に形成された第二の基板10と、が所定の間隔で配向層同士向かい合うよう離間しており、この空間に液晶組成物を含む液晶層5が充填されている。当該光変換フィルム90は、上述した光変換層と波長選択性透過層とを備えている。光変換フィルム90の説明は、上記で説明したとおりである。 FIG. 18 is a cross-sectional view of the IPS liquid crystal panel taken along the line III-III in FIG. On the first substrate 2, a gate insulating layer 32 provided so as to cover the gate bus line 26 (not shown) and to cover substantially the entire surface of the first substrate 2, and on the surface of the gate insulating layer 32 The formed insulating protective layer 31 is provided, and the first electrode (pixel electrode) 21 and the second electrode (common electrode) 22 are provided on the insulating protective film 31 separately. The insulating protective layer 31 is a layer having an insulating function, and is formed of silicon nitride, silicon dioxide, silicon oxynitride film, or the like. In addition, the first alignment layer 4 and the electrode layer 3 including the thin film transistor are formed on one surface, and the first polarizing layer 1 is formed on the other surface, and the second alignment layer 6, the second polarizing layer 7 and the second substrate 10 on which the light conversion layer 9 is formed on one surface are spaced apart from each other so that the alignment layers face each other at a predetermined interval. The liquid crystal layer 5 is filled. The light conversion film 90 includes the light conversion layer and the wavelength selective transmission layer described above. The description of the light conversion film 90 is as described above.
図16及び図18に示すような実施の形態では、第一の電極21及び第二の電極22は、絶縁保護層31上に、すなわち同一の層上に形成された櫛形の電極であり、互いに離間して噛合した状態で設けられている。IPS型の液晶表示部では、第一の電極21と第二の電極22との間の電極間距離Gと、第一の基板2と第二の基板10との間の液晶層の厚さ(セルギャップ):Hは、G≧Hの関係を満たす。電極間距離:Gとは、第一の電極21と第二の電極22との間の、基板に水平方向の最短距離を表し、図16及び図18で示す例においては、第一の電極21と第二の電極22とが遊嵌して交互に形成されたラインに対して、水平の方向の距離を表す。第一の基板2と第二の基板10との距離:Hとは、第一の基板2と第二の基板10との間の液晶層の厚さを表し、具体的には、第一の基板2及び第二の基板10のそれぞれに設けられた配向層4(最表面)間の距離(すなわちセルギャップ)、液晶層の厚みを表す。 In the embodiment as shown in FIG. 16 and FIG. 18, the first electrode 21 and the second electrode 22 are comb-shaped electrodes formed on the insulating protective layer 31, that is, on the same layer. It is provided in a state of being separated and meshed. In the IPS liquid crystal display unit, the interelectrode distance G between the first electrode 21 and the second electrode 22 and the thickness of the liquid crystal layer between the first substrate 2 and the second substrate 10 ( Cell gap): H satisfies the relationship G ≧ H. The distance between electrodes: G represents the shortest distance in the horizontal direction on the substrate between the first electrode 21 and the second electrode 22. In the example shown in FIGS. 16 and 18, the first electrode 21 is used. And a distance in the horizontal direction with respect to a line formed by alternately fitting the second electrode 22 and the second electrode 22. The distance H between the first substrate 2 and the second substrate 10 represents the thickness of the liquid crystal layer between the first substrate 2 and the second substrate 10, specifically, The distance (namely, cell gap) between the alignment layers 4 (outermost surface) provided in each of the substrate 2 and the second substrate 10 and the thickness of the liquid crystal layer are represented.
また、図18では、配向層4,6を備えている例を示しているが、上記図4で示したとおり、配向層4,6を形成しなくてもよい。 18 shows an example in which the alignment layers 4 and 6 are provided, but the alignment layers 4 and 6 may not be formed as shown in FIG.
一方、先述のFFS型の液晶パネルでは、第一の基板2と第二の基板10との間の液晶層の厚さが、第一の電極21と第二の電極22との間の、基板に水平方向の最短距離以上であり、IPS型の液晶表示部は、第一の基板2と第二の基板10との間の液晶層の厚さが、第一の電極21と第二の電極22との間の、基板に水平方向の最短距離未満である。 On the other hand, in the aforementioned FFS type liquid crystal panel, the thickness of the liquid crystal layer between the first substrate 2 and the second substrate 10 is the substrate between the first electrode 21 and the second electrode 22. In the IPS type liquid crystal display unit, the thickness of the liquid crystal layer between the first substrate 2 and the second substrate 10 is the first electrode 21 and the second electrode. 22 is less than the shortest horizontal distance to the substrate.
IPS型の液晶パネルは、第一の電極21及び第二の電極22間に形成される基板面に対して水平方向の電界を利用して液晶分子を駆動させる。第一の電極21の電極幅:Q、及び第二の電極22の電極幅:Rは、発生する電界により液晶層5内の液晶分子が全て駆動され得る程度の幅に形成することが好ましい。 The IPS liquid crystal panel drives liquid crystal molecules using an electric field in the horizontal direction with respect to the substrate surface formed between the first electrode 21 and the second electrode 22. The electrode width Q of the first electrode 21 and the electrode width R of the second electrode 22 are preferably formed such that all the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 5 can be driven by the generated electric field.
本実施形態の好ましい液晶パネルの他の実施形態は、垂直配向型の液晶パネル(VA型液晶ディスプレイ)である。本実施形態に係る液晶表示素子のVA型の液晶パネルの例を図19及び図20を用いて説明する。図19は、基板上に形成された薄膜トランジスタを含む電極層3(又は薄膜トランジスタ層3とも称する。)のXIV線で囲まれた領域を拡大した平面図である。図20は、図19におけるIII−III線方向に図3、8に示す液晶パネルを切断した断面図である。 Another embodiment of the preferred liquid crystal panel of the present embodiment is a vertical alignment type liquid crystal panel (VA type liquid crystal display). An example of a VA type liquid crystal panel of the liquid crystal display element according to this embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 19 is an enlarged plan view of the region surrounded by the XIV line of the electrode layer 3 (or also referred to as the thin film transistor layer 3) including the thin film transistor formed on the substrate. 20 is a cross-sectional view of the liquid crystal panel shown in FIGS. 3 and 8 taken along the line III-III in FIG.
本実施形態に係る液晶表示素子における液晶パネルの構成は、図3、8に記載するように、(透明)電極層3b(又は共通電極3bとも称する。)、第二の偏光層7及び光変換層9を具備した第二の基板10と、画素電極及び各画素に具備した前記画素電極を制御する薄膜トランジスタを形成した電極層3を含む第一の基板2と、前記第一の基板2と第二の基板10との間に挟持された液晶層5(液晶組成物から構成されている)を有し、該液晶組成物中の液晶分子の電圧無印加時の配向が前記基板2,7に対して略垂直である液晶表示素子であって、液晶層として特定の液晶組成物を用いたことを特徴の一つとするものである。また、電極層3bは、他の液晶表示素子と同じく透明導電性材料から構成されていることが好ましい。なお、図18では、前記第二の基板10と第二の偏光層7との間に光変換フィルム90が設けられている例を記載しているが必ずしもこれに限定されることはない。さらに、本実施形態に係る液晶層5と隣接し、かつ当該液晶層5を構成する液晶組成物と直接接するよう一対の配向層4,6を透明電極(層)3a,3b表面に必要により形成してもよい(図20では配向層4,6を図示している)。前記第一の基板2のバックライトユニット側の面に第一の偏光層1が設けられており、第二の偏光層7は、透明電極(層)3bと光変換フィルム90との間に設けられている。したがって、本実施形態に係る液晶表示素子における液晶パネルの好ましい形態の一つは、第一の配向層4及び薄膜トランジスタを含む電極層3が一方の面に形成され、かつ他方の面に第一の偏光層1が形成された第一の基板2と、第二の配向層6、透明電極(層)3b、第二の偏光層7及び光変換フィルム90が一方の面に形成された第二の基板10と、が所定の間隔で配向層同士向かい合うよう離間しており、前記第一の基板2と第二の基板10と間に液晶組成物を含む液晶層5が充填されている。光変換フィルム90の説明は、上記で説明したとおりである。 As shown in FIGS. 3 and 8, the configuration of the liquid crystal panel in the liquid crystal display element according to the present embodiment is a (transparent) electrode layer 3b (or also referred to as a common electrode 3b), the second polarizing layer 7, and the light conversion. A first substrate 2 including a second substrate 10 provided with a layer 9, a pixel electrode and an electrode layer 3 on which a thin film transistor for controlling the pixel electrode provided in each pixel is formed; A liquid crystal layer 5 (consisting of a liquid crystal composition) sandwiched between the second substrate 10 and the alignment of the liquid crystal molecules in the liquid crystal composition when no voltage is applied to the substrates 2 and 7. A liquid crystal display element that is substantially perpendicular to the liquid crystal display device, and is characterized by using a specific liquid crystal composition as a liquid crystal layer. Moreover, it is preferable that the electrode layer 3b is comprised from the transparent conductive material like other liquid crystal display elements. Although FIG. 18 shows an example in which the light conversion film 90 is provided between the second substrate 10 and the second polarizing layer 7, it is not necessarily limited to this. Furthermore, a pair of alignment layers 4 and 6 are formed on the surfaces of the transparent electrodes (layers) 3a and 3b as necessary so as to be adjacent to the liquid crystal layer 5 according to the present embodiment and in direct contact with the liquid crystal composition constituting the liquid crystal layer 5. (Orientation layers 4 and 6 are shown in FIG. 20). The first polarizing layer 1 is provided on the surface of the first substrate 2 on the backlight unit side, and the second polarizing layer 7 is provided between the transparent electrode (layer) 3b and the light conversion film 90. It has been. Accordingly, one of the preferred forms of the liquid crystal panel in the liquid crystal display element according to the present embodiment is that the first alignment layer 4 and the electrode layer 3 including the thin film transistor are formed on one surface, and the first surface is formed on the other surface. The first substrate 2 on which the polarizing layer 1 is formed, the second alignment layer 6, the transparent electrode (layer) 3b, the second polarizing layer 7 and the light conversion film 90 are formed on one surface of the second substrate. The substrate 10 is spaced apart from the alignment layer at a predetermined interval, and a liquid crystal layer 5 containing a liquid crystal composition is filled between the first substrate 2 and the second substrate 10. The description of the light conversion film 90 is as described above.
図19は、画素電極21の形状の一例として“」”型の画素電極を示した図であり、図12、4における基板2上に形成された電極層3のXIV線で囲まれた領域を拡大した平面図である。前記画素電極21は、上記図14、14及び15と同様に、ゲートバスライン26とソースバスライン25とに囲まれた領域の略全面に“」”型に形成されているが、画素電極の形状はこれに限定されるものではなく、PSVAなどに使用する場合はフィッシュボーン構造の画素電極でもよい。また、画素電極21のその他の構成や機能などは上述したとおりであるためここでは省略する。 FIG. 19 is a diagram illustrating a pixel electrode of “” ”type as an example of the shape of the pixel electrode 21, and the region surrounded by the XIV line of the electrode layer 3 formed on the substrate 2 in FIGS. 14 and 15, the pixel electrode 21 is formed in a “” ”shape over substantially the entire area surrounded by the gate bus line 26 and the source bus line 25. However, the shape of the pixel electrode is not limited to this, and may be a fishbone structure pixel electrode when used for PSVA, etc. Further, other configurations and functions of the pixel electrode 21 are as described above. Therefore, it is omitted here.
垂直配向型の液晶表示素子の液晶パネル部は、上記のIPS型やFFS型とは異なり、共通電極3b(図示せず)が画素電極21と対向離間して、TFTと対向する基板上に形成されている。換言すると、画素電極21と、共通電極22とは別の基板上に形成されている。一方、先述のFFSやIPS型の液晶表示素子は、画素電極21及び共通電極22が同一基板上に形成されている。 Unlike the IPS type and FFS type, the liquid crystal panel portion of the vertical alignment type liquid crystal display element is formed on the substrate facing the TFT with the common electrode 3b (not shown) facing and separated from the pixel electrode 21. Has been. In other words, the pixel electrode 21 and the common electrode 22 are formed on different substrates. On the other hand, in the aforementioned FFS or IPS type liquid crystal display element, the pixel electrode 21 and the common electrode 22 are formed on the same substrate.
また、当該光変換フィルム90は、光の漏れを防止する観点で、薄膜トランジスタ及びストレイジキャパシタ23に対応する部分にブラックマトリックス(図示せず)を形成してもよい。 Further, the light conversion film 90 may form a black matrix (not shown) in a portion corresponding to the thin film transistor and the storage capacitor 23 from the viewpoint of preventing light leakage.
図20は、図19おけるIII−III線方向に図3、8に示す液晶表示素子を切断した断面図である。すなわち、本実施形態に係る液晶表示素子の液晶パネル200は、第一の偏光層1と、第一の基板2と、薄膜トランジスタを含む電極層(又は薄膜トランジスタ層とも称する)3aと、第一の配向層4と、液晶組成物を含む液晶層5と、第二の配向層6と、共通電極3bと、第二の偏光層7と、光変換フィルム90と、第二の基板10と、が順次積層された構成である。本実施形態に係る液晶表示素子の薄膜トランジスタの構造(図20のIVの領域)の好適な一態様は、上述したとおりであるためここでは省略する。 20 is a cross-sectional view of the liquid crystal display element shown in FIGS. 3 and 8 taken along the line III-III in FIG. That is, the liquid crystal panel 200 of the liquid crystal display element according to the present embodiment includes a first polarizing layer 1, a first substrate 2, an electrode layer (or a thin film transistor layer) 3a including a thin film transistor, and a first alignment. The layer 4, the liquid crystal layer 5 containing the liquid crystal composition, the second alignment layer 6, the common electrode 3b, the second polarizing layer 7, the light conversion film 90, and the second substrate 10 are sequentially formed. It is a laminated structure. A preferred embodiment of the thin film transistor structure (region IV in FIG. 20) of the liquid crystal display element according to the present embodiment is as described above, and is omitted here.
本実施形態に係る液晶表示素子は、バックライトユニット100を液晶の画素数より少ない複数の区画毎に輝度を制御することで、コントラストを向上させるローカルディミングの手法を有していても良い。 The liquid crystal display element according to the present embodiment may have a local dimming technique for improving the contrast by controlling the brightness of the backlight unit 100 for each of a plurality of sections smaller than the number of pixels of the liquid crystal.
ローカルディミングの手法としては、複数存在する発光素子Lを液晶パネル上の特定の領域の光源として使用し、各発光素子Lを表示領域の輝度に応じて制御することが可能である。この場合、当該複数の発光素子Lが、平面状に配列された形態であっても、液晶パネル200の一側面側に一列に並べられた形態であっても良い。 As a local dimming method, it is possible to use a plurality of light emitting elements L as light sources for a specific area on the liquid crystal panel and control each light emitting element L according to the luminance of the display area. In this case, the plurality of light emitting elements L may be arranged in a planar shape or may be arranged in a line on one side of the liquid crystal panel 200.
上記ローカルディミングの手法としてバックライトユニット100の導光部102と液晶パネル200とを有する構造になっている場合において、導光板(及び/又は光拡散板)と液晶パネルの光源側の基板との間に当該導光部102として、液晶の画素数より少ない特定領域毎にバックライトの光量を制御する制御層を有していても良い。 In the case of a structure having the light guide unit 102 of the backlight unit 100 and the liquid crystal panel 200 as the local dimming method, the light guide plate (and / or the light diffusing plate) and the substrate on the light source side of the liquid crystal panel In the meantime, the light guide unit 102 may include a control layer that controls the amount of light of the backlight for each specific region smaller than the number of pixels of the liquid crystal.
バックライトの光量を制御する手法としては、液晶の画素数より少ない液晶素子を更に有していても良く、液晶素子としては既存の様々手法を用いることができるが、ポリマーネットワークが形成された液晶を含むLCD層が透過率の点で好ましい。当該ポリマーネットワークが形成された(ネマチック)液晶を含む層(必要により一対の透明電極で挟持されたポリマーネットワークが形成された(ネマチック)液晶を含む層)は、電圧OFF時は光を散乱し、電圧ON時は光を透過するため、表示画面全体を複数の区画に分けるように区画されたポリマーネットワークが形成された液晶を含むLCD層を、導光板(及び/又は光拡散板)と液晶パネルの光源側の基板との間に設けることでローカルディミングを実現できる。 As a method for controlling the amount of light of the backlight, a liquid crystal element having fewer than the number of pixels of the liquid crystal may be further included, and various existing methods can be used as the liquid crystal element. An LCD layer containing is preferable in terms of transmittance. The layer containing the (nematic) liquid crystal in which the polymer network is formed (if necessary, the layer containing the (nematic) liquid crystal in which the polymer network is sandwiched between a pair of transparent electrodes) scatters light when the voltage is OFF, In order to transmit light when the voltage is ON, an LCD layer including a liquid crystal in which a polymer network partitioned so as to divide the entire display screen into a plurality of partitions is formed, a light guide plate (and / or a light diffusion plate) and a liquid crystal panel. Local dimming can be realized by providing it between the substrate on the light source side.
以下、本実施形態に係る液晶表示素子の液晶パネル部の構成要素である、液晶層、配向層などについて説明する。 Hereinafter, a liquid crystal layer, an alignment layer, and the like, which are components of the liquid crystal panel portion of the liquid crystal display element according to the present embodiment, will be described.
本実施形態に係る液晶層は、一般式(i):
上記化合物により耐光性に対する信頼性が高い化合物を含む液晶層を構成しえるため、光源からの光、特に青色光(青色LEDからの)による液晶層の劣化を抑制・防止することができる。また、液晶層のリタデーションを調整することができるため、液晶表示素子の透過率の低下を抑制又は防止する Since a liquid crystal layer containing a compound having high reliability with respect to light resistance can be constituted by the above compound, deterioration of the liquid crystal layer due to light from a light source, particularly blue light (from a blue LED) can be suppressed / prevented. Moreover, since the retardation of the liquid crystal layer can be adjusted, the decrease in the transmittance of the liquid crystal display element is suppressed or prevented.
本実施形態に係る液晶層において、上記一般式(i)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、1質量%であり、2質量%であり、3質量%であり、5質量%であり、7質量%であり、10質量%であり、15質量%であり、20質量%であり、25質量%であり、30質量%であり、35質量%であり、40質量%であり、45質量%であり、50質量%であり、55質量%である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、95質量%であり、90質量%であり、85質量%であり、80質量%であり、75質量%であり、70質量%であり、65質量%であり、60質量%であり、55質量%であり、50質量%であり、45質量%であり、40質量%であり、35質量%であり、30質量%であり、25質量%である。 In the liquid crystal layer according to the present embodiment, the lower limit of the preferable content of the compound represented by the general formula (i) is 1% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment, and 2% by mass. 3% by mass 5% by mass 7% by mass 10% by mass 15% by mass 20% by mass 25% by mass 30% by mass , 35% by mass, 40% by mass, 45% by mass, 50% by mass, and 55% by mass. The upper limit of the preferable content is 95% by mass, 90% by mass, 85% by mass, 80% by mass, and 75% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. 70% by mass, 65% by mass, 60% by mass, 55% by mass, 50% by mass, 45% by mass, 40% by mass, 35% by mass, 30% by mass % And 25% by mass.
本実施形態に係る液晶層には、上記一般式(i)で表される化合物を10〜50質量%含むことが特に好ましい。 The liquid crystal layer according to this embodiment particularly preferably contains 10 to 50% by mass of the compound represented by the general formula (i).
上記一般式(i)で表される化合物は一般式(i−1)〜(i−2)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。 The compound represented by the general formula (i) is preferably a compound selected from the group of compounds represented by the general formulas (i-1) to (i-2).
一般式(i−1)で表される化合物は下記の化合物である。
Ri11及びRi12は、直鎖状の炭素原子数1〜5のアルキル基、直鎖状の炭素原子数1〜4のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数2〜5のアルケニル基が好ましい。R i11 and R i12 are preferably a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a linear alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and a linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms. .
一般式(i−1)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本実施形態の一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 Although the compound represented by general formula (i-1) can also be used independently, it can also be used in combination of 2 or more compounds. There are no particular restrictions on the types of compounds that can be combined, but they are used in appropriate combinations according to the required properties such as solubility at low temperatures, transition temperatures, electrical reliability, and birefringence. The kind of compound to be used is, for example, one kind as one embodiment of this embodiment, two kinds, three kinds, four kinds, and five kinds or more.
好ましい含有量の下限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、1質量%であり、2質量%であり、3質量%であり、5質量%であり、7質量%であり、10質量%であり、12質量%であり、15質量%であり、17質量%であり、20質量%であり、22質量%であり、25質量%であり、27質量%であり、30質量%であり、35質量%であり、40質量%であり、45質量%であり、50質量%であり、55質量%である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、95質量%であり、90質量%であり、85質量%であり、80質量%であり、75質量%であり、70質量%であり、65質量%であり、60質量%であり、55質量%であり、50質量%であり、48質量%であり、45質量%であり、43質量%であり、40質量%であり、38質量%であり、35質量%であり、33質量%であり、30質量%であり、28質量%であり、25質量%であり、23質量%であり、20質量%である。 The lower limit of the preferable content is 1% by mass, 2% by mass, 3% by mass, 5% by mass, and 7% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. 10% by mass, 12% by mass, 15% by mass, 17% by mass, 20% by mass, 22% by mass, 25% by mass, 27% by mass, 30% by mass %, 35% by mass, 40% by mass, 45% by mass, 50% by mass, and 55% by mass. The upper limit of the preferable content is 95% by mass, 90% by mass, 85% by mass, 80% by mass, and 75% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. 70% by mass, 65% by mass, 60% by mass, 55% by mass, 50% by mass, 48% by mass, 45% by mass, 43% by mass, 40% by mass %, 38% by mass, 35% by mass, 33% by mass, 30% by mass, 28% by mass, 25% by mass, 23% by mass, 20% by mass is there.
本実施形態の組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。さらに、本実施形態の組成物のTNIを高く保ち、温度安定性の良い組成物が必要な場合は上記の下限値が中庸で上限値が中庸であることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値が低く上限値が低いことが好ましい。When a composition having a low response speed and a high response speed is required, it is preferable that the lower limit value is high and the upper limit value is high. Moreover, maintaining high T NI of the compositions of the present embodiment, it is preferred if good composition temperature stability is required is the upper limit value in the lower limit of the above is moderate is moderate. When it is desired to increase the dielectric anisotropy in order to keep the driving voltage low, it is preferable that the lower limit value is low and the upper limit value is low.
一般式(i−1)で表される化合物は一般式(i−1−1)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
一般式(i−1−1)で表される化合物は、式(i−1−1.1)から式(i−1−1.3)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(i−1−1.2)又は式(i−1−1.3)で表される化合物であることが好ましく、特に、式(i−1−1.3)で表される化合物であることが好ましい。
本実施形態の組成物の総量に対しての式(i−1−1.3)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%であり、2質量%であり、3質量%であり、5質量%であり、7質量%であり、10質量%である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、20質量%であり、15質量%であり、13質量%であり、10質量%であり、8質量%であり、7質量%であり、6質量%であり、5質量%であり、3質量%である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by the formula (i-1-1.3) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass, 2% by mass, and 3% by mass. %, 5% by mass, 7% by mass, and 10% by mass. The upper limit of the preferable content is 20% by mass, 15% by mass, 13% by mass, 10% by mass, and 8% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. 7% by mass, 6% by mass, 5% by mass, and 3% by mass.
一般式(i−1)で表される化合物は一般式(i−1−2)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが、バックライトとして紫外線領域にある波長200〜400nmの光が照射された場合であっても優れた耐久性を持ち、電圧保持率を発現できる点から好ましい。
本実施形態の組成物の総量に対しての式(i−1−2)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%であり、5質量%であり、10質量%であり、15質量%であり、17質量%であり、20質量%であり、23質量%であり、25質量%であり、27質量%であり、30質量%であり、35質量%である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、60質量%であり、55質量%であり、50質量%であり、45質量%であり、42質量%であり、40質量%であり、38質量%であり、35質量%であり、33質量%であり、30質量%である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by Formula (i-1-2) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass, 5% by mass, and 10% by mass. Yes, 15% by mass, 17% by mass, 20% by mass, 23% by mass, 25% by mass, 27% by mass, 30% by mass and 35% by mass. The upper limit of the preferable content is 60% by mass, 55% by mass, 50% by mass, 45% by mass, and 42% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. 40% by mass, 38% by mass, 35% by mass, 33% by mass, and 30% by mass.
さらに、一般式(i−1−2)で表される化合物は、式(i−1−2.1)から式(i−1−2.4)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(i−1−2.2)から式(i−1−2.4)で表される化合物であることが好ましい。特に、式(i−1−2.2)で表される化合物は本実施形態の組成物の応答速度を特に改善するため好ましい。また、応答速度よりも高いTNIを求めるときは、式(i−1−2.3)又は式(i−1−2.4)で表される化合物を用いることが好ましい。式(i−1−2.3)及び式(i−1−2.4)で表される化合物の含有量は、低温での溶解度を良くするために30質量%以上にすることは好ましくない。
本実施形態の組成物の総量に対しての式(i−1−2.2)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、10質量%であり、15質量%であり、18質量%であり、20質量%であり、23質量%であり、25質量%であり、27質量%であり、30質量%であり、33質量%であり、35質量%であり、38質量%であり、40質量%である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、60質量%であり、55質量%であり、50質量%であり、45質量%であり、43質量%であり、40質量%であり、38質量%であり、35質量%であり、32質量%であり、30質量%であり、20質量%であり、15質量%であり、10質量%である。これらの中でも青色の可視光に対する液晶層の劣化防止の観点から、含有量の上限値は、15質量%、特に10質量%であることが好ましい。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by the formula (i-1-2.2) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 10% by mass, 15% by mass, and 18% by mass. %, 20% by mass, 23% by mass, 25% by mass, 27% by mass, 30% by mass, 33% by mass, 35% by mass, and 38% by mass. Yes, 40% by mass. The upper limit of the preferable content is 60% by mass, 55% by mass, 50% by mass, 45% by mass, and 43% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. 40% by mass, 38% by mass, 35% by mass, 32% by mass, 30% by mass, 20% by mass, 15% by mass, and 10% by mass. Among these, from the viewpoint of preventing deterioration of the liquid crystal layer with respect to blue visible light, the upper limit of the content is preferably 15% by mass, particularly 10% by mass.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(i−1−1.3)で表される化合物及び式(i−1−2.2)で表される化合物の合計の好ましい含有量の下限値は、10質量%であり、15質量%であり、20質量%であり、25質量%であり、27質量%であり、30質量%であり、35質量%であり、40質量%である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、60質量%であり、55質量%であり、50質量%であり、45質量%であり、43質量%であり、40質量%であり、38質量%であり、35質量%であり、32質量%であり、30質量%であり、27質量%であり、25質量%であり、22質量%である。 The preferred total content of the compound represented by formula (i-1-1.3) and the compound represented by formula (i-1-2.2) relative to the total amount of the composition of the present embodiment The lower limit is 10% by mass, 15% by mass, 20% by mass, 25% by mass, 27% by mass, 30% by mass, 35% by mass, and 40% by mass. is there. The upper limit of the preferable content is 60% by mass, 55% by mass, 50% by mass, 45% by mass, and 43% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. 40% by mass, 38% by mass, 35% by mass, 32% by mass, 30% by mass, 27% by mass, 25% by mass, and 22% by mass.
一般式(i−1)で表される化合物は一般式(i−1−3)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
Ri13及びRi14は、直鎖状の炭素原子数1〜5のアルキル基、直鎖状の炭素原子数1〜4のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数2〜5のアルケニル基が好ましい。R i13 and R i14 are preferably a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a linear alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and a linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms. .
本実施形態の組成物の総量に対しての式(i−1−3)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%であり、5質量%であり、10質量%であり、13質量%であり、15質量%であり、17質量%であり、20質量%であり、23質量%であり、25質量%であり、30質量%である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、60質量%であり、55質量%であり、50質量%であり、45質量%であり、40質量%であり、37質量%であり、35質量%であり、33質量%であり、30質量%であり、27質量%であり、25質量%であり、23質量%であり、20質量%であり、17質量%であり、15質量%であり、13質量%であり、10質量%である。さらに、一般式(i−1−3)で表される化合物は、式(i−1−3.1)から式(i−1−3.12)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(i−1−3.1)、式(i−1−3.3)又は式(i−1−3.4)で表される化合物であることが好ましい。特に、式(i−1−3.1)で表される化合物は本実施形態の組成物の応答速度を特に改善するため好ましい。また、応答速度よりも高いTNIを求めるときは、式(i−1−3.3)、式(i−1−3.4)、式(L−1−3.11)及び式(i−1−3.12)で表される化合物を用いることが好ましい。式(i−1−3.3)、式(i−1−3.4)、式(i−1−3.11)及び式(i−1−3.12)で表される化合物の合計の含有量は、低温での溶解度を良くするために20質量%以上にすることは好ましくない。
一般式(i−1)で表される化合物は一般式(i−1−4)及び/又は(i−1−5)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
Ri15及びRi16は、直鎖状の炭素原子数1〜5のアルキル基、直鎖状の炭素原子数1〜4のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数2〜5のアルケニル基が好ましい。R i15 and R i16 are preferably a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a linear alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and a linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms. .
本実施形態の組成物の総量に対しての式(i−1−4)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%であり、5質量%であり、10質量%であり、13質量%であり、15質量%であり、17質量%であり、20質量%である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、25質量%であり、23質量%であり、20質量%であり、17質量%であり、15質量%であり、13質量%であり、10質量%である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by Formula (i-1-4) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass, 5% by mass, and 10% by mass. Yes, 13% by mass, 15% by mass, 17% by mass, and 20% by mass. The upper limit of the preferable content is 25% by mass, 23% by mass, 20% by mass, 17% by mass, and 15% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. 13% by mass and 10% by mass.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(i−1−5)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%であり、5質量%であり、10質量%であり、13質量%であり、15質量%であり、17質量%であり、20質量%である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、25質量%であり、23質量%であり、20質量%であり、17質量%であり、15質量%であり、13質量%であり、10質量%である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by the formula (i-1-5) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass, 5% by mass, and 10% by mass. Yes, 13% by mass, 15% by mass, 17% by mass, and 20% by mass. The upper limit of the preferable content is 25% by mass, 23% by mass, 20% by mass, 17% by mass, and 15% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. 13% by mass and 10% by mass.
さらに、一般式(i−1−4)及び(i−1−5)で表される化合物は、式(i−1−4.1)から式(i−1−5.3)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式(i−1−4.2)又は式(i−1−5.2)で表される化合物であることが好ましい。
本実施形態の組成物の総量に対しての式(i−1−4.2)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%であり、2質量%であり、3質量%であり、5質量%であり、7質量%であり、10質量%であり、13質量%であり、15質量%であり、18質量%であり、20質量%である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、20質量%であり、17質量%であり、15質量%であり、13質量%であり、10質量%であり、8質量%であり、7質量%であり、6質量%である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by the formula (i-1-4.2) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass, 2% by mass, and 3% by mass. %, 5% by mass, 7% by mass, 10% by mass, 13% by mass, 15% by mass, 18% by mass, and 20% by mass. The upper limit of the preferable content is 20% by mass, 17% by mass, 15% by mass, 13% by mass, and 10% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. 8% by mass, 7% by mass, and 6% by mass.
式(i−1−1.3)、式(i−1−2.2)、式(i−1−3.1)、式(i−1−3.3)、式(i−1−3.4)、式(i−1−3.11)及び式(i−1−3.12)で表される化合物から選ばれる2種以上の化合物を組み合わせることが好ましく、式(i−1−1.3)、式(i−1−2.2)、式(i−1−3.1)、式(i−1−3.3)、式(i−1−3.4)及び式(i−1−4.2)で表される化合物から選ばれる2種以上の化合物を組み合わせることが好ましく、これら化合物の合計の含有量の好ましい含有量の下限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、1質量%であり、2質量%であり、3質量%であり、5質量%であり、7質量%であり、10質量%であり、13質量%であり、15質量%であり、18質量%であり、20質量%であり、23質量%であり、25質量%であり、27質量%であり、30質量%であり、33質量%であり、35質量%であり、上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、80質量%であり、70質量%であり、60質量%であり、50質量%であり、45質量%であり、40質量%であり、37質量%であり、35質量%であり、33質量%であり、30質量%であり、28質量%であり、25質量%であり、23質量%であり、20質量%である。組成物の信頼性を重視する場合には、式(i−1−3.1)、式(i−1−3.3)及び式(i−1−3.4))で表される化合物から選ばれる2種以上の化合物を組み合わせることが好ましく、組成物の応答速度を重視する場合には、式(i−1−1.3)、式(i−1−2.2)で表される化合物から選ばれる2種以上の化合物を組み合わせることが好ましい。 Formula (i-1-1.3), Formula (i-1-2.2), Formula (i-1-3.1), Formula (i-1-3.3), Formula (i-1- 3.4), it is preferable to combine two or more compounds selected from the compounds represented by formula (i-1-3.11) and formula (i-1-3.12). -1.3), formula (i-1-2.2), formula (i-1-3.1), formula (i-1-3.3), formula (i-1-3.4) and It is preferable to combine two or more compounds selected from the compounds represented by formula (i-1-4.2), and the lower limit of the preferable content of the total content of these compounds is the composition of the present embodiment. 1% by mass, 2% by mass, 3% by mass, 5% by mass, 7% by mass, 10% by mass, 13% by mass with respect to the total amount of the product, 15% 18% by mass %, 20% by mass, 23% by mass, 25% by mass, 27% by mass, 30% by mass, 33% by mass, 35% by mass, and the upper limit value is 80% by mass, 70% by mass, 60% by mass, 50% by mass, 45% by mass, 40% by mass, and 37% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. %, 35% by mass, 33% by mass, 30% by mass, 28% by mass, 25% by mass, 23% by mass and 20% by mass. When emphasizing the reliability of the composition, compounds represented by formula (i-1-3.1), formula (i-1-3.3) and formula (i-1-3.4)) It is preferable to combine two or more compounds selected from the group consisting of formulas (i-1-1.3) and (i-1-2.2) when importance is attached to the response speed of the composition. It is preferable to combine two or more compounds selected from the following compounds.
一般式(i−1)で表される化合物は一般式(i−1−6)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
本実施形態の組成物の総量に対しての式(i−1−6)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%であり、5質量%であり、10質量%であり、15質量%であり、17質量%であり、20質量%であり、23質量%であり、25質量%であり、27質量%であり、30質量%であり、35質量%である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、60質量%であり、55質量%であり、50質量%であり、45質量%であり、42質量%であり、40質量%であり、38質量%であり、35質量%であり、33質量%であり、30質量%である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by the formula (i-1-6) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass, 5% by mass, and 10% by mass. Yes, 15% by mass, 17% by mass, 20% by mass, 23% by mass, 25% by mass, 27% by mass, 30% by mass and 35% by mass. The upper limit of the preferable content is 60% by mass, 55% by mass, 50% by mass, 45% by mass, and 42% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. 40% by mass, 38% by mass, 35% by mass, 33% by mass, and 30% by mass.
さらに、一般式(i−1−6)で表される化合物は、式(i−1−6.1)から式(i−1−6.3)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。
一般式(i−2)で表される化合物は下記の化合物である。
Ri21は炭素原子数1〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜5のアルケニル基が好ましく、RL22は炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数4〜5のアルケニル基又は炭素原子数1〜4のアルコキシ基が好ましい。R i21 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and R L22 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms, or a carbon atom. The alkoxy group of number 1-4 is preferable.
一般式(i−2)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本実施形態の一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 Although the compound represented by general formula (i-2) can also be used independently, it can also be used in combination of 2 or more compounds. There are no particular restrictions on the types of compounds that can be combined, but they are used in appropriate combinations according to the required properties such as solubility at low temperatures, transition temperatures, electrical reliability, and birefringence. The kind of compound to be used is, for example, one kind as one embodiment of this embodiment, two kinds, three kinds, four kinds, and five kinds or more.
低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、反対に、応答速度を重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。 When emphasizing solubility at low temperatures, the effect is high when the content is set to be large. On the other hand, when the response speed is important, the effect is high when the content is set low. Furthermore, when improving dripping marks and image sticking characteristics, it is preferable to set the content range in the middle.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(i−2)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%であり、2質量%であり、3質量%であり、5質量%であり、7質量%であり、10質量%である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、20質量%であり、15質量%であり、13質量%であり、10質量%であり、8質量%であり、7質量%であり、6質量%であり、5質量%であり、3質量%である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by the formula (i-2) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass, 2% by mass, and 3% by mass, 5% by mass, 7% by mass, and 10% by mass. The upper limit of the preferable content is 20% by mass, 15% by mass, 13% by mass, 10% by mass, and 8% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. 7% by mass, 6% by mass, 5% by mass, and 3% by mass.
本実施形態の組成物は、一般式(N−1)、(N−2)、(N−3)及び(N−4)で表される化合物から選ばれる化合物を1種類又は2種類以上さらに含有することが好ましい。これら化合物は誘電的に負の化合物(Δεの符号が負で、その絶対値が2より大きい。)に該当する。
[前記一般式(N−1)、(N−2)、(N−3)及び(N−4)中、RN11、RN12、RN21、RN22、RN31、RN32、RN41及びRN42はそれぞれ独立して炭素原子数1〜8のアルキル基、又は炭素原子数2〜8のアルキル鎖中の1個又は非隣接の2個以上の−CH2−が、それぞれ独立して−CH=CH−、−C≡C−、−O−、−CO−、−COO−又は−OCO−によって置換された化学構造を持つ構造部位、
AN11、AN12、AN21、AN22、AN31、AN32、AN41及びAN42はそれぞれ独立して
(a) 1,4−シクロヘキシレン基(この基中に存在する1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−は−O−に置き換えられてもよい。)及び
(b) 1,4−フェニレン基(この基中に存在する1個の−CH=又は隣接していない2個以上の−CH=は−N=に置き換えられてもよい。)
(c) ナフタレン−2,6−ジイル基、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基又はデカヒドロナフタレン−2,6−ジイル基(ナフタレン−2,6−ジイル基又は1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基中に存在する1個の−CH=又は隣接していない2個以上の−CH=は−N=に置き換えられても良い。)
(d) 1,4−シクロヘキセニレン基
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基(a)、基(b)、基(c)及び基(d)は、その構造中の水素原子が、それぞれ独立してシアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
ZN11、ZN12、ZN21、ZN22、ZN31、ZN32、ZN41及びZN42は、それぞれ独立して、単結合、−CH2CH2−、−(CH2)4−、−OCH2−、−CH2O−、−COO−、−OCO−、−OCF2−、−CF2O−、−CH=N−N=CH−、−CH=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−を表し、
XN21は水素原子又はフッ素原子を表し、TN31は−CH2−又は酸素原子を表し、XN41は、酸素原子、窒素原子、又は−CH2−を表し、YN41は、単結合、又は−CH2−を表し、nN11、nN12、nN21、nN22、nN31、nN32、nN41、及びnN42は、それぞれ独立して0〜3の整数を表すが、nN11+nN12、nN21+nN22及びnN31+nN32はそれぞれ独立して1、2又は3であり、AN11〜AN32、ZN11〜ZN32が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、nN41+nN42は0〜3の整数を表すが、AN41及びAN42、ZN41及びZN42が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良い。][Formula (N-1), (N -2), (N-3) and (N-4) in, R N11, R N12, R N21, R N22, R N31, R N32, R N41 and R 42 each independently represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or one or two or more non-adjacent —CH 2 — in the alkyl chain having 2 to 8 carbon atoms, A structural moiety having a chemical structure substituted by CH═CH—, —C≡C—, —O—, —CO—, —COO— or —OCO—;
A N11 , A N12 , A N21 , A N22 , A N31 , A N32 , A N41 and A N42 are each independently (a) a 1,4-cyclohexylene group (one —CH present in this group) 2- or two or more non-adjacent —CH 2 — may be replaced by —O—.) And (b) a 1,4-phenylene group (one —CH═ present in this group). Or two or more non-adjacent —CH═ may be replaced by —N═.)
(C) Naphthalene-2,6-diyl group, 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group or decahydronaphthalene-2,6-diyl group (naphthalene-2,6-diyl group or One —CH═ present in the 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group or two or more non-adjacent —CH═ may be replaced by —N═. )
(D) represents a group selected from the group consisting of 1,4-cyclohexenylene groups, and the group (a), the group (b), the group (c) and the group (d) are each a hydrogen atom in the structure Each independently may be substituted with a cyano group, a fluorine atom or a chlorine atom,
Z N11, Z N12, Z N21 , Z N22, Z N31, Z N32, Z N41 and Z N42 are each independently a single bond, -CH 2 CH 2 -, - (CH 2) 4 -, - OCH 2— , —CH 2 O—, —COO—, —OCO—, —OCF 2 —, —CF 2 O—, —CH═N—N═CH—, —CH═CH—, —CF═CF— or -C≡C-
X N21 represents a hydrogen atom or a fluorine atom, T N31 represents —CH 2 — or an oxygen atom, X N41 represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or —CH 2 —, and Y N41 represents a single bond, or -CH 2 - represents, n N11, n N12, n N21, n N22, n N31, n N32, n N41, and n N42 is an integer of independently 0~3, n N11 + n N12 N N21 + n N22 and n N31 + n N32 are each independently 1, 2 or 3, and when there are a plurality of A N11 to A N32 and Z N11 to Z N32 , they are the same or different. at best, n N41 + n N42 represents an integer of 0 to 3, if a N41 and a N42, Z N41 and Z N42 there are multiple, they differ even for the same Even though it may. ]
一般式(N−1)、(N−2)、(N−3)及び(N−4)で表される化合物は、Δεが負でその絶対値が2よりも大きな化合物であることが好ましい。 The compounds represented by the general formulas (N-1), (N-2), (N-3) and (N-4) are preferably compounds whose Δε is negative and whose absolute value is larger than 2. .
一般式(N−1)、(N−2)、(N−3)及び(N−4)中、RN11、RN12、RN21、RN22、RN31、RN32、RN41及びRN42はそれぞれ独立して、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数2〜8のアルケニル基又は炭素原子数2〜8のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルケニル基又は炭素原子数2〜5のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素原子数1〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜5のアルケニル基が更に好ましく、炭素原子数2〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜3のアルケニル基が更に好ましく、炭素原子数3のアルケニル基(プロペニル基)が特に好ましい。Formula (N-1), (N -2), (N-3) and (N-4) in, R N11, R N12, R N21, R N22, R N31, R N32, R N41 and R N42 Are each independently preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms or an alkenyloxy group having 2 to 8 carbon atoms. An alkyl group having 1 to 5 atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms or an alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms is preferable, and an alkyl having 1 to 5 carbon atoms Group or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 3 carbon atoms is more preferable, and an alkenyl group having 3 carbon atoms (propenyl group). Especially preferred .
また、それが結合する環構造がフェニル基(芳香族)である場合には、直鎖状の炭素原子数1〜5のアルキル基、直鎖状の炭素原子数1〜4のアルコキシ基及び炭素原子数4〜5のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数1〜5のアルキル基、直鎖状の炭素原子数1〜4のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数2〜5のアルケニル基が好ましい。ネマチック相を安定化させるためには炭素原子及び存在する場合酸素原子の合計が5以下であることが好ましく、直鎖状であることが好ましい。 Further, when the ring structure to which it is bonded is a phenyl group (aromatic), a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a linear alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and carbon An alkenyl group having 4 to 5 atoms is preferable, and when the ring structure to which the alkenyl group is bonded is a saturated ring structure such as cyclohexane, pyran and dioxane, a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a straight chain A linear alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms and a linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms are preferable. In order to stabilize the nematic phase, the total of carbon atoms and oxygen atoms, if present, is preferably 5 or less, and is preferably linear.
アルケニル基としては、式(R1)から式(R5)のいずれかで表される基から選ばれることが好ましい。(各式中の黒点は環構造中の炭素原子を表す。)
AN11、AN12、AN21、AN22、AN31及びAN32はそれぞれ独立してΔnを大きくすることが求められる場合には芳香族であることが好ましく、応答速度を改善するためには脂肪族であることが好ましく、トランス−1,4−シクロへキシレン基、1,4−フェニレン基、2−フルオロ−1,4−フェニレン基、3−フルオロ−1,4−フェニレン基、3,5−ジフルオロ−1,4−フェニレン基、2,3−ジフルオロ−1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキセニレン基、1,4−ビシクロ[2.2.2]オクチレン基、ピペリジン−1,4−ジイル基、ナフタレン−2,6−ジイル基、デカヒドロナフタレン−2,6−ジイル基又は1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基を表すことが好ましく、下記の構造を表すことがより好ましく、
ZN11、ZN12、ZN21、ZN22、ZN31及びZN32はそれぞれ独立して−CH2O−、−CF2O−、−CH2CH2−、−CF2CF2−又は単結合を表すことが好ましく、−CH2O−、−CH2CH2−又は単結合が更に好ましく、−CH2O−又は単結合が特に好ましい。 Z N11, Z N12, Z N21 , Z N22, Z N31 and Z N32 -CH 2 each independently O -, - CF 2 O - , - CH 2 CH 2 -, - CF 2 CF 2 - or a single bond preferably represents an, -CH 2 O -, - CH 2 CH 2 - or a single bond is more preferable, -CH 2 O-or a single bond is particularly preferred.
XN21はフッ素原子が好ましい。 XN21 is preferably a fluorine atom.
TN31は酸素原子が好ましい。T N31 is preferably an oxygen atom.
nN11+nN12、nN21+nN22及びnN31+nN32は1又は2が好ましく、nN11が1でありnN12が0である組み合わせ、nN11が2でありnN12が0である組み合わせ、nN11が1でありnN12が1である組み合わせ、nN11が2でありnN12が1である組み合わせ、nN21が1でありnN22が0である組み合わせ、nN21が2でありnN22が0である組み合わせ、nN31が1でありnN32が0である組み合わせ、nN31が2でありnN32が0である組み合わせ、が好ましい。n N11 + n N12 , n N21 + n N22 and n N31 + n N32 are preferably 1 or 2, a combination in which n N11 is 1 and n N12 is 0, a combination in which n N11 is 2 and n N12 is 0, n A combination in which N11 is 1 and n N12 is 1, a combination in which n N11 is 2 and n N12 is 1, a combination in which n N21 is 1 and n N22 is 0, n N21 is 2 and n N22 is n A combination in which n N31 is 1 and n N32 is 0, and a combination in which n N31 is 2 and n N32 is 0 are preferable.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N−1)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%であり、10質量%であり、20質量%であり、30質量%であり、40質量%であり、50質量%であり、55質量%であり、60質量%であり、65質量%であり、70質量%であり、75質量%であり、80質量%である。好ましい含有量の上限値は、95質量%であり、85質量%であり、75質量%であり、65質量%であり、55質量%であり、45質量%であり、35質量%であり、25質量%であり、20質量%である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by the formula (N-1) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass, 10% by mass, and 20% by mass, 30% by mass, 40% by mass, 50% by mass, 55% by mass, 60% by mass, 65% by mass, 70% by mass, 75% by mass, 80% by mass %. The upper limit of the preferable content is 95% by mass, 85% by mass, 75% by mass, 65% by mass, 55% by mass, 45% by mass, and 35% by mass, 25% by mass and 20% by mass.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N−2)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%であり、10質量%であり、20質量%であり、30質量%であり、40質量%であり、50質量%であり、55質量%であり、60質量%であり、65質量%であり、70質量%であり、75質量%であり、80質量%である。好ましい含有量の上限値は、95質量%であり、85質量%であり、75質量%であり、65質量%であり、55質量%であり、45質量%であり、35質量%であり、25質量%であり、20質量%である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by Formula (N-2) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass, 10% by mass, and 20% by mass, 30% by mass, 40% by mass, 50% by mass, 55% by mass, 60% by mass, 65% by mass, 70% by mass, 75% by mass, 80% by mass %. The upper limit of the preferable content is 95% by mass, 85% by mass, 75% by mass, 65% by mass, 55% by mass, 45% by mass, and 35% by mass, 25% by mass and 20% by mass.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(N−3)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%であり、10質量%であり、20質量%であり、30質量%であり、40質量%であり、50質量%であり、55質量%であり、60質量%であり、65質量%であり、70質量%であり、75質量%であり、80質量%である。好ましい含有量の上限値は、95質量%であり、85質量%であり、75質量%であり、65質量%であり、55質量%であり、45質量%であり、35質量%であり、25質量%であり、20質量%である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by the formula (N-3) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass, 10% by mass, and 20% by mass, 30% by mass, 40% by mass, 50% by mass, 55% by mass, 60% by mass, 65% by mass, 70% by mass, 75% by mass, 80% by mass %. The upper limit of the preferable content is 95% by mass, 85% by mass, 75% by mass, 65% by mass, 55% by mass, 45% by mass, and 35% by mass, 25% by mass and 20% by mass.
本実施形態の組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い組成物が必要な場合は上記の下限値が低く上限値が低いことが好ましい。さらに、本実施形態の組成物のTNIを高く保ち、温度安定性の良い組成物が必要な場合は上記の下限値が低く上限値が低いことが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高く上限値が高いことが好ましい。When a composition having a low viscosity and a high response speed is required, the lower limit value is preferably low and the upper limit value is preferably low. Moreover, maintaining high T NI of the compositions of the present embodiment, it is preferred if good composition temperature stability is required a low upper limit lower the lower limit of the above. Further, when it is desired to increase the dielectric anisotropy in order to keep the driving voltage low, it is preferable that the above lower limit value is increased and the upper limit value is high.
本実施形態に係る液晶組成物は、一般式(N−1)で表される化合物、一般式(N−2)で表される化合物、一般式(N−3)で表される化合物及び一般式(N−4)で表される化合物のうち、一般式(N−1)で表される化合物を有することが好ましい。 The liquid crystal composition according to this embodiment includes a compound represented by the general formula (N-1), a compound represented by the general formula (N-2), a compound represented by the general formula (N-3), and a general Among the compounds represented by the formula (N-4), it is preferable to have a compound represented by the general formula (N-1).
一般式(N−1)で表される化合物として、下記の一般式(N−1a)〜(N−1g)で表される化合物群を挙げることができる。 As a compound represented by general formula (N-1), the compound group represented by the following general formula (N-1a)-(N-1g) can be mentioned.
一般式(N−4)で表される化合物として、下記の一般式(N−1h)で表される化合物群を挙げることができる。
より具体的には、一般式(N−1)で表される化合物は一般式(N−1−1)〜(N−1−21)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。Examples of the compound represented by the general formula (N-4) include a compound group represented by the following general formula (N-1h).
More specifically, the compound represented by the general formula (N-1) is a compound selected from the compound group represented by the general formulas (N-1-1) to (N-1-21). preferable.
(p型化合物)
本実施形態の組成物は、一般式(J)で表される化合物を1種類又は2種類以上さらに含有することが好ましい。これら化合物は誘電的に正の化合物(Δεが2より大きい。)に該当する。
It is preferable that the composition of this embodiment further contains one or more compounds represented by the general formula (J). These compounds correspond to dielectrically positive compounds (Δε is greater than 2).
(式中、RJ1は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、該アルキル基中の1個又は非隣接の2個以上の−CH2−はそれぞれ独立して−CH=CH−、−C≡C−、−O−、−CO−、−COO−又は−OCO−によって置換されていてもよく、
nJ1は、0、1、2、3又は4を表し、
AJ1、AJ2及びAJ3はそれぞれ独立して、
(a) 1,4−シクロヘキシレン基(この基中に存在する1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−は−O−に置き換えられてもよい。)
(b) 1,4−フェニレン基(この基中に存在する1個の−CH=又は隣接していない2個以上の−CH=は−N=に置き換えられてもよい。)及び
(c) ナフタレン−2,6−ジイル基、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基又はデカヒドロナフタレン−2,6−ジイル基(ナフタレン−2,6−ジイル基又は1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基中に存在する1個の−CH=又は隣接していない2個以上の−CH=は−N=に置き換えられても良い。)
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基(a)、基(b)及び基(c)はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又はトリフルオロメトキシ基で置換されていても良く、
ZJ1及びZJ2はそれぞれ独立して単結合、−CH2CH2−、−(CH2)4−、−OCH2−、−CH2O−、−OCF2−、−CF2O−、−COO−、−OCO−又は−C≡C−を表し、
nJ1が2、3又は4であってAJ2が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、nJ1が2、3又は4であってZJ1が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、
XJ1は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基又は2,2,2−トリフルオロエチル基を表す。)(Wherein R J1 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and one or two or more non-adjacent —CH 2 — in the alkyl group are each independently —CH═CH—, — Optionally substituted by C≡C—, —O—, —CO—, —COO— or —OCO—,
n J1 represents 0, 1, 2, 3 or 4;
A J1 , A J2 and A J3 are each independently
(A) 1,4-cyclohexylene group (one —CH 2 — present in this group or two or more non-adjacent —CH 2 — may be replaced by —O—).
(B) a 1,4-phenylene group (one —CH═ present in the group or two or more non-adjacent —CH═ may be replaced by —N═) and (c) Naphthalene-2,6-diyl group, 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group or decahydronaphthalene-2,6-diyl group (naphthalene-2,6-diyl group or 1,2 , 3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group, one —CH═ or two or more non-adjacent —CH═ may be replaced by —N═.
The group (a), the group (b) and the group (c) are each independently selected from the group consisting of cyano group, fluorine atom, chlorine atom, methyl group, trifluoromethyl group or trifluoro May be substituted with a methoxy group,
Z J1 and Z J2 are each independently a single bond, —CH 2 CH 2 —, — (CH 2 ) 4 —, —OCH 2 —, —CH 2 O—, —OCF 2 —, —CF 2 O—, -COO-, -OCO- or -C≡C-
When n J1 is 2, 3 or 4 and a plurality of A J2 are present, they may be the same or different, and n J1 is 2, 3 or 4 and a plurality of Z J1 is present. If they are the same or different,
X J1 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a cyano group, a trifluoromethyl group, a fluoromethoxy group, a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, or a 2,2,2-trifluoroethyl group. )
一般式(J)中、RJ1は、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数2〜8のアルケニル基又は炭素原子数2〜8のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルケニル基又は炭素原子数2〜5のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素原子数1〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜5のアルケニル基が更に好ましく、炭素原子数2〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜3のアルケニル基が更に好ましく、炭素原子数3のアルケニル基(プロペニル基)が特に好ましい。In the general formula (J), R J1 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, or an alkenyloxy having 2 to 8 carbon atoms. Group is preferable, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms or an alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms is preferable. An alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 3 carbon atoms is further preferable, and an alkenyl group having 3 carbon atoms. (Propenyl group) is particularly preferred.
信頼性を重視する場合にはRJ1はアルキル基であることが好ましく、粘性の低下を重視する場合にはアルケニル基であることが好ましい。R J1 is preferably an alkyl group when emphasizing reliability, and is preferably an alkenyl group when emphasizing a decrease in viscosity.
また、それが結合する環構造がフェニル基(芳香族)である場合には、直鎖状の炭素原子数1〜5のアルキル基、直鎖状の炭素原子数1〜4のアルコキシ基及び炭素原子数4〜5のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数1〜5のアルキル基、直鎖状の炭素原子数1〜4のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数2〜5のアルケニル基が好ましい。ネマチック相を安定化させるためには炭素原子及び存在する場合酸素原子の合計が5以下であることが好ましく、直鎖状であることが好ましい。 Further, when the ring structure to which it is bonded is a phenyl group (aromatic), a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a linear alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and carbon An alkenyl group having 4 to 5 atoms is preferable, and when the ring structure to which the alkenyl group is bonded is a saturated ring structure such as cyclohexane, pyran and dioxane, a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a straight chain A linear alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms and a linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms are preferable. In order to stabilize the nematic phase, the total of carbon atoms and oxygen atoms, if present, is preferably 5 or less, and is preferably linear.
アルケニル基としては、式(R1)から式(R5)のいずれかで表される基から選ばれることが好ましい。(各式中の黒点はアルケニル基が結合している環構造中の炭素原子を表す。)
AJ1、AJ2及びAJ3はそれぞれ独立してΔnを大きくすることが求められる場合には芳香族であることが好ましく、応答速度を改善するためには脂肪族であることが好ましく、トランス−1,4−シクロへキシレン基、1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキセニレン基、1,4−ビシクロ[2.2.2]オクチレン基、ピペリジン−1,4−ジイル基、ナフタレン−2,6−ジイル基、デカヒドロナフタレン−2,6−ジイル基又は1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基を表すことが好ましく、それらはフッ素原子により置換されていてもよく、下記の構造を表すことがより好ましく、
ZJ1及びZJ2はそれぞれ独立して−CH2O−、−OCH2−、−CF2O−、−CH2CH2−、−CF2CF2−又は単結合を表すことが好ましく、−OCH2−、−CF2O−、−CH2CH2−又は単結合が更に好ましく、−OCH2−、−CF2O−又は単結合が特に好ましい。Z J1 and Z J2 each independently preferably represent —CH 2 O—, —OCH 2 —, —CF 2 O—, —CH 2 CH 2 —, —CF 2 CF 2 — or a single bond, OCH 2 —, —CF 2 O—, —CH 2 CH 2 — or a single bond is more preferable, and —OCH 2 —, —CF 2 O— or a single bond is particularly preferable.
XJ1はフッ素原子又はトリフルオロメトキシ基が好ましく、フッ素原子が好ましい。X J1 is preferably a fluorine atom or a trifluoromethoxy group, and more preferably a fluorine atom.
nJ1は、0、1、2又は3が好ましく、0、1又は2が好ましく、Δεの改善に重点を置く場合には0又は1が好ましく、TNIを重視する場合には1又は2が好ましい。n J1 is preferably 0, 1, 2 or 3, preferably 0, 1 or 2, preferably 0 or 1 when emphasizing the improvement of Δε, and 1 or 2 when emphasizing TNI. preferable.
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本実施形態の一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類である。またさらに、本実施形態の別の実施形態では4種類であり、5種類であり、6種類であり、7種類以上である。 Although there is no restriction | limiting in particular in the kind of compound which can be combined, It uses combining according to desired performance, such as solubility at low temperature, transition temperature, electrical reliability, birefringence. The kind of the compound to be used is, for example, one kind as one embodiment of this embodiment, two kinds, and three kinds. Furthermore, in another embodiment of this embodiment, there are four types, five types, six types, and seven or more types.
本実施形態の組成物において、一般式(J)で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。 In the composition of the present embodiment, the content of the compound represented by the general formula (J) includes solubility at low temperature, transition temperature, electrical reliability, birefringence, process compatibility, dripping marks, and image sticking. Therefore, it is necessary to appropriately adjust according to required performance such as dielectric anisotropy.
本実施形態の組成物の総量に対しての一般式(J)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%であり、10質量%であり、20質量%であり、30質量%であり、40質量%であり、50質量%であり、55質量%であり、60質量%であり、65質量%であり、70質量%であり、75質量%であり、80質量%である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、例えば本実施形態の一つの形態では95質量%であり、85質量%であり、75質量%であり、65質量%であり、55質量%であり、45質量%であり、35質量%であり、25質量%である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by the general formula (J) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass, 10% by mass, 20% by mass, and 30%. % By mass, 40% by mass, 50% by mass, 55% by mass, 60% by mass, 65% by mass, 70% by mass, 75% by mass, and 80% by mass. It is. The upper limit of the preferable content is, for example, 95% by mass, 85% by mass, 75% by mass, and 65% by mass in one form of the present embodiment with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. It is 55% by mass, 45% by mass, 35% by mass, and 25% by mass.
本実施形態の組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。さらに、本実施形態の組成物のTNIを高く保ち、温度安定性の良い組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高めに、上限値を高めにすることが好ましい。When a composition having a low response speed and a high response speed is required, it is preferable to lower the lower limit value and lower the upper limit value. Moreover, maintaining high T NI of the compositions of the present embodiment, when temperature stability good composition is required for lowering the lower limit of the above, it is preferable to set the upper limit to lower. When it is desired to increase the dielectric anisotropy in order to keep the driving voltage low, it is preferable to increase the upper limit value while increasing the lower limit value.
信頼性を重視する場合にはRJ1はアルキル基であることが好ましく、粘性の低下を重視する場合にはアルケニル基であることが好ましい。R J1 is preferably an alkyl group when emphasizing reliability, and is preferably an alkenyl group when emphasizing a decrease in viscosity.
一般式(J)で表される化合物としては一般式(M)で表される化合物及び一般式(K)で表される化合物が好ましい。 As the compound represented by the general formula (J), a compound represented by the general formula (M) and a compound represented by the general formula (K) are preferable.
本実施形態の組成物は、一般式(M)で表される化合物を1種類又は2種類以上さらに含有することが好ましい。これら化合物は誘電的に正の化合物(Δεが2より大きい。)に該当する。
(式中、RM1は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、該アルキル基中の1個又は非隣接の2個以上の−CH2−はそれぞれ独立して−CH=CH−、−C≡C−、−O−、−CO−、−COO−又は−OCO−によって置換されていてもよく、
nM1は、0、1、2、3又は4を表し、
AM1及びAM2はそれぞれ独立して、
(a) 1,4−シクロヘキシレン基(この基中に存在する1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−は−O−又は−S−に置き換えられてもよい。)及び
(b) 1,4−フェニレン基(この基中に存在する1個の−CH=又は隣接していない2個以上の−CH=は−N=に置き換えられてもよい。)
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基(a)及び基(b)上の水素原子はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
ZM1及びZM2はそれぞれ独立して単結合、−CH2CH2−、−(CH2)4−、−OCH2−、−CH2O−、−OCF2−、−CF2O−、−COO−、−OCO−又は−C≡C−を表し、
nM1が2、3又は4であってAM2が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、nM1が2、3又は4であってZM1が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、
XM1及びXM3はそれぞれ独立して水素原子、塩素原子又はフッ素原子を表し、
XM2は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基又は2,2,2−トリフルオロエチル基を表す。(Wherein R M1 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and one or two or more non-adjacent —CH 2 — in the alkyl group are each independently —CH═CH—, — Optionally substituted by C≡C—, —O—, —CO—, —COO— or —OCO—,
n M1 represents 0, 1, 2, 3 or 4;
A M1 and A M2 are each independently
(A) 1,4-cyclohexylene group (this is present in the group one -CH 2 - or nonadjacent two or more -CH 2 - may be replaced by -O- or -S- And (b) 1,4-phenylene group (one —CH═ present in the group or two or more non-adjacent —CH═ may be replaced by —N═).
A hydrogen atom on the group (a) and the group (b) may be independently substituted with a cyano group, a fluorine atom or a chlorine atom,
Z M1 and Z M2 are each independently a single bond, —CH 2 CH 2 —, — (CH 2 ) 4 —, —OCH 2 —, —CH 2 O—, —OCF 2 —, —CF 2 O—, -COO-, -OCO- or -C≡C-
When n M1 is 2, 3 or 4 and a plurality of A M2 are present, they may be the same or different, and n M1 is 2, 3 or 4 and a plurality of Z M1 is present If they are the same or different,
X M1 and X M3 each independently represent a hydrogen atom, a chlorine atom or a fluorine atom,
X M2 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a cyano group, a trifluoromethyl group, a fluoromethoxy group, a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, or a 2,2,2-trifluoroethyl group.
一般式(M)中、RM1は、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数2〜8のアルケニル基又は炭素原子数2〜8のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルケニル基又は炭素原子数2〜5のアルケニルオキシ基が好ましく、炭素原子数1〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜5のアルケニル基が更に好ましく、炭素原子数2〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜3のアルケニル基が更に好ましく、炭素原子数3のアルケニル基(プロペニル基)が特に好ましい。In formula (M), R M1 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, or an alkenyloxy having 2 to 8 carbon atoms. Group is preferable, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms or an alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms is preferable. An alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 3 carbon atoms is further preferable, and an alkenyl group having 3 carbon atoms. (Propenyl group) is particularly preferred.
信頼性を重視する場合にはRM1はアルキル基であることが好ましく、粘性の低下を重視する場合にはアルケニル基であることが好ましい。R M1 is preferably an alkyl group when emphasizing reliability, and is preferably an alkenyl group when emphasizing a decrease in viscosity.
また、それが結合する環構造がフェニル基(芳香族)である場合には、直鎖状の炭素原子数1〜5のアルキル基、直鎖状の炭素原子数1〜4のアルコキシ基及び炭素原子数4〜5のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数1〜5のアルキル基、直鎖状の炭素原子数1〜4のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数2〜5のアルケニル基が好ましい。ネマチック相を安定化させるためには炭素原子及び存在する場合酸素原子の合計が5以下であることが好ましく、直鎖状であることが好ましい。 Further, when the ring structure to which it is bonded is a phenyl group (aromatic), a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a linear alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and carbon An alkenyl group having 4 to 5 atoms is preferable, and when the ring structure to which the alkenyl group is bonded is a saturated ring structure such as cyclohexane, pyran and dioxane, a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a straight chain A linear alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms and a linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms are preferable. In order to stabilize the nematic phase, the total of carbon atoms and oxygen atoms, if present, is preferably 5 or less, and is preferably linear.
アルケニル基としては、式(R1)から式(R5)のいずれかで表される基から選ばれることが好ましい。(各式中の黒点はアルケニル基が結合している環構造中の炭素原子を表す。)
AM1及びAM2はそれぞれ独立してΔnを大きくすることが求められる場合には芳香族であることが好ましく、応答速度を改善するためには脂肪族であることが好ましく、トランス−1,4−シクロへキシレン基、1,4−フェニレン基、2−フルオロ−1,4−フェニレン基、3−フルオロ−1,4−フェニレン基、3,5−ジフルオロ−1,4−フェニレン基、2,3−ジフルオロ−1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキセニレン基、1,4−ビシクロ[2.2.2]オクチレン基、ピペリジン−1,4−ジイル基、ナフタレン−2,6−ジイル基、デカヒドロナフタレン−2,6−ジイル基又は1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基を表すことが好ましく、下記の構造を表すことがより好ましく、
ZM1及びZM2はそれぞれ独立して−CH2O−、−CF2O−、−CH2CH2−、−CF2CF2−又は単結合を表すことが好ましく、−CF2O−、−CH2CH2−又は単結合が更に好ましく、−CF2O−又は単結合が特に好ましい。Z M1 and Z M2 each independently -CH 2 O -, - CF 2 O -, - CH 2 CH 2 -, - CF 2 CF 2 - or preferably a single bond, -CF 2 O-, —CH 2 CH 2 — or a single bond is more preferable, and —CF 2 O— or a single bond is particularly preferable.
nM1は、0、1、2又は3が好ましく、0、1又は2が好ましく、Δεの改善に重点を置く場合には0又は1が好ましく、TNIを重視する場合には1又は2が好ましい。n M1 is preferably 0, 1, 2 or 3, preferably 0, 1 or 2, preferably 0 or 1 when emphasizing the improvement of Δε, and 1 or 2 when emphasizing T NI preferable.
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本実施形態の一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類である。またさらに、本実施形態の別の実施形態では4種類であり、5種類であり、6種類であり、7種類以上である。 Although there is no restriction | limiting in particular in the kind of compound which can be combined, It uses combining according to desired performance, such as solubility at low temperature, transition temperature, electrical reliability, birefringence. The kind of the compound to be used is, for example, one kind as one embodiment of this embodiment, two kinds, and three kinds. Furthermore, in another embodiment of this embodiment, there are four types, five types, six types, and seven or more types.
本実施形態の組成物において、一般式(M)で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。 In the composition of the present embodiment, the content of the compound represented by the general formula (M) includes solubility at low temperature, transition temperature, electrical reliability, birefringence, process suitability, dripping marks, and burn-in. Therefore, it is necessary to appropriately adjust according to required performance such as dielectric anisotropy.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(M)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%であり、10質量%であり、20質量%であり、30質量%であり、40質量%であり、50質量%であり、55質量%であり、60質量%であり、65質量%であり、70質量%であり、75質量%であり、80質量%である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、例えば本実施形態の一つの形態では95質量%であり、85質量%であり、75質量%であり、65質量%であり、55質量%であり、45質量%であり、35質量%であり、25質量%である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by the formula (M) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass, 10% by mass, 20% by mass, and 30% by mass. %, 40% by mass, 50% by mass, 55% by mass, 60% by mass, 65% by mass, 70% by mass, 75% by mass, 80% by mass is there. The upper limit of the preferable content is, for example, 95% by mass, 85% by mass, 75% by mass, and 65% by mass in one form of the present embodiment with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. It is 55% by mass, 45% by mass, 35% by mass, and 25% by mass.
本実施形態の組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。さらに、本実施形態の組成物のTNIを高く保ち、温度安定性の良い組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高めに、上限値を高めにすることが好ましい。When a composition having a low response speed and a high response speed is required, it is preferable to lower the lower limit value and lower the upper limit value. Moreover, maintaining high T NI of the compositions of the present embodiment, when temperature stability good composition is required for lowering the lower limit of the above, it is preferable to set the upper limit to lower. When it is desired to increase the dielectric anisotropy in order to keep the driving voltage low, it is preferable to increase the upper limit value while increasing the lower limit value.
本実施形態の液晶組成物は、一般式(L)で表される化合物を1種類又は2種類以上さらに含有することが好ましい。一般式(L)で表される化合物は誘電的にほぼ中性の化合物(Δεの値が−2〜2)に該当する。
(式中、RL1及びRL2はそれぞれ独立して炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、該アルキル基中の1個又は非隣接の2個以上の−CH2−はそれぞれ独立して−CH=CH−、−C≡C−、−O−、−CO−、−COO−又は−OCO−によって置換されていてもよく、
nL1は0、1、2又は3を表し、
AL1、AL2及びAL3はそれぞれ独立して
(a) 1,4−シクロヘキシレン基(この基中に存在する1個の−CH2−又は隣接していない2個以上の−CH2−は−O−に置き換えられてもよい。)及び
(b) 1,4−フェニレン基(この基中に存在する1個の−CH=又は隣接していない2個以上の−CH=は−N=に置き換えられてもよい。)
(c) ナフタレン−2,6−ジイル基、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基又はデカヒドロナフタレン−2,6−ジイル基(ナフタレン−2,6−ジイル基又は1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基中に存在する1個の−CH=又は隣接していない2個以上の−CH=は−N=に置き換えられても良い。)
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基(a)、基(b)及び基(c)はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
ZL1及びZL2はそれぞれ独立して単結合、−CH2CH2−、−(CH2)4−、−OCH2−、−CH2O−、−COO−、−OCO−、−OCF2−、−CF2O−、−CH=N−N=CH−、−CH=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−を表し、
nL1が2又は3であってAL2が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、nL1が2又は3であってZL2が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良いが、一般式(N−1)、(N−2)、(N−3)、(J)及び(i)で表される化合物を除く。)(Wherein, R L1 and R L2 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and one or two or more non-adjacent —CH 2 — in the alkyl group are each independently May be substituted by —CH═CH—, —C≡C—, —O—, —CO—, —COO— or —OCO—,
n L1 represents 0, 1, 2 or 3,
A L1 , A L2 and A L3 each independently represent (a) a 1,4-cyclohexylene group (one —CH 2 — present in this group or two or more —CH 2 — not adjacent to each other). May be replaced by -O-) and (b) 1,4-phenylene group (one -CH = present in this group or two or more non-adjacent -CH = are -N May be replaced by =.)
(C) Naphthalene-2,6-diyl group, 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group or decahydronaphthalene-2,6-diyl group (naphthalene-2,6-diyl group or One —CH═ present in the 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-2,6-diyl group or two or more non-adjacent —CH═ may be replaced by —N═. )
The group (a), the group (b) and the group (c) may be each independently substituted with a cyano group, a fluorine atom or a chlorine atom,
Z L1 and Z L2 are each independently a single bond, —CH 2 CH 2 —, — (CH 2 ) 4 —, —OCH 2 —, —CH 2 O—, —COO—, —OCO—, —OCF 2. —, —CF 2 O—, —CH═N—N═CH—, —CH═CH—, —CF═CF— or —C≡C—,
When n L1 is 2 or 3, and a plurality of A L2 are present, they may be the same or different, and when n L1 is 2 or 3, and a plurality of Z L2 are present, May be the same or different, but excludes compounds represented by general formulas (N-1), (N-2), (N-3), (J) and (i). )
一般式(L)で表される化合物は単独で用いてもよいが、組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本実施形態の一つの実施形態としては1種類である。あるいは本実施形態の別の実施形態では2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類であり、6種類であり、7種類であり、8種類であり、9種類であり、10種類以上である。 Although the compound represented by general formula (L) may be used independently, it can also be used in combination. There are no particular restrictions on the types of compounds that can be combined, but they are used in appropriate combinations according to desired properties such as solubility at low temperatures, transition temperatures, electrical reliability, and birefringence. The kind of compound to be used is one kind as one embodiment of this embodiment, for example. Alternatively, in another embodiment of the present embodiment, there are 2 types, 3 types, 4 types, 5 types, 6 types, 7 types, 8 types, 9 types, There are more than 10 types.
本実施形態の組成物において、一般式(L)で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。 In the composition of the present embodiment, the content of the compound represented by the general formula (L) is low temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, birefringence, process suitability, dripping marks, image sticking. Therefore, it is necessary to appropriately adjust according to required performance such as dielectric anisotropy.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%であり、10質量%であり、20質量%であり、30質量%であり、40質量%であり、50質量%であり、55質量%であり、60質量%であり、65質量%であり、70質量%であり、75質量%であり、80質量%である。好ましい含有量の上限値は、95質量%であり、85質量%であり、75質量%であり、65質量%であり、55質量%であり、45質量%であり、35質量%であり、25質量%である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by the formula (L) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass, 10% by mass, 20% by mass, and 30% by mass. %, 40% by mass, 50% by mass, 55% by mass, 60% by mass, 65% by mass, 70% by mass, 75% by mass, 80% by mass is there. The upper limit of the preferable content is 95% by mass, 85% by mass, 75% by mass, 65% by mass, 55% by mass, 45% by mass, and 35% by mass, 25% by mass.
本実施形態の組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。さらに、本実施形態の組成物のTNIを高く保ち、温度安定性の良い組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を低く上限値が低いことが好ましい。When a composition having a low response speed and a high response speed is required, it is preferable that the lower limit value is high and the upper limit value is high. Moreover, maintaining high T NI of the compositions of the present embodiment, it is preferable if the temperature stability with good composition is required upper limit higher the lower limit of the above is high. Further, when it is desired to increase the dielectric anisotropy in order to keep the driving voltage low, it is preferable that the above lower limit value is lowered and the upper limit value is low.
信頼性を重視する場合にはRL1及びRL2はともにアルキル基であることが好ましく、化合物の揮発性を低減させることを重視する場合にはアルコキシ基であることが好ましく、粘性の低下を重視する場合には少なくとも一方はアルケニル基であることが好ましい。When importance is attached to reliability, both R L1 and R L2 are preferably alkyl groups. When importance is attached to reducing the volatility of the compound, it is preferably an alkoxy group, and importance is placed on lowering viscosity. In this case, at least one is preferably an alkenyl group.
分子内に存在するハロゲン原子は0、1、2又は3個が好ましく、0又は1が好ましく、他の液晶分子との相溶性を重視する場合には1が好ましい。 The number of halogen atoms present in the molecule is preferably 0, 1, 2 or 3, preferably 0 or 1, and 1 is preferred when importance is attached to compatibility with other liquid crystal molecules.
RL1及びRL2は、それが結合する環構造がフェニル基(芳香族)である場合には、直鎖状の炭素原子数1〜5のアルキル基、直鎖状の炭素原子数1〜4のアルコキシ基及び炭素原子数4〜5のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数1〜5のアルキル基、直鎖状の炭素原子数1〜4のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数2〜5のアルケニル基が好ましい。ネマチック相を安定化させるためには炭素原子及び存在する場合酸素原子の合計が5以下であることが好ましく、直鎖状であることが好ましい。R L1 and R L2 are a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a linear alkyl group having 1 to 4 carbon atoms when the ring structure to which R L1 is bonded is a phenyl group (aromatic). When the ring structure to which the alkoxy group and the alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms are bonded is a saturated ring structure such as cyclohexane, pyran, or dioxane, a straight chain having 1 to 5 carbon atoms is preferable. An alkyl group, a linear alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and a linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms are preferable. In order to stabilize the nematic phase, the total of carbon atoms and oxygen atoms, if present, is preferably 5 or less, and is preferably linear.
アルケニル基としては、式(R1)から式(R5)のいずれかで表される基から選ばれることが好ましい。(各式中の黒点は環構造中の炭素原子を表す。)
nL1は応答速度を重視する場合には0が好ましく、ネマチック相の上限温度を改善するためには2又は3が好ましく、これらのバランスをとるためには1が好ましい。また、組成物として求められる特性を満たすためには異なる値の化合物を組み合わせることが好ましい。n L1 is preferably 0 when importance is attached to the response speed, 2 or 3 is preferred for improving the upper limit temperature of the nematic phase, and 1 is preferred for balancing these. Moreover, in order to satisfy | fill the characteristic calculated | required as a composition, it is preferable to combine the compound of a different value.
AL1、AL2及びAL3はΔnを大きくすることが求められる場合には芳香族であることが好ましく、応答速度を改善するためには脂肪族であることが好ましく、それぞれ独立してトランス−1,4−シクロへキシレン基、1,4−フェニレン基、2−フルオロ−1,4−フェニレン基、3−フルオロ−1,4−フェニレン基、3,5−ジフルオロ−1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキセニレン基、1,4−ビシクロ[2.2.2]オクチレン基、ピペリジン−1,4−ジイル基、ナフタレン−2,6−ジイル基、デカヒドロナフタレン−2,6−ジイル基又は1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−2,6−ジイル基を表すことが好ましく、下記の構造を表すことがより好ましく、
ZL1及びZL2は応答速度を重視する場合には単結合であることが好ましい。
一般式(L)で表される化合物は分子内のハロゲン原子数が0個又は1個であることが好ましい。Z L1 and Z L2 are preferably single bonds when the response speed is important.
The compound represented by the general formula (L) preferably has 0 or 1 halogen atom in the molecule.
一般式(L)で表される化合物は一般式(L−3)〜(L−8)で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。 The compound represented by the general formula (L) is preferably a compound selected from the group of compounds represented by the general formulas (L-3) to (L-8).
一般式(L−3)で表される化合物は下記の化合物である。
RL31及びRL32はそれぞれ独立して炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数4〜5のアルケニル基又は炭素原子数1〜4のアルコキシ基が好ましい。The compound represented by general formula (L-3) is the following compound.
R L31 and R L32 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
一般式(L−3)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本実施形態の一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 Although the compound represented by general formula (L-3) can also be used independently, it can also be used in combination of 2 or more compounds. There are no particular restrictions on the types of compounds that can be combined, but they are used in appropriate combinations according to the required properties such as solubility at low temperatures, transition temperatures, electrical reliability, and birefringence. The kind of compound to be used is, for example, one kind as one embodiment of this embodiment, two kinds, three kinds, four kinds, and five kinds or more.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L−3)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%であり、2質量%であり、3質量%であり、5質量%であり、7質量%であり、10質量%である。好ましい含有量の上限値は、本実施形態の組成物の総量に対して、20質量%であり、15質量%であり、13質量%であり、10質量%であり、8質量%であり、7質量%であり、6質量%であり、5質量%であり、3質量%である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by the formula (L-3) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass, 2% by mass, 3% by mass, 5% by mass, 7% by mass, and 10% by mass. The upper limit of the preferable content is 20% by mass, 15% by mass, 13% by mass, 10% by mass, and 8% by mass with respect to the total amount of the composition of the present embodiment. 7% by mass, 6% by mass, 5% by mass, and 3% by mass.
一般式(L−4)で表される化合物は下記の化合物である。
RL41は炭素原子数1〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜5のアルケニル基が好ましく、RL42は炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数4〜5のアルケニル基又は炭素原子数1〜4のアルコキシ基が好ましい。R L41 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and R L42 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms, or a carbon atom. The alkoxy group of number 1-4 is preferable.
一般式(L−4)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本実施形態の一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 Although the compound represented by general formula (L-4) can also be used independently, it can also be used in combination of 2 or more compounds. There are no particular restrictions on the types of compounds that can be combined, but they are used in appropriate combinations according to the required properties such as solubility at low temperatures, transition temperatures, electrical reliability, and birefringence. The kind of compound to be used is, for example, one kind as one embodiment of this embodiment, two kinds, three kinds, four kinds, and five kinds or more.
本実施形態の組成物において、一般式(L−4)で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。 In the composition of the present embodiment, the content of the compound represented by the general formula (L-4) is low-temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, birefringence index, process suitability, dropping trace. Therefore, it is necessary to adjust appropriately according to required performance such as image sticking and dielectric anisotropy.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L−4)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%であり、2質量%であり、3質量%であり、5質量%であり、7質量%であり、10質量%であり、14質量%であり、16質量%であり、20質量%であり、23質量%であり、26質量%であり、30質量%であり、35質量%であり、40質量%である。本実施形態の組成物の総量に対しての式(L−4)で表される化合物の好ましい含有量の上限値は、50質量%であり、40質量%であり、35質量%であり、30質量%であり、20質量%であり、15質量%であり、10質量%であり、5質量%である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by the formula (L-4) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass, 2% by mass, 3% by mass, 5% by mass, 7% by mass, 10% by mass, 14% by mass, 16% by mass, 20% by mass, 23% by mass, 26% by mass, 30% by mass %, 35% by mass, and 40% by mass. The upper limit of the preferable content of the compound represented by the formula (L-4) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 50% by mass, 40% by mass, and 35% by mass, 30% by mass, 20% by mass, 15% by mass, 10% by mass, and 5% by mass.
一般式(L−5)で表される化合物は下記の化合物である。
RL51は炭素原子数1〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜5のアルケニル基が好ましく、RL52は炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数4〜5のアルケニル基又は炭素原子数1〜4のアルコキシ基が好ましい。R L51 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and R L52 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 5 carbon atoms, or a carbon atom. The alkoxy group of number 1-4 is preferable.
一般式(L−5)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本実施形態の一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 Although the compound represented by general formula (L-5) can also be used independently, it can also be used in combination of 2 or more compounds. There are no particular restrictions on the types of compounds that can be combined, but they are used in appropriate combinations according to the required properties such as solubility at low temperatures, transition temperatures, electrical reliability, and birefringence. The kind of compound to be used is, for example, one kind as one embodiment of this embodiment, two kinds, three kinds, four kinds, and five kinds or more.
本実施形態の組成物において、一般式(L−5)で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。 In the composition of the present embodiment, the content of the compound represented by the general formula (L-5) includes solubility at low temperature, transition temperature, electrical reliability, birefringence, process suitability, and drop marks. Therefore, it is necessary to adjust appropriately according to required performance such as image sticking and dielectric anisotropy.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L−5)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%であり、2質量%であり、3質量%であり、5質量%であり、7質量%であり、10質量%であり、14質量%であり、16質量%であり、20質量%であり、23質量%であり、26質量%であり、30質量%であり、35質量%であり、40質量%である。本実施形態の組成物の総量に対しての式(L−5)で表される化合物の好ましい含有量の上限値は、50質量%であり、40質量%であり、35質量%であり、30質量%であり、20質量%であり、15質量%であり、10質量%であり、5質量%である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by the formula (L-5) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass, 2% by mass, 3% by mass, 5% by mass, 7% by mass, 10% by mass, 14% by mass, 16% by mass, 20% by mass, 23% by mass, 26% by mass, 30% by mass %, 35% by mass, and 40% by mass. The upper limit of the preferable content of the compound represented by the formula (L-5) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 50% by mass, 40% by mass, and 35% by mass, 30% by mass, 20% by mass, 15% by mass, 10% by mass, and 5% by mass.
一般式(L−6)で表される化合物は下記の化合物である。
RL61及びRL62はそれぞれ独立して炭素原子数1〜5のアルキル基又は炭素原子数2〜5のアルケニル基が好ましく、XL61及びXL62のうち一方がフッ素原子他方が水素原子であることが好ましい。R L61 and R L62 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and one of X L61 and X L62 is a fluorine atom and the other is a hydrogen atom. Is preferred.
一般式(L−6)で表される化合物は単独で使用することもできるが、2以上の化合物を組み合わせて使用することもできる。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本実施形態の一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類であり、5種類以上である。 Although the compound represented by general formula (L-6) can also be used independently, it can also be used in combination of 2 or more compounds. There are no particular restrictions on the types of compounds that can be combined, but they are used in appropriate combinations according to the required properties such as solubility at low temperatures, transition temperatures, electrical reliability, and birefringence. The kind of compound to be used is, for example, one kind as one embodiment of this embodiment, two kinds, three kinds, four kinds, and five kinds or more.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L−6)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%であり、2質量%であり、3質量%であり、5質量%であり、7質量%であり、10質量%であり、14質量%であり、16質量%であり、20質量%であり、23質量%であり、26質量%であり、30質量%であり、35質量%であり、40質量%である。本実施形態の組成物の総量に対しての式(L−6)で表される化合物の好ましい含有量の上限値は、50質量%であり、40質量%であり、35質量%であり、30質量%であり、20質量%であり、15質量%であり、10質量%であり、5質量%である。Δnを大きくすることに重点を置く場合には含有量を多くした方が好ましく、低温での析出に重点を置いた場合には含有量は少ない方が好ましい。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by the formula (L-6) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass, 2% by mass, and 3% by mass, 5% by mass, 7% by mass, 10% by mass, 14% by mass, 16% by mass, 20% by mass, 23% by mass, 26% by mass, 30% by mass %, 35% by mass, and 40% by mass. The upper limit of the preferable content of the compound represented by Formula (L-6) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 50% by mass, 40% by mass, and 35% by mass, 30% by mass, 20% by mass, 15% by mass, 10% by mass, and 5% by mass. When emphasizing to increase Δn, it is preferable to increase the content, and when emphasizing the precipitation at low temperature, it is preferable to decrease the content.
一般式(L−7)で表される化合物は下記の化合物である。
式中、RL71及びRL72はそれぞれ独立して炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数2〜5のアルケニル基又は炭素原子数1〜4のアルコキシ基が好ましく、AL71及びAL72はそれぞれ独立して1,4−シクロヘキシレン基又は1,4−フェニレン基が好ましく、AL71及びAL72上の水素原子はそれぞれ独立してフッ素原子によって置換されていてもよく、ZL71は単結合又はCOO−が好ましく、単結合が好ましく、XL71及びXL72は水素原子が好ましい。In the formula, R L71 and R L72 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and A L71 and A L72. Are each independently preferably a 1,4-cyclohexylene group or a 1,4-phenylene group, the hydrogen atoms on A L71 and A L72 may be each independently substituted with a fluorine atom, and Z L71 is a single group. A bond or COO- is preferable, a single bond is preferable, and X L71 and X L72 are preferably a hydrogen atom.
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本実施形態の一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類である。 Although there is no restriction | limiting in particular in the kind of compound which can be combined, It combines according to performance requested | required, such as solubility at low temperature, transition temperature, electrical reliability, birefringence. The kind of the compound to be used is, for example, one kind as one embodiment of this embodiment, two kinds, three kinds, and four kinds.
本実施形態の組成物において、一般式(L−7)で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。 In the composition of the present embodiment, the content of the compound represented by the general formula (L-7) is low temperature solubility, transition temperature, electrical reliability, birefringence, process suitability, dripping marks. Therefore, it is necessary to adjust appropriately according to required performance such as image sticking and dielectric anisotropy.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L−7)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%であり、2質量%であり、3質量%であり、5質量%であり、7質量%であり、10質量%であり、14質量%であり、16質量%であり、20質量%である。本実施形態の組成物の総量に対しての式(L−7)で表される化合物の好ましい含有量の上限値は、30質量%であり、25質量%であり、23質量%であり、20質量%であり、18質量%であり、15質量%であり、10質量%であり、5質量%である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by the formula (L-7) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass, 2% by mass, 3% by mass, 5% by mass, 7% by mass, 10% by mass, 14% by mass, 16% by mass, and 20% by mass. The upper limit of the preferable content of the compound represented by Formula (L-7) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 30% by mass, 25% by mass, and 23% by mass, 20% by mass, 18% by mass, 15% by mass, 10% by mass, and 5% by mass.
本実施形態の組成物が高いTNIの実施形態が望まれる場合は式(L−7)で表される化合物の含有量を多めにすることが好ましく、低粘度の実施形態が望まれる場合は含有量を少なめにすることが好ましい。When an embodiment with a high T NI is desired for the composition of the present embodiment, it is preferable to increase the content of the compound represented by formula (L-7), and when an embodiment with a low viscosity is desired. It is preferable to reduce the content.
一般式(L−8)で表される化合物は下記の化合物である。
式中、RL81及びRL82はそれぞれ独立して炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数2〜5のアルケニル基又は炭素原子数1〜4のアルコキシ基が好ましく、AL81は1,4−シクロヘキシレン基又は1,4−フェニレン基が好ましく、AL71及びAL72上の水素原子はそれぞれ独立してフッ素原子によって置換されていてもよく、一般式(L−8)中の同一の環構造上にフッ素原子は0個又は1個が好ましく、分子内にフッ素原子は0個又は1個であることが好ましい。 Wherein, R L81 and R L82 are each independently an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms 2 to 5 carbon atoms preferably, A L81 is 1, A 4-cyclohexylene group or a 1,4-phenylene group is preferable, and the hydrogen atoms on A L71 and A L72 may be each independently substituted with a fluorine atom, and the same in general formula (L-8) The number of fluorine atoms in the ring structure is preferably 0 or 1, and the number of fluorine atoms in the molecule is preferably 0 or 1.
組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本実施形態の一つの実施形態としては1種類であり、2種類であり、3種類であり、4種類である。 Although there is no restriction | limiting in particular in the kind of compound which can be combined, It combines according to performance requested | required, such as solubility at low temperature, transition temperature, electrical reliability, birefringence. The kind of the compound to be used is, for example, one kind as one embodiment of this embodiment, two kinds, three kinds, and four kinds.
本実施形態の組成物において、一般式(L−8)で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。 In the composition of the present embodiment, the content of the compound represented by the general formula (L-8) includes solubility at low temperature, transition temperature, electrical reliability, birefringence, process suitability, and drop marks. Therefore, it is necessary to adjust appropriately according to required performance such as image sticking and dielectric anisotropy.
本実施形態の組成物の総量に対しての式(L−8)で表される化合物の好ましい含有量の下限値は、1質量%であり、2質量%であり、3質量%であり、5質量%であり、7質量%であり、10質量%であり、14質量%であり、16質量%であり、20質量%である。本実施形態の組成物の総量に対しての式(L−8)で表される化合物の好ましい含有量の上限値は、30質量%であり、25質量%であり、23質量%であり、20質量%であり、18質量%であり、15質量%であり、10質量%であり、5質量%である。 The lower limit of the preferable content of the compound represented by the formula (L-8) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 1% by mass, 2% by mass, 3% by mass, 5% by mass, 7% by mass, 10% by mass, 14% by mass, 16% by mass, and 20% by mass. The upper limit of the preferable content of the compound represented by the formula (L-8) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment is 30% by mass, 25% by mass, and 23% by mass, 20% by mass, 18% by mass, 15% by mass, 10% by mass, and 5% by mass.
本実施形態の組成物が高いTNIの実施形態が望まれる場合は式(L−8)で表される化合物の含有量を多めにすることが好ましく、低粘度の実施形態が望まれる場合は含有量を少なめにすることが好ましい。When an embodiment with a high T NI is desired for the composition of the present embodiment, it is preferable to increase the content of the compound represented by formula (L-8), and when an embodiment with a low viscosity is desired. It is preferable to reduce the content.
本実施形態の組成物の総量に対しての一般式(i)、一般式(L)、(N−1)、(N−2)、(N−3)及び(J)で表される化合物の合計の好ましい含有量の下限値は、80質量%であり、85質量%であり、88質量%であり、90質量%であり、92質量%であり、93質量%であり、94質量%であり、95質量%であり、96質量%であり、97質量%であり、98質量%であり、99質量%であり、100質量%である。好ましい含有量の上限値は、100質量%であり、99質量%であり、98質量%であり、95質量%である。ただし、Δεの絶対値が大きい組成物を得る観点からは、一般式(N−1)、(N−2)、(N−3)又は(J)で表される化合物のいずれか一方は0質量%であることが好ましい。 Compounds represented by general formula (i), general formula (L), (N-1), (N-2), (N-3) and (J) with respect to the total amount of the composition of the present embodiment The lower limit value of the total preferable content is 80% by mass, 85% by mass, 88% by mass, 90% by mass, 92% by mass, 93% by mass, and 94% by mass 95% by mass 96% by mass 97% by mass 98% by mass 99% by mass 100% by mass The upper limit of preferable content is 100% by mass, 99% by mass, 98% by mass, and 95% by mass. However, from the viewpoint of obtaining a composition having a large absolute value of Δε, any one of the compounds represented by the general formula (N-1), (N-2), (N-3), or (J) is 0. It is preferable that it is mass%.
本実施形態の組成物は、分子内に過酸(−CO−OO−)構造等の酸素原子同士が結合した構造を持つ化合物を含有しないことが好ましい。 The composition of the present embodiment preferably does not contain a compound having a structure in which oxygen atoms such as a peracid (—CO—OO—) structure are bonded in the molecule.
組成物の信頼性及び長期安定性を重視する場合にはカルボニル基を有する化合物の含有量を前記組成物の総質量に対して5質量%以下とすることが好ましく、3質量%以下とすることがより好ましく、1質量%以下とすることが更に好ましく、実質的に含有しないことが最も好ましい。 When emphasizing the reliability and long-term stability of the composition, the content of the compound having a carbonyl group is preferably 5% by mass or less, preferably 3% by mass or less, based on the total mass of the composition. Is more preferable, and it is still more preferable to set it as 1 mass% or less, and it is most preferable not to contain substantially.
UV照射による安定性を重視する場合、塩素原子が置換している化合物の含有量を前記組成物の総質量に対して15質量%以下とすることが好ましく、10質量%以下とすることが好ましく、8質量%以下とすることが好ましく、5質量%以下とすることがより好ましく、3質量%以下とすることが好ましく、実質的に含有しないことが更に好ましい。 When importance is attached to stability by UV irradiation, the content of the compound substituted with chlorine atoms is preferably 15% by mass or less, and preferably 10% by mass or less, based on the total mass of the composition. 8% by mass or less, preferably 5% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, and still more preferably substantially not contained.
分子内の環構造がすべて6員環である化合物の含有量を多くすることが好ましく、分子内の環構造がすべて6員環である化合物の含有量を前記組成物の総質量に対して80質量%以上とすることが好ましく、90質量%以上とすることがより好ましく、95質量%以上とすることが更に好ましく、実質的に分子内の環構造がすべて6員環である化合物のみで組成物を構成することが最も好ましい。 It is preferable to increase the content of a compound in which all the ring structures in the molecule are 6-membered rings, and the content of the compound in which all the ring structures in the molecule are 6-membered rings is 80% relative to the total mass of the composition. It is preferably at least 90% by mass, more preferably at least 90% by mass, even more preferably at least 95% by mass, and it is composed of only a compound having substantially all 6-membered ring structures in the molecule. Most preferably it constitutes a product.
組成物の酸化による劣化を抑えるためには、環構造としてシクロヘキセニレン基を有する化合物の含有量を少なくすることが好ましく、シクロヘキセニレン基を有する化合物の含有量を前記組成物の総質量に対して10質量%以下とすることが好ましく、8質量%以下とすることが好ましく、5質量%以下とすることがより好ましく、3質量%以下とすることが好ましく、実質的に含有しないことが更に好ましい。 In order to suppress deterioration due to oxidation of the composition, it is preferable to reduce the content of the compound having a cyclohexenylene group as a ring structure, and the content of the compound having a cyclohexenylene group as the total mass of the composition. On the other hand, it is preferably 10% by mass or less, preferably 8% by mass or less, more preferably 5% by mass or less, and preferably 3% by mass or less, and substantially not contained. Further preferred.
粘度の改善及びTNIの改善を重視する場合には、水素原子がハロゲンに置換されていてもよい2−メチルベンゼン−1,4−ジイル基を分子内に持つ化合物の含有量を少なくすることが好ましく、前記2−メチルベンゼン−1,4−ジイル基を分子内に持つ化合物の含有量を前記組成物の総質量に対して10質量%以下とすることが好ましく、8質量%以下とすることが好ましく、5質量%以下とすることがより好ましく、3質量%以下とすることが好ましく、実質的に含有しないことが更に好ましい。When emphasizing improvements of improvement and T NI viscosity, that a hydrogen atom to reduce the content of the compound having the optionally substituted 2-methyl-1,4-diyl group halogen in the molecule Is preferable, and the content of the compound having the 2-methylbenzene-1,4-diyl group in the molecule is preferably 10% by mass or less, more preferably 8% by mass or less, based on the total mass of the composition. It is preferably 5% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, and still more preferably substantially not contained.
本願において実質的に含有しないとは、意図せずに含有する物を除いて含有しないという意味である。 In the present application, the phrase “not substantially contained” means that the substance is not contained except for an unintentionally contained substance.
本実施形態の第一実施形態の組成物に含有される化合物が、側鎖としてアルケニル基を有する場合、前記アルケニル基がシクロヘキサンに結合している場合には当該アルケニル基の炭素原子数は2〜5であることが好ましく、前記アルケニル基がベンゼンに結合している場合には当該アルケニル基の炭素原子数は4〜5であることが好ましく、前記アルケニル基の不飽和結合とベンゼンは直接結合していないことが好ましい。 When the compound contained in the composition of the first embodiment of the present embodiment has an alkenyl group as a side chain, when the alkenyl group is bonded to cyclohexane, the alkenyl group has 2 to 2 carbon atoms. Preferably, when the alkenyl group is bonded to benzene, the alkenyl group preferably has 4 to 5 carbon atoms, and the unsaturated bond of the alkenyl group and benzene are directly bonded. Preferably not.
本実施形態の組成物には、PSモード、横電界型PSAモード又は横電界型PSVAモードなどの液晶表示素子を作製するために、重合性化合物を含有することができる。使用できる重合性化合物として、光などのエネルギー線により重合が進行する光重合性モノマーなどが挙げられ、構造として、例えば、ビフェニル誘導体、ターフェニル誘導体などの六員環が複数連結した液晶骨格を有する重合性化合物などが挙げられる。更に具体的には、一般式(XX)
(式中、X201及びX202はそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、
Sp201及びSp202はそれぞれ独立して、単結合、炭素原子数1〜8のアルキレン基又は−O−(CH2)s−(式中、sは2から7の整数を表し、酸素原子は芳香環に結合するものとする。)が好ましく、
Z201は−OCH2−、−CH2O−、−COO−、−OCO−、−CF2O−、−OCF2−、−CH2CH2−、−CF2CF2−、−CH=CH−COO−、−CH=CH−OCO−、−COO−CH=CH−、−OCO−CH=CH−、−COO−CH2CH2−、−OCO−CH2CH2−、−CH2CH2−COO−、−CH2CH2−OCO−、−COO−CH2−、−OCO−CH2−、−CH2−COO−、−CH2−OCO−、−CY1=CY2−(式中、Y1及びY2はそれぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表す。)、−C≡C−又は単結合を表し、
L201及びL202はそれぞれ独立して、フッ素原子、炭素原子数1〜8のアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルコキシ基であり、
M201は1,4−フェニレン基、トランス−1,4−シクロヘキシレン基又は単結合を表し、式中の全ての1,4−フェニレン基は、任意の水素原子がフッ素原子、炭素原子数1〜8のアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルコキシ基により置換されていても良く、n201及びn202はそれぞれ独立して、0〜4の整数である。)で表される二官能モノマーが好ましい。(Wherein, X 201 and X 202 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group,
Sp 201 and Sp 202 are each independently a single bond, an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, or —O— (CH 2 ) s — (wherein s represents an integer of 2 to 7, Preferably bonded to an aromatic ring)
Z 201 represents —OCH 2 —, —CH 2 O—, —COO—, —OCO—, —CF 2 O—, —OCF 2 —, —CH 2 CH 2 —, —CF 2 CF 2 —, —CH═. CH—COO—, —CH═CH—OCO—, —COO—CH═CH—, —OCO—CH═CH—, —COO—CH 2 CH 2 —, —OCO—CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 —COO—, —CH 2 CH 2 —OCO—, —COO—CH 2 —, —OCO—CH 2 —, —CH 2 —COO—, —CH 2 —OCO—, —CY 1 ═CY 2 — (Wherein Y 1 and Y 2 each independently represents a fluorine atom or a hydrogen atom), —C≡C— or a single bond;
L 201 and L 202 are each independently a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms,
M 201 represents a 1,4-phenylene group, a trans-1,4-cyclohexylene group or a single bond, and all of the 1,4-phenylene groups in the formula have an arbitrary hydrogen atom as a fluorine atom and a carbon atom number of 1 It may be substituted by an alkyl group of ˜8 or an alkoxy group of 1 to 8 carbon atoms, and n201 and n202 are each independently an integer of 0-4. ) Is preferred.
X201及びX202は、何れも水素原子を表すジアクリレート誘導体、何れもメチル基を有するジメタクリレート誘導体の何れも好ましく、一方が水素原子を表しもう一方がメチル基を表す化合物も好ましい。これらの化合物の重合速度は、ジアクリレート誘導体が最も早く、ジメタクリレート誘導体が遅く、非対称化合物がその中間であり、その用途により好ましい態様を用いることができる。PSA表示素子においては、ジメタクリレート誘導体が特に好ましい。X 201 and X 202 are each preferably a diacrylate derivative that represents a hydrogen atom, or a dimethacrylate derivative that has a methyl group, and a compound in which one represents a hydrogen atom and the other represents a methyl group. As for the polymerization rate of these compounds, diacrylate derivatives are the fastest, dimethacrylate derivatives are slow, asymmetric compounds are in the middle, and a preferred embodiment can be used depending on the application. In the PSA display element, a dimethacrylate derivative is particularly preferable.
Sp201及びSp202はそれぞれ独立して、単結合、炭素原子数1〜8のアルキレン基又は−O−(CH2)s−を表すが、PSA表示素子においては少なくとも一方が単結合であることが好ましく、共に単結合を表す化合物又は一方が単結合でもう一方が炭素原子数1〜8のアルキレン基又は−O−(CH2)s−を表す態様が好ましい。この場合1〜4のアルキル基が好ましく、sは1〜4が好ましい。Sp 201 and Sp 202 each independently represent a single bond, an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, or —O— (CH 2 ) s —, but in the PSA display element, at least one is a single bond. A compound in which both represent a single bond or one represents a single bond and the other represents an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms or —O— (CH 2 ) s — is preferable. In this case, the alkyl group of 1-4 is preferable, and 1-4 is preferable for s.
Z201は、−OCH2−、−CH2O−、−COO−、−OCO−、−CF2O−、−OCF2−、−CH2CH2−、−CF2CF2−又は単結合が好ましく、−COO−、−OCO−又は単結合がより好ましく、単結合が特に好ましい。Z 201 represents —OCH 2 —, —CH 2 O—, —COO—, —OCO—, —CF 2 O—, —OCF 2 —, —CH 2 CH 2 —, —CF 2 CF 2 — or a single bond. Are preferred, —COO—, —OCO— or a single bond is more preferred, and a single bond is particularly preferred.
M201は任意の水素原子がフッ素原子により置換されていても良い1,4−フェニレン基、トランス−1,4−シクロヘキシレン基又は単結合を表すが、1,4−フェニレン基又は単結合が好ましい。Cが単結合以外の環構造を表す場合、Z201は単結合以外の連結基も好ましく、M201が単結合の場合、Z201は単結合が好ましい。M 201 represents a 1,4-phenylene group, a trans-1,4-cyclohexylene group or a single bond in which any hydrogen atom may be substituted by a fluorine atom, but the 1,4-phenylene group or the single bond is preferable. When C represents a ring structure other than a single bond, Z 201 is preferably a linking group other than a single bond. When M 201 is a single bond, Z 201 is preferably a single bond.
これらの点から、一般式(XX)において、Sp201及びSp202の間の環構造は、具体的には次に記載する構造が好ましい。From these points, in general formula (XX), the ring structure between Sp 201 and Sp 202 is specifically preferably the structure described below.
一般式(XX)において、M201が単結合を表し、環構造が二つの環で形成される場合において、次の式(XXa−1)から式(XXa−5)を表すことが好ましく、式(XXa−1)から式(XXa−3)を表すことがより好ましく、式(XXa−1)を表すことが特に好ましい。
これらの骨格を含む重合性化合物は重合後の配向規制力がPSA型液晶表示素子に最適であり、良好な配向状態が得られることから、表示ムラが抑制されるか、又は、全く発生しない。 The polymerizable compounds containing these skeletons are optimal for PSA-type liquid crystal display elements because of the alignment regulating power after polymerization, and a good alignment state can be obtained, so that display unevenness is suppressed or does not occur at all.
以上のことから、重合性モノマーとしては、一般式(XX−1)〜一般式(XX−4)が特に好ましく、中でも一般式(XX−2)が最も好ましい。
本実施形態の組成物に重合性化合物を含有する場合の含有量は、0.01質量%〜5質量%であることが好ましく、0.05質量%〜3質量%であることが好ましく、0.1質量%〜2質量%であることが好ましい。 When the polymerizable compound is contained in the composition of the present embodiment, the content is preferably 0.01% by mass to 5% by mass, more preferably 0.05% by mass to 3% by mass, and 0 It is preferable that it is 1 mass%-2 mass%.
本実施形態の組成物にモノマーを添加する場合において、重合開始剤が存在しない場合でも重合は進行するが、重合を促進するために重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。 When a monomer is added to the composition of the present embodiment, the polymerization proceeds even when no polymerization initiator is present, but a polymerization initiator may be contained in order to accelerate the polymerization. Examples of the polymerization initiator include benzoin ethers, benzophenones, acetophenones, benzyl ketals, acylphosphine oxides, and the like.
本実施形態の液晶表示素子は、前記したとおり、配向層4,6を有するものであってもよいが、配向層を設けることなく、本実施形態に係る液晶層を構成する液晶組成物中に自発配向剤を含ませ、配向膜なしで液晶を自立させるか、溶剤可溶型の配向型ポリイミドを用いて配向させるか、或いは、光配向膜、とりわけ非ポリイミド系の光配向膜によって液晶を配向させることが液晶表示素子の製造が容易である点から好ましい。 The liquid crystal display element of the present embodiment may have the alignment layers 4 and 6 as described above, but in the liquid crystal composition constituting the liquid crystal layer according to the present embodiment without providing the alignment layer. Incorporating a spontaneous alignment agent, the liquid crystal is self-supported without an alignment film, or is aligned using a solvent-soluble alignment polyimide, or the liquid crystal is aligned by a photo-alignment film, especially a non-polyimide-based photo-alignment film It is preferable that the liquid crystal display element is easily manufactured.
本実施形態に係る液晶組成物は、自発配向剤を含むことが好ましい。当該自発配向剤は、液晶層を構成する液晶組成物に含まれる液晶分子の配向方向を制御することができる。液晶層の界面に自発配向剤の成分が集積する、又は当該界面に吸着することで液晶分子の配向方向を制御することができると考えられる。これにより、液晶組成物中に自発配向剤を含む場合は、液晶パネルの配向層を無くすことができる。 The liquid crystal composition according to this embodiment preferably contains a spontaneous alignment agent. The spontaneous alignment agent can control the alignment direction of the liquid crystal molecules contained in the liquid crystal composition constituting the liquid crystal layer. It is considered that the alignment direction of the liquid crystal molecules can be controlled by accumulating or adsorbing the components of the spontaneous alignment agent at the interface of the liquid crystal layer. Thereby, when a spontaneous alignment agent is included in the liquid crystal composition, the alignment layer of the liquid crystal panel can be eliminated.
本実施形態に係る液晶組成物における自発配向剤の含有量は、液晶組成物の全体のうち0.1〜10質量%含むことが好ましい。また、本実施形態に係る液晶組成物における自発配向剤は、上記の重合性化合物と併用して使用してもよい。 The content of the spontaneous alignment agent in the liquid crystal composition according to this embodiment is preferably 0.1 to 10% by mass in the whole liquid crystal composition. Further, the spontaneous alignment agent in the liquid crystal composition according to the present embodiment may be used in combination with the polymerizable compound.
当該自発配向剤としては、以下の一般式(al−1)及び/又は一般式(al−2)であることが好ましい。
Ral1は、水素原子、ハロゲン、1〜20個の炭素原子を有する直鎖状、分枝状もしくは環状アルキルを示し、ここで当該アルキル基において、1又は2つ以上の隣接していないCH2基は、−O−、−S−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−O−CO−O−によって、O及び/又はS原子が互いに直接結合しないように置換されてもよく、さらに1個又は2個以上の水素原子は、F又はClによって置き換えられていてもよい、
Ral2は、以下のいずれかの部分構造を備えた基を表し、
R al2 represents a group having any of the following partial structures:
Spal1、Spal2及びSpal3はそれぞれ互いに独立して、炭素原子数1〜12個のアルキル基又は単結合を表し、
Xal1、Xal2及びXal3はそれぞれ互いに独立して、アルキル基、アクリル基、メタクリル基又はビニル基を示し、
Zal1は、−O−、−S−、−CO−、−CO−O−、−OCO−、−O−CO−O−、−OCH2−、−CH2O−、−SCH2−、−CH2S−、−CF2O−、−OCF2−、−CF2S−、−SCF2−、−(CH2)n al−、−CF2CH2−、−CH2CF2−、−(CF2)n al−、−CH=CH−、−CF=CF−、−C≡C−、−CH=CH−COO−、−OCO−CH=CH−、−(CRal3Ral4)n a1−、−CH(−Spal1−Xal1)−、−CH2CH(−Spal1−Xal1)−、−CH(−Spal1−Xal1)CH(−Spal1−Xal1)−を示し、
Zal2はそれぞれ互いに独立して、単結合、−O−、−S−、−CO−、−CO−O−、−OCO−、−O−CO−O−、−OCH2−、−CH2O−、−SCH2−、−CH2S−、−CF2O−、−OCF2−、−CF2S−、−SCF2−、−(CH2)n1−、−CF2CH2−、−CH2CF2−、−(CF2)n al−、−CH=CH−、−CF=CF−、−C≡C−、−CH=CH−COO−、−OCO−CH=CH−、−(CRal3Ral4)na1−、−CH(−Spal1−Xal1)−、−CH2CH(−Spal1−Xal1)−、−CH(−Spal1−Xal1)CH(−Spal1−Xal1)−を示し、
Lal1、Lal2、Lal3はそれぞれ互いに独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、−CN、−NO2、−NCO、−NCS、−OCN、−SCN、−C(=O)N(Ral3)2、−C(=O)Ral3、3〜15個の炭素原子を有する任意に置換されたシリル基、任意に置換されたアリール基もしくはシクロアルキル基又は1〜25個の炭素原子を表すが、ここで、1個もしくは2個以上の水素原子がハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子)によって置き換えられていてもよく、
上記Ral3は、1〜12個の炭素原子を有するアルキル基を表し、上記Ral4は、水素原子又は1〜12個の炭素原子を有するアルキル基を表し、上記nalは、1〜4の整数を表し、
pal1及びpal2はそれぞれ互いに独立して、0又は1を表し、mal1、mal2及びmal3はそれぞれ互いに独立して、0〜3の整数を表し、nal1、nal2及びnal3はそれぞれ互いに独立して、0〜3の整数を表す。) Spal1 , Spal2 and Spal3 each independently represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a single bond,
Xal1 , Xal2 and Xal3 each independently represent an alkyl group, an acrylic group, a methacryl group or a vinyl group,
Zal1 is —O—, —S—, —CO— , —CO—O— , —OCO— , —O—CO—O—, —OCH 2 —, —CH 2 O—, —SCH 2 —, -CH 2 S -, - CF 2 O -, - OCF 2 -, - CF 2 S -, - SCF 2 -, - (CH 2) n al -, - CF 2 CH 2 -, - CH 2 CF 2 - , — (CF 2 ) n al —, —CH═CH—, —CF═CF—, —C≡C—, —CH═CH— COO—, —OCO— CH═CH— , — (CR al3 R al4 ) n a1 -, - CH ( -Sp al1 -X al1) -, - CH 2 CH (-Sp al1 -X al1) -, - CH (-Sp al1 -X al1) CH (-Sp al1 -X al1) −
Z al2 are each independently of one another, a single bond, -O -, - S -, - CO -, - CO-O -, - OCO -, - OCO-O -, - OCH 2 -, - CH 2 O -, - SCH 2 -, - CH 2 S -, - CF 2 O -, - OCF 2 -, - CF 2 S -, - SCF 2 -, - (CH 2) n1 -, - CF 2 CH 2 - , —CH 2 CF 2 —, — (CF 2 ) n al —, —CH═CH—, —CF═CF—, —C≡C—, —CH═CH—COO—, —OCO—CH═CH— , - (CR al3 R al4) na1 -, - CH (-Sp al1 -X al1) -, - CH 2 CH (-Sp al1 -X al1) -, - CH (-Sp al1 -X al1) CH (- Spal1 -Xal1 )-
L al1, L al2, L al3 are each independently of one another, a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, -CN, -NO 2, -NCO, -NCS, -OCN, -SCN, - C (= O) N ( Ral3 ) 2 , -C (= O) Ral3 , an optionally substituted silyl group having 3 to 15 carbon atoms, an optionally substituted aryl group or cycloalkyl group or Represents 1 to 25 carbon atoms, wherein one or more hydrogen atoms may be replaced by halogen atoms (fluorine atoms, chlorine atoms),
The R al3 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, the R al4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and the n al is 1 to 4 Represents an integer,
pal1 and pal2 each independently represent 0 or 1, mal1 , mal2 and mal3 each independently represent an integer of 0 to 3, and nal1 , nal2 and nal3 are Each independently represents an integer of 0 to 3. )
一般式(Al−2):
(式中、Zi1及びZi2はそれぞれ独立して、単結合、−CH=CH−、−CF=CF−、−C≡C−、−COO−、−OCO−、−OCOO−、−OOCO−、−CF2O−、−OCF2−、−CH=CHCOO−、−OCOCH=CH−、−CH2−CH2COO−、−OCOCH2―CH2−、−CH=C(CH3)COO−、−OCOC(CH3)=CH−、−CH2−CH(CH3)COO−、−OCOCH(CH3)―CH2−、−OCH2CH2O−、又は炭素原子数2〜20のアルキレン基を表し、このアルキレン基中の1個又は隣接しない2個以上の−CH2−は−O−、−COO−又は−OCO−で置換されてもよく、ただしKi1が(K−11)の場合はメソゲン基に少なくとも−CH2−CH2COO−、−OCOCH2―CH2−、−CH=C(CH3)COO−、−OCOC(CH3)=CH−、−CH2−CH(CH3)COO−、−OCOCH(CH3)―CH2−、−OCH2CH2O−のいずれか一つを含み、
Aal21及びAa122はそれぞれ独立して、2価の6員環芳香族基又は2価の6員環脂肪族基を表すが、2価の無置換の6員環芳香族基、2価の無置換の6員環脂肪族基又はこれらの環構造中の水素原子は、置換されていないか炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、ハロゲン原子で置換されていていることが好ましく、2価の無置換の6員環芳香族基若しくはこの環構造中の水素原子がフッ素原子で置換された基、又は2価の無置換の6員環脂肪族基が好ましく、置換基上の水素原子が、ハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ基によって置換されていても良い1,4−フェニレン基、2,6−ナフタレン基又は1,4−シクロヘキシル基が好ましいが、少なくとも一つの置換基はPi1−Spi1−で置換されており、
Zi1、Aal21及びAa122がそれぞれ複数存在する場合は、それぞれ互いに同一であっても異なっていてもよく、
Spi1は、好ましくは炭素原子数1〜18の直鎖状アルキレン基又は単結合を表し、より好ましくは炭素原子数2〜15の直鎖状アルキレン基又は単結合を表し、更に好ましくは炭素原子数3〜12の直鎖状アルキレン基又は単結合を表し、
Ral21は、水素原子、炭素原子数1〜20の直鎖又は分岐のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、又はPi1−Spi1−を表し、該アルキル基中の−CH2−は、−O−、−OCO−、又は−COO−が好ましく(ただし−O−は連続にはならない)、より好ましくは、水素原子、炭素原子数1〜18の直鎖又は分岐のアルキル基、又はPi1−Spi1−を表し、該アルキル基中の−CH2−は、−O−、−OCO−(ただし−O−は連続にはならない)を表す。 Wherein Z i1 and Z i2 are each independently a single bond, —CH═CH—, —CF═CF—, —C≡C—, —COO—, —OCO—, —OCOO—, —OOCO. -, - CF 2 O -, - OCF 2 -, - CH = CHCOO -, - OCOCH = CH -, - CH 2 -CH 2 COO -, - OCOCH 2 -CH 2 -, - CH = C (CH 3) COO -, - OCOC (CH 3 ) = CH -, - CH 2 -CH (CH 3) COO -, - OCOCH (CH 3) -CH 2 -, - OCH 2 CH 2 O-, or number of carbon atoms 2 20 represents an alkylene group, and one or two or more non-adjacent —CH 2 — in the alkylene group may be substituted with —O—, —COO— or —OCO—, provided that Ki 1 is (K If -11) at least -CH 2 mesogenic groups CH 2 COO -, - OCOCH 2 -CH 2 -, - CH = C (CH 3) COO -, - OCOC (CH 3) = CH -, - CH 2 -CH (CH 3) COO -, - OCOCH (CH 3 ) including any one of —CH 2 — and —OCH 2 CH 2 O—,
A AL21 and Aa 122 each independently represents a divalent 6-membered ring aromatic group or a divalent 6-membered ring aliphatic group, a divalent unsubstituted 6-membered ring aromatic group, a divalent An unsubstituted 6-membered cycloaliphatic group or a hydrogen atom in these ring structures is unsubstituted or substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom. It is preferable that a divalent unsubstituted 6-membered aromatic group, a group in which a hydrogen atom in the ring structure is substituted with a fluorine atom, or a divalent unsubstituted 6-membered cyclic aliphatic group Preferably, the hydrogen atom on the substituent is preferably a 1,4-phenylene group, a 2,6-naphthalene group or a 1,4-cyclohexyl group, which may be substituted by a halogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, one of the substituents is P i1 -Sp i1 In has been replaced,
If Z i1, A AL21 and Aa 122 is present in plural may each also being the same or different,
Sp i1 preferably represents a linear alkylene group or a single bond having 1 to 18 carbon atoms, more preferably represents a linear alkylene group or a single bond having 2 to 15 carbon atoms, and more preferably a carbon atom. Represents a linear alkylene group of a number 3 to 12 or a single bond,
Ral21 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogenated alkyl group, or P i1 —Sp i1 —, and —CH 2 — in the alkyl group represents —O -, -OCO-, or -COO- is preferable (however, -O- is not continuous), more preferably a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or P i1-. Sp i1 — represents —CH 2 — in the alkyl group represents —O— or —OCO— (wherein —O— is not continuous).
Ki1は、以下の一般式(K−1)〜一般式(K−11)で表される置換基を表し、
miii1は、1〜5の整数を表し、
miii2は、1〜5の整数を表し、
Gi1は、2価、3価、4価のいずれかの分岐構造、又は2価、3価、4価のいずれかの脂肪族又は芳香族の環構造を表し、
miii3は、Gi1の価数より1小さい整数を表す。)
その他、液晶パネルの配向層を無くす手段としては、重合性化合物を含有する液晶組成物を第1の基板及び第2の基板間に充填する際に、当該晶組成物をTni以上の状態で充填し、重合性化合物を含有する液晶組成物に対してUV照射を行い重合性化合物を硬化させる方法などが挙げられる。K i1 represents a substituent represented by the following general formula (K-1) to general formula (K-11),
m iii1 represents an integer of 1 to 5,
m iii2 represents an integer of 1 to 5,
G i1 represents a divalent, trivalent or tetravalent branched structure, or a divalent, trivalent or tetravalent aliphatic or aromatic ring structure;
m iii3 represents an integer smaller than the valence of G i1 . )
In addition, as a means for eliminating the alignment layer of the liquid crystal panel, when the liquid crystal composition containing the polymerizable compound is filled between the first substrate and the second substrate, the crystal composition is filled in a state of Tni or higher. And a method of curing the polymerizable compound by irradiating the liquid crystal composition containing the polymerizable compound with UV.
本実施形態における組成物は、さらに、一般式(Q)で表される化合物を含有することができる。
RQは炭素原子数1から22の直鎖アルキル基又は分岐鎖アルキル基を表し、該アルキル基中の1つ又は2つ以上のCH2基は、酸素原子が直接隣接しないように、−O−、−CH=CH−、−CO−、−OCO−、−COO−、−C≡C−、−CF2O−、−OCF2−で置換されてよいが、炭素原子数1から10の直鎖アルキル基、直鎖アルコキシ基、1つのCH2基が−OCO−又は−COO−に置換された直鎖アルキル基、分岐鎖アルキル基、分岐アルコキシ基、1つのCH2基が−OCO−又は−COO−に置換された分岐鎖アルキル基が好ましく、炭素原子数1から20の直鎖アルキル基、1つのCH2基が−OCO−又は−COO−に置換された直鎖アルキル基、分岐鎖アルキル基、分岐アルコキシ基、1つのCH2基が−OCO−又は−COO−に置換された分岐鎖アルキル基が更に好ましい。MQはトランス−1,4−シクロへキシレン基、1,4−フェニレン基又は単結合を表すが、トランス−1,4−シクロへキシレン基又は1,4−フェニレン基が好ましい。The composition in the present embodiment can further contain a compound represented by the general formula (Q).
R Q represents a linear alkyl group having 1 to 22 carbon atoms or a branched alkyl group, and one or two or more CH 2 groups in the alkyl group are —O—so that the oxygen atom is not directly adjacent to each other. -, - CH = CH -, - CO -, - OCO -, - COO -, - C≡C -, - CF 2 O -, - OCF 2 - may be substituted with, but 1 to 10 carbon atoms Linear alkyl group, linear alkoxy group, linear alkyl group in which one CH 2 group is substituted by —OCO— or —COO—, branched alkyl group, branched alkoxy group, one CH 2 group is —OCO— Or a branched alkyl group substituted with —COO—, a linear alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a linear alkyl group in which one CH 2 group is substituted with —OCO— or —COO—, branched Chain alkyl group, branched alkoxy group, one CH 2 group Is more preferably a branched alkyl group substituted with —OCO— or —COO—. MQ represents a trans-1,4-cyclohexylene group, a 1,4-phenylene group or a single bond, and a trans-1,4-cyclohexylene group or a 1,4-phenylene group is preferable.
一般式(Q)で表される化合物は、より具体的には、下記の一般式(Q−a)から一般式(Q−d)で表される化合物が好ましい。
式中、RQ1は炭素原子数1から10の直鎖アルキル基又は分岐鎖アルキル基が好ましく、RQ2は炭素原子数1から20の直鎖アルキル基又は分岐鎖アルキル基が好ましく、RQ3は炭素原子数1から8の直鎖アルキル基、分岐鎖アルキル基、直鎖アルコキシ基又は分岐鎖アルコキシ基が好ましく、LQは炭素原子数1から8の直鎖アルキレン基又は分岐鎖アルキレン基が好ましい。一般式(Q−a)から一般式(Q−d)で表される化合物中、一般式(Q−c)及び一般式(Q−d)で表される化合物が更に好ましい。In the formula, R Q1 is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R Q2 is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and R Q3 is A straight-chain alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a branched-chain alkyl group, a straight-chain alkoxy group or a branched-chain alkoxy group is preferred, and L Q is preferably a straight-chain alkylene group or branched-chain alkylene group having 1 to 8 carbon atoms. . Of the compounds represented by general formula (Qa) to general formula (Qd), compounds represented by general formula (Qc) and general formula (Qd) are more preferable.
本実施形態の組成物において、一般式(Q)で表される化合物を1種又は2種を含有することが好ましく、1種から5種含有することが更に好ましく、その含有量は0.001から1質量%であることが好ましく、0.001から0.1質量%が更に好ましく、0.001から0.05質量%が特に好ましい。 In the composition of this embodiment, it is preferable to contain 1 type or 2 types of compounds represented by general formula (Q), it is more preferable to contain 1 type to 5 types, and the content is 0.001. Is preferably 1 to 1% by mass, more preferably 0.001 to 0.1% by mass, and particularly preferably 0.001 to 0.05% by mass.
本実施形態の重合性化合物を含有した組成物は、これに含まれる重合性化合物が紫外線照射により重合することで液晶配向能が付与され、組成物の複屈折を利用して光の透過光量を制御する液晶表示素子に使用される。 In the composition containing the polymerizable compound of the present embodiment, the polymerizable compound contained therein is polymerized by ultraviolet irradiation so that liquid crystal alignment ability is imparted, and the amount of transmitted light is increased by utilizing the birefringence of the composition. Used for controlling liquid crystal display elements.
本実施形態の液晶組成物が重合性化合物を含有する場合、重合性化合物を重合させる方法としては、液晶の良好な配向性能を得るためには、適度な重合速度が望ましいので、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を単一又は併用又は順番に照射することによって重合させる方法が好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いても良いし、非偏光光源を用いても良い。また、重合性化合物含有組成物を2枚の基板間に挟持させて状態で重合を行う場合には、少なくとも照射面側の基板は活性エネルギー線に対して適当な透明性が与えられていなければならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させて、更に活性エネルギー線を照射して重合させるという手段を用いても良い。特に紫外線露光する際には、重合性化合物含有組成物に交流電界を印加しながら紫外線露光することが好ましい。印加する交流電界は、周波数10Hzから10kHzの交流が好ましく、周波数60Hzから10kHzがより好ましく、電圧は液晶表示素子の所望のプレチルト角に依存して選ばれる。つまり、印加する電圧により液晶表示素子のプレチルト角を制御することができる。横電界型MVAモードの液晶表示素子においては、配向安定性及びコントラストの観点からプレチルト角を80度から89.9度に制御することが好ましい。 In the case where the liquid crystal composition of the present embodiment contains a polymerizable compound, an appropriate polymerization rate is desirable as a method for polymerizing the polymerizable compound in order to obtain good alignment performance of the liquid crystal. A method of polymerizing by irradiating active energy rays such as single or combined or sequentially. When ultraviolet rays are used, a polarized light source or a non-polarized light source may be used. Further, when the polymerization is carried out in a state where the polymerizable compound-containing composition is sandwiched between two substrates, at least the substrate on the irradiated surface side must be given adequate transparency to the active energy rays. Don't be. Moreover, after polymerizing only a specific part using a mask during light irradiation, the orientation state of the unpolymerized part is changed by changing conditions such as an electric field, a magnetic field, or temperature, and further irradiation with active energy rays is performed. Then, it is possible to use a means for polymerization. In particular, when ultraviolet exposure is performed, it is preferable to perform ultraviolet exposure while applying an alternating electric field to the polymerizable compound-containing composition. The alternating electric field to be applied is preferably an alternating current having a frequency of 10 Hz to 10 kHz, more preferably a frequency of 60 Hz to 10 kHz, and the voltage is selected depending on a desired pretilt angle of the liquid crystal display element. That is, the pretilt angle of the liquid crystal display element can be controlled by the applied voltage. In a horizontal electric field type MVA mode liquid crystal display element, the pretilt angle is preferably controlled from 80 degrees to 89.9 degrees from the viewpoint of alignment stability and contrast.
照射時の温度は、本実施形態の組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。室温に近い温度、すなわち、典型的には15〜35℃での温度で重合させることが好ましい。紫外線を発生させるランプとしては、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ等を用いることができる。また、照射する紫外線の波長としては、組成物の吸収波長領域でない波長領域の紫外線を照射することが好ましく、必要に応じて、紫外線をカットして使用することが好ましい。照射する紫外線の強度は、0.1mW/cm2〜100W/cm2が好ましく、2mW/cm2〜50W/cm2がより好ましい。照射する紫外線のエネルギー量は、適宜調整することができるが、10mJ/cm2から500J/cm2が好ましく、100mJ/cm2から200J/cm2がより好ましい。紫外線を照射する際に、強度を変化させても良い。紫外線を照射する時間は照射する紫外線強度により適宜選択されるが、10秒から3600秒が好ましく、10秒から600秒がより好ましい。The temperature during irradiation is preferably within a temperature range in which the liquid crystal state of the composition of the present embodiment is maintained. Polymerization is preferably performed at a temperature close to room temperature, that is, typically at a temperature of 15 to 35 ° C. As a lamp for generating ultraviolet rays, a metal halide lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, or the like can be used. Moreover, as a wavelength of the ultraviolet rays to irradiate, it is preferable to irradiate ultraviolet rays in a wavelength region other than the absorption wavelength region of the composition, and it is preferable to cut and use the ultraviolet rays as necessary. Intensity of ultraviolet irradiation is preferably from 0.1mW / cm2~100W / cm 2, 2mW / cm 2 ~50W / cm 2 is more preferable. The amount of energy of ultraviolet rays to be irradiated can be adjusted as appropriate, but is preferably 10 mJ / cm 2 to 500 J / cm 2, and more preferably 100 mJ / cm 2 to 200 J / cm 2. When irradiating with ultraviolet rays, the intensity may be changed. The time for irradiating with ultraviolet rays is appropriately selected depending on the intensity of the irradiated ultraviolet rays, but is preferably from 10 seconds to 3600 seconds, and more preferably from 10 seconds to 600 seconds.
本実施形態の好適な液晶表示素子において、第一の基板と、第二の基板との間の液晶組成物と接する面には液晶層5の液晶分子を配向させるため、必要に応じて配向層を設けてもよい。配向層を必要とする液晶表示素子においては、光変換層と液晶層と間に配置するものであるが、配向層の膜厚が厚いものでも100nm以下と薄く、光変換層を構成する発光性ナノ結晶粒子、顔料等の色素と液晶層を構成する液晶化合物との相互作用を完全に遮断するものでは無い。 In the preferred liquid crystal display element of the present embodiment, the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 5 are aligned on the surface in contact with the liquid crystal composition between the first substrate and the second substrate. May be provided. In a liquid crystal display element that requires an alignment layer, it is disposed between the light conversion layer and the liquid crystal layer. Even if the alignment layer is thick, the light emitting property that constitutes the light conversion layer is as thin as 100 nm or less. It does not completely block the interaction between the dye such as nanocrystal particles and pigment and the liquid crystal compound constituting the liquid crystal layer.
また、配向層を用いない液晶表示素子においては、光変換層を構成する発光性ナノ結晶粒子、顔料等の色素と液晶層を構成する液晶化合物との相互作用はより大きくなる。 In a liquid crystal display element that does not use an alignment layer, the interaction between the light-emitting nanocrystal particles constituting the light conversion layer, the pigment such as a pigment, and the liquid crystal compound constituting the liquid crystal layer is further increased.
本実施形態に係る配向層は、ラビング配向層及び光配向層からなる群から選択される少なくとも1種であることが好ましい。ラビング配向層の場合は、特に制限されることは無く、公知のポリイミド系の配向層を好適に使用することができる。 The alignment layer according to this embodiment is preferably at least one selected from the group consisting of a rubbing alignment layer and a photo alignment layer. In the case of a rubbing alignment layer, there is no particular limitation, and a known polyimide-based alignment layer can be suitably used.
当該ラビング配向層材料としては、ポリイミド、ポリアミド、BCB(ペンゾシクロブテンポリマー)、ポリビニルアルコールなどの透明性有機材料を用いることができ、特に、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフエニルメタンなどの脂肪族又は脂環族ジアミン等のジアミン及びブタンテトラカルボン酸無水物や2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸無水物等の脂肪族又は脂環式テトラカルボン酸無水物、ピロメリット酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸無水物から合成されるポリアミック酸をイミド化した、ポリイミド配向層が好ましい。垂直配向層等に使用する場合は配向を付与しないで使用することもできる。 As the rubbing alignment layer material, transparent organic materials such as polyimide, polyamide, BCB (Penzocyclobutene Polymer), polyvinyl alcohol and the like can be used. In particular, p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl. Aliphatic or alicyclic tetracarboxylic acid anhydride such as diamine such as aliphatic or alicyclic diamine such as methane, butanetetracarboxylic acid anhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid anhydride, pyromellitic acid A polyimide alignment layer obtained by imidizing a polyamic acid synthesized from an aromatic tetracarboxylic anhydride such as dianhydride is preferable. When used for a vertical alignment layer or the like, it can also be used without imparting alignment.
本実施形態に係る配向層が光配向層の場合は、光応答性分子を1種以上含むものであればよい。前記光応答性分子は、光に応答して二量化により架橋構造を形成する光応答性二量化型分子、光に応答して異性化し偏光軸に対して略垂直又は平行に配向する光応答性異性化型分子、及び光に応答して高分子鎖が切断する光応答性分解型高分子からなる群から選択される少なくとも1種が好ましく、光応答性異性化型分子が感度、配向規制力の点から特に好ましい。 In the case where the alignment layer according to the present embodiment is a photo-alignment layer, it is sufficient if it includes at least one photoresponsive molecule. The photoresponsive molecule is a photoresponsive dimerization-type molecule that forms a cross-linked structure by dimerization in response to light, a photoresponsiveness that isomerizes in response to light and is oriented substantially perpendicular or parallel to the polarization axis. At least one selected from the group consisting of an isomerized molecule and a photoresponsive decomposable polymer in which a polymer chain is cleaved in response to light is preferred, and the photoresponsive isomerized molecule is sensitive and orientation-regulating. This is particularly preferable.
画像表示素子の他の一実施形態は、第1電極基板及び第2電極基板が対向して設けられる一対の電極基板と、前記第1電極と第2電極と間に設けられたエレクトロルミネッセンス層と、複数の画素からなり、青色の発光スペクトルを有する前記エレクトロルミネッセンス層が発光した光を異なる波長に変換する前記光変換層と、前記第1電極又は前記第2電極と前記光変換層との間に設けられる前記波長選択性透過層と、を有する有機EL表示素子(OLED)である。 Another embodiment of the image display element includes a pair of electrode substrates provided with a first electrode substrate and a second electrode substrate facing each other, an electroluminescence layer provided between the first electrode and the second electrode, The light conversion layer that converts the light emitted from the electroluminescence layer having a blue emission spectrum into a different wavelength, the first electrode or the second electrode, and the light conversion layer. It is an organic EL display element (OLED) which has the wavelength selective transmission layer provided in the.
図21は、画像表示素子(OLED)の一実施形態を示す断面図である。一実施形態に係る画像表示素子(OLED)1000Cは、一対の対向する電極として、第一電極52及び第二電極58を有し、当該電極間にエレクトロルミネッセンス層500を備え、第二電極58のエレクトロルミネッセンス層500と反対側の面上に、波長選択性透過層8A(8)及び光変換層9A(9)をエレクトロルミネッセンス層500側からこの順に備えている。 FIG. 21 is a cross-sectional view showing an embodiment of an image display element (OLED). An image display element (OLED) 1000C according to an embodiment includes a first electrode 52 and a second electrode 58 as a pair of opposing electrodes, and includes an electroluminescence layer 500 between the electrodes. On the surface opposite to the electroluminescence layer 500, a wavelength selective transmission layer 8A (8) and a light conversion layer 9A (9) are provided in this order from the electroluminescence layer 500 side.
エレクトロルミネッセンス層500は、発光層55を少なくとも有していればよく、電子輸送層56、発光層55、正孔輸送層54及び正孔注入層53を有することがより好ましい。エレクトロルミネッセンス層512は、電子注入層57、電子輸送層56、発光層55、正孔輸送層54及び正孔注入層53を有することが好ましい。発光層55と正孔輸送層54との間に、外部量子効率を高め、かつ発光強度を向上するため電子ブロック層(図示せず)を設けてもよい。同様に、発光層55と電子輸送層56との間に、外部量子効率を高め、かつ発光強度を向上するため正孔ブロック層(図示せず)を設けてもよい。 The electroluminescent layer 500 only needs to include at least the light emitting layer 55, and more preferably includes the electron transport layer 56, the light emitting layer 55, the hole transport layer 54, and the hole injection layer 53. The electroluminescence layer 512 preferably includes an electron injection layer 57, an electron transport layer 56, a light emitting layer 55, a hole transport layer 54, and a hole injection layer 53. An electron blocking layer (not shown) may be provided between the light emitting layer 55 and the hole transport layer 54 in order to increase the external quantum efficiency and improve the light emission intensity. Similarly, a hole blocking layer (not shown) may be provided between the light emitting layer 55 and the electron transport layer 56 in order to increase the external quantum efficiency and improve the light emission intensity.
画像表示素子(OLED)1000Cにおいて、エレクトロルミネッセンス層500は、第一電極52に接する正孔注入層53を有し、正孔輸送層54、発光層55及び電子輸送層56が順次積層された構成を有する。 In the image display element (OLED) 1000C, the electroluminescence layer 500 has a hole injection layer 53 in contact with the first electrode 52, and the hole transport layer 54, the light emitting layer 55, and the electron transport layer 56 are sequentially stacked. Have
本実施形態においては、第一電極52を陽極として、第二電極58を陰極として便宜上以下説明するが、画像表示素子(LEDパネル)1000Cの構成はこれに限定されるものではなく、第一電極52を陰極とし、第二電極58を陽極とし、これらの電極間の積層の順序を逆にしてもよい。換言すると、陽極側の第二電極58から、正孔注入層53、正孔輸送層54、必要により設けられる電子ブロック層、発光層55、必要により設けられる正孔ブロック層、電子輸送層56及び電子注入層57の順で積層されていてもよい。 In the present embodiment, the first electrode 52 is used as an anode and the second electrode 58 is used as a cathode for the sake of convenience. However, the configuration of the image display element (LED panel) 1000C is not limited to this, and the first electrode 52 may be a cathode, the second electrode 58 may be an anode, and the stacking order between these electrodes may be reversed. In other words, from the second electrode 58 on the anode side, the hole injection layer 53, the hole transport layer 54, the electron blocking layer provided if necessary, the light emitting layer 55, the hole blocking layer provided if necessary, the electron transport layer 56, and The electron injection layer 57 may be stacked in this order.
光変換層9A(9)及び波長選択性透過層8A(8)は、上述した液晶表示素子における光変換層9及び波長選択性透過層8とそれぞれ同様であってよい。本実施形態では、このような光変換層9A(9)及び波長選択性透過層8A(8)をカラーフィルタの代替部材として用いたことを特徴の一つとしている。 The light conversion layer 9A (9) and the wavelength selective transmission layer 8A (8) may be the same as the light conversion layer 9 and the wavelength selective transmission layer 8 in the above-described liquid crystal display element, respectively. This embodiment is characterized in that such a light conversion layer 9A (9) and a wavelength-selective transmission layer 8A (8) are used as substitute members for a color filter.
この実施形態では、450nm近傍に主ピークを持つ光(青色の発光スペクトルを有する光)がエレクトロルミネッセンス層500により発光される場合、光変換層9A(9)は、当該青色光を青色として利用することができる。そのため、光源であるエレクトロルミネッセンス層500により発光される光が青色光である場合には、前記各色の光変換画素層(NC−Red、NC−Green、NC−Blue)のうち、図21に示すように、光変換画素層(NC−Blue)を省略し、青色はバックライト光をそのまま使用してもよい。この場合、青色を表示する色層は透明樹脂や青色の色材を含む色材層(いわゆる青色カラーフィルタ)(CF−Blue)などによって構成することができる。 In this embodiment, when light having a main peak near 450 nm (light having a blue emission spectrum) is emitted by the electroluminescence layer 500, the light conversion layer 9A (9) uses the blue light as blue. be able to. Therefore, when the light emitted from the electroluminescence layer 500 as a light source is blue light, among the light conversion pixel layers (NC-Red, NC-Green, NC-Blue) of the respective colors, FIG. 21 shows. As described above, the light conversion pixel layer (NC-Blue) may be omitted, and the backlight of blue may be used as it is. In this case, the color layer displaying blue can be constituted by a transparent material or a color material layer (so-called blue color filter) (CF-Blue) containing a blue color material.
赤色の色層R、緑色の色層G及び青色の色層Bには、必要により適宜色材を含んでもよい。発光用ナノ結晶NCを含む層(NCL)には、それぞれの色に対応した色材を含んでも良い。 The red color layer R, the green color layer G, and the blue color layer B may include a color material as necessary. The layer (NCL) containing the nanocrystal NC for light emission may contain a color material corresponding to each color.
以上のことから、図21に示す画像表示素子1000Cにおいて、第一電極52及び第二電極58間に電圧を印加すると、陰極である第二電極58からは電子がエレクトロルミネッセンス層500に注入され、陽極である第一電極52からは正孔がエレクトロルミネッセンス層500に注入されることで電流が流れる。そして、注入された電子及び正孔が再結合することによって、励起子が形成される。これにより発光層55が有する発光材料が励起状態となり、発光材料から発光が得られる。 From the above, in the image display element 1000C shown in FIG. 21, when a voltage is applied between the first electrode 52 and the second electrode 58, electrons are injected from the second electrode 58 serving as the cathode into the electroluminescence layer 500, From the first electrode 52 that is the anode, a current flows as holes are injected into the electroluminescence layer 500. The injected electrons and holes recombine to form excitons. Accordingly, the light emitting material included in the light emitting layer 55 is excited, and light emission is obtained from the light emitting material.
その後、発光層55から発光された光は、電子輸送層56、電子注入層57及び第二電極58を透過し、波長選択性透過層8A(8)で特定の波長領域に選択された光が光変換層9A(9)の面内に入射する。当該光変換層9A(9)内に入射した光は、発光性ナノ結晶粒子に吸収され、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のいずれかに発光スペクトルに変換されることで、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のいずれかの色を表示する。また、光変換層9A(9)は波長選択性透過層8A(8)に隣接されており、透過される特定の波長領域以外の光が反射されるため、発光性ナノ結晶粒子の発光方向を一方向に集束することができる。 Thereafter, the light emitted from the light emitting layer 55 passes through the electron transport layer 56, the electron injection layer 57, and the second electrode 58, and the light selected in the specific wavelength region by the wavelength selective transmission layer 8A (8). Incident in the plane of the light conversion layer 9A (9). The light incident on the light conversion layer 9A (9) is absorbed by the luminescent nanocrystal particles and converted into an emission spectrum into one of red (R), green (G), and blue (B). , Red (R), green (G), or blue (B). In addition, the light conversion layer 9A (9) is adjacent to the wavelength selective transmission layer 8A (8), and light other than the specific wavelength region to be transmitted is reflected. It can be focused in one direction.
なお、エレクトロルミネッセンス層500は、正孔若しくは電子の注入のポテンシャル障壁を低下させる目的、正孔若しくは電子の輸送性を上げる目的、正孔若しくは電子の輸送性を阻害する目的又は電極による消光現象を抑制・防止する目的で、種々の効果を発現する層を、必要により単層又は複数層形成してもよい。 Note that the electroluminescent layer 500 is used for the purpose of lowering the potential barrier of hole or electron injection, the purpose of increasing the transportability of holes or electrons, the purpose of hindering the transportability of holes or electrons, or the quenching phenomenon caused by electrodes. For the purpose of suppressing / preventing, a single layer or a plurality of layers may be formed as necessary to exhibit various effects.
光変換層9A(9)及び波長選択性透過層8A(8)を被覆するように保護膜としてオーバーコート層59を設けてもよく、また必要により、当該オーバーコート層59上にガラスなどの基板60を全面にわたり貼り合わせてもよい。この際、当該オーバーコート層59と基板60との間に必要により、公知の接着層(例えば熱硬化又は紫外線硬化型樹脂)を設けてもよい。発光素子が、光を基板60から表示させるトップエミッション型の場合は、オーバーコート層59、基板60は透明な材料であることが好ましい。一方、ボトムエミッション型の場合は、オーバーコート層59、基板51は特に限定されることはない。 An overcoat layer 59 may be provided as a protective film so as to cover the light conversion layer 9A (9) and the wavelength selective transmission layer 8A (8). If necessary, a substrate such as glass is provided on the overcoat layer 59. 60 may be bonded over the entire surface. At this time, a known adhesive layer (for example, thermosetting or ultraviolet curable resin) may be provided between the overcoat layer 59 and the substrate 60 as necessary. When the light emitting element is a top emission type in which light is displayed from the substrate 60, the overcoat layer 59 and the substrate 60 are preferably made of a transparent material. On the other hand, in the case of the bottom emission type, the overcoat layer 59 and the substrate 51 are not particularly limited.
図21では、第一電極52を基板51上に形成している形態を示しており、当該基板は、第一電極52、エレクトロルミネッセンス層500、第二電極58、光変換層9A(9)及び波長選択性透過層8A(8)を含む積層体を支持する支持体であり、公知のものを使用することができる。 In FIG. 21, the form which has formed the 1st electrode 52 on the board | substrate 51 is shown, and the said board | substrate is the 1st electrode 52, the electroluminescent layer 500, the 2nd electrode 58, 9 A (9) of light conversion layers, and It is a support body which supports the laminated body containing wavelength selective transmission layer 8A (8), A well-known thing can be used.
図21に示す実施形態では、エレクトロルミネッセンス光が有機ELによる光であるが、他の一実施形態では、エレクトロルミネッセンス光が発光性ナノ結晶粒子由来の光であってよく、この場合、画像表示素子はQLEDとも呼ばれる。この場合、エレクトロルミネッセンス層の構成は、発光性ナノ結晶粒子由来のエレクトロルミネッセンス光を発光可能な公知の構成であってよい。 In the embodiment shown in FIG. 21, the electroluminescence light is light from an organic EL, but in another embodiment, the electroluminescence light may be light derived from luminescent nanocrystal particles. In this case, the image display element Is also called QLED. In this case, the configuration of the electroluminescence layer may be a known configuration capable of emitting electroluminescence light derived from the luminescent nanocrystal particles.
以下、例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。実施例において化合物の記載について以下の略号を用いる。なお、nは自然数を表す。 Hereinafter, although an example is given and the present invention is explained still in full detail, the present invention is not limited by these. The following abbreviations are used for the description of compounds in the examples. Note that n represents a natural number.
(側鎖)
−n −CnH2n+1 炭素原子数nの直鎖状のアルキル基
n− CnH2n+1− 炭素原子数nの直鎖状のアルキル基
−On −OCnH2n+1 炭素原子数nの直鎖状のアルコキシル基
nO− CnH2n+1O− 炭素原子数nの直鎖状のアルコキシル基
−V −CH=CH2
V− CH2=CH−
−V1 −CH=CH−CH3
1V− CH3−CH=CH−
−2V −CH2−CH2−CH=CH3
V2− CH2=CH−CH2−CH2−
−2V1 −CH2−CH2−CH=CH−CH3
1V2− CH3−CH=CH−CH2−CH2
(連結基)
−n− −CnH2n−
−nO− −CnH2n−O−
−On− −O−CnH2n−
−COO− −C(=O)−O−
−OCO− −O−C(=O)−
−CF2O− −CF2−O−
−OCF2− −O−CF2−
(環構造)
-N -C n H 2n + 1 linear alkyl group with n carbon atoms n -C n H 2n + 1 -linear alkyl group with n carbon atoms -On -OC n H 2n + 1 linear chain with n carbon atoms Jo alkoxyl group nO- C n H 2n + 1 O- carbon atoms n linear alkoxyl group -V -CH = CH 2
V- CH 2 = CH-
-V1 -CH = CH-CH 3
1V- CH 3 -CH = CH-
-2V -CH 2 -CH 2 -CH = CH 3
V2- CH 2 = CH-CH 2 -CH 2 -
-2V1 -CH 2 -CH 2 -CH = CH -CH 3
1V2- CH 3 -CH = CH-CH 2 -CH 2
(Linking group)
-N- -C n H 2n-
-NO- -C n H 2n -O-
-On- -O-C n H 2n -
-COO- -C (= O) -O-
-OCO- -O-C (= O)-
-CF2O- -CF 2 -O-
-OCF2- -O-CF 2 -
(Ring structure)
実施例中、測定した特性は以下のとおりである。
TNI :ネマチック相−等方性液体相転移温度(℃)
Δn :20℃における屈折率異方性
Δε :20℃における誘電率異方性
η :20℃における粘度(mPa・s)
γ1 :20℃における回転粘度(mPa・s)
K11 :20℃における弾性定数K11(pN)
K33 :20℃における弾性定数K33(pN)
KAVG :K11とK33の平均値(KAVG=(K11+K33)/2)(pN)In the examples, the measured characteristics are as follows.
T NI : Nematic phase-isotropic liquid phase transition temperature (° C.)
Δn: Refractive index anisotropy at 20 ° C. Δε: Dielectric anisotropy at 20 ° C. η: Viscosity at 20 ° C. (mPa · s)
γ 1 : rotational viscosity at 20 ° C. (mPa · s)
K 11 : elastic constant K 11 (pN) at 20 ° C.
K 33 : Elastic constant at 20 ° C. K 33 (pN)
K AVG : Average value of K 11 and K 33 (K AVG = (K 11 + K 33 ) / 2) (pN)
VHR測定
(周波数60Hz,印加電圧1Vの条件下で333Kにおける電圧保持率(%))
450nmに主発光ピークを有するLED耐光試験:
2万cd/m2の450nmに主発光ピークを有する可視光LED光源で1週間暴露する前と後のVHRを測定した。
385nmに主発光ピークを有するLED耐光試験:
385nmをピークにもつ単色LEDで60秒130J照射する前と後のVHRを測定した。VHR measurement (voltage holding ratio (%) at 333K under conditions of frequency 60Hz and applied voltage 1V)
LED light resistance test with main emission peak at 450 nm:
VHR before and after exposure for 1 week with a visible light LED light source having a main emission peak at 450 nm of 20,000 cd / m 2 was measured.
LED light resistance test with main emission peak at 385 nm:
The VHR before and after irradiation with 130 J for 60 seconds was measured with a monochromatic LED having a peak at 385 nm.
<光変換フィルムの作製>
「発光性ナノ結晶粒子の作製」
下記の発光性ナノ結晶粒子を製造する操作、及びインクを製造する操作は、窒素で満たしたグローブボックス内、又は、大気を遮断し窒素気流下のフラスコ内で行った。
また以下で例示するすべての原料は、その容器内の大気を、容器内に窒素ガスを導入して窒素ガスにあらかじめ置換しておき用いた。なお、液体材料に関しては、液体に窒素ガスを導入して溶存酸素を窒素ガスに置換し用いた。酸化チタンについては使用前に、1mmHgの減圧下、2時間、120℃で加熱し、窒素ガス雰囲気下で放冷した。
また、以下で用いる、有機溶剤及び液体材料は、10mlにつき、窒素雰囲気下、関東化学(株)モレキュラーシーブ 3Aを1gの割合で加えて、48時間以上脱水、乾燥させたものを用いた。<Production of light conversion film>
"Production of luminescent nanocrystal particles"
The operation for producing the following luminescent nanocrystal particles and the operation for producing the ink were carried out in a glove box filled with nitrogen or in a flask under a nitrogen stream with the atmosphere shut off.
In addition, all the raw materials exemplified below were used by previously replacing the atmosphere in the container with nitrogen gas by introducing nitrogen gas into the container. As for the liquid material, nitrogen gas was introduced into the liquid and dissolved oxygen was replaced with nitrogen gas. Titanium oxide was heated at 120 ° C. under reduced pressure of 1 mmHg for 2 hours and allowed to cool in a nitrogen gas atmosphere before use.
In addition, the organic solvent and the liquid material used below were dehydrated and dried for 48 hours or more by adding 1 g of Kanto Chemical Co., Ltd. Molecular Sieve 3A in a nitrogen atmosphere at a rate of 10 g.
〔赤色発光性ナノ結晶粒子の製造〕
1000mlのフラスコに酢酸インジウム17.48g、トリオクチルホスフィンオキサイド25.0g、ラウリン酸35.98gを仕込み、窒素ガスでバブリングしながら160℃で40分撹拌した。更に250℃で20分間撹拌した後、300℃まで加熱して撹拌を続けた。グローブボックス内でトリス(トリメチルシリル)ホスフィン4.0gをトリオクチルホスフィン15.0gに溶解させた後、ガラス注射器に充填した。これを300℃に加熱した前記のフラスコ中に注入し、250℃で10分間反応させた。さらにグローブボックス内でトリス(トリメチルシリル)ホスフィン7.5gをトリオクチルホスフィン30.0gに溶解させた混合液5mlを上記反応溶液に12分間で滴下し、その後、使い切るまで15分間隔で5mlずつ反応溶液に加えた。
別の三口フラスコにて酢酸インジウム5.595g、トリオクチルホスフィンオキシド10.0g、ラウリン酸11.515gを仕込み、窒素ガスでバブリングしながら160℃で40分撹拌した。更に250℃で20分間撹拌、300℃まで加熱した後、70℃まで冷却した混合溶液を上記反応溶液に加えた。グローブボックス内でトリス(トリメチルシリル)ホスフィン4.0gをトリオクチルホスフィン15.0gに溶解させた混合液5mlを再度、上記反応溶液に12分間で滴下し、その後、使い切るまで15分間隔で5mlずつ反応溶液に加えた。1時間攪拌を維持、室温まで冷却した後、トルエン100mlとエタノール400mlを加えて微粒子を凝集させた。遠心分離機を用いて微粒子を沈殿させた後、上澄み液を廃棄し、沈殿した微粒子をトリオクチルホスフィンに溶解させる事によりリン化インジウム(InP)赤色発光性ナノ結晶粒子のトリオクチルホスフィン溶液を得た。[Production of red light-emitting nanocrystal particles]
A 1000 ml flask was charged with 17.48 g of indium acetate, 25.0 g of trioctylphosphine oxide, and 35.98 g of lauric acid, and stirred at 160 ° C. for 40 minutes while bubbling with nitrogen gas. The mixture was further stirred at 250 ° C. for 20 minutes and then heated to 300 ° C. to continue stirring. In a glove box, 4.0 g of tris (trimethylsilyl) phosphine was dissolved in 15.0 g of trioctylphosphine and then filled into a glass syringe. This was poured into the flask heated to 300 ° C. and reacted at 250 ° C. for 10 minutes. Further, 5 ml of a mixed solution in which 7.5 g of tris (trimethylsilyl) phosphine was dissolved in 30.0 g of trioctylphosphine was dropped into the above reaction solution over 12 minutes in the glove box, and then 5 ml of the reaction solution at 15 minute intervals until it was used up. Added to.
In a separate three-necked flask, 5.595 g of indium acetate, 10.0 g of trioctylphosphine oxide, and 11.515 g of lauric acid were charged and stirred at 160 ° C. for 40 minutes while bubbling with nitrogen gas. The mixture was further stirred at 250 ° C. for 20 minutes and heated to 300 ° C., and then the mixed solution cooled to 70 ° C. was added to the reaction solution. In a glove box, 5 ml of a mixed solution in which 4.0 g of tris (trimethylsilyl) phosphine was dissolved in 15.0 g of trioctylphosphine was dropped again into the above reaction solution over 12 minutes, and then 5 ml was reacted at 15 minute intervals until used up. Added to the solution. After stirring for 1 hour and cooling to room temperature, 100 ml of toluene and 400 ml of ethanol were added to aggregate the fine particles. After precipitating fine particles using a centrifuge, the supernatant is discarded, and the precipitated fine particles are dissolved in trioctylphosphine to obtain a trioctylphosphine solution of indium phosphide (InP) red light emitting nanocrystalline particles. It was.
〔緑色発光性ナノ結晶粒子の製造〕
1000mlのフラスコに酢酸インジウム23.3g、トリオクチルホスフィンオキサイド40.0g、ラウリン酸48.0gを仕込み、窒素ガスでバブリングしながら160℃で40分撹拌した。更に250℃で20分間撹拌した後、300℃まで加熱して撹拌を続けた。グローブボックス内でトリス(トリメチルシリル)ホスフィン10.0gをトリオクチルホスフィン30.0gに溶解させた後、ガラス注射器に充填した。これを300℃に加熱した前記のフラスコ中に注入し、250℃で5分間反応させた。フラスコを室温まで冷却し、トルエン100mlとエタノール400mlを加えて微粒子を凝集させた。遠心分離機を用いて微粒子を沈殿させた後、上澄み液を廃棄し、沈殿した微粒子をトリオクチルホスフィンに溶解させる事によりリン化インジウム(InP)緑色発光性ナノ結晶粒子のトリオクチルホスフィン溶液を得た。[Production of green light-emitting nanocrystal particles]
A 1000 ml flask was charged with 23.3 g of indium acetate, 40.0 g of trioctylphosphine oxide, and 48.0 g of lauric acid, and stirred at 160 ° C. for 40 minutes while bubbling with nitrogen gas. The mixture was further stirred at 250 ° C. for 20 minutes and then heated to 300 ° C. to continue stirring. In a glove box, 10.0 g of tris (trimethylsilyl) phosphine was dissolved in 30.0 g of trioctylphosphine and then filled into a glass syringe. This was poured into the flask heated to 300 ° C. and reacted at 250 ° C. for 5 minutes. The flask was cooled to room temperature, and 100 ml of toluene and 400 ml of ethanol were added to aggregate the fine particles. After precipitating fine particles using a centrifuge, the supernatant is discarded, and the precipitated fine particles are dissolved in trioctylphosphine to obtain a trioctylphosphine solution of indium phosphide (InP) green light-emitting nanocrystal particles. It was.
〔InP/ZnSコアシェルナノ結晶の製造〕
上記にて合成したリン化インジウム(InP)赤色発光性ナノ結晶粒子のトリオクチルホスフィン溶液においてInP3.6g、トリオクチルホスフィン90gに調整した後、1000mlのフラスコに投入し、さらにトリオクチルホスフィンオキシド90g、ラウリン酸30gを加える。一方、グローブボックス内でジエチル亜鉛の1Mヘキサン溶液42.9ml、ビストリメチルシリルスルフィドのトリオクチルホスフィン9.09重量%溶液92.49gをトリオクチルホスフィン162g混合する事でストックソリューションを作製した。フラスコ内を窒素雰囲気に置換した後、フラスコの温度を180℃に設定し、80℃に達した時点で上記ストックソリューション15mlを添加し、その後10分ごとに15mlを添加し続けた。(フラスコ温度は180℃に維持)。最後の添加が終了後、さらに10分間温度を維持する事で反応を終了させた。反応終了後、溶液を常温まで冷却させ、トルエン500mlとエタノール2000mlを加えてナノ結晶を凝集させた。遠心分離機を用い、ナノ結晶を沈殿した後、上澄み液を廃棄し、溶液中のナノ結晶濃度が20質量%となる様、沈殿物を再度クロロホルムに溶解させる事により、InP/ZnSコアシェルナノ結晶(赤色発光性)のクロロホルム溶液(QD分散液1)を得た。
また、リン化インジウム(InP)赤色発光性ナノ結晶粒子の代わりに、前記のリン化インジウム(InP)緑色発光性ナノ結晶粒子を用い、InP/ZnSコアシェルナノ結晶(緑色発光性)のクロロホルム溶液(QD分散液2)を得た。[Production of InP / ZnS core-shell nanocrystals]
After adjusting to 3.6 g of InP and 90 g of trioctylphosphine in the trioctylphosphine solution of the indium phosphide (InP) red-emitting nanocrystal particles synthesized above, the mixture was put into a 1000 ml flask, and further 90 g of trioctylphosphine oxide. Add 30 g of lauric acid. On the other hand, a stock solution was prepared by mixing 162 g of trioctylphosphine with 42.9 ml of 1M hexane solution of diethylzinc and 92.49 g of a 9.09 wt% solution of bistrimethylsilyl sulfide in a glove box. After replacing the inside of the flask with a nitrogen atmosphere, the temperature of the flask was set at 180 ° C., and when the temperature reached 80 ° C., 15 ml of the stock solution was added, and then 15 ml was continuously added every 10 minutes. (Flask temperature is maintained at 180 ° C.). After the last addition was completed, the reaction was terminated by maintaining the temperature for another 10 minutes. After completion of the reaction, the solution was cooled to room temperature, and 500 ml of toluene and 2000 ml of ethanol were added to aggregate the nanocrystals. After the nanocrystals are precipitated using a centrifuge, the supernatant is discarded, and the precipitate is dissolved again in chloroform so that the nanocrystal concentration in the solution is 20% by mass, whereby InP / ZnS core-shell nanocrystals are dissolved. A chloroform solution (QD dispersion 1) of (red light emitting) was obtained.
Further, instead of indium phosphide (InP) red light emitting nanocrystal particles, the above indium phosphide (InP) green light emitting nanocrystal particles are used, and a chloroform solution of InP / ZnS core-shell nanocrystals (green light emitting) ( A QD dispersion 2) was obtained.
〔QDのリガンド交換〕
特開2002―121549(三菱化学(株)の公開特許公報)を参考にして3−メルカプトプロパン酸のトリエチレングリコールモノメチルエーテルエステル(トリエチレングリコールモノメチルエーテルメルカプトプロピオネート)(TEGMEMP)を合成し、減圧乾燥した。
窒素ガスで満たした容器内で、QD分散液1(上記のInP/ZnSコアシェルナノ結晶(赤色発光性)を含む)と、上記で合成したTEGMEMP8gを溶解したクロロホルム溶液80gを混合して80℃で2時間撹拌することでリガンド交換を行い、室温まで冷却した。
その後、減圧下40℃で撹拌しながらトルエン/クロロホルムを蒸発させ、液量が100mlになるまで濃縮した。この分散液に4倍重量のn−ヘキサンを加えてQDを凝集させ、遠心分離とデカンテーションによって上澄み液を除いた。沈殿物に50gのトルエンを加えて超音波で再分散させた。この洗浄操作を計3回行い、液中に残存する遊離しているリガンド成分を除去した。デカンテーション後の沈殿物を室温で2時間真空乾燥してTEGMEMPで修飾されたQD(QD−TEGMEMP)の粉体2gを得た。[QD ligand exchange]
By referring to JP-A No. 2002-121549 (published patent publication of Mitsubishi Chemical Corporation), triethylene glycol monomethyl ether ester (triethylene glycol monomethyl ether mercaptopropionate) (TEGMEMP) of 3-mercaptopropanoic acid was synthesized, Dry under reduced pressure.
In a container filled with nitrogen gas, QD dispersion 1 (including the above InP / ZnS core-shell nanocrystals (red light emitting property)) and 80 g of a chloroform solution in which 8 g of TEGMEMP synthesized above were mixed were mixed at 80 ° C. Ligand exchange was performed by stirring for 2 hours, and then cooled to room temperature.
Thereafter, toluene / chloroform was evaporated while stirring at 40 ° C. under reduced pressure, and the solution was concentrated until the liquid volume became 100 ml. Four times the weight of n-hexane was added to this dispersion to aggregate QD, and the supernatant was removed by centrifugation and decantation. 50 g of toluene was added to the precipitate and redispersed with ultrasound. This washing operation was performed three times in total to remove the free ligand component remaining in the solution. The precipitate after decantation was vacuum-dried at room temperature for 2 hours to obtain 2 g of QD (QD-TEGMEMP) powder modified with TEGMEMMP.
「インク組成物の作製」
〔酸化チタン分散液の調製〕
窒素ガスで満たした容器内で、酸化チタン6gと、高分子分散剤1.01gと、1,4−ブタンジオールジアセテートとを不揮発分40%となるように混合した。窒素ガスで満たした容器内の配合物にジルコニアビーズ(直径:1.25mm)を加えた後、窒素ガスで満たした密閉容器をペイントコンディショナーを用いて2時間振とうさせることで配合物の分散処理を行った。これにより光散乱性粒子分散体1を得た。上記の材料は全て、窒素ガスを導入して溶存酸素を窒素ガスに置換したものを用いた。"Preparation of ink composition"
[Preparation of titanium oxide dispersion]
In a container filled with nitrogen gas, 6 g of titanium oxide, 1.01 g of a polymer dispersant, and 1,4-butanediol diacetate were mixed so as to have a nonvolatile content of 40%. Dispersion of the compound by adding zirconia beads (diameter: 1.25 mm) to the compound in the container filled with nitrogen gas and then shaking the sealed container filled with nitrogen gas for 2 hours using a paint conditioner Went. Thereby, the light scattering particle dispersion 1 was obtained. All of the above materials were those in which nitrogen gas was introduced and dissolved oxygen was replaced with nitrogen gas.
〔インク組成物1の調製〕
窒素ガスで満たした容器内で、以下の(1)、(2)及び(3)を均一に混合した後、グローブボックス内で、混合物を孔径5μmのフィルタでろ過、更に窒素ガスをインク内に導入し窒素ガスを飽和させた。次いで減圧して窒素ガスを除去することにより、インク組成物を得た。こうして、脱酸素処理された、水分を実質的に含有していない、最終インク組成物1を得た。[Preparation of Ink Composition 1]
After uniformly mixing the following (1), (2) and (3) in a container filled with nitrogen gas, the mixture is filtered with a filter having a pore size of 5 μm in the glove box, and further nitrogen gas is put into the ink. The nitrogen gas was introduced and saturated. Subsequently, the ink composition was obtained by removing nitrogen gas under reduced pressure. In this way, a final ink composition 1 that was deoxygenated and substantially free of moisture was obtained.
なお、使用した材料は以下である。
[光散乱性粒子]
・酸化チタン:MPT141(石原産業(株)製)
[熱硬化系樹脂]
・グリシジル基含有固形アクリル樹脂:「ファインディックA−254」
(DIC(株)製、エポキシ当量500)
[高分子分散剤]
・高分子分散剤:BYK−2164
(BYK社製の商品名、「DISPERBYK」は登録商標)
[有機溶剤]
・1,4−ブタンジオールジアセテート ((株)ダイセル製)The materials used are as follows.
[Light scattering particles]
・ Titanium oxide: MPT141 (Ishihara Sangyo Co., Ltd.)
[Thermosetting resin]
・ Glycidyl group-containing solid acrylic resin: “Fine Dick A-254”
(DIC Corporation, epoxy equivalent 500)
[Polymer dispersant]
・ Polymer dispersant: BYK-2164
(Product name by BYK, “DISPERBYK” is a registered trademark)
[Organic solvent]
・ 1,4-Butanediol diacetate (manufactured by Daicel Corporation)
(1)上記で調製したQD−TEGMEMPに、有機溶剤1,4−ブタンジオールジアセテートを混合し不揮発分30%としたQD−TEGMEMP分散液1(上記のInP/ZnSコアシェルナノ結晶(赤色発光性)を含む):22.5g
(2)熱硬化系樹脂:DIC(株)製「ファインディックA−254」(6.28g)と、硬化剤:1−メチルシクロヘキサン−4,5−ジカルボン酸無水物(1.05g)と、硬化促進剤:ジメチルベンジルアミン(0.08g)とを、有機溶剤:1、4−ブタンジオールジアセテートに不揮発分30%となるように溶解した、熱硬化性樹脂溶液:12.5g
(3)前記光散乱性粒子分散体1:7.5g
酸化チタンについては、混合前に、1mmHgの減圧下、2時間、120℃で加熱し、窒素ガス雰囲気下で放冷した。(1) QD-TEGMEMMP dispersion 1 (the above-mentioned InP / ZnS core-shell nanocrystals (red light emitting properties) in which the organic solvent 1,4-butanediol diacetate was mixed with the QD-TEGMEMMP prepared above to make the nonvolatile content 30% )): 22.5g
(2) Thermosetting resin: “Fine Dick A-254” (6.28 g) manufactured by DIC Corporation, curing agent: 1-methylcyclohexane-4,5-dicarboxylic acid anhydride (1.05 g), Curing accelerator: dimethylbenzylamine (0.08 g) dissolved in organic solvent: 1,4-butanediol diacetate so as to have a nonvolatile content of 30%: 12.5 g of thermosetting resin solution
(3) Light scattering particle dispersion 1: 7.5 g
Titanium oxide was heated at 120 ° C. for 2 hours under a reduced pressure of 1 mmHg before mixing and allowed to cool in a nitrogen gas atmosphere.
〔インク組成物2の調製〕
QD分散液1の代わりに、QD分散液2(上記のInP/ZnSコアシェルナノ結晶(緑色発光性)を含む)を用い、インク組成物1と同様にしてインク組成物2を得た。[Preparation of Ink Composition 2]
An ink composition 2 was obtained in the same manner as the ink composition 1 using the QD dispersion 2 (including the InP / ZnS core-shell nanocrystal (green light emitting property)) instead of the QD dispersion 1.
〔インク組成物3の調製〕
前記(1)のQD−TEGMEMP分散液1の代わりに、(1)として1,4−ブタンジオールジアセテートを用い、インク組成物1と同様にしてインク組成物3を得た。[Preparation of ink composition 3]
Ink composition 3 was obtained in the same manner as ink composition 1, using 1,4-butanediol diacetate as (1) instead of QD-TEGMEM dispersion 1 in (1).
〔インク組成物4の調製〕
Y138(BASF株式会社製)0.50質量部を塩化ナトリウム1.50質量部、ジエチレングリコール0.75質量部とともに磨砕した。その後、この混合物を600質量部の温水に投じ、1時間攪拌した。水不溶分をろ過分離して温水でよく洗浄した後、90℃で送風乾燥して顔料化を行った。顔料の粒子系は、100nm以下、粒子の平均長さ/幅比は3.00未満であった。得られたキノフタロン化合物の黄色顔料を用いて以下の分散試験及びカラーフィルタ評価試験を行った。
上記方法で顔料化したY138(BASF株式会社製)0.660質量部をガラス瓶に入れ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート6.42質量部、DISPERBYK(登録商標)LPN−6919(ビックケミー株式会社社製)0.467質量部、DIC株式会社製アクリル樹脂溶液ユニディック(登録商標)ZL−295 0.700質量部、0.3−0.4mmφセプルビーズ22.0質量部を加え、ペイントコンディショナー(東洋精機株式会社製)で4時間分散し、顔料分散体を得た。さらに、得られた顔料分散体2.00質量部、DIC株式会社製アクリル樹脂溶液ユニディック(登録商標)ZL−295 0.490質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート0.110質量部をガラス瓶に入れ、インク組成物4を作製した。[Preparation of Ink Composition 4]
0.50 parts by mass of Y138 (manufactured by BASF Corporation) was ground together with 1.50 parts by mass of sodium chloride and 0.75 parts by mass of diethylene glycol. Thereafter, this mixture was poured into 600 parts by mass of warm water and stirred for 1 hour. The water-insoluble matter was separated by filtration and washed well with warm water, and then air-dried at 90 ° C. for pigmentation. The pigment particle system was 100 nm or less, and the average length / width ratio of the particles was less than 3.00. The following dispersion test and color filter evaluation test were performed using the yellow pigment of the obtained quinophthalone compound.
0.660 parts by mass of Y138 (manufactured by BASF Corporation) pigmented by the above method is put in a glass bottle, 6.42 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate, DISPERBYK (registered trademark) LPN-6919 (manufactured by BYK Chemie Corporation) 0 467 parts by mass, DIC Corporation acrylic resin solution Unidic (registered trademark) ZL-295 0.700 parts by mass, 0.3-0.4 mmφ Sepul beads 22.0 parts by mass, paint conditioner (Toyo Seiki Co., Ltd.) For 4 hours to obtain a pigment dispersion. Furthermore, 2.00 parts by mass of the obtained pigment dispersion, 0.490 parts by mass of acrylic resin solution Unidic (registered trademark) ZL-295 manufactured by DIC Corporation, and 0.110 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate are put in a glass bottle. Ink composition 4 was produced.
「光変換層の作製」
上記で得られたインク組成物1、2を、それぞれガラス基板(支持基板)上に、乾燥後の膜厚が3.5μmとなるように、スピンコーターにて窒素を満たしたグローブボックス中で塗布した。塗布膜を180℃に窒素中で加熱して硬化させて、ガラス基板上にインク組成物の硬化物からなる層(光変換層)として、赤色発光性の光変換層(1)と緑色発光性の光変換層(2)とをそれぞれ形成した。"Production of light conversion layer"
The ink compositions 1 and 2 obtained above were each applied on a glass substrate (support substrate) in a glove box filled with nitrogen with a spin coater so that the film thickness after drying was 3.5 μm. did. The coating film is cured by heating to 180 ° C. in nitrogen, and a red light-emitting light conversion layer (1) and a green light-emitting layer are formed on the glass substrate as a layer (light conversion layer) made of a cured product of the ink composition. Each of the light conversion layers (2) was formed.
「波長選択性透過層の形成」
(コレステリック液晶層の波長選択性透過層)
[重合性液晶組成物の調製]
以下のコレステリック液晶層は、以下の式(A−1)〜式(A−4)及び式(B−1)〜式(B−9)で表される重合性液晶性化合物からなる群から選択される1種又は2種以上の化合物との合計量100質量部に対し、式(C−1)〜式(C−3)で表される重合性キラル化合物からなる群から選択される1種又は2種以上の化合物と、式(D−1)〜式(D−6)で表される重合開始剤からなる群から選択される1種又は2種以上の化合物と、重合禁止剤として(E−1)、界面活性剤として(F−1)、溶剤として(I−1)〜(I−3)又はこれらの混合、配向制御剤(H−1)をそれぞれ、適宜配合し重合性液晶組成物を調製した。
具体的には、式(A−1)で表される化合物9質量部、式(A−2)で表される化合物4質量部、式(B−3)で表される化合物12質量部、式(B−9)で表される化合物75質量部の合計値100質量部に対して、式(C−3)で表される化合物4.6質量部と、(D−4)を6質量部と、(E−1)を0.1質量部と、固形分が30%になるよう有機溶剤である(G−1)とを添加し、攪拌プロペラを有する攪拌装置を使用し、攪拌速度が500rpm、溶液温度が60℃の条件下で15分攪拌後、0.2μmのメンブランフィルタで濾過して重合性液晶組成物(1)を得た。"Formation of wavelength selective transmission layer"
(Wavelength selective transmission layer of cholesteric liquid crystal layer)
[Preparation of polymerizable liquid crystal composition]
The following cholesteric liquid crystal layers are selected from the group consisting of polymerizable liquid crystal compounds represented by the following formulas (A-1) to (A-4) and formulas (B-1) to (B-9). One selected from the group consisting of polymerizable chiral compounds represented by formula (C-1) to formula (C-3) with respect to 100 parts by mass of the total amount of one or two or more compounds Or two or more compounds and one or more compounds selected from the group consisting of polymerization initiators represented by formulas (D-1) to (D-6) and a polymerization inhibitor ( E-1), (F-1) as a surfactant, (I-1) to (I-3) as a solvent, or a mixture thereof, and an alignment controller (H-1), respectively, are appropriately blended to form a polymerizable liquid crystal. A composition was prepared.
Specifically, 9 parts by mass of the compound represented by the formula (A-1), 4 parts by mass of the compound represented by the formula (A-2), 12 parts by mass of the compound represented by the formula (B-3), For 100 parts by mass of the total value of 75 parts by mass of the compound represented by formula (B-9), 4.6 parts by mass of compound represented by formula (C-3) and 6 parts by mass of (D-4) Part, 0.1 part by mass of (E-1), and (G-1) which is an organic solvent so that the solid content is 30%, and using a stirrer having a stirring propeller, stirring speed Was stirred for 15 minutes under conditions of 500 rpm and a solution temperature of 60 ° C., and then filtered through a 0.2 μm membrane filter to obtain a polymerizable liquid crystal composition (1).
同様に以下の表1−1〜表1−5で示す組成比で重合性液晶組成物(2)〜(17)を調製し、別途上記と同様の方法でλ/2波長板に使用する組成物(10)も調製した。 Similarly, polymerizable liquid crystal compositions (2) to (17) were prepared at the composition ratios shown in Table 1-1 to Table 1-5 below, and separately used for the λ / 2 wavelength plate in the same manner as described above. A product (10) was also prepared.
以下、実施例で使用した重合性液晶組成物(1)〜(17)の組成表を以下に示す。 Hereinafter, the composition table of the polymerizable liquid crystal compositions (1) to (17) used in the examples is shown below.
重合禁止剤:4−メトキシフェノール(MEHQ)(E−1)
界面活性剤:BYK−352(ビック・ケミー社製)(F−1)
配向制御剤:ポリプロピレン(H−1)
溶剤:トルエン(I−1)、メチルエチルケトン(I−2)、シクロペンタノン(I−3)Polymerization inhibitor: 4-methoxyphenol (MEHQ) (E-1)
Surfactant: BYK-352 (manufactured by Big Chemie) (F-1)
Orientation control agent: Polypropylene (H-1)
Solvent: Toluene (I-1), Methyl ethyl ketone (I-2), Cyclopentanone (I-3)
[コレステリック液晶層の形成]
(実施例1)
調製した重合性液晶組成物(11)をラビングした前記緑色発光性の光変換層(2)上に、室温(25℃)で800rpmの回転速度で15秒間スピンコート法により塗布し、60℃で2分乾燥後、25℃で1分放置した後に高圧水銀ランプを使用してUVAの最大照度が300mW/cm2のUV光を420mJ/cm2照射することにより、右巻のコレステリック液晶層(11)を前記緑色発光性の光変換層(2)上に形成した。更に、形成した右巻のコレステリック液晶層(11)の表面をラビンング処理した後、調製した重合性液晶組成物(10)を室温(25℃)で800rpmの回転速度で15秒間スピンコート法により塗布し、60℃で2分乾燥後、25℃で1分放置した後に高圧水銀ランプを使用してUVAの最大照度が300mW/cm2のUV光を420mJ/cm2照射することにより、λ/2層を前記右巻のコレステリック層(11)上に形成した。さらに、調製した重合性液晶組成物(11)を同様の方法でλ/2層上に塗布し、60℃で2分乾燥後、25℃で1分放置した後に高圧水銀ランプを使用してUVAの最大照度が300mW/cm2のUV光を420mJ/cm2照射することにより、右巻のコレステリック液晶層(11)を前記λ/2層上に形成して、支持基板−緑色発光性の光変換層(2)−右巻のコレステリック液晶層(11)−λ/2層−右巻のコレステリック液晶層(11)の積層体である光変換フィルム(1)を作成した。当該光変換フィルム(1)の選択反射波長の中心値(λ)は、550nmであった。[Formation of cholesteric liquid crystal layer]
(Example 1)
On the green light-emitting light conversion layer (2) rubbed with the prepared polymerizable liquid crystal composition (11), it was applied by spin coating at room temperature (25 ° C.) at a rotation speed of 800 rpm for 15 seconds, and at 60 ° C. After drying for 2 minutes and leaving at 25 ° C. for 1 minute, using a high-pressure mercury lamp, UV light having a maximum UVA illuminance of 300 mW / cm 2 is irradiated to 420 mJ / cm 2, whereby a right-handed cholesteric liquid crystal layer (11 ) Was formed on the green light-emitting light conversion layer (2). Further, after the surface of the formed right-handed cholesteric liquid crystal layer (11) was subjected to a rubbing treatment, the prepared polymerizable liquid crystal composition (10) was applied at room temperature (25 ° C.) at a rotational speed of 800 rpm by a spin coating method for 15 seconds. Then, after drying at 60 ° C. for 2 minutes and leaving at 25 ° C. for 1 minute, using a high pressure mercury lamp, UVA having a maximum illuminance of 300 mW / cm 2 is irradiated with 420 mJ / cm 2 to obtain λ / 2 A layer was formed on the right-handed cholesteric layer (11). Further, the prepared polymerizable liquid crystal composition (11) was coated on the λ / 2 layer by the same method, dried at 60 ° C. for 2 minutes, and allowed to stand at 25 ° C. for 1 minute, and then UVA using a high pressure mercury lamp. maximum illuminance by 420 mJ / cm 2 UV light of 300 mW / cm 2 of forming a cholesteric liquid crystal layer of the right winding (11) to the lambda / 2 layer on a supporting substrate - green-emitting light The light conversion film (1) which is a laminated body of the conversion layer (2) -right-handed cholesteric liquid crystal layer (11)-(lambda) / 2 layer-right-handed cholesteric liquid crystal layer (11) was created. The central value (λ) of the selective reflection wavelength of the light conversion film (1) was 550 nm.
(実施例2)
重合性液晶組成物(11)の代わりに重合性液晶組成物(8)を用い、実施例1と同様にして支持基板−緑色発光性の光変換層(2)−右巻のコレステリック液晶層(8)−λ/2層−右巻のコレステリック液晶層(8)の積層体である光変換フィルム(2)を作成した。当該光変換フィルム(2)の選択反射波長の中心値(λ)は、570nmであった。(Example 2)
Instead of the polymerizable liquid crystal composition (11), the polymerizable liquid crystal composition (8) was used, and in the same manner as in Example 1, a support substrate-green light-emitting light conversion layer (2) -right-handed cholesteric liquid crystal layer ( 8) A light conversion film (2) which is a laminate of -λ / 2 layer-right-handed cholesteric liquid crystal layer (8) was prepared. The central value (λ) of the selective reflection wavelength of the light conversion film (2) was 570 nm.
(実施例3)
調製した重合性液晶組成物(4)をラビングした前記赤色発光性の光変換層(1)上に、室温(25℃)で800rpmの回転速度で15秒間スピンコート法により塗布し、60℃で2分乾燥後、25℃で1分放置した後に高圧水銀ランプを使用してUVAの最大照度が300mW/cm2のUV光を420mJ/cm2照射することにより、右巻のコレステリック液晶層(4)を前記赤色発光性の光変換層(1)上に形成した。更に、形成した右巻のコレステリック液晶層(4)の表面をラビンング処理した後、調製した重合性液晶組成物(10)を室温(25℃)で800rpmの回転速度で15秒間スピンコート法により塗布し、60℃で2分乾燥後、25℃で1分放置した後に高圧水銀ランプを使用してUVAの最大照度が300mW/cm2のUV光を420mJ/cm2照射することにより、λ/2層を前記右巻のコレステリック層(4)上に形成した。さらに、調製した重合性液晶組成物(4)を同様の方法でλ/2層上に塗布し、60℃で2分乾燥後、25℃で1分放置した後に高圧水銀ランプを使用してUVAの最大照度が300mW/cm2のUV光を420mJ/cm2照射することにより、右巻のコレステリック液晶層(4)を前記λ/2層上に形成して、支持基板−赤色発光性の光変換層(1)−右巻のコレステリック液晶層(4)−λ/2層−右巻のコレステリック液晶層(4)の積層体である光変換フィルム(3)を作成した。当該光変換フィルム(3)の選択反射波長の中心値(λ)は、630nmであった。(Example 3)
The prepared polymerizable liquid crystal composition (4) was rubbed on the red light-emitting light conversion layer (1) at room temperature (25 ° C.) at a rotation speed of 800 rpm for 15 seconds by spin coating, and at 60 ° C. after 2 minutes drying by irradiating 420 mJ / cm 2 maximum illumination intensity of the UVA has a UV light of 300 mW / cm 2 using a high pressure mercury lamp after standing for 1 minute at 25 ° C., the cholesteric liquid crystal layer of the right winding (4 ) Was formed on the red light-emitting light conversion layer (1). Further, after the surface of the formed right-handed cholesteric liquid crystal layer (4) is subjected to a rubbing treatment, the prepared polymerizable liquid crystal composition (10) is applied by spin coating at room temperature (25 ° C.) at a rotation speed of 800 rpm for 15 seconds. Then, after drying at 60 ° C. for 2 minutes and leaving at 25 ° C. for 1 minute, using a high pressure mercury lamp, UVA having a maximum illuminance of 300 mW / cm 2 is irradiated with 420 mJ / cm 2 to obtain λ / 2 A layer was formed on the right-handed cholesteric layer (4). Further, the prepared polymerizable liquid crystal composition (4) was coated on the λ / 2 layer by the same method, dried at 60 ° C. for 2 minutes, and left at 25 ° C. for 1 minute, and then UVA was used using a high pressure mercury lamp. maximum illuminance by 420 mJ / cm 2 UV light of 300 mW / cm 2 of forming a cholesteric liquid crystal layer of the right winding (4) to the lambda / 2 layer on a supporting substrate - red luminescent light A light conversion film (3), which is a laminate of the conversion layer (1) —the right-handed cholesteric liquid crystal layer (4) —λ / 2 layer—the right-handed cholesteric liquid crystal layer (4), was prepared. The central value (λ) of the selective reflection wavelength of the light conversion film (3) was 630 nm.
(実施例4)
重合性液晶組成物(4)の代わりに重合性液晶組成物(9)を用い、実施例3と同様にして支持基板−赤色発光性の光変換層(1)−右巻のコレステリック液晶層(9)−λ/2層−右巻のコレステリック液晶層(9)の積層体である光変換フィルム(4)を作成した。当該光変換フィルム(4)の選択反射波長の中心値(λ)は、670nmであった。(Example 4)
A polymerizable liquid crystal composition (9) was used in place of the polymerizable liquid crystal composition (4), and in the same manner as in Example 3, a support substrate-a red light-emitting light conversion layer (1) -a right-handed cholesteric liquid crystal layer ( 9) A light conversion film (4) which is a laminate of -λ / 2 layer-right-handed cholesteric liquid crystal layer (9) was prepared. The central value (λ) of the selective reflection wavelength of the light conversion film (4) was 670 nm.
(実施例5)
重合性液晶組成物(4)の代わりに重合性液晶組成物(12)を用い、実施例3と同様にして支持基板−赤色発光性の光変換層(1)−右巻のコレステリック液晶層(12)−λ/2層−右巻のコレステリック液晶層(12)の積層体である光変換フィルム(5)を作成した。当該光変換フィルム(5)の選択反射波長の中心値(λ)は、660nmであった。図5に、実施例5の波長透過性選択膜の透過スペクトルのデータを一例として記載している。図5によれば、右巻のコレステリック液晶層(12)−λ/2層−右巻のコレステリック液晶層(12)の層構成からなる波長透過性選択膜は、620nm近傍以下の光を透過し、約620nm以上〜700nmの領域の波長光を反射し、700nm近傍以上の光を透過していることが確認される。(Example 5)
A polymerizable liquid crystal composition (12) was used in place of the polymerizable liquid crystal composition (4), and the support substrate-red light emitting light conversion layer (1) -right-handed cholesteric liquid crystal layer ( 12) A light conversion film (5) which was a laminate of -λ / 2 layer-right-handed cholesteric liquid crystal layer (12) was prepared. The central value (λ) of the selective reflection wavelength of the light conversion film (5) was 660 nm. FIG. 5 shows an example of transmission spectrum data of the wavelength transmissive selective membrane of Example 5. According to FIG. 5, the wavelength-transmitting selective film having a layer structure of right-handed cholesteric liquid crystal layer (12) -λ / 2 layer-right-handed cholesteric liquid crystal layer (12) transmits light of around 620 nm or less. It is confirmed that light having a wavelength in the region of about 620 nm to 700 nm is reflected and light having a wavelength of about 700 nm or more is transmitted.
(実施例6)
調製した重合性液晶組成物(5)をラビングした前記緑色発光性の光変換層(2)上に、室温(25℃)で800rpmの回転速度で15秒間スピンコート法により塗布し、60℃で2分乾燥後、25℃で1分放置した後に高圧水銀ランプを使用してUVAの最大照度が300mW/cm2のUV光を420mJ/cm2照射することにより、右巻のコレステリック液晶層(5)を前記緑色発光性の色光変換層(2)上に形成した。更に、形成した右巻のコレステリック液晶層(5)の表面をラビンング処理した後、調製した重合性液晶組成物(1)をコレステリック液晶層(1)上に室温(25℃)で800rpmの回転速度で15秒間スピンコート法により塗布し、60℃で2分乾燥後、25℃で1分放置した後に高圧水銀ランプを使用してUVAの最大照度が300mW/cm2のUV光を420mJ/cm2照射することにより、左巻のコレステリック液晶層(1)を前記右巻のコレステリック液晶層(5)上に形成して、支持基板−緑色発光性の光変換層(2)−右巻のコレステリック液晶層(5)−左巻のコレステリック液晶層(1)の積層体である光変換フィルム(6)を作成した。当該光変換フィルム(6)の選択反射波長の中心値(λ)は、560nmであった。(Example 6)
The prepared polymerizable liquid crystal composition (5) was rubbed onto the green light-emitting light conversion layer (2) by spin coating at room temperature (25 ° C.) at a rotation speed of 800 rpm for 15 seconds, and at 60 ° C. After drying for 2 minutes and leaving at 25 ° C. for 1 minute, a right-handed cholesteric liquid crystal layer (5) is irradiated with 420 mJ / cm 2 of UV light having a maximum illuminance of 300 mW / cm 2 using a high-pressure mercury lamp. ) Was formed on the green light-emitting color light conversion layer (2). Further, the surface of the formed right-handed cholesteric liquid crystal layer (5) was subjected to a rubbing treatment, and then the prepared polymerizable liquid crystal composition (1) was rotated on the cholesteric liquid crystal layer (1) at a rotational speed of 800 rpm at room temperature (25 ° C.). For 15 seconds, dried at 60 ° C. for 2 minutes, left at 25 ° C. for 1 minute, and then used a high-pressure mercury lamp to emit UV light having a maximum UVA illumination of 300 mW / cm 2 to 420 mJ / cm 2. By irradiation, a left-handed cholesteric liquid crystal layer (1) is formed on the right-handed cholesteric liquid crystal layer (5), and the support substrate-green light-emitting light conversion layer (2) -right-handed cholesteric liquid crystal is formed. The light conversion film (6) which is a laminated body of layer (5) -left-handed cholesteric liquid crystal layer (1) was created. The central value (λ) of the selective reflection wavelength of the light conversion film (6) was 560 nm.
(実施例7)
重合性液晶組成物(1)の代わりに重合性液晶組成物(2)を用い、実施例6と同様にして支持基板−緑色発光性の光変換層(2)−右巻のコレステリック液晶層(5)−左巻のコレステリック液晶層(2)の積層体である光変換フィルム(7)を作成した。当該光変換フィルム(7)の選択反射波長の中心値(λ)は、550nmであった。(Example 7)
Instead of the polymerizable liquid crystal composition (1), the polymerizable liquid crystal composition (2) was used, and in the same manner as in Example 6, a support substrate-green light-emitting light conversion layer (2) -right-handed cholesteric liquid crystal layer ( 5) A light conversion film (7) which is a laminate of the left-handed cholesteric liquid crystal layer (2) was prepared. The central value (λ) of the selective reflection wavelength of the light conversion film (7) was 550 nm.
(実施例8)
重合性液晶組成物(1)の代わりに重合性液晶組成物(3)を用い、実施例6と同様にして支持基板−緑色発光性の光変換層(2)−右巻のコレステリック液晶層(5)−左巻のコレステリック液晶層(3)の積層体である光変換フィルム(8)を作成した。当該光変換フィルム(3)の選択反射波長の中心値(λ)は、550nmであった。(Example 8)
The polymerizable liquid crystal composition (3) was used instead of the polymerizable liquid crystal composition (1), and the support substrate-green light-emitting light conversion layer (2) -right-handed cholesteric liquid crystal layer ( 5) A light conversion film (8) which is a laminate of the left-handed cholesteric liquid crystal layer (3) was prepared. The central value (λ) of the selective reflection wavelength of the light conversion film (3) was 550 nm.
(実施例9)
緑色発光性の光変換層(2)の代わりに赤色発光性の光変換層(1)を用い、重合性液晶組成物(5)の代わりに重合性液晶組成物(15)を用い、重合性液晶組成物(1)の代わりに重合性液晶組成物(16)を用いて、実施例6と同様にして支持基板−赤色発光性の光変換層(1)−右巻のコレステリック液晶層(15)−左巻のコレステリック液晶層(16)の積層体である光変換フィルム(9)を作成した。当該光変換フィルム(9)の選択反射波長の中心値(λ)は、660nmであった。Example 9
A red light-emitting light conversion layer (1) is used in place of the green light-emitting light conversion layer (2), and a polymerizable liquid crystal composition (15) is used in place of the polymerizable liquid crystal composition (5). Using the polymerizable liquid crystal composition (16) instead of the liquid crystal composition (1), the support substrate-the red light-emitting light conversion layer (1) -the right-handed cholesteric liquid crystal layer (15) in the same manner as in Example 6. ) —A light conversion film (9) which is a laminate of the left-handed cholesteric liquid crystal layer (16) was prepared. The central value (λ) of the selective reflection wavelength of the light conversion film (9) was 660 nm.
(実施例10)
調製した重合性液晶組成物(6)をラビングした前記緑色発光性の光変換層(2)上に、室温(25℃)で800rpmの回転速度で15秒間スピンコート法により塗布し、60℃で2分乾燥後、25℃で1分放置した後に高圧水銀ランプを使用してUVAの最大照度が300mW/cm2のUV光を420mJ/cm2照射することにより、右巻のコレステリック液晶層(6)を前記光変換層(2)上に形成した。更に、形成した右巻のコレステリック液晶層(6)の表面をラビンング処理した後、調製した重合性液晶組成物(10)を室温(25℃)で800rpmの回転速度で15秒間スピンコート法により塗布し、60℃で2分乾燥後、25℃で1分放置した後に高圧水銀ランプを使用してUVAの最大照度が300mW/cm2のUV光を420mJ/cm2照射することにより、λ/2層を前記右巻のコレステリック層(6)上に形成した。さらに、調製した重合性液晶組成物(6)を同様の方法でλ/2層上に塗布し、60℃で2分乾燥後、25℃で1分放置した後に高圧水銀ランプを使用してUVAの最大照度が300mW/cm2のUV光を420mJ/cm2照射することにより、右巻のコレステリック液晶層(6)を前記λ/2層上に形成して、支持基板−緑色発光性の光変換層(2)−右巻のコレステリック液晶層(6)−λ/2層−右巻のコレステリック液晶層(6)の積層体である光変換フィルム(10)を作成した。当該光変換フィルム(1)の選択反射波長の中心値(λ)は、470nmであった。(Example 10)
The prepared polymerizable liquid crystal composition (6) was rubbed on the green light-emitting light conversion layer (2) by spin coating at room temperature (25 ° C.) at a rotation speed of 800 rpm for 15 seconds, and at 60 ° C. After drying for 2 minutes and leaving at 25 ° C. for 1 minute, a right-handed cholesteric liquid crystal layer (6) is irradiated with 420 mJ / cm 2 of UV light having a maximum illuminance of 300 mW / cm 2 using a high-pressure mercury lamp. ) Was formed on the light conversion layer (2). Further, the surface of the formed right-handed cholesteric liquid crystal layer (6) was subjected to a rubbing treatment, and then the prepared polymerizable liquid crystal composition (10) was applied at room temperature (25 ° C.) at a rotation speed of 800 rpm by a spin coating method for 15 seconds. Then, after drying at 60 ° C. for 2 minutes and leaving at 25 ° C. for 1 minute, using a high pressure mercury lamp, UVA having a maximum illuminance of 300 mW / cm 2 is irradiated with 420 mJ / cm 2 to obtain λ / 2 A layer was formed on the right-handed cholesteric layer (6). Further, the prepared polymerizable liquid crystal composition (6) was applied on the λ / 2 layer by the same method, dried at 60 ° C. for 2 minutes, and allowed to stand at 25 ° C. for 1 minute, and then UVA using a high pressure mercury lamp. maximum illuminance by 420 mJ / cm 2 UV light of 300 mW / cm 2 of forming a cholesteric liquid crystal layer of the right winding (6) to the lambda / 2 layer on a supporting substrate - green-emitting light A light conversion film (10), which is a laminate of the conversion layer (2) -right-handed cholesteric liquid crystal layer (6) -λ / 2 layer-right-handed cholesteric liquid crystal layer (6), was prepared. The central value (λ) of the selective reflection wavelength of the light conversion film (1) was 470 nm.
(実施例11)
緑色発光性の光変換層(2)の代わりに赤色発光性の光変換層(1)を用い、実施例10と同様にして支持基板−赤色発光性の光変換層(1)−右巻のコレステリック液晶層(6)−λ/2層−右巻のコレステリック液晶層(6)の積層体である光変換フィルム(11)を作成した。当該光変換フィルム(9)の選択反射波長の中心値(λ)は、470nmであった。(Example 11)
The red light-emitting light conversion layer (1) is used in place of the green light-emitting light conversion layer (2), and the support substrate-red light-emitting light conversion layer (1) -right-hand winding is used in the same manner as in Example 10. A light conversion film (11), which is a laminate of cholesteric liquid crystal layer (6) -λ / 2 layer-right-handed cholesteric liquid crystal layer (6), was prepared. The central value (λ) of the selective reflection wavelength of the light conversion film (9) was 470 nm.
(実施例12)
重合性液晶組成物(6)の代わりに重合性液晶組成物(7)を用い、実施例11と同様にして支持基板−赤色発光性の光変換層(1)−右巻のコレステリック液晶層(7)−λ/2層−右巻のコレステリック液晶層(7)の積層体である光変換フィルム(12)を作成した。当該光変換フィルム(12)の選択反射波長の中心値(λ)は、462nmであった。(Example 12)
In place of the polymerizable liquid crystal composition (6), the polymerizable liquid crystal composition (7) was used, and in the same manner as in Example 11, the support substrate-the red light-emitting light conversion layer (1) -the right-handed cholesteric liquid crystal layer ( 7) A light conversion film (12) as a laminate of -λ / 2 layer-right-handed cholesteric liquid crystal layer (7) was prepared. The central value (λ) of the selective reflection wavelength of the light conversion film (12) was 462 nm.
(実施例13)
ラビング配向膜付きのガラス基板上に、調製した重合性液晶組成物(7)を室温(25℃)で800rpmの回転速度で15秒間スピンコート法により塗布し、60℃で2分乾燥後、25℃で1分放置した後に高圧水銀ランプを使用してUVAの最大照度が300mW/cm2のUV光を420mJ/cm2照射することにより、右巻のコレステリック液晶層(7)をラビング配向膜上に形成した。更に、形成した右巻のコレステリック液晶層(7)の表面をラビンング処理した後、調製した重合性液晶組成物(10)を室温(25℃)で800rpmの回転速度で15秒間スピンコート法により塗布し、60℃で2分乾燥後、25℃で1分放置した後に高圧水銀ランプを使用してUVAの最大照度が300mW/cm2のUV光を420mJ/cm2照射することにより、λ/2層を前記右巻のコレステリック層(7)上に形成した。さらに、調製した重合性液晶組成物(7)を同様の方法でλ/2層上に塗布し、60℃で2分乾燥後、25℃で1分放置した後に高圧水銀ランプを使用してUVAの最大照度が300mW/cm2のUV光を420mJ/cm2照射することにより、右巻のコレステリック液晶層(7)を前記λ/2層上に形成して、支持基板−ラビング配向膜−右巻のコレステリック液晶層(7)−λ/2層−右巻のコレステリック液晶層(7)の積層体を形成した。(Example 13)
The prepared polymerizable liquid crystal composition (7) was applied on a glass substrate with a rubbing alignment film by spin coating at room temperature (25 ° C.) at a rotation speed of 800 rpm for 15 seconds, dried at 60 ° C. for 2 minutes, and then 25 After left standing at 1 ° C. for 1 minute, UV light having a maximum UVA illuminance of 300 mW / cm 2 is irradiated with 420 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp, so that the right-handed cholesteric liquid crystal layer (7) is placed on the rubbing alignment film. Formed. Further, after the surface of the formed right-handed cholesteric liquid crystal layer (7) is subjected to a rubbing treatment, the prepared polymerizable liquid crystal composition (10) is applied at room temperature (25 ° C.) at a rotation speed of 800 rpm by a spin coating method for 15 seconds. Then, after drying at 60 ° C. for 2 minutes and leaving at 25 ° C. for 1 minute, using a high pressure mercury lamp, UVA having a maximum illuminance of 300 mW / cm 2 is irradiated with 420 mJ / cm 2 to obtain λ / 2 A layer was formed on the right-handed cholesteric layer (7). Further, the prepared polymerizable liquid crystal composition (7) was coated on the λ / 2 layer by the same method, dried at 60 ° C. for 2 minutes, and allowed to stand at 25 ° C. for 1 minute, and then UVA using a high pressure mercury lamp. maximum illuminance by 420 mJ / cm 2 UV light of 300 mW / cm 2 of forming a cholesteric liquid crystal layer of the right winding (7) to the lambda / 2 layer on a supporting substrate - rubbed alignment film - right A laminated body of the wound cholesteric liquid crystal layer (7) -λ / 2 layer-right-handed cholesteric liquid crystal layer (7) was formed.
次いで、表面の右巻のコレステリック液晶層(7)上に上記で得られたインク組成物1を、乾燥後の膜厚が3.0μmとなるように、スピンコーターにて窒素を満たしたグローブボックス中で塗布した。塗布膜を窒素中180℃で加熱して硬化させて、光変換層として、赤色発光性の光変換層(1)を形成した。そして形成した赤色発光性の光変換層(1)の表面をラビング処理して、実施例3と同様の方法で、支持基板−ラビング配向膜−右巻のコレステリック液晶層(7)−λ/2層−右巻のコレステリック液晶層(7)−赤色発光性の光変換層(1)−右巻のコレステリック液晶層(4)−λ/2層−右巻のコレステリック液晶層(4)の積層体である光変換フィルム(13)を作成した。当該光変換フィルム(13)の選択反射波長の中心値(λ)は、462nm、630nmであった。 Next, a glove box filled with nitrogen with a spin coater so that the film thickness after drying of the ink composition 1 obtained above on the right-handed cholesteric liquid crystal layer (7) on the surface is 3.0 μm. Applied in. The coating film was cured by heating at 180 ° C. in nitrogen to form a red light-emitting light conversion layer (1) as a light conversion layer. Then, the surface of the formed red light-emitting light conversion layer (1) is rubbed, and in the same manner as in Example 3, the support substrate-rubbing alignment film-right-handed cholesteric liquid crystal layer (7) -λ / 2 Layer-Right-handed cholesteric liquid crystal layer (7) -Red light emitting light conversion layer (1) -Right-handed cholesteric liquid crystal layer (4) -λ / 2 layer-Right-handed cholesteric liquid crystal layer (4) A light conversion film (13) was prepared. The center value (λ) of the selective reflection wavelength of the light conversion film (13) was 462 nm and 630 nm.
(実施例14)
赤色発光性の光変換層(1)の代わりに緑色発光性の光変換層(2)を用い、重合性液晶組成物(7)の代わりに重合性液晶組成物(6)を用い、重合性液晶組成物(4)の代わりに重合性液晶組成物(8)を用い、実施例13と同様にして支持基板−ラビング配向膜−右巻のコレステリック液晶層(6)−λ/2層−右巻のコレステリック液晶層(6)−緑色発光性の光変換層(2)−右巻のコレステリック液晶層(8)−λ/2層−右巻のコレステリック液晶層(8)の積層体である光変換フィルム(14)を作成した。当該光変換フィルム(14)の選択反射波長の中心値(λ)は、470nm、570nmであった。(Example 14)
A green light-emitting light conversion layer (2) is used in place of the red light-emitting light conversion layer (1), and a polymerizable liquid crystal composition (6) is used in place of the polymerizable liquid crystal composition (7). The polymerizable liquid crystal composition (8) was used instead of the liquid crystal composition (4), and the support substrate-rubbed alignment film-right-handed cholesteric liquid crystal layer (6) -λ / 2 layer-right was used in the same manner as in Example 13. Light which is a laminate of a rolled cholesteric liquid crystal layer (6) -green light-emitting light conversion layer (2) -right-handed cholesteric liquid crystal layer (8) -λ / 2 layer-right-handed cholesteric liquid crystal layer (8) A conversion film (14) was prepared. The central value (λ) of the selective reflection wavelength of the light conversion film (14) was 470 nm and 570 nm.
(比較例1)
ガラス基板上に形成された緑色発光性の光変換層(2)を比較例1のフィルムとした。(Comparative Example 1)
The green light-emitting light conversion layer (2) formed on the glass substrate was used as the film of Comparative Example 1.
(比較例2)
ガラス基板上に形成された赤色発光性の光変換層(1)を比較例2のフィルムとした。(Comparative Example 2)
The red light-emitting light conversion layer (1) formed on the glass substrate was used as the film of Comparative Example 2.
(選択反射波長の算出)
ガラス基板上に、重合性組成物(1)〜(17)をそれぞれ室温(25℃)で800rpmの回転速度で15秒間スピンコート法により塗布し、60℃で2分乾燥後、25℃で1分放置した後に高圧水銀ランプを使用してUVAの最大照度が300mW/cm2のUV光を420mJ/cm2照射することにより得られた薄膜を紫外可視分光光度計V−560(日本分光社製)にて、分光透過率を測定し、そこから選択反射波長の中心値(λ)を求めた。例えば、重合性液晶組成物(12)を用いてコレステリック液晶層(12)を作製して選択反射波長の測定を行うと、図5で示すような選択反射波長が得られる。(Calculation of selective reflection wavelength)
On the glass substrate, the polymerizable compositions (1) to (17) were each applied at room temperature (25 ° C.) by a spin coating method at a rotation speed of 800 rpm for 15 seconds, dried at 60 ° C. for 2 minutes, and then 1 at 25 ° C. After being allowed to stand, a UV-visible spectrophotometer V-560 (manufactured by JASCO Corporation) was obtained by irradiating 420 mJ / cm 2 with UV light having a maximum illuminance of 300 mW / cm 2 using a high-pressure mercury lamp. ), The spectral transmittance was measured, and the central value (λ) of the selective reflection wavelength was determined therefrom. For example, when the cholesteric liquid crystal layer (12) is prepared using the polymerizable liquid crystal composition (12) and the selective reflection wavelength is measured, the selective reflection wavelength as shown in FIG. 5 is obtained.
上記で得られた光変換フィルムを用いて、以下の手順で評価を行った。 Evaluation was performed in the following procedures using the light conversion film obtained above.
青色LED(ピーク発光波長:450nm)を用い、前記の大塚電子(株)製の放射分光光度計(商品名「MCPD−9800」)に積分球を接続し、青色LEDの上側に積分球を設置した。青色LEDと積分球との間に光変換フィルムを挿入し、青色LEDを点灯させて観測されるスペクトル、各波長における照度を測定した。 Using a blue LED (peak emission wavelength: 450 nm), an integrating sphere is connected to the radiation spectrophotometer (trade name “MCPD-9800”) manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., and the integrating sphere is installed above the blue LED. did. A light conversion film was inserted between the blue LED and the integrating sphere, and the spectrum observed by turning on the blue LED and the illuminance at each wavelength were measured.
より詳細には、実施例1〜実施例9で作製した光変換フィルム(1)〜(9)及び光変換フィルム(13)〜(14)については、青色LED側にコレステリック液晶層を設けるよう設置し、コレステリック液晶層に対して直接青色LEDの光を照射するように配置した。換言すると、青色LED−コレステリック液晶層−光変換層−(コレステリック液晶層)−支持基板−積分球の順に配置して各波長における照度を測定した。 More specifically, the light conversion films (1) to (9) and the light conversion films (13) to (14) produced in Examples 1 to 9 are installed so as to provide a cholesteric liquid crystal layer on the blue LED side. The cholesteric liquid crystal layer was arranged so as to directly irradiate the light of the blue LED. In other words, the illuminance at each wavelength was measured in the order of blue LED-cholesteric liquid crystal layer-light conversion layer- (cholesteric liquid crystal layer) -support substrate-integrating sphere.
一方、実施例10〜実施例14で作製した光変換フィルム(10)〜(12)については、青色LED側に支持基板(ガラス基板)を設けるよう設置し、ガラス基板に対して直接青色LEDの光を照射するように配置した。換言すると、青色LED−支持基板−光変換層−コレステリック液晶層−積分球の順に配置して各波長における照度を測定した。 On the other hand, the light conversion films (10) to (12) produced in Examples 10 to 14 were installed so as to provide a support substrate (glass substrate) on the blue LED side, and the blue LED directly on the glass substrate. It arrange | positioned so that light might be irradiated. In other words, the illuminance at each wavelength was measured by arranging blue LED-supporting substrate-light conversion layer-cholesteric liquid crystal layer-integrating sphere in this order.
上記の測定装置で測定されるスペクトルより、400〜500nmにおける照度の合計を青色の光照度、500〜600nmにおける照度の合計を緑色の光照度、600〜700nmにおける照度の合計を赤色の光照度とした。 From the spectrum measured by the above measuring device, the total illuminance at 400 to 500 nm was blue light illuminance, the total illuminance at 500 to 600 nm was green light illuminance, and the total illuminance at 600 to 700 nm was red light illuminance.
〔外部量子効率(EQE)〕
前記の青色LED(ピーク発光波長:450nm)を用い、前記の大塚電子(株)製の放射分光光度計(商品名「MCPD−9800」)に積分球を接続し、青色LEDの上側に積分球を設置した。青色LEDと積分球との間に光変換層を有する基材を挿入し、青色LEDを点灯させて観測されるスペクトル、各波長における照度を測定した。[External quantum efficiency (EQE)]
Using the blue LED (peak emission wavelength: 450 nm), an integrating sphere was connected to the radiation spectrophotometer (trade name “MCPD-9800”) manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., and the integrating sphere was above the blue LED. Was installed. A base material having a light conversion layer was inserted between the blue LED and the integrating sphere, and the spectrum observed by turning on the blue LED and the illuminance at each wavelength were measured.
上記の測定装置で測定されるスペクトル、及び照度より、以下のようにして外部量子効率を求めた。この値は、光変換層に入射した光(光子)のうち、どの程度の割合で蛍光として観測者側に放射されるかを示す値である。従って、この値が大きければ光変換層が優れていることを示しており、重要な評価指標である。
赤色発光光変換層の外部量子効率=P(Red)/ E(Blue)×100 (%)=(以下、R/B値ともいう)
緑色発光光変換層の外部量子効率=P(Gleen)/ E(Blue)×100 (%)
=(以下、G/B値ともいう)
ここで、E(Blue)、P(Red)、P(Gleen)は、それぞれ以下を表す。
E(Blue):
380〜490nmの波長における「照度×波長÷hc」の、この波長領域での合計値を表す。なお、hは、プランク定数、cは光速を表す。(これは観測した光子数に相当する値である。)
P(Red):
490〜590nmの測定波長における「照度×波長÷hc」の、この波長領域での合計値を表す。 (観測した光子数に相当する)
P(Gleen):
590〜780nmの測定波長における「照度×波長÷hc」の、この波長領域での合計値を表す。(観測した光子数に相当する)From the spectrum and illuminance measured by the above measuring device, the external quantum efficiency was determined as follows. This value is a value indicating how much of the light (photons) incident on the light conversion layer is emitted as fluorescence to the observer side. Accordingly, a large value indicates that the light conversion layer is excellent, and is an important evaluation index.
External quantum efficiency of red light-emitting light conversion layer = P (Red) / E (Blue) × 100 (%) = (hereinafter also referred to as R / B value)
External quantum efficiency of green light emitting conversion layer = P (Green) / E (Blue) × 100 (%)
= (Hereinafter also referred to as G / B value)
Here, E (Blue), P (Red), and P (Green) each represent the following.
E (Blue):
The total value in this wavelength region of “illuminance × wavelength ÷ hc” at a wavelength of 380 to 490 nm is represented. Here, h is a Planck constant, and c is the speed of light. (This is a value corresponding to the number of observed photons.)
P (Red):
The total value in this wavelength region of “illuminance × wavelength ÷ hc” at a measurement wavelength of 490 to 590 nm is represented. (Corresponds to the number of observed photons)
P (Green):
The total value in this wavelength region of “illuminance × wavelength ÷ hc” at a measurement wavelength of 590 to 780 nm is represented. (Corresponds to the number of observed photons)
表2より、実施例1で作製した光変換フィルム(1)は、比較例2と比べて、コレステリック液晶層の存在により、緑色の光照度が増大していることが確認された。これは、光変換層(2)で変換された光のうち、前記青色LED側に出射される光をコレステリック液晶層が有する選択反射特性によって、前記青色LED側に出射される光の一部を分光放射計側に反射させたことによるもので、本発明の効果を証明するものである。 From Table 2, it was confirmed that the light conversion film (1) produced in Example 1 had increased green light illuminance due to the presence of the cholesteric liquid crystal layer as compared with Comparative Example 2. This is because part of the light emitted to the blue LED side is converted by the selective reflection property of the cholesteric liquid crystal layer that is emitted to the blue LED side from the light converted by the light conversion layer (2). This is due to reflection on the spectroradiometer side, and proves the effect of the present invention.
また表2から、実施例3で作製した光変換フィルム(3)は、比較例1と比べて、コレステリック液晶層の存在により、赤色の光照度が増大していることが確認されており、同様の効果が期待される。 Moreover, it is confirmed from Table 2 that the light conversion film (3) produced in Example 3 has an increased red light illuminance due to the presence of the cholesteric liquid crystal layer, as compared with Comparative Example 1. Expected to be effective.
実施例6〜9で作製した光変換フィルム6〜9についても、比較例1、2と比べてコレステリック液晶層の存在により赤色、緑色の照度が増大していることが確認された。実施例6〜9の実験結果ではR/B及びG/Bが向上していることから、赤色、緑色の色純度も増大していることが確認された。 Regarding the light conversion films 6 to 9 produced in Examples 6 to 9, it was confirmed that the red and green illuminances were increased by the presence of the cholesteric liquid crystal layer as compared with Comparative Examples 1 and 2. In the experimental results of Examples 6 to 9, since R / B and G / B were improved, it was confirmed that the color purity of red and green was also increased.
実施例10〜実施例11の青色光透過率とEQE(外部量子効率)との実験結果は以下のとおりであった。 The experimental results of the blue light transmittance and EQE (external quantum efficiency) of Examples 10 to 11 were as follows.
比較例1と実施例10とを対比すると、Blue遮蔽のコレステリック液晶層を緑色発光性の光変換層(1)の上に設けることで、青色透過率がおよそ11%減少し、EQEがおよそ1.20倍になった。 Comparing Comparative Example 1 and Example 10, by providing a blue-shielding cholesteric liquid crystal layer on the green light-emitting light conversion layer (1), the blue transmittance is reduced by about 11% and the EQE is about 1 20 times.
比較例2と実施例11とを対比すると、Blue遮蔽のコレステリック液晶層を赤色発光性の光変換層(2)の上に設けることで、青色透過率がおよそ11%減少し、EQEがおよそ1.18倍になった。 Comparing Comparative Example 2 and Example 11, by providing a blue-shielding cholesteric liquid crystal layer on the red light-emitting light conversion layer (2), the blue transmittance is reduced by about 11%, and the EQE is about 1. 18 times.
これらのことから、Blue遮蔽のコレステリック液晶層は光変換層の光学特性向上に効果あると考えられる。 From these facts, it is considered that the blue-shielded cholesteric liquid crystal layer is effective in improving the optical characteristics of the light conversion layer.
(誘電体多層膜の波長選択性透過層)
上記赤色発光性ナノ結晶粒子を含むインク組成物1を、ガラス基板上に、乾燥後の膜厚が3μmとなるように、スピンコーターにて塗布した。窒素ガス雰囲気下で塗布膜を乾燥、硬化させて赤色発光性の光変換層(1)を作成した。(Wavelength selective transmission layer of dielectric multilayer film)
The ink composition 1 containing the red light-emitting nanocrystal particles was applied onto a glass substrate with a spin coater so that the film thickness after drying was 3 μm. The coating film was dried and cured in a nitrogen gas atmosphere to prepare a red light-emitting light conversion layer (1).
同様に、緑色発光性ナノ結晶粒子を含むインク組成物2を用いて緑色発光性の光変換層(2)を作成した。 Similarly, a green light-emitting light conversion layer (2) was prepared using the ink composition 2 containing green light-emitting nanocrystal particles.
(実施例15)
上記赤色発光性の光変換層(1)に対して、平坦化膜用組成物(商品名PIG−7424:JNC株式会社製)をスピンコートで塗布乾燥し、ポストベークすることで平坦化膜を得た。次いで、誘電体多層膜(500nm以下の波長領域の光を透過し、510nm以上の波長領域の光を反射するダイクロイックフィルター(DFB−500 (オプティカルソリューションズ社製))を芯材のない透明両面粘着シート(日栄化工株式会社製MHM−FWV)を用いて貼り合せて光変換フィルム基板15を作製した。(Example 15)
A flattening film composition (trade name PIG-7424: manufactured by JNC Corporation) is applied to the red light-emitting light conversion layer (1) by spin coating, dried, and post-baked to form a flattening film. Obtained. Next, a dielectric multilayer film (a dichroic filter (DFB-500 (manufactured by Optical Solutions)) that transmits light in a wavelength region of 500 nm or less and reflects light in a wavelength region of 510 nm or more) is a transparent double-sided adhesive sheet without a core material. A light conversion film substrate 15 was produced by bonding using (MHM-FWV manufactured by Niei Kaiko Co., Ltd.).
(実施例16)
実施例16と同様に、上記緑色発光性の光変換層(2)に対して、誘電体多層膜(500nm以下の波長領域の光を透過し、510nm以上の波長領域の光を反射するダイクロイックフィルター(DFB−500 (オプティカルソリューションズ社製))を貼り合せて光変換フィルム基板16を作製した。(Example 16)
In the same manner as in Example 16, a dielectric multilayer film (a dichroic filter that transmits light in a wavelength region of 500 nm or less and reflects light in a wavelength region of 510 nm or more with respect to the green light-emitting light conversion layer (2). (DFB-500 (manufactured by Optical Solutions)) was bonded to produce a light conversion film substrate 16.
(比較例1)
上記比較例1と同様にガラス基板上に形成された赤色発光性の光変換層(1)を比較例1のフィルムとした。(Comparative Example 1)
The red light-emitting light conversion layer (1) formed on the glass substrate as in Comparative Example 1 was used as the film of Comparative Example 1.
(比較例2)
上記比較例2と同様にガラス基板上に形成された緑色発光性の光変換層(2)を比較例2のフィルムとした。(Comparative Example 2)
The green light-emitting light conversion layer (2) formed on the glass substrate as in Comparative Example 2 was used as the film of Comparative Example 2.
上記で得られた光変換フィルム10、11及び比較例1、2のフィルムを用いて、以下の評価を行った。 The following evaluation was performed using the light conversion films 10 and 11 obtained above and the films of Comparative Examples 1 and 2.
[光変換フィルムの蛍光発光強度の評価]
面発光光源としてシーシーエス(株)社製の青色LED(ピーク発光波長:450nm)を用いた。測定装置は、大塚電子(株)製の放射分光光度計(商品名「MCPD−9800」)に積分球を接続し、青色LEDの上側に積分球を設置した。青色LEDを点灯させて観測されるスペクトル、各波長における照度を測定した。この際、青色LED上に下記の表1に示すサンプルを設置し、観測される波長450nmと、蛍光のピーク波長での、蛍光強度(照度)を測定し、それぞれS(450)、S(PL)とした。蛍光強度S(PL)は、光変換層からの蛍光発光強度に相当する。よってこの値が大きければ光変換層が優れていることを示しており、重要な評価指標である。[Evaluation of fluorescence emission intensity of light conversion film]
A blue LED (peak emission wavelength: 450 nm) manufactured by CCS Co., Ltd. was used as a surface light source. The measuring device was an integrating sphere connected to a radiation spectrophotometer (trade name “MCPD-9800”) manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., and the integrating sphere was installed above the blue LED. The spectrum observed by turning on the blue LED and the illuminance at each wavelength were measured. At this time, the sample shown in Table 1 below was placed on the blue LED, and the fluorescence intensity (illuminance) at the observed wavelength of 450 nm and the peak wavelength of fluorescence was measured, and S (450) and S (PL ). The fluorescence intensity S (PL) corresponds to the fluorescence emission intensity from the light conversion layer. Therefore, a large value indicates that the light conversion layer is excellent, and is an important evaluation index.
上記誘電体多層膜を用いた評価結果を表3−1及び表3−2に結果を示す。
注)実施例15、16の測定系の位置関係は、下から、青色LED、波長選択性透過層(DFB−500)、光変換層(1)又は(2)及び積分球の順である。
*1: P(Blue)は380〜500nmThe evaluation results using the dielectric multilayer film are shown in Tables 3-1 and 3-2.
Note) The positional relationship of the measurement systems of Examples 15 and 16 is, in order from the bottom, blue LED, wavelength selective transmission layer (DFB-500), light conversion layer (1) or (2), and integrating sphere.
* 1: P (Blue) is 380 to 500 nm.
上記表3−1及び表3−2で示す実験結果から、誘電体多層膜を青色LEDと光変換層の間に設置することで、発光強度が著しく増大することがわかった。なお、DIF−500の代わりに、シグマ光機製DIF−50S−BLEを用いた場合も同様の結果が得られた。 From the experimental results shown in Table 3-1 and Table 3-2, it was found that the emission intensity was significantly increased by installing the dielectric multilayer film between the blue LED and the light conversion layer. Similar results were obtained when DIF-50S-BLE manufactured by Sigma Koki was used instead of DIF-500.
図22に、比較例1の光変換層と、実施例15の光変換フィルムとの実験データの比較を示す。図22の実験データは、各波長領域と照度との関係を示すものである。例えば、図22に示すように、上記表3−1の実験結果から、照度の積分値(面積)比較で、ダイクロイックフィルターにより、R光のピーク強度(642nm)が1.22倍、R光/B光の比(面積比)が0.417から0.586となり(1.40倍)、R光/(R光+B光)の比(面積比)が0.294から0.369となった(1.25倍)。また、下記式により算出される外部量子効率(EQE)は、13.6%から18.8%となり、1.38倍増加したことが確認された。
(EQE=R光のフォトン数/(Filterだけ測定した場合のB光のフォトン数)×100(%)
なお、上記のB光(青色光)は400〜520nmの波長領域RBにおける光を意味し、R光(赤色光)は580〜720nmの波長領域RRにおける光を意味する。FIG. 22 shows a comparison of experimental data between the light conversion layer of Comparative Example 1 and the light conversion film of Example 15. The experimental data in FIG. 22 shows the relationship between each wavelength region and illuminance. For example, as shown in FIG. 22, from the experimental results in Table 3-1, the peak intensity (642 nm) of the R light is 1.22 times greater than the R light / The ratio (area ratio) of B light was changed from 0.417 to 0.586 (1.40 times), and the ratio (area ratio) of R light / (R light + B light) was changed from 0.294 to 0.369. (1.25 times). Moreover, it was confirmed that the external quantum efficiency (EQE) calculated by the following formula increased from 1.3.6% to 18.8%, which was 1.38 times.
(EQE = number of photons of R light / (number of photons of B light when only Filter is measured) × 100 (%)
The B light (blue light) means light in the wavelength region RB of 400 to 520 nm, and the R light (red light) means light in the wavelength region RR of 580 to 720 nm.
これにより、誘電体多層膜を備えた光変換フィルム基板は、赤色及び緑色の色純度が向上することが確認された。 Thereby, it was confirmed that the light conversion film substrate provided with the dielectric multilayer film has improved red and green color purity.
<液晶パネル、バックライトユニット及び液晶表示素子の作製方法>
[光変換フィルムの作製]
第1に、以下の手順でブラックマトリックス(BM)と呼ばれる遮光部を有する基板(BM基板)を作製した。すなわち、無アルカリガラスからなるガラス基板(日本電気硝子社製の「OA−10G」)上にブラックレジスト(東京応化工業社製の「CFPR―BK」)を塗布した後、プリベーク、パターン露光、現像及びポストベークを行うことにより、パターン状の遮光部を形成した。露光は、ブラックレジストに対し、250mJ/cm2の露光量で紫外線を照射することにより行った。遮光部のパターンは、200μm×600μmのサブ画素に相当する、開口部分を有するパターンであり、線幅は20μmであり、厚さは2.6μmであった。<Method for Producing Liquid Crystal Panel, Backlight Unit, and Liquid Crystal Display Element>
[Production of light conversion film]
First, a substrate (BM substrate) having a light-shielding portion called a black matrix (BM) was manufactured by the following procedure. That is, after applying a black resist (“CFPR-BK” manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) on a glass substrate made of alkali-free glass (“OA-10G” manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.), pre-baking, pattern exposure, development And the pattern-shaped light shielding part was formed by performing post-baking. The exposure was performed by irradiating the black resist with ultraviolet rays at an exposure amount of 250 mJ / cm 2 . The pattern of the light shielding portion is a pattern having an opening corresponding to a sub-pixel of 200 μm × 600 μm, the line width is 20 μm, and the thickness is 2.6 μm.
上記のインク組成物1(赤色発光)、インク組成物2(緑色発光)及びインク組成物3(透明)を、インクジェット方式でBM基板上の開口部分に印刷した後、乾燥させ、紫外線を照射、次いで窒素雰囲気下150℃で30分間加熱した。これにより、インク組成物を硬化させて、インク組成物の硬化物からなる画素部を形成した。これにより、BM基板上に、青色光を透過・散乱する画素部、青色光を赤色光に変換する画素部、及び青色光を緑色光に変換する画素部を形成した。以上の操作により、複数種の画素部を備えるパターン付き光変換層(3)を得た。 The ink composition 1 (red light emission), the ink composition 2 (green light emission), and the ink composition 3 (transparent) are printed on the opening portion on the BM substrate by an inkjet method, and then dried and irradiated with ultraviolet rays. Subsequently, it heated at 150 degreeC under nitrogen atmosphere for 30 minutes. As a result, the ink composition was cured to form a pixel portion made of a cured product of the ink composition. Thus, a pixel portion that transmits and scatters blue light, a pixel portion that converts blue light into red light, and a pixel portion that converts blue light into green light are formed on the BM substrate. By the above operation, a patterned light conversion layer (3) including a plurality of types of pixel portions was obtained.
(実施例17)
次いで光変換層(3)の一方の面に平坦化膜用組成物(商品名PIG−7424:JNC株式会社製)をスピンコートで塗布乾燥し、ポストベークすることで平坦化膜を得た。平坦化膜(パッシベーション膜)を形成させた後、波長選択性透過層(誘電体多層膜)を積層した光変換フィルム基板(17)を作製した。(Example 17)
Next, a planarizing film composition (trade name PIG-7424: manufactured by JNC Corporation) was applied and dried by spin coating on one surface of the light conversion layer (3), and post-baked to obtain a planarizing film. After the planarization film (passivation film) was formed, a light conversion film substrate (17) on which a wavelength selective transmission layer (dielectric multilayer film) was laminated was produced.
ここで誘電体多層膜は、ガラス基材に、TiO2をスパッタ製膜し、更にSiO2とTiO2を交互に14層スパッタ製膜し、SiO2膜を製膜後、さらに、SiO2とTiO2を交互に12層製膜し、最後に、SiO2を製膜して作成した。各層の光学膜厚は、特開平10−31982号表1に記載の、青色を透過する多層光干渉膜に準じた。この誘電体多層膜は、500nm以下の光を透過し、500nm以上の光を反射するものであった。Here, the dielectric multilayer film is formed by sputtering TiO 2 on a glass substrate, and further 14 layers of SiO 2 and TiO 2 are sputtered alternately. After forming the SiO 2 film, SiO 2 and 12 layers of TiO 2 were alternately formed, and finally, SiO 2 was formed. The optical film thickness of each layer conformed to the multilayer optical interference film that transmits blue light described in Table 1 of JP-A-10-31982. This dielectric multilayer film transmits light of 500 nm or less and reflects light of 500 nm or more.
なお、誘電体多層膜を製膜したガラス基板の、誘電体多層膜面に、透明両面粘着シート(日栄化工株式会社製MHM−FWV)を介して、前記の平坦化膜を貼り合わせて、光変換フィルム基板(17)とした。 The planarizing film is bonded to the dielectric multilayer film surface of the glass substrate on which the dielectric multilayer film has been formed via a transparent double-sided pressure-sensitive adhesive sheet (MHM-FWV manufactured by NHIEI KAKO Co., Ltd.). A conversion film substrate (17) was obtained.
これにより、支持基板−複数種の画素部を備えるパターン付き光変換層(3)−平坦化膜−波長選択性透過層(誘電体多層膜)の積層体である光変換フィルム基板(17)を得た。 Thereby, the light conversion film substrate (17) which is a laminate of the supporting substrate, the patterned light conversion layer (3) having a plurality of types of pixel portions, the planarization film, and the wavelength selective transmission layer (dielectric multilayer film) is obtained. Obtained.
(実施例18)
上記青色光を透過・散乱する画素部、青色光を赤色光に変換する画素部、及び青色光を緑色光に変換する画素部を形成した光変換層(3)に対して、ラビング処理した後、青色光を緑色光に変換する画素部に対しては、右旋性の重合性組成物(13)をインクジェット方式で印刷した後、乾燥させ、紫外線を照射、次いで窒素雰囲気下150℃で30分間加熱し、前記重合性組成物(13)の塗膜であるコレステリック液晶層(13)を形成した後、さらにその上に重合性組成物(14)をインクジェット方式で印刷した後、乾燥させ、紫外線を照射、次いで窒素雰囲気下150℃で30分間加熱して左旋性のコレステリック液晶層(14)を形成した。同様に青色光を赤色光に変換する画素部に対して、右旋性の重合性組成物(15)由来のコレステリック液晶層(15)及び左旋性の重合性組成物(16)由来のコレステリック液晶層(16)を形成した。その後、コレステリック液晶層が形成された面上に平坦化膜用組成物(商品名PIG−7424:JNC株式会社製)をスピンコートで塗布乾燥し、ポストベークすることで平坦化膜を形成させて、複数種の画素部を備えるパターン付き光変換層(3)−コレステリック液晶層(緑色画素上にはコレステリック液晶層(13)−コレステリック液晶層(14)、赤色画素上にはコレステリック液晶層(15)−コレステリック液晶層(16))−平坦化膜の積層体である光変換フィルム基板(18)を得た。(Example 18)
After rubbing the light conversion layer (3) in which the pixel portion that transmits and scatters blue light, the pixel portion that converts blue light into red light, and the pixel portion that converts blue light into green light are formed. For the pixel portion that converts blue light into green light, the dextrorotatory polymerizable composition (13) is printed by an ink jet method, dried, irradiated with ultraviolet rays, and then irradiated at 150 ° C. in a nitrogen atmosphere at 30 ° C. After heating for a minute and forming a cholesteric liquid crystal layer (13) which is a coating film of the polymerizable composition (13), the polymerizable composition (14) is further printed thereon by an ink jet method and then dried. The mixture was irradiated with ultraviolet rays and then heated at 150 ° C. for 30 minutes in a nitrogen atmosphere to form a levorotatory cholesteric liquid crystal layer (14). Similarly, a cholesteric liquid crystal layer (15) derived from a dextrorotatory polymerizable composition (15) and a cholesteric liquid crystal derived from a levorotatory polymerizable composition (16) for a pixel portion that converts blue light into red light. Layer (16) was formed. Thereafter, a planarizing film composition (trade name PIG-7424: manufactured by JNC Corporation) is applied and dried by spin coating on the surface on which the cholesteric liquid crystal layer is formed, and a planarizing film is formed by post-baking. , A light conversion layer with a pattern including a plurality of types of pixel portions (3) -cholesteric liquid crystal layer (cholesteric liquid crystal layer (13) -cholesteric liquid crystal layer (14) on a green pixel, cholesteric liquid crystal layer (15) on a red pixel ) -Cholesteric liquid crystal layer (16))-light conversion film substrate (18) which is a laminate of a flattening film was obtained.
(実施例19)
上記青色光を透過・散乱する画素部、青色光を赤色光に変換する画素部、及び青色光を緑色光に変換する画素部を形成した光変換層(3)に対して、ラビング処理した後、本発明の重合性液晶組成物(17)をスピンコート法で一面に塗布し、80℃で2分乾燥した。得られた塗膜を60℃のホットプレート上に置き、バンドパスフィルターで365nm付近のみの紫外光(UV光)が得られるように調整を行った高圧水銀ランプを用いて、15mW/cm2の強度で10秒間UV光を照射した。次にバンドパスフィルターを取り外し、70mW/cm2の強度で20秒間UV光を照射することでコレステリック液晶層(17)を得た。さらに右巻のコレステリック液晶層(17)の表面をラビンング処理した後、調製した重合性液晶組成物(10)を室温(25℃)で800rpmの回転速度で15秒間スピンコート法により塗布し、60℃で2分乾燥後、25℃で1分放置した後に高圧水銀ランプを使用してUVAの最大照度が300mW/cm2のUV光を420mJ/cm2照射することにより、λ/2層を形成した。次いで、調製した重合性液晶組成物(17)を同様の方法でλ/2層上に塗布し、60℃で2分乾燥後、25℃で1分放置した後に高圧水銀ランプを使用してUVAの最大照度が300mW/cm2のUV光を420mJ/cm2照射することにより、右巻のコレステリック液晶層(17)を前記λ/2層上に形成して、支持基板−複数種の画素部を備えるパターン付き光変換層(3)−右巻のコレステリック液晶層(17)−λ/2層−右巻のコレステリック液晶層(17)の積層体である光変換フィルム(19)を作成した。コレステリック液晶の反射波長領域(540〜690nm)であった。(Example 19)
After rubbing the light conversion layer (3) in which the pixel portion that transmits and scatters blue light, the pixel portion that converts blue light into red light, and the pixel portion that converts blue light into green light are formed. The polymerizable liquid crystal composition (17) of the present invention was applied on one side by a spin coating method and dried at 80 ° C. for 2 minutes. The obtained coating film was placed on a hot plate at 60 ° C., and a 15 mW / cm 2 high-pressure mercury lamp adjusted so that ultraviolet light (UV light) of only around 365 nm was obtained with a band-pass filter. Irradiated with UV light for 10 seconds at intensity. Next, the bandpass filter was removed, and UV light was irradiated for 20 seconds at an intensity of 70 mW / cm 2 to obtain a cholesteric liquid crystal layer (17). Further, after rubbing the surface of the right-handed cholesteric liquid crystal layer (17), the prepared polymerizable liquid crystal composition (10) was applied at room temperature (25 ° C.) at a rotational speed of 800 rpm for 15 seconds by a spin coating method, and 60 After drying for 2 minutes at 25 ° C and leaving for 1 minute at 25 ° C, a high pressure mercury lamp is used to irradiate UV light with a maximum illuminance of 300 mW / cm 2 to 420 mJ / cm 2 to form a λ / 2 layer did. Subsequently, the prepared polymerizable liquid crystal composition (17) was applied on the λ / 2 layer by the same method, dried at 60 ° C. for 2 minutes, and allowed to stand at 25 ° C. for 1 minute, and then UVA using a high pressure mercury lamp. maximum illuminance by 420 mJ / cm 2 UV light of 300 mW / cm 2 of forming a cholesteric liquid crystal layer of the right winding (17) to the lambda / 2 layer on a supporting substrate - a plurality of types of pixel portions A light conversion film (19), which is a laminate of a patterned light conversion layer (3) -right-handed cholesteric liquid crystal layer (17) -λ / 2 layer-right-handed cholesteric liquid crystal layer (17), was prepared. It was a reflection wavelength region (540 to 690 nm) of cholesteric liquid crystal.
(実施例20)
上記方法で得られた実施例17の光変換フィルム基板(17)の支持基板上に、インク組成物4をスピンコーターにより塗布後、乾燥させた。次いで、230℃で1時間加熱した後に、高色再現用色規格におけるC光源を用いた場合の各緑色色度を示す黄色カラーフィルタを光変換フィルム(17)の支持基板上に形成した。これにより、黄色カラーフィルタ−支持基板−光変換層(3)−平坦化膜−波長選択性透過層(誘電体多層膜)の積層体である光変換フィルム(20)を得た。(Example 20)
On the support substrate of the light conversion film substrate (17) of Example 17 obtained by the above method, the ink composition 4 was applied by a spin coater and then dried. Subsequently, after heating at 230 ° C. for 1 hour, a yellow color filter showing each green chromaticity when using a C light source in the color standard for high color reproduction was formed on the support substrate of the light conversion film (17). This obtained the light conversion film (20) which is a laminated body of yellow color filter-support substrate-light conversion layer (3) -flattening film-wavelength selective transmission layer (dielectric multilayer film).
(実施例21)
上記方法で得られた実施例18の光変換フィルム(18)の支持基板上に、インク組成物4をスピンコーターにより塗布後、乾燥させた。次いで、230℃で1時間加熱した後に、高色再現用色規格におけるC光源を用いた場合の各緑色色度を示す黄色カラーフィルタを光変換フィルム(18)の支持基板上に形成した。これにより、黄色カラーフィルタ−支持基板−光変換層(3)−平坦化膜−波長選択性透過層(コレステリック液晶層)の積層体である光変換フィルム(21)を得た。(Example 21)
On the support substrate of the light conversion film (18) of Example 18 obtained by the above method, the ink composition 4 was applied by a spin coater and then dried. Subsequently, after heating at 230 degreeC for 1 hour, the yellow color filter which shows each green chromaticity at the time of using C light source in the color specification for high color reproduction was formed on the support substrate of a light conversion film (18). This obtained the light conversion film (21) which is a laminated body of a yellow color filter-support substrate-light conversion layer (3) -flattening film-wavelength selective transmission layer (cholesteric liquid crystal layer).
(比較例3)
光変換層(3)を比較例3として使用した。(Comparative Example 3)
The light conversion layer (3) was used as Comparative Example 3.
「インセル偏光層を備えた電極基板の製造」
[対向基板1の作製]
上記作製した光変換フィルム(17)の波長選択性透過層(誘電体多層膜)上にクラレ社製「ポバール103」水溶液(固形分濃度4質量%)を塗布・乾燥させた後、ラビング処理を施した。
次いで、ラビング処理面に、メガファックF‐554(DIC株式会社製)0.03質量部、以下の式(az−1)のアゾ色素1質量部、以下の式(az−2)のアゾ色素1質量部、
[Fabrication of counter substrate 1]
After applying and drying a “Poval 103” aqueous solution (solid content concentration 4 mass%) manufactured by Kuraray Co., Ltd. on the wavelength-selective transmission layer (dielectric multilayer film) of the produced light conversion film (17), a rubbing treatment is performed. gave.
Next, 0.03 parts by mass of MegaFuck F-554 (manufactured by DIC Corporation), 1 part by mass of an azo dye of the following formula (az-1), and an azo dye of the following formula (az-2) on the rubbing treated surface 1 part by mass,
[対向基板2の作製]
上記光変換フィルム(17)を備えた基板1と同様の方法で、光変換フィルム(18)の波長選択性透過層(コレステリック液晶層)上に偏光層を作成し、その後、ITOをスパッタリング法により堆積させ、対向基板2(=第2(電極)基板)を作製した。[Fabrication of counter substrate 2]
A polarizing layer is formed on the wavelength-selective transmission layer (cholesteric liquid crystal layer) of the light conversion film (18) in the same manner as the substrate 1 provided with the light conversion film (17), and then ITO is formed by sputtering. The counter substrate 2 (= second (electrode) substrate) was produced by deposition.
[対向基板3の作製]
上記光変換フィルム(17)を備えた基板1と同様の方法で、光変換フィルム(20)の波長選択性透過層(誘電体多層膜)上に偏光層を作成して、対向基板3(=第2(電極)基板)を作製した。[Fabrication of counter substrate 3]
A polarizing layer is formed on the wavelength-selective transmission layer (dielectric multilayer film) of the light conversion film (20) in the same manner as the substrate 1 provided with the light conversion film (17), and the counter substrate 3 (= A second (electrode) substrate was produced.
[対向基板4の作製]
上記光変換フィルム(17)を備えた基板1と同様の方法で、光変換フィルム(19)の波長選択性透過層(コレステリック液晶層)上に偏光層を作成し、その後、ITOをスパッタリング法により堆積させ、対向基板4(=第2(電極)基板)を作製した。[Fabrication of counter substrate 4]
A polarizing layer is formed on the wavelength-selective transmission layer (cholesteric liquid crystal layer) of the light conversion film (19) in the same manner as the substrate 1 provided with the light conversion film (17), and then ITO is formed by sputtering. The counter substrate 4 (= second (electrode) substrate) was produced by deposition.
[対向基板5の作製]
上記作製した光変換フィルム(17)に用いた、波長選択性透過層(誘電体多層膜)を製膜したガラス基板の誘電体多層膜面と反対側のガラス面上にアルミニウムをスパッタリング成膜(約100nm 芝浦メカトロニクス社製)した後、その上に酸化シリコン被膜、シリコン被膜の順にスパッタリング成膜した。スピンコート法により上記成膜面に光硬化性レジストを厚さ100nmになるように均一塗布した後、70℃のオーブンで5分間レジスト層を乾燥させた。樹脂モールド(パターン金型:ピッチ130nm、Duty0.4、パターン高さ180nmのライン&スペースパターン)を乾燥したレジスト層の上に均一に加圧した状態で、365nmの波長を含む紫外光を1000mJ/cm2の光量で照射し、光硬化させた後、樹脂モールドを剥離した。さらに、RIE装置(Reactive Ion Etching処理装置)にて、酸素ガスによるプラズマでレジストパターンの凹部を選択的にエッチング処理し、凸部のみを残してレジストのマスクを得た。[Fabrication of counter substrate 5]
Sputtering deposition of aluminum is performed on the glass surface opposite to the dielectric multilayer film surface of the glass substrate on which the wavelength-selective transmission layer (dielectric multilayer film) used in the light conversion film (17) produced above is formed ( About 100 nm (manufactured by Shibaura Mechatronics Co., Ltd.), and a silicon oxide film and a silicon film were formed thereon in that order by sputtering. A photocurable resist was uniformly applied on the film formation surface to a thickness of 100 nm by a spin coating method, and then the resist layer was dried in an oven at 70 ° C. for 5 minutes. With a resin mold (pattern mold: line & space pattern with a pitch of 130 nm, duty 0.4, pattern height of 180 nm) uniformly pressed onto a dried resist layer, ultraviolet light including a wavelength of 365 nm is 1000 mJ / After irradiation with a light amount of cm 2 and photocuring, the resin mold was peeled off. Further, a concave portion of the resist pattern was selectively etched by plasma with oxygen gas using an RIE apparatus (Reactive Ion Etching processing apparatus), and a resist mask was obtained leaving only the convex portion.
レジストマスク形成後、RIE装置にて、CHF3ガスによるプラズマでシリコン層と酸化シリコン層を基板に対して垂直な方向へ異方性エッチング処理を行った。また、RIE装置にて、Clガスによるプラズマでアルミニウムからなる層を基板の膜厚方向(基板に対して垂直方向)へ異方的にエッチング処理した。次いで酸素ガスによるプラズマでシリコン層の上部に残存したレジストマスクをエッチング処理によって除去し、ワイヤーグリッド偏光層を表面に有する光変換フィルム(17)を備えた基板を作成した。その後、ITOをスパッタリング法により堆積させ、対向基板5(=第2(電極)基板)を作製した。After forming the resist mask, anisotropic etching treatment was performed on the silicon layer and the silicon oxide layer in a direction perpendicular to the substrate by a plasma using CHF 3 gas in an RIE apparatus. In addition, in the RIE apparatus, a layer made of aluminum was anisotropically etched in the film thickness direction of the substrate (perpendicular to the substrate) by plasma with Cl gas. Next, the resist mask remaining on the upper part of the silicon layer was removed by etching with plasma using oxygen gas, and a substrate provided with a light conversion film (17) having a wire grid polarizing layer on its surface was produced. Thereafter, ITO was deposited by sputtering to produce the counter substrate 5 (= second (electrode) substrate).
[対向基板6の作製]
上記作製した光変換フィルム(19)のコレステリック液晶層上に平坦化膜用組成物(商品名PIG−7424:JNC株式会社製)をスピンコートで塗布乾燥し、ポストベークすることで平坦化膜を形成させた後、対向基板5の作製方法と同じ条件で光変換フィルム(19)のコレステリック液晶層の上にワイヤーグリッド偏光層を設けた。その後、ITOをスパッタリング法により堆積させ、対向基板6(=第2(電極)基板)を作製した。[Fabrication of counter substrate 6]
A flattening film composition (trade name PIG-7424: manufactured by JNC Corporation) is applied onto the cholesteric liquid crystal layer of the light conversion film (19) prepared above by spin coating, dried, and post-baked to form a flattening film. After the formation, a wire grid polarizing layer was provided on the cholesteric liquid crystal layer of the light conversion film (19) under the same conditions as the method for producing the counter substrate 5. Thereafter, ITO was deposited by sputtering to produce a counter substrate 6 (= second (electrode) substrate).
(対向基板7の作製)
上記作製した光変換フィルム(21)の誘電体多層膜上に平坦化膜用組成物(商品名PIG−7424:JNC株式会社製)をスピンコートで塗布乾燥し、ポストベークすることで平坦化膜を形成させた後、対向基板5の作製方法と同じ条件で光変換フィルム(21)の前記平坦化膜の上にワイヤーグリッド偏光層を設けた。その後、ITOをスパッタリング法により堆積させ、対向基板7(=第2(電極)基板)を作製した。(Preparation of counter substrate 7)
The flattening film composition (trade name PIG-7424: manufactured by JNC Corporation) is applied and dried by spin coating on the dielectric multilayer film of the light conversion film (21) produced as described above, followed by post-baking. After forming, the wire grid polarizing layer was provided on the said planarization film | membrane of the light conversion film (21) on the same conditions as the preparation methods of the opposing board | substrate 5. FIG. Thereafter, ITO was deposited by sputtering to produce a counter substrate 7 (= second (electrode) substrate).
(対向基板8の作製)
上記作製した光変換フィルム(18)のコレステリック液晶層上に平坦化膜用組成物(商品名PIG−7424:JNC株式会社製)をスピンコートで塗布乾燥し、ポストベークすることで平坦化膜を形成させた後、対向基板5の作製方法と同じ条件で光変換フィルム(18)の前記平坦化膜の上にワイヤーグリッド偏光層を設けた。その後、ITOをスパッタリング法により堆積させ、対向基板8(=第2(電極)基板)を作製した。(Preparation of counter substrate 8)
A flattening film composition (trade name PIG-7424: manufactured by JNC Corporation) is applied and dried by spin coating on the cholesteric liquid crystal layer of the produced light conversion film (18) and post-baked to form a flattening film. After the formation, a wire grid polarizing layer was provided on the planarizing film of the light conversion film (18) under the same conditions as in the method for manufacturing the counter substrate 5. Thereafter, ITO was deposited by sputtering to produce a counter substrate 8 (= second (electrode) substrate).
(対向基板9の作製)
比較例3として、上記作製した光変換層(3)上に平坦化膜用組成物(商品名PIG−7424:JNC株式会社製)をスピンコートで塗布乾燥し、ポストベークすることで平坦化膜を形成させた後、対向基板3の作製方法と同じ条件で光変換層(3)上にワイヤーグリッド偏光層を設けた。その後、ITOをスパッタリング法により堆積させ、対向基板9(=第2(電極)基板)を作製した。(Preparation of counter substrate 9)
As Comparative Example 3, a planarization film composition (trade name PIG-7424: manufactured by JNC Corporation) was applied on the light conversion layer (3) prepared above by spin coating, dried, and post-baked to form a planarization film. After forming, the wire grid polarizing layer was provided on the light conversion layer (3) on the same conditions as the manufacturing method of the opposing substrate 3. FIG. Thereafter, ITO was deposited by sputtering to produce the counter substrate 9 (= second (electrode) substrate).
(対向基板10の作製)
上記作製した光変換フィルム(18)のコレステリック液晶層上に平坦化膜用組成物(商品名PIG−7424:JNC株式会社製)をスピンコートで塗布乾燥し、ポストベークすることで平坦化膜を形成させた後、対向基板5の作製方法と同じ条件で光変換フィルム(18)の前記平坦化膜の上にワイヤーグリッド偏光層を設けて、対向基板10(=第2(電極)基板)を作製した(ITO無し)。(Production of counter substrate 10)
A flattening film composition (trade name PIG-7424: manufactured by JNC Corporation) is applied and dried by spin coating on the cholesteric liquid crystal layer of the produced light conversion film (18) and post-baked to form a flattening film. After the formation, a wire grid polarizing layer is provided on the planarizing film of the light conversion film (18) under the same conditions as the manufacturing method of the counter substrate 5, and the counter substrate 10 (= second (electrode) substrate) is mounted. Made (without ITO).
「VA型液晶パネル」
(実施例22)
上記第2(電極)基板(対向基板8)のITO上及びTFT付きの第1(電極)基板の透明電極上に、垂直配向層をそれぞれ形成した後、前記透明電極及び垂直配向層が形成された第1基板と、前記垂直配向層が形成された第2(電極)基板(対向基板8)とを、それぞれの配向層が対向し、当該配向層の配向方向がアンチパラレル方向(180°)となるように配置し、2枚の基板間に一定の間隙(4μm)を保った状態で、周辺部をシール剤により貼り合わせてVA型の液晶セルを作製した。次に、配向層表面及びシール剤により区画されたセルギャップ内に、下記の表4に記載の液晶組成物(組成例1〜4)を、真空注入法により、充填し、偏光板を第1基板上に貼りあわせることでVA型液晶パネル1〜4を作製した(組成例3を使用したVA型の液晶セルをVA型液晶パネル3とする。)。このように作製した液晶パネル1〜4を評価用素子とし、VHR測定及び上記と同様の蛍光発光強度を行った。"VA liquid crystal panel"
(Example 22)
After forming a vertical alignment layer on the ITO of the second (electrode) substrate (counter substrate 8) and the transparent electrode of the first (electrode) substrate with TFT, the transparent electrode and the vertical alignment layer are formed. The first substrate and the second (electrode) substrate (counter substrate 8) on which the vertical alignment layer is formed are opposed to each other, and the alignment direction of the alignment layer is the anti-parallel direction (180 °). The VA liquid crystal cell was manufactured by adhering the peripheral part with a sealant in a state where a constant gap (4 μm) was maintained between the two substrates. Next, in the cell gap partitioned by the alignment layer surface and the sealing agent, the liquid crystal compositions (Composition Examples 1 to 4) shown in Table 4 below are filled by vacuum injection, and the polarizing plate is the first. VA-type liquid crystal panels 1 to 4 were produced by pasting on a substrate (VA-type liquid crystal cell using composition example 3 is referred to as VA-type liquid crystal panel 3). The liquid crystal panels 1 to 4 thus produced were used as evaluation elements, and VHR measurement and fluorescence emission intensity similar to the above were performed.
(比較例4)
比較例として、対向基板8の代わりに、波長選択性透過層を備えていない対向基板9を用い、かつ液晶組成物として組成例1を充填して、液晶パネル1〜4の作製方法と同様の方法で比較用液晶パネル5を作製して蛍光発光強度を行った。(Comparative Example 4)
As a comparative example, in place of the counter substrate 8, the counter substrate 9 not provided with the wavelength selective transmission layer is used, and the composition example 1 is filled as the liquid crystal composition. A comparative liquid crystal panel 5 was prepared by the method, and the fluorescence emission intensity was measured.
その結果、液晶パネル1〜4に対して450nmに主発光ピークを有する光を1週間照射した場合であってもVHRが98%以上になることから、450nmに主発光ピークを有する光に対して安定である効果が発揮されると考えられる。また、VA型液晶パネル1〜4の蛍光発光強度と液晶パネル5の蛍光発光強度との評価の比較を行った結果、コレステリック液晶層の存在により、発光強度が著しく増大することが判り、実施例1〜5の蛍光強度測定結果と同様の傾向が確認された。 As a result, even when the liquid crystal panels 1 to 4 are irradiated with light having a main emission peak at 450 nm for one week, the VHR becomes 98% or more. It is considered that a stable effect is exhibited. Moreover, as a result of comparing the evaluation of the fluorescence emission intensity of the VA type liquid crystal panels 1 to 4 and the fluorescence emission intensity of the liquid crystal panel 5, it is found that the emission intensity is remarkably increased due to the presence of the cholesteric liquid crystal layer. The same tendency as the fluorescence intensity measurement results of 1 to 5 was confirmed.
(実施例23)
また、実施例22の対向基板8の代わりに対向基板5を用い、かつ液晶組成物として組成例1を充填して、液晶パネル1〜4の作製方法と同様の方法でVA型液晶パネル6を作製して蛍光発光強度を行った。その結果、波長選択性透過層(誘電体多層膜)の存在により、発光強度が著しく増大することが判り、実施例15、16の蛍光強度測定結果と同様の傾向が確認された。(Example 23)
Further, the counter substrate 5 is used in place of the counter substrate 8 of Example 22, and the composition example 1 is filled as the liquid crystal composition, and the VA type liquid crystal panel 6 is formed by the same method as the manufacturing method of the liquid crystal panels 1 to 4. It produced and performed fluorescence emission intensity. As a result, it was found that the emission intensity was remarkably increased by the presence of the wavelength selective transmission layer (dielectric multilayer film), and the same tendency as the fluorescence intensity measurement results of Examples 15 and 16 was confirmed.
(実施例24)
さらに、対向基板8の代わりに対向基板4を用い、かつ液晶組成物として組成例1を充填して、VA型液晶パネル1〜4の作製方法と同様の方法で液晶パネル7を作製して蛍光発光強度を行った。その結果、コレステリック液晶層の存在により、発光強度が著しく増大するだけでなく、R/B比又はG/B比が向上することが確認された。(Example 24)
Further, the counter substrate 4 is used in place of the counter substrate 8 and the composition example 1 is filled as the liquid crystal composition. Luminescence intensity was performed. As a result, it was confirmed that the presence of the cholesteric liquid crystal layer not only significantly increased the emission intensity, but also improved the R / B ratio or G / B ratio.
「PSVA型液晶パネル」
(実施例25)
上記第2(電極)基板(対向基板2)のITO上及びTFT付きの第1基板の透明電極上に、垂直配向を誘起するポリイミド配向膜をそれぞれ形成した後、前記透明電極及び垂直配向層が形成された第1基板と、前記垂直配向層が形成された第2(電極)基板(対向基板2)とを、それぞれの配向層が対向し、当該配向層の配向方向がアンチパラレル方向(180°)となるように配置し、2枚の基板間に一定の間隙(4μm)を保った状態で、周辺部をシール剤により貼り合わせた。次に、配向層表面及びシール剤により区画されたセルギャップ内に、以下の重合性化合物
(Example 25)
After forming a polyimide alignment film that induces vertical alignment on the ITO of the second (electrode) substrate (counter substrate 2) and the transparent electrode of the first substrate with TFT, the transparent electrode and the vertical alignment layer are The first substrate formed and the second (electrode) substrate (counter substrate 2) on which the vertical alignment layer is formed face each other, and the alignment direction of the alignment layer is the anti-parallel direction (180 The peripheral portion was bonded with a sealant in a state where a constant gap (4 μm) was maintained between the two substrates. Next, in the cell gap defined by the alignment layer surface and the sealing agent, the following polymerizable compound
その後、重合性化合物を含有する液晶組成物を注入した液晶パネルに周波数100Hzで電圧を10V印加した状態で高圧水銀灯を用い、325nm以下の紫外線をカットするフィルタを介して紫外線を照射した。このとき、中心波長365nmの条件で測定した照度が100mW/cm2になるように調整し、積算光量10J/cm2の紫外線を照射した。次に、蛍光UVランプを用いて、中心波長313nmの条件で測定した照度が3mW/cm2になるように調整し、積算光量10J/cm2の紫外線を更に照射し、PSVA型液晶パネル1を得て、上記組成例1と同様に、450nmに主発光ピークを有する光による耐光試験及び385nmに主発光ピークを有する光による耐光試験の評価を行った。その結果、450nmに主発光ピーク及び385nmに主発光ピークを有する光のいずれの場合も、VA型の液晶パネル1〜4とほぼ同様の結果になった。また、波長選択性透過層(コレステリック液晶層)の有により、発光強度が著しく増大することが判り、実施例1〜5の蛍光強度測定結果と同様の傾向が確認された。Thereafter, the liquid crystal panel into which the liquid crystal composition containing the polymerizable compound was injected was irradiated with ultraviolet rays through a filter that cuts out ultraviolet rays of 325 nm or less using a high-pressure mercury lamp with a voltage of 10 V applied at a frequency of 100 Hz. In this case, illuminance measured at the center wavelength of 365nm condition was adjusted to 100 mW / cm 2, was irradiated with ultraviolet light at an accumulated light intensity of 10J / cm 2. Then, using a fluorescent UV lamp, the illuminance was measured at a center wavelength of 313nm is adjusted to 3 mW / cm 2, further irradiated with ultraviolet light at an accumulated light intensity 10J / cm 2, the PSVA liquid crystal panel 1 In the same manner as in Composition Example 1, the light resistance test using light having a main light emission peak at 450 nm and the light resistance test using light having a main light emission peak at 385 nm were evaluated. As a result, in all cases of light having a main emission peak at 450 nm and a main emission peak at 385 nm, the results were almost the same as those of the VA liquid crystal panels 1 to 4. Moreover, it turned out that emission intensity increases remarkably by existence of a wavelength selective transmission layer (cholesteric liquid crystal layer), The same tendency as the fluorescence intensity measurement result of Examples 1-5 was confirmed.
(実施例26)
上記第2(電極)基板(対向基板1)のITO上及びTFT付きの第1基板の透明電極上に、垂直配向を誘起するポリイミド配向膜をそれぞれ形成した後、前記透明電極及び垂直配向層が形成された第1基板と、前記垂直配向層が形成された第2(電極)基板(対向基板1)とを、それぞれの配向層が対向し、当該配向層の配向方向がアンチパラレル方向(180°)となるように配置し、2枚の基板間に一定の間隙(4μm)を保った状態で、周辺部をシール剤により貼り合わせた。次に、配向層表面及びシール剤により区画されたセルギャップ内に、以下の重合性化合物(XX−5)と、
After forming a polyimide alignment film for inducing vertical alignment on the ITO of the second (electrode) substrate (counter substrate 1) and the transparent electrode of the first substrate with TFT, the transparent electrode and the vertical alignment layer are formed. The formed first substrate and the second (electrode) substrate (counter substrate 1) on which the vertical alignment layer is formed are opposed to each other, and the alignment direction of the alignment layer is the anti-parallel direction (180 The peripheral portion was bonded with a sealant in a state where a constant gap (4 μm) was maintained between the two substrates. Next, in the cell gap defined by the alignment layer surface and the sealing agent, the following polymerizable compound (XX-5),
その後、重合性化合物を含有する液晶組成物を注入した液晶パネルに周波数100Hzで電圧を10V印加した状態で高圧水銀灯を用い、325nm以下の紫外線をカットするフィルタを介して紫外線を照射した。このとき、中心波長365nmの条件で測定した照度が100mW/cm2になるように調整し、積算光量10J/cm2の紫外線を照射した。次に、蛍光UVランプを用いて、中心波長313nmの条件で測定した照度が3mW/cm2になるように調整し、積算光量10J/cm2の紫外線を更に照射し、PSVA型液晶パネル2を得て、上記組成例1と同様に、450nmに主発光ピークを有する光による耐光試験及び385nmに主発光ピークを有する光による耐光試験の評価を行った。その結果、450nmに主発光ピーク及び385nmに主発光ピークを有する光のいずれの場合も、VA型の液晶パネル1〜4とほぼ同様の結果になった。また、波長選択性透過層(誘電体多層膜)の存在により、発光強度が著しく増大することが判り、実施例15、16の蛍光強度測定結果と同様の傾向が確認された。Thereafter, the liquid crystal panel into which the liquid crystal composition containing the polymerizable compound was injected was irradiated with ultraviolet rays through a filter that cuts out ultraviolet rays of 325 nm or less using a high-pressure mercury lamp with a voltage of 10 V applied at a frequency of 100 Hz. In this case, illuminance measured at the center wavelength of 365nm condition was adjusted to 100 mW / cm 2, was irradiated with ultraviolet light at an accumulated light intensity of 10J / cm 2. Then, using a fluorescent UV lamp, the illuminance was measured at a center wavelength of 313nm is adjusted to 3 mW / cm 2, further irradiated with ultraviolet light at an accumulated light intensity 10J / cm 2, the PSVA liquid crystal panel 2 In the same manner as in Composition Example 1, the light resistance test using light having a main light emission peak at 450 nm and the light resistance test using light having a main light emission peak at 385 nm were evaluated. As a result, in all cases of light having a main emission peak at 450 nm and a main emission peak at 385 nm, the results were almost the same as those of the VA liquid crystal panels 1 to 4. Further, it was found that the emission intensity was remarkably increased by the presence of the wavelength selective transmission layer (dielectric multilayer film), and the same tendency as the fluorescence intensity measurement results of Examples 15 and 16 was confirmed.
「自発配向型のVA型液晶パネル」
(実施例27)
TFT付きの透明電極が形成された第1基板と、上記第2基板(対向基板2)とを、それぞれの電極が対向するように配置し、2枚の基板間に一定の間隙(4μm)を保った状態で、周辺部をシール剤により貼り合わせた(配向膜を形成せず。)。次に、シール剤により区画されたセルギャップ内に、上記液晶組成物1(100質量部)に対して、自発配向剤(以下の式(al−1))2質量部と、上記重合性化合物(XX−2)0.5質量部と、を
(Example 27)
The first substrate on which the transparent electrode with TFT is formed and the second substrate (counter substrate 2) are arranged so that the respective electrodes face each other, and a certain gap (4 μm) is provided between the two substrates. In the state where it was kept, the peripheral part was pasted with a sealant (the alignment film was not formed). Next, 2 parts by mass of a spontaneous alignment agent (the following formula (al-1)) and the polymerizable compound with respect to the liquid crystal composition 1 (100 parts by mass) in the cell gap partitioned by the sealant (XX-2) 0.5 part by mass
(実施例28)
(VA型液晶パネル8)
第2基板(対向基板2)を対向基板7に変えた以外同様の方法でVA型の液晶パネル9を作製した。(Example 28)
(VA type liquid crystal panel 8)
A VA type liquid crystal panel 9 was produced in the same manner except that the second substrate (counter substrate 2) was changed to the counter substrate 7.
(実施例29)
TFT付きの透明電極が形成された第1基板と、第2の透明電極基板(上記対向基板1)とを、それぞれの電極が対向するように配置し、2枚の基板間に一定の間隙(4μm)を保った状態で、周辺部をシール剤により貼り合わせた(配向膜を形成せず。)。次に、配向層表面及びシール剤により区画されたセルギャップ内に、上記液晶組成物1(100質量部)に対して、自発配向剤(以下の式(P−1−2))2質量部と、上記重合性化合物(XX−5)と、
A first substrate on which a transparent electrode with TFT is formed and a second transparent electrode substrate (the counter substrate 1) are arranged so that the respective electrodes face each other, and a certain gap ( 4 μm), the peripheral part was bonded with a sealing agent (without forming an alignment film). Next, 2 parts by mass of a spontaneous alignment agent (the following formula (P-1-2)) with respect to the liquid crystal composition 1 (100 parts by mass) in the cell gap partitioned by the alignment layer surface and the sealing agent. And the polymerizable compound (XX-5),
実施例27〜29で作製した自発配向型のVA型液晶パネル8〜10について蛍光発光強度の評価を行った結果、波長選択性透過層がないものより発光強度が著しく増大することが確認され、またR/B値、G/B値が増大することが確認された。 As a result of evaluating the fluorescence emission intensity for the spontaneous alignment type VA liquid crystal panels 8 to 10 produced in Examples 27 to 29, it was confirmed that the emission intensity was remarkably increased as compared with the case without the wavelength selective transmission layer. It was also confirmed that the R / B value and G / B value increased.
(実施例30)
TFT付きの透明電極が形成された第1基板上に、国際公開2013/002260号パンフレットの実施例22で用いられた垂直配向層溶液をスピンコート法により形成し、乾燥厚さ0.1μmの配向層を形成した。上記第2の透明電極基板(対向基板2)にも同様にして表面に光配向層を形成した。透明電極及び光配向層が形成された第1基板と、上記光配向層が形成された第2(電極)基板(対向基板2)を、それぞれの配向層が対向し、当該配向層の配向方向がアンチパラレル方向(180°)となるように配置し、2枚の基板間に一定の間隙(4μm)を保った状態で、周辺部をシール剤により貼り合わせた。次に、配向層表面及びシール剤により区画されたセルギャップ内に、上記の液晶組成物1を、真空注入法により、充填し、偏光板を第1基板上に貼りあわせることでVA型の液晶パネル11を作製した。(Example 30)
On the first substrate on which the transparent electrode with TFT is formed, the vertical alignment layer solution used in Example 22 of International Publication No. 2013/002260 is formed by spin coating, and the dry thickness is 0.1 μm. A layer was formed. Similarly, a photo-alignment layer was formed on the surface of the second transparent electrode substrate (counter substrate 2). The first substrate on which the transparent electrode and the photo-alignment layer are formed and the second (electrode) substrate (counter substrate 2) on which the photo-alignment layer is formed are opposed to each other, and the alignment direction of the alignment layer Was placed in an anti-parallel direction (180 °), and the peripheral part was bonded with a sealant in a state where a constant gap (4 μm) was maintained between the two substrates. Next, the liquid crystal composition 1 is filled into the cell gap defined by the alignment layer surface and the sealing agent by a vacuum injection method, and a polarizing plate is bonded onto the first substrate, thereby VA type liquid crystal. Panel 11 was produced.
(実施例31)
VA型液晶パネル11の製造方法における対向基板2を対向基板1に代えて、VA型液晶パネル10の製造方法と同様の方法でVA型の液晶パネル12を作製した。(Example 31)
The counter substrate 2 in the manufacturing method of the VA type liquid crystal panel 11 was replaced with the counter substrate 1, and a VA type liquid crystal panel 12 was manufactured by the same method as the manufacturing method of the VA type liquid crystal panel 10.
実施例30〜31で作製したVA型の液晶パネル10〜11について蛍光発光強度の評価を行った結果、波長選択性透過層がないものより発光強度が著しく増大することが確認され、またR/B値、G/B値が増大することが確認された。 As a result of evaluating the fluorescence emission intensity of the VA type liquid crystal panels 10 to 11 produced in Examples 30 to 31, it was confirmed that the emission intensity was remarkably increased as compared with the case without the wavelength selective transmission layer. It was confirmed that the B value and the G / B value increased.
「IPS型液晶パネル」
(実施例32)
透明基板に形成された一対の櫛歯電極の上に、水平配向層溶液をスピンコート法により形成し、配向層を形成することで当該櫛形透明電極及び配向層が形成された第1基板を作製した。また上記対向基板3(第2(電極)基板)上に水平配向層溶液をスピンコート法により形成し、配向層を形成した後、それぞれの配向層が対向し、かつ直線偏光を照射した、又は水平方向にラビングした方向がアンチパラレル方向(180°)となるように配置し、2枚の基板間に一定の間隙(4μm)を保った状態で、周辺部をシール剤により張り合わせた。次に、配向層表面及びシール剤により区画されたセルギャップ内に、上記の液晶組成物(組成例3)を、真空注入法により充填し、その後一対の偏光板を第1基板及び第2基板上に貼りあわせIPS型の液晶パネルを作製した。"IPS liquid crystal panel"
(Example 32)
A horizontal alignment layer solution is formed by spin coating on a pair of comb electrodes formed on a transparent substrate, and an alignment layer is formed to produce a first substrate on which the comb-shaped transparent electrode and the alignment layer are formed. did. Also, after forming a horizontal alignment layer solution on the counter substrate 3 (second (electrode) substrate) by spin coating and forming the alignment layer, each alignment layer is opposed and irradiated with linearly polarized light, or Arranged so that the direction of rubbing in the horizontal direction was an anti-parallel direction (180 °), and the peripheral part was pasted with a sealant in a state where a constant gap (4 μm) was maintained between the two substrates. Next, the liquid crystal composition (Composition Example 3) is filled into the cell gap defined by the alignment layer surface and the sealing agent by a vacuum injection method, and then the pair of polarizing plates is formed on the first substrate and the second substrate. An IPS-type liquid crystal panel was produced by pasting the top.
実施例32で作製したIPS型の液晶パネルについて蛍光発光強度の評価を行った結果、波長選択性透過層がないものより発光強度が著しく増大することが確認され、またR/B値、G/B値が増大することが確認された。 As a result of evaluating the fluorescence emission intensity of the IPS type liquid crystal panel produced in Example 32, it was confirmed that the emission intensity was remarkably increased as compared with the case without the wavelength selective transmission layer, and the R / B value, G / It was confirmed that the B value increased.
「FFS型液晶パネル」
(実施例33)
第1の透明基板に平板状の共通電極を形成した後、絶縁層膜を形成し、さらに当該絶縁層膜上に透明櫛歯電極を形成した後、当該透明櫛歯電極上に配向層溶液をスピンコート法により形成し、第1の電極基板を形成した。また上記対向基板10(第2(電極)基板)上に水平配向層溶液をスピンコート法により形成し、配向層を形成した。次いで、櫛形透明電極及び配向層が形成された第1基板と、配向層、偏光層、光変換フィルムが形成された第2基板を、それぞれの配向層が対向し、かつ直線偏光を照射した、又はラビングした方向がアンチパラレル方向(180°)となるように配置し、2枚の基板間に一定の間隙(4μm)を保った状態で、周辺部をシール剤により張り合わせた。次に、配向層表面及びシール剤により区画されたセルギャップ内に、上記の液晶組成物(組成例2)を、滴下法により充填しFFS型の液晶パネルを作製した。"FFS type liquid crystal panel"
(Example 33)
After forming a flat common electrode on the first transparent substrate, an insulating layer film is formed, a transparent comb electrode is further formed on the insulating layer film, and an alignment layer solution is then applied on the transparent comb electrode. A first electrode substrate was formed by spin coating. A horizontal alignment layer solution was formed on the counter substrate 10 (second (electrode) substrate) by a spin coating method to form an alignment layer. Next, the first substrate on which the comb-shaped transparent electrode and the alignment layer were formed, and the second substrate on which the alignment layer, the polarizing layer, and the light conversion film were formed were opposed to each other and irradiated with linearly polarized light. Alternatively, the rubbing direction was arranged to be an anti-parallel direction (180 °), and the peripheral portion was bonded with a sealant in a state where a constant gap (4 μm) was maintained between the two substrates. Next, the liquid crystal composition (Composition Example 2) was filled into the cell gap partitioned by the alignment layer surface and the sealing agent by a dropping method, to produce an FFS type liquid crystal panel.
実施例33で作製したFFS型の液晶パネルについて蛍光発光強度の評価を行った結果、波長選択性透過層がないものより発光強度が著しく増大することが確認され、またR/B値、G/B値が増大することが確認された。 As a result of evaluating the fluorescence emission intensity of the FFS type liquid crystal panel produced in Example 33, it was confirmed that the emission intensity was remarkably increased as compared with the case without the wavelength selective transmission layer, and the R / B value, G / It was confirmed that the B value increased.
<液晶表示装置>
(バックライトユニット1の作製)
青色LED光源を導光板の一辺の端部に設置し、反射シートで照射面を除く部分を覆い、導光板の照射側に拡散シートを配置してバックライトユニット1を作製した。<Liquid crystal display device>
(Preparation of backlight unit 1)
A blue LED light source was installed at the end of one side of the light guide plate, the portion excluding the irradiated surface was covered with a reflective sheet, and a diffusion sheet was placed on the irradiation side of the light guide plate to produce a backlight unit 1.
(バックライトユニット2の作製)
光を散乱反射する下側反射板上に格子状に青色LEDが配置され、さらにその照射側直上には拡散板を配置し、さらにその照射側に拡散シートを配置しバックライトユニット2を作製した。(Preparation of backlight unit 2)
A blue LED is arranged in a lattice pattern on the lower reflection plate that scatters and reflects light, a diffusion plate is arranged immediately above the irradiation side, and a diffusion sheet is further arranged on the irradiation side to produce a backlight unit 2. .
(3)液晶表示素子の作製と色再現領域の測定
上記得られたVA型液晶パネル1〜11及びPSVA型液晶パネルに対して、上記で作製したバックライトユニット1〜2をそれぞれ取り付けて色再現領域及び蛍光発光強度を測定した。その結果、いずれも光変換フィルムを備えた液晶表示素子と光変換フィルムを備えていない従来の液晶表示素子とでは、前者の方が色再現領域が拡大し、色純度が増大することが確認された。(3) Production of liquid crystal display element and measurement of color reproduction region Color reproduction by attaching backlight units 1 and 2 produced above to VA liquid crystal panels 1 to 11 and PSVA type liquid crystal panels obtained above, respectively. The area and fluorescence emission intensity were measured. As a result, it was confirmed that the color reproduction area was expanded and the color purity was increased in the former in both the liquid crystal display element having the light conversion film and the conventional liquid crystal display element not having the light conversion film. It was.
同様に、上記で得られたIPS型液晶パネルに対して、上記で作製したバックライトユニット1〜2を取り付けて色再現領域及び蛍光発光強度を測定した。その結果、いずれも光変換フィルムを備えた液晶表示素子と光変換フィルムを備えていない従来の液晶表示素子とでは、前者の方が色再現領域が拡大し、色純度が増大することが確認された。 Similarly, the backlight units 1-2 produced above were attached to the IPS liquid crystal panel obtained above, and the color reproduction region and the fluorescence emission intensity were measured. As a result, it was confirmed that the color reproduction area was expanded and the color purity was increased in the former in both the liquid crystal display element having the light conversion film and the conventional liquid crystal display element not having the light conversion film. It was.
上記得られたFFS型液晶パネルに対して、上記で作製したバックライトユニット1〜2を取り付けて色再現領域及び蛍光発光強度を測定した。その結果、いずれも光変換層を備えた液晶表示素子と光変換フィルムを備えていない従来の液晶表示素子とでは、前者の方が色再現領域が拡大し、色純度が増大することが確認された。 The backlight units 1-2 produced above were attached to the obtained FFS type liquid crystal panel, and the color reproduction region and the fluorescence emission intensity were measured. As a result, it was confirmed that in both the liquid crystal display element having the light conversion layer and the conventional liquid crystal display element not having the light conversion film, the color reproduction area is expanded and the color purity is increased in the former. It was.
<発光素子又は有機EL画像表示素子>
(実施例34)
上記光変換フィルム(17)が積層されたTFT積層ガラス基板の表面の波長選択性透過層(誘電体多層膜)上に対してITO電極を蒸着した後、当該ITO電極上に、「Appl. Mater. Interfaces 2013, 5, 7341−7351.」に記載の方法で青色発光するエレクトロルミネッセンス層を備えた発光素子1を設けた後、ITO電極とTFT層とをコンタクトホールを介して電気的に接続して、上記光変換フィルム(17)に対応する画像表示素子1を作製した。<Light emitting element or organic EL image display element>
(Example 34)
An ITO electrode was deposited on the wavelength-selective transmission layer (dielectric multilayer film) on the surface of the TFT laminated glass substrate on which the light conversion film (17) was laminated, and then, on the ITO electrode, “Appl. After providing the light-emitting element 1 having an electroluminescent layer that emits blue light by the method described in “Interfaces 2013, 5, 7341-7351”, the ITO electrode and the TFT layer are electrically connected through a contact hole. Thus, an image display element 1 corresponding to the light conversion film (17) was produced.
(実施例35)
上記光変換フィルム(18)が積層されたTFT積層ガラス基板の表面の波長選択性透過層(コレステリック液晶層)上に対してITO電極を蒸着した後、上記実施例34と同様の方法で上記光変換フィルム(18)に対応する画像表示素子2を作製した。(Example 35)
After depositing an ITO electrode on the wavelength-selective transmission layer (cholesteric liquid crystal layer) on the surface of the TFT laminated glass substrate on which the light conversion film (18) was laminated, the light was obtained in the same manner as in Example 34. An image display element 2 corresponding to the conversion film (18) was produced.
(比較例5)
上記光変換層(3)が積層されたTFT積層ガラス基板の表面の光変換層(3)上に対してITO電極を蒸着した後、上記実施例34と同様の方法で上記光変換層(3)に対応する画像表示素子3を作製した。(Comparative Example 5)
After depositing an ITO electrode on the light conversion layer (3) on the surface of the TFT laminated glass substrate on which the light conversion layer (3) was laminated, the light conversion layer (3 The image display element 3 corresponding to) was produced.
当該青色発光するエレクトロルミネッセンス層を備えた発光素子1はいずれも具体的には以下の構成である。 Specifically, each of the light-emitting elements 1 including the electroluminescence layer emitting blue light has the following configuration.
上記発光素子1の正孔輸送層として、以下のTAPCを使用した。
上記発光素子1の電子ブロック層として、以下のmCPを使用した。
上記発光素子1の第1の発光層として、発光材料(ドーパント)は以下の化合物を使用し、
上記発光素子1の前記第1の発光層のホスト材料として、以下のmCPを使用した。
上記発光素子1の第2の発光層として、発光材料(ドーパント)は以下の化合物を使用し、
上記発光素子1の第2の発光層のホスト材料として、以下のUGH2を使用した。
上記発光素子1の正孔ブロック層として、上記のUGH2を使用した。 As the hole blocking layer of the light emitting device 1, the UGH2 described above was used.
上記発光素子1の電子輸送層として、以下の化合物を使用した。
上記ITO電極上に、上記正孔輸送層と、上記電子ブロック層と、上記第1発光層と、上記第2発光層と、上記正孔ブロック層と、上記電子輸送層とを、この順番にパターニングして、「Appl. Mater. Interfaces 2013, 5, 7341−7351.」に記載の方法で青色発光層を製膜し、さらに、陰極として(LiF/Al)電極と、保護層とをこの順番にベタ製膜して積層し、青色発光する発光素子を備える画像表示素子1、2を作製した。 On the ITO electrode, the hole transport layer, the electron blocking layer, the first light emitting layer, the second light emitting layer, the hole blocking layer, and the electron transport layer are arranged in this order. Patterning is performed to form a blue light emitting layer by the method described in “Appl. Mater. Interfaces 2013, 5, 7341-7351.”, And a (LiF / Al) electrode and a protective layer as a cathode are formed in this order. Then, image display elements 1 and 2 each including a light emitting element that emits blue light were produced.
上記得られた画像表示素子1、2に対して、色再現領域及び蛍光発光強度を測定した。その結果、いずれも光変換フィルムを備えた画像表示素子と光変換フィルムを備えていない従来の画像表示素子とでは、前者の方が色再現領域が拡大し、色純度が増大することが確認された。 With respect to the obtained image display elements 1 and 2, the color reproduction region and the fluorescence emission intensity were measured. As a result, it was confirmed that in both the image display element provided with the light conversion film and the conventional image display element not provided with the light conversion film, the color reproduction area was expanded and the color purity increased. It was.
1000A,1000B:液晶表示素子、100A,100B:バックライトユニット、101A,101B:光源部、102:導光部、200A,200B:液晶パネル、L:発光素子、NC:発光性ナノ結晶粒子(化合物半導体)、1:第一の偏光層、2:第一の基板、3:電極層、3a:第一の電極層(画素電極)、3b:第二の電極層(共通電極)、4:第一の配向層、5:液晶層、6:第二の配向層、7:第二の偏光層、8,11:波長選択性透過層、9:光変換層、10:第二の基板、12:支持基板、13:ゲート絶縁膜、14:ゲート電極、16:ドレイン電極、17:ソース電極、18:パッシベーション膜、19:半導体層、20:保護膜、21:画素電極、22:共通電極、23、25:絶縁層、1000C:画像表示素子(LEDパネル)、51:基板、52:第一電極、53:正孔注入層、54:正孔輸送層、55:発光層、56:電子輸送層、57:電子注入層、58:第二電極、59:オーバーコート層、60:基板、500:エレクトロルミネッセンス層。 1000A, 1000B: liquid crystal display element, 100A, 100B: backlight unit, 101A, 101B: light source part, 102: light guide part, 200A, 200B: liquid crystal panel, L: light emitting element, NC: luminescent nanocrystal particle (compound Semiconductor), 1: first polarizing layer, 2: first substrate, 3: electrode layer, 3a: first electrode layer (pixel electrode), 3b: second electrode layer (common electrode), 4: first 1 alignment layer, 5: liquid crystal layer, 6: second alignment layer, 7: second polarizing layer, 8, 11: wavelength selective transmission layer, 9: light conversion layer, 10: second substrate, 12 : Support substrate, 13: gate insulating film, 14: gate electrode, 16: drain electrode, 17: source electrode, 18: passivation film, 19: semiconductor layer, 20: protective film, 21: pixel electrode, 22: common electrode, 23, 25: Insulating layer, 1000C: Image table Element (LED panel), 51: substrate, 52: first electrode, 53: hole injection layer, 54: hole transport layer, 55: light emitting layer, 56: electron transport layer, 57: electron injection layer, 58: first Two electrodes, 59: overcoat layer, 60: substrate, 500: electroluminescence layer.
Claims (11)
前記光変換層の少なくとも一方側に設けられ、特定の波長領域の光を透過する波長選択性透過層と、を備える光変換フィルム。A light conversion layer containing luminescent nanocrystal particles that emit light by converting light having a predetermined wavelength into red, green, or blue light; and
A wavelength conversion transmissive layer provided on at least one side of the light conversion layer and transmitting light in a specific wavelength region.
前記光変換層が、前記所定の波長を有する光を吸収して赤色を発光する赤色発光性ナノ結晶粒子を含有する赤色の画素部と、前記所定の波長を有する光を吸収して緑色を発光する緑色発光性ナノ結晶粒子を含有する緑色の画素部と、前記所定の波長を有する光を透過させる青色の画素部とを有する、請求項1又は2に記載の光変換フィルム。The light having the predetermined wavelength is blue light;
The light conversion layer absorbs light having the predetermined wavelength and emits green light by absorbing red light having red light-emitting nanocrystal particles that emit red light and light having the predetermined wavelength. The light conversion film according to claim 1, further comprising: a green pixel portion containing green luminescent nanocrystal particles to be transmitted; and a blue pixel portion that transmits light having the predetermined wavelength.
所定の波長を有する光を赤色、緑色及び青色のいずれかの光に変換して発光する発光性ナノ結晶粒子を含有する光変換層と、
前記光変換層の少なくとも一方側に設けられ、特定の波長領域の光を透過する波長選択性透過層と、を備える画像表示素子。A light source unit;
A light conversion layer containing luminescent nanocrystal particles that emit light by converting light having a predetermined wavelength into red, green, or blue light; and
An image display element comprising: a wavelength selective transmission layer that is provided on at least one side of the light conversion layer and transmits light in a specific wavelength region.
前記光変換層は、前記波長選択性透過層の前記光源部と反対側に設けられ、前記波長選択性透過層を透過した透過光を赤色、緑色及び青色のいずれかの光に変換して発光する発光性ナノ結晶粒子を含有する層である、請求項5に記載の画像表示素子。The wavelength-selective transmission layer is a layer that is provided so that light from the light source unit is incident thereon, transmits light from the light source unit, and reflects light emitted from the light conversion layer,
The light conversion layer is provided on the side of the wavelength selective transmission layer opposite to the light source unit, and converts the transmitted light transmitted through the wavelength selective transmission layer into light of red, green, or blue and emits light. The image display element according to claim 5, wherein the image display element is a layer containing luminescent nanocrystal particles.
前記光変換層が、前記透過光を吸収して赤色を発光する赤色発光性ナノ結晶粒子を含有する赤色の画素部と、前記透過光を吸収して緑色を発光する緑色発光性ナノ結晶粒子を含有する緑色の画素部と、前記透過光を透過させる青色の画素部とを有する、請求項6に記載の画像表示素子。The light from the light source unit is blue light,
The light conversion layer includes a red pixel portion containing red light emitting nanocrystal particles that emit red light by absorbing the transmitted light, and green light emitting nanocrystal particles that absorb the transmitted light and emit green light. The image display element of Claim 6 which has a green pixel part to contain and a blue pixel part which permeate | transmits the said transmitted light.
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